JP2004273155A - Rotary electrical component - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a rotary electrical component in which the sliding lifetime of a slider can be prolonged at a low cost. <P>SOLUTION: The conductive part 3 of a fixed contact side is crystalline Ni-plated, and its surface is further Ag-plated. The surface of a sliding part 5a of a movable contact side is amorphous Ni-P-plated or Ni-B-plated, and its surface is further amorphous Pd-P-plated. Since the amorphous Pd-P-plating of the movable contact side is harder in hardness than the Ag-plating of the fixed contact side, the sliding lifetime of the slider 5a can be prolonged. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、可動接点が固定接点上を摺動する回転型電気部品に係わり、特に電気的・機械的な摺動寿命を低コストで延ばせるようにした回転型電気部品に関する。
【0002】
【従来の技術】
この種の発明に関連する従来技術としては、例えば特許文献1に記載されたものが存在する。
【0003】
前記特許文献1には、摺動体と被摺動体の表面をNi−P合金の15原子%から25原子%のリンを含有する非晶質被膜とした非晶質メッキ層を形成することにより、被摺動体の耐磨耗性及び耐食性を改善して電気的・機械的な摺動寿命を長くした自動車用電気部品に関する発明が記載されている。
【0004】
また前記特許文献1には、被摺動体側に非晶質メッキ層を施すことが記載され、また摺動体側に非晶質メッキ層を施す場合にはブラシ自体に非晶質メッキ層を形成すればよいと記載されている。
【0005】
【特許文献1】
特公平6−14482号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、被摺動体および摺動体の表面を同種の非晶質メッキとすると、両者の間が擬着しやすくなるという問題がある。しかも非晶質のNi−Pメッキそのものは硬いものの、同種の金属どうしが摺動し合うとその強度を十分に発揮できなくなるため、特に被摺動体の表面を常時摺動している摺動体の摺動寿命が短くなりやすいという問題がある。
【0007】
また、Niを含むメッキ層の表面は酸化が起きやすいため、接触抵抗が増大しやすくなるという問題もある。
【0008】
さらに、特許文献1記載にものでは、リンの含有量が15原子%以上、すなわち8.5wt%以上と高いため、導電抵抗が高いという問題もある。
【0009】
本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、被摺動体(固定接点)の表面を摺動子(可動接点)が摺動する回転型電気部品において、特に摺動子の耐摩耗性を向上させ摺動寿命を低コストで延ばせるようにした回転型電気部品を提供することを目的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】
本発明は、第1の導電体の表面に第1の保護層が形成された固定接点と、第2の導電体の表面に第2の保護層を有し且つ前記第1の保護層の表面を摺動する可動接点と、を備えた回転型電気部品において、
前記第1の保護層が結晶性のNiで形成された第1の下地層と、前記第1の下地層の表面にAgメッキが施された第1の表面層とで形成されており、前記第2の保護層がNiを含む非晶質メッキからなる第2の下地層と、前記第2の下地層の表面に設けられた導電性の第2の表面層とで形成されていることを特徴とするものである。
【0011】
上記において、前記第2の下地層の非晶質メッキが、Ni−PメッキまたはNi−Bメッキで形成されているものが好ましく、また前記第2の表面層が、非晶質Pd−PメッキまたはAgメッキで形成されているものが好ましい。
【0012】
さらには前記第1の下地層が、NiメッキまたはNiクラッド材で形成されているものが好ましい。
【0013】
前記第2の導電体が、りん青銅、洋白、ベリリウム銅のいずれか1種で形成されているものである。
【0014】
さらに上記においいて、前記Ni−Pメッキは、Pの含有量が8wt%以上10wt%以下であり、その膜厚が1.0μm以上3.0μm以下であるものが好ましい。また前記Ni−Bメッキは、Bの含有量が0.1wt%以上1.0wt%以下であり、その膜厚が0・1μm以上3.0μm以下であるものが好ましく、特に1.0μm以上3.0μm以下の場合がより好ましい。
【0015】
さらに、前記Pd−Pメッキは、Pの含有量が2.0wt%以上5.0wt%以下であり、その膜厚が0.5μm以上1.0μm以下であるものが好ましい。
【0016】
あるいは、前記第2の表面層を形成するAgメッキの膜厚が、1.0μm以上2.0μm以下である。
【0017】
【発明の実施の形態】
図1は本発明の実施の形態として回転型電気部品の主要部の分解斜視図、図2は回転型電気部品の筺体と回転体とを示す図1のA−A線における断面図、図3は図1のB方向からの矢視平面図、図4は本発明の主要部を示し、可動接点である摺動子と固定接点である導体部との拡大断面図である。
【0018】
図1に示す回転型電気部品1はロータリーエンコーダを示しており、絶縁材である合成樹脂の成型品からなる筺体2と合成樹脂の成型品からなる回転体4を有している。
【0019】
前記筺体2の中心部には図示上下方向に貫通する中空部2aを有する円筒状の筒部2bが設けられている。また前記筒部2bの基部から径方向の外方に延びる底部2cが設けられ、この底部2cの外周部から上方に延びる四角状の側部2dが一体に形成されている。前記底部2cは、前記側部2dと筒部2bとの間に形成された凹部からなるリング状の収納部を形成している。
【0020】
図2および図3に示すように、筺体2の底部2cには導電部(固定接点)3(個別に3a,3b,3cで示す)が埋設された状態で設けらている。前記導電部3aは円弧形状をしており、その一部は前記側部2dから外方に突出されると共に下方に折り曲げられた端子部3a1を形成している。図3に示すものでは、導電部3bが底部2c内に周方向に所定の間隔を置いて間欠的に形成された4つの島から形成されている。個々の導電部3bは、底部2cに埋設された部分において電気的に連結され全て同電位に設定されている。そして、導電部3bの一部は前記端子部3a1の左隣の位置にて前記側部2dから外方に突出されると共に下方に折り曲げられた端子部3b1を形成している。同様に、導電部3cも前記底部2c内に電気的に連結された4つの島から形成されており、その一部は前記端子部3a1の右隣の位置にて前記側部2dの外方に突出された端子部3c1を形成している。
【0021】
一方、図1および図2に示すように、回転体4の中央部には円筒状の軸部4aが設けられ、この軸部4aの基部の周囲にはリング状のフランジ部4bが形成されている。前記フランジ部4bの表面には凹凸部4cが形成され、また図2に示すように前記フランジ部4bの底面には図示下方に突出する複数の凸部4dが形成されている。
【0022】
図2に示すように、前記フランジ部4bの下部にはリング状に形成された金属製の板バネ5が設けられている。前記板バネ5は前記複数の凸部4dの先端を熱カシメする等して、回転体4の底面に一体に取り付けられている。前記板バネ5の下面には、図示下方に凸状に突出する3ヶの摺動子(可動接点)5a,5b,5c(5cは図示せず)がプレス加工などによって形成されている。なお、前記3ヶの摺動子5a,5b,5cは、前記リング状の板バネ5の底面に互いに所定の中心角度を隔てて形成されている。
【0023】
前記板バネ5が設けられた回転体4は、前記軸部4a内に筐体2の筒部2bが挿通され、フランジ部4bと板バネ5が前記底部2c内に収納されて、筺体2に対し回転自在に取り付けられる。なお、摺動子5a,5b,5cは板バネ5の弾性力によって、前記底部2cを弾圧している。
【0024】
このとき、前記摺動子5a,5b,5cのいずれか1つが前記導電部3aに接触するとともに、残りの2つの摺動子のうち一方の摺動子が導電部3bまたは3cのいずれかの島に接触し、他方の摺動子は導電部3bまたは3cを形成する島と島との間の底部2cに接触するようになっている。
【0025】
例えば、摺動子5aが導電部3aに接触し、摺動子5bが導電部3bのいずれかの島に接触しているときには、残りの摺動子5cは導電部3cを形成する島と島の間の非導電部である底部2cに位置している。そして、回転体4を例えば時計周り方向にわずかに回転させると、摺動子5aと導電部3aとの接触状態は維持されるが、一方の摺動子5bは導電部3bを形成する島と島の間の底部2cに至り、他方の摺動子5cが導電部3cを形成するいずれかの島に接触するようになる。そして、さらに回転体4が時計周り方向に回転させられ、摺動子5aが導電部3aから外れようとすると、今度は摺動子5cが導電部3aに接触するようになり、常に導電部3aは摺動子5a、5b,5cいずれか1つと接触する状態が維持され、残りの2つの摺動子は上記の関係が維持されるようになっている。
【0026】
すなわち、回転体4を時計周り方向または反時計周り方向に回転させると、前記導電部3bに接触しているいずれかの摺動子と、前記導電部3cに接触しているいずれかの摺動子との間に位相差が生じるようになっている。
【0027】
このため、前記端子部3a1を共通電極としてグランド電位に接地しておき、残りの端子部3b1および3c1に所定の電圧を印加した状態において、前記回転体4を時計周り方向または反時計周り方向に回転させると、端子部3b1および端子部3c1から位相の異なるパルス信号が出力されるようになっている。そして、前記端子部3b1から出力されるパルス信号と前記端子部3c1から出力されるパルス信号から、回転体4の回転方向と回転速度などを検出することが可能となっている。
【0028】
次に、摺動子(可動接点)と導電部(固定接点)との関係について説明する。図4に示すように、固定接点である導電部3(導電部3a,3b,3c)は、例えばりん青銅、洋白などの導電性金属板(第1の導電体)3Aから形成されている。前記導電性金属板3Aの表面には第1の下地層3Bが形成され、さらにその表面には第1の表面層3Cが形成されている。前記第1の下地層3Bと第1の表面層3Cは、導電性金属板3Aの表面を保護する第1の保護層として機能している。
【0029】
前記第1の下地層3Bは、導電性金属板3Aの酸化または硫化あるいは粒界腐食等を防ぐことを目的とするものであり、例えば導電性金属板3Aの表面にNiを電気化学的に析出(電着)させる電気メッキ法により形成された結晶性のNiメッキである。あるいは、薄いNi平板を加圧接着や圧延によって合わせ板にしたNiクラッド材で形成されていてもよい。また第1の表面層3Cは、前記第1の下地層3Bを形成するNiの表面の酸化を防ぐことを目的とするものであり、例えば電気メッキ法により形成されたAgメッキなどである。
【0030】
一方、可動接点である前記摺動子5a,5b,5c(図4では摺動子5aのみ)は、少なくとも銅を含むとともにバネ性を有する金属、例えばりん青銅、洋白、あるいはベリリウム銅などの導電性金属(第2の導電体)5Aから形成されている。前記導電性金属5Aの表面には第2の下地層(下地メッキ)5Bが形成され、さらにその表面には第2の表面層(表層メッキ)5Cが形成されている。前記第2の下地層5Bと第2の表面層5Cは、導電性金属5Aの表面を保護する第2の保護層として機能している。
【0031】
前記可動接点(摺動子)側の第2の下地層5Bは、以下に示す無電解メッキ浴で導電性金属5Aの表面に非晶質のNi−PメッキまたはNi−Bメッキを施したものである。
【0032】
すなわち、前記Ni−Pメッキを施す無電解メッキ浴は、硫酸ニッケル(30g/リットル)、ホスフィン酸ナトリウム(10g/リットル)、酢酸ナトリウム(10g/リットル)およびpH調整剤(適当量)を含む水溶液(pH=4〜6、90℃)からなり、前記導電性金属5Aの表面に8wt%以上10wt%以下の範囲のリン(P)を含有するNi−P合金の非晶質被膜を、所定の膜厚(表1参照)で析出させたものである。
【0033】
また前記Ni−Bメッキを施す無電解メッキ浴は、硫酸ニッケル(30g/リットル)、マロン酸ナトリウム(34g/リットル)、ホウ酸(30g/リットル)、塩化アンモニウム(30g/リットル)、ジメチルアミンボラン(3.4g/リットル)およびpH調整剤(適当量)を含む水溶液(pH=5〜7、60℃)からなり、前記導電性金属5Aの表面に0.1wt%以上1.0wt%以下の範囲のボロン(B)を含有するNi−B合金の非晶質被膜を、所定の膜厚(表1参照)で析出させたものである。
【0034】
一方、可動接点(摺動子)側の第2の表面層5Cは、以下に示す無電解メッキ浴で前記第2の下地層5B(下地メッキ)の表面に非晶質のPd−Pメッキを形成したもの、あるいはAgメッキを施したものである。
【0035】
すなわち、非晶質のPd−Pメッキを施す無電解メッキ浴は、塩化パラジウム(0.01モル/リットル)、エチレンジアミン(0.08モル/リットル)、ホスフィン酸ナトリウム(0.06モル/リットル)、チオジグリコール酸(0.03g/リットル)およびpH調整剤(適当量)を含む水溶液(pH=6〜8、50℃)からなり、前記第2の下地層5Bの表面に2wt%以上5wt%以下の範囲でリン(P)を含有するPd−P合金の非晶質被膜を、膜厚0.5μm以上1.0μm以下の範囲で析出させたものである。
【0036】
また第2の表面層5CがAgメッキである場合には、銀イオンや銀錯イオンを含む電解質に直流又はパルス電流を流し(電気メッキ法)、陰極となる前記第2の下地層5Bの表面に結晶質の金属銀を膜厚1.0μm以上2.0μmの範囲で析出させたものである。
【0037】
上記の方法で生成した可動接点と固定接点との耐磨耗性試験の結果を表1に示す。
【0038】
【表1】

Figure 2004273155
【0039】
表1は、上記回転型電気部品1の前記筐体2の底部2cの直径φをφ=20mmとして回転体4を回転させた場合に、前記摺動子5a,5b,5cの摩耗の程度から見た摺動寿命を回転体4の周回数で示したものである。
【0040】
表1では、摺動子の摺動寿命が10万回以下のものを×印(不可)、10万回を超えて40万回以下のものを△印(可)、40万回を超えて80万回以下のものを○印(良)、80万回を超えるものを◎印(優)として判定している。なお、表1には摺動子の下地メッキ(第2の下地層5B)にNiメッキを膜厚1.0〜2.0μmで施し、これに表層メッキ(第2の表面層5C)として非晶質のPd−PメッキまたはAgメッキを施したものを比較例として掲載してある。
【0041】
表1に示すように、摺動子5a,5b,5cの下地メッキ(第2の下地層5B)が膜厚(メッキ厚)1.0μm以上3.0μm以下のNi−Bメッキとした場合には、表層メッキ(第2の表面層5C)としてPd−PメッキおよびAgメッキのいずれを使用した場合であっても摺動子の摺動寿命を60万回以上と長くできることがわかる。また下地メッキ(第2の下地層5B)を膜厚1.0μm以上3.0μm以下のNi−Pメッキとした場合であっても、Ni−Bメッキほどではないが、摺動寿命を30万回以上とすることができる。
【0042】
これらのことは、非晶質Ni−Bの硬度は、ビッカース硬度が800HVと非晶質Ni−Pの硬度(ビッカース硬度500〜550HV)よりも高いため、非晶質Ni−Bを使用した方が摺動寿命をさらに延ばすことが可能であることを示している。また摺動寿命は、直接導電部3と接触する第2の表面層5Cの材質にも影響を与えられるが、これを支える第2の下地層5Bの影響が大きいことがわかる。
【0043】
そして、固定接点側である導電部3の第1の表面層3Cを比較的安価で柔らかいAgメッキで形成し、この表面を摺動する可動接点側の摺動子5a,5b,5cの表層メッキ(第2の表面層5C)をそれよりも硬度の硬い非晶質Pd−Pメッキで形成することにより、低コストで長寿命化を図ることが可能となっている。すなわち、回転体4を回転させることに伴なって、常時接していない固定接点側の導電部3a,3b,3cを比較的柔らかくい材料で形成し、常時摺動する可動接点側の摺動子5a,5b,5cの方を、上記実施の形態に示すように硬い材料で形成しているので、両者の削れを抑えることができ、衝動寿命を向上させることができる。
【0044】
また可動接点側の摺動子5a,5b,5cの表層メッキ(第2の表面層5C)を非晶質Pd−Pメッキとした場合には、前記固定接点側の導電部3の第1の表面層3Cを形成するAgメッキとは金属の材質を異ならせることができるため、両者の間に凝着が生じるのを防止できる。
【0045】
なお、摺動子5a,5b,5cの表層メッキ(第2の表面層5C)をAgメッキで形成すると、導電部3の第1の表面層3Cと同種の金属となるため、摺動子5a,5b,5cと導電部3との間に凝着が生じやすくなる。しかし、その場合であっても摺動子5a,5b,5cの下地メッキ(第2の下地層5B)を非晶質Ni−Bメッキまたは非晶質Ni−Pメッキで形成しておくと、摺動子5a,5b,5cの摺動寿命を延ばすことが可能である。
【0046】
さらに、非晶質Pd−Pは酸化しにくいため、摺動時の接触抵抗を低くできる。
【0047】
上記においては、非晶質Ni−BメッキのBの含有率を0.1〜1.0wt%としたが、0.1wt%以上とした場合には下地メッキが柔らかくなるのを防止できるため、この下地メッキとともに表層メッキが削れて摺動寿命が短くなるのを回避できる。また1.0wt%以下としたため、摺動子5a,5b,5cの導電抵抗を低下させることが可能である。
【0048】
また上記実施の形態では、非晶質Pd−PメッキのPの含有率を2.0wt%以上としたため、Pd−Pメッキの硬度を確保することができる。また5.0wt%以下としたため、Pd−Pメッキの導電性も確保できる。
【0049】
しかも、この実施の形態では、可動接点側の表層メッキ(第2の表面層5C)の下に下地メッキ(第2の下地層5B)としてNi−PメッキまたはNi―Bメッキを介在させた構成としたため、表層メッキであるPd−PメッキまたはAgメッキの膜厚を必要以上に厚く形成する必要がない。よって、材料費として値段の高いPdやAgの使用量を抑えることができるため、製造コストを低減することが可能となる。
【0050】
また、この様に第1,第2の下地層3B,5Bを設けて、それをNi系の材料で形成しているので、第1,第2の導電体3A,5Aがリン青銅、洋白、ベリリウム銅等の銅合金であっても、銅酸化物がAgあるいはPd−Pの表面にまで至ることはなく、よって接触の信頼性を向上させることができる。
【0051】
【発明の効果】
以上のように本発明では、摺動子の電気的・機械的な摺動寿命を延ばすことが可能な回転型電気部品を低コストで提供できる。
【0052】
また摺動子と被摺動体との間の接触抵抗や導電抵抗を低減することも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態として回転型電気部品の主要部の分解斜視図、
【図2】回転型電気部品の筺体と回転体とを示す図1のA−A線における断面図、
【図3】図1のB方向からの矢視平面図、
【図4】本発明の主要部を示し、可動接点である摺動子と固定接点である導体部との拡大断面図、
【符号の説明】
1 回転型電子部品
2 筐体
2c 底部
3,3a,3b,3c 導電部(固定接点)
3a1,3b1,3c1 端子部
3A 導電性金属板(第1の導電体)
3B 第1の下地層
3C 第1の表面層
4 回転体
5 板バネ
5A 導電性金属(第2の導電体)
5B 第2の下地層(下地メッキ)
5C 第2の表面層(表層メッキ)
5a,5b,5c 摺動子(可動接点)[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a rotary electrical component in which a movable contact slides on a fixed contact, and more particularly to a rotary electrical component capable of extending the electrical and mechanical sliding life at low cost.
[0002]
[Prior art]
As a related art related to this kind of invention, there is one described in Patent Document 1, for example.
[0003]
In Patent Document 1, by forming an amorphous plating layer in which the surfaces of a sliding body and a sliding body are made of an amorphous film containing 15 to 25 atomic% of phosphorus of a Ni-P alloy, An invention relating to an electric component for automobiles in which abrasion resistance and corrosion resistance of a slidable body are improved and electric and mechanical sliding life is extended is described.
[0004]
Patent Document 1 describes that an amorphous plating layer is formed on the sliding body side. When an amorphous plating layer is formed on the sliding body side, the amorphous plating layer is formed on the brush itself. It is stated that it should be done.
[0005]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Publication No. 6-14482
[Problems to be solved by the invention]
However, if the surfaces of the sliding body and the sliding body are made of the same type of amorphous plating, there is a problem that the two are likely to be falsely attached. Moreover, although the amorphous Ni-P plating itself is hard, when the same kind of metal slides with each other, the strength cannot be sufficiently exhibited. There is a problem that the sliding life is likely to be short.
[0007]
Further, since the surface of the plating layer containing Ni is easily oxidized, there is a problem that the contact resistance is likely to increase.
[0008]
Furthermore, the method described in Patent Document 1 has a problem that the conductive resistance is high because the phosphorus content is as high as 15 atomic% or more, that is, 8.5 wt% or more.
[0009]
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems, and is intended for a rotary electric component in which a slider (movable contact) slides on the surface of a body to be slid (fixed contact). It is an object of the present invention to provide a rotary electric component capable of improving the sliding property and extending the sliding life at low cost.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The present invention provides a fixed contact having a first protective layer formed on a surface of a first conductor, a second protective layer on a surface of a second conductor, and a surface of the first protective layer. And a movable contact that slides
The first protective layer is formed of a first underlayer made of crystalline Ni, and a first surface layer having a surface of the first underlayer plated with Ag; The second protection layer is formed of a second underlayer made of amorphous plating containing Ni and a conductive second surface layer provided on the surface of the second underlayer. It is a feature.
[0011]
In the above, it is preferable that the amorphous plating of the second underlayer is formed by Ni-P plating or Ni-B plating, and the second surface layer is formed by amorphous Pd-P plating. Alternatively, those formed by Ag plating are preferable.
[0012]
Further, it is preferable that the first underlayer is formed of Ni plating or a Ni clad material.
[0013]
The second conductor is formed of any one of phosphor bronze, nickel silver, and beryllium copper.
[0014]
Further, as described above, the Ni-P plating preferably has a P content of 8 wt% to 10 wt% and a film thickness of 1.0 μm to 3.0 μm. The Ni-B plating preferably has a B content of 0.1 wt% or more and 1.0 wt% or less, and a film thickness of 0.1 µm or more and 3.0 µm or less, particularly preferably 1.0 µm or more and 3 µm or less. 0.0 μm or less is more preferable.
[0015]
Further, the Pd-P plating preferably has a P content of 2.0 wt% or more and 5.0 wt% or less and a film thickness of 0.5 μm or more and 1.0 μm or less.
[0016]
Alternatively, the thickness of the Ag plating forming the second surface layer is 1.0 μm or more and 2.0 μm or less.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 is an exploded perspective view of a main part of a rotary electric component according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 1 showing a housing and a rotary body of the rotary electric component. 1 is a plan view taken in the direction of arrow B in FIG. 1. FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the present invention, showing a slider as a movable contact and a conductor as a fixed contact.
[0018]
A rotary electric component 1 shown in FIG. 1 is a rotary encoder, and has a housing 2 made of a synthetic resin molded product as an insulating material and a rotating body 4 made of a synthetic resin molded product.
[0019]
At the center of the housing 2, there is provided a cylindrical tubular portion 2b having a hollow portion 2a penetrating vertically in the figure. Further, a bottom 2c extending radially outward from the base of the cylindrical portion 2b is provided, and a square side 2d extending upward from the outer periphery of the bottom 2c is integrally formed. The bottom portion 2c forms a ring-shaped storage portion including a concave portion formed between the side portion 2d and the cylindrical portion 2b.
[0020]
As shown in FIGS. 2 and 3, a conductive portion (fixed contact) 3 (individually indicated by 3 a, 3 b, 3 c) is provided in a bottom portion 2 c of the housing 2 in a buried state. The conductive portion 3a has an arc shape, and a part of the conductive portion 3a protrudes outward from the side portion 2d and forms a terminal portion 3a1 bent downward. In FIG. 3, the conductive portion 3b is formed from four islands formed intermittently at predetermined intervals in the circumferential direction in the bottom portion 2c. The individual conductive portions 3b are electrically connected at portions buried in the bottom portion 2c and are all set to the same potential. A part of the conductive portion 3b forms a terminal portion 3b1 which is projected outward from the side portion 2d and bent downward at a position adjacent to the left of the terminal portion 3a1. Similarly, the conductive portion 3c is also formed of four islands electrically connected to the inside of the bottom portion 2c, and a part thereof is located on the right side of the terminal portion 3a1 and outside the side portion 2d. A protruding terminal portion 3c1 is formed.
[0021]
On the other hand, as shown in FIGS. 1 and 2, a cylindrical shaft 4a is provided at the center of the rotating body 4, and a ring-shaped flange 4b is formed around the base of the shaft 4a. I have. An uneven portion 4c is formed on the surface of the flange portion 4b, and a plurality of convex portions 4d projecting downward in the drawing are formed on the bottom surface of the flange portion 4b as shown in FIG.
[0022]
As shown in FIG. 2, a metal leaf spring 5 formed in a ring shape is provided below the flange portion 4b. The leaf spring 5 is integrally attached to the bottom surface of the rotating body 4 by, for example, thermally caulking the tips of the plurality of projections 4d. On the lower surface of the leaf spring 5, three sliders (movable contacts) 5a, 5b, and 5c (5c are not shown) that protrude downward in the figure are formed by press working or the like. The three sliders 5a, 5b, 5c are formed on the bottom surface of the ring-shaped leaf spring 5 at a predetermined center angle.
[0023]
In the rotating body 4 provided with the leaf spring 5, the cylindrical portion 2b of the housing 2 is inserted into the shaft portion 4a, and the flange portion 4b and the leaf spring 5 are housed in the bottom portion 2c. On the other hand, it can be freely rotated. The sliders 5a, 5b, and 5c press the bottom 2c by the elastic force of the leaf spring 5.
[0024]
At this time, any one of the sliders 5a, 5b, and 5c contacts the conductive portion 3a, and one of the remaining two sliders is any one of the conductive portions 3b or 3c. The other slider comes into contact with the island and the bottom 2c between the islands forming the conductive portion 3b or 3c.
[0025]
For example, when the slider 5a is in contact with the conductive portion 3a and the slider 5b is in contact with any island of the conductive portion 3b, the remaining sliders 5c are connected to the islands forming the conductive portion 3c. Are located at the bottom 2c, which is a non-conductive portion between them. When the rotating body 4 is slightly rotated, for example, clockwise, the contact state between the slider 5a and the conductive portion 3a is maintained, but one of the sliders 5b is connected to the island forming the conductive portion 3b. It reaches the bottom 2c between the islands, and the other slider 5c comes into contact with one of the islands forming the conductive portion 3c. Then, when the rotating body 4 is further rotated clockwise and the slider 5a tries to come off from the conductive portion 3a, the slider 5c comes into contact with the conductive portion 3a, and the conductive portion 3a Is kept in contact with any one of the sliders 5a, 5b, and 5c, and the other two sliders maintain the above relationship.
[0026]
That is, when the rotating body 4 is rotated clockwise or counterclockwise, any one of the sliders contacting the conductive part 3b and one of the sliders contacting the conductive part 3c are rotated. A phase difference is generated between the child and the child.
[0027]
Therefore, when the terminal 3a1 is grounded to a ground potential as a common electrode and a predetermined voltage is applied to the remaining terminals 3b1 and 3c1, the rotating body 4 is moved clockwise or counterclockwise. When rotated, pulse signals having different phases are output from the terminal portions 3b1 and 3c1. Then, from the pulse signal output from the terminal 3b1 and the pulse signal output from the terminal 3c1, the rotation direction and the rotation speed of the rotating body 4 can be detected.
[0028]
Next, the relationship between the slider (movable contact) and the conductive portion (fixed contact) will be described. As shown in FIG. 4, the conductive portion 3 (conductive portion 3a, 3b, 3c), which is a fixed contact, is formed from a conductive metal plate (first conductor) 3A such as phosphor bronze, nickel silver or the like. . A first underlayer 3B is formed on the surface of the conductive metal plate 3A, and a first surface layer 3C is formed on the surface. The first underlayer 3B and the first surface layer 3C function as a first protective layer for protecting the surface of the conductive metal plate 3A.
[0029]
The first underlayer 3B is intended to prevent oxidation or sulfidation or intergranular corrosion of the conductive metal plate 3A. For example, Ni is electrochemically deposited on the surface of the conductive metal plate 3A. This is crystalline Ni plating formed by an electroplating method (electrodeposition). Alternatively, it may be formed of a Ni clad material formed by laminating a thin Ni flat plate by pressure bonding or rolling. The first surface layer 3C is intended to prevent oxidation of the surface of Ni forming the first underlayer 3B, and is, for example, Ag plating formed by an electroplating method.
[0030]
On the other hand, the sliders 5a, 5b, 5c (only the slider 5a in FIG. 4), which are movable contacts, include at least copper and a metal having a spring property, for example, phosphor bronze, nickel silver, beryllium copper or the like. It is formed from a conductive metal (second conductor) 5A. A second base layer (base plating) 5B is formed on the surface of the conductive metal 5A, and a second surface layer (surface plating) 5C is formed on the surface. The second underlayer 5B and the second surface layer 5C function as a second protective layer for protecting the surface of the conductive metal 5A.
[0031]
The second underlayer 5B on the movable contact (slider) side is obtained by subjecting the surface of the conductive metal 5A to amorphous Ni-P plating or Ni-B plating in an electroless plating bath described below. It is.
[0032]
That is, the electroless plating bath for performing the Ni-P plating is an aqueous solution containing nickel sulfate (30 g / liter), sodium phosphinate (10 g / liter), sodium acetate (10 g / liter), and a pH adjuster (appropriate amount). (PH = 4 to 6, 90 ° C.), and an amorphous coating of a Ni—P alloy containing phosphorus (P) in a range of 8 wt% or more and 10 wt% or less is formed on the surface of the conductive metal 5A by a predetermined amount. It was deposited with a film thickness (see Table 1).
[0033]
The electroless plating bath for Ni-B plating includes nickel sulfate (30 g / liter), sodium malonate (34 g / liter), boric acid (30 g / liter), ammonium chloride (30 g / liter), dimethylamine borane. (3.4 g / liter) and an aqueous solution (pH = 5-7, 60 ° C.) containing a pH adjuster (suitable amount), and 0.1 wt% or more and 1.0 wt% or less on the surface of the conductive metal 5A. An amorphous film of a Ni-B alloy containing boron (B) in a range is deposited at a predetermined thickness (see Table 1).
[0034]
On the other hand, the second surface layer 5C on the movable contact (slider) side is formed by applying amorphous Pd-P plating to the surface of the second underlayer 5B (underlayer plating) using an electroless plating bath described below. It is formed or plated with Ag.
[0035]
That is, the electroless plating bath for applying amorphous Pd-P plating is composed of palladium chloride (0.01 mol / l), ethylenediamine (0.08 mol / l), and sodium phosphinate (0.06 mol / l). And an aqueous solution (pH = 6-8, 50 ° C.) containing thiodiglycolic acid (0.03 g / liter) and a pH adjuster (appropriate amount), and the surface of the second underlayer 5B is 2 wt% to 5 wt%. % Of an amorphous coating of a Pd-P alloy containing phosphorus (P) in a range of not more than 0.5 μm and not more than 1.0 μm.
[0036]
When the second surface layer 5C is made of Ag plating, a direct current or a pulse current is applied to an electrolyte containing silver ions or silver complex ions (electroplating method), and the surface of the second underlayer 5B serving as a cathode is formed. In this case, crystalline metallic silver is deposited in a range of 1.0 μm to 2.0 μm in thickness.
[0037]
Table 1 shows the results of the wear resistance test of the movable contact and the fixed contact generated by the above method.
[0038]
[Table 1]
Figure 2004273155
[0039]
Table 1 shows the degree of wear of the sliders 5a, 5b, and 5c when the rotating body 4 is rotated when the diameter φ of the bottom 2c of the housing 2 of the rotary electric component 1 is φ = 20 mm. The observed sliding life is shown by the number of rotations of the rotating body 4.
[0040]
In Table 1, those with a sliding life of 100,000 times or less are marked with a cross (impossible), those with a sliding life of more than 100,000 times and less than 400,000 times are marked with a △ mark (acceptable), and those with a sliding life of more than 400,000 times. A sample of 800,000 times or less was judged as 印 (good), and a sample exceeding 800,000 times was judged as ◎ (excellent). In Table 1, Ni plating is applied to the base plate (second base layer 5B) of the slider with a film thickness of 1.0 to 2.0 μm, and non-plated as a surface layer (second surface layer 5C). Those subjected to crystalline Pd-P plating or Ag plating are described as comparative examples.
[0041]
As shown in Table 1, when the base plating (second base layer 5B) of the sliders 5a, 5b, and 5c is Ni-B plating having a thickness (plating thickness) of 1.0 μm or more and 3.0 μm or less. Indicates that the sliding life of the slider can be extended to 600,000 times or more regardless of whether Pd-P plating or Ag plating is used as the surface layer plating (second surface layer 5C). Further, even when the undercoating (second underlayer 5B) is Ni-P plating having a film thickness of 1.0 μm or more and 3.0 μm or less, the sliding life is 300,000, although not as much as Ni-B plating. More than once.
[0042]
These facts indicate that amorphous Ni-B has a Vickers hardness of 800 HV, which is higher than the hardness of amorphous Ni-P (Vickers hardness of 500 to 550 HV). Indicate that the sliding life can be further extended. The sliding life is also affected by the material of the second surface layer 5C which is in direct contact with the conductive portion 3, but it can be seen that the effect of the second underlayer 5B supporting this is large.
[0043]
Then, the first surface layer 3C of the conductive portion 3 on the fixed contact side is formed by relatively inexpensive and soft Ag plating, and the surface plating of the sliders 5a, 5b, 5c on the movable contact side sliding on the surface. By forming the (second surface layer 5C) by amorphous Pd-P plating having a higher hardness, long life can be achieved at low cost. That is, as the rotating body 4 is rotated, the conductive portions 3a, 3b, 3c on the fixed contact side, which are not always in contact, are formed of a relatively soft material, and the slider on the movable contact side that always slides. Since 5a, 5b, and 5c are formed of a hard material as described in the above embodiment, the scraping of both can be suppressed, and the impulse life can be improved.
[0044]
When the surface plating (second surface layer 5C) of the sliders 5a, 5b, 5c on the movable contact side is made of amorphous Pd-P plating, the first conductive portion 3 on the fixed contact side is used. Since the material of the metal can be different from that of the Ag plating forming the surface layer 3C, it is possible to prevent adhesion between the two.
[0045]
If the surface plating (second surface layer 5C) of the sliders 5a, 5b, 5c is formed by Ag plating, the same kind of metal as the first surface layer 3C of the conductive portion 3 is used. , 5b, 5c and the conductive portion 3 are likely to adhere. However, even in this case, if the base plating (second base layer 5B) of the sliders 5a, 5b, 5c is formed by amorphous Ni-B plating or amorphous Ni-P plating, The sliding life of the sliders 5a, 5b, 5c can be extended.
[0046]
Further, since amorphous Pd-P hardly oxidizes, the contact resistance during sliding can be reduced.
[0047]
In the above description, the content of B in the amorphous Ni-B plating is set to 0.1 to 1.0 wt%. However, when the content is set to 0.1 wt% or more, the base plating can be prevented from becoming soft. It can be avoided that the surface plating is scraped together with the base plating to shorten the sliding life. Further, since the content is set to 1.0 wt% or less, the conductive resistance of the sliders 5a, 5b, 5c can be reduced.
[0048]
In the above embodiment, the P content of the amorphous Pd-P plating is set to 2.0 wt% or more, so that the hardness of the Pd-P plating can be secured. Also, since the content is 5.0 wt% or less, the conductivity of Pd-P plating can be secured.
[0049]
In addition, in this embodiment, a structure in which Ni-P plating or Ni-B plating is interposed as base plating (second base layer 5B) under surface plating (second surface layer 5C) on the movable contact side. Therefore, it is not necessary to form the Pd-P plating or the Ag plating, which is the surface layer plating, thicker than necessary. Therefore, the amount of Pd or Ag, which is expensive as a material cost, can be suppressed, and the manufacturing cost can be reduced.
[0050]
Further, since the first and second underlayers 3B and 5B are provided and formed of a Ni-based material in this manner, the first and second conductors 3A and 5A are made of phosphor bronze or nickel silver. Even when using a copper alloy such as beryllium copper, the copper oxide does not reach the surface of Ag or Pd-P, so that the reliability of contact can be improved.
[0051]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a low cost rotary electric component capable of extending the electrical and mechanical sliding life of the slider.
[0052]
In addition, it is possible to reduce the contact resistance and the conductive resistance between the slider and the object to be slid.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an exploded perspective view of a main part of a rotary electric component according to an embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG. 1, showing a housing and a rotating body of the rotary electric component;
FIG. 3 is a plan view as viewed from a direction B in FIG. 1;
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing a main part of the present invention, showing a slider as a movable contact and a conductor as a fixed contact;
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Rotary electronic component 2 Housing 2c Bottom part 3, 3a, 3b, 3c Conductive part (fixed contact)
3a1, 3b1, 3c1 Terminal portion 3A Conductive metal plate (first conductor)
3B First base layer 3C First surface layer 4 Rotating body 5 Leaf spring 5A Conductive metal (second conductor)
5B Second underlayer (underlayer plating)
5C Second surface layer (surface plating)
5a, 5b, 5c Slider (movable contact)

Claims (9)

第1の導電体の表面に第1の保護層が形成された固定接点と、第2の導電体の表面に第2の保護層を有し且つ前記第1の保護層の表面を摺動する可動接点と、を備えた回転型電気部品において、
前記第1の保護層が結晶性のNiで形成された第1の下地層と、前記第1の下地層の表面にAgメッキが施された第1の表面層とで形成されており、前記第2の保護層がNiを含む非晶質メッキからなる第2の下地層と、前記第2の下地層の表面に設けられた導電性の第2の表面層とで形成されていることを特徴とする回転型電気部品。
A fixed contact having a first protective layer formed on a surface of a first conductor, and a second protective layer on a surface of a second conductor, and sliding on the surface of the first protective layer; A movable electrical contact, comprising:
The first protective layer is formed of a first underlayer made of crystalline Ni, and a first surface layer having a surface of the first underlayer plated with Ag; The second protection layer is formed of a second underlayer made of amorphous plating containing Ni and a conductive second surface layer provided on the surface of the second underlayer. Characterized rotary electric parts.
前記第2の下地層の非晶質メッキが、Ni−PメッキまたはNi−Bメッキで形成されている請求項1記載の回転型電気部品。The rotary electric component according to claim 1, wherein the amorphous plating of the second underlayer is formed by Ni-P plating or Ni-B plating. 前記第2の表面層が、非晶質Pd−PメッキまたはAgメッキで形成されている請求項1または2記載の回転型電気部品。The rotary electric component according to claim 1, wherein the second surface layer is formed by amorphous Pd—P plating or Ag plating. 前記第1の下地層が、NiメッキまたはNiクラッド材で形成されている請求項1ないし3のいずれか記載の回転型電気部品。4. The rotary electric component according to claim 1, wherein said first underlayer is formed of Ni plating or Ni clad material. 前記第2の導電体が、りん青銅、洋白、ベリリウム銅のいずれか1種で形成されている請求項1ないし4のいずれか記載の回転型電気部品。The rotary electric component according to any one of claims 1 to 4, wherein the second conductor is formed of any one of phosphor bronze, nickel silver, and beryllium copper. 前記Ni−Pメッキは、Pの含有量が8wt%以上10wt%以下であり、その膜厚が1.0μm以上3.0μm以下である請求項2記載の回転型電気部品。The rotary electric component according to claim 2, wherein the Ni-P plating has a P content of 8 wt% or more and 10 wt% or less and a film thickness of 1.0 µm or more and 3.0 µm or less. 前記Ni−Bメッキは、Bの含有量が0.1wt%以上1.0wt%以下であり、その膜厚が0.1μm以上3.0μm以下である請求項2記載の回転型電気部品。The rotary electric component according to claim 2, wherein the Ni-B plating has a B content of 0.1 wt% to 1.0 wt% and a film thickness of 0.1 µm to 3.0 µm. 前記Pd−Pメッキは、Pの含有量が2.0wt%以上5.0wt%以下であり、その膜厚が0.5μm以上1.0μm以下である請求項3記載の回転型電気部品。4. The rotary electric component according to claim 3, wherein the Pd-P plating has a P content of 2.0 wt% or more and 5.0 wt% or less, and a film thickness of 0.5 μm or more and 1.0 μm or less. 5. 前記第2の表面層を形成するAgメッキの膜厚が、1.0μm以上2.0μm以下である請求項3記載の回転型電気部品。4. The rotary electric component according to claim 3, wherein the thickness of the Ag plating forming the second surface layer is 1.0 μm or more and 2.0 μm or less.
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JP2016204018A (en) * 2015-04-21 2016-12-08 富士インパルス株式会社 Seal device

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