JP2004280126A - Color filter substrate and electro-optic device, method for manufacturing color filter substrate and method for manufacturing electro-optic device, and electronic device - Google Patents

Color filter substrate and electro-optic device, method for manufacturing color filter substrate and method for manufacturing electro-optic device, and electronic device Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter substrate capable of assuring both of the brightness of a reflection display and the saturation of a transmission display and an electro-optic device of reflective transflective type and to decrease the differences in the colors between the reflection display and the transmission display. <P>SOLUTION: The color filter substrate is constituted by forming a reflection layer 211 provided with apertures 211a on a substrate 201 and forming color filters 212 provided with colored layers 212r, 212g and 212b thereon. The colored layers are provided with dark color parts 212 on the apertures 211a of the reflection layer 211. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明はカラーフィルタ基板及び電気光学装置、並びに、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法に係り、特に、反射半透過型の電気光学装置に用いる場合に好適なカラーフィルタの構造に関する。   The present invention relates to a color filter substrate and an electro-optical device, and a method for manufacturing a color filter substrate and an electro-optical device, and more particularly, to a structure of a color filter suitable for use in a transflective electro-optical device. .

従来から、外光を利用した反射型表示と、バックライト等の照明光を利用した透過型表示とのいずれをも視認可能とした反射半透過型の液晶表示パネルが知られている。この反射半透過型の液晶表示パネルは、そのパネル内に外光を反射するための反射層を有し、この反射層をバックライト等の照明光を透過することができるように構成したものである。この種の反射層としては、液晶表示パネルの画素毎に所定割合の開口部(スリット)を備えたパターンを持つものがある。   2. Description of the Related Art Conventionally, there has been known a transflective liquid crystal display panel capable of visually recognizing both a reflective display using external light and a transmissive display using illumination light such as a backlight. The transflective liquid crystal display panel has a reflective layer for reflecting external light in the panel, and the reflective layer is configured to transmit illumination light such as a backlight. is there. As this type of reflective layer, there is a reflective layer having a pattern having a predetermined ratio of openings (slits) for each pixel of a liquid crystal display panel.

図18は、従来の反射半透過型の液晶表示パネル100の概略構造を模式的に示す概略断面図である。この液晶表示パネル100は、基板101と基板102とがシール材103によって貼り合せられ、基板101と基板102との間に液晶104を封入した構造を備えている。   FIG. 18 is a schematic cross-sectional view schematically showing a schematic structure of a conventional transflective liquid crystal display panel 100. The liquid crystal display panel 100 has a structure in which a substrate 101 and a substrate 102 are bonded to each other with a sealant 103, and a liquid crystal 104 is sealed between the substrate 101 and the substrate 102.

基板101の内面上には、画素毎に開口部111aを備えた反射層111が形成され、この反射層111の上に着色層112r,112g,112b及び保護膜112pを備えたカラーフィルタ112が形成されている。カラーフィルタ112の保護膜112pの表面上には透明電極113が形成されている。   On the inner surface of the substrate 101, a reflective layer 111 having an opening 111a for each pixel is formed, and a color filter 112 having colored layers 112r, 112g, 112b and a protective film 112p is formed on the reflective layer 111. Have been. The transparent electrode 113 is formed on the surface of the protective film 112p of the color filter 112.

一方、基板102の内面上には透明電極121が形成され、対向する基板101上の上記透明電極113と交差するように構成されている。なお、基板101上の透明電極113上、及び、基板102上の透明電極121の上には、配向膜や硬質透明膜などが必要に応じて適宜に形成される。   On the other hand, a transparent electrode 121 is formed on the inner surface of the substrate 102, and is configured to intersect the transparent electrode 113 on the opposing substrate 101. Note that an alignment film, a hard transparent film, or the like is appropriately formed on the transparent electrode 113 on the substrate 101 and on the transparent electrode 121 on the substrate 102 as necessary.

また、上記の基板102の外面上には位相差板(1/4波長板)105及び偏光板106が順次配置され、基板101の外面上には位相差板(1/4波長板)107及び偏光板108が順次配置される。   On the outer surface of the substrate 102, a retardation plate (1/4 wavelength plate) 105 and a polarizing plate 106 are sequentially arranged. On the outer surface of the substrate 101, a retardation plate (1/4 wavelength plate) 107 and The polarizing plates 108 are sequentially arranged.

以上のように構成された液晶表示パネル100は、携帯電話、携帯型情報端末などの電子機器に設置される場合、その背後にバックライト109が配置された状態で取り付けられる。この液晶表示パネル100においては、昼間や屋内などの明るい場所では反射経路Rに沿って外光が液晶104を透過した後に反射層111にて反射され、再び液晶104を透過して放出されるので、反射型表示が視認される。一方、夜間や野外などの暗い場所ではバックライト109を点灯させることにより、バックライト109の照明光のうち開口部111aを通過した光が透過経路Tに沿って液晶表示パネル100を通過して放出されるので、透過型表示が視認される。   When the liquid crystal display panel 100 configured as described above is installed in an electronic device such as a mobile phone or a portable information terminal, the liquid crystal display panel 100 is installed with the backlight 109 arranged behind it. In the liquid crystal display panel 100, in a bright place such as in the daytime or indoors, external light passes through the liquid crystal 104 along the reflection path R, is reflected by the reflective layer 111, and is transmitted through the liquid crystal 104 again and emitted. , And the reflection type display is visually recognized. On the other hand, in a dark place such as at night or outdoors, the backlight 109 is turned on, so that light of the illumination light of the backlight 109 that has passed through the opening 111a passes through the liquid crystal display panel 100 along the transmission path T and is emitted. Therefore, the transmissive display is visually recognized.

しかしながら、上記従来の反射半透過型の液晶表示パネル100においては、上記反射経路Rでは光がカラーフィルタ112を往復2回通過するのに対し、上記透過経路Tでは光がカラーフィルタ112を一度だけ通過するため、反射型表示の彩度に対して透過型表示における彩度が悪くなるという問題点がある。すなわち、反射型表示では一般的に表示の明るさが不足しがちであるので、カラーフィルタ112の光透過率を高く設定して表示の明るさを確保する必要があるが、このようにすると、透過型表示において十分な彩度を得ることができなくなる。   However, in the conventional transflective liquid crystal display panel 100, light passes through the color filter 112 twice in the reflection path R, whereas light passes through the color filter 112 only once in the transmission path T. Since the light passes through, there is a problem that the saturation of the transmission type display is lower than the saturation of the reflection type display. That is, since the display brightness tends to be insufficient in the reflection type display, it is necessary to secure the display brightness by setting the light transmittance of the color filter 112 to be high. Sufficient saturation cannot be obtained in the transmissive display.

また、上記のように反射型表示と透過型表示とにおいては光がカラーフィルタを通過する回数が異なるので、反射型表示の色彩と、透過型表示の色彩とが大きく異なってしまうため、違和感を与えるという問題点もある。   Further, as described above, the number of times light passes through the color filter is different between the reflective display and the transmissive display, so that the color of the reflective display is greatly different from the color of the transmissive display. There is also the problem of giving.

そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、反射型表示と透過型表示の双方を可能にする表示装置に用いた場合に、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能なカラーフィルタ基板を提供することにある。また、反射型表示の明るさと透過型表示の彩度とを共に確保することの可能な反射半透過型の電気光学装置を提供することにある。さらに、反射型表示と透過型表示との間の色彩の差異を低減することのできる表示技術を実現することを目的とする。   Therefore, the present invention is to solve the above-mentioned problems, and the problem is that when used in a display device capable of both a reflective display and a transmissive display, the brightness of the reflective display and the color of the transmissive display are improved. It is an object of the present invention to provide a color filter substrate capable of ensuring both the degree and the degree. Another object of the present invention is to provide a transflective electro-optical device capable of securing both the brightness of the reflective display and the saturation of the transmissive display. It is another object of the present invention to realize a display technique capable of reducing a difference in color between a reflective display and a transmissive display.

上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、前記基板上に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層とを備え、前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, a color filter substrate of the present invention includes a substrate, a colored layer disposed on the substrate, and having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion; And a reflective layer having a transmission part that is substantially capable of transmitting light, wherein the dark color part is disposed so as to overlap at least the transmission part in a plane.

本発明によれば、淡色部と濃色部とを有する着色層が設けられ、濃色部が反射層の少なくとも透過部に平面的に重なるように配置されていることにより、反射層の透過部を通過する光が濃色部を透過することとなるので、従来よりも透過光の彩度を向上させることができる。   According to the present invention, a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion is provided, and the dark-colored portion is arranged so as to overlap at least the transmissive portion of the reflective layer. Is transmitted through the dark portion, so that the saturation of the transmitted light can be improved as compared with the related art.

ここで、光濃度とは光の波長分布を偏らせる着色層の単位厚さ当たりの能力を言い、光濃度が高ければ(大きければ)透過光の彩度(カラフルネス)は強くなり、光濃度が低ければ(小さければ)透過光の彩度は弱くなる。着色層が顔料や染料等の着色材を含んでいる場合には、この光濃度は、通常、その着色材の量と正の相関を有する。   Here, the light density refers to the ability per unit thickness of the colored layer to bias the wavelength distribution of light. If the light density is high (larger), the saturation (colorfulness) of transmitted light becomes stronger, and the light density becomes higher. The lower (the lower) the saturation of the transmitted light is reduced. When the coloring layer contains a coloring material such as a pigment or a dye, the light density usually has a positive correlation with the amount of the coloring material.

色濃度の概念と相関を有する具体的なパラメータとしては、例えば、視感透過率或いは明度に対応するXYZ表色系のY値やLab表色系のL値、すなわち、可視光領域(例えば380nm〜780nmの光波長域)における分光透過率の積分値、を用いることができる。このY値やL値は色濃度と負の相関(例えば反比例関係)を有する。したがって、上記濃色部のY値やL値は、上記淡色部のY値やL値よりも小さいこととなる。 Specific parameters having a correlation with the concept of color density include, for example, the Y value of the XYZ color system or the L * value of the Lab color system corresponding to luminous transmittance or lightness, that is, the visible light region (for example, The integrated value of the spectral transmittance in the light wavelength range of 380 nm to 780 nm) can be used. The Y value and the L * value have a negative correlation (for example, an inverse proportional relationship) with the color density. Accordingly, the Y value and L * values of the dark color portion becomes smaller than the Y value and L * value of the color portion.

色濃度の概念と相関を有する具体的なパラメータとしては、色度図上の上記着色層の色相に対応する点で構成される多角形の面積を用いることもできる。この多角形の面積は色濃度と正の相関(例えば比例関係)を有する。したがって、例えばCIE(1931)表色系のxy色度図上又はCIE(1976)表色系のa色度図上の濃色部の色相に対応する点で構成される多角形の面積が、同色度図上の淡色部の色相に対応する点で構成される多角形の面積よりも大きいこととなる。なお、例えば、3色の着色層を有する場合においては、上記多角形は三角形である。 As a specific parameter having a correlation with the concept of color density, a polygonal area formed of points corresponding to the hue of the colored layer on the chromaticity diagram can also be used. The area of this polygon has a positive correlation (for example, a proportional relationship) with the color density. Therefore, for example, a polygon composed of points corresponding to the hue of the dark portion on the xy chromaticity diagram of the CIE (1931) color system or the a * b * chromaticity diagram of the CIE (1976) color system The area is larger than the area of the polygon formed by the points corresponding to the hue of the light-colored portion on the same chromaticity diagram. In addition, for example, in the case of having three colored layers, the polygon is a triangle.

さらに、反射層の透過部は、実質的に光が透過可能になっているものであり、反射層の一部に開口を設けることによって透過部を構成してもよく、或いはまた、反射層の一部を薄く形成することによって透過部を構成してもよい。   Further, the transmission part of the reflection layer is substantially capable of transmitting light, and the transmission part may be configured by providing an opening in a part of the reflection layer. The transmission part may be formed by forming a part thin.

この場合、前記淡色部は前記透過部を除く前記反射層に平面的に重なるように配置され、前記濃色部は前記淡色部が配置されてない前記基板に配置されていることが好ましい。この構造では淡色部と濃色部とが異なる平面領域に形成されているので、カラーフィルタの厚さを低減できるとともにその表面を平坦に構成できる。   In this case, it is preferable that the light-colored portion is disposed so as to overlap the reflective layer except for the transmission portion in a plane, and the dark-colored portion is disposed on the substrate on which the light-colored portion is not disposed. In this structure, the light-colored portion and the dark-colored portion are formed in different plane regions, so that the thickness of the color filter can be reduced and the surface thereof can be made flat.

また、前記反射層は、前記透過部以外の部分に反射部を有し、前記透過部は前記反射層に設けられた開口部であり、前記淡色部は少なくとも前記反射部に平面的に重なるように配置されていることが好ましい。   Further, the reflection layer has a reflection portion in a portion other than the transmission portion, the transmission portion is an opening provided in the reflection layer, and the light-colored portion overlaps at least the reflection portion in a plane. Are preferably arranged.

さらに、前記着色層は、前記淡色部と前記濃色部との積層構造を有することが好ましい。この構造では、淡色部と濃色部とを積層させるだけで構成できるので、容易に製造することが可能になる。この場合、淡色部と濃色部とはどちらを上に構成してもよい。   Further, it is preferable that the colored layer has a laminated structure of the light color portion and the dark color portion. In this structure, since it can be configured only by laminating the light-colored portion and the dark-colored portion, it is possible to easily manufacture. In this case, either the light-colored portion or the dark-colored portion may be configured above.

ここで、前記反射層と前記着色層との間に部分的に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。このようにすると、透光層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された透光層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Here, a light-transmitting layer that is partially disposed between the reflective layer and the colored layer and substantially transmits light is provided, and the dark-colored portion is disposed in a region where the light-transmitting layer is not disposed. It is preferred that With this configuration, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the light-transmitting layer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the light-transmitting layer partially disposed, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

このとき、前記透光層は光を散乱させる散乱機能を有することが望ましい。このようにすると、カラーフィルタ基板を介して反射型表示を視認する場合において、反射層の正反射による照明光や太陽光による幻惑や背景の写りこみなどを低減できる。ここで、透光層の散乱機能は、透光層の表面の微細な凹凸や透光層内部に分散配置された微細な粒子などによって得ることができる。   At this time, the light transmitting layer preferably has a scattering function of scattering light. In this manner, when the reflective display is viewed through the color filter substrate, it is possible to reduce the dazzling of the illumination light or sunlight due to the regular reflection of the reflective layer, the reflection of the background, and the like. Here, the scattering function of the light-transmitting layer can be obtained by fine irregularities on the surface of the light-transmitting layer, fine particles dispersed and arranged inside the light-transmitting layer, and the like.

さらに、前記反射層と前記基板との間に部分的に配置された下地層を備え、前記濃色部は前記下地層が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。
このようにすると、下地層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された下地層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。
Furthermore, it is preferable that an underlayer is provided partially between the reflection layer and the substrate, and the dark portion is disposed in a region where the underlayer is not disposed.
With this configuration, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the underlayer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the partially disposed underlayer, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

このとき、前記反射層の表面は光を散乱させる微細な凹凸を有することが望ましい。このようにすると、カラーフィルタ基板を介して反射型表示を視認する場合において、反射層の正反射による照明光や太陽光による幻惑や背景の写りこみなどを低減できる。   At this time, it is desirable that the surface of the reflective layer has fine irregularities that scatter light. In this manner, when the reflective display is viewed through the color filter substrate, it is possible to reduce the dazzling of the illumination light or sunlight due to the regular reflection of the reflective layer, the reflection of the background, and the like.

上記各手段において、前記基板は凹部を有し、前記濃色部は前記凹部内に配置されていることが好ましい。凹部内に濃色部が配置されていることにより、着色層の淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を凹部の深さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   In each of the above means, it is preferable that the substrate has a concave portion, and the dark color portion is disposed in the concave portion. By disposing the dark portion in the concave portion, it is possible to provide a surface step between the light portion and the dark portion of the colored layer. When the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the depth of the concave portion, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

次に、本発明の別のカラーフィルタ基板は、基板上に配置され、濃色部を有する着色層を備え、前記濃色部は他の部分よりも高い光濃度を有することを特徴とする。着色層が濃色部を有することにより、濃色部を透過する光の彩度をその他の部分を透過する光の彩度よりも高めることができる。したがって、このカラーフィルタ基板を、実質的に光を透過する透過部(開口部)を有する反射層を備えた液晶装置に用い、濃色部を透過部に合わせるように配置することにより、従来よりも透過光の彩度を高めることができる。ここで、カラーフィルタ基板は複数の画素領域毎に濃色部を有することが好ましい。   Next, another color filter substrate of the present invention is provided with a colored layer having a dark color portion disposed on the substrate, wherein the dark color portion has a higher light density than other portions. When the coloring layer has a dark portion, the saturation of light passing through the dark portion can be higher than the saturation of light passing through other portions. Therefore, by using this color filter substrate in a liquid crystal device having a reflection layer having a transmission part (opening) that substantially transmits light, and disposing the color filter substrate so as to match the dark color part with the transmission part, the conventional color filter substrate is used. Can also increase the saturation of transmitted light. Here, the color filter substrate preferably has a dark color portion for each of the plurality of pixel regions.

また、前記基板と前記着色層との間に部分的に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。このカラーフィルタ基板によれば、透光層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された透光層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   A light-transmitting layer partially disposed between the substrate and the colored layer, the light-transmitting layer being substantially light-transmittable; and the dark-colored portion being disposed in a region where the light-transmitting layer is not disposed. Is preferred. According to this color filter substrate, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the light-transmitting layer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the light-transmitting layer partially disposed, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

さらに、前記基板は凹部を有し、前記濃色部は前記凹部内に配置されていることが好ましい。凹部内に濃色部が配置されていることにより、着色層の淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を凹部の深さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Further, it is preferable that the substrate has a concave portion, and the dark color portion is disposed in the concave portion. By disposing the dark portion in the concave portion, it is possible to provide a surface step between the light portion and the dark portion of the colored layer. When the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the depth of the concave portion, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

次に、本発明の電気光学装置は、電気光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持する基板と、前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、前記基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする。   Next, the electro-optical device of the present invention includes an electro-optical layer containing an electro-optical material, a substrate supporting the electro-optical layer, and a transmission portion disposed on the substrate and substantially transmitting light. A reflective layer, comprising a colored layer disposed on the substrate, and having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion, wherein the dark-colored portion overlaps at least the transmission portion in a plane. It is characterized by being arranged.

本発明によれば、反射層の透過部に平面的に重なるように濃色部が配置されていることにより、反射層の透過部を通過する光が濃色部を透過することとなるので、従来よりも透過光の彩度を向上させることができる。   According to the present invention, since the dark portion is disposed so as to overlap the transmission portion of the reflection layer in a plane, light passing through the transmission portion of the reflection layer passes through the dark portion, The saturation of transmitted light can be improved as compared with the related art.

ここで、前記淡色部は前記透過部を除く前記反射層と平面的に重なるように配置され、前記濃色部は前記淡色部が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。この構造では淡色部と濃色部とが異なる平面領域に形成されているので、カラーフィルタの厚さを低減できるとともにその表面を平坦に構成できる。   Here, it is preferable that the light-colored portion is disposed so as to overlap the reflective layer except for the transmission portion in a planar manner, and the dark-colored portion is disposed in a region where the light-colored portion is not disposed. In this structure, the light-colored portion and the dark-colored portion are formed in different plane regions, so that the thickness of the color filter can be reduced and the surface thereof can be made flat.

また、前記着色層は、前記淡色部と前記濃色部との積層構造を有することが好ましい。この構造では、淡色部と濃色部とを積層させるだけで構成できるので、容易に製造することが可能になる。この場合、淡色部と濃色部とはどちらを上に構成してもよい。   Further, it is preferable that the colored layer has a laminated structure of the light-colored portion and the dark-colored portion. In this structure, since it can be configured only by laminating the light-colored portion and the dark-colored portion, it is possible to easily manufacture. In this case, either the light-colored portion or the dark-colored portion may be configured above.

さらに、前記反射層と前記着色層との間に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。このようにすると、透光層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された透光層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Furthermore, a light-transmitting layer disposed between the reflective layer and the colored layer and substantially transmitting light is provided, and the dark-colored portion is disposed in a region where the light-transmitting layer is not disposed. Is preferred. With this configuration, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the light-transmitting layer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the light-transmitting layer partially disposed, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

このとき、前記透光層は光を散乱させる散乱機能を有することが望ましい。このようにすると、カラーフィルタ基板を介して反射型表示を視認する場合において、反射層の正反射による照明光や太陽光による幻惑や背景の写りこみなどを低減できる。ここで、透光層の散乱機能は、透光層の表面の微細な凹凸や透光層内部に分散配置された微細な粒子などによって得ることができる。   At this time, the light transmitting layer preferably has a scattering function of scattering light. In this manner, when the reflective display is viewed through the color filter substrate, it is possible to reduce the dazzling of the illumination light or sunlight due to the regular reflection of the reflective layer, the reflection of the background, and the like. Here, the scattering function of the light-transmitting layer can be obtained by fine irregularities on the surface of the light-transmitting layer, fine particles dispersed and arranged inside the light-transmitting layer, and the like.

また、前記反射層と前記基板との間に部分的に配置された下地層を備え、前記濃色部は前記下地層が配置されてない前記基板上に配置されていることが好ましい。このようにすると、下地層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された下地層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Further, it is preferable that an underlayer is provided partially between the reflection layer and the substrate, and the dark portion is disposed on the substrate on which the underlayer is not disposed. With this configuration, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the underlayer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the partially disposed underlayer, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

ここで、前記反射層の表面は光を散乱させる微細な凹凸を有することが望ましい。このようにすると、反射型表示を視認する場合において、反射層の正反射による照明光や太陽光による幻惑や背景の写りこみなどを低減できる。   Here, it is desirable that the surface of the reflective layer has fine irregularities that scatter light. In this way, when viewing the reflective display, it is possible to reduce glare caused by illumination light or sunlight due to regular reflection of the reflective layer, reflection of the background, and the like.

さらに、前記基体に凹部が設けられ、該凹部内に前記濃色部が配置されていることが好ましい。凹部内に濃色部が配置されていることにより、着色層の淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を凹部の深さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Further, it is preferable that a concave portion is provided in the base, and the dark color portion is arranged in the concave portion. By disposing the dark portion in the concave portion, it is possible to provide a surface step between the light portion and the dark portion of the colored layer. When the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the depth of the concave portion, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

上記の電気光学装置は、前記電気光学層を介して前記基板と対向して配置された対向基板を備えたものである場合がある。   The above-described electro-optical device may include an opposing substrate disposed to oppose the substrate via the electro-optical layer.

また、本発明の別の電気光学装置は、電気光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持する第1の基板と、前記第1の基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第2の基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする。   Further, another electro-optical device according to the present invention includes an electro-optical layer including an electro-optical material, a first substrate that supports the electro-optical layer, and an optical device that is disposed on the first substrate and substantially emits light. A reflective layer having a transmissive portion capable of transmitting light; a second substrate disposed opposite to the first substrate; and a light-colored portion disposed on the second substrate and having a light density higher than that of the light-colored portion. A colored layer having a high dark color portion, wherein the dark color portion is arranged to overlap at least the transmission portion in a plane.

本発明によれば、第1の基板に透過部を有する反射層が配置され、第2の基板に淡色部および濃色部を有する着色層が配置され、濃色部が少なくとも透過部に平面的に重なるように配置されていることにより、反射層の透過部を通過した光が濃色部を通過することとなるので、透過光の彩度を向上させることができる。   According to the present invention, a reflective layer having a transmitting portion is disposed on a first substrate, a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion is disposed on a second substrate, and the dark-colored portion is planar at least in the transmitting portion. Is arranged so that light passing through the transmitting portion of the reflective layer passes through the dark portion, so that the saturation of the transmitted light can be improved.

ここで、前記第2の基板と前記着色層との間に部分的に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることが好ましい。このようにすると、透光層の有無により淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を部分的に配置された透光層の厚さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Here, a light-transmitting layer which is partially disposed between the second substrate and the coloring layer and which can substantially transmit light is provided, and the dark portion is a region where the light-transmitting layer is not disposed. Are preferably arranged. With this configuration, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion depending on the presence or absence of the light-transmitting layer. Further, when the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the thickness of the light-transmitting layer partially disposed, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

また、前記第2の基板は凹部を有し、前記濃色部は前記凹部内に配置されていることが好ましい。凹部内に濃色部が配置されていることにより、着色層の淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、淡色部と濃色部との間の表面段差を凹部の深さ未満になるように構成すると、淡色部よりも濃色部が厚くなるように構成できる。したがって、透過光の彩度をより高めることが可能になる。   Further, it is preferable that the second substrate has a concave portion, and the dark portion is arranged in the concave portion. By disposing the dark portion in the concave portion, it is possible to provide a surface step between the light portion and the dark portion of the colored layer. When the surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion is configured to be smaller than the depth of the concave portion, the dark-colored portion can be configured to be thicker than the light-colored portion. Therefore, the saturation of transmitted light can be further increased.

なお、電気光学物質を含む電気光学層の両側に配置された第1の基板と第2の基板とを備え、第1の基板と第2の基板のいずれか一方の基板に着色層を配置し、他方の基板に反射層の透過部に平面的に重なる領域に限定着色層を配置することも可能である。この場合には、反射層の透過部を通過した光が限定着色層を透過することとなるので、透過光の彩度を向上させることができる。ここで、限定着色層の光濃度は着色層よりも高いことが望ましい。   Note that a first substrate and a second substrate are provided on both sides of an electro-optical layer containing an electro-optical material, and a coloring layer is provided on one of the first substrate and the second substrate. Alternatively, it is also possible to dispose a limited coloring layer in a region that overlaps the transmission portion of the reflection layer on the other substrate in a plane. In this case, since the light that has passed through the transmitting portion of the reflective layer is transmitted through the limited colored layer, the saturation of the transmitted light can be improved. Here, it is desirable that the light density of the limited coloring layer is higher than that of the coloring layer.

次に、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、第1の領域に着色層の淡色部を形成する工程と、前記第1の領域に隣り合う第2の領域に、前記淡色部よりも光濃度が高い着色層の濃色部を形成する工程と、を有することを特徴とする。   Next, in the method of manufacturing a color filter substrate according to the present invention, a step of forming a light-colored portion of the colored layer in the first region and a step of forming a light-emitting portion in the second region adjacent to the first region more lightly than the light-colored portion Forming a dark portion of the colored layer having a high density.

また、本発明の電気光学装置の製造方法は、第1の領域に着色層の淡色部を形成する工程と、前記第1の領域に隣り合う第2の領域に、前記淡色部よりも光濃度が高い着色層の濃色部を形成する工程とを有するカラーフィルタ基板の製造方法を工程として備えることを特徴とする。   Further, in the method of manufacturing an electro-optical device according to the present invention, a step of forming a light-colored portion of the colored layer in the first region, and a step of forming a light-density portion in the second region adjacent to the first region more lightly than the light-colored portion Forming a dark portion of a colored layer having a high color filter substrate.

次に、本発明の電子機器は、電気光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持する基板と、前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、前記基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されている電気光学装置を備えることを特徴とする。   Next, the electronic device of the present invention is a reflection device having an electro-optic layer containing an electro-optic material, a substrate supporting the electro-optic layer, and a transmission portion disposed on the substrate and substantially transmitting light. A color layer having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion, wherein the dark-colored portion is arranged to overlap at least the transmission portion in a plane. And an electro-optical device.

また、本発明の別の電子機器は、電気光学物質を含む電気光学層と、前記電気光学層を支持する第1の基板と、前記第1の基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、前記第2の基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されている電気光学装置を備えることを特徴とする。   Further, another electronic device of the present invention includes an electro-optic layer including an electro-optic material, a first substrate supporting the electro-optic layer, and an optical device disposed on the first substrate and substantially transmitting light. A reflective layer having a possible transmissive portion, a second substrate disposed opposite the first substrate, and a light-colored portion disposed on the second substrate and having a higher light density than the light-colored portion A coloring layer having a dark color portion, wherein the dark color portion includes an electro-optical device arranged to overlap at least the transmission portion in a plane.

次に、添付図面を参照して本発明に係るカラーフィルタ基板及び電気光学装置並びにこれらの製造方法の実施形態について詳細に説明する。   Next, embodiments of a color filter substrate, an electro-optical device, and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

[第1実施形態]
図1は、本発明に係るカラーフィルタ基板の第1実施形態である基板201及びこのカラーフィルタ基板を用いた電気光学装置の第1実施形態である液晶表示パネル200を模式的に示す概略断面図である。
[First Embodiment]
FIG. 1 is a schematic sectional view schematically showing a substrate 201 which is a first embodiment of a color filter substrate according to the present invention, and a liquid crystal display panel 200 which is a first embodiment of an electro-optical device using the color filter substrate. It is.

この液晶表示パネル200は、ガラスやプラスチック等からなる基板201と基板202とがシール材203を介して貼り合わせられ、内部に液晶204が封入されてなる。基板202、この基板202上に形成された透明電極221、位相差板205,207、偏光板206,208は図18に示す上記従来例と全く同様である。   In the liquid crystal display panel 200, a substrate 201 made of glass, plastic, or the like is bonded to a substrate 202 via a sealant 203, and a liquid crystal 204 is sealed inside. The substrate 202, the transparent electrode 221 formed on the substrate 202, the retardation plates 205 and 207, and the polarizing plates 206 and 208 are exactly the same as those in the above-described conventional example shown in FIG.

本実施形態においては、基板201の内面上に、実質的に光が透過可能な透過部としての開口部211aを備えた反射層211が形成されている。この反射層211は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金などの薄膜で形成することができる。開口部211aは、基板210の内面に沿って縦横にマトリクス状に配列設定された画素G毎に、当該画素Gの全面積を基準として所定の開口率(例えば10〜30%)を有するように形成されている。   In the present embodiment, on the inner surface of the substrate 201, a reflective layer 211 having an opening 211a as a transmission part through which light can substantially pass is formed. The reflection layer 211 can be formed of a thin film of aluminum, an aluminum alloy, a silver alloy, or the like. The opening portion 211a has a predetermined aperture ratio (for example, 10 to 30%) based on the entire area of the pixel G for each of the pixels G arranged in a matrix in the vertical and horizontal directions along the inner surface of the substrate 210. Is formed.

図9には、上方から基板201を見た平面図を示す。この開口部211aは、例えば図9に点線の引き出し線にて示すように平面視矩形に構成され、画素Gのほぼ中央部に画素Gに1箇所ずつ形成されている。ただし、開口部211aの位置や開口部形状は任意であり、また、開口部211aの数も任意であり、本実施形態とは異なり画素毎に複数の開口部が設けられていても構わない。   FIG. 9 shows a plan view of the substrate 201 as viewed from above. The opening 211a is formed in a rectangular shape in a plan view as shown by, for example, a dotted leader line in FIG. However, the position of the opening 211a and the shape of the opening 211 are arbitrary, and the number of the openings 211a is also arbitrary. Unlike the present embodiment, a plurality of openings may be provided for each pixel.

上記反射層211の上には、例えば原色系のカラーフィルタの場合にはR(赤)、G(緑)及びB(青)の3色からなる着色層212r,212g,212bが、例えば公知のストライプ配列、デルタ(トライアングル)配列、斜めモザイク(ダイヤゴナル)配列などの適宜の配列態様(図9にはストライプ配列のカラーフィルタを示す。)で画素G毎に配列されている。ここで、画素Gの間には、着色層212r,212g,212bが相互に重ねあわされて遮光性を呈する重ね遮光部212BMが形成される。ここで、各着色層212r,212g,212bは、重ね遮光部212BMの部分を除いて基本的に表面がほぼ平坦に構成されている。   On the reflective layer 211, for example, in the case of a primary color filter, colored layers 212r, 212g, and 212b of three colors of R (red), G (green), and B (blue) are provided, for example, in a known manner. The pixels G are arranged in an appropriate arrangement such as a stripe arrangement, a delta (triangle) arrangement, and a diagonal mosaic (diagonal) arrangement (a color filter having a stripe arrangement is shown in FIG. 9). Here, between the pixels G, the colored layers 212r, 212g, and 212b are overlapped with each other to form an overlap light-shielding portion 212BM that exhibits light-shielding properties. Here, the surface of each of the colored layers 212r, 212g, and 212b is basically substantially flat except for the overlapping light-shielding portion 212BM.

各着色層212r,212g,212bには、上記反射層211の開口部211a上に濃色部212cが設けられ、この濃色部212c以外の部分は、濃色部212cよりも光濃度の小さい、淡色の淡色部となっている。高い光濃度を有する濃色部212cは、例えば透光性樹脂中に分散された顔料や染料等の着色材の濃度が淡色部中の濃度よりも高くなるように構成されている。   In each of the colored layers 212r, 212g, and 212b, a dark portion 212c is provided on the opening 211a of the reflective layer 211, and portions other than the dark portion 212c have a lower light density than the dark portion 212c. It is a light colored part. The dark-colored portion 212c having a high light density is configured such that the concentration of a coloring material such as a pigment or a dye dispersed in the translucent resin is higher than the concentration of the light-colored portion.

上記着色層212r,212g,212b及び重ね遮光部212BMの上には、透明樹脂等からなる保護膜212pが形成される。この保護膜212pは、着色層を工程中の薬剤等による腐食や汚染から保護するとともに、カラーフィルタ212の表面を平坦化するためのものである。   A protective film 212p made of a transparent resin or the like is formed on the coloring layers 212r, 212g, 212b and the overlapping light shielding portion 212BM. The protective film 212p protects the coloring layer from corrosion and contamination due to chemicals and the like during the process and planarizes the surface of the color filter 212.

カラーフィルタ212の上には、ITO(インジウムスズ酸化物)等の透明導電体からなる透明電極213が形成される。この透明電極213は本実施形態においては複数並列したストライプ状に形成されている。また、この透明電極231は上記基板202上に同様にストライプ状に形成された透明電極221に対して直交する方向に伸び、透明電極213と透明電極221(図9に一点鎖線で示す。)との交差領域内に含まれる液晶表示パネル200の構成部分(反射層211、カラーフィルタ212、透明電極213、液晶204及び透明電極221における上記交差領域内の部分)が画素Gを構成するようになっている。   On the color filter 212, a transparent electrode 213 made of a transparent conductor such as ITO (indium tin oxide) is formed. In the present embodiment, the transparent electrodes 213 are formed in a plurality of parallel stripes. The transparent electrode 231 extends in a direction orthogonal to the transparent electrode 221 similarly formed in a stripe shape on the substrate 202, and includes a transparent electrode 213 and a transparent electrode 221 (indicated by a dashed line in FIG. 9). Of the liquid crystal display panel 200 (portion of the reflective layer 211, the color filter 212, the transparent electrode 213, the liquid crystal 204, and the transparent electrode 221 within the intersection area) included in the intersection area of the pixel G. ing.

本実施形態においては、上記着色層212において、反射層211の開口部211aの上方に、他の部分よりも高い光濃度を有する、濃色の濃色部212cが形成されていることにより、各着色層212r,212g,212bの濃色部212cを通過する光の彩度は高くなり、その他の淡色部を通過する光の彩度は相対的に低くなる。   In the present embodiment, each of the colored layers 212 is formed above the opening 211a of the reflective layer 211 by forming a deep dark portion 212c having a higher light density than other portions. The saturation of light passing through the dark-colored portions 212c of the coloring layers 212r, 212g, and 212b increases, and the saturation of light passing through the other light-colored portions decreases relatively.

この液晶表示パネル200においては、反射型表示がなされる場合には反射経路Rに沿って光が通過して視認され、透過型表示がなされる場合には透過経路Tに沿って光が通過して視認される。このとき、反射経路Tにおいてカラーフィルタ212は従来と同様に作用するが、透過経路Tは反射層211の開口部211aを通るので、透過光は着色層212r,212g,212bの濃色部212cを通過することとなり、その結果、透過型表示における彩度が図18に示す従来構造の場合よりも向上する。   In the liquid crystal display panel 200, when the reflection type display is performed, the light passes along the reflection path R and is visually recognized, and when the transmission type display is performed, the light passes along the transmission path T. Is visually recognized. At this time, the color filter 212 functions in the reflection path T in the same manner as in the related art, but since the transmission path T passes through the opening 211a of the reflection layer 211, the transmitted light passes through the dark color part 212c of the coloring layers 212r, 212g, and 212b. As a result, the saturation in the transmissive display is improved as compared with the case of the conventional structure shown in FIG.

したがって、本実施形態においては、カラーフィルタ212における反射層211の開口部211aに対して平面的に重なる位置に濃色部212cを形成することにより、反射型表示の明るさを損なうことなく、透過型表示の彩度を向上させることが可能になる。特に、反射型表示と、透過型表示との間の色彩の相違を従来よりも低減することができる。   Therefore, in the present embodiment, by forming the dark-colored portion 212c at a position overlapping the opening 211a of the reflective layer 211 in the color filter 212 in a planar manner, it is possible to transmit light without impairing the brightness of the reflective display. It is possible to improve the saturation of the type display. In particular, the difference in color between the reflective display and the transmissive display can be reduced as compared with the related art.

ここで、上記濃色部212cは、濃色部212cとその他の淡色部との厚さが等しい場合には、同じ光を濃色部と2倍の厚さの淡色部とに透過させた場合に相互にほぼ等しい色彩が得られるように構成されていることが好ましい。このとき、本明細書では、濃色部212cの色濃度が淡色部の2倍であるということとする。この色濃度の表現を用いると、より具体的には、濃色部の色濃度は淡色部の1.4倍〜2.6倍の範囲内であることが好ましく、特に1.7倍〜2.3倍の範囲内であることが望ましい。このようにすると、反射型表示の彩度と、透過型表示の彩度との差異をさらに低減し、両表示間の色彩の相違をさらに低減できる。また、上記範囲であれば、顔料や染料などの濃度を調整して容易に製造することができる。   Here, when the thickness of the dark color portion 212c is equal to that of the other light color portions, the same light is transmitted through the dark color portion and the light color portion having twice the thickness. It is preferable that the colors are substantially equal to each other. At this time, in this specification, it is assumed that the color density of the dark color part 212c is twice that of the light color part. When this expression of color density is used, more specifically, the color density of the dark color portion is preferably in the range of 1.4 to 2.6 times that of the light color portion, and particularly 1.7 to 2 times. It is preferably within a range of 3 times. In this way, the difference between the saturation of the reflective display and the saturation of the transmissive display can be further reduced, and the difference in color between the two displays can be further reduced. In addition, when the content is within the above range, it can be easily produced by adjusting the concentration of the pigment or the dye.

また、本実施形態においては、着色層212r,121g,212bに、平面的に淡色部と濃色部212cとが配列されていることにより、着色層212r,212g,212bの表面(図示上面)の凹凸を小さくすることができ、特に、淡色部と濃色部とを同じ厚さにすることによって着色層を平坦に形成することが可能になる。したがって、カラーフィルタ212の表面の平坦性を向上させることができるので、液晶表示パネルの表示品位を高めることが可能になる。   In the present embodiment, the light-colored portions and the dark-colored portions 212c are arranged in a plane on the coloring layers 212r, 121g, and 212b, so that the surface (the upper surface in the drawing) of the coloring layers 212r, 212g, and 212b is formed. The unevenness can be reduced, and in particular, the colored layer can be formed flat by making the light-colored portion and the dark-colored portion have the same thickness. Therefore, the flatness of the surface of the color filter 212 can be improved, and the display quality of the liquid crystal display panel can be improved.

なお、上記反射層の開口部は、実体的に開口となっている場合に限られるものではなく、実質的に光を透過させることができるように構成された透過部であればよい。例えば、反射層の一部を薄く形成することによって実質的に光が透過できるように構成されている場合をも含む。   Note that the opening of the reflective layer is not limited to the case where the opening is substantially an opening, but may be any transmitting part that is configured to substantially transmit light. For example, it includes a case where light is substantially transmitted by forming a part of the reflective layer thinly.

[第2実施形態]
次に、図2を参照して、本発明に係る第2実施形態のカラーフィルタ基板301及び液晶表示パネル300について説明する。この実施形態においては、上記第1実施形態と同様に構成された基板301,302、シール材303、液晶304、透明電極313,321、位相差板305,307、偏光板306,308を備えているので、これらの説明は省略する。
[Second embodiment]
Next, a color filter substrate 301 and a liquid crystal display panel 300 according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, substrates 301 and 302, sealing material 303, liquid crystal 304, transparent electrodes 313 and 321, retardation plates 305 and 307, and polarizing plates 306 and 308, which are configured in the same manner as in the first embodiment, are provided. Therefore, these descriptions are omitted.

本実施形態においては、基板301の表面に、実質的に光が透過可能な透過部としての開口部311aを有する反射層311が設けられ、この反射層311の上に着色層312r,312g,312bが画素毎に形成されている。これらの各着色層は、開口部311aをも覆うように画素全体に形成されている。この着色層は、上記反射層311の上において画素全体に亘って形成された淡色部と、この淡色部の上に積層され、淡色部と同じ色相で淡色部よりも高い色濃度を備えた濃色部312cとにより構成されている。   In the present embodiment, a reflective layer 311 having an opening 311a as a transmission portion through which light can substantially pass is provided on the surface of the substrate 301, and coloring layers 312r, 312g, and 312b are provided on the reflective layer 311. Are formed for each pixel. Each of these coloring layers is formed over the entire pixel so as to cover the opening 311a. The colored layer has a light-colored portion formed over the entire pixel on the reflective layer 311, and a light-colored portion laminated on the light-colored portion and having the same hue as the light-colored portion and a higher color density than the light-colored portion. And a color part 312c.

本実施形態では、淡色部と濃色部312cとの積層構造によって着色層312r,312g,312bが構成されているので、反射経路Rにおいては第1実施形態と同様に淡色部のみを光が透過するが、透過経路Tにおいては第1実施形態と異なり淡色部と濃色部312cの双方を光が透過する。したがって、第1実施形態の場合と同様に透過型表示の彩度が向上し、反射型表示と透過型表示の色彩の差異を低減することができる。この場合、透過光は淡色部と濃色部の双方を透過するように構成されているので、本実施形態では濃色部312cの厚さを第1実施形態の濃色部の厚さよりも低減することができる。例えば、濃色部の光濃度が淡色部の2場合である場合、第1実施形態と等価な光学的特性を本実施形態において得るには、濃色部312cの厚さを淡色部の厚さの半分にすればよい。   In the present embodiment, since the coloring layers 312r, 312g, and 312b are formed by a laminated structure of the light-colored portion and the dark-colored portion 312c, light passes through only the light-colored portion on the reflection path R as in the first embodiment. However, unlike the first embodiment, light passes through both the light-colored portion and the dark-colored portion 312c in the transmission path T. Therefore, similarly to the first embodiment, the saturation of the transmissive display is improved, and the difference between the colors of the reflective display and the transmissive display can be reduced. In this case, since the transmitted light is configured to transmit through both the light-colored portion and the dark-colored portion, in this embodiment, the thickness of the dark-colored portion 312c is smaller than the thickness of the dark-colored portion in the first embodiment. can do. For example, in the case where the light density of the dark color portion is 2 in the light color portion, in order to obtain optical characteristics equivalent to those of the first embodiment in the present embodiment, the thickness of the dark color portion 312c is set to the thickness of the light color portion. Should be reduced to half.

[第3実施形態]
次に、図3を参照して、本発明に係る第3実施形態のカラーフィルタ基板401及び液晶表示パネル400について説明する。この実施形態においても、上記第1実施形態と同様に構成された基板401,402、シール材403、液晶404、透明電極413,421、位相差板405,407、偏光板406,408を備えているので、これらの説明は省略する。
[Third embodiment]
Next, a color filter substrate 401 and a liquid crystal display panel 400 according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment also includes substrates 401 and 402, a sealing material 403, a liquid crystal 404, transparent electrodes 413 and 421, retardation plates 405 and 407, and polarizing plates 406 and 408 configured similarly to the first embodiment. Therefore, these descriptions are omitted.

また、上記実施形態と同様に、本実施形態においても、基板401上に実質的に光が透過可能な透過部としての開口部411aを備えた反射層411が形成され、その上に直接に着色層412r,412g,412b、重ね遮光部412BM及び保護膜412pからなるカラーフィルタ412が形成されている。   Further, similarly to the above-described embodiment, in the present embodiment, the reflective layer 411 having the opening 411a as a transmission part capable of substantially transmitting light is formed on the substrate 401, and the coloring layer is directly colored thereon. A color filter 412 including the layers 412r, 412g, and 412b, the overlapping light-shielding portion 412BM, and the protective film 412p is formed.

この実施形態においては、基板401上には画素毎に凹部401aが形成され、この凹部401aは上記反射層411の開口部411aと平面的にほぼ合致する位置及び形状に構成されている。この凹部401a内には上記着色部の一部を構成する濃色部412cが形成され、この濃色部412cの上に当該濃色部よりも光濃度の小さい、淡色の淡色部が画素全体に形成されている。   In this embodiment, a concave portion 401a is formed for each pixel on the substrate 401, and the concave portion 401a is formed at a position and a shape substantially matching the opening 411a of the reflective layer 411 in a plane. A dark-colored portion 412c that forms a part of the colored portion is formed in the concave portion 401a, and a light-colored light-colored portion having a light density lower than that of the dark-colored portion is formed on the entire pixel on the dark-colored portion 412c. Is formed.

この実施形態においても、着色層412r,412g,412bは淡色部と濃色部とが積層された構造を有しているので、光学的には第2実施形態と同様の作用効果を奏する。しかし、本実施形態では、基板401上に凹部401aが形成され、この凹部401a内に濃色部412cが形成されているので、着色層の表面の平坦性を第2実施形態の場合よりも高めることができる。   Also in this embodiment, since the colored layers 412r, 412g, and 412b have a structure in which a light-colored portion and a dark-colored portion are laminated, the same optical and operational effects as those of the second embodiment can be obtained. However, in this embodiment, since the concave portion 401a is formed on the substrate 401 and the dark color portion 412c is formed in the concave portion 401a, the flatness of the surface of the coloring layer is enhanced as compared with the case of the second embodiment. be able to.

[第4実施形態]
次に、図4を参照して、本発明に係る第4実施形態のカラーフィルタ基板501及び液晶表示パネル500について説明する。この実施形態においても、上記第1実施形態と同様に構成された基板501,502、シール材503、液晶504、透明電極513,521、位相差板505,507、偏光板506,508を備えているので、これらの説明は省略する。
[Fourth embodiment]
Next, a color filter substrate 501 and a liquid crystal display panel 500 according to a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment also includes substrates 501 and 502, a sealing material 503, a liquid crystal 504, transparent electrodes 513 and 521, retardation plates 505 and 507, and polarizing plates 506 and 508 configured in the same manner as the first embodiment. Therefore, these descriptions are omitted.

本実施形態においては、上記第1乃至第3実施形態のようにカラーフィルタが反射層を備えた基板上に形成されている構成とは異なり、反射層511を備えた基板501にはカラーフィルタが形成されていない代わりに、基板501に対向する基板502上にカラーフィルタ522が形成されている。   In the present embodiment, unlike the first to third embodiments in which the color filter is formed on the substrate provided with the reflective layer, the color filter is provided on the substrate 501 provided with the reflective layer 511. Instead of being formed, a color filter 522 is formed over a substrate 502 facing the substrate 501.

基板501上には上記各実施形態と同様に実質的に光が透過可能な透過部としての開口部511aを備えた反射層511が形成され、この反射層511の上には透明な絶縁膜512が形成され、絶縁膜512の上に透明電極513が形成されている。   A reflective layer 511 having an opening 511a as a transmission part through which light can be transmitted substantially is formed on the substrate 501 as in the above embodiments, and a transparent insulating film 512 is formed on the reflective layer 511. Is formed, and a transparent electrode 513 is formed on the insulating film 512.

一方、基板502上には着色層522r,522g,522bが形成され、この各着色層における上記反射層511の開口部511aと平面的に重なる部分は、その他の部分よりも光濃度の高い濃色部522cとなっている。そして、上記着色層の上には重ね遮光部522BM及び保護膜522pが設けられ、カラーフィルタ522が構成されている。   On the other hand, colored layers 522r, 522g, and 522b are formed on the substrate 502, and a portion of each of the colored layers that overlaps the opening 511a of the reflective layer 511 in a planar manner has a higher light density than other portions. The portion 522c. The overlapping light-shielding portion 522BM and the protective film 522p are provided on the coloring layer to form a color filter 522.

本実施形態では、反射経路Rを通過する光は着色層の淡色部を2回通過し、透過経路Tを通過する光は濃色部522cを通過するので、光学的には第1実施形態と同様の作用効果を奏することができる。   In the present embodiment, light passing through the reflection path R passes through the light-colored portion of the colored layer twice, and light passing through the transmission path T passes through the dark-colored portion 522c. Similar functions and effects can be obtained.

この実施形態のカラーフィルタ基板は基板502であり、上記先の実施形態とは異なり、この基板502上には反射層が形成されていない。すなわち、本実施形態のカラーフィルタ基板は反射層の形成された基板501に対して対向する基板として形成されるものであり、このように反射層を備えていないカラーフィルタ基板においても、画素毎に設けられた着色層の一部に濃色部を設けることによって反射半透過型の液晶表示パネルの色彩に関する特性を向上させることができる。   The color filter substrate of this embodiment is a substrate 502. Unlike the previous embodiments, no reflective layer is formed on the substrate 502. That is, the color filter substrate of the present embodiment is formed as a substrate facing the substrate 501 on which the reflective layer is formed. By providing a dark color portion in a part of the provided coloring layer, the color characteristics of the transflective liquid crystal display panel can be improved.

なお、本実施形態では、反射層511の形成された基板501と対向する基板502上に上記第1実施形態と同様の構造を備えたカラーフィルタ522を形成しているが、このカラーフィルタ522の構造としては、上記第2実施形態と同様に淡色部上に濃色部を重ねた構造であってもよく、また、上記第3実施形態と同様に濃色部上に淡色部を重ねた構造、特に基板502上に凹部を設け、この凹部内に濃色部を形成した構造、であっても構わない。   In this embodiment, the color filter 522 having the same structure as that of the first embodiment is formed on the substrate 502 facing the substrate 501 on which the reflective layer 511 is formed. The structure may be a structure in which a dark color portion is superimposed on a light color portion as in the second embodiment, or a structure in which a light color portion is superimposed on a dark color portion as in the third embodiment. In particular, a structure in which a concave portion is provided on the substrate 502 and a dark color portion is formed in the concave portion may be employed.

[第5実施形態]
次に、図5を参照して、本発明に係る第5実施形態のカラーフィルタ基板及び電気光学装置について説明する。図5は、本実施形態の液晶表示パネル600の構造を模式的に示す概略断面図である。
[Fifth Embodiment]
Next, a color filter substrate and an electro-optical device according to a fifth embodiment of the invention will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a schematic sectional view schematically showing the structure of the liquid crystal display panel 600 of the present embodiment.

この液晶表示パネル600は、上記第1実施形態と同様に構成された基板601,602、シール材603、液晶604、透明電極613,621、位相差板605,607、偏光板606,608を備えているので、これらの説明は省略する。   The liquid crystal display panel 600 includes substrates 601 and 602, a sealant 603, a liquid crystal 604, transparent electrodes 613 and 621, retardation plates 605 and 607, and polarizing plates 606 and 608 configured in the same manner as in the first embodiment. Therefore, these descriptions are omitted.

また、第1実施形態と同様に基板601の表面上に実質的に光が透過可能な透過部としての開口部611aを備えた反射層611が形成され、この反射層611の上にカラーフィルタ612が形成されている。本実施形態において、カラーフィルタ612は、一様な色濃度を有する着色層612r,612g,612bと、重ね遮光部612BMと、保護層612pとを有している。   Further, as in the first embodiment, a reflection layer 611 having an opening 611a as a transmission part through which light can substantially pass is formed on the surface of the substrate 601, and a color filter 612 is formed on the reflection layer 611. Is formed. In the present embodiment, the color filter 612 includes coloring layers 612r, 612g, and 612b having a uniform color density, a light-shielding portion 612BM, and a protective layer 612p.

一方、基板602上には、反射層611の開口部611aと平面的に重なる位置に限定して濃色層622r、622g、622bが形成され、この濃色層622r、622g、622bの上に透明電極621が形成されている。この濃色層622r、622g、622bは、上記着色層612r,612g,612bの色濃度よりも高い色濃度を有している。   On the other hand, on the substrate 602, dark layers 622r, 622g, and 622b are formed only at positions overlapping the opening 611a of the reflective layer 611 in a plane. An electrode 621 is formed. The dark layers 622r, 622g, 622b have a higher color density than the color layers 612r, 612g, 612b.

本実施形態では、反射経路Rを通過する光は、上記の限定範囲に形成された濃色層を透過することなく、基板601上の着色層を2回透過するが、透過経路Tを通過する光は、上記着色層を透過した後にさらに濃色層を透過する。したがって、図18に示す従来構造の液晶表示パネルに較べて、透過型表示の彩度を高めることができ、反射型表示と透過型表示との色彩の差異を低減することができる。   In the present embodiment, the light passing through the reflection path R passes through the colored layer on the substrate 601 twice without passing through the dark color layer formed in the above-described limited range, but passes through the transmission path T. The light transmits through the colored layer after passing through the colored layer. Therefore, compared to the liquid crystal display panel having the conventional structure shown in FIG. 18, the saturation of the transmissive display can be increased, and the difference in color between the reflective display and the transmissive display can be reduced.

なお、本実施形態では、基板601上の着色層が画素全体に形成され、基板602上の濃色層が反射層611の開口部611aと平面的に重なる限定された範囲に構成されているが、これとは異なり、基板601上の着色層を反射層611の開口部611aの部分を避けるように形成してもよい。また、本実施形態では、反射層611の形成された基板601上に淡色の着色層を形成しているが、これとは逆に、反射層の形成されている一方の基板上に濃色層を形成し、他方の基板上に淡色の着色層を形成してもよい。   In the present embodiment, the colored layer on the substrate 601 is formed over the entire pixel, and the dark layer on the substrate 602 is formed in a limited range that overlaps the opening 611a of the reflective layer 611 in a plane. Alternatively, the coloring layer on the substrate 601 may be formed so as to avoid the opening 611a of the reflective layer 611. In this embodiment, the light-colored layer is formed on the substrate 601 on which the reflective layer 611 is formed. Conversely, the dark-colored layer is formed on one substrate on which the reflective layer is formed. And a light-colored layer may be formed on the other substrate.

[第6実施形態]
次に、図6を参照して、本発明に係る第6実施形態の液晶表示パネル700について説明する。この実施形態においては、上記図18に示す従来構造の液晶表示パネル100と同様の、基板701及び基板702、シール材703、液晶704、位相差板705,707、偏光板706,708、開口部711aを備えた反射層711、及び、着色層712r,712g,712bを有するカラーフィルタ712を備えている。
[Sixth embodiment]
Next, a liquid crystal display panel 700 according to a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the substrates 701 and 702, the sealing material 703, the liquid crystal 704, the retardation plates 705 and 707, the polarizing plates 706 and 708, and the openings are similar to the liquid crystal display panel 100 having the conventional structure shown in FIG. A reflective layer 711 provided with 711a, and a color filter 712 having colored layers 712r, 712g, and 712b are provided.

この実施形態においては、基板701上において画素毎に実質的に光が透過可能な透過部としての開口部711aを備えた反射層711が形成され、この反射層711の上には、上記開口部711aを避けるように、透光層714が部分的に形成される。この透光層714は、SiO、TiOなどの無機物質やアクリル樹脂、エポキシ樹脂などの樹脂などで形成することができ、可視光領域において透光性を有するものであればよいが、特に可視光線に対して透明、例えば可視光領域において平均透過率が70%以上で波長分散が小さい(例えば透過率の変動が10%以下)もの、であることが好ましい。 In this embodiment, a reflection layer 711 having an opening 711a as a transmission part through which light can be substantially transmitted is formed for each pixel on a substrate 701, and the above-mentioned opening is formed on the reflection layer 711. The light transmitting layer 714 is partially formed so as to avoid 711a. The light-transmitting layer 714 can be formed of an inorganic substance such as SiO 2 or TiO 2 or a resin such as an acrylic resin or an epoxy resin, and may be any as long as it has a light-transmitting property in a visible light region. It is preferably transparent to visible light, for example, one having an average transmittance of 70% or more and a small chromatic dispersion (for example, a variation of transmittance of 10% or less) in a visible light region.

また、透光層714の非形成領域である開口部711a上には、基板701上に直接に濃色部712cが形成されている。また、透光層714の上には、濃色部712cよりも光濃度の低い淡色部が形成され、これらの濃色部712cと淡色部とによって着色層712r,712g,712bが形成されている。   In addition, over the opening 711 a, which is a region where the light-transmitting layer 714 is not formed, a dark color portion 712 c is formed directly on the substrate 701. Light-colored portions having lower light density than the dark-colored portions 712c are formed on the light-transmitting layer 714, and the dark-colored portions 712c and the light-colored portions form coloring layers 712r, 712g, and 712b. .

本実施形態においては、上記透光層714が形成されていることによって着色層の濃色部712cと淡色部との間に段差が形成され、これによって、画素内における反射層711の開口部711aと平面的に重なる領域では液晶704が厚く、開口部711aと平面的に重なる領域以外の領域では液晶704が薄くなるように構成されている。このため、上記の第1実施形態乃至第5実施形態のように反射層の開口部と平面的に重なる領域と、それ以外の領域との間で液晶704の厚さがほぼ等しい場合に較べると、透過型表示をより明るくすることができる。ここで、反射層の開口部と平面的に重なる領域の液晶厚がそれ以外の領域の液晶厚の約2倍となるように構成することが好ましい。   In the present embodiment, a step is formed between the dark-colored portion 712c and the light-colored portion of the colored layer due to the formation of the light-transmitting layer 714, whereby the opening 711a of the reflective layer 711 in the pixel is formed. The liquid crystal 704 is configured so as to be thicker in a region overlapping with the opening 711a and thinner in a region other than the region overlapping with the opening 711a. For this reason, compared with the case where the thickness of the liquid crystal 704 is substantially equal between the region that planarly overlaps with the opening of the reflective layer and the other region as in the above-described first to fifth embodiments. , It is possible to make the transmissive display brighter. Here, it is preferable that the liquid crystal thickness in a region overlapping the opening of the reflective layer in a plane is approximately twice as large as the liquid crystal thickness in other regions.

図16は、上記のように液晶の厚さを変えた場合の効果を説明するための説明図である。上記のように反射層Rの上に透光層Tを形成し、その上に淡色部C1を形成するとともに、反射層Rの開口部Ra上に直接に濃色部C2を形成することによって、開口部Raと平面的に重なる領域の液晶厚D2を、それ以外の領域の液晶厚D1の2倍にしたとする。ここで、説明の都合上、ホモジニアス方式の液晶セルが構成されているとする。そして、この液晶セルのリタデーションがΔn・D1=λ/4、Δn・D2=λ/2(Δnは液晶の光学異方性、λは光の波長)であるとする。   FIG. 16 is an explanatory diagram for explaining the effect when the thickness of the liquid crystal is changed as described above. As described above, the light-transmitting layer T is formed on the reflective layer R, the light-colored portion C1 is formed thereon, and the dark-colored portion C2 is formed directly on the opening Ra of the reflective layer R. It is assumed that the liquid crystal thickness D2 in a region overlapping the opening Ra in a plane is twice as large as the liquid crystal thickness D1 in other regions. Here, for convenience of explanation, it is assumed that a homogeneous liquid crystal cell is configured. It is assumed that the retardation of the liquid crystal cell is Δn · D1 = λ / 4 and Δn · D2 = λ / 2 (Δn is the optical anisotropy of the liquid crystal and λ is the wavelength of light).

上記の状況では、液晶セルが光透過状態にある場合、透過型表示では、図16(A)に示すように、バックライト等からの照明光が偏光板P2を通過して直線偏光となり、位相差板(1/4波長板)D2を通過することにより例えば右回りの円偏光となった後にセル厚D2の液晶層を通過することから位相差がさらに1/2波長進んで左回りの円偏光となり、位相差板D1を通過して元の直線偏光になり、偏光板P1を通過する。   In the above situation, when the liquid crystal cell is in a light transmitting state, in a transmissive display, as shown in FIG. 16A, illumination light from a backlight or the like passes through the polarizing plate P2 and becomes linearly polarized light. By passing through a phase difference plate (1/4 wavelength plate) D2, for example, it becomes right-handed circularly polarized light, and then passes through a liquid crystal layer having a cell thickness of D2. The light becomes polarized light, passes through the phase difference plate D1, becomes the original linearly polarized light, and passes through the polarizing plate P1.

また、上記と同じく液晶セルが光透過状態にあるとき、反射型表示では、図16(B)に示すように、外光が偏光板P1を通過して直線偏光となり、位相差板(1/4波長板)D1を通過することにより例えば右回りの円偏光になり、セル厚D1の液晶層を往復2度通過することから位相差がさらに1/2波長進んで左回りの円偏光となり、再び位相差板D1を通過することにより元の直線偏光に戻って偏光板P1を通過する。   Further, when the liquid crystal cell is in the light transmitting state as described above, in the reflective display, as shown in FIG. 16B, the external light passes through the polarizing plate P1 to become linearly polarized light, and the phase difference plate (1/1). (4 wavelength plate) By passing through D1, it becomes, for example, clockwise circularly polarized light, and after passing twice through the liquid crystal layer having a cell thickness of D1, the phase difference further advances by 波長 wavelength to become counterclockwise circularly polarized light, The light returns to the original linearly polarized light by passing through the retardation plate D1 again, and passes through the polarizing plate P1.

上記透過型表示において、図16(C)に示すように、仮に通過する液晶の厚さがD1であるとするとそのリタデーションはλ/4となるので、照明光が偏光板P2、位相差板D2を経て液晶を通過した後の偏光状態は、当初とは直交する方向の直線偏光となり、その後、位相差板D1を通過して左回りの円偏光となり、さらに偏光板P1を通過する。このとき、偏光板P1を通過できる偏光成分は、上記の液晶の厚さがD2のときに通過できる光量のほぼ半分となる。   In the transmissive display, as shown in FIG. 16C, if the thickness of the liquid crystal passing therethrough is D1, the retardation is λ / 4, so that the illumination light is transmitted through the polarizing plate P2 and the retardation plate D2. The polarization state after passing through the liquid crystal after passing through becomes a linearly polarized light in a direction orthogonal to the initial state, then passes through the phase difference plate D1, becomes a left-handed circularly polarized light, and further passes through the polarizing plate P1. At this time, the polarized light component that can pass through the polarizing plate P1 is approximately half the amount of light that can pass when the thickness of the liquid crystal is D2.

以上説明したように、本実施形態のような反射半透過型の液晶表示パネルの場合には、反射層の開口部と平面的に重なる領域の液晶の厚さがそれ以外の領域の液晶の厚さより厚くなると、光透過状態における光透過量が高くなり、特に、開口部と平面的に重なる領域の液晶厚がそれ以外の領域の液晶厚の2倍になると光透過量もまたほぼ2倍になる。液晶セルがホモジニアス方式ではなく、液晶層にツイストが存在すると透過率が向上しない場合もあるが、例えば40度ツイストの液晶では、開口部と平面的に重なる領域の液晶厚をそれ以外の2倍にすれば40%程度の透過率の向上が得られる。   As described above, in the case of the transflective liquid crystal display panel as in the present embodiment, the thickness of the liquid crystal in the region that overlaps the opening of the reflective layer in a plane is the thickness of the liquid crystal in the other region. When the thickness is larger than the thickness, the light transmission amount in the light transmission state increases. In particular, when the liquid crystal thickness in a region that overlaps the opening in a plane is twice as large as the liquid crystal thickness in the other region, the light transmission amount is also almost doubled. Become. The transmittance may not be improved if the liquid crystal cell is not of the homogeneous type and twist is present in the liquid crystal layer. For example, in the case of a liquid crystal having a twist of 40 degrees, the thickness of the liquid crystal in a region that overlaps the opening in a plane is doubled. By doing so, an improvement in transmittance of about 40% can be obtained.

[第7実施形態]
次に、図7を参照して、本発明に係る第7実施形態の液晶表示パネル800について説明する。この実施形態においては、上記図18に示す従来構造の液晶表示パネル100と同様の、基板801及び基板802、シール材803、液晶804、位相差板805,807、偏光板806,808、開口部811aを備えた反射層811、及び、着色層812r,812g,812bを有するカラーフィルタ812を備えている。
[Seventh embodiment]
Next, a liquid crystal display panel 800 according to a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the substrates 801 and 802, the sealant 803, the liquid crystal 804, the retarders 805 and 807, the polarizers 806 and 808, and the openings are similar to the liquid crystal display panel 100 having the conventional structure shown in FIG. A reflective layer 811 provided with 811a and a color filter 812 having colored layers 812r, 812g and 812b are provided.

この実施形態においては、基板801の上に下地層814を部分的に形成し、この下地層814の上に反射層811を形成する。ここで、反射層811は画素毎に実質的に光が透過可能な透過部としての開口部811aを備えており、この開口部811aは下地層814の非形成領域に対応して設けられている。そして、下地層814の非形成領域において、基板801上には濃色部812cが形成されている。また、反射層811上には濃色部812cよりも光濃度の小さい淡色部が形成され、これらの淡色部と上記濃色部812cとによって着色層812r,812g,812bがそれぞれ構成されている。   In this embodiment, a base layer 814 is partially formed on a substrate 801, and a reflective layer 811 is formed on the base layer 814. Here, the reflective layer 811 has an opening 811 a as a transmission part that can substantially transmit light for each pixel, and the opening 811 a is provided corresponding to a region where the base layer 814 is not formed. . In a region where the base layer 814 is not formed, a dark portion 812c is formed on the substrate 801. Light-colored portions having a lower light density than the dark-colored portions 812c are formed on the reflective layer 811. These light-colored portions and the dark-colored portions 812c form coloring layers 812r, 812g, and 812b, respectively.

本実施形態において、下地層814は上記第6実施形態の透光層と同様の材質で構成することができるが、透光性を有している必要は必ずしもなく、遮光性を有する素材で形成しても構わない。   In the present embodiment, the underlayer 814 can be made of the same material as the light-transmitting layer of the sixth embodiment, but is not necessarily required to have a light-transmitting property, and is formed of a material having a light-shielding property. It does not matter.

本実施形態でも、第6実施形態と同様に、反射層811の開口部811aと平面的に重なる領域において液晶804が厚く、それ以外の領域において液晶804が薄くなるように構成される。   Also in the present embodiment, similarly to the sixth embodiment, the liquid crystal 804 is configured to be thick in a region that planarly overlaps with the opening 811a of the reflective layer 811, and to be thin in other regions.

[第8実施形態]
次に、図8を参照して、本発明に係る第8実施形態の液晶表示パネル900について説明する。この実施形態においては、上記図18に示す従来構造の液晶表示パネル100と同様の、基板901及び基板902、シール材903、液晶904、位相差板905,907、偏光板906,908、開口部911aを備えた反射層911、及び、着色層912r,912g,912bを有するカラーフィルタ912を備えている。
[Eighth Embodiment]
Next, a liquid crystal display panel 900 according to an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. In this embodiment, the substrates 901 and 902, the sealing material 903, the liquid crystal 904, the phase difference plates 905 and 907, the polarizing plates 906 and 908, and the openings are similar to the liquid crystal display panel 100 having the conventional structure shown in FIG. A reflective layer 911 including 911a and a color filter 912 including colored layers 912r, 912g, and 912b are provided.

この実施形態においては、第6実施形態と同様に、基板901の上には実質的に光が透過可能な透過部としての開口部911aを備えた反射層911が形成され、この反射層911上に透光層914が開口部911aを避けるように部分的に形成され、開口部911aの形成領域において基板901上に濃色部912cが形成され、透光層914の上には淡色部が形成され、濃色部912cと淡色部とによって着色層912r,912g,912bがそれぞれ構成されている。   In this embodiment, as in the sixth embodiment, a reflective layer 911 having an opening 911a as a transmission part through which light can substantially pass is formed on a substrate 901. A light-transmitting layer 914 is partially formed so as to avoid the opening 911a, a dark-colored portion 912c is formed on the substrate 901 in a region where the opening 911a is formed, and a light-colored portion is formed on the light-transmitting layer 914. The colored layers 912r, 912g, and 912b are formed by the dark color portion 912c and the light color portion, respectively.

本実施形態では、先に説明した上記各実施形態の重ね遮光層の代りに、透光層914上の画素間領域に黒色遮光層912BMが形成されている。この黒色遮光層612BMは、黒色の樹脂材料、例えば、黒色の顔料を樹脂中に分散させたもの、などを用いることができる。この黒色遮光層912BMの上には、上記着色層912r,912g,912bが順次に形成され、その上に保護膜912pが形成されてカラーフィルタ912に構成されている。各着色層は、その周縁が黒色遮光層912BMの上にそれぞれ重なるように形成されている。   In the present embodiment, a black light-shielding layer 912BM is formed in a region between pixels on the light-transmitting layer 914 instead of the overlapping light-shielding layer in each of the above-described embodiments. As the black light-shielding layer 612BM, a black resin material, for example, a material in which a black pigment is dispersed in a resin can be used. On the black light-shielding layer 912BM, the coloring layers 912r, 912g, and 912b are sequentially formed, and a protective film 912p is formed thereon to form a color filter 912. Each colored layer is formed such that its periphery overlaps the black light-shielding layer 912BM.

この実施形態では、黒色遮光層612BMを形成する工程が別途必要にはなるが、重ね遮光層を用いる場合よりもカラーフィルタの厚さを低減し、しかも、カラーフィルタ表面の平坦性を向上させることができる。   In this embodiment, a step of forming the black light-shielding layer 612BM is separately required, but the thickness of the color filter is reduced and the flatness of the color filter surface is improved as compared with the case where the overlapping light-shielding layer is used. Can be.

[第9実施形態]
次に、図10を参照して、本発明に係る第9実施形態として、カラーフィルタ基板の製造方法について説明する。このカラーフィルタ基板の製造方法は、上記第1実施形態の液晶表示パネル200に用いられているカラーフィルタ基板の製造に関するものである。
[Ninth embodiment]
Next, a method for manufacturing a color filter substrate will be described as a ninth embodiment according to the present invention with reference to FIG. This method of manufacturing a color filter substrate relates to the manufacture of a color filter substrate used in the liquid crystal display panel 200 of the first embodiment.

基板201の表面上には、最初に、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロムなどの金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これを公知のフォトリソグラフィ法を用いてパターニングすることによって図10(a)に示すように開口部211aを備えた反射層211を形成する。   On the surface of the substrate 201, first, a metal such as aluminum, an aluminum alloy, a silver alloy, or chromium is formed into a thin film by a vapor deposition method, a sputtering method, or the like, and is patterned using a known photolithography method. As a result, a reflective layer 211 having an opening 211a is formed as shown in FIG.

次に、図10(b)に示すように、所定の色相を呈する顔料や染料等を分散させてなる着色された感光性樹脂(感光性レジスト)を塗布し、所定パターンにて露光、現像を行ってパターニングを行うことにより、着色層212rの淡色部を形成する。この淡色部は、上記反射層211の開口部211a上の部分に非形成領域(開口部)を備えたパターン形状となっている。その後、上記淡色部よりも顔料や染料等の着色材の濃度を高くした感光性樹脂を塗布し、上記と同様にしてパターニングを行うことにより、図10(c)に示すように濃色部212cを淡色部の非形成領域に形成する。そして、上記と同様の工程を他の色相の着色部212g,212bについても繰り返し行うことにより、図10(d)に示すようにそれぞれ濃色部212cを備えた各色の着色層を順次形成していく。ここで、各着色層は画素間領域において相互に重なるようにパターニングが行われ、複数(図示例では3つ)の着色層が重なった重ね遮光層212BMが形成される。   Next, as shown in FIG. 10B, a colored photosensitive resin (photosensitive resist) formed by dispersing a pigment, a dye, or the like having a predetermined hue is applied, and is exposed and developed in a predetermined pattern. The light-colored portion of the colored layer 212r is formed by performing the patterning. The light-colored portion has a pattern shape in which a non-formation region (opening) is provided in a portion of the reflective layer 211 above the opening 211a. Thereafter, a photosensitive resin in which the concentration of a coloring material such as a pigment or a dye is higher than that of the light-colored portion is applied, and patterning is performed in the same manner as described above, thereby forming a dark-colored portion 212c as shown in FIG. Is formed in the non-formation region of the light-colored portion. Then, by repeating the same process as above for the colored portions 212g and 212b of other hues, the colored layers of each color having the dark colored portions 212c are sequentially formed as shown in FIG. Go. Here, the respective colored layers are patterned so as to overlap each other in the inter-pixel region, and an overlapping light-shielding layer 212BM in which a plurality of (three in the illustrated example) colored layers are overlapped is formed.

なお、着色層を形成する手順としては、上記とは逆に濃色部212cを形成してから淡色部を形成しても構わない。また、複数の色相の着色層について淡色部を順次に形成してから濃色部を順次に形成してもよく、その逆に、複数の色相の着色層について濃色部を順次に形成してから淡色部を順次に形成してもよい。   In addition, as a procedure for forming the colored layer, the light-colored portion may be formed after the dark-colored portion 212c is formed. Alternatively, the light-colored portions may be sequentially formed on the colored layers of a plurality of hues, and then the dark-colored portions may be sequentially formed. Conversely, the dark-colored portions may be sequentially formed on the colored layers of a plurality of hues. May be sequentially formed.

上記着色層の形成工程においては、感光性樹脂としてレべリング性の高い素材を用い、これをスピンコーティング法などの平坦性を得易い方法で塗布する。その結果、各着色層の表面は画素内においてほとんど平坦に形成される。   In the step of forming the colored layer, a material having a high leveling property is used as a photosensitive resin, and the photosensitive resin is applied by a method that easily obtains flatness such as a spin coating method. As a result, the surface of each colored layer is formed almost flat in the pixel.

このようにして形成されたカラーフィルタ基板は、図示しない保護層212pが形成されることによって表面がほぼ平坦に形成される。その後、このカラーフィルタ基板である基板201を用いて図1に示す液晶表示パネル200が形成される。   The surface of the color filter substrate thus formed is formed substantially flat by forming a protection layer 212p (not shown). Thereafter, the liquid crystal display panel 200 shown in FIG. 1 is formed using the substrate 201 which is a color filter substrate.

図1に示す液晶表示パネル200の製造に際しては、上記のように基板201上に形成されたカラーフィルタ212の上に透明導電体をスパッタリング法により被着し、公知のフォトリソグラフィ法によってパターニングすることにより透明電極213を形成する。その後、透明電極213の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理などを施す。   In manufacturing the liquid crystal display panel 200 shown in FIG. 1, a transparent conductor is applied by sputtering on the color filter 212 formed on the substrate 201 as described above, and is patterned by a known photolithography method. To form a transparent electrode 213. After that, an alignment film made of a polyimide resin or the like is formed on the transparent electrode 213, and rubbing treatment or the like is performed.

次に、シール材203を介して上記の基板201を基板202と貼り合わせ、パネル構造を構成する。このとき、基板202には、その表面上に既に透明電極221や上記と同様の配向膜などが形成されている。基板201と基板202とは、基板間に分散配置された図示しないスペーサやシール材203内に混入されたスペーサ等によってほぼ既定の基板間隔となるように貼り合わせられる。   Next, the above-described substrate 201 is bonded to the substrate 202 via the sealing material 203 to form a panel structure. At this time, the transparent electrode 221 and the same alignment film as described above are already formed on the surface of the substrate 202. The substrate 201 and the substrate 202 are bonded to each other by a spacer (not shown) dispersedly arranged between the substrates, a spacer mixed in the sealing material 203, or the like so as to have a substantially predetermined substrate interval.

その後、シール材203の図示しない開口部から液晶204を注入し、シール材203の開口部を紫外線硬化樹脂等の封止材によって閉鎖する。このようにして主要なパネル構造が完成された後に、上記の位相差板205,207や偏光板206,208が基板201,202の外面上に貼着などの方法によって取り付けられる。   Thereafter, the liquid crystal 204 is injected through an opening (not shown) of the sealing material 203, and the opening of the sealing material 203 is closed with a sealing material such as an ultraviolet curing resin. After the main panel structure is completed in this way, the above-mentioned retardation plates 205 and 207 and the polarizing plates 206 and 208 are attached to the outer surfaces of the substrates 201 and 202 by a method such as sticking.

本実施形態では、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、前記基板上に透過部を有する反射層を形成する工程とを有し、前記着色層を形成する工程では、前記濃色部を前記透過部上に形成し、前記淡色部を前記透過部を除く前記反射層上に形成している。これによれば、着色層に淡色部と濃色部とを設けることによって、光の出射位置に応じて彩度を変えることができる。また、基板上の所定領域に濃色部を、所定領域外に淡色部を形成することにより、相互に異なる平面領域に濃色部と淡色部が形成されるので、カラーフィルタの厚さを低減でき、その表面を平坦化できるので、電気光学装置の特性を向上できる。   This embodiment includes a step of forming a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion on a substrate, and a process of forming a reflective layer having a transmissive portion on the substrate. In the step of forming the colored layer, the dark portion is formed on the transmission portion, and the light portion is formed on the reflection layer excluding the transmission portion. According to this, by providing the light-colored portion and the dark-colored portion in the colored layer, the saturation can be changed according to the light emission position. Further, by forming a dark color portion in a predetermined region on the substrate and a light color portion outside the predetermined region, the dark color portion and the light color portion are formed in mutually different plane regions, so that the thickness of the color filter is reduced. Since the surface can be flattened, the characteristics of the electro-optical device can be improved.

[第10実施形態]
次に、図11を参照して、本発明に係る第10実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。この実施形態は、図2に示す第2実施形態の液晶表示パネル300に使用されている基板301に相当するカラーフィルタ基板を製造する方法である。
[Tenth embodiment]
Next, a method of manufacturing a color filter substrate according to a tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is a method for manufacturing a color filter substrate corresponding to the substrate 301 used in the liquid crystal display panel 300 of the second embodiment shown in FIG.

この実施形態においては、まず、図11(a)に示すように、基板301の上に開口部311aを備えた反射層311を形成する。   In this embodiment, first, as shown in FIG. 11A, a reflective layer 311 having an opening 311a is formed on a substrate 301.

次に、図11(b)に示すように、この反射層311の上に着色層312rの淡色部を形成する。この淡色部は反射層311の開口部311a上をも覆うように形成される。   Next, as shown in FIG. 11B, a light-colored portion of the colored layer 312r is formed on the reflective layer 311. The light-colored portion is formed so as to cover the opening 311a of the reflection layer 311.

その後、図11(c)に示すように、上記淡色部の上に、反射層311の開口部311aの直上領域に限定して濃色部312cを形成し、淡色部上に部分的に濃色部312cが積層された着色層312rが完成される。そして、このような工程を他の色相についても同様に繰り返し、図11(d)に示すように着色層312r,312g,312bを形成する。このとき、重ね遮光部312BMも上記と同様に形成される。   Thereafter, as shown in FIG. 11C, a dark color portion 312c is formed on the light color portion only in a region directly above the opening 311a of the reflective layer 311. The dark color portion 312c is partially formed on the light color portion. The colored layer 312r in which the portions 312c are stacked is completed. Then, such a process is similarly repeated for other hues to form the colored layers 312r, 312g, and 312b as shown in FIG. At this time, the overlapping light shielding portion 312BM is also formed in the same manner as described above.

本実施形態においては、着色層を色相毎に順次形成しているが、上記淡色部を複数の色相について形成した後に、濃色部を複数の色相について順次に形成しても構わない。   In the present embodiment, the colored layers are sequentially formed for each hue. However, after the light-colored portions are formed for a plurality of hues, the dark-colored portions may be sequentially formed for a plurality of hues.

なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて図2に示す液晶表示パネル300を形成する場合には、上記第9実施形態と同様にして行う。   When the liquid crystal display panel 300 shown in FIG. 2 is formed using the color filter substrate of the present embodiment, the same operation as in the ninth embodiment is performed.

本実施形態では、基板上に淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程を有し、前記着色層を形成する工程では、前記濃色部を反射層の透過部と重なる領域のみに形成し、前記淡色部をその領域を含む前記基板上に形成している。これによれば、濃色部と淡色部とが透過部と重なる領域において相互に重なるので、淡色部を濃色部に合わせて形成する必要がなくなり、容易に製造することが可能になる。この場合、淡色部と濃色部とはどちらを上に構成してもよく、また、淡色部と濃色部とを相互に積層させても、相互に平面的には重なるが相互に離反した状態となるように構成しても構わない。   In the present embodiment, the method includes a step of forming a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion on the substrate. The light-colored portion is formed only on a region overlapping the transmission portion of the layer, and the light-colored portion is formed on the substrate including the region. According to this, since the dark color portion and the light color portion overlap each other in the region where the transparent portion overlaps, there is no need to form the light color portion in conformity with the dark color portion, and the device can be easily manufactured. In this case, either the light-colored portion or the dark-colored portion may be formed on the upper side, and even if the light-colored portion and the dark-colored portion are stacked on each other, they overlap each other in a plane but separate from each other. It may be configured to be in a state.

[第11実施形態]
次に、図12を参照して、本発明に係る第11実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。この実施形態は、図3に示す第3実施形態の液晶表示パネル400に使用されている基板401に相当するカラーフィルタ基板を製造する方法である。
[Eleventh embodiment]
Next, a method of manufacturing a color filter substrate according to an eleventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is a method for manufacturing a color filter substrate corresponding to the substrate 401 used in the liquid crystal display panel 400 of the third embodiment shown in FIG.

この実施形態においては、まず、図12(a)に示すように、基板401に凹部401aを形成する。この凹部401aは、図示しないレジスト等からなるマスクを基板401の表面に形成し、弗酸系のエッチング液を用いたウエットエッチングなどにより選択的に基板401をエッチングすることによって形成することができる。   In this embodiment, first, as shown in FIG. 12A, a concave portion 401a is formed in a substrate 401. The concave portion 401a can be formed by forming a mask made of a resist or the like (not shown) on the surface of the substrate 401 and selectively etching the substrate 401 by wet etching using a hydrofluoric acid-based etchant.

次に、基板401の表面に反射層411を上記第9及び第10実施形態と同様に形成する。この反射層411には、フォトリソグラフィ法などによって上記凹部401aの形成領域に開口部411aが設けられる。   Next, a reflective layer 411 is formed on the surface of the substrate 401 in the same manner as in the ninth and tenth embodiments. In the reflective layer 411, an opening 411a is provided in a formation region of the concave portion 401a by a photolithography method or the like.

その後、図12(b)に示すように、凹部401a内に着色層312rの濃色部312cを形成する。そして、図12(c)に示すように、この濃色部412c上にさらに淡色部を形成して着色層412rを構成する。ここで、淡色部は濃色部412cを覆うだけでなく、画素全体を覆うように形成される。その後、その他の色相についても上記と同様にして成膜し、着色層412g,412bを形成する。   Thereafter, as shown in FIG. 12B, a dark color portion 312c of the coloring layer 312r is formed in the concave portion 401a. Then, as shown in FIG. 12C, a light-colored portion is further formed on the dark-colored portion 412c to form a colored layer 412r. Here, the light-colored portion is formed so as to cover not only the dark-colored portion 412c but also the entire pixel. Thereafter, a film is formed for other hues in the same manner as described above, and the colored layers 412g and 412b are formed.

本実施形態では、濃色部を形成した後にそれと同じ色相の淡色部を形成して着色層を構成し、この手順を色相毎に繰り返すようにしているが、濃色部を複数の色相について形成した後に、淡色部を複数の色相について順次に形成しても構わない。   In the present embodiment, after forming a dark color portion, a light color portion having the same hue is formed to form a colored layer, and this procedure is repeated for each hue. However, the dark color portion is formed for a plurality of hues. After that, light-colored portions may be sequentially formed for a plurality of hues.

なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第9実施形態と同様にして行う。   When a liquid crystal display panel is formed using the color filter substrate of the present embodiment, the same operation as in the ninth embodiment is performed.

本実施形態では、基板の表面上に凹部を形成する工程を有し、反射層の透過部が凹部と重なるように構成されているので、基板の表面上に凹部を形成してから、この凹部に濃色部を形成することにより、濃色部を厚く形成することが可能になる。   In this embodiment, the method includes a step of forming a concave portion on the surface of the substrate, and the transmitting portion of the reflective layer is configured to overlap the concave portion. Therefore, after forming the concave portion on the surface of the substrate, the concave portion is formed. By forming the dark-colored part in the dark area, it becomes possible to form the dark-colored part thickly.

[第12実施形態]
次に、図13を参照して、本発明に係る第12実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。この実施形態は、図6に示す第6実施形態の液晶表示パネル700に使用されている基板701に相当するカラーフィルタ基板を製造する方法である。
[Twelfth embodiment]
Next, a method of manufacturing a color filter substrate according to a twelfth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is a method for manufacturing a color filter substrate corresponding to the substrate 701 used in the liquid crystal display panel 700 of the sixth embodiment shown in FIG.

この実施形態は、まず、図13(a)に示すように、基板701に反射層711を形成する。反射層711には画素毎に開口部711aが形成される。次に、図13(b)に示すように、反射層711上に透光層714を形成する。この透光層714には、上記開口部711a上に非形成領域(開口部)が設けられる。   In this embodiment, first, as shown in FIG. 13A, a reflective layer 711 is formed on a substrate 701. An opening 711a is formed in the reflective layer 711 for each pixel. Next, as shown in FIG. 13B, a light transmitting layer 714 is formed over the reflective layer 711. In the light-transmitting layer 714, a non-formation region (opening) is provided over the opening 711a.

この透光層714は、上記反射層711の開口部711aの直上領域を除く部分に形成される。透光層714は、例えば、基板701及び反射層711の表面上に全面的に無機層若しくは有機層を形成した後にフォトリソグラフィ法等によって開口部711aの直上領域の上にある部分を選択的に除去することによって形成できる。透光層714の素材としては、SiOやTiOなどの透明な無機物、或いは、透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂等を用いることができる。 The light transmitting layer 714 is formed in a portion of the reflective layer 711 except for a region immediately above the opening 711a. The light-transmitting layer 714 is formed by, for example, forming an inorganic layer or an organic layer over the entire surface of the substrate 701 and the reflective layer 711, and then selectively using a photolithography method or the like to selectively cover a portion directly above the opening 711a. It can be formed by removing. As a material of the light-transmitting layer 714, a transparent inorganic substance such as SiO 2 or TiO 2 , or a transparent organic resin such as an acrylic resin or an epoxy resin can be used.

次に,図13(c)に示すように、反射層711の開口部711aの領域において基板701上に濃色部712cを形成し、また、透光層714上には淡色部を形成して、濃色部712cと淡色部とからなる着色層712rを構成する。その後、他の色相についてもそれぞれ同様の工程を実施し、図13(d)に示すように、着色層712g,712bを形成する。   Next, as shown in FIG. 13C, a dark portion 712c is formed on the substrate 701 in the region of the opening 711a of the reflective layer 711, and a light portion is formed on the light transmitting layer 714. , A colored layer 712r composed of a dark portion 712c and a light portion. After that, the same process is performed for each of the other hues, and the colored layers 712g and 712b are formed as shown in FIG.

本実施形態において、上記濃色部712cと、淡色部とは、いずれを先に形成しても構わない。また、本実施形態では各着色層毎に濃色部と淡色部とを相前後して形成しているが、濃色部を複数の色相について相前後して形成し、淡色部を複数の色相について相前後して形成しても構わない。   In the present embodiment, either the dark color portion 712c or the light color portion may be formed first. Further, in this embodiment, the dark color portion and the light color portion are formed before and after each color layer, but the dark color portion is formed before and after a plurality of hues, and the light color portion is formed into a plurality of hues. May be formed in succession.

なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第9実施形態と同様にして行う。   When a liquid crystal display panel is formed using the color filter substrate of the present embodiment, the same operation as in the ninth embodiment is performed.

本実施形態では、基板に淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、基板に透過部を有する反射層を形成する工程と、反射層上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程とを有し、透光層を形成する工程では、透過部を除く反射層上に透光層を形成し、着色層を形成する工程では、濃色部を透過部上に形成し、淡色部を透光層上に形成している。これによれば、反射層上に形成された透光層の有無によって、着色層における淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、濃色部の厚さを淡色部よりも厚く形成することが可能になり、透過光の彩度をさらに向上することができる。   In this embodiment, a step of forming a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion on the substrate, a process of forming a reflective layer having a transmissive portion on the substrate, Forming a light-transmitting layer capable of substantially transmitting light; and forming the light-transmitting layer on the reflective layer excluding the transmitting portion, and forming a colored layer. The dark color portion is formed on the transmission portion, and the light color portion is formed on the light transmission layer. According to this, it is possible to provide a surface step between the light-colored portion and the dark-colored portion in the colored layer depending on the presence or absence of the light-transmitting layer formed on the reflective layer. In addition, it is possible to form the dark color portion thicker than the light color portion, and it is possible to further improve the saturation of transmitted light.

[第13実施形態]
次に、図14を参照して、本発明に係る第13実施形態であるカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。この実施形態は、図7に示す第7実施形態の液晶表示パネル800に使用されている基板801に相当するカラーフィルタ基板を製造する方法である。
[Thirteenth embodiment]
Next, a method of manufacturing a color filter substrate according to a thirteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is a method for manufacturing a color filter substrate corresponding to the substrate 801 used in the liquid crystal display panel 800 of the seventh embodiment shown in FIG.

この実施形態では、まず、図14(a)に示すように、基板701に下地層814を部分的に形成する。この下地層814は、画素毎に所定の非形成領域(開口部)を備えている。次に、下地層814の上に反射層811を形成する。反射層811には画素毎に開口部811aが形成される。開口部811aは上記下地層814の非形成領域に平面的に合致するように構成されている。   In this embodiment, first, a base layer 814 is partially formed on a substrate 701 as shown in FIG. The base layer 814 has a predetermined non-formation region (opening) for each pixel. Next, a reflective layer 811 is formed over the base layer 814. An opening 811a is formed in the reflective layer 811 for each pixel. The opening 811a is configured to planarly match the non-forming region of the base layer 814.

下地層814は、第12実施形態の透光層と同様の素材を用いて同様の方法で形成することができる他、透光性素材以外の任意の素材を用いて形成することができる。   The underlayer 814 can be formed using the same material as the light-transmitting layer of the twelfth embodiment in the same manner, and can be formed using any material other than the light-transmitting material.

次に、図14(c)に示すように、反射層811の開口部811aの領域において基板801上に濃色部812cを形成し、また、反射層811上には淡色部を形成して、濃色部812cと淡色部とからなる着色層812rを構成する。その後、他の色相についてもそれぞれ同様の工程を実施し、図14(d)に示すように、着色層812g,812bを形成する。   Next, as shown in FIG. 14C, a dark portion 812c is formed on the substrate 801 in a region of the opening 811a of the reflection layer 811, and a light portion is formed on the reflection layer 811. A colored layer 812r including a dark portion 812c and a light portion is formed. After that, the same process is performed for each of the other hues to form the colored layers 812g and 812b as shown in FIG.

本実施形態において、上記濃色部812cと、淡色部とは、いずれを先に形成しても構わない。また、本実施形態では各着色層毎に濃色部と淡色部とを相前後して形成しているが、濃色部を複数の色相について相前後して形成し、淡色部を複数の色相について相前後して形成しても構わない。   In the present embodiment, the dark portion 812c and the light portion may be formed first. Further, in this embodiment, the dark color portion and the light color portion are formed before and after each color layer, but the dark color portion is formed before and after a plurality of hues, and the light color portion is formed into a plurality of hues. May be formed in succession.

なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第9実施形態と同様にして行う。   When a liquid crystal display panel is formed using the color filter substrate of the present embodiment, the same operation as in the ninth embodiment is performed.

本実施形態では、基板に淡色部および淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、基板に部分的に下地層を形成する工程と、基板上に透過部を有する反射層を形成する工程とを有し、反射層を形成する工程では、透過部を下地層の非形成領域に形成し、着色層を形成する工程では、濃色部を下地層の非形成領域に形成し、反射層の透過部を除く前記反射層上に淡色部を形成している。これにより、下地層の有無によって着色層における淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることができる。また、濃色部を淡色部よりも厚く形成することが可能になり、透過部を通過する透過光の彩度を向上させることができる。   In this embodiment, a step of forming a colored layer having a light-colored part and a dark-colored part having a higher light density than the light-colored part on the substrate, a step of partially forming an underlayer on the substrate, and a step of forming a transparent part on the substrate Forming a reflective layer having a transparent layer in the non-forming region of the base layer, and forming a colored layer in the non-forming region of the base layer in the forming of the reflective layer. The light-colored portion is formed on the reflection layer except for the transmission portion of the reflection layer. Thereby, a surface step can be provided between the light-colored portion and the dark-colored portion in the colored layer depending on the presence or absence of the underlayer. In addition, it is possible to form the dark color part thicker than the light color part, and it is possible to improve the saturation of the transmitted light passing through the transmission part.

[第14実施形態]
次に、図15を参照して、本発明に係る第14実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。この実施形態は、図8に示す第8実施形態の液晶表示パネル900に使用されている基板901に相当するカラーフィルタ基板を製造する方法である。
[14th Embodiment]
Next, a method of manufacturing a color filter substrate according to a fourteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is a method for manufacturing a color filter substrate corresponding to the substrate 901 used in the liquid crystal display panel 900 of the eighth embodiment shown in FIG.

この実施形態においては、まず、図15(a)に示すように、基板901の表面上に開口部911aを備えた反射層911を形成し、その後、反射層911の上に透光層914を形成する。透光層914には、反射層911の開口部911a上に開口部914aが設けられる。   In this embodiment, first, as shown in FIG. 15A, a reflective layer 911 having an opening 911a is formed on the surface of a substrate 901. Thereafter, a light transmitting layer 914 is formed on the reflective layer 911. Form. In the light-transmitting layer 914, an opening 914a is provided over the opening 911a of the reflective layer 911.

次に、図15(b)に示すように、基板901及び透光層914の上に黒色遮光層912BMを形成する。より具体的には、図15(a)に示すように黒色の感光性樹脂912tを塗布し、これを所定パターンで露光し、現像処理によりパターニングする。   Next, as shown in FIG. 15B, a black light-blocking layer 912BM is formed over the substrate 901 and the light-transmitting layer 914. More specifically, as shown in FIG. 15A, a black photosensitive resin 912t is applied, exposed to a predetermined pattern, and patterned by a development process.

次に、図15(c)に示すように着色層912rをフォトリソグラフィ法により形成する。より具体的には、反射層911の開口部911a内の基板901上に濃色部912cを形成し、また、開口部911a以外の画素領域に濃色部912cよりも色濃度の小さい淡色部を形成し、これら濃色部912cと淡色部とによって着色層912rが構成される。   Next, as shown in FIG. 15C, a coloring layer 912r is formed by a photolithography method. More specifically, a dark portion 912c is formed on the substrate 901 in the opening 911a of the reflective layer 911, and a light-color portion having a smaller color density than the dark portion 912c is formed in a pixel region other than the opening 911a. The dark portion 912c and the light portion form a colored layer 912r.

さらに、図15(d)に示すように他の色相を呈する着色層912g,912bも同様に形成する。なお、この実施形態においても、上記濃色部912cと、淡色部とは、いずれを先に形成しても構わない。また、本実施形態では各着色層毎に濃色部と淡色部とを相前後して形成しているが、濃色部を複数の色相について相前後して形成し、淡色部を複数の色相について相前後して形成しても構わない。   Further, as shown in FIG. 15D, coloring layers 912g and 912b exhibiting other hues are similarly formed. In this embodiment, either the dark portion 912c or the light portion may be formed first. Further, in this embodiment, the dark color portion and the light color portion are formed before and after each color layer, but the dark color portion is formed before and after a plurality of hues, and the light color portion is formed into a plurality of hues. May be formed in succession.

この実施形態では、反射層911の上に透光層914が形成され、この透光層914の上に黒色遮光層912BMが形成される。ところで、従来、金属からなる反射層上に直接黒色遮光層912BMを形成すると、黒色樹脂のパターニング時において黒色樹脂を除去した領域上に黒色樹脂の残渣が付着し、この残渣がカラーフィルタの明るさを低下させるという問題点が知られている。しかしながら、本実施形態においては、反射層911を覆う透光層914上に黒色遮光層912BMが形成されるので、黒色樹脂の残渣が生じ難くなり、良質な明るいカラーフィルタ912を形成することができる。   In this embodiment, a light transmitting layer 914 is formed on the reflective layer 911, and a black light shielding layer 912BM is formed on the light transmitting layer 914. By the way, conventionally, when the black light-shielding layer 912BM is formed directly on the reflective layer made of metal, a residue of the black resin adheres to a region where the black resin is removed at the time of patterning the black resin, and this residue has a brightness of the color filter. There is a known problem of lowering the temperature. However, in this embodiment, since the black light-blocking layer 912BM is formed on the light-transmitting layer 914 that covers the reflective layer 911, a residue of black resin is less likely to be generated, and a high-quality bright color filter 912 can be formed. .

なお、本実施形態のカラーフィルタ基板を用いて液晶表示パネルを形成する場合には、上記第9実施形態と同様にして行う。   When a liquid crystal display panel is formed using the color filter substrate of the present embodiment, the same operation as in the ninth embodiment is performed.

本実施形態では、先に説明した各実施形態の重ね遮光層の代りに黒色遮光層を形成しているので、カラーフィルタの厚さを低減し、カラーフィルタの表面の平坦性を向上させることができるように構成されている。この黒色遮光層は、上記第1実施形態乃至第13実施形態において重ね遮光層の代りにそれぞれ用いることができる。   In the present embodiment, since the black light-shielding layer is formed instead of the overlapping light-shielding layer in each of the embodiments described above, the thickness of the color filter can be reduced and the flatness of the surface of the color filter can be improved. It is configured to be able to. This black light-shielding layer can be used instead of the overlapping light-shielding layer in each of the first to thirteenth embodiments.

本実施形態では、基板に淡色部および淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層を形成する工程と、基板に透過部を有する反射層を形成する工程と、反射層上に実質的に光が透過できる透光層を形成する工程とを有し、透光層を形成する工程では、透過部を除く前記反射層上に透光層を形成し、着色層を形成する工程では、濃色部を透過部上に形成し、淡色部を透光層上に形成している。これにより、反射層上に形成された透光層の有無によって、着色層における淡色部と濃色部との間に表面段差を設けることが可能になる。また、濃色部の厚さを淡色部よりも厚く形成することが可能になり、透過光の彩度をさらに向上することができる。   In this embodiment, a step of forming a colored layer having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than that of the light-colored portion on the substrate; a step of forming a reflective layer having a transmissive portion on the substrate; Forming a light-transmitting layer through which light can be transmitted, and in the step of forming a light-transmitting layer, the step of forming a light-transmitting layer on the reflective layer excluding a transmitting portion and forming a colored layer The dark color portion is formed on the transmission portion, and the light color portion is formed on the light transmission layer. This makes it possible to provide a surface step between the light-colored part and the dark-colored part in the colored layer depending on the presence or absence of the light-transmitting layer formed on the reflective layer. In addition, it is possible to form the dark color portion thicker than the light color portion, and it is possible to further improve the saturation of transmitted light.

[その他の構成例]
次に、以上説明した各実施形態において用いることのできるその他の構成例について図17を参照して説明する。
[Other configuration examples]
Next, another configuration example that can be used in each of the embodiments described above will be described with reference to FIG.

図17(a)に記載された構成例においては、基板1001の表面上に凹部1001aが形成されるとともに、凹部1001a以外の表面上に微細な凹凸1001bが形成され、この微細な凹凸1001bの上に反射層1011が形成されている。この反射層1011には、上記凹部1001a上の領域に開口部1011aが設けられている。これらの構造上には上記各実施形態にて示した着色層を有するカラーフィルタ1012が形成される。   In the configuration example shown in FIG. 17A, a concave portion 1001a is formed on the surface of the substrate 1001, and fine irregularities 1001b are formed on the surface other than the concave portion 1001a. Is formed with a reflective layer 1011. The reflective layer 1011 has an opening 1011a in a region above the concave portion 1001a. On these structures, the color filters 1012 having the coloring layers described in the above embodiments are formed.

本構成例では、反射層1011は凹凸1001b上に形成されていることにより全体的に微細な凹凸状に形成される。このため、反射層1011によって反射された反射光は適度に散乱されるので、液晶表示パネルを構成した場合に、反射型表示において、照明光や太陽光などに幻惑されたり、表示面の背景が映りこんだりすることを防止することができる。   In the present configuration example, the reflective layer 1011 is formed on the unevenness 1001b, so that the reflective layer 1011 is formed in a finely uneven shape as a whole. For this reason, the reflected light reflected by the reflective layer 1011 is appropriately scattered. Therefore, when a liquid crystal display panel is configured, in a reflective display, it is dazzled by illumination light or sunlight, or the background of the display surface is Reflection can be prevented.

ここで、上記の凹凸1001bは、弗酸系などのエッチング液の組成を予め選定し、このエッチング液を用いてエッチングすることによって光散乱に適した表面粗さに形成することができる。また、フォトリソグラフィ法を用いてマスクを形成し、このマスクを介してエッチングを施すことによっても形成できる。   Here, the above-mentioned unevenness 1001b can be formed to a surface roughness suitable for light scattering by selecting a composition of an etching solution such as a hydrofluoric acid in advance and etching using this etching solution. Alternatively, it can be formed by forming a mask using a photolithography method and performing etching through the mask.

この構成例は、上記各実施形態のうち、基板表面に凹部を形成し、基板表面上に直接反射層を形成するものにそのまま適用することができる。また、凹部を形成しない実施形態であっても、上記凹凸1001b及びその上の反射層1011の構造のみを適用することは可能である。   This configuration example can be applied to any of the above-described embodiments in which a concave portion is formed on a substrate surface and a reflective layer is directly formed on the substrate surface. Further, even in the embodiment in which the concave portion is not formed, it is possible to apply only the structure of the concave and convex 1001b and the reflective layer 1011 thereon.

図17(b)に示す構成例においては、基板1101の上に開口部1111aを備えた反射層1111が形成され、この反射層1111の上に透光層1114が形成されている。透光層1114の開口部1114aは反射層1111の開口部1111aに対応してその上に形成されている。そして、透光層1114の上にはカラーフィルタ1112が形成される。   In the configuration example shown in FIG. 17B, a reflective layer 1111 having an opening 1111a is formed on a substrate 1101, and a light transmitting layer 1114 is formed on the reflective layer 1111. The opening 1114a of the light transmitting layer 1114 is formed above and corresponding to the opening 1111a of the reflective layer 1111. Then, a color filter 1112 is formed on the light transmitting layer 1114.

この構成例では、透光層1114の内部に、透光層1114の素材とは光屈折率の異なる微小な粒体(例えばシリカ粒など)が分散配置されている。このため、反射層1111に向かう光及び反射層1111で反射された光はいずれも透光層1114にて散乱されるので、上記構成例と同様に反射型表示における幻惑や映り込みを低減することができる。なお、この構成例は上記各実施形態のうち反射層上に透光層を備えた全ての実施形態に適用することができる。   In this configuration example, fine particles (for example, silica particles) having a different light refractive index from the material of the light transmitting layer 1114 are dispersed and arranged inside the light transmitting layer 1114. For this reason, both the light traveling toward the reflective layer 1111 and the light reflected by the reflective layer 1111 are scattered by the translucent layer 1114, so that glare and reflection in the reflective display can be reduced as in the above configuration example. Can be. This configuration example can be applied to all of the above embodiments in which a light-transmitting layer is provided on a reflective layer.

図17(c)に示す構成例においては、基板1201の上に開口部1211aを備えた反射層1211が形成され、この反射層1211の上に透光層1214が形成されている。透光層1214の開口部1214aは反射層1211の開口部1211aに対応してその上に形成されている。そして、透光層1214の上にはカラーフィルタ1212が形成される。   In the configuration example shown in FIG. 17C, a reflective layer 1211 having an opening 1211a is formed on a substrate 1201, and a light transmitting layer 1214 is formed on the reflective layer 1211. The opening 1214a of the light transmitting layer 1214 is formed above and corresponding to the opening 1211a of the reflection layer 1211. Then, a color filter 1212 is formed on the light transmitting layer 1214.

この構成例では、透光層1214の表面に微細な凹凸1214bが形成され、この凹凸1214bによって反射層1211へ向かう光及び反射層1211で反射された光の双方が散乱されるように構成されている。したがって、この構成例においても同様に反射型表示における幻惑や映り込みを低減できる。上記凹凸1214bは、図17(a)に示す構成例の上記説明部分に記載したエッチング法の他に、基板上に配置した素材を所定周期でパターニングして周期構造を形成した後に加熱して軟化させ、適度な流動性を付与して凹凸形状を作りこむ方法などがある。なお、この構成例は上記各実施形態のうち反射層上に透光層を備えた全ての実施形態に適用することができる。   In this configuration example, fine irregularities 1214b are formed on the surface of the light transmitting layer 1214, and the irregularities 1214b scatter both light traveling toward the reflective layer 1211 and light reflected by the reflective layer 1211. I have. Therefore, in this configuration example as well, glare and reflection in the reflective display can be similarly reduced. The irregularities 1214b can be softened by heating after forming a periodic structure by patterning a material disposed on a substrate at a predetermined period, in addition to the etching method described in the above description of the configuration example shown in FIG. And imparting an appropriate fluidity to form an uneven shape. This configuration example can be applied to all of the above embodiments in which a light-transmitting layer is provided on a reflective layer.

図17(d)に示す構成例においては、基板1301の上に開口部1314aを備えた下地層1314を形成し、この下地層1314の表面に微細な凹凸1314bを形成して、その上に反射層1311を形成してある。反射層1311には下地層1314aの直上に開口部1311aが設けられている。ここで、下地層1314の凹凸1314bは、図17(c)に示す透光層に対する凹凸形成法と同様の方法で形成することができる。反射層1311上にはカラーフィルタ1312が形成される。   In the configuration example shown in FIG. 17D, a base layer 1314 having an opening 1314a is formed on a substrate 1301, fine irregularities 1314b are formed on the surface of the base layer 1314, and reflection is performed thereon. A layer 1311 is formed. The reflective layer 1311 has an opening 1311a directly above the base layer 1314a. Here, the unevenness 1314b of the base layer 1314 can be formed by a method similar to the unevenness forming method for the light-transmitting layer illustrated in FIG. A color filter 1312 is formed on the reflective layer 1311.

この構成例では、反射層1311が下地層1314の凹凸1314b上に形成されていることによりその反射面が微細な凹凸状に形成され、それによって上記と同様に幻惑や映り込みなどを低減できる。なお、この構成例は、下地層上に反射層が形成されている全ての実施形態に適用することができる。   In this configuration example, since the reflective layer 1311 is formed on the unevenness 1314b of the base layer 1314, the reflective surface is formed in a fine uneven shape, whereby dazzling and glare can be reduced as described above. This configuration example can be applied to all embodiments in which a reflective layer is formed on a base layer.

[実施例1]
次に、図19を参照して、上記各実施形態に適用可能な、より詳細な実施例1について説明する。図19は、カラーフィルタ基板の断面構造の一部を模式的に示す拡大部分断面図及びこれに対応する領域のカラーフィルタの概略平面図である。ここで、上記拡大部分断面図は概略平面図のP−Q線に沿った断面を示すものである。
[Example 1]
Next, with reference to FIG. 19, a more detailed example 1 applicable to each of the above embodiments will be described. FIG. 19 is an enlarged partial cross-sectional view schematically showing a part of the cross-sectional structure of the color filter substrate, and a schematic plan view of the color filter in a region corresponding thereto. Here, the enlarged partial cross-sectional view is a cross-sectional view taken along line PQ of the schematic plan view.

この実施例1においては、基板1401上に透光層1414が形成されている。この透光層1414は、光を透過することの可能な素材、例えば透明素材で構成されている。特に、有機絶縁素材で構成されることが好ましい。この透光層1414の表面1414aには、山部と谷部の規則的な又は不規則的な繰り返しパターンからなる凹凸パターンが形成されている。この凹凸パターンは、図17(c)及び(d)で説明した方法で形成できる。この透光層1414の厚さは例えば約2μmである。   In the first embodiment, a light transmitting layer 1414 is formed on a substrate 1401. The light transmitting layer 1414 is made of a material capable of transmitting light, for example, a transparent material. In particular, it is preferable to be made of an organic insulating material. On the surface 1414 a of the light transmitting layer 1414, an uneven pattern formed of a regular or irregular repeating pattern of peaks and valleys is formed. This uneven pattern can be formed by the method described with reference to FIGS. The thickness of the light transmitting layer 1414 is, for example, about 2 μm.

上記透光層1414上には、Al、Al合金、銀、APC合金等の銀合金などで構成された反射層1411が形成されている。この反射層1411は、スパッタリング法や蒸着法等で形成できる。反射層1411は、上記透光層1414の表面上に形成されることによってその反射面が凹凸状に構成される。この反射層1411の厚さは例えば約0.2μmである。この反射層1411には画素領域毎に開口部1411aが設けられる。   On the light transmitting layer 1414, a reflective layer 1411 made of Al, an Al alloy, silver, a silver alloy such as an APC alloy, or the like is formed. This reflective layer 1411 can be formed by a sputtering method, an evaporation method, or the like. The reflection layer 1411 is formed on the surface of the light-transmitting layer 1414 so that the reflection surface is formed in an uneven shape. The thickness of the reflective layer 1411 is, for example, about 0.2 μm. The reflective layer 1411 has an opening 1411a for each pixel region.

上記透光層1414及び反射層1411上には、公知の感光性樹脂材料等で構成されたカラーフィルタ1412が形成されている。このカラーフィルタ1412には、上記開口部1411a上に形成された濃色部1412rc(赤濃色部),1412gc(緑濃色部),1412bc(青濃色部)と、反射層1411上に形成された淡色部1412r(赤淡色部),1412g(緑淡色部),1412b(青淡色部)とを有する着色層が含まれる。   A color filter 1412 made of a known photosensitive resin material or the like is formed on the light transmitting layer 1414 and the reflective layer 1411. The color filter 1412 includes dark portions 1412 rc (red dark portions), 1412 gc (green dark portions), and 1412 bc (dark blue portions) formed on the opening 1411 a, and formed on the reflective layer 1411. A colored layer having the light colored portions 1412r (red light colored portion), 1412g (green light colored portion), and 1412b (blue light colored portion) is included.

また、各画素領域の間には、上記淡色部1412r,1412g,1412b上に、上記濃色部1412rc,1412gc,1412bcが積層されてなる重ね遮光部1412BMが形成されている。この重ね遮光部1412BMにおいては、例えば、下層から順に淡色部1412bが約1.0μm、淡色部1412gが約0.5μm、淡色部1412rが約0.5μmとなるように構成される。   Further, between the pixel regions, a light-shielding portion 1412BM formed by laminating the dark-colored portions 1412rc, 1412gc, and 1412bc on the light-colored portions 1412r, 1412g, and 1412b is formed. The overlapping light-shielding portion 1412BM is configured so that, for example, the light-colored portion 1412b is approximately 1.0 μm, the light-colored portion 1412g is approximately 0.5 μm, and the light-colored portion 1412r is approximately 0.5 μm from the lower layer.

上記のように構成された着色層上には、アクリル樹脂その他の有機樹脂等からなる透光素材で構成された保護層1412pが形成される。保護層1412pは、上記淡色部1412r,1412g,1412b上に形成されるが、濃色部1412rc,1412gc,1412bc上には形成されていない。保護層1412pは、例えば、全面的に無機層若しくは有機層を形成した後にフォトリソグラフィ法等によって開口部1411aの直上領域の上にある部分を選択的に除去することによって形成できる。保護層1412pの素材としては、透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂の他に、SiOやTiOなどの透明な無機物を用いることもできる。保護層1412pの厚さは例えば約2.2μmである。 On the colored layer configured as described above, a protective layer 1412p made of a translucent material made of an acrylic resin or another organic resin is formed. The protective layer 1412p is formed on the light-colored portions 1412r, 1412g, and 1412b, but is not formed on the dark-colored portions 1412rc, 1412gc, and 1412bc. The protective layer 1412p can be formed by, for example, forming an inorganic layer or an organic layer over the entire surface and then selectively removing a portion above a region immediately above the opening 1411a by photolithography or the like. As a material of the protective layer 1412p, in addition to an organic resin such as a transparent acrylic resin or an epoxy resin, a transparent inorganic substance such as SiO 2 or TiO 2 can be used. The thickness of the protective layer 1412p is, for example, about 2.2 μm.

上記保護層1412p上には、透明導電体で形成された透明電極1413が形成される。透明電極1413は、上記保護層1412p上に形成されることによって保護層1412pの有無をそのまま反映し、保護層1412pが存在する部分上と存在しない部分上との間に主たる高低差Δhを有する。この高低差Δhは、例えば約2.0μmである。また、隣接する透明電極1413の間隙部分は上記重ね遮光部1412BM上に配置されている。隣接する透明電極1413の図示の間隙は約8〜10μm程度となっている。   A transparent electrode 1413 made of a transparent conductor is formed on the protective layer 1412p. The transparent electrode 1413, which is formed on the protective layer 1412p, directly reflects the presence or absence of the protective layer 1412p, and has a main height difference Δh between a portion where the protective layer 1412p exists and a portion where the protective layer 1412p does not exist. The height difference Δh is, for example, about 2.0 μm. In addition, a gap between adjacent transparent electrodes 1413 is disposed on the overlapping light shielding portion 1412BM. The illustrated gap between the adjacent transparent electrodes 1413 is about 8 to 10 μm.

本実施形態では、重ね遮光部1412BMが濃色部1412rc,1412gc,1412bcを積層することによって構成されているため、淡色部を積層した場合に較べてこの積層構造の透過率を低減できるため、画素領域間の遮光をより完全に行うことが可能になっている。また、重ね遮光部1412BMが画素領域内に形成された淡色部1412r,1412g,1412bのいずれかの上にそのまま積層されているため、重ね遮光部1412BMの配置された領域の光透過率をさらに低減できるとともに、上記高低差Δhを容易に設けることが可能になっている。なお、上記重ね遮光部1412BMは淡色部上に3層積層した構造を有するが、2層又は1層のみを積層させた構造を有していても構わない。   In this embodiment, since the overlapping light-shielding portion 1412BM is formed by stacking the dark portions 1412rc, 1412gc, and 1412bc, the transmittance of the stacked structure can be reduced as compared with the case where the light-color portions are stacked. It is possible to more completely block the light between the regions. Further, since the overlapping light-shielding portion 1412BM is directly laminated on any of the light-colored portions 1412r, 1412g, and 1412b formed in the pixel region, the light transmittance of the region where the overlapping light-shielding portion 1412BM is disposed is further reduced. And the height difference Δh can be easily provided. Note that the overlapping light-shielding portion 1412BM has a structure in which three layers are stacked on the light-colored portion, but may have a structure in which only two layers or one layer is stacked.

本実施例1では、上記の各例示で示した厚さ寸法で構成した場合、カラーフィルタ基板の全体の厚さが5.2〜5.3μmとなり、反射領域の液晶層の厚さを3.25μmとして、TN型液晶パネル或いはSTN型液晶パネルを構成することが可能になる。このようにすると、透過領域の液晶層の厚さは5.25μmとなる。この場合、図16に示すようにホモジニアスの液晶層でもなく、また、透過領域の液晶層の厚さが反射領域の液晶層の厚さの2倍にもなっていないが、透過領域の液晶層の厚さが反射領域の液晶層の厚さに対して60%程度増加していることから、液晶層のリタデーション値を最適化することにより、反射表示と透過表示における透過率を共に向上させることができるため、明るい表示を得ることが可能になる。   In the first embodiment, when configured with the thickness dimensions shown in the above examples, the entire thickness of the color filter substrate is 5.2 to 5.3 μm, and the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region is 3. With a thickness of 25 μm, a TN type liquid crystal panel or an STN type liquid crystal panel can be formed. In this case, the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region becomes 5.25 μm. In this case, as shown in FIG. 16, the liquid crystal layer is not a homogeneous liquid crystal layer, and the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region is not twice as large as the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region. Since the thickness of the liquid crystal layer is increased by about 60% with respect to the thickness of the liquid crystal layer in the reflective area, the transmittance in both the reflective display and the transmissive display can be improved by optimizing the retardation value of the liquid crystal layer. Therefore, a bright display can be obtained.

[実施例2]
次に、図20を参照して、上記実施形態に適用可能な実施例2について説明する。図20は、カラーフィルタ基板の断面構造の一部を模式的に示す拡大部分断面図及びこれに対応する領域のカラーフィルタの概略平面図である。ここで、上記拡大部分断面図は概略平面図のP−Q線に沿った断面を示すものである。
[Example 2]
Next, a second example applicable to the above embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 20 is an enlarged partial cross-sectional view schematically showing a part of the cross-sectional structure of the color filter substrate, and a schematic plan view of the color filter in a region corresponding thereto. Here, the enlarged partial cross-sectional view is a cross-sectional view taken along line PQ of the schematic plan view.

この実施例2においては、基板1501の表面1501aにエッチングなどによって形成された、山部と谷部が規則的又は不規則的に繰り返された凹凸パターンが形成されている。そして、基板1501の表面1501a上に直接にAl、Al合金、銀、APC合金等の銀合金などで構成された反射層1511が形成されている。この反射層1511は、スパッタリング法や蒸着法等で形成できる。反射層1511は、上記表面1501aの凹凸パターンを反映してその反射面が凹凸状に構成される。この反射層1511の厚さは例えば約0.2μmである。この反射層1511には画素領域毎に開口部1511aが設けられる。   In the second embodiment, a concavo-convex pattern formed by etching or the like on a surface 1501a of a substrate 1501 and having peaks and valleys repeated regularly or irregularly is formed. Then, a reflective layer 1511 made of Al, an Al alloy, silver, a silver alloy such as an APC alloy, or the like is formed directly on the surface 1501a of the substrate 1501. This reflective layer 1511 can be formed by a sputtering method, an evaporation method, or the like. The reflective layer 1511 has a concave-convex shape on its reflective surface reflecting the concave-convex pattern on the surface 1501a. The thickness of the reflection layer 1511 is, for example, about 0.2 μm. The reflective layer 1511 has an opening 1511a for each pixel region.

上記反射層1511上には、公知の感光性樹脂材料等で構成されたカラーフィルタ1512が形成されている。このカラーフィルタ1512には、上記開口部1511a上に形成された濃色部1512rc(赤濃色部),1512gc(緑濃色部),1512bc(青濃色部)と、反射層1511上に形成された淡色部1512r(赤淡色部),1512g(緑淡色部),1512b(青淡色部)とを有する着色層が含まれる。   A color filter 1512 made of a known photosensitive resin material or the like is formed on the reflective layer 1511. The color filter 1512 includes dark portions 1512 rc (red dark portion), 1512 gc (green dark portion), and 1512 bc (dark blue portion) formed on the opening 1511 a, and formed on the reflective layer 1511. A colored layer having the light colored portions 1512r (red light colored portion), 1512g (green light colored portion), and 1512b (blue light colored portion) is included.

上記のように構成されたカラーフィルタ1512上には、アクリル樹脂その他の有機樹脂等からなる透光素材で構成された保護層1512pが形成される。保護層1512pは、上記淡色部1512r,1512g,1512b上に形成されるが、濃色部1512rc,1512gc,1512bc上には形成されていない。保護層1512pは、例えば、全面的に無機層若しくは有機層を形成した後にフォトリソグラフィ法等によって開口部1511aの直上領域の上にある部分を選択的に除去することによって形成できる。保護層1512pの素材としては、透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂の他に、SiOやTiOなどの透明な無機物を用いることもできる。保護層1512pの厚さは例えば約2.2μmである。 On the color filter 1512 configured as described above, a protective layer 1512p made of a translucent material made of acrylic resin or other organic resin is formed. The protective layer 1512p is formed on the light-colored portions 1512r, 1512g, and 1512b, but is not formed on the dark-colored portions 1512rc, 1512gc, and 1512bc. The protective layer 1512p can be formed, for example, by forming an inorganic layer or an organic layer over the entire surface and then selectively removing a portion above a region immediately above the opening 1511a by photolithography or the like. As a material of the protective layer 1512p, in addition to an organic resin such as a transparent acrylic resin or an epoxy resin, a transparent inorganic substance such as SiO 2 or TiO 2 can be used. The thickness of the protective layer 1512p is, for example, about 2.2 μm.

上記保護層1512p上には、透明導電体で形成された透明電極1513が形成される。透明電極1513は、上記保護層1512p上に形成されることによって保護層1512pの有無をそのまま反映し、保護層1512pが存在する部分上と存在しない部分上との間に主たる高低差Δhを有する。この高低差Δhとしては、例えば約2.0μmである。   A transparent electrode 1513 made of a transparent conductor is formed on the protective layer 1512p. The transparent electrode 1513, which is formed on the protective layer 1512p, directly reflects the presence or absence of the protective layer 1512p, and has a main height difference Δh between a portion where the protective layer 1512p exists and a portion where the protective layer 1512p does not exist. The height difference Δh is, for example, about 2.0 μm.

この実施例2においては、実施例1において形成された重ね遮光部が形成されていない。その代りに、隣接する透明電極1513の間隙Gは4〜6μm程度の幅に狭められている。この実施例では、隣接する透明電極1513の間隙Gにおいては、表示体の駆動状況において隣接する透明電極1513間の電位差に起因して横電界が発生するので、この横電界に従って間隙Gの近傍の液晶分子が配向することを利用して当該間隙Gにおける遮光作用を得ている。   In the second embodiment, the overlap light shielding portion formed in the first embodiment is not formed. Instead, the gap G between adjacent transparent electrodes 1513 is narrowed to a width of about 4 to 6 μm. In this embodiment, in the gap G between the adjacent transparent electrodes 1513, a horizontal electric field is generated due to the potential difference between the adjacent transparent electrodes 1513 in the driving state of the display body. The light shielding effect in the gap G is obtained by utilizing the alignment of the liquid crystal molecules.

本実施例2でも、上記の各例示で示した厚さ寸法で構成した場合、反射領域の液晶層の厚さを3.25μmとして、TN型液晶パネル或いはSTN型液晶パネルを構成することが可能になる。このようにすると、透過領域の液晶層の厚さは5.25μmとなる。この場合、図16に示すようにホモジニアスの液晶層でもなく、また、透過領域の液晶層の厚さが反射領域の液晶層の厚さの2倍にもなっていないが、透過領域の液晶層の厚さが反射領域の液晶層の厚さに対して60%程度増加していることから、液晶層のリタデーション値を最適化することにより、反射表示と透過表示における透過率を共に向上させることができるため、明るい表示を得ることが可能になる。   Also in the second embodiment, in the case where the liquid crystal layer has the thickness dimensions shown in the above examples, it is possible to configure a TN type liquid crystal panel or an STN type liquid crystal panel by setting the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region to 3.25 μm. become. In this case, the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region becomes 5.25 μm. In this case, as shown in FIG. 16, the liquid crystal layer is not a homogeneous liquid crystal layer, and the thickness of the liquid crystal layer in the transmission region is not twice as large as the thickness of the liquid crystal layer in the reflection region. Since the thickness of the liquid crystal layer is increased by about 60% with respect to the thickness of the liquid crystal layer in the reflective area, the transmittance in both the reflective display and the transmissive display can be improved by optimizing the retardation value of the liquid crystal layer. Therefore, a bright display can be obtained.

[実施例3]
次に、図21を参照して、上記各実施形態に適用可能な、より詳細な実施例3について説明する。図21は、カラーフィルタ基板の断面構造の一部を模式的に示す拡大部分断面図及びこれに対応する領域のカラーフィルタの概略平面図である。ここで、上記拡大部分断面図は概略平面図のP−Q線に沿った断面を示すものである。
[Example 3]
Next, a more detailed example 3 applicable to each of the above embodiments will be described with reference to FIG. FIG. 21 is an enlarged partial cross-sectional view schematically showing a part of the cross-sectional structure of the color filter substrate, and a schematic plan view of the color filter in a region corresponding thereto. Here, the enlarged partial cross-sectional view is a cross-sectional view taken along line PQ of the schematic plan view.

この実施例3においては、基板1601上には、Al、Al合金、銀、APC合金等の銀合金などで構成された反射層1611が形成されている。この反射層1611は、スパッタリング法や蒸着法等で形成できる。反射層1611は、基板1601の平坦な表面上に平坦に形成されている。この反射層1611の厚さは例えば約0.2μmである。この反射層1611には画素領域毎に開口部1611aが設けられる。   In the third embodiment, a reflective layer 1611 made of Al, an Al alloy, silver, a silver alloy such as an APC alloy, or the like is formed on the substrate 1601. This reflective layer 1611 can be formed by a sputtering method, an evaporation method, or the like. The reflective layer 1611 is formed flat on the flat surface of the substrate 1601. The thickness of the reflection layer 1611 is, for example, about 0.2 μm. An opening 1611a is provided in the reflection layer 1611 for each pixel region.

上記反射層1611上には、公知の感光性樹脂材料等で構成されたカラーフィルタ1612が形成されている。このカラーフィルタ1612には、上記開口部1611a上に形成された濃色部1612rc(赤濃色部),1612gc(緑濃色部),1612bc(青濃色部)と、反射層1611上に形成された淡色部1612r(赤淡色部),1612g(緑淡色部),1612b(青淡色部)とを有する着色層が含まれる。   A color filter 1612 made of a known photosensitive resin material or the like is formed on the reflective layer 1611. The color filter 1612 includes dark portions 1612 rc (red dark portion), 1612 gc (green dark portion), and 1612 bc (dark blue portion) formed on the opening 1611 a, and formed on the reflective layer 1611. A colored layer having the light colored portions 1612r (red light colored portion), 1612g (green light colored portion), and 1612b (blue light colored portion) is included.

また、各画素領域の間には、上記淡色部1612r,1612g,1612b上に、上記濃色部1612rc,1612gc,1612bcが積層されてなる重ね遮光部1612BMが形成されている。この重ね遮光部1612BMにおいては、例えば、下層から順に淡色部1612bが約1.0μm、淡色部1612gが約0.5μm、淡色部1612rが約0.5μmとなるように構成される。   Further, between the pixel regions, a light-shielding portion 1612BM formed by laminating the dark-colored portions 1612rc, 1612gc, and 1612bc on the light-colored portions 1612r, 1612g, and 1612b is formed. In the overlapping light shielding portion 1612BM, for example, the light-colored portion 1612b is about 1.0 μm, the light-colored portion 1612g is about 0.5 μm, and the light-colored portion 1612r is about 0.5 μm in order from the lower layer.

上記のように構成されたカラーフィルタ1612上には、アクリル樹脂その他の有機樹脂等からなる透光素材で構成された保護層1612pが形成される。保護層1612pは、上記重ね遮光部1612BMの形成された部分を含めて表面がほぼ平坦に構成されている。保護層1612pの素材としては、透明なアクリル樹脂やエポキシ樹脂などの有機樹脂の他に、SiOやTiOなどの透明な無機物を用いることもできる。保護層1612pの厚さは例えば約2.2μmである。 On the color filter 1612 configured as described above, a protective layer 1612p made of a translucent material made of acrylic resin or other organic resin is formed. The protective layer 1612p has a substantially flat surface including the portion where the overlapping light shielding portion 1612BM is formed. As a material of the protective layer 1612p, in addition to an organic resin such as a transparent acrylic resin or an epoxy resin, a transparent inorganic substance such as SiO 2 or TiO 2 can be used. The thickness of the protective layer 1612p is, for example, about 2.2 μm.

上記保護層1612p上には、透明導電体で形成された透明電極1613が形成される。   A transparent electrode 1613 made of a transparent conductor is formed on the protective layer 1612p.

本実施形態では、重ね遮光部1612BMが濃色部1612rc,1612gc,1612bcを積層することによって構成されているため、画素領域間の遮光をより完全に行うことが可能になっている。また、重ね遮光部1612BMが画素領域内に形成された淡色部1612r,1612g,1612bのいずれかの上にそのまま積層されているため、重ね遮光部1612BMの光透過率をさらに低減できる。なお、上記重ね遮光部1612BMは淡色部上に3層積層した構造を有するが、2層又は1層のみを積層させた構造を有していても構わない。   In the present embodiment, the overlapping light-shielding portion 1612BM is formed by stacking the dark-colored portions 1612rc, 1612gc, and 1612bc, so that the light-shielding between the pixel regions can be performed more completely. In addition, since the overlapping light shielding portion 1612BM is directly laminated on any of the light color portions 1612r, 1612g, and 1612b formed in the pixel region, the light transmittance of the overlapping light shielding portion 1612BM can be further reduced. Note that the overlapping light-shielding portion 1612BM has a structure in which three layers are stacked on the light-colored portion, but may have a structure in which only two layers or one layer is stacked.

この実施例3では、上記カラーフィルタ1612よりも観察側に、散乱層1619が配置されている。この散乱層1619により、反射層1611による外光の正反射に起因する、特定視角方向の背景の写り込み、幻惑、明度不足等を低減している。散乱層1619としては、前方散乱特性を有するものであることが好ましい。例えば、透明基材中にこの基材とは屈折率が若干異なる別の透明素材で構成される微粒を分散させたものなどが挙げられる。   In the third embodiment, the scattering layer 1619 is disposed on the observation side of the color filter 1612. The scattering layer 1619 reduces reflection of the background in a specific viewing angle direction, glare, lack of brightness, and the like due to regular reflection of external light by the reflection layer 1611. It is preferable that the scattering layer 1619 has a forward scattering characteristic. For example, a material in which fine particles composed of another transparent material having a slightly different refractive index from the base material are dispersed in a transparent base material may be used.

また、上記散乱層1619として、接着機能を有する接着層を用いることができる。例えば、透明接着剤を基材とし、この基材とは屈折率が若干異なる透明微粒子を分散させたものなどが挙げられる。この場合には、図示のように、観察側の基板1602(図示二点鎖線で示す)と、そのさらに観察側に配置される位相差板1605又は偏光板1606とを接着する接着層として用いることができる。なお、基板1602の表面上の構造及び液晶層は図面上省略してある。   Further, as the scattering layer 1619, an adhesive layer having an adhesive function can be used. For example, a material in which a transparent adhesive is used as a base material and transparent fine particles having a slightly different refractive index from the base material are dispersed is used. In this case, as shown in the figure, the substrate 1602 on the observation side (indicated by a two-dot chain line in the figure) is used as an adhesive layer for bonding a retardation plate 1605 or a polarizing plate 1606 further disposed on the observation side. Can be. Note that the structure and the liquid crystal layer on the surface of the substrate 1602 are omitted in the drawing.

[カラーフィルタの構成例]
最後に、図22及び図23を参照して本発明に係る上記実施例1〜3のカラーフィルタ1412,1512,1612の構成例について説明する。なお、この構成例は、上記実施例1〜3以外の上記各実施形態のカラーフィルタにも同様に適用できる。図22は、上記カラーフィルタの濃色部の透過光の分光特性を示す分光特性図(a)、同透過光のCIE(1931)表色系のxy色度図(b)及び同透過光のCIE(1976)表色系のa色度図(c)であり、図23は、上記カラーフィルタの淡色部の透過光の分光特性を示す分光特性図(a)、同透過光のCIE(1931)表色系のxy色度図(b)及び同透過光のCIE(1976)表色系のa色度図(c)である。ここで、上記各図は、同じC光源を用いて各濃色部又は各淡色部に光を一回透過させた透過光の分光透過率及び色度座標を求めた結果を示すものである。
[Configuration example of color filter]
Lastly, a configuration example of the color filters 1412, 1512, and 1612 of the first to third embodiments according to the present invention will be described with reference to FIGS. Note that this configuration example can be similarly applied to the color filters of the above embodiments other than the first to third embodiments. FIG. 22 is a spectral characteristic diagram (a) showing spectral characteristics of transmitted light in a dark color portion of the color filter, an xy chromaticity diagram (b) of the CIE (1931) color system of the transmitted light, and FIG. FIG. 23 is an a * b * chromaticity diagram (c) of the CIE (1976) color system, and FIG. 23 is a spectral characteristic diagram (a) showing the spectral characteristics of light transmitted through the light-colored portion of the color filter; An xy chromaticity diagram (b) of the CIE (1931) color system and an a * b * chromaticity diagram (c) of the CIE (1976) color system of the transmitted light. Here, each of the above figures shows the result of calculating the spectral transmittance and chromaticity coordinates of the transmitted light that has been transmitted once through each dark color portion or each light color portion using the same C light source.

図22に示すように、赤濃色部(R)の主な透過領域は600〜700nmであり、この領域の平均透過率は約90%であり、特に640〜700nmの領域で透過率が最大(約95%)になっている。緑濃色部(G)の主な透過領域は495〜570nmであり、この領域の平均透過率は約85%であり、特に510〜550nmの領域で透過率が最大(約90%)になっている。青濃色部(B)の主な透過領域は435〜500nmであり、この領域の平均透過率は約85%であり、特に445〜480nmの領域で透過率が最大(約88%)となっている。   As shown in FIG. 22, the main transmission region of the red-dark portion (R) is 600 to 700 nm, and the average transmittance of this region is about 90%, and particularly, the transmittance is maximum in the region of 640 to 700 nm. (About 95%). The main transmission region of the green dark portion (G) is 495 to 570 nm, and the average transmittance in this region is about 85%, and particularly, the transmittance is maximum (about 90%) in the region of 510 to 550 nm. ing. The main transmission region of the deep blue portion (B) is 435 to 500 nm, and the average transmittance in this region is about 85%, and particularly, the transmittance is maximum (about 88%) in the region of 445 to 480 nm. ing.

また、CIE表色系(1931)のY値は、赤濃色部(R)で24〜26、緑濃色部(G)で70〜72、青濃色部(B)で29〜31程度である。CIE表色系(1976)のL値は、赤濃色部(R)で56〜58、緑濃色部(G)で86〜88、青濃色部(B)で60〜62程度である。 Further, the Y value of the CIE color system (1931) is about 24 to 26 for the deep red part (R), about 70 to 72 for the deep green part (G), and about 29 to 31 for the deep blue part (B). It is. L * values of the CIE color system (1976) are about 56 to 58 in the deep red part (R), 86 to 88 in the deep green part (G), and about 60 to 62 in the deep blue part (B). is there.

さらに、色度図上における上記赤濃色部(R)、緑濃色部(G)及び青濃色部(B)の色相に対応する3点を頂点とする三角形の面積は、約0.05(xy色度図上)及び約7000(a色度図上)である。 Further, the area of a triangle having three vertices corresponding to the hues of the deep red part (R), the deep green part (G), and the deep blue part (B) on the chromaticity diagram is about 0.1. 05 (on the xy chromaticity diagram) and about 7000 (on the a * b * chromaticity diagram).

一方、図23に示すように、赤淡色部(R)の主な透過領域は585〜700nmであり、この領域の平均透過率は約93%であり、特に590〜700nmの領域で透過率が最大(約96%)になっている。緑淡色部(G)の主な透過領域は480〜600nmであり、この領域の平均透過率は約92%であり、特に500〜580nmの領域で透過率が最大(約94%)になっている。青淡色部(B)の主な透過領域は430〜510nmであり、この領域の平均透過率は約89%であり、特に440〜500nmの領域で透過率が最大(約92%)となっている。   On the other hand, as shown in FIG. 23, the main transmissive region of the red-and-light color portion (R) is 585 to 700 nm, and the average transmissivity of this region is about 93%, and particularly, the transmissivity is 590 to 700 nm. It is the maximum (about 96%). The main transmissive area of the green light color portion (G) is 480 to 600 nm, the average transmissivity of this area is about 92%, and the transmissivity becomes maximum (about 94%) especially in the area of 500 to 580 nm. I have. The main transmissive area of the blue and pale color portion (B) is 430 to 510 nm, the average transmissivity of this area is about 89%, and the transmissivity is maximum (about 92%) especially in the area of 440 to 500 nm. I have.

また、CIE表色系(1931)のY値は、赤淡色部(R)で46〜48、緑淡色部(G)で89〜91、青淡色部(B)で44〜46である。CIE表色系(1976)のL値は、赤濃色部(R)で73〜75、緑濃色部(G)で95〜97、青濃色部(B)で72〜74程度である。 The Y value of the CIE color system (1931) is 46 to 48 in the red light color part (R), 89 to 91 in the green light color part (G), and 44 to 46 in the blue light color part (B). L * values of the CIE color system (1976) are about 73 to 75 in the deep red part (R), about 95 to 97 in the deep green part (G), and about 72 to 74 in the deep blue part (B). is there.

さらに、色度図上における上記赤淡色部(R)、緑淡色部(G)及び青淡色部(B)の色相に対応する3点を頂点とする三角形の面積は、約0.01(xy色度図上)及び約1700(a色度図上)である。 Further, on the chromaticity diagram, the area of a triangle having three points as vertices corresponding to the hues of the red light color portion (R), the green light color portion (G), and the blue light color portion (B) is about 0.01 (xy). Chromaticity diagram) and about 1700 (a * b * chromaticity diagram).

上記のように、光濃度に関する濃色部と淡色部との光学特性上の関係は、視感透過率乃至明度に相当するY値或いはL値において淡色部の方が濃色部よりも大きい。ここで、淡色部の値は濃色部の値の1.2〜2.5倍程度であることが好ましい。また、彩度に対応する色度図上の三角形の面積については、濃色部の色度図上の三角形の面積は淡色部の色度図上の三角形の面積よりも大きい。ここで、濃色部の色度図上の三角形の面積は、淡色部の色度図上の三角形の面積の3〜8倍程度であることが好ましい。 As described above, the relationship of the optical density between the dark color portion and the light color portion in the optical characteristics is such that the light color portion is larger than the dark color portion in the Y value or L * value corresponding to luminous transmittance or lightness. . Here, the value of the light color portion is preferably about 1.2 to 2.5 times the value of the dark color portion. Regarding the area of the triangle on the chromaticity diagram corresponding to the saturation, the area of the triangle on the chromaticity diagram of the dark portion is larger than the area of the triangle on the chromaticity diagram of the light portion. Here, the area of the triangle on the chromaticity diagram of the dark portion is preferably about 3 to 8 times the area of the triangle on the chromaticity diagram of the light portion.

なお、光濃度としては、上記のような光学特性上の指標だけでなく、製造条件や構造によって定義することもできる。例えば、カラーフィルタの着色層を形成する際に着色層中に分散した状態で混入される、顔料や染料等の着色材の量の大小関係がある。すなわち、濃色部においては、淡色部よりも単位体積当たりの着色材の量(重量若しくは体積)が大きいことになる。   The light density can be defined not only by the index on the optical characteristics as described above, but also by the manufacturing conditions and the structure. For example, there is a magnitude relationship between the amounts of coloring materials such as pigments and dyes which are mixed in a state of being dispersed in the coloring layer when forming the coloring layer of the color filter. That is, the amount (weight or volume) of the coloring material per unit volume is larger in the dark color part than in the light color part.

[電子機器]
最後に、上記各実施形態の電気光学装置(液晶表示パネル)を備えた電子機器の具体例について説明する。図24は、電子機器の一例として携帯電話2000の外観を示す概略斜視図である。携帯電話2000には、ケーシング2001の表面上に操作スイッチを備えた操作部2002が設けられ、また、マイクロフォン等の検出器を含む音声検出部2003と、スピーカ等の発音器を含む音声発生部2004とが設けられている。ケーシング2001の一部には表示部2005が設けられ、この表示部2005を通して、内部に配置された上記各実施形態の電気光学装置の表示画面を視認できるように構成されている。この電気光学装置に対しては、ケーシング2001の内部に設けられた制御部から表示信号が送られ、この表示信号に応じた表示画像が表示される。
[Electronics]
Finally, a specific example of an electronic apparatus including the electro-optical device (liquid crystal display panel) of each of the above embodiments will be described. FIG. 24 is a schematic perspective view showing the appearance of a mobile phone 2000 as an example of the electronic apparatus. The mobile phone 2000 is provided with an operation unit 2002 provided with an operation switch on the surface of a casing 2001, and a sound detection unit 2003 including a detector such as a microphone and a sound generation unit 2004 including a sound generator such as a speaker. Are provided. A display unit 2005 is provided in a part of the casing 2001, and the display screen of the electro-optical device according to each of the above-described embodiments disposed inside the display unit 2005 can be viewed through the display unit 2005. A display signal is sent from a control unit provided inside the casing 2001 to the electro-optical device, and a display image corresponding to the display signal is displayed.

図25は、電子機器の一例として腕時計3000の外観を示す概略斜視図である。この腕時計3000は、時計本体3001と、時計バンド3002とを有する。時計本体3001には、外部操作部材3003,3004が設けられている。また、時計本体3001の前面には表示部3005が設けられ、この表示部3005を通して、内部に配置された上記各実施形態の電気光学装置の表示画面を視認できるように構成されている。この電気光学装置に対しては、時計本体3001の内部に設けられた制御部(時計回路)から表示信号が送られ、この表示信号に応じた表示画像が表示される。   FIG. 25 is a schematic perspective view showing the appearance of a wristwatch 3000 as an example of the electronic apparatus. This wristwatch 3000 has a watch main body 3001 and a watch band 3002. The watch main body 3001 is provided with external operation members 3003 and 3004. A display unit 3005 is provided on the front surface of the timepiece main body 3001, and the display screen of the electro-optical device according to each of the above-described embodiments is configured to be visually recognized through the display unit 3005. For this electro-optical device, a display signal is sent from a control unit (clock circuit) provided inside the watch main body 3001, and a display image corresponding to the display signal is displayed.

図26は、電子機器の一例としてコンピュータ装置4000の外観を示す概略斜視図である。このコンピュータ装置4000は、本体部4001の内部にMPU(マイクロプロセッサユニット)が構成され、本体部4001の外面上に操作部4002が設けられている。また、表示部4003が設けられ、この表示部4003の内部には上記各実施形態の電気光学装置が収容されている。そして、表示部4003を通して、電気光学装置の表示画面を視認できるように構成されている。この電気光学装置は本体部4001の内部に設けられたMPUから表示信号を受け取り、表示信号に応じた表示画像を表示するように構成されている。   FIG. 26 is a schematic perspective view showing the external appearance of a computer device 4000 as an example of the electronic apparatus. In the computer device 4000, an MPU (microprocessor unit) is configured inside a main body section 4001, and an operation section 4002 is provided on an outer surface of the main body section 4001. Further, a display unit 4003 is provided, and the electro-optical device of each of the above-described embodiments is accommodated inside the display unit 4003. Then, the display screen of the electro-optical device can be visually recognized through the display unit 4003. The electro-optical device is configured to receive a display signal from an MPU provided inside the main body 4001 and display a display image corresponding to the display signal.

尚、本発明のカラーフィルタ基板及び電気光学装置、カラーフィルタ基板の製造方法及び電気光学装置の製造方法、並びに、電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。   The color filter substrate and the electro-optical device, the method for manufacturing the color filter substrate, the method for manufacturing the electro-optical device, and the electronic apparatus according to the present invention are not limited to the illustrated examples described above, and the gist of the present invention Of course, various changes can be made without departing from the scope.

例えば、以上説明した各実施形態においては、いずれもパッシブマトリクス型の液晶表示パネルを例示してきたが、本発明の電気光学装置としては、アクティブマトリクス型の液晶表示パネル(例えば、TFT(薄膜トランジスタ)やTFD(薄膜ダイオード)をスイッチング素子として備えた液晶表示パネル)にも同様に適用することが可能である。また、液晶表示パネルだけでなく、エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置などのように、複数の画素毎に表示状態を制御可能な各種の電気光学装置においても本発明を同様に適用することが可能である。   For example, in each of the embodiments described above, a passive matrix type liquid crystal display panel has been exemplified. However, as an electro-optical device of the present invention, an active matrix type liquid crystal display panel (for example, a TFT (thin film transistor), The present invention can be similarly applied to a liquid crystal display panel having a TFD (thin film diode) as a switching element. In addition, the present invention is similarly applied not only to liquid crystal display panels but also to various electro-optical devices capable of controlling a display state for each of a plurality of pixels, such as electroluminescence devices, organic electroluminescence devices, and plasma display devices. It is possible to do.

さらに、本発明のカラーフィルタ基板は、上記電気光学装置に限らず、種々の表示装置、撮像装置、その他の各種光学装置に用いることが可能である。   Further, the color filter substrate of the present invention is not limited to the above-described electro-optical device, and can be used for various display devices, imaging devices, and other various optical devices.

本発明に係る第1実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。FIG. 1 is a schematic sectional view schematically showing a structure of a liquid crystal display panel according to a first embodiment of the present invention. 本発明に係る第2実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 2nd embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第3実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 3rd embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第4実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 4th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第5実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 5th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第6実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 6th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第7実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of a 7th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第8実施形態の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is an outline sectional view showing typically the structure of the liquid crystal display panel of an 8th embodiment concerning the present invention. 第1実施形態のカラーフィルタ基板の平面構造を模式的に示す概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view schematically illustrating a planar structure of the color filter substrate according to the first embodiment. 本発明に係る第9実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) showing typically the manufacturing method of the color filter substrate of a 9th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第10実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) showing typically the manufacturing method of the color filter substrate of a 10th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第11実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) showing typically the manufacturing method of the color filter substrate of an 11th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第12実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) which shows typically the manufacturing method of the color filter substrate of a 12th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第13実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) which shows typically the manufacturing method of the color filter substrate of a 13th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る第14実施形態のカラーフィルタ基板の製造方法を模式的に示す概略工程図(a)〜(d)である。It is a schematic process drawing (a)-(d) which shows typically the manufacturing method of the color filter substrate of a 14th embodiment concerning the present invention. 本発明に係る液晶表示パネルの光学的機能を説明するための説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram for explaining an optical function of the liquid crystal display panel according to the present invention. 上記各実施形態に適用可能なその他の構成例を模式的に示す概略部分断面図(a)〜(d)である。It is a schematic partial sectional view (a)-(d) showing typically other examples of composition applicable to each above-mentioned embodiment. 従来構造の反射半透過型の液晶表示パネルの構造を模式的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows typically the structure of the transflective liquid crystal display panel of a conventional structure. より具体的な構造を示すための実施例1のカラーフィルタ基板の拡大部分断面図及びカラーフィルタの平面図である。3A and 3B are an enlarged partial cross-sectional view of a color filter substrate according to a first embodiment and a plan view of a color filter to show a more specific structure. より具体的な構造を示すための実施例2のカラーフィルタ基板の拡大部分断面図及びカラーフィルタの平面図である。FIG. 9 is an enlarged partial cross-sectional view of a color filter substrate according to a second embodiment and a plan view of the color filter to show a more specific structure. より具体的な構造を示すための実施例3のカラーフィルタ基板の拡大部分断面図及びカラーフィルタの平面図である。FIG. 9 is an enlarged partial cross-sectional view of a color filter substrate according to a third embodiment and a plan view of the color filter to show a more specific structure. 実施例1〜3に形成されるカラーフィルタの濃色部における分光透過率を示す図、xy色度図及びa色度図である。FIG. 9 is a diagram illustrating a spectral transmittance of a dark color portion of the color filters formed in Examples 1 to 3, an xy chromaticity diagram, and an a * b * chromaticity diagram. 実施例1〜3に形成されるカラーフィルタの淡色部における分光透過率を示す図、xy色度図及びa色度図である。It is a figure which shows the spectral transmittance in the light color part of the color filter formed in Examples 1-3, an xy chromaticity diagram, and an a * b * chromaticity diagram. 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例として携帯電話の外観を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating an appearance of a mobile phone as an example of an electronic apparatus including the electro-optical device according to each embodiment. 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例として時計(腕時計)の外観を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating the appearance of a timepiece (wristwatch) as an example of an electronic apparatus including the electro-optical device according to each embodiment. 各実施形態の電気光学装置を備えた電子機器の一例としてコンピュータ(情報端末)の外観を示す概略斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view illustrating an appearance of a computer (information terminal) as an example of an electronic apparatus including an electro-optical device according to each embodiment.

符号の説明Explanation of reference numerals

200 液晶表示パネル、201,202 基板、203 シール材、204 液晶、205,207 位相差板、206,208 偏光板、209 バックライト、211 反射層、211a 開口部、212 カラーフィルタ、212r,212g,212b 着色層、212BM 重ね遮光層、212c 濃色部、213,221 透明電極、R 反射経路、T 透過経路
200 liquid crystal display panel, 201, 202 substrate, 203 sealing material, 204 liquid crystal, 205, 207 retardation plate, 206, 208 polarizing plate, 209 backlight, 211 reflection layer, 211a opening, 212 color filter, 212r, 212g, 212b colored layer, 212BM overlapping light shielding layer, 212c dark portion, 213,221 transparent electrode, R reflection path, T transmission path

Claims (17)

カラーフィルタ基板において、
基板と、
前記基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層と、
前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層とを備え、
前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
In the color filter substrate,
Board and
A colored layer disposed on the substrate, and having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion;
A reflective layer disposed on the substrate, and having a transmissive portion capable of substantially transmitting light,
The color filter substrate, wherein the dark color portion is arranged so as to overlap at least the transmission portion in a plane.
前記反射層は、前記透過部以外の部分に反射部を有し、
前記透過部は前記反射層に設けられた開口部であり、
前記淡色部は少なくとも前記反射部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。
The reflection layer has a reflection portion in a portion other than the transmission portion,
The transmission section is an opening provided in the reflection layer,
The color filter substrate according to claim 1, wherein the light-colored portion is disposed so as to overlap at least the reflection portion in a plane.
前記着色層は、前記淡色部と前記濃色部との積層構造を有することを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。   The color filter substrate according to claim 1, wherein the coloring layer has a laminated structure of the light-colored portion and the dark-colored portion. 前記反射層と前記着色層との間に部分的に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。   A light-transmitting layer that is partially disposed between the reflective layer and the colored layer and that can substantially transmit light; and the dark-colored portion is disposed in a region where the light-transmitting layer is not disposed. The color filter substrate according to claim 1, wherein: 前記透光層は光を散乱させる散乱機能を有することを特徴とする請求項4に記載のカラーフィルタ基板。   The color filter substrate according to claim 4, wherein the light transmitting layer has a scattering function of scattering light. 前記反射層と前記基板との間に部分的に配置された下地層を備え、前記濃色部は前記下地層が配置されてない領域に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。   2. The device according to claim 1, further comprising an underlayer partially disposed between the reflective layer and the substrate, wherein the dark portion is disposed in a region where the underlayer is not disposed. 3. Color filter substrate. 前記反射層の表面は光を散乱させる微細な凹凸を有することを特徴とする請求項6に記載のカラーフィルタ基板。   The color filter substrate according to claim 6, wherein the surface of the reflective layer has fine irregularities that scatter light. 前記基板は凹部を有し、前記濃色部は前記凹部内に配置されていることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ基板。   The color filter substrate according to claim 1, wherein the substrate has a concave portion, and the dark portion is disposed in the concave portion. 基板上に配置され、濃色部を有する着色層を備え、
前記濃色部は他の部分よりも高い光濃度を有することを特徴とするカラーフィルタ基板。
A colored layer having a dark portion, which is disposed on the substrate,
A color filter substrate, wherein the dark color portion has a higher light density than other portions.
前記基板と前記着色層との間に部分的に配置された実質的に光が透過できる透光層を備え、前記濃色部は前記透光層が配置されてない領域に配置されていることを特徴とする請求項9に記載のカラーフィルタ基板。   A light-transmitting layer partially disposed between the substrate and the coloring layer and capable of substantially transmitting light; and the dark-colored portion is disposed in a region where the light-transmitting layer is not disposed. The color filter substrate according to claim 9, wherein: 前記基板は凹部を有し、前記濃色部は前記凹部内に配置されていることを特徴とする請求項9に記載のカラーフィルタ基板。   The color filter substrate according to claim 9, wherein the substrate has a concave portion, and the dark color portion is disposed in the concave portion. 電気光学装置において、
電気光学物質を含む電気光学層と、
前記電気光学層を支持する基板と、
前記基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、 前記基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、
前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
In electro-optical devices,
An electro-optic layer containing an electro-optic material;
A substrate supporting the electro-optic layer,
A reflective layer disposed on the substrate, and having a transmissive portion capable of substantially transmitting light; and a colored layer disposed on the substrate, and having a dark color portion having a light density higher than the light color portion and the light color portion. With
The electro-optical device according to claim 1, wherein the dark color portion is arranged so as to overlap at least the transmission portion in a plane.
電気光学装置において、
電気光学物質を含む電気光学層と、
前記電気光学層を支持する第1の基板と、
前記第1の基板に配置され、且つ実質的に光が透過可能な透過部を有する反射層と、
前記第1の基板に対向して配置された第2の基板と、
前記第2の基板に配置され、且つ淡色部および前記淡色部よりも光濃度が高い濃色部を有する着色層とを備え、
前記濃色部は少なくとも前記透過部に平面的に重なるように配置されていることを特徴とする電気光学装置。
In electro-optical devices,
An electro-optic layer containing an electro-optic material;
A first substrate supporting the electro-optic layer;
A reflective layer disposed on the first substrate, the reflective layer having a transmissive portion capable of substantially transmitting light;
A second substrate disposed opposite to the first substrate;
A colored layer disposed on the second substrate and having a light-colored portion and a dark-colored portion having a higher light density than the light-colored portion;
The electro-optical device according to claim 1, wherein the dark color portion is arranged so as to overlap at least the transmission portion in a plane.
カラーフィルタ基板の製造方法において、
第1の領域に着色層の淡色部を形成する工程と、
前記第1の領域に隣り合う第2の領域に、前記淡色部よりも光濃度が高い着色層の濃色部を形成する工程と、
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
In a method for manufacturing a color filter substrate,
Forming a light-colored portion of the colored layer in the first region;
Forming, in a second region adjacent to the first region, a dark color portion of a colored layer having a higher light density than the light color portion;
A method for manufacturing a color filter substrate, comprising:
請求項14に記載のカラーフィルタ基板の製造方法を工程として備えることを特徴とする電気光学装置の製造方法。 A method for manufacturing an electro-optical device, comprising the method for manufacturing a color filter substrate according to claim 14 as a step. 請求項12に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 12. 請求項13に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to claim 13.
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