JP2004263985A

JP2004263985A - Air cleaning method and its device

Info

Publication number: JP2004263985A
Application number: JP2003056868A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Ichikawa; 和男市川
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2003-03-04
Filing date: 2003-03-04
Publication date: 2004-09-24

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve a removing degree of a specific substance (such as a specific fine particle, for example, a particle such as dust, a boron compound, an acid substance, an alkaline substance, an organic compound, and a gaseous substance) in the air in a clean room of, for example, a semiconductor production factory. <P>SOLUTION: A chemical pollution detecting sensor detects a chemical pollutant in the air in real time. A control device receiving this detection arithmetically operates ventilation quantity of respective passages of air branching off into a dust collecting filter and a chemical filter in an air cleaner. A ventilation passage opening-closing means is controlled according to this arithmetically operated ventilation quantity. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高度なクリーン度を要求される空間において、ケミカル汚染物質を検出した時に、制御装置によってリアルタイムにこのケミカル汚染物質を除去する空気清浄化方法とその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば半導体生産工場などのクリーンルームにおいては、高度のクリーン度を維持するために、該ルーム内の空気を常に循環させたり、外気を取り入れたりして、いずれの場合も相応の清浄化装置（方法）によって空気中の特定物質（特定の微細な粒子。例えば、ホコリなどのパーティクル、ボロン化合物、酸性物質、アルカリ性物質、有機化合物やガス状物質など）を除去している。
【０００３】
つまり、パーティクル汚染物質の除去については、主に各種の集塵型フィルタ（ＨＥＰＡフィルタ、ＵＬＰＡフィルタ等）によって技術的に十分に解消されつつある。また、ケミカル（分子状）汚染物質の除去についても、種々の化学・吸着型フィルタ（エアウォッシャー、活性炭フィルタ、光触媒フィルタ等）が既に提案されている（十分に解消されているとは言い難い部分があるが）。
中でも本発明に関わるものとしては、次のようなものが知られている。
光触媒と紫外線を放射する発光ダイオードに関するもの（例えば、特許文献１参照）、光触媒フィルタ（ハニカム）と光脱臭ランプに関するもの（例えば、特許文献２参照）、光触媒（ハニカム）、紫外線と流通阻害手段に関するもの（例えば、特許文献３参照）、高性能フィルタ、清浄度センサによる風量調整ダンパー制御に関するもの（例えば、特許文献４参照）等がある。
【０００４】
【特許文献１】
特開平９−９４０号公報（第４−８頁、第１−５図）
【特許文献２】
特開２０００−１０２５９６号公報（第３頁、第１，７図）
【特許文献３】
特開２００１−１９０６４６号公報（第２−４頁、第１−３図）
【特許文献４】
特開平６−１８５７７５号公報（第３−４頁、第１−２図）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
つまり、例えばクリーンルーム等の汚染は、おおまかにパーティクル汚染物質と、ケミカル汚染物質とが考えられ、外気から、作業者（の出入り等）から、作業現場等から夫々に進入・発生したりして、従って、その清浄化、脱臭、抗菌・殺菌、防汚等の処置・対策が欠かせない要件になっている。そのために種々の方策が講じられているが、単に両汚染物質用フィルタを単に直列に配置しただけでは、パーティクルのみの汚染（ケミカル汚染の無い時）の時にも、不必要にケミカルフィルタが常時使用されることになる。が、殊にケミカルフィルタに関しては、高価で、寿命が短いため、常用したのではランニングコストやメンテナンス・交換等が大きな課題となっている。
本発明は、このような課題を解決するために、ケミカル汚染物質の有無のみを注視して監視・検出する方法（装置）を提供するものである。
つまり、ケミカル汚染検出センサを所定の（通気）場所に設置し、リアルタイムにその成分・濃度や変化を監視し、ケミカル汚染物質を検出した時にのみ、その状態に応じてケミカルフィルタ通過空気量を自在に可変（迂回の通気路への開閉量）させ、ケミカルフィルタの使用状態を制御し、ケミカル汚染物質除去やケミカルフィルタ使用の最適化を図るものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の空気清浄化方法は、ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置内の集塵型フィルタとケミカルフィルタとへ分岐する前記空気の各通路の通気量を演算し、この演算された前記通気量に応じて通気路開閉手段を制御することを特長とするものである。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明の空気清浄化方法とその装置は、ケミカル汚染検出センサによってリアルタイムに空気中のケミカル汚染物質を検出し、この検出を受けた制御装置によって空気清浄化装置を制御することを特長とするものである。
請求項１、請求項２に記載の本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質の成分、濃度、その増減（変動）変化状況をインラインでリアルタイムに監視し、如何なる異変に対しても対応でき、常に一定の濃度以下に抑えて空気の清浄化が維持できる。
▲２▼ケミカルフィルタは、ケミカル汚染物質の検出時にのみ使用する（パーティクル汚染物質のみの検出時は使用しない）ので、長い寿命（メンテナンスの軽減化等）や低価のランニングコスト等の効果が得られる。
▲３▼ケミカル汚染物質のみをリアルタイムに監視し、その成分・濃度等に応じて、ケミカルフィルタ通過量を自在に可変・最適化し、ケミカルフィルタにパーティクル汚染物質が不要に通過するのを制限することができる。
【０００８】
請求項３、請求項４に記載の本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質を積極的に捕捉（吸着・捕獲）し、ケミカルフィルタによる除去効果を一層高めることができる。つまり、光触媒フィルタが静止状態（回動しない状態）で空気の流れでケミカル汚染物質が触れてくるのを単に待ち受けるのではなく、光触媒フィルタを回動させることより積極的に通気中の空気を撹乱・攪拌してケミカル汚染物質を積極的に捕捉することができる。
▲２▼光触媒フィルタの表面を紫外線ランプの光点（光源）が（相互に回動して）移動することになるので、光点が光触媒フィルタの表面上を移動・変動し、このことは光触媒フィルタの全表面をくまなく（隅々まで）照射することができ、表面に吸着したケミカル汚染物質を分解・除去でき、つまり光触媒フィルタの表面の吸着性（化学結合）が常に再生され、寿命が長く維持できる。
【０００９】
請求項５、請求項６に記載の本発明によれば、
▲１▼上述の請求項３、請求項４の効果とともに、光触媒フィルタや紫外線ランプのきめの細かい回動制御は、さらに光触媒フィルタのケミカル汚染物質の捕捉効率や、その表面の再生効率を最適化できる（夫々の選定・設定等の条件が制御できる）。
【００１０】
請求項７に記載の本発明によれば、
▲１▼夫々のケミカル汚染検出センサは、欠かせない最低限のポイントに設置し、少なくとも外気取入れの汚染、外気・循環気の混合のトータル汚染、循環気の清浄化、環気の汚染（例えば、クリーンルーム内の汚染発生）の状況を、リアルタイム（タイミングをはずさない）に監視・検出できる。
【００１１】
請求項８に記載の本発明によれば、
▲１▼ケミカル汚染物質を含んだ空気が、光触媒フィルタを通る（洩れないで）ようにすることができる。
【００１２】
【実施例】
以下、本発明の空気清浄化方法とその装置の一実施例として、例えばクリーンルームでの実施例について図面を用いて説明する。
図１は、クリーンルーム１内の空気を清浄化する全体構成の概要を示す模擬図である。
図において、まず平常時（外気ＯＡを取入れない時）は、循環気ＣＡの給気ＳＡが天井（別の集塵型のＵＬＰＡフィルタ、ＨＥＰＡフィルタ、中性能フィルタ等を含んだ構成の天井）２からクリーンルーム１内をダウンフローする。このクリーンルーム１内で半導体等の生産加工・組立て検査等がなされ、その工程・作業や移送・保管過程において新たな特定汚染物質［塵埃等のパーティクル汚染物質や有機溶剤（ガス）や臭気成分等のケミカル（分子状）汚染物質］を発生し、クリーンルーム１内の空気を汚染することがある。いずれにしても、このクリーンルーム１内の空気は、床３を経て空気清浄化装置（方法）ＡＣｃへの環気ＲＡとなり、さらに再びクリーンルーム１内の循環気ＣＡとなる。ここに、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓは循環気ＣＡの給気ＳＡのケミカル汚染物質（分子状の有機ガス分等をいう。以下同じとする）をリアルタイム（インライン等）に検出し、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｒはクリーンルーム１内からの環気ＲＡのケミカル汚染物質をリアルタイムに検出する。
【００１３】
一方、外気ＯＡの取入れ時は、まずケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏによって、外気ＯＡに含まれているケミカル汚染物質［臭気成分や有害物質（ダイオキシン類やＮＯｘ、ＶＯＣ等に代表されるもの等）］をリアルタイムに検出する。そして、この外気ＯＡは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏを経てクリーンルーム１内に給気ＳＡされ、以後の空気（外気ＯＡ）は循環気ＣＡと合流し、上述の平常時のとおりと同じ循環通路（説明は省略）をたどって環気ＲＡ・循環気ＣＡとして循環する。
また、クリーンルーム１内への外気ＯＡの取入れ、空気の清浄化とその循環、外部への排気ＥＡについては、すべて空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏのエアファン８ｃ、８ｏ（後述する）によって、その必要に応じて駆動制御（後述する）の運転（回動）が制御（後述する）される。
そして、平常時は空気清浄化装置（方法）ＡＣｃだけの駆動制御（後述する）によって為されるが、外気ＯＡの取入れ時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏの両駆動制御（後述する）によって為される。
本発明の一実施例として、以下にクリーンルーム１について述べるが、他には食品衛生関係、医療関係等の高度のクリーン度が要求される実施例においても同様に本発明が採用されるものである。
【００１４】
図２は、図１の制御装置Ｓを示す概要図である。
図において、まず平常時（外気ＯＡを取入れない時）は上述のとおり、循環気ＣＡのクリーンルーム１の天井（別の集塵型フィルタ等を含んだ構成）２を通過後の給気ＳＡ中に含まれるケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、更にクリーンルーム１内をダウンフロー通過後の床３への環気ＲＡ中のケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの両検出信号が制御装置Ｓのデータ入力部１６に入力される。したがって、この両検出信号は、制御装置Ｓのデータ入力部１６、演算／検出部１７によって処理され、出力部１８から出力される。すなわち、出力部１８から空気清浄化装置（方法）ＡＣｃのダンパー（通気路開閉手段）６ｃの開閉駆動部（図示しない）、ケミカルフィルタＣＦｃの各駆動装置１４ｃ（後述の図４，５）、エアファン８ｃの駆動部（図示しない）に出力され、夫々の駆動（回転数等）を自動制御する。
【００１５】
次いで外気ＯＡの取入れ時は、この外気ＯＡ中に含まれるケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏによってリアルタイムに検出し、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏを経て、クリーンルーム１の天井２を通過後の給気ＳＡ中のケミカル汚染物質をケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓによってリアルタイムに検出し、これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏ、４ｓの両検出信号が制御装置Ｓのデータ入力部１６に入力される。したがって、この両検出信号は、制御装置Ｓのデータ入力部１６、演算／検出部１７によって処理され、出力部１８から出力される。つまり、出力部１８から空気清浄化装置（方法）ＡＣｏのダンパー（通気路開閉手段）６ｏの開閉駆動部（図示しない）、ケミカルフィルタＣＦｏの各駆動装置１４ｏ（後述の図４，５）、エアファン８ｏの駆動部（図示しない）に出力され、夫々の駆動（回転数等）を自動制御する。
【００１６】
前述したとおり、平常時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃだけの駆動制御（後述する）によって為される。つまり、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの検出によって為される。
しかし、外気ＯＡの取入れ時は、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏの両駆動制御（後述する）によって為される。すなわち、外気ＯＡの取入れ時のケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓは、給気ＳＡ中のケミカル汚染物質を検出するが、この給気ＳＡとは、正確には外気ＯＡ及び循環気ＣＡを共に含んだ（合流した）ものである。また同時に、ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｒは、環気ＲＡ中のケミカル汚染物質を検出するが、この環気ＲＡとは、正確には外気ＯＡ及び循環気ＣＡを共に含んだ（合流した）ものである。この外気ＯＡ取入れ時の場合、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏ、４ｓの検出によって為され、同時に、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃの駆動制御はケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒの検出によって為される。これらのケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏは、例えばＳｉＯ_２表面へのケミカル汚染物質の付着（量や速度）をリアルタイムに検出（連続モニタリング）し、その汚染レベルや挙動パターンのデータが得られるものである。また、このケミカル汚染（成分）検出センサ４ｏには、水晶振動子の共振周波数の変化からケミカル汚染度（量・濃度）をリアルタイムでモニタするものもある。
また、循環気ＣＡの排気ＥＡ（排気口の開閉）については、制御装置Ｓが必要に応じて制御しても良いが、また別（例えば、空気圧センサ等）の制御によっても良いことは明白である。
なお、空気清浄化装置（方法）ＡＣｏ、ＡＣｃの詳細については、後に述べる。
【００１７】
図３は、図１の空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏを示す縦断面の概略図である。
図において、「平常時（外気ＯＡを取入れない時）」、また「外気ＯＡの取入れ時」のいずれの場合にも共通しているので、以下（図４、図５も）において、この両者を区分しないで説明する。
ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏのいずれもが、ケミカル汚染物質を検出しないときは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡはダンパー（通気路開閉手段。以下同じ）６ｃ、６ｏによって直進（後述の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏへ迂回しない）する。すなわち、その通気は、エアファン８ｃ、８ｏによって、エアウォッシャー５ｃ、５ｏ、および集塵型フィルタ［集塵型のＵＬＰＡフィルタ、ＨＥＰＡフィルタ、中性能フィルタ等を含む。ただし、前述の天井（別の集塵型フィルタ等を含む）２とは区分する。以下、同じ］７ｃ、７ｏを通過し、平常どおりパーティクル汚染物質及びケミカル汚染物質を除去する。エアウォッシャー５ｃ、５ｏは、パーティクル汚染物質とともに、どちらかといえばケミカル汚染物質（アンモニア、ＳＯｘ、塩酸等の水溶性物質）を除去する。なお、パーティクル汚染物質の除去については、さらにクリーンルーム１の天井（別の集塵型フィルタ等を含む）２によっても除去される。
【００１８】
ケミカル汚染（成分）検出センサ４ｓ、４ｒ、４ｏのいずれかが、ケミカル汚染物質を検出したときは、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡはダンパー［の開閉駆動部（図示しない）を制御する。以下同じ］６ｃ、６ｏによって、エアウォッシャー５ｃ、５ｏ、ケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏ［空気が通路を分流（迂回）して］、および集塵型フィルタ７ｃ、７ｏを通過し、パーティクル汚染物質およびケミカル汚染物質をともに除去する。このとき、ダンパー６ｃ、６ｏの開閉駆動部の制御は、正確にはケミカル汚染物質の成分やその量（濃度）によって、直進〜迂回する空気の通風量（分流の通風面積比。すなわち、ダンパー６ｃ、６ｏによる両通気路開閉面積比。通気路の全開〜半開〜全閉）を自在に可変する。したがって、▲１▼ケミカル汚染物質が検出されなければ直進のみ、▲２▼ケミカル汚染物質の検出が少なければ直進を優先（迂回は少し）し、▲３▼ケミカル汚染物質の検出が増えれば、その成分や量に応じて迂回優先へと移行し、▲４▼ケミカル汚染物質の検出が多くなれば迂回のみの最優先となる。さらに言い換えると、高価なケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏを不要に通過しない（使用制限する）ように自動制御する。この場合、このダンパー６ｃ、６ｏの自動制御は、ケミカル汚染物質の影響度（フィルタ除去の困難さや高価なこと）を換算し基準値に対して偏差（値）を設け、例えば、パーティクル汚染物質よりもケミカル汚染物質を優先させる（必ずしも、両汚染物質量の比例関係である必要はない）ことができる。
そして、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内はエアファン８ｃ、８ｏによって、クリーンルーム１内の空気を循環（または換気）して清浄化を維持されるが、夫々の空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内の通気量は制御装置Ｓによって夫々の駆動部（図示しない）が自動制御される。また、空気清浄化装置（方法）ＡＣｃ、ＡＣｏ内のエアファン８ｃ、８ｏは、いずれも吸引側としているが、押圧側であっても良いことは明白である。
なお、ケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏ（の各駆動装置１４ｏ）の詳細については後述する。
【００１９】
図４は、図３のケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏを示す縦断面の概略図である。
図において、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、及び紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの夫々の駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏのシャフト１１ｃ、１１ｏは、外壁１５ｃ、１５ｏにその先端を固定されたシャフト支持具１２ｃ、１２ｏによって支持されている。
上述のとおり、ケミカル汚染物質の検知時には、制御装置Ｓからの出力を受けて光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、及び紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏが夫々の駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏによって回動が制御される。
区画壁１３ｃ、１３ｏは、外壁１５ｃ、１５ｏに固定され、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの最外径（図５の（ｂ）で後述する）に近接して配置し、循環気ＣＡ（環気ＲＡ）、外気ＯＡ〜給気ＳＡが洩れなく光触媒フィルタ９ｃ、９ｏを通過するように構成している。
光触媒フィルタ９ｃ、９ｏは、例えば多数の通気孔を有するハニカム構造とされ、その各通気孔の内周表面には酸化チタンや酸化亜鉛等でなる光励起触媒物質が塗布或いは添着され、ケミカル汚染物質の吸着型フィルタを構成している。つまり、各通気孔の内周面（表面）に処理流体としてのケミカル汚染空気が吸着（化学結合）〜分解され、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏによって、紫外線が各通気孔の内周表面を照射することによって、光励起触媒物質による触媒作用が付与され、空気清浄化、脱臭効果や殺菌効果等が得られる。
【００２０】
図においては、２つの光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの間に１つの紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏを配置した構成を示したが、他の各種組合せの構成（パターン）は自在である。
また、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏは、平板（やその凹凸変形等）状、図のような厚肉（通気孔）状、プロペラ・羽根状、シロッコファン状等の各種形状をとることができる。また、上記の平板（やその凹凸変形）状、厚肉（孔）状の場合の通気孔は、円形、多角形等の各種孔形状を問わない。
いずれにしても、ケミカル汚染物質を積極的に吸着（捕捉）するため、静止状態の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏで待ち受けるよりも、自在（後述）に回動（制御）させることによって、より積極的に撹乱して空気中のケミカル汚染物質を触れさせ、吸着（捕捉効果をあげる）させることができる。
光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの駆動装置（Ｍ）１４ｃ、１４ｏによる回動（回転数、回転方向、その可変回転速度（停止も含む）、回転時間等）は、空気中のケミカル汚染物質の成分や濃度の多少に応じて決められるべきものである。例えば、ケミカル汚染物質の変動に応じて、前後の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回転数を変えたり、回転方向を変えたり、回転・停止時間を変えたり、自在に設定（制御）することができる。
なお、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの回動は、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回動に対応させてより有効な光触媒効果を得るために、上述の光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの回動と全く同様に、自在に設定（制御）される。すなわち、回動する光触媒フィルタ９ｃ、９ｏに対して、紫外線を光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ表面に満遍なく当てるために、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの回動（光源点が相互に移動する）によって当たらない部分を無くすることができる。また、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの光量・照度を必要に応じて自在に可変しても良い。
なお、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏ、および紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの各回動は、ケミカル汚染物質の検出時のみ回動（および、同ランプ点灯）するのを基本とし、かつ低速度を基本とする。
【００２１】
図５は、図４のケミカルフィルタＣＦｃ、ＣＦｏの横断面の概略を示し、（ａ）は断面Ａ−Ａ′図、（ｂ）は断面Ｂ−Ｂ′図、（ｃ）は断面Ｃ−Ｃ′図である。
図において、（ａ）は、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの駆動装置１４ｃ、１４ｏのシャフト１１ｃ、１１ｏが、外壁１５ｃ、１５ｏとシャフト支持具１２ｃ、１２ｏによって支持されて、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏが回動（制御）する。
（ｂ）は、外壁１５ｃ、１５ｏの区画壁１３ｃ、１３ｏの内径が、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの最外径よりも小さな径としている。これは図４にも示した通り、ケミカル汚染物質を含んだ空気の洩れ［空気の（前後の）光触媒フィルタ９ｃ、９ｏの通過洩れ］を防ぐものである。すなわち、空気が区画壁１３ｃ、１３ｏの内径内を通り、光触媒フィルタ９ｃ、９ｏを通過することができる。
（ｃ）は、紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏの駆動装置１４ｃ、１４ｏが、シャフト１１ｃ、１１ｏに支持され回動（制御）する。
紫外線ランプ１０ｃ、１０ｏは、発光ダイオード、蛍光灯、ＥＬ等よりなり、その形状は通気路の通風抵抗等によって多様に決まり、特に（図のような）扇形にこだわるものではない。
【００２２】
また、もしクリーンルーム１内の空気中の特定物質が何らかの原因（天災、人災等の異変時等）で急変増加しても、リアルタイムにその濃度検出及びその変化を監視しているので、報知・表示等の装置を併設・連動させることにより、機敏な応急処置によって生産品の不良を速やかに最小限に抑えることができる。
【００２３】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、
▲１▼空気中のケミカル汚染物質の成分、濃度、その増減（変動）変化状況をインラインでリアルタイムに監視し、如何なる異変に対しても対応でき、常に一定の濃度以下に抑えて空気の清浄化が維持できる。
▲２▼ケミカルフィルタは、ケミカル汚染物質の検出時にのみ使用する（パーティクル汚染物質のみの検出時は使用しない）ので、長い寿命（メンテナンスの軽減化等）や低価のランニングコスト等の効果が得られる。
▲３▼ケミカル汚染物質のみをリアルタイムに監視し、その成分・濃度等に応じて、ケミカルフィルタ通過量を自在に可変・最適化し、ケミカルフィルタにパーティクル汚染物質が不要に通過するのを制限することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
本発明の一実施例の（例えば）クリーンルーム内の空気を清浄化する全体構成
の概要を示す模擬図
【図２】
図１の制御装置を示す概要図
【図３】
図１の空気清浄化装置（方法）を示す縦断面の概略図
【図４】
図３のケミカルフィルタを示す縦断面の概略図
【図５】
（ａ）は図４のケミカルフィルタの概略横断面のＡ−Ａ′断面図
（ｂ）は同Ｂ−Ｂ′断面図
（ｃ）は同Ｃ−Ｃ′断面図
【符号の説明】
１…クリーンルーム
２…天井（別の集塵型フィルタ）
３…床
ＳＡ…給気
４ｓ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＲＡ…環気
４ｒ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＣＡ…循環気
ＯＡ…外気
４ｏ…ケミカル汚染（成分）検出センサ
ＥＡ…排気
ＡＣｃ，ＡＣｏ…空気清浄化装置（方法）
５ｃ，５ｏ…エアウォッシャー
６ｃ，６ｏ…ダンパー（通気路開閉手段）
７ｃ，７ｏ…集塵型フィルタ
８ｃ，８ｏ…エアファン
ＣＦｃ，ＣＦｏ…ケミカルフィルタ
９ｃ，９ｏ…光触媒フィルタ
１０ｃ，１０ｏ…紫外線ランプ
１１ｃ，１１ｏ…シャフト
１２ｃ，１２ｏ…シャフト支持具
１３ｃ，１３ｏ…区画壁
１４ｃ，１４ｏ…駆動装置
１５ｃ，１５ｏ…外壁
Ｓ…制御装置
１６…データ入力部
１７…演算／検出部
１８…出力部[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an air cleaning method and apparatus for removing a chemical contaminant in real time by a control device when a chemical contaminant is detected in a space where a high degree of cleanliness is required.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, for example, in a clean room such as a semiconductor production factory, in order to maintain a high degree of cleanness, air in the room is constantly circulated or outside air is taken in, and in any case, a corresponding cleaning device ( Method) to remove specific substances (specific fine particles such as particles such as dust, boron compounds, acidic substances, alkaline substances, organic compounds and gaseous substances) in the air.
[0003]
That is, the removal of the particle contaminants is technically sufficiently eliminated mainly by various dust collecting filters (HEPA filters, ULPA filters, etc.). Regarding the removal of chemical (molecular) contaminants, various chemical / adsorption type filters (air washers, activated carbon filters, photocatalytic filters, etc.) have already been proposed (parts which cannot be said to have been sufficiently eliminated). Although there is).
Among them, the following are known as those relating to the present invention.
Related to a photocatalyst and a light-emitting diode that emits ultraviolet rays (for example, see Patent Document 1), to a photocatalyst filter (honeycomb) and to a photodeodorizing lamp (for example, see Patent Document 2), to a photocatalyst (honeycomb), to ultraviolet rays, and to flow inhibition means. (For example, refer to Patent Document 3), a high-performance filter, and a device relating to air volume adjustment damper control using a cleanliness sensor (for example, refer to Patent Document 4).
[0004]
[Patent Document 1]
JP-A-9-940 (page 4-8, FIG. 1-5)
[Patent Document 2]
JP-A-2000-102596 (page 3, FIG. 1, FIG. 7)
[Patent Document 3]
JP-A-2001-190646 (pages 2-4, FIG. 1-3)
[Patent Document 4]
JP-A-6-185775 (page 3-4, FIG. 1-2)
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
That is, for example, contamination of a clean room or the like is roughly considered to be a particle contaminant and a chemical contaminant, and enters / occurs from the outside air, from a worker (in / out), or from a work site, respectively. Therefore, such measures as cleaning, deodorizing, antibacterial / sterilizing, and antifouling are indispensable requirements. For this purpose, various measures have been taken. However, simply arranging both contaminant filters in series simply requires unnecessary use of chemical filters even when only particles are contaminated (when there is no chemical contamination). Will be done. However, in particular, chemical filters are expensive and have a short life. Therefore, if they are used regularly, running costs, maintenance, replacement, and the like are serious problems.
The present invention provides a method (apparatus) for monitoring and detecting only the presence or absence of a chemical contaminant, in order to solve such a problem.
In other words, a chemical contamination detection sensor is installed at a predetermined (ventilated) place, its components, concentrations and changes are monitored in real time, and only when a chemical contaminant is detected, the amount of air passing through the chemical filter can be freely adjusted according to the state. (The amount of opening / closing to the bypass ventilation path) to control the use condition of the chemical filter, thereby optimizing the removal of chemical contaminants and the use of the chemical filter.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
The air cleaning method of the present invention detects a chemical contaminant in the air in real time by a chemical contamination detection sensor, and branches to a dust collecting filter and a chemical filter in the air cleaning device by a control device that receives the detection. The air flow rate of each of the air passages is calculated, and the air passage opening / closing means is controlled in accordance with the calculated air flow rates.
[0007]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The air purifying method and the air purifying method according to the present invention are characterized in that a chemical contaminant is detected in real time by a chemical contaminant detection sensor, and the air purifying device is controlled by a control device receiving the detection. It is.
According to the present invention described in claims 1 and 2,
(1) In-line, real-time monitoring of the components, concentrations, and fluctuations (changes) of chemical contaminants in the air, responding to any abnormalities, and purifying the air by always keeping the concentration below a certain level. Can be maintained.
(2) Since the chemical filter is used only when detecting chemical contaminants (not used when detecting only particle contaminants), effects such as a long life (reduction of maintenance, etc.) and low running cost can be obtained. Can be
(3) To monitor only chemical contaminants in real time, freely adjust and optimize the amount of chemical filter passage according to their components and concentrations, and limit unnecessary passage of particle contaminants through chemical filters. Can be.
[0008]
According to the present invention described in claims 3 and 4,
{Circle around (1)} The chemical contaminants in the air are positively captured (adsorbed / captured), and the removal effect of the chemical filter can be further enhanced. In other words, instead of simply waiting for the chemical contaminants to come in contact with the air flow when the photocatalytic filter is stationary (non-rotating), the air being ventilated is actively disturbed by rotating the photocatalytic filter. -The chemical contaminants can be positively captured by stirring.
(2) Since the light spot (light source) of the ultraviolet lamp moves (rotates mutually) on the surface of the photocatalyst filter, the light spot moves and fluctuates on the surface of the photocatalyst filter. The entire surface of the filter can be illuminated throughout (to every corner), and the chemical contaminants adsorbed on the surface can be decomposed / removed. In other words, the adsorptive properties (chemical bonds) of the photocatalytic filter surface are constantly regenerated, and the life is extended. Can be maintained for a long time.
[0009]
According to the present invention described in claims 5 and 6,
{Circle around (1)} In addition to the effects of claims 3 and 4, the fine-grained rotation control of the photocatalyst filter and the ultraviolet lamp further optimizes the efficiency of the photocatalyst filter for capturing chemical contaminants and the regeneration efficiency of its surface. Yes (the conditions of each selection and setting can be controlled).
[0010]
According to the present invention as set forth in claim 7,
{Circle around (1)} Each chemical contamination detection sensor is installed at an essential minimum point, at least contamination of outside air intake, total contamination of mixture of outside air and circulation air, purification of circulation air, contamination of air circulation (for example, , The status of contamination in the clean room) can be monitored and detected in real time (without losing timing).
[0011]
According to the present invention as set forth in claim 8,
(1) Air containing chemical contaminants can be passed (without leakage) through the photocatalytic filter.
[0012]
【Example】
Hereinafter, as an embodiment of the air cleaning method and the apparatus of the present invention, an embodiment in a clean room will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating an outline of an overall configuration for cleaning air in a clean room 1.
In the figure, first, in normal times (when outside air OA is not taken in), the supply air SA of the circulating air CA is a ceiling (a ceiling having a configuration including another dust collection type ULPA filter, HEPA filter, medium performance filter, etc.) 2 From the clean room 1. Production processing, assembly and inspection of semiconductors and the like are performed in the clean room 1, and new specific pollutants [particle contaminants such as dust, organic solvents (gas), odor components, and the like] are generated in the process, work, transfer, and storage process. Chemical (molecular) contaminants], and may contaminate the air in the clean room 1. In any case, the air in the clean room 1 passes through the floor 3 and becomes the air RA to the air purifying apparatus (method) ACc, and further becomes the circulating air CA in the clean room 1 again. Here, the chemical contamination (component) detection sensor 4s detects a chemical contaminant (refers to a molecular organic gas portion, etc .; hereinafter the same) in the supply air SA of the circulating gas CA in real time (inline or the like), The contamination (component) detection sensor 4r detects the chemical contaminants of the air RA from the clean room 1 in real time.
[0013]
On the other hand, when the outside air OA is taken in, first, the chemical pollution (component) detection sensor 4o detects the chemical contaminants contained in the outside air OA [odor components and harmful substances (such as dioxins, NOx, VOC, etc.). )] Is detected in real time. Then, the outside air OA is supplied into the clean room 1 through the air cleaning device (method) ACo, and is supplied into the clean room 1. The air (outside air OA) thereafter merges with the circulating air CA, and is circulated in the same manner as in the above-described normal state. The air circulates as a circulation air RA / circulation air CA by following a passage (description is omitted).
Further, the intake of outside air OA into the clean room 1, the purification and circulation of air, and the exhaust EA to the outside are all performed by the air purifiers (methods) ACc and ACo air fans 8c and 8o (described later). The operation (rotation) of drive control (described later) is controlled (described later) as necessary.
In normal times, drive control (described later) of only the air purifying device (method) ACc is performed, but when taking in outside air OA, both drive control of the air purifying device (method) ACc and ACo are performed (described later). To do).
As one embodiment of the present invention, a clean room 1 will be described below. However, the present invention is similarly applied to other embodiments requiring a high degree of cleanliness, such as those related to food hygiene and medical care. .
[0014]
FIG. 2 is a schematic diagram showing the control device S of FIG.
In the drawing, first, during normal times (when outside air OA is not taken in), as described above, during the supply air SA after the circulation air CA has passed through the ceiling (configuration including another dust collecting filter) 2 of the clean room 1. The contained chemical contaminants are detected in real time by the chemical contaminant (component) detection sensor 4s, and furthermore, the chemical contaminants in the air RA to the floor 3 after passing down the clean room 1 are detected. 4s, the detection signals from the chemical contamination (component) detection sensors 4s, 4r are input to the data input unit 16 of the control device S. Therefore, the two detection signals are processed by the data input unit 16 and the arithmetic / detection unit 17 of the control device S, and are output from the output unit 18. That is, an opening / closing drive unit (not shown) of the damper (air passage opening / closing means) 6c of the air cleaning device (method) ACc, each drive device 14c of the chemical filter CFc (FIGS. 4 and 5 described later), the air, It is output to a drive unit (not shown) of the fan 8c and automatically controls each drive (the number of revolutions, etc.).
[0015]
Next, when the outside air OA is taken in, the chemical contaminants contained in the outside air OA are detected in real time by the chemical contamination (component) detection sensor 4o, and the ceiling 2 of the clean room 1 is passed through the air cleaning device (method) ACo. Chemical contaminants in the supply air SA after passing therethrough are detected in real time by the chemical contamination (component) detection sensors 4s, and both detection signals of these chemical contamination (component) detection sensors 4o and 4s are used as data input portions of the control device S. 16 is input. Therefore, the two detection signals are processed by the data input unit 16 and the arithmetic / detection unit 17 of the control device S, and are output from the output unit 18. That is, an opening / closing drive unit (not shown) of the damper (air passage opening / closing means) 6o of the air cleaning device (method) ACo, each drive device 14o of the chemical filter CFo (FIGS. It is output to a drive unit (not shown) of the fan 8o, and automatically controls each drive (rotation speed, etc.).
[0016]
As described above, the normal operation is performed by drive control (described later) of only the air cleaning device (method) ACc. That is, the drive control of the air cleaning device (method) ACc is performed by the detection of the chemical contamination (component) detection sensors 4s and 4r.
However, when the outside air OA is taken in, it is performed by both drive control (described later) of the air cleaning devices (methods) ACc and ACo. That is, the chemical contamination (component) detection sensor 4s at the time of taking in the outside air OA detects the chemical contaminants in the supply air SA, and the supply air SA exactly includes both the outside air OA and the circulation air CA. It is (joined). At the same time, the chemical contamination (component) detection sensor 4r detects a chemical contaminant in the air RA, and more precisely, this air RA includes both the outside air OA and the circulating air CA (combined). Things. In the case of taking in the outside air OA, the driving control of the air cleaning device (method) ACo is performed by the detection of the chemical contamination (component) detection sensors 4o and 4s, and at the same time, the driving control of the air cleaning device (method) ACc is performed. This is performed by detecting the chemical contamination (component) detection sensors 4s and 4r. These chemical contamination (component) detection sensors 4s, 4r, and 4o detect, for example, the adhesion (amount and speed) of chemical contaminants to the SiO ₂ surface in real time (continuous monitoring), and provide data on the contamination levels and behavior patterns. Is obtained. Some of the chemical contamination (component) detection sensors 4o monitor the degree of chemical contamination (amount / concentration) in real time from a change in the resonance frequency of the quartz oscillator.
Further, the control device S may control the exhaust EA (opening / closing of the exhaust port) of the circulating air CA as necessary, but it is apparent that the control may be performed by another control (for example, an air pressure sensor or the like). is there.
The details of the air cleaning devices (methods) ACo and ACc will be described later.
[0017]
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing the air cleaning devices (methods) ACc and ACo in FIG. 1.
In the drawing, since both cases of “normal time (when outside air OA is not taken in)” and “when outside air OA is taken” are common, both will be described below (also in FIGS. 4 and 5). It will be explained without dividing.
When none of the chemical contamination (component) detection sensors 4s, 4r, and 4o detect a chemical contaminant, the air cleaning device (method) ACc, the circulating air CA (circular air RA) in the ACo, and the outside air OA. The supply air SA travels straight (does not detour to photocatalyst filters 9c, 9o to be described later) by dampers (air passage opening / closing means; the same applies hereinafter) 6c, 6o. That is, the ventilation is performed by the air fans 8c, 8o, the air washers 5c, 5o, and the dust collecting filter [including a dust collecting ULPA filter, a HEPA filter, a medium performance filter, and the like. However, it is distinguished from the above-mentioned ceiling (including another dust collecting type filter or the like) 2. Hereinafter, the same is applied] 7c and 7o, and the particle contaminants and the chemical contaminants are removed as usual. The air washers 5c and 5o remove the chemical contaminants (water-soluble substances such as ammonia, SOx, and hydrochloric acid) rather than the particle contaminants. The particle contaminants are also removed by the ceiling (including another dust collecting filter) 2 of the clean room 1.
[0018]
When any of the chemical contamination (component) detection sensors 4s, 4r, and 4o detects a chemical contaminant, the air cleaning device (method) ACc, the circulating air CA (circular air RA) in the ACo, and the outside air OA. The air supply SA controls an opening / closing drive unit (not shown) of the damper [. The same applies hereafter] 6c, 6o, the air washers 5c, 5o, the chemical filters CFc, CFo [the air diverges (bypasses) the passage], and the dust collecting filters 7c, 7o, and the particle contaminants and the chemical contamination. Remove material together. At this time, the opening / closing drive units of the dampers 6c and 6o are controlled by the amount of the chemical contaminant and the amount (concentration) of the chemical contaminant, that is, the amount of air passing from the straight line to the bypass (the ratio of the area of the air passing through the branch stream; , 6o, the opening / closing area ratio of the two ventilation paths. Therefore, if (1) chemical contaminants are not detected, only straight ahead, (2) if there is little detection of chemical contaminants, straight ahead (slight detour), and (3) if detection of chemical contaminants increases, It shifts to detour priority according to the component and the amount. (4) If the detection of chemical contaminants increases, the detour only becomes the top priority. In other words, the automatic control is performed so that the expensive chemical filters CFc and CFo do not pass unnecessarily (use is restricted). In this case, the automatic control of the dampers 6c and 6o converts the degree of influence of the chemical contaminant (difficulty of removing the filter or is expensive) to provide a deviation (value) with respect to a reference value. Can also prioritize chemical contaminants (they need not necessarily be proportional to both pollutants).
The air in the clean room 1 is circulated (or ventilated) by the air fans 8c and 8o by the air fans 8c and 8o to maintain the air purifying devices (methods) ACc and ACo. The control unit S automatically controls the respective drive units (not shown) of the ventilation amounts in the ACc and ACo. Further, the air fans 8c and 8o in the air cleaning devices (methods) ACc and ACo are both on the suction side, but it is apparent that they may be on the pressing side.
The details of (the driving devices 14o of) the chemical filters CFc and CFo will be described later.
[0019]
FIG. 4 is a schematic diagram of a longitudinal section showing the chemical filters CFc and CFo of FIG.
In the figure, the shafts 11c, 11o of the drive devices (M) 14c, 14o of the photocatalyst filters 9c, 9o and the ultraviolet lamps 10c, 10o respectively have shaft supports 12c, 12o whose tips are fixed to outer walls 15c, 15o. Supported by
As described above, upon detection of a chemical contaminant, the rotation of the photocatalyst filters 9c and 9o and the ultraviolet lamps 10c and 10o is controlled by the respective driving devices (M) 14c and 14o in response to the output from the control device S. .
The partition walls 13c and 13o are fixed to the outer walls 15c and 15o, and are disposed close to the outermost diameters of the photocatalyst filters 9c and 9o (described later with reference to FIG. 5B). , The outside air OA to the supply air SA pass through the photocatalyst filters 9c and 9o without leakage.
Each of the photocatalyst filters 9c and 9o has, for example, a honeycomb structure having a large number of air holes, and a photo-excited catalyst material such as titanium oxide or zinc oxide is applied or attached to the inner peripheral surface of each air hole to prevent chemical contaminants. It constitutes an adsorption filter. That is, the chemically contaminated air as a processing fluid is adsorbed (chemical bond) to the inner peripheral surface (surface) of each vent hole, decomposed, and ultraviolet rays irradiate the inner peripheral surface of each vent hole by the ultraviolet lamps 10c and 10o. Thereby, a catalytic action by the photoexcited catalytic substance is imparted, and an air cleaning, a deodorizing effect, a sterilizing effect, and the like are obtained.
[0020]
In the figure, a configuration is shown in which one ultraviolet lamp 10c, 10o is arranged between two photocatalyst filters 9c, 9o, but the configuration (pattern) of other various combinations is free.
Further, the photocatalyst filters 9c and 9o can have various shapes such as a flat plate (or its irregular deformation), a thick wall (air hole) as shown, a propeller / blade shape, a sirocco fan shape, and the like. In addition, the air holes in the case of the above-mentioned flat plate (or its irregular deformation) or thick (hole) shape are not limited to various hole shapes such as a circle and a polygon.
In any case, since the chemical contaminants are positively adsorbed (captured), they can be freely (to be described later) rotated (controlled) rather than waiting with the photocatalytic filters 9c and 9o in a stationary state, so that they can be more positively affected. Disturbance allows chemical contaminants in the air to come into contact with and adsorb (increase the trapping effect).
The rotation (rotation speed, rotation direction, variable rotation speed (including stoppage), rotation time, etc.) of the photocatalyst filters 9c, 9o by the driving devices (M) 14c, 14o depends on the components and concentrations of the chemical contaminants in the air. It should be determined according to the degree of. For example, the number of rotations of the front and rear photocatalyst filters 9c and 9o can be changed, the rotation direction can be changed, the rotation / stop time can be changed, and the setting (control) can be freely performed according to the fluctuation of the chemical contaminants.
The rotation of the ultraviolet lamps 10c and 10o can be freely adjusted in exactly the same manner as the rotation of the photocatalyst filters 9c and 9o to obtain a more effective photocatalytic effect corresponding to the rotation of the photocatalyst filters 9c and 9o. Is set (controlled). That is, in order to uniformly apply the ultraviolet rays to the rotating photocatalyst filters 9c and 9o, the portions that are not hit by the turning of the ultraviolet lamps 10c and 10o (the light source points move relative to each other) are used. Can be eliminated. Further, the light amounts and illuminances of the ultraviolet lamps 10c and 10o may be freely changed as needed.
The rotations of the photocatalyst filters 9c and 9o and the ultraviolet lamps 10c and 10o are based on rotation (and lighting of the lamp) only when a chemical contaminant is detected, and are based on low speed.
[0021]
5A and 5B schematically show cross sections of the chemical filters CFc and CFo shown in FIG. 4, wherein FIG. 5A is a cross-sectional view taken along line AA ', FIG. 5B is a cross-sectional view taken along line BB', and FIG. FIG.
In the figure, (a) shows that the shafts 11c, 11o of the driving devices 14c, 14o of the photocatalytic filters 9c, 9o are supported by the outer walls 15c, 15o and the shaft supports 12c, 12o, and the photocatalytic filters 9c, 9o rotate. (Control.
In (b), the inner diameter of the partition walls 13c, 13o of the outer walls 15c, 15o is smaller than the outermost diameter of the photocatalytic filters 9c, 9o. As shown in FIG. 4, this prevents leakage of air containing chemical contaminants [leakage of air through (the front and rear) photocatalyst filters 9c and 9o]. That is, the air can pass through the inner diameters of the partition walls 13c and 13o and pass through the photocatalytic filters 9c and 9o.
In (c), the driving devices 14c and 14o of the ultraviolet lamps 10c and 10o are supported by the shafts 11c and 11o to rotate (control).
The ultraviolet lamps 10c and 10o are made of a light emitting diode, a fluorescent lamp, an EL, or the like, and the shape thereof is variously determined by the ventilation resistance of the ventilation path, and is not particularly limited to a fan shape (as illustrated).
[0022]
Also, even if the specific substance in the air in the clean room 1 suddenly increases due to some cause (at the time of a natural disaster, man-made disaster, etc.), the concentration is detected and the change is monitored in real time. By connecting and interlocking the devices such as described above, it is possible to quickly minimize the defect of the product by quick emergency treatment.
[0023]
【The invention's effect】
According to the present invention as described above,
(1) In-line, real-time monitoring of the composition, concentration, and fluctuations (changes) of chemical contaminants in the air, responding to any abnormalities, and purifying the air by always keeping the concentration below a certain level. Can be maintained.
(2) Since the chemical filter is used only when detecting chemical contaminants (not used when detecting only particle contaminants), effects such as long service life (reduction of maintenance, etc.) and low running cost can be obtained. Can be
(3) Monitor only chemical contaminants in real time, and freely change and optimize the amount of chemical filter passage according to their components and concentrations, etc., to limit unnecessary passage of particle contaminants through chemical filters. Can be.
[Brief description of the drawings]
FIG.
FIG. 2 is a schematic diagram showing an outline of an overall configuration for purifying air in a clean room (for example) according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic diagram showing the control device of FIG. 1;
FIG. 4 is a schematic diagram of a longitudinal section showing the air cleaning apparatus (method) of FIG. 1;
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the chemical filter of FIG. 3;
(A) is a schematic cross-sectional view of the chemical filter of FIG. 4 taken along the line AA '.
1: Clean room 2: Ceiling (another dust filter)
3 ... floor SA ... air supply 4s ... chemical contamination (component) detection sensor RA ... air 4r ... chemical contamination (component) detection sensor CA ... circulating air OA ... outside air 4o ... chemical contamination (component) detection sensor EA ... exhaust ACc, ACo: Air purification device (method)
5c, 5o ... air washer 6c, 6o ... damper (airway opening / closing means)
7c, 7o: dust collecting filters 8c, 8o: air fans CFc, CFo: chemical filters 9c, 9o: photocatalytic filters 10c, 10o: ultraviolet lamps 11c, 11o: shafts 12c, 12o: shaft supports 13c, 13o: partition walls 14c, 14o Drive devices 15c, 15o Outer wall S Control device 16 Data input unit 17 Calculation / detection unit 18 Output unit

Claims

Chemical contaminants in the air are detected in real time by the chemical contamination detection sensor,
The control device that has received this detection calculates the amount of air passing through each passage of the air that branches to the dust collecting filter and the chemical filter in the air cleaning device,
An air cleaning method characterized by controlling a ventilation path opening / closing means according to the calculated ventilation amount.

The chemical contamination detection sensor that detects the chemical contaminants in the air in real time,
The control device that controls the air passage opening / closing unit that branches to the dust collecting filter and the chemical filter in the air cleaning device in response to the detection of the chemical contamination detection sensor. An air purifier that is a feature.

Detecting the chemical contaminants in the air in real time by the chemical contamination detection sensor,
2. The air cleaning method according to claim 1, wherein the rotation of the photocatalyst filter and the ultraviolet lamp of the chemical filter is controlled by the control device having received the detection.

Detecting the chemical contaminants in the air in real time by the chemical contamination detection sensor,
2. The air cleaning method according to claim 1, wherein the control device receives the detection and controls the rotation of either the photocatalytic filter or the ultraviolet lamp of the chemical filter.

The rotation of the photocatalytic filter controlled by the control device,
5. The air cleaning method according to claim 1, wherein the number of rotations, the rotation direction, and the rotation time of the photocatalyst filter driving device are set.

5. The air according to claim 1, wherein the rotation of the ultraviolet lamp controlled by the control device is a rotation speed, a rotation direction, and a rotation time of a driving device of the ultraviolet lamp. 6. Cleaning method.

Detecting the chemical contaminants in the air in real time by the chemical contamination detection sensor,
3. The air cleaning method and apparatus according to claim 1, wherein the rotation of an air fan in the air cleaning device is controlled by the control device having received the detection.

The chemical contamination detection sensor for detecting a chemical contaminant in the air,
7. The air cleaning method according to claim 1, wherein at least the chemical contaminants of air supply, air circulation, and outside air are detected.

The outermost diameter of the photocatalytic filter of the chemical filter,
3. The air purifying apparatus according to claim 2, wherein the diameter is larger than the inner diameter of the partition wall.