JP2004294063A - Probe and probe card - Google Patents

Probe and probe card Download PDF

Info

Publication number
JP2004294063A
JP2004294063A JP2003082581A JP2003082581A JP2004294063A JP 2004294063 A JP2004294063 A JP 2004294063A JP 2003082581 A JP2003082581 A JP 2003082581A JP 2003082581 A JP2003082581 A JP 2003082581A JP 2004294063 A JP2004294063 A JP 2004294063A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
probe
copper
nickel
probe card
mass
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2003082581A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2004294063A5 (en
Inventor
Hiroaki Ono
弘昭 大野
Atsushi Mitsune
敦 三根
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NGK Insulators Ltd
Japan Electronic Materials Corp
Original Assignee
NGK Insulators Ltd
Japan Electronic Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Insulators Ltd, Japan Electronic Materials Corp filed Critical NGK Insulators Ltd
Priority to JP2003082581A priority Critical patent/JP2004294063A/en
Publication of JP2004294063A publication Critical patent/JP2004294063A/en
Publication of JP2004294063A5 publication Critical patent/JP2004294063A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a probe and a probe card, obtaining enough contact pressure with an object and obtaining stable resisting contact. <P>SOLUTION: This probe card is used for measuring various electric characteristics of a liquid crystal display 200 (a semiconductor integrated circuit). The probe card includes: a probe 110 coming into contact with a gold bump 210 formed on the liquid crystal display 200; and a base plate 120 to which the probe 110 is mounted. The probe 110 is constituted of an alloy composed of nickel, beryllium, copper and titanium. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路の電気的諸特性を計測するためのプローブ及びプローブカードに関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体集積回路の電気的諸特性を計測するためのプローブカードにおけるプローブの材料としては、レニウムタングステン(特許文献1参照) 又はベリリウム−銅の合金( 特許文献2参照) が用いられてるのが一般的である。なお、以下、図2を借りてレニウムタングステン製のプローブ及びベリリウム−銅製のプローブを説明する。
【0003】
レニウムタングステン製のプローブは、ヤング率が高いため、半導体集積回路上に形成された被接触対象としての金バンプと十分な接触圧を得ることができる。しかも、ヤング率が高いために針径を最小90μmと小さくすることができるので、狭いピッチ間隔(35μmのピッチ間隔)であっても配列することが可能になる。
【0004】
一方、ベリリウム−銅製のプローブは、その材質上、被測定対象上の汚れが先端に付着し難いため、先端のクリーニングは300〜500回に一回だけでよい。しかも、汚れが付着し難いことから、連続して使用したとしても、安定した抵抗接触を得ることができる。
【0005】
【特許文献1】
特開2001−289874号公報
【特許文献2】
特開2001−228170号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、レニウムタングステン製のプローブは、その材質上、金バンプ上の汚れ等が先端に付着し易い。そのため、30〜50回に一回の割合でプローブの先端をクリーニングしなければならないという欠点を有している。しかも、前記プローブに汚れが付着し易いことから、連続して使用すると、安定した抵抗接触を得ることができないという欠点も有している。
【0007】
一方、ベリリウム−銅製のプローブは、ヤング率が低いため、被測定対象と十分な接触圧が得られないという欠点を有している。しかも、ヤング率が低いことから、針径が最小でも130、150μmと大きくなるため、45μm以下のピッチ間隔では配列することができないという欠点も有している。
【0008】
本発明は、上記事情に鑑みて創案されたものであって、その目的とするところは、上記のような欠点のない新規なプローブ及びプローブカードを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明のプローブは、電気量を測定するために使用されるプローブにおいて、少なくともニッケルとベリリウムと銅とチタンとからなる合金で構成されることを特徴としている。
【0010】
より好ましくは、被接触対象の材質が金、銅、アルミニウム又は半田材料である場合の前記プローブであって、15.0〜35.0mass%以下の銅、1.30〜1.80mass%のベリリウム及び0.10〜1.00mass%のチタンを含むニッケル基合金であることが望ましい。
【0011】
より好ましくは、前記プローブは、0.50mass%以下の鉄をさらに含むニッケル基合金であることが望ましい。
【0012】
本発明のプローブカードは、半導体集積回路の電気的諸特性を測定するためのプローブカードであって、上記プローブを備えることを特徴としている。
【0013】
より好ましくは、前記プローブは、前記半導体集積回路のポインティングパッド、バンプ又はパッケージのリードフレームと接触することが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態に係るプローブカードを図面を参照して説明する。図1は本発明の実施の形態に係るプローブカードの概略的側面図、図2はプローブの諸特性を説明するための表である。
【0015】
ここに掲げるプローブカード100は、液晶ディスプレイ200(半導体集積回路)の電気的諸特性の測定に用いられるプローブカードであって、液晶ディスプレイ200上に形成された金バンプ210に接触するプローブ110と、このプローブ110が取り付けられる基板120とを具備している。以下、各部を詳しく説明する。
【0016】
プローブ110は、ニッケルとべリリウムと銅とチタンとからなる合金で構成されており、下向きに屈曲された先端部111と、後述する基板120の配線パターンに接続される基端部112とを有している。プローブ110は、15.0〜35.0mass%以下の銅、1.30〜1.80mass%のベリリウム及び0.10〜1.00mass%のチタンを含むニッケル基合金である。チタンを微量入れたのは、粒界析出を抑えるためであり、この粒界析出が進み過ぎると強度が低下するからである。また、チタンを入れたことによって耐熱性の向上も図ることができる。なお、プローブ110の先端部111が金バンプ210と接触する部分である。
【0017】
上述した合金で構成されたプローブ110は、図2に示すように硬度が518Hv、引張強度が1864N/mm、ヤング率が183Gpaという特性を有し、レニウムタングステン製のプローブよりもヤング率、硬度が低くく、引張強度が弱いものの、ベリリウム−銅製のプローブよりヤング率、硬度が高く、引張強度が強くなっている。
【0018】
プローブ110は、上述したようなヤング率、硬度、引張強度が得られるため、金バンプ210との接触圧を十分に得ることができると共に、針径を最小90μmと小さくすることができる。このように針径を小さくすることにより、プローブ110は、狭いピッチ間隔で基板120に取り付けることが可能になる。
【0019】
また、このようなニッケル基合金で構成されたプローブ110は、その材質上、金バンプ210上の汚れが付着し難い特性も有している。このため、複数回使用したとしても安定した抵抗接触を得ることができると共に先端をクリーニングする回数も少なくてすむ。
【0020】
基板120は、表面上に配線パターン(図示省略)が形成されており、裏面側には、略リング状のプローブ固定部材121が取り付けられている。前記配線パターンには、プローブ110の基端部112が電気的に接続される。プローブ固定部材121は、基板120に取り付けられた状態で下側の面が傾斜面121となっている。この傾斜面121にプローブ110の中腹部を絶縁性の接着剤122で固定することにより、プローブは基板120に対して固定されることになる。
【0021】
なお、プローブカード100は、プローブ110が基板210に対して斜めになったいわゆるカンチレバータイプであるが、本発明には各プローブが基板に対して垂直になったいわゆる垂直作動タイプも含まれることは勿論である。
【0022】
以下、プローブカード100の使用方法について説明する。
【0023】
まず、プローブカード100を下方に下げ、プローブ110を液晶ディスプレイ200の金バンプ210に接触させる。
【0024】
その状態で、下方に押し下げ、液晶ディスプレイ200の電気的諸特性を計測する。このとき、プローブ110は、上述したようにヤング率等が高いため、金バンプ210と十分な接触圧を得ることができる。また、汚れが付着し難い材質であることから、複数回用いたとしても安定した抵抗接触を得ることができる。
【0025】
このようなプローブカード100による場合、安定した抵抗接触を得ることができると共に金バンプ210と十分な接触圧を得ることができるので、液晶ディスプレイの電気的諸特性の安定した計測を行うことができる。また、プローブ110の最小針径を90μmを小さくすることができるので、狭いピッチ間隔でプローブ110を配列することができ、その結果、高集積化を図る上でメリットがある。しかも、プローブ110の先端部111のクリーニングを行う回数を少なくすることができるので、メンテナンスが容易であり、この点で低コスト化を図ることができる。
【0026】
なお、以下のように設計変更することが可能である。
【0027】
プローブ110は、15.0〜35.0mass%以下の銅、1.30〜1.80mass%のベリリウム、0.10〜1.00mass%のチタン及び0.50mass%以下の鉄を含むニッケル基合金であるとしたが、0.50mass%以下の鉄をさらに含むニッケル基合金とすることも可能である。このように鉄をさらに含めることによって、プローブ100は、結晶が微細化されるので、耐力が向上すると共に伸びが大きくなる。即ち、ヤング率等を向上させることができる。なお、プローブ110は、上述した組成比に限定されることはなく、少なくともニッケル、ベリリウム、銅及びチタンからなる合金であればよい。
【0028】
なお、ここでは、液晶ディスプレイ200の金バンプに接触するとしたが、この他、銅、アルミニウム又は半田材料からなる被接触対象に接触し、電気量を測定するために使用することができる。具体的には、半導体集積回路のポインティングパッド、金以外のバンプ又はパッケージのリードフレームに接触し、電気量を計測するために使用することができる。
【0029】
【発明の効果】
本発明の請求項1のプローブは、電気量を計測するために使用されるプローブにおいて、ニッケルとべリリウムと銅とチタンとからなる合金で構成されることを特徴としている。
【0030】
本発明の請求項2のプローブは、被接触対象の材質が金、銅、アルミニウム又は半田材料である場合の請求項1記載のプローブにおいて、15.0〜35.0mass%以下の銅、1.30〜1.80mass%のベリリウム及び0.10〜1.00mass%のチタンを含むニッケル基合金であることを特徴としている。
【0031】
このような請求項1及び2のプローブによる場合、ヤング率が高いので、被接触対象と十分な接触圧を得ることができる。また、針径を小さくすることができるので、狭いピッチ間隔で配列することができる。しかも、材質上、クリーニングを行う回数を少なくすることができるので、メンテナンスが容易であるという効果も奏する。
【0032】
本発明の請求項3のプローブは、請求項2記載のプローブにおいて、0.50mass%以下の鉄をさらに含むニッケル基合金であることを特徴としている。
【0033】
このような請求項3のプローブによる場合、鉄を含めることによって、結晶が微細化され、耐力が向上すると共に伸びが大きくなる。即ち、ヤング率等を向上させることができるので、上記特徴が顕著になる。
【0034】
本発明の請求項4のプローブカードは、半導体集積回路の電気的諸特性の測定に用いられるプローブカードにおいて、請求項1、2又は3記載のプローブを備えている。
【0035】
このような請求項4のプローブカードによる場合、前記プローブが被測定対象と十分な接触圧を得ることができると共に安定した抵抗接触を得ることができるので、半導体集積回路の電気的諸特性を安定して計測することができる。また、プローブの針径を小さくすることができるので、狭いピッチ間隔で配列することができ、その結果、高集積化を図ることができる。しかも、前記プローブは、クリーニングの回数が少なくてすむことから、メンテナンスが容易であり、その結果、低コスト化を図ることができる。
【0036】
本発明の請求項5のプローブカードは、請求項4記載のプローブカードにおいて、前記プローブは、前記半導体集積回路のポインティングパッド、バンプ又はパッケージのリードフレームと接触することを特徴としている。
【0037】
このような請求項5のプローブカードによる場合、様々な被接触対象に接触し、半導体集積回路の電気的諸特性の計測に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るプローブカードの概略的側面図である。
【図2】プローブの諸特性を説明するための表である。
【符号の説明】
100 プローブカード
110 プローブ
120 基板
200 液晶ディスプレイ
210 金バンプ
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a probe and a probe card for measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, rhenium tungsten (see Patent Document 1) or a beryllium-copper alloy (see Patent Document 2) has been used as a probe material in a probe card for measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit. General. A probe made of rhenium tungsten and a probe made of beryllium-copper will be described below with reference to FIG.
[0003]
Since a probe made of rhenium tungsten has a high Young's modulus, a sufficient contact pressure can be obtained with a gold bump formed as a contact target on a semiconductor integrated circuit. In addition, since the needle diameter can be reduced to a minimum of 90 μm due to a high Young's modulus, it is possible to arrange the needles even at a narrow pitch interval (35 μm pitch interval).
[0004]
On the other hand, the probe made of beryllium-copper is difficult to adhere to the tip of the probe due to its material and the material to be measured, so that the tip needs to be cleaned only once every 300 to 500 times. In addition, since dirt is hard to adhere, stable resistance contact can be obtained even when used continuously.
[0005]
[Patent Document 1]
JP 2001-289874 A [Patent Document 2]
JP 2001-228170 A
[Problems to be solved by the invention]
However, in the case of a probe made of rhenium tungsten, dirt or the like on a gold bump is likely to adhere to the tip due to its material. Therefore, there is a disadvantage that the tip of the probe must be cleaned once every 30 to 50 times. In addition, since the probe is apt to be contaminated with dirt, there is a disadvantage that stable resistance contact cannot be obtained when the probe is used continuously.
[0007]
On the other hand, beryllium-copper probes have a drawback that, since their Young's modulus is low, sufficient contact pressure with the object to be measured cannot be obtained. Moreover, since the needle diameter is as large as 130 or 150 μm at minimum due to the low Young's modulus, there is a drawback that the needles cannot be arranged at a pitch interval of 45 μm or less.
[0008]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a novel probe and a probe card which do not have the above-mentioned disadvantages.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The probe of the present invention is a probe used for measuring a quantity of electricity, characterized in that it is made of an alloy composed of at least nickel, beryllium, copper and titanium.
[0010]
More preferably, the probe when the material to be contacted is gold, copper, aluminum or a solder material, wherein the copper is 15.0 to 35.0 mass% or less, and the beryllium is 1.30 to 1.80 mass%. And a nickel-based alloy containing 0.10 to 1.00 mass% of titanium.
[0011]
More preferably, the probe is preferably a nickel-based alloy further containing 0.50 mass% or less of iron.
[0012]
A probe card according to the present invention is a probe card for measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit, and includes the above-described probe.
[0013]
More preferably, the probe is in contact with a pointing pad, a bump, or a lead frame of a package of the semiconductor integrated circuit.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a probe card according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic side view of a probe card according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a table for explaining various characteristics of a probe.
[0015]
The probe card 100 listed here is a probe card used for measuring various electrical characteristics of the liquid crystal display 200 (semiconductor integrated circuit), and includes a probe 110 that contacts a gold bump 210 formed on the liquid crystal display 200; A substrate 120 to which the probe 110 is attached. Hereinafter, each part will be described in detail.
[0016]
The probe 110 is made of an alloy made of nickel, beryllium, copper, and titanium, and has a distal end 111 bent downward and a proximal end 112 connected to a wiring pattern of a substrate 120 described later. ing. The probe 110 is a nickel-based alloy containing 15.0 to 35.0 mass% or less of copper, 1.30 to 1.80 mass% of beryllium, and 0.10 to 1.00 mass% of titanium. The reason for adding a small amount of titanium is to suppress grain boundary precipitation, and if the grain boundary precipitation proceeds excessively, the strength is reduced. In addition, heat resistance can be improved by adding titanium. Note that the tip portion 111 of the probe 110 is a portion in contact with the gold bump 210.
[0017]
As shown in FIG. 2, the probe 110 made of the above-described alloy has the characteristics of a hardness of 518 Hv, a tensile strength of 1864 N / mm 2 , and a Young's modulus of 183 Gpa, and has a Young's modulus and a hardness higher than that of a rhenium tungsten probe. Although it is low and has low tensile strength, it has higher Young's modulus and hardness and higher tensile strength than the beryllium-copper probe.
[0018]
Since the probe 110 has the above-described Young's modulus, hardness, and tensile strength, a sufficient contact pressure with the gold bump 210 can be obtained, and the needle diameter can be reduced to a minimum of 90 μm. By thus reducing the needle diameter, the probe 110 can be attached to the substrate 120 at a narrow pitch.
[0019]
In addition, the probe 110 made of such a nickel-based alloy also has such a property that the dirt on the gold bump 210 is hard to adhere due to its material. For this reason, even if it is used a plurality of times, stable resistance contact can be obtained, and the number of times of cleaning the tip can be reduced.
[0020]
A wiring pattern (not shown) is formed on the front surface of the substrate 120, and a substantially ring-shaped probe fixing member 121 is mounted on the back surface side. The base end 112 of the probe 110 is electrically connected to the wiring pattern. The lower surface of the probe fixing member 121 is an inclined surface 121 when attached to the substrate 120. The probe is fixed to the substrate 120 by fixing the middle part of the probe 110 to the inclined surface 121 with the insulating adhesive 122.
[0021]
Although the probe card 100 is a so-called cantilever type in which the probe 110 is inclined with respect to the substrate 210, the present invention includes a so-called vertical operation type in which each probe is perpendicular to the substrate. Of course.
[0022]
Hereinafter, a method of using the probe card 100 will be described.
[0023]
First, the probe card 100 is lowered, and the probe 110 is brought into contact with the gold bump 210 of the liquid crystal display 200.
[0024]
In this state, the electric characteristics of the liquid crystal display 200 are measured by pushing it down. At this time, since the probe 110 has a high Young's modulus and the like as described above, a sufficient contact pressure with the gold bump 210 can be obtained. In addition, since the material is hardly adhered with dirt, a stable resistance contact can be obtained even when used a plurality of times.
[0025]
In the case of such a probe card 100, stable resistance contact can be obtained and a sufficient contact pressure with the gold bump 210 can be obtained, so that stable measurement of various electrical characteristics of the liquid crystal display can be performed. . Further, since the minimum needle diameter of the probe 110 can be reduced to 90 μm, the probes 110 can be arranged at a narrow pitch interval, and as a result, there is an advantage in achieving high integration. In addition, since the number of times of cleaning the distal end portion 111 of the probe 110 can be reduced, maintenance is easy and cost reduction can be achieved in this regard.
[0026]
The design can be changed as follows.
[0027]
The probe 110 is a nickel-based alloy containing 15.0 to 35.0 mass% or less of copper, 1.30 to 1.80 mass% of beryllium, 0.10 to 1.00 mass% of titanium, and 0.50 mass% or less of iron. However, it is also possible to use a nickel-based alloy further containing 0.50 mass% or less of iron. As described above, by further including iron, the crystal of the probe 100 is miniaturized, so that the yield strength is improved and the elongation is increased. That is, the Young's modulus and the like can be improved. The probe 110 is not limited to the composition ratio described above, and may be any alloy made of at least nickel, beryllium, copper, and titanium.
[0028]
Note that, here, the contact is made with the gold bump of the liquid crystal display 200, but in addition, the contact can be made with a contact target made of copper, aluminum, or a solder material and used to measure the quantity of electricity. Specifically, it can be used to measure a quantity of electricity by contacting a pointing pad of a semiconductor integrated circuit, a bump other than gold, or a lead frame of a package.
[0029]
【The invention's effect】
The probe according to claim 1 of the present invention is a probe used for measuring an electric quantity, which is characterized by being formed of an alloy composed of nickel, beryllium, copper, and titanium.
[0030]
The probe according to claim 2 of the present invention is the probe according to claim 1, wherein the material to be contacted is gold, copper, aluminum or a solder material. It is a nickel-based alloy containing beryllium of 30 to 1.80 mass% and titanium of 0.10 to 1.00 mass%.
[0031]
In the probe according to the first and second aspects, since the Young's modulus is high, a sufficient contact pressure with the contact target can be obtained. Further, since the needle diameter can be reduced, the needles can be arranged at a narrow pitch interval. In addition, since the number of times of cleaning can be reduced due to the material, there is an effect that maintenance is easy.
[0032]
A probe according to a third aspect of the present invention is the probe according to the second aspect, characterized in that the probe is a nickel-based alloy further containing 0.50 mass% or less of iron.
[0033]
In the case of such a probe according to the third aspect, by including iron, the crystal is refined, the proof stress is improved, and the elongation is increased. That is, since the Young's modulus and the like can be improved, the above-mentioned characteristics become remarkable.
[0034]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a probe card for use in measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit, comprising the probe according to the first, second or third aspect.
[0035]
According to the probe card of the fourth aspect, since the probe can obtain a sufficient contact pressure with the object to be measured and a stable resistance contact, the electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit can be stabilized. Can be measured. Further, since the needle diameter of the probes can be reduced, they can be arranged at a narrow pitch interval, and as a result, high integration can be achieved. In addition, the probe can be easily maintained because the number of times of cleaning is small, and as a result, the cost can be reduced.
[0036]
A probe card according to a fifth aspect of the present invention is the probe card according to the fourth aspect, wherein the probe is in contact with a pointing pad, a bump, or a lead frame of a package of the semiconductor integrated circuit.
[0037]
According to the probe card of the fifth aspect, it can be used for measuring various electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit by coming into contact with various objects to be contacted.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic side view of a probe card according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a table for explaining various characteristics of a probe.
[Explanation of symbols]
Reference Signs List 100 probe card 110 probe 120 substrate 200 liquid crystal display 210 gold bump

Claims (5)

電気量を計測するために使用されるプローブにおいて、ニッケルとべリリウムと銅とチタンとからなる合金で構成されることを特徴とするプローブ。A probe used for measuring an amount of electricity, wherein the probe is made of an alloy including nickel, beryllium, copper, and titanium. 被接触対象の材質が金、銅、アルミニウム又は半田材料である場合の請求項1記載のプローブにおいて、15.0〜35.0mass%以下の銅、1.30〜1.80mass%のべリリウム及び0.10〜1.00mass%のチタンを含むニッケル基合金であることを特徴とするプローブ。2. The probe according to claim 1, wherein the material to be contacted is gold, copper, aluminum, or a solder material. A probe comprising a nickel-based alloy containing 0.10 to 1.00 mass% of titanium. 請求項2記載のプローブにおいて、0.50mass%以下の鉄をさらに含むニッケル基合金であることを特徴とするプローブ。The probe according to claim 2, wherein the probe is a nickel-based alloy further containing 0.50 mass% or less of iron. 半導体集積回路の電気的諸特性の測定に用いられるプローブカードにおいて、請求項1、2又は3記載のプローブを備えたことを特徴とするプローブカード。A probe card used for measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit, comprising the probe according to claim 1, 2 or 3. 請求項4記載のプローブカードにおいて、前記プローブは、前記半導体集積回路のポインティングパッド、バンプ又はパッケージのリードフレームと接触することを特徴とするプローブカード。5. The probe card according to claim 4, wherein the probe is in contact with a pointing pad, a bump, or a lead frame of a package of the semiconductor integrated circuit.
JP2003082581A 2003-03-25 2003-03-25 Probe and probe card Pending JP2004294063A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003082581A JP2004294063A (en) 2003-03-25 2003-03-25 Probe and probe card

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003082581A JP2004294063A (en) 2003-03-25 2003-03-25 Probe and probe card

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004294063A true JP2004294063A (en) 2004-10-21
JP2004294063A5 JP2004294063A5 (en) 2006-01-19

Family

ID=33398290

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003082581A Pending JP2004294063A (en) 2003-03-25 2003-03-25 Probe and probe card

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2004294063A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021512283A (en) * 2018-01-17 2021-05-13 テクノプローべ ソシエタ ペル アチオニ Cantilever probe head and corresponding contact probe

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2021512283A (en) * 2018-01-17 2021-05-13 テクノプローべ ソシエタ ペル アチオニ Cantilever probe head and corresponding contact probe

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100594074B1 (en) Contact probe
US6771084B2 (en) Single-sided compliant probe apparatus
JP4741949B2 (en) Inspection probe
KR101453474B1 (en) Electrical Test Probe
US7960988B2 (en) Contactor for electrical test, electrical connecting apparatus using the same, and method for manufacturing contactor
US20050162177A1 (en) Multi-signal single beam probe
US20110115514A1 (en) Probe
JP2006337247A (en) Apparatus and method for testing semiconductor device
JP2006189370A (en) Probe for electrification test
JP2008078032A (en) Connecting device
TW201250266A (en) Probe device for testing IC chip
JP2009139298A (en) Probe card
JP2004294063A (en) Probe and probe card
KR100825294B1 (en) Probe
JP2008111719A (en) Contact probe
JP2004228314A (en) Semiconductor device with pad
TW200532209A (en) Multi-signal single beam probe
JP3099951B2 (en) Split probe card
TWI287091B (en) Flat-type probe apparatus for inspecting flat panel display device
TWI274165B (en) Probe card interposer
US20090009197A1 (en) Probe for electrical test
KR101251926B1 (en) Probe unit
JP2004037145A (en) Probes and electrical connector employing it
JP5614917B2 (en) Metal probe
KR20100002991A (en) Needle used for probe card

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20030404

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20051125

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20051219

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080205

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080407

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080610

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080811

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080908

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080916

A912 Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20081205