JP2004276276A - Lithographic printing plate requiring no development process - Google Patents

Lithographic printing plate requiring no development process Download PDF

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JP2004276276A
JP2004276276A JP2003067394A JP2003067394A JP2004276276A JP 2004276276 A JP2004276276 A JP 2004276276A JP 2003067394 A JP2003067394 A JP 2003067394A JP 2003067394 A JP2003067394 A JP 2003067394A JP 2004276276 A JP2004276276 A JP 2004276276A
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Takayuki Sanada
隆幸 真田
Tetsuhiro Koide
哲裕 小出
Yuko Suzuki
祐子 鈴木
Koji Takano
弘二 高野
Masaya Naito
真哉 内藤
Tomoya Terauchi
知哉 寺内
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Mitsui Chemicals Inc
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Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing plate for CTP which is exposed to light in a near infrared range; can be handled in a bright room; dispenses with development and wiping-off procedures; and hardly suffers texture smudging even when the quantity of damping water is reduced. <P>SOLUTION: The lithographic printing plate dispenses with a development process and is obtained by changing the hydrophilic nature of the surface of an irradiation part to an inkphilic nature through irradiating with light to an original plate having a hydrophilic resin photosensitive layer formed of a crosslinked photosensitive resin composition comprising a hydrophilic polymer, a crosslinking agent and a light absorbing agent. In addition, the hydrophilic resin photosensitive layer contains a phosphate surfactant and the photosensitive resin composition preferably contains a hydrophobic polymer. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は印刷版、特に湿し水を用いる平版印刷版に関する。さらに詳しくは、版に光で直接描画でき、現像工程が不要な平版印刷版に関する。
【0002】
【従来の技術】
平版印刷、所謂オフセット印刷は紙への印刷に於いて主流であり、広く用いられている。従来このオフセット印刷で用いられる刷版は、印刷原稿を一旦紙等に出力した後、この原稿を写真撮影して版下フィルムを作成し、この版下フィルムを通して感光性の刷版を露光、現像することにより作られていた。
【0003】
しかし、近年情報のデジタル化とレーザーの高出力化により刷版の作成に於いて上記した版下フィルムを使用せずに、レーザーを走査して直接刷版に描画して版を作成する方法、所謂CTP(Computer To Plate)法が実用に供されている。
【0004】
現在実用化されているCTP用の版としては、波長500nm前後の可視光による光反応を利用したフォトポリマー型の刷版があるが、この版は勿論現像を必要とするだけでなく、解像度が劣り、又明室での取り扱いができないという問題点がある。
【0005】
そして、このような問題点を改良するために、特開平7−20629号公報には、近赤外線領域の光による熱反応を利用した平版印刷用の版が開示され、該版は既に市場に供されている。この版は明室で取り扱うことができ、且つ解像度も優れるが、依然、現像処理が必要である。
【0006】
そこで、湿式現像処理の不要な平版印刷版として、特開平9−127683号公報には、露光領域で自己分散性樹脂粒子が溶融・融着して画像を形成する版が開示されている。この版は感光層の非画線部が湿し水で除去が可能な刷版であり、いわゆる印刷機上現像ができ、専用の現像機を必要とはしない。しかし、印刷機上で現像した場合、湿し水やインクを汚染するだけでなく、保存時の湿度管理に厳しさが要求されると言う欠点を有する。
【0007】
湿式現像も印刷機上現像も必要としない平版印刷版として、米国特許3476937号には、独立し、且つ接触関係にある疎水性熱可塑性樹脂微粒子を含有する親水性樹脂層を有し、熱により疎水性熱可塑性樹脂微粒子が融着し親水性が変化する版が開示されている。しかし、この版は特に光照射で描画した際は感度が低く、且つ親水性樹脂層は強度が弱く耐刷性に劣る。又、着インク性を改善するために疎水性熱可塑性樹脂の量を増やすと地汚れしてしまうという欠点を有する。
【0008】
更に、特開平7−1850号公報には、親水性樹脂中に該親水性樹脂中の親水基と反応する親油性物質を含むマイクロカプセルを含有した感光層からなる版であり、光の照射によりマイクロカプセルを破壊して親水性樹脂を親油化する技術が開示されている。しかしこの方法は解像度を上げたり、地汚れを防止するにはマイクロカプセルの粒径を非常に小さくしなければならず、製造が困難であった。また、マイクロカプセルを破壊するには高エネルギーが必要で光に対する感度が悪いという欠点を有した。
【0009】
更に、特開平7−314934号公報には、チタン又はチタン酸化物等の、無機系の光吸収層の上にシリコーン樹脂の撥インク層を積層した構成の版も開示され市販されている。この版はシリコーン樹脂層がインクをはじき非画線部となり、近赤外光の照射により画線部が形成されるが、光の照射だけでは照射部のシリコーン樹脂層は除去されないので、印刷に際しては光を照射した部分のシリコーン樹脂を除去するために拭き取り操作を必要とする。このシリコーン樹脂の拭き取りが不十分な場合は照射部にインクが十分に付着せず、画線部に欠陥が生じ、うまく印刷できない。
【0010】
そこで本発明者らは親水性ポリマー、架橋剤及び光吸収剤からなる感光性樹脂組成物、あるいは親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤及び疎水性ポリマーからなる感光性樹脂組成物を架橋した親水性樹脂感光層からなり、光の照射により表面が親水性から親インク性に変化する平版印刷用の版を国際公開第01/083234号に開示した。この版は現像や拭き取り操作が不要で、且つ光照射部の表面だけが変化するため感度、解像度に優れているが、さらに印刷性能の向上が望まれる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、近赤外領域の光に感光し、明室で取り扱うことができ、現像や拭き取り操作が不要で、且つ湿し水の量を減らしても地汚れし難いCTP用の平版印刷版を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意検討した結果、親水性ポリマー、架橋剤及び光吸収剤からなる感光性樹脂組成物を架橋してなる親水性樹脂感光層、又は親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤及び疎水性ポリマーからなる感光性樹脂組成物を架橋してなる親水性樹脂感光層を有する平版印刷用原版において、親水性樹脂感光層にリン酸塩系界面活性剤を含有させることによって上記の目的を達成することができることを見出し、本発明に到達した。すなわち、本発明は以下の通りである。
【0013】
本発明に係る現像工程不要な平版印刷版は、親水性ポリマー、架橋剤及び光吸収剤からなる感光性樹脂組成物を架橋してなる親水性樹脂感光層を有する原版に光照射して、照射部表面の親水性を親インク性に変化させて得られる平版印刷版であって、親水性樹脂感光層中にリン酸塩系界面活性剤を含有することを特徴とする。
【0014】
前記感光性樹脂組成物が疎水性ポリマーを含んでなることは、本発明の平版印刷版の好ましい態様である。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の平版印刷版について詳細に説明する。本発明の平版印刷版に於いては、基板上に水に不溶性の親水性樹脂からなる感光層を設けてなる。この際用いられる基板の具体例としては、アルミ板、鋼板、ステンレス板、銅板等の金属板やポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ABS樹脂等のプラスチックフィルムや紙、アルミ箔ラミネート紙、金属蒸着紙、プラスチックフィルムラミネート紙等が挙げられる。これらの基材の厚さは特に制限はないが通常100〜400μm程度である。又、これらの基材には密着性の改良等のために酸化処理、クロメート処理、サンドブラスト処理、コロナ放電処理等の表面処理を施してもよい。
【0016】
次に本発明の水に不溶性の親水性樹脂からなる感光層に関して詳しく説明する。本発明の平版印刷版は湿し水を用いるオフセット印刷用の無現像型の版であり、感光層の光照射部以外は非画像部である。従って本発明の感光層は親水性で、且つ水に溶けないことが必要である。そして、光を照射した部分の感光層はアブレーションにより取り除かれることはなく、感光層の親水性が親インク性に変化する。そのため、本発明の版は光の照射後に現像や拭き取り等が不要となる。
上記したような特性の変化を具現化するために、本発明の感光層は、親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤及びリン酸塩系界面活性剤を含有してなる感光性樹脂組成物、あるいは親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマー、光吸収剤及びリン酸塩系界面活性剤を含有してなる感光性樹脂組成物を架橋してなるものであることが好ましい。親水性ポリマーは架橋することにより水に不溶性となる。
【0017】
本発明の感光層に用いられる親水性ポリマーは、親水性基及び架橋剤と反応する官能基(架橋官能基)を有する。親水性ポリマーの親水性基としては、例えば、水酸基、アミド基、アミノ基、スルホンアミド基、オキシメチレン基、オキシエチレン基等、更にカルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の酸性基やこれら酸性基のアルカリ金属塩やアミン塩等が挙げられる。
【0018】
又架橋官能基としては、水酸基、アミド基、アミノ基、イソシアナート基、グリシジル基、オキサゾリン基、メチロール基、及びメチロール基とメタノールやブタノール等のアルコールとが縮合したメトキシメチル基やブトキシメチル基等、更にカルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の酸性基やこれら酸性基のアルカリ金属塩やアミン塩等が挙げられる。
【0019】
親水性ポリマーのより具体的な例としては、水溶性の以下のポリマーが挙げられる。即ち、セルロース類、ゼラチン、前記した親水性基や架橋官能基を有する不飽和酸及びその誘導体類やN―ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、ビニルエーテル等を重合、又は共重合してなるポリマー及びこのポリマーの加水分解ポリマー等である。
【0020】
前記した親水性基や架橋官能基を有する不飽和酸及びその誘導体の具体例として、水酸基を有する不飽和酸誘導体としては、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチロール(メタ)アクリルアミドや、該メチロール(メタ)アクリルアミドとメチルアルコールやブチルアルコールとの縮合物であるメトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
【0021】
アミド基を有する不飽和酸誘導体としては、無置換又は置換(メタ)アクリルアミド、無置換又は置換イタコン酸アミド、無置換又は置換フマル酸アミド、無置換又は置換フタル酸アミド、N―ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド等が挙げられる。無置換又は置換(メタ)アクリルアミドのより具体例としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、メチロール(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド、スルホン酸プロピル(メタ)アクリルアミド、(メタ)アクリロイルモルホリン等が挙げられる。前記イタコン酸アミド等の二塩基酸アミドの場合は一方のカルボキシル基がアミド化されたモノアミドであっても良く、両方のカルボキシル基がアミド化されたジアミドであっても良い。更に、グリシジル基を有する不飽和酸誘導体としては、グリシジル(メタ)アクリレート、パラビニルフェニルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【0022】
カルボキシル基を有する不飽和酸としては、(メタ)アクリル酸等の一塩基不飽和酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物等の二塩基不飽和酸やこれら二塩基不飽和酸のモノエステル、モノアミド等が挙げられる。
【0023】
又、スルホン酸基を有する不飽和酸としては、スルホエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルメチルスルホン酸、イソプロぺニルメチルスルホン酸、(メタ)アクリル酸にエチレンオキシド、又はプロピレンオキシドを付加したアルコールの硫酸エステル、(メタ)アクリロイロキシエチルスルホン酸、モノアルキルスルホコハク酸エステルとアリル基を有する化合物とのエステル、モノアルキルスルホコハク酸エステルとグリシジル(メタ)アクリレートとの反応生成物等が、ホスホン酸基を有する重合性不飽和モノマーとしては、ビニルリン酸、リン酸モノ(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリレート、リン酸モノアルキルエステルのモノ(2−ヒドロキシエチル)(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【0024】
これらのカルボキシル基、スルホン酸基やホスホン酸基はアルカリ金属、アルカリ土類金属やアミン類で中和されていても良い。中和に用いられるアルカリ金属としては、ナトリウム、カリウム、リチウム等が、アルカリ土類金属としては、カルシウム、マグネシウム等が、及びアミン類としては、アンモニア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等が挙げられる。
【0025】
重合するに際しては、前記した不飽和酸及びその誘導体と共重合可能なモノマーを併用しても良い。共重合可能なモノマーとしては、例えばメチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソポロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル等が挙げられる。尚、前記の記載に於いて、(メタ)アクリルアミドや(メタ)アクリル酸等に於ける(メタ)アクリル、(メタ)アクリロイル、更に(メタ)アクリレート等は、それぞれアクリルまたはメタクリル、アクリロイルまたはメタクリロイル、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。
【0026】
本発明の親水性ポリマーを架橋するのに用いられる架橋剤としては、前記親水性ポリマーと架橋反応して親水性ポリマーを水に不溶性にすることにより親水性樹脂感光層の耐刷性を向上させるものであればよく、例えば、親水性ポリマー中の架橋性官能基である水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、グリシジル基、場合によってはアミド基と反応する公知の多価アルコール化合物類、多価カルボン酸化合物やその無水物類、多価グリシジル化合物類、多価アミン、多価イソシアネート化合物やブロックイソシアネート化合物、エポキシ樹脂、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂等が挙げられる。
【0027】
本発明に於いては前記した架橋剤の中でも、架橋速度と感光性樹脂組成物の安定性や感光層の親水性と耐水性のバランス等から、水性エポキシ樹脂、オキサゾリン樹脂、アミノ樹脂、水性ブロックイソシアネート化合物が好ましい。アミノ樹脂としては、メラミン樹脂、尿素樹脂、ベンゾグアナミン樹脂やグリコールウリル樹脂等やこれらの樹脂の変性樹脂、例えばカルボキシ変性メラミン樹脂等が挙げられる。又、架橋反応を促進するために、前記したエポキシ樹脂を用いる際には3級アミン類を、アミノ樹脂を用いる場合にはパラトルエンスルホン酸、アルキルベンゼンスルホン酸類、塩化アンモニウム等の酸性化合物を併用しても良い。
【0028】
上記架橋剤の主な役割は、前記親水性ポリマーを架橋し親水性ポリマーを水に不溶性にすることであるが、さらに架橋剤が自己重合性を有する場合には、感光層において該架橋剤が親水性ポリマー中に重合体の島相を形成し、感光層中の光吸収剤が光を吸収して光エネルギーを熱エネルギーに変換する際、発生した熱により該島相が発泡し、光照射部表面の親水性を親インク性に変化させることも含まれる。
【0029】
本発明の感光性樹脂組成物には、光の照射により照射部表面の親水性が親インク性に変化しやすいように疎水性ポリマーを用いることも好ましい。疎水性ポリマーとしては、版の感度、光照射した際の親インク化のしやすさ等から、動的光散乱法で測定した平均粒子径が0.005〜0.5μmの水分散疎水性樹脂が好ましく、平均粒子径が0.01〜0.2μmのものが更に好ましい。水分散疎水性樹脂とは、微細な疎水性ポリマー粒子と必要に応じて該粒子を覆う保護剤とを水性液に分散させた疎水性ポリマーを意味し、不飽和モノマーを乳化重合や懸濁重合することによって作られた疎水性ポリマー、特に酸性基を有する疎水性ポリマー、又は該ポリマーの有機溶剤溶液を必要ならば酸性基を中和したり、分散安定剤を加えて水中に分散させた疎水性ポリマー、さらに必要ならば該有機溶剤を溜去して得られる疎水性ポリマー等が挙げられる。水分散疎水性樹脂は、より具体的には例えば、ビニルポリマー系ラテックス、共役ジエンポリマー系ラテックス、アクリル系ラテックス、水分散ポリウレタン樹脂、水分散ポリエステル樹脂、水分散エポキシ樹脂等が挙げられる。
【0030】
上記水分散疎水性樹脂の役割は、感光層において該水分散疎水性樹脂が親水性ポリマー中に島相として形成され、感光層中の光吸収剤が光を吸収剤して光エネルギーを熱エネルギーに変換した際、発生した熱により島相の水分散疎水性樹脂が溶融・融着し、光照射部表面の親水性を親インク性に変化させることであると推定される。この溶融・融着による親インク性への変化を効率よく行わせるには、水分散疎水性樹脂の平均粒子径が前記したように0.005〜0.5μmであることが好ましい。この粒子径の範囲であれば、発生した熱で疎水性樹脂が溶融・融着しやすく、感度に優れる。
【0031】
本発明の感光層に上記水分散疎水性樹脂を使用する場合、疎水性ポリマー量は光照射部の親インク化の点からは多い方が好ましいが、多くなり過ぎると地汚れを起こし好ましくない。この点から本発明に於ける感光性樹脂組成物中の疎水性ポリマー量は、固形分として70重量%以下であることが好ましい。
【0032】
本発明の感光層に用いられる光吸収剤としては、光を吸収して熱を生じるものであればよく、光の照射に際しては光吸収剤が吸収する波長域の光を適宜用いればよい。光吸収剤の具体例としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラシアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ベンゾキノン系色素、ナフトキノン系色素、ジチオール金属錯体類、ジアミンの金属錯体類、ニグロシン等の各種色素、及びカーボンブラック等が挙げられる。
【0033】
これらの色素に於いては、明室での取り扱い性、露光機に用いる光源の出力や使い易さの点から波長750〜1100nmの領域の光を吸収する色素が好ましい。色素の吸収波長域に関しては置換基やπ電子の共役系の長さ等により変えることが出来る。これらの光吸収剤は感光性樹脂組成物に溶解していても、又分散していても良い。前記した光吸収剤の中では、本発明に於いては親水性の光吸収剤が好ましい。
【0034】
本発明では、親水性樹脂組成物にリン酸塩系界面活性剤を添加することが重要な特徴である。リン酸塩系界面活性剤を添加することにより感光層の親水性が向上するとともに、非画線部に付着したインキの脱離速度が向上する。リン酸塩系界面活性剤の添加による親水性及びインキ脱離性向上効果発現の理由は明らかではないが、リン酸塩部位の高い湿潤性により湿し水に対する濡れ性が高まるためと考えられる。リン酸塩系界面活性剤の添加により、親水性に優れPS版並みに水量を減らしても非画線部は地汚れせず、かつインキ脱離速度が速い現像工程不要なCTP用の版が得られる。
【0035】
本発明の感光層に用いられるリン酸塩系界面活性剤としては、日本乳化剤株式会社のAntox EHDTMシリーズや花王株式会社のペレックスTMSS、第一工業製薬株式会社のプライサーフTMシリーズ等が挙げられる。これらのリン酸塩系界面活性剤は1種単独でもよく、2種以上を混合して用いてもよい。また、他の界面活性剤を併用してもよい。他の界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤が挙げられる。また、感光性樹脂組成物の塗布性を良化するため、ハジキ防止剤、レベリング剤等の添加剤を添加しても良い。
【0036】
親水性樹脂組成物へのリン酸塩系界面活性剤の添加量は0.05〜5重量%であることが好ましく、さらに0.3〜3重量%であることが好ましい。添加量がこの範囲であれば、親水性及びインキ脱離性向上効果が現われ、耐刷性が悪化することがない。
【0037】
本発明の水に不溶性の親水性樹脂からなる感光層は、親水性ポリマー、架橋剤、光吸収剤及びリン酸塩系界面活性剤を含有する感光性樹脂組成物からなる溶液、あるいは親水性ポリマー、架橋剤、疎水性ポリマー、光吸収剤及びリン酸塩系界面活性剤を含有する感光性樹脂組成物からなる溶液を基板に塗布し、乾燥、硬化すればよい。塗布する方法としては塗布する溶液の粘度や塗布速度等によって異なるが、通常例えば、ロールコーター、ブレードコーター、グラビアコーター、カーテンフローコーター、ダイコーターやスプレー法等を用いれば良い。塗布溶液を塗布した後、加熱して乾燥及び親水性ポリマーの架橋を行う。加熱温度は通常50〜200℃程度である。
【0038】
本発明の平版印刷版は光吸収剤の吸収波長域の光、例えば750〜1100nmの領域の光を照射すると、光吸収剤が光を吸収して発熱する。この発熱により感光層の光照射部は、自己重合した架橋剤や疎水性ポリマーが発泡したり熱融着したりして親水性が失われ親インク化する。この際、光の照射量を大きくし過ぎたり、又光吸収剤を多量に添加し過ぎたりすると、感光層が分解、燃焼等によって除去、融除されてしまい、照射部の周辺に分解物が飛散するので、このようなことは避けなければならない。
【0039】
このように本発明の平版印刷版は光を照射した部分の感光層表面の親水性が親インク性に変化し、現像や拭き取り操作をしなくても光の照射部にはインクが付着し、印刷が可能となる。
【0040】
本発明の平版印刷版の光照射に際しては、照射速度の点から収束光を高速で走査するのが好ましく、使用し易い。また、光源としては高出力のものが適しており、この点から、照射する光としてはレーザー光、特に750〜1100nmの波長域の発振波長を有するレーザー光が好ましく、例えば830nmの高出力半導体レーザーや1064nmのYAGレーザーが好ましく用いられる。これらのレーザーを搭載した露光機は所謂サーマル用プレートセッター(露光機)として既に市場に供されている。
【0041】
【実施例】
[実施例1]
(親水性ポリマーP−1の合成)
1000ccのフラスコに水500gを入れ、窒素をバブリングして溶存酸素を除去した後、80℃に昇温した。窒素ガスを上記フラスコに流しながら、そこにアクリルアミド137.1g、アクリロイルモルホリン7.9g、2−ヒドロキシエチルアクリレート5g、水150g、ホスフィン酸ナトリウム一水和物0.3gからなるモノマー溶液と過硫酸カリウム1.5gを水100gに溶解した開始剤の水溶液を、内温を80℃に維持しながら、別々に2時間に渡り連続滴下した。滴下終了後80℃で3時間重合を続けた。最後に水100gを加え、親水性ポリマーP−1の15%水溶液を合成した。
【0042】
(平版印刷用の原版の作成)
接着性向上のため予めプライマーとして1μmの厚さのウレタン樹脂(三井化学(株)製ウレタン樹脂オレスターTMUD350)を塗布した厚さ0.3mmのアルミニウム板に、下記組成(単位重量部、以下同様)からなる感光性樹脂組成物の水溶液をワイヤーバーを用いて塗布した後、120℃で30分間乾燥し、2μmの膜厚の感光層を成膜して平版印刷版を作成した。
上記親水性ポリマーP−1の水溶液(固形分15重量%):400部
メチル化メラミン樹脂(三井サイテック(株)製サイメルTM701、固形分80重量%):50部
シアニン色素水溶液(日本感光性色素(株)製IR−125、固形分5重量%):100部
リン酸塩系界面活性剤(花王(株)製ペレックスTMSS−H、固形分50重量%):1部
【0043】
(描画)
この原版に波長830nmの半導体レーザー光を350mJ/cmの照射エネルギー密度となるように集光しながら走査照射して、200線/インチの画像情報の描画を行った。
【0044】
(印刷評価)
この描画した版をオフセット印刷機(株)小森コーポレーション製スプリント26にセットし、湿し水として(株)日研化学研究所のH液アストロマーク3の2%水溶液、インクとして東洋インキ製造(株)製のハイエコーTMSOYを使用して印刷を行った。その結果湿し水量は水量目盛りで6%まで減らしても光の未照射部にはインクが全く付かず、一方、照射部にはインクが十分に付着し、描画した画像が印刷用紙上に再現された。通常PS版を用いる場合、水量目盛り10〜20%で使用するため、3割以上の湿し水量削減ができた。また、印刷途中で湿し水量を3%まで下げると、光の未照射部にインキ汚れが発生したが、湿し水量を6%に戻すと25枚で汚れが回復した。
【0045】
[実施例2]
実施例1の親水性ポリマーをポリアクリルアミド水溶液(固形分15重量%)に代え、乾燥を120℃で2時間にした以外は実施例1と同様にして印刷版を作り、描画および印刷評価を行なったところ、湿し水量を水量目盛りで7%まで減らしても光の未照射部にはインクが全く付かず、一方、照射部にはインクが十分に付着し、描画した画像が印刷用紙上に再現された。また、印刷途中で湿し水量を4%まで下げると、光の未照射部にインキ汚れが発生したが、湿し水量を7%に戻すと60枚で汚れが回復した。
【0046】
[実施例3]
実施例1の感光性樹脂組成物を下記組成に代えた以外は実施例1と同様にして平版印刷版を作った。
上記親水性ポリマーP−1の水溶液(固形分15重量%):333部
メチル化メラミン樹脂(三井サイテック(株)製サイメルTM385、固形分80重量%):10部
水分散ウレタン樹脂(三井化学(株)製オレスターTMUD350、固形分40重量%):90部
シアニン色素水溶液(日本感光性色素(株)製IR−125、固形分5重量%):100部
リン酸塩系界面活性剤(第一工業製薬(株)製プライサーフTMA212E、固形分100重量%):1部
【0047】
この版に波長830nmの半導体レーザー光を250mJ/cmの照射エネルギー密度となるように集光しながら走査照射して、200線/インチの画像情報の描画を行い、印刷評価を行ったところ、湿し水量を水量目盛りで8%まで減らしても光の未照射部にはインクが全く付かず、一方、照射部にはインクが十分に付着し、描画した画像が印刷用紙上に再現された。また、印刷途中で湿し水量を5%まで下げると、光の未照射部にインキ汚れが発生したが、湿し水量を8%に戻すと70枚で汚れが回復した。
【0048】
[実施例4]
実施例3のプライサーフTMA212Eを日本乳化剤株式会社のAntox EHDTMPNA(固形分100重量%)に代えた以外は実施例3と同様にして印刷原版を作り、描画および印刷評価を行なったところ、湿し水量を水量目盛りで8%まで減らしても光の未照射部にはインクが全く付かず、一方、照射部にはインクが十分に付着し、描画した画像が印刷用紙上に再現された。また、印刷途中で湿し水量を5%まで下げると、光の未照射部にインキ汚れが発生したが、湿し水量を8%に戻すと75枚で汚れが回復した。
【0049】
【発明の効果】
本発明の平版印刷版を用いれば、現像や拭き取り等の工程が不要で、且つ湿し水の量を減らしても地汚れし難いとともに、非画線部に付着したインキの脱離速度が速いCTP用の版を提供することができる。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a printing plate, particularly to a lithographic printing plate using a fountain solution. More specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate that can be directly drawn on a plate with light and does not require a development step.
[0002]
[Prior art]
Lithographic printing, so-called offset printing, is the mainstream in printing on paper and is widely used. Conventionally, the printing plate used in this offset printing is to print the original on paper and then take a photograph of the original to create an underlay film, and expose and develop a photosensitive plate through this underlay film. It was made by doing.
[0003]
However, in recent years, the digitization of information and the increase in the output of the laser, without using the above-mentioned underlay film in the preparation of the printing plate, a method of creating a plate by scanning a laser and drawing directly on the printing plate, The so-called CTP (Computer To Plate) method has been put to practical use.
[0004]
As a CTP plate currently in practical use, there is a photopolymer type printing plate utilizing a photoreaction with visible light having a wavelength of about 500 nm. However, this plate not only requires development, but also has a high resolution. It is inferior and cannot be handled in a light room.
[0005]
In order to improve such problems, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-20629 discloses a lithographic printing plate utilizing a thermal reaction caused by light in the near-infrared region, and this plate has already been put on the market. Have been. This plate can be handled in a bright room and has excellent resolution, but still requires development processing.
[0006]
Thus, as a lithographic printing plate which does not require wet development, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 9-127683 discloses a plate in which self-dispersible resin particles are melted and fused in an exposed area to form an image. This plate is a printing plate in which the non-image area of the photosensitive layer can be removed with dampening water, so that it can be developed on a printing press and does not require a special developing machine. However, when it is developed on a printing machine, it has the drawback that not only the dampening solution and the ink are contaminated, but also strictness is required for humidity control during storage.
[0007]
As a lithographic printing plate that does not require wet development or on-press development, U.S. Pat. No. 3,476,937 has a hydrophilic resin layer containing hydrophobic thermoplastic resin fine particles that are independent and in contact with each other. A plate is disclosed in which hydrophobic thermoplastic resin particles are fused to change hydrophilicity. However, this plate has low sensitivity especially when drawing by light irradiation, and the hydrophilic resin layer has low strength and poor printing durability. Further, when the amount of the hydrophobic thermoplastic resin is increased in order to improve the ink-attaching property, there is a disadvantage that the background is stained.
[0008]
Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-1850 discloses a plate comprising a photosensitive layer containing microcapsules containing a lipophilic substance which reacts with a hydrophilic group in the hydrophilic resin. There is disclosed a technique for breaking a microcapsule to make a hydrophilic resin lipophilic. However, in this method, the particle size of the microcapsules must be made extremely small in order to increase the resolution and prevent background contamination, and it has been difficult to manufacture them. In addition, there is a disadvantage that high energy is required to break the microcapsules, and the sensitivity to light is poor.
[0009]
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 7-314934 discloses a plate having a constitution in which an ink repellent layer of a silicone resin is laminated on an inorganic light absorbing layer such as titanium or a titanium oxide, and is commercially available. In this version, the silicone resin layer repels the ink and becomes a non-image area, and an image area is formed by irradiation with near-infrared light.Since irradiation of the silicone resin layer alone does not remove the silicone resin layer, Requires a wiping operation to remove the silicone resin from the light-irradiated portion. When the wiping of the silicone resin is insufficient, the ink does not sufficiently adhere to the irradiated portion, and a defect occurs in the image portion, so that printing cannot be performed well.
[0010]
Thus, the present inventors have developed a photosensitive resin composition comprising a hydrophilic polymer, a crosslinking agent and a light absorbing agent, or a hydrophilic resin obtained by crosslinking a photosensitive resin composition comprising a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a light absorbing agent and a hydrophobic polymer. A plate for lithographic printing, comprising a photosensitive resin photosensitive layer and having a surface changed from hydrophilic to ink-friendly upon irradiation with light, is disclosed in WO 01/083234. This plate does not require development and wiping operations, and changes only the surface of the light-irradiated portion, so that the plate is excellent in sensitivity and resolution, but further improvement in printing performance is desired.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
An object of the present invention is to provide a CTP lithographic plate which is sensitive to light in the near-infrared region, can be handled in a bright room, does not require development and wiping operations, and is hardly soiled even when the amount of dampening water is reduced. To provide a printing plate.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted intensive studies and found that a hydrophilic resin, a hydrophilic resin photosensitive layer formed by crosslinking a photosensitive resin composition comprising a crosslinking agent and a light absorbing agent, or a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a light absorbing agent and In a lithographic printing plate precursor having a hydrophilic resin photosensitive layer formed by cross-linking a photosensitive resin composition composed of a hydrophobic polymer, the above object is achieved by adding a phosphate surfactant to the hydrophilic resin photosensitive layer. They have found that this can be achieved and arrived at the present invention. That is, the present invention is as follows.
[0013]
The lithographic printing plate unnecessary for the development step according to the present invention is irradiated with light by irradiating an original plate having a hydrophilic resin photosensitive layer obtained by crosslinking a photosensitive resin composition comprising a hydrophilic polymer, a crosslinking agent and a light absorbing agent. A lithographic printing plate obtained by changing the hydrophilicity of the surface of the part to ink-philicity, characterized in that the hydrophilic resin photosensitive layer contains a phosphate-based surfactant.
[0014]
It is a preferred embodiment of the lithographic printing plate of the present invention that the photosensitive resin composition contains a hydrophobic polymer.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the planographic printing plate of the invention will be described in detail. In the lithographic printing plate of the present invention, a photosensitive layer comprising a water-insoluble hydrophilic resin is provided on a substrate. Specific examples of the substrate used at this time include a metal plate such as an aluminum plate, a steel plate, a stainless steel plate, and a copper plate; a plastic film or paper such as polyester, nylon, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, and ABS resin; an aluminum foil laminated paper; Evaporated paper, plastic film laminated paper and the like can be mentioned. The thickness of these substrates is not particularly limited, but is usually about 100 to 400 μm. In addition, these substrates may be subjected to a surface treatment such as an oxidation treatment, a chromate treatment, a sand blast treatment, a corona discharge treatment or the like for improving the adhesion.
[0016]
Next, the photosensitive layer comprising a hydrophilic resin insoluble in water of the present invention will be described in detail. The lithographic printing plate of the present invention is a non-developing type plate for offset printing using dampening solution, and is a non-image portion except for a light-irradiated portion of the photosensitive layer. Therefore, the photosensitive layer of the present invention needs to be hydrophilic and not soluble in water. The light-irradiated portion of the photosensitive layer is not removed by ablation, and the hydrophilicity of the photosensitive layer changes to ink-philicity. Therefore, the plate of the present invention does not require development, wiping, or the like after light irradiation.
In order to realize the above-described change in properties, the photosensitive layer of the present invention is a photosensitive resin composition containing a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a light absorber and a phosphate surfactant, Alternatively, it is preferable to crosslink a photosensitive resin composition containing a hydrophilic polymer, a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, a light absorber and a phosphate-based surfactant. The hydrophilic polymer becomes insoluble in water by crosslinking.
[0017]
The hydrophilic polymer used in the photosensitive layer of the present invention has a hydrophilic group and a functional group that reacts with a crosslinking agent (crosslinking functional group). Examples of the hydrophilic group of the hydrophilic polymer include, for example, a hydroxyl group, an amide group, an amino group, a sulfonamide group, an oxymethylene group, an oxyethylene group, and an acid group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, and a phosphonic acid group. Examples thereof include alkali metal salts and amine salts of acidic groups.
[0018]
Examples of the crosslinking functional group include a hydroxyl group, an amide group, an amino group, an isocyanate group, a glycidyl group, an oxazoline group, a methylol group, and a methoxymethyl group and a butoxymethyl group in which a methylol group is condensed with an alcohol such as methanol or butanol. And acidic groups such as a carboxyl group, a sulfonic acid group and a phosphonic acid group, and alkali metal salts and amine salts of these acidic groups.
[0019]
More specific examples of the hydrophilic polymer include the following water-soluble polymers. That is, celluloses, gelatin, the above-mentioned unsaturated acid having a hydrophilic group or a cross-linking functional group and derivatives thereof, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, vinyl acetate, vinyl ether, and the like are polymerized or copolymerized. A polymer and a hydrolyzed polymer of this polymer.
[0020]
Specific examples of the unsaturated acid having a hydrophilic group or a cross-linking functional group and derivatives thereof include hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, and hydroxypropyl ( (Meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, methylol (meth) acrylamide, and methoxymethyl (meth) acrylamide which is a condensate of methylol (meth) acrylamide with methyl alcohol or butyl alcohol And butoxymethyl (meth) acrylamide.
[0021]
Examples of the unsaturated acid derivative having an amide group include unsubstituted or substituted (meth) acrylamide, unsubstituted or substituted itaconic amide, unsubstituted or substituted fumaric amide, unsubstituted or substituted phthalamide, N-vinylacetamide, -Vinylformamide and the like. More specific examples of unsubstituted or substituted (meth) acrylamide include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-ethyl (meth) acrylamide, N, N- Diethyl (meth) acrylamide, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, methylol (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethyl (meth) ) Acrylamide, propyl sulfonate (meth) acrylamide, (meth) acryloylmorpholine and the like. In the case of a dibasic acid amide such as the aforementioned itaconic acid amide, a monoamide in which one carboxyl group is amidated may be used, or a diamide in which both carboxyl groups are amidated. Further, examples of unsaturated acid derivatives having a glycidyl group include glycidyl (meth) acrylate, paravinylphenyl glycidyl ether and the like.
[0022]
Examples of the unsaturated acid having a carboxyl group include monobasic unsaturated acids such as (meth) acrylic acid, dibasic unsaturated acids such as itaconic acid, fumaric acid, maleic acid and anhydride thereof, and dibasic unsaturated acids such as Monoester, monoamide and the like can be mentioned.
[0023]
Examples of the unsaturated acid having a sulfonic acid group include sulfoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamidomethylpropanesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylmethylsulfonic acid, isopropenylmethylsulfonic acid, and (meth) acrylic acid. Sulfuric acid esters of alcohols to which ethylene oxide or propylene oxide is added, (meth) acryloyloxyethylsulfonic acid, esters of monoalkylsulfosuccinates with compounds having an allyl group, monoalkylsulfosuccinates and glycidyl (meth) acrylate Examples of the polymerizable unsaturated monomer having a phosphonic acid group include vinyl phosphoric acid, mono (2-hydroxyethyl) (meth) acrylate phosphate, and mono (2-hydroxyethyl phosphate) monoalkyl phosphate. ) (Meth) acrylate.
[0024]
These carboxyl groups, sulfonic groups and phosphonic groups may be neutralized with alkali metals, alkaline earth metals or amines. As alkali metals used for neutralization, sodium, potassium, lithium, etc., as alkaline earth metals, calcium, magnesium, etc., and as amines, ammonia, methylamine, dimethylamine, trimethylamine, ethylamine, diethylamine , Triethylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine and the like.
[0025]
Upon polymerization, a monomer copolymerizable with the above-described unsaturated acid and its derivative may be used in combination. Examples of the copolymerizable monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, and benzyl ( Examples thereof include (meth) acrylate, isopolonyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, and vinyl acetate. In the above description, (meth) acrylamide, (meth) acrylic acid, etc., (meth) acrylic, (meth) acryloyl, and further (meth) acrylate etc. are acryl or methacryl, acryloyl or methacryloyl, respectively. Means acrylate or methacrylate.
[0026]
The crosslinking agent used to crosslink the hydrophilic polymer of the present invention improves the printing durability of the hydrophilic resin photosensitive layer by making the hydrophilic polymer insoluble in water by performing a crosslinking reaction with the hydrophilic polymer. Any known polyhydric alcohol compounds and polycarboxylic acids that can react with a hydroxyl group, a carboxyl group, a sulfonic group, a glycidyl group, and in some cases, an amide group, which are crosslinkable functional groups in a hydrophilic polymer, may be used. Examples include acid compounds and anhydrides thereof, polyvalent glycidyl compounds, polyvalent amines, polyvalent isocyanate compounds and blocked isocyanate compounds, epoxy resins, oxazoline resins, amino resins and the like.
[0027]
In the present invention, among the crosslinking agents described above, from the viewpoint of the balance between the crosslinking rate and the stability of the photosensitive resin composition and the hydrophilicity and water resistance of the photosensitive layer, aqueous epoxy resins, oxazoline resins, amino resins, aqueous blocks Isocyanate compounds are preferred. Examples of the amino resin include a melamine resin, a urea resin, a benzoguanamine resin, a glycoluril resin, and the like, and modified resins of these resins, such as a carboxy-modified melamine resin. In order to accelerate the crosslinking reaction, tertiary amines are used when the above-mentioned epoxy resin is used, and acidic compounds such as paratoluenesulfonic acid, alkylbenzenesulfonic acid, and ammonium chloride are used together when using the amino resin. May be.
[0028]
The main role of the cross-linking agent is to cross-link the hydrophilic polymer to make the hydrophilic polymer insoluble in water.However, when the cross-linking agent has self-polymerizability, the cross-linking agent is used in the photosensitive layer. When a polymer island phase is formed in the hydrophilic polymer, and the light absorber in the photosensitive layer absorbs light and converts light energy to heat energy, the generated heat causes the island phase to foam, thereby causing light irradiation. It also includes changing the hydrophilicity of the surface of the part to ink-philicity.
[0029]
In the photosensitive resin composition of the present invention, it is also preferable to use a hydrophobic polymer so that the hydrophilicity of the surface of the irradiated portion is easily changed to ink-philicity by light irradiation. As the hydrophobic polymer, a water-dispersed hydrophobic resin having an average particle size of 0.005 to 0.5 μm as measured by a dynamic light scattering method is used in consideration of the sensitivity of a plate, the easiness of forming an ink-friendly ink upon light irradiation, and the like. The average particle diameter is more preferably 0.01 to 0.2 μm. Water-dispersed hydrophobic resin means a hydrophobic polymer in which fine hydrophobic polymer particles and, if necessary, a protective agent covering the particles are dispersed in an aqueous liquid, and an unsaturated monomer is subjected to emulsion polymerization or suspension polymerization. Hydrophobic polymer, especially a hydrophobic polymer having an acidic group, or an organic solvent solution of the polymer is neutralized with an acidic group if necessary, or a hydrophobic stabilizer dispersed in water by adding a dispersion stabilizer. And a hydrophobic polymer obtained by distilling off the organic solvent if necessary. More specifically, examples of the water-dispersed hydrophobic resin include vinyl polymer-based latex, conjugated diene polymer-based latex, acrylic latex, water-dispersed polyurethane resin, water-dispersed polyester resin, and water-dispersed epoxy resin.
[0030]
The role of the water-dispersed hydrophobic resin is that the water-dispersed hydrophobic resin is formed as an island phase in the hydrophilic polymer in the photosensitive layer, and the light absorber in the photosensitive layer absorbs light to convert light energy into heat energy. It is presumed that, when converted to water, the generated heat causes the water-dispersed hydrophobic resin in the island phase to melt and fuse, thereby changing the hydrophilicity of the surface of the light-irradiated portion to ink-philicity. In order to efficiently change the ink-philicity due to the fusion / fusion, it is preferable that the average particle diameter of the water-dispersed hydrophobic resin is 0.005 to 0.5 μm as described above. When the particle size is within the above range, the generated heat easily melts and fuses the hydrophobic resin, and thus the sensitivity is excellent.
[0031]
When the water-dispersed hydrophobic resin is used in the photosensitive layer of the present invention, it is preferable that the amount of the hydrophobic polymer is large from the viewpoint of making the light-irradiated portion more ink-friendly. From this point, the amount of the hydrophobic polymer in the photosensitive resin composition in the present invention is preferably 70% by weight or less as a solid content.
[0032]
The light absorbing agent used in the photosensitive layer of the present invention may be any as long as it absorbs light and generates heat. When irradiating light, light in the wavelength range that the light absorbing agent absorbs may be used as appropriate. Specific examples of the light absorber include a cyanine dye, a polymethine dye, a phthalocyanine dye, a naphthalocyanine dye, an anthocyanin dye, a porphyrin dye, an azo dye, a benzoquinone dye, a naphthoquinone dye, and a dithiol metal complex. , Metal complexes of diamines, various dyes such as nigrosine, and carbon black.
[0033]
Among these dyes, dyes that absorb light in the wavelength range of 750 to 1100 nm are preferred from the viewpoints of handling in a bright room, output of a light source used in an exposure machine, and ease of use. The absorption wavelength range of the dye can be changed depending on the length of the substituent, the conjugated system of π electrons, and the like. These light absorbers may be dissolved or dispersed in the photosensitive resin composition. Among the above light absorbers, hydrophilic light absorbers are preferred in the present invention.
[0034]
In the present invention, it is an important feature to add a phosphate surfactant to the hydrophilic resin composition. By adding a phosphate-based surfactant, the hydrophilicity of the photosensitive layer is improved, and the desorption speed of the ink attached to the non-image area is improved. Although the reason for the effect of improving the hydrophilicity and the ink releasability by the addition of the phosphate-based surfactant is not clear, it is considered that the high wettability of the phosphate portion increases the wettability with fountain solution. By adding a phosphate-based surfactant, a non-image area is not stained even if the amount of water is reduced as much as a PS plate, and the ink removal rate is high. can get.
[0035]
The phosphate-based surfactant used in the photosensitive layer of the present invention, include PELEX TM SS of Antox EHD TM series and Kao Corporation of Japan Emulsifier Co., Plysurf TM series such as the Dai-ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd. Can be These phosphate surfactants may be used alone or in a combination of two or more. Further, another surfactant may be used in combination. Other surfactants include anionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants. Further, in order to improve the applicability of the photosensitive resin composition, additives such as an anti-cissing agent and a leveling agent may be added.
[0036]
The amount of the phosphate-based surfactant added to the hydrophilic resin composition is preferably 0.05 to 5% by weight, and more preferably 0.3 to 3% by weight. When the amount is within the above range, the effect of improving hydrophilicity and ink releasability appears, and the printing durability does not deteriorate.
[0037]
The photosensitive layer made of the water-insoluble hydrophilic resin of the present invention may be a solution made of a photosensitive resin composition containing a hydrophilic polymer, a crosslinking agent, a light absorber and a phosphate-based surfactant, or a hydrophilic polymer. A solution composed of a photosensitive resin composition containing a cross-linking agent, a hydrophobic polymer, a light absorber and a phosphate-based surfactant may be applied to a substrate, dried and cured. The method of coating varies depending on the viscosity of the solution to be coated, the coating speed, and the like. Usually, for example, a roll coater, a blade coater, a gravure coater, a curtain flow coater, a die coater, a spray method, or the like may be used. After applying the coating solution, the coating solution is heated to dry and crosslink the hydrophilic polymer. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C.
[0038]
When the planographic printing plate of the invention is irradiated with light in the absorption wavelength range of the light absorbing agent, for example, light in the range of 750 to 1100 nm, the light absorbing agent absorbs the light and generates heat. Due to this heat generation, the self-polymerized cross-linking agent or hydrophobic polymer is foamed or heat-fused in the light-irradiated portion of the photosensitive layer to lose hydrophilicity and become ink-friendly. At this time, if the light irradiation amount is too large or too much light absorbing agent is added, the photosensitive layer is removed or ablated by decomposition, burning, etc., and decomposed products around the irradiated part. This must be avoided as it will scatter.
[0039]
Thus, in the lithographic printing plate of the present invention, the hydrophilicity of the surface of the photosensitive layer irradiated with light changes to ink-philicity, and the ink adheres to the light-irradiated portion without performing development or wiping operation, Printing becomes possible.
[0040]
When irradiating the lithographic printing plate of the present invention with light, it is preferable to scan convergent light at high speed from the viewpoint of irradiation speed, and it is easy to use. In addition, a high-power light source is suitable as the light source. In this respect, a laser beam, particularly a laser beam having an oscillation wavelength in a wavelength range of 750 to 1100 nm, is preferable as the irradiation light. Or a 1064 nm YAG laser is preferably used. Exposure machines equipped with these lasers are already on the market as so-called thermal plate setters (exposure machines).
[0041]
【Example】
[Example 1]
(Synthesis of hydrophilic polymer P-1)
After 500 g of water was put into a 1000 cc flask, dissolved oxygen was removed by bubbling nitrogen, and the temperature was raised to 80 ° C. While flowing nitrogen gas into the flask, 137.1 g of acrylamide, 7.9 g of acryloylmorpholine, 5 g of 2-hydroxyethyl acrylate, 150 g of water, 0.3 g of sodium phosphinate monohydrate and potassium persulfate were added thereto. An aqueous solution of an initiator in which 1.5 g was dissolved in 100 g of water was continuously dropped separately over 2 hours while maintaining the internal temperature at 80 ° C. After completion of the dropwise addition, polymerization was continued at 80 ° C. for 3 hours. Finally, 100 g of water was added to synthesize a 15% aqueous solution of the hydrophilic polymer P-1.
[0042]
(Preparation of an original plate for lithographic printing)
To improve adhesion, a 0.3 mm-thick aluminum plate previously coated with a urethane resin having a thickness of 1 μm (urethane resin OLESTER UD350 manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) as a primer was coated with the following composition (unit weight parts, An aqueous solution of the photosensitive resin composition comprising the same was applied using a wire bar, and then dried at 120 ° C. for 30 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 2 μm to prepare a lithographic printing plate.
Aqueous solution of the above hydrophilic polymer P-1 (solid content 15% by weight): 400 parts methylated melamine resin (Cymel TM 701 manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., solid content 80% by weight): 50 parts Cyanine dye aqueous solution (Nihon Sensenko) Dye Co., Ltd. IR-125, solid content 5% by weight): 100 parts Phosphate-based surfactant (Kao Corporation Perex TM SS-H, solid content 50% by weight): 1 part
(drawing)
The original plate was scanned and irradiated with a semiconductor laser beam having a wavelength of 830 nm so as to have an irradiation energy density of 350 mJ / cm 2 to draw 200 lines / inch of image information.
[0044]
(Print evaluation)
The drawn plate is set on a sprint 26 manufactured by Komori Corporation, an offset printing machine. A 2% aqueous solution of Astro Mark 3 of Liquid H from Niken Chemical Laboratory Co., Ltd. is used as a dampening solution, and Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd. is used as an ink. The printing was performed using Hi-Echo TM SOY manufactured by Suzuki. As a result, even if the dampening water volume is reduced to 6% on the water volume scale, no ink is applied to the unirradiated area, while the ink is sufficiently attached to the irradiated area, and the drawn image is reproduced on the printing paper. Was done. In the case of using a normal PS plate, the amount of dampening water can be reduced by 30% or more because the water plate is used at a water volume scale of 10 to 20%. In addition, when the dampening water amount was reduced to 3% during printing, ink stains occurred in the non-irradiated portions. However, when the dampening water amount was returned to 6%, the stain was recovered on 25 sheets.
[0045]
[Example 2]
A printing plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that the hydrophilic polymer in Example 1 was replaced with an aqueous solution of polyacrylamide (solid content: 15% by weight) and drying was performed at 120 ° C. for 2 hours, and drawing and print evaluation were performed. However, even if the dampening water volume was reduced to 7% on the water volume scale, no ink was applied to the non-irradiated portions, while the ink was sufficiently attached to the irradiated portions, and the drawn image was printed on the printing paper. Was reproduced. In addition, when the dampening water amount was reduced to 4% during printing, ink stains occurred in the non-light-irradiated portions. However, when the dampening water amount was returned to 7%, the stain was recovered on 60 sheets.
[0046]
[Example 3]
A lithographic printing plate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the photosensitive resin composition of Example 1 was changed to the following composition.
Aqueous solution of the above hydrophilic polymer P-1 (solid content 15% by weight): 333 parts Methylated melamine resin (Cymel TM 385 manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., solid content 80% by weight): 10 parts Water-dispersed urethane resin (Mitsui Chemicals) Orester TM UD350, manufactured by Co., Ltd., solid content: 40% by weight): 90 parts of cyanine dye aqueous solution (IR-125, manufactured by Nippon Kogaku Dye Co., Ltd., solid content of 5% by weight): 100 parts of phosphate-based surfactant (Plysurf TM A212E manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., solid content 100% by weight): 1 part
This plate was scanned and irradiated with a semiconductor laser beam having a wavelength of 830 nm while being condensed so as to have an irradiation energy density of 250 mJ / cm 2 , and image information of 200 lines / inch was drawn. Even when the dampening water volume was reduced to 8% on the water volume scale, no ink was applied to the non-irradiated portion, while the ink was sufficiently attached to the irradiated portion, and the drawn image was reproduced on the printing paper. . Further, when the dampening water amount was reduced to 5% during printing, ink stains occurred in the non-irradiated portions. However, when the dampening water amount was returned to 8%, the stain was recovered on 70 sheets.
[0048]
[Example 4]
A printing original plate was prepared in the same manner as in Example 3 except that Plysurf TM A212E of Example 3 was replaced with Antox EHD PNA (solid content: 100% by weight) of Nippon Emulsifier Co., Ltd., and drawing and print evaluation were performed. Even if the dampening water volume is reduced to 8% on the water volume scale, no ink is applied to the unirradiated portion, while the ink is sufficiently attached to the irradiated portion, and the drawn image is reproduced on the printing paper. Was. Also, when the dampening water amount was reduced to 5% during printing, ink stains occurred in the unirradiated portions, but when the dampening water amount was returned to 8%, the stain was recovered on 75 sheets.
[0049]
【The invention's effect】
If the planographic printing plate of the present invention is used, steps such as development and wiping are not required, and the amount of dampening water is not easily reduced even when the amount of dampening water is reduced, and the detachment speed of the ink attached to the non-image area is high. A version for CTP can be provided.

Claims (2)

親水性ポリマー、架橋剤及び光吸収剤からなる感光性樹脂組成物を架橋してなる親水性樹脂感光層を有する原版に光照射して、照射部表面の親水性を親インク性に変化させて得られる平版印刷版において、親水性樹脂感光層中にリン酸塩系界面活性剤を含有することを特徴とする平版印刷版。By irradiating light to an original plate having a hydrophilic resin photosensitive layer formed by crosslinking a photosensitive resin composition comprising a hydrophilic polymer, a cross-linking agent and a light absorbing agent, to change the hydrophilicity of the irradiated portion surface to ink-philicity. The planographic printing plate obtained, wherein the hydrophilic resin photosensitive layer contains a phosphate-based surfactant. 前記感光性樹脂組成物が疎水性ポリマーを含んでなることを特徴とする請求項1に記載の平版印刷版。The lithographic printing plate according to claim 1, wherein the photosensitive resin composition comprises a hydrophobic polymer.
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