JP4888651B2

JP4888651B2 - Purified gas supply device

Info

Publication number: JP4888651B2
Application number: JP2007032935A
Authority: JP
Inventors: 明城市; 力石井
Original assignee: Nichias Corp
Current assignee: Nichias Corp
Priority date: 2007-02-14
Filing date: 2007-02-14
Publication date: 2012-02-29
Anticipated expiration: 2027-02-14
Also published as: JP2008194626A

Description

本発明は、浄化気体供給装置に関し、特に、気体を浄化するフィルタを備えた浄化気体供給装置に関する。 The present invention relates to a purified gas supply device, and more particularly to a purified gas supply device including a filter that purifies gas.

空気中の微粒子や化学汚染物質の除去等のために用いられる浄化気体供給装置としては、例えば、ファンフィルタユニット、空気清浄機、空調装置が挙げられる。 Examples of the purified gas supply device used for removing fine particles and chemical contaminants in the air include a fan filter unit, an air cleaner, and an air conditioner.

すなわち、例えば、半導体ウェハの処理装置においては、空気中の塩基性物質や酸性物質による当該処理装置内の好ましくない化学反応等を回避するため、当該処理装置外の空気から塩基性物質や酸性物質を除去し、浄化された空気を当該処理装置内に供給する装置が搭載される。 That is, for example, in a semiconductor wafer processing apparatus, in order to avoid undesired chemical reactions in the processing apparatus due to basic substances or acidic substances in the air, basic substances or acidic substances are removed from the air outside the processing apparatus. And a device for supplying purified air into the processing apparatus.

また、例えば、食品や医薬品等の製造工場においては、食品や医薬品の化学物質による汚染防止、工場内の異臭発生防止、除菌等の目的で、ファンフィルタユニットや空気清浄機が用いられる。また、例えば、一般家屋、病院等の施設においては、シックハウス症候群の予防、異臭発生防止、除菌等の目的で、空気清浄機や空気清浄機能を備えた空調装置が用いられる。 In addition, for example, in a factory for manufacturing foods and pharmaceuticals, a fan filter unit and an air purifier are used for the purpose of preventing contamination of foods and pharmaceuticals by chemical substances, preventing the generation of off-flavors in the factory, and sterilization. Further, for example, in facilities such as general houses and hospitals, air purifiers and air conditioners having an air purifying function are used for the purpose of preventing sick house syndrome, preventing off-flavor generation, sterilization, and the like.

このような浄化気体供給装置は、目的に応じて様々な態様で設置されるが、その設置可能な空間が限られる場合もある。そこで、従来、例えば、天井に吊り下げられるファンフィルタユニットであって、当該天井に対向しない外装体の側面にプレフィルタを設けたもの（特許文献１参照）や、扁平なパネル状のユニットの扁平面にプレフィルタを設けたファンフィルタユニット（特許文献２参照）があった。
特開昭６２−２０２９４７号公報特許第３０６２６９３号公報 Such a purified gas supply device is installed in various modes depending on the purpose, but the space in which it can be installed may be limited. Therefore, conventionally, for example, a fan filter unit that is suspended from a ceiling, in which a prefilter is provided on a side surface of an exterior body that does not face the ceiling (see Patent Document 1), or a flat panel-like unit There was a fan filter unit (see Patent Document 2) provided with a prefilter on the surface.
JP-A-62-202947 Japanese Patent No. 3062693

しかしながら、上記従来技術においては、気体の吸入口に設けられたフィルタが外装体やユニットの外面に沿って設けられていたため、例えば、当該外装体や当該ユニットが限られた空間内で壁面に沿って配置される場合には、以下のような問題点があった。 However, in the above prior art, since the filter provided at the gas inlet is provided along the outer surface of the exterior body or unit, for example, along the wall surface in a limited space of the exterior body or unit. However, there are the following problems.

まず、上記特許文献１に記載のような従来技術においては、例えば、壁面に対する方向における外装体の高さを低減しつつ気体の吸入量を増加させようとする場合には、吸入口のフィルタの表面積も低減されるため、当該フィルタの単位面積あたりの風速が増加するとともに、気体を吸入する際の通気抵抗が増加する。このような場合にフィルタとして、例えば、脱臭フィルタやケミカルフィルタのように触媒や吸着剤によって気体を浄化するフィルタを使用すると、次のような問題点があった。 First, in the prior art as described in Patent Document 1, for example, in order to increase the amount of gas sucked while reducing the height of the exterior body in the direction relative to the wall surface, Since the surface area is also reduced, the wind speed per unit area of the filter increases, and the ventilation resistance when inhaling gas increases. In such a case, when a filter that purifies gas with a catalyst or an adsorbent, such as a deodorizing filter or a chemical filter, is used, there are the following problems.

すなわち、脱臭フィルタやケミカルフィルタにおいては、気体がその内部を通過するのに要する時間（気体がフィルタ内に滞留する時間）が長いほど、触媒反応や物理吸着、化学吸着が起こりやすいため、気体中の汚染物質は除去されやすく、いわゆる除去効率が高くなる。したがって、フィルタの単位面積あたりの風速は低いほど有利である。しかしながら、上記従来技術では吸入口のフィルタの表面積が低減されるために、単位面積あたりの風速が高くなり、その結果、除去効率が低くなるという問題があった。 That is, in deodorizing filters and chemical filters, the longer the time required for the gas to pass through (the time during which the gas stays in the filter) is likely to cause catalytic reaction, physical adsorption, and chemical adsorption. These contaminants are easily removed, and so-called removal efficiency is increased. Therefore, the lower the wind speed per unit area of the filter, the more advantageous. However, since the surface area of the filter at the suction port is reduced in the above-described prior art, there is a problem that the wind speed per unit area is increased, and as a result, the removal efficiency is lowered.

また、単位面積あたりの風速が高くなり、除去効率が低くなると、フィルタの寿命、例えば、気体中の汚染物質の除去率が９０％を下回るまでの使用時間を示す９０％破過寿命等が短くなるという問題点があった。 In addition, when the wind speed per unit area increases and the removal efficiency decreases, the filter life, for example, 90% breakthrough life indicating the use time until the removal rate of contaminants in the gas falls below 90% is shortened. There was a problem of becoming.

このように、吸入口に脱臭フィルタやケミカルフィルタを設けた場合には、当該フィルタを通過する気体の速度が大きくなると、当該フィルタの劣化が早期に進行するといった問題があった。 As described above, when a deodorizing filter or a chemical filter is provided at the suction port, there is a problem that deterioration of the filter progresses early when the velocity of the gas passing through the filter increases.

また、上記特許文献２に記載のような従来技術においては、例えば、対向する壁面に挟まれた空間にユニットを配置する場合には、吸入口に設けられたフィルタが当該壁面に沿って配置されることとなるため、当該フィルタへの吸入抵抗が増加し、又は吸入が困難になるといった問題があった。 Further, in the related art as described in Patent Document 2, for example, when a unit is disposed in a space sandwiched between opposing wall surfaces, a filter provided at the suction port is disposed along the wall surface. Therefore, there is a problem that the suction resistance to the filter increases or the suction becomes difficult.

本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであって、限られた空間で壁面に沿って配置される場合であっても十分な量の浄化気体を安定して供給できる浄化気体供給装置を提供することをその目的の一つとする。 The present invention has been made in view of the above problems, and a purified gas supply device that can stably supply a sufficient amount of purified gas even when it is disposed along a wall surface in a limited space. Is one of its purposes.

上記課題を解決するための本発明の一実施形態に係る浄化気体供給装置は、気体を吸入して浄化するとともに、浄化された気体を排出する浄化気体供給装置であって、浄化された気体を排出する胴部と、前記胴部に吸入される気体を浄化するフィルタであって、前記胴部の幅方向内側に傾斜しつつ前記胴部の上流側に延びる少なくとも一つのフィルタと、を備えたことを特徴とする。こうすれば、限られた空間で壁面に沿って配置される場合であっても十分な量の浄化気体を安定して供給することができる。 A purified gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention for solving the above problems is a purified gas supply apparatus that inhales and purifies a gas and discharges the purified gas. A body part for discharging, and a filter for purifying gas sucked into the body part, and comprising at least one filter extending upstream of the body part while being inclined inward in the width direction of the body part. It is characterized by that. By so doing, a sufficient amount of the purified gas can be stably supplied even when it is disposed along the wall surface in a limited space.

また、前記フィルタは、互いに近づくよう傾斜しつつ前記胴部の上流側に延びる一対のフィルタであることとしてもよい。こうすれば、気体を吸入する面積を十分に確保することができるため、十分な量の浄化気体を安定して供給することができる。 Moreover, the said filter is good also as being a pair of filter extended in the upstream of the said trunk | drum, inclining so that it may mutually approach. In this case, a sufficient area for inhaling the gas can be secured, so that a sufficient amount of purified gas can be stably supplied.

また、前記フィルタは、前記胴部の幅方向一方側の外面に沿った方向に対して傾斜しつつ前記胴部の上流側に延びることとしてもよい。こうすれば、胴部が壁面に沿って配置される場合であっても、十分な量の浄化気体を安定して供給することができる。 Moreover, the said filter is good also as extending to the upstream of the said trunk | drum, inclining with respect to the direction along the outer surface of the width direction one side of the said trunk | drum. By so doing, a sufficient amount of the purified gas can be stably supplied even when the body portion is disposed along the wall surface.

また、前記胴部の幅方向一方側の外面には、浄化された気体が排出される排出口が形成されていることとしてもよい。こうすれば、胴部の排出口の形成された外面が壁面に沿って配置される場合であっても、十分な量の浄化気体を安定して供給することができる。 Further, a discharge port through which the purified gas is discharged may be formed on the outer surface on one side in the width direction of the body portion. In this way, even if the outer surface on which the discharge port of the trunk portion is formed is arranged along the wall surface, a sufficient amount of purified gas can be stably supplied.

以下に、本発明の一実施形態に係る浄化気体供給装置について、図面を参照しつつ説明する。図１及び図２は、それぞれ本実施形態に係る浄化気体供給装置（以下、「本装置１」という）の側面図及び平面図である。 Hereinafter, a purified gas supply apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. 1 and 2 are a side view and a plan view, respectively, of a purified gas supply device (hereinafter referred to as “the present device 1”) according to the present embodiment.

図１及び図２に示すように、本装置１は、気体を吸入して浄化する入口部１０と、当該入口部１０において浄化された気体を排出する胴部２０と、を備えている。 As shown in FIGS. 1 and 2, the apparatus 1 includes an inlet portion 10 that sucks and purifies gas, and a body portion 20 that discharges the gas purified at the inlet portion 10.

入口部１０は、胴部２０の上流側（図１に示す矢印Ａの指す側）において、当該胴部２０から更に上流側に延び出すよう設けられている。この入口部１０には、当該入口部１０を介して胴部２０に吸入される気体を浄化する入口フィルタ３０が設けられている。 The inlet portion 10 is provided on the upstream side of the trunk portion 20 (the side indicated by the arrow A shown in FIG. 1) so as to extend further upstream from the trunk portion 20. The inlet portion 10 is provided with an inlet filter 30 for purifying gas sucked into the trunk portion 20 through the inlet portion 10.

入口フィルタ３０は、図１に示すように、胴部２０の幅Ｗ方向内側に傾斜しつつ、当該胴部２０の上流側に延びている。ここで、胴部２０の幅Ｗとは、図１に示すように、入口部１０から胴部２０への気体の主な流入方向Ｃ（以下、「送風方向Ｃ」という）に略直行する方向（幅方向）における、当該胴部２０の一方側の外面２３（以下、「上面２３」という）と、当該上面２３に対向する当該胴部２０の他方側の外面２４（以下、「下面２４」という）と、の距離である。 As shown in FIG. 1, the inlet filter 30 extends to the upstream side of the trunk portion 20 while being inclined inward in the width W direction of the trunk portion 20. Here, as shown in FIG. 1, the width W of the trunk portion 20 is a direction substantially perpendicular to the main inflow direction C of gas from the inlet portion 10 to the trunk portion 20 (hereinafter referred to as “air blowing direction C”). The outer surface 23 on one side of the trunk portion 20 (hereinafter referred to as “upper surface 23”) and the outer surface 24 on the other side of the trunk portion 20 facing the upper surface 23 (hereinafter referred to as “lower surface 24”). )).

本実施形態において、入口フィルタ３０は、図１に示すように、本装置１の側面視においてＶ字を為すように配置される一対の入口フィルタ３１，３２を有している。すなわち、上面２３側の入口フィルタ３１（以下、「上側フィルタ３１」という）と、下面２４側の入口フィルタ３２（以下、「下側フィルタ３２」という）と、は互いに近づくよう鋭角を為して当該胴部２０の上流側に延びている。そして、上側フィルタ３１の外表面３１ａと下側フィルタ３２の外表面３２ａとは、Ｖ字を為すよう、いずれも胴部２０の幅Ｗ方向内側に傾斜しつつ、当該胴部２０の上流側に延びている。 In the present embodiment, the inlet filter 30 has a pair of inlet filters 31 and 32 arranged so as to form a V shape in a side view of the apparatus 1 as shown in FIG. That is, the inlet filter 31 on the upper surface 23 side (hereinafter referred to as “upper filter 31”) and the inlet filter 32 on the lower surface 24 side (hereinafter referred to as “lower filter 32”) form an acute angle so as to approach each other. It extends to the upstream side of the trunk portion 20. The outer surface 31a of the upper filter 31 and the outer surface 32a of the lower filter 32 are both inclined toward the inner side in the width W direction of the trunk portion 20 so as to form a V shape, and upstream of the trunk portion 20. It extends.

また、入口フィルタ３０は、胴部２０の幅Ｗ方向における一方側の外面である上面２３に沿った方向、及び当該上面２３に対向する他方側の外面である下面２４に沿った方向、に対して傾斜するよう延びている。すなわち、上側フィルタ３１は、胴部２０の上流側の端部であって上面２３側の端部付近から下面２４側に向けて傾斜し、下側フィルタ３２は、胴部２０の上流側の端部であって下面２４側の端部付近から上面２３側に向けて傾斜している。 Further, the inlet filter 30 has a direction along the upper surface 23 that is one outer surface in the width W direction of the body portion 20 and a direction along the lower surface 24 that is the other outer surface facing the upper surface 23. Extending so as to be inclined. That is, the upper filter 31 is an upstream end portion of the body portion 20 and is inclined from the vicinity of the end portion on the upper surface 23 side toward the lower surface 24 side, and the lower filter 32 is an upstream end of the body portion 20. And is inclined from the vicinity of the end on the lower surface 24 side toward the upper surface 23 side.

また、入口フィルタ３０は、胴部２０の上流側において、当該胴部２０の幅Ｗ内に設けられている。すなわち、一対の入口フィルタ３１，３２は、上面２３を上流側に仮想的に延長した面Ｓ１（以下、「仮想上面Ｓ１」という）と、下面２４を上流側に仮想的に延長した面Ｓ２（以下、「仮想下面Ｓ２」という）と、の間に配置されている。そして、上側フィルタ３１は、仮想上面Ｓ１から遠ざかるように傾斜しつつ上流側に延び、下側フィルタ３２は、仮想下面Ｓ２から遠ざかるように傾斜しつつ上流側に延びている。 Further, the inlet filter 30 is provided in the width W of the trunk portion 20 on the upstream side of the trunk portion 20. That is, the pair of inlet filters 31 and 32 includes a surface S1 (hereinafter referred to as “virtual upper surface S1”) in which the upper surface 23 is virtually extended upstream, and a surface S2 (in which the lower surface 24 is virtually extended upstream) ( (Hereinafter referred to as “virtual lower surface S2”). The upper filter 31 extends upstream while being inclined away from the virtual upper surface S1, and the lower filter 32 extends upstream while being inclined away from the virtual lower surface S2.

また、入口フィルタ３０は入口部１０に着脱可能に設けられている。すなわち、上側フィルタ３１及び下側フィルタ３２は、互いに独立して入口部１０から取り外し、又は入口部１０に取り付けることができる。 Moreover, the inlet filter 30 is provided in the inlet part 10 so that attachment or detachment is possible. That is, the upper filter 31 and the lower filter 32 can be detached from the inlet portion 10 or attached to the inlet portion 10 independently of each other.

なお、図２に示すように、上側フィルタ３１及び下側フィルタ３２は、並列に配置された２つのフィルタをそれぞれ有している。また、これら上側フィルタ３１及び下側フィルタ３２は平板形状に成形されている。 As shown in FIG. 2, the upper filter 31 and the lower filter 32 each have two filters arranged in parallel. The upper filter 31 and the lower filter 32 are formed in a flat plate shape.

また、本実施形態においては、入口フィルタ３０としてケミカルフィルタを用いている。このケミカルフィルタとしては、気体中の化学汚染物質を除去するものであれば特に限られず任意のものを選択して用いることができるが、例えば、空隙を多く有する無機繊維を骨格とした構造体に、気体中の有機物を物理吸着する活性炭やゼオライト、酸性物質や塩基性物質が効果的に化学吸着するイオン交換樹脂、活性炭やゼオライト等の多孔質体に塩基性物質や酸性物質を担持した化学吸着剤等の機能剤を高密度に担持したものを好適に用いることができる。 In the present embodiment, a chemical filter is used as the inlet filter 30. The chemical filter is not particularly limited as long as it removes chemical pollutants in the gas, and any filter can be selected and used. For example, in a structure having a skeleton of inorganic fibers having many voids. , Activated carbon and zeolite that physically adsorb organic substances in gas, ion exchange resin that effectively chemisorbs acidic and basic substances, and chemical adsorption in which porous substances such as activated carbon and zeolite carry basic substances and acidic substances What carried functional agents, such as an agent, at high density can be suitably used.

入口部１０内には、入口フィルタ３０を介して吸入された気体が一時的に蓄積されるとともに混合される空間として入口内空１１が形成されている。この入口内空１１は、離間して対向する上側フィルタ３１と下側フィルタ３２との間に形成され、当該上側フィルタ３１及び当該下側フィルタ３２を介して入口部１０の外部に連通している。 In the inlet portion 10, an inlet inner space 11 is formed as a space in which the gas sucked through the inlet filter 30 is temporarily accumulated and mixed. The inlet inner space 11 is formed between an upper filter 31 and a lower filter 32 that are spaced apart from each other, and communicates with the outside of the inlet portion 10 via the upper filter 31 and the lower filter 32. .

更に、入口部１０には、入口フィルタ３０における気体の流入抵抗の偏りを低減するための整流板４０が設けられている。この整流板４０は、入口フィルタ３０の下流側部分における流入抵抗を上流側部分に比して増加させるよう、入口内空１１における当該入口フィルタ３０の下流側の一部に対応する位置に配置されている。 Further, the inlet portion 10 is provided with a rectifying plate 40 for reducing the deviation of the gas inflow resistance in the inlet filter 30. The rectifying plate 40 is disposed at a position corresponding to a part of the inlet inner space 11 on the downstream side of the inlet filter 30 so as to increase the inflow resistance in the downstream part of the inlet filter 30 as compared with the upstream part. ing.

すなわち、整流板４０は、一対の入口フィルタ３１，３２に対応して設けられた一対の整流板４１，４２を有している。そして、一対の整流板４１，４２は、胴部２０の幅Ｗ方向内側に、入口フィルタ３１，３２の傾斜角度よりも大きな角度で傾斜しつつ、対応する一対の入口フィルタ３１，３２の下流端部付近から上流側に向けて延びている。なお、図２に示すように、一対の整流板４１，４２の各々は、一対の入口フィルタ３１，３２の各々が有する２つのフィルタに対応して、それぞれ並列に配置された２つの整流板を有している。 That is, the rectifying plate 40 has a pair of rectifying plates 41 and 42 provided corresponding to the pair of inlet filters 31 and 32. The pair of rectifying plates 41 and 42 are inclined inwardly in the width W direction of the body portion 20 at an angle larger than the inclination angle of the inlet filters 31 and 32, and the downstream ends of the corresponding pair of inlet filters 31 and 32. It extends toward the upstream side from the vicinity of the part. As shown in FIG. 2, each of the pair of rectifying plates 41, 42 includes two rectifying plates arranged in parallel corresponding to the two filters included in each of the pair of inlet filters 31, 32. Have.

胴部２０は、入口部１０の下流側に直列に設けられている。この胴部２０の上流側部分には送風機５０が設けられている。本実施形態において、送風機５０は、送風方向Ｃに沿って延びる回転軸５１と、当該回転軸５１を中心に回転可能に支持された羽根部５２と、を有する軸流ファンである。 The trunk portion 20 is provided in series on the downstream side of the inlet portion 10. A blower 50 is provided at an upstream portion of the trunk portion 20. In the present embodiment, the blower 50 is an axial fan having a rotating shaft 51 extending along the blowing direction C and a blade portion 52 that is rotatably supported around the rotating shaft 51.

この送風機５０は、図示しないモータ部を駆動させて、羽根部５２を回転軸５１周りに回転させることによって、本装置１内の気体を当該回転軸５１に沿った方向（すなわち、送風方向Ｃ）に流通させることができる。なお、図２に示すように、送風機５０は、一対の入口フィルタ３１，３２の各々が有する２つのフィルタに対応して、当該２つのフィルタの各々の下流側に並列に配置された２つの軸流ファンを有している。 The blower 50 drives a motor unit (not shown) to rotate the blade portion 52 around the rotation shaft 51, thereby causing the gas in the apparatus 1 to move in the direction along the rotation shaft 51 (that is, the blowing direction C). Can be distributed. As shown in FIG. 2, the blower 50 has two shafts arranged in parallel on the downstream side of each of the two filters corresponding to the two filters of each of the pair of inlet filters 31 and 32. Has a current fan.

胴部２０の送風機５０より下流側部分には、胴部内空２１と、出口フィルタ６０が設けられた排出口２２と、が形成されている。胴部内空２１は、入口部１０に吸入された気体を、本装置１の下流側に導く流路を構成する空間として形成されている。この胴部内空２１は、送風機５０を介して入口内空１１と連通し、排出口２２及び出口フィルタ６０を介して外部と連通している。 A body portion inner space 21 and a discharge port 22 provided with an outlet filter 60 are formed in a portion of the body portion 20 downstream of the blower 50. The trunk inner space 21 is formed as a space constituting a flow path for guiding the gas sucked into the inlet 10 to the downstream side of the apparatus 1. The trunk inner space 21 communicates with the inlet inner space 11 via the blower 50 and communicates with the outside via the discharge port 22 and the outlet filter 60.

排出口２２は、胴部２０の送風機５０より下流側の下面２４の一部に、当該胴部２０から気体を排出するための開口として形成されている。そして、出口フィルタ６０は、排出口２２を塞ぐように配置されている。この出口フィルタ６０は、その外表面６０ａが下面２４と略平行になるよう設けられ、排出口２２から排出される気体を浄化する。 The discharge port 22 is formed as an opening for discharging gas from the trunk portion 20 in a part of the lower surface 24 on the downstream side of the blower 50 of the trunk portion 20. And the exit filter 60 is arrange | positioned so that the discharge port 22 may be plugged up. The outlet filter 60 is provided so that its outer surface 60 a is substantially parallel to the lower surface 24, and purifies the gas discharged from the discharge port 22.

また、本実施形態においては、出口フィルタ６０として、平板状に成形された、気体中の粒子を除去する集塵フィルタを用いている。この集塵フィルタとしては、目的に応じて気体中の所望の種類や大きさの粒子を除去できるものであれば特に限られず任意のものを選択して用いることができるが、例えば、ＨＥＰＡフィルタ（ＨｉｇｈＥｆｆｉｃｉｅｎｃｙＰａｒｔｉｃｕｌａｔｅＡｉｒＦｉｌｔｅｒ）やＵＬＰＡフィルタ（ＵｌｔｒａＬｏｗＰｅｎｅｔｒａｔｉｏｎＡｉｒＦｉｌｔｅｒ）等を好適に用いることができる。 Moreover, in this embodiment, the dust collection filter which removes the particle | grains in gas formed in flat form as the exit filter 60 is used. The dust collection filter is not particularly limited as long as it can remove particles of a desired type and size in the gas according to the purpose, and any filter can be selected and used. For example, a HEPA filter ( A high efficiency particulate air filter (UL) filter or an ultra low penetration air filter (ULPA filter) can be suitably used.

図３は、このような本装置１を用いた浄化気体供給構造（以下、「本構造２」という）の一例についての説明図である。図４は、図３に示す本構造２の一部についての拡大図である。 FIG. 3 is an explanatory view of an example of a purified gas supply structure (hereinafter referred to as “the present structure 2”) using the present apparatus 1. FIG. 4 is an enlarged view of a part of the structure 2 shown in FIG.

本構造２においては、浄化された気体を供給すべき第一の部屋７０が、第二の部屋８０内に設置されている。そして、本装置１は、第一の部屋７０を構成する外壁７１の外面７２と、第二の部屋８０を構成する外壁８１の内面８２と、の間に配置されて、当該第一の部屋７０内に形成された空間である内空７４に浄化された気体を供給する。 In the present structure 2, the first room 70 to which the purified gas is to be supplied is installed in the second room 80. The apparatus 1 is disposed between the outer surface 72 of the outer wall 71 constituting the first chamber 70 and the inner surface 82 of the outer wall 81 constituting the second chamber 80, and the first chamber 70. Purified gas is supplied to the inner space 74 which is a space formed inside.

第一の部屋７０の外壁７１の一部には、当該第一の部屋７０内に浄化された気体を供給するための開口７３（以下、「供給口７３」という）が形成されている。そして、本装置１は、第一の部屋７０の外面７２の一部であって供給口７３が形成された面７２ａ（以下、「外面７２ａ」という）と、第二の部屋８０の内面８２の一部であって当該外面７２ａに対向する面（以下、「天井８２ａ」という）と、の間において、当該外面７２ａに取り付けられている。 An opening 73 (hereinafter referred to as “supply port 73”) for supplying the purified gas into the first chamber 70 is formed in a part of the outer wall 71 of the first chamber 70. The apparatus 1 includes a surface 72a (hereinafter, referred to as “outer surface 72a”) that is a part of the outer surface 72 of the first chamber 70 and in which the supply port 73 is formed, and an inner surface 82 of the second chamber 80. It is attached to the outer surface 72a between a part and a surface facing the outer surface 72a (hereinafter referred to as “ceiling 82a”).

すなわち、本装置１の胴部２０は、外面７２ａに沿って配置されている。具体的に、胴部２０は、その下面２４が第一の部屋７０の外面７２ａに沿って延びるとともに、その上面２３が天井８２ａに沿って延びるように配置される。 That is, the body 20 of the device 1 is arranged along the outer surface 72a. Specifically, the trunk portion 20 is disposed such that the lower surface 24 extends along the outer surface 72a of the first chamber 70 and the upper surface 23 extends along the ceiling 82a.

また、胴部２０の排出口２２は、第一の部屋７０の供給口７３に重なるように位置合わせされる。この結果、胴部内空２１と第一の部屋７０の内空７４とは、出口フィルタ６０及び排出口２２を介して連通する。 Further, the discharge port 22 of the trunk portion 20 is aligned so as to overlap the supply port 73 of the first chamber 70. As a result, the body space inner space 21 and the inner space 74 of the first chamber 70 communicate with each other via the outlet filter 60 and the discharge port 22.

本構造２において、本装置１の入口部１０は、第一の部屋７０の外面７２に沿った方向において、胴部２０から更に上流側に延び出すよう設けられている。そして、入口フィルタ３０は、第一の部屋７０の外面７２ａと天井８２ａとの間で、当該外面７２ａ及び当該天井８２ａに対して傾斜しつつ、当該外面７２ａ及び当該天井８２ａに沿った方向における胴部２０の上流側に延びている。すなわち、天井８２ａに対向する上側フィルタ３１は、当該天井８２ａから遠ざかるように傾斜しつつ上流側に延び、外面７２ａに対向する下側フィルタ３２は、当該外面７２ａから遠ざかるように傾斜しつつ上流側に延びている。 In the present structure 2, the inlet portion 10 of the device 1 is provided so as to extend further upstream from the trunk portion 20 in the direction along the outer surface 72 of the first chamber 70. The inlet filter 30 is slanted with respect to the outer surface 72a and the ceiling 82a between the outer surface 72a and the ceiling 82a of the first chamber 70, while the body in the direction along the outer surface 72a and the ceiling 82a. It extends to the upstream side of the portion 20. That is, the upper filter 31 facing the ceiling 82a extends upstream while being inclined away from the ceiling 82a, and the lower filter 32 facing the outer surface 72a is upstream while being inclined away from the outer surface 72a. It extends to.

この結果、胴部２０の上面２３は天井８２ａに沿って配置されるが、当該天井８２ａと上側フィルタ３１との間に、気体を吸入するための空間を十分に確保することができる。同様に、胴部２０の下面２４は第一の部屋７０の外面７２ａに沿って配置されるが、当該外面７２ａと下側フィルタ３２との間に、気体を吸入するための空間を十分に確保することができる。 As a result, although the upper surface 23 of the trunk | drum 20 is arrange | positioned along the ceiling 82a, the space for inhaling gas can fully be ensured between the said ceiling 82a and the upper side filter 31. FIG. Similarly, the lower surface 24 of the trunk portion 20 is disposed along the outer surface 72a of the first chamber 70, but a sufficient space for inhaling gas is secured between the outer surface 72a and the lower filter 32. can do.

このような本構造２において、本装置１の送風機５０を駆動させると、入口部１０は、浄化の対象とする気体（すなわち、第一の部屋７０と第二の部屋８０との間であって本装置１外に存在する気体）を入口フィルタ３０から吸入する。 In the present structure 2, when the blower 50 of the present apparatus 1 is driven, the inlet 10 is located between the gas to be purified (that is, between the first chamber 70 and the second chamber 80. Gas present outside the apparatus 1 is sucked from the inlet filter 30.

ここで、上述のように、入口フィルタ３１，３２はＶ字を為すよう傾斜することで大きな面積の外表面３１ａ，３２ａを有すると共に、上側フィルタ３１と天井８２ａとの間及び下側フィルタ３２と外面７２ａとの間にはそれぞれ気体を吸入するための空間が十分に確保されているため、本装置１は、入口部１０の外面７２ａ側及び天井８２ａ側の両方向から十分な量の気体を効率よく吸入することができる。なお、図１及び図４に示す２つの矢印の指す方向Ｂ１，Ｂ２は、それぞれ上側フィルタ３１及び下側フィルタ３２を介した気体の主な吸入方向を示している。 Here, as described above, the inlet filters 31, 32 have outer surfaces 31a, 32a having a large area by being inclined so as to form a V-shape, and between the upper filter 31 and the ceiling 82a and the lower filter 32. Since sufficient space for inhaling gas is secured between the outer surface 72a and the outer surface 72a, the apparatus 1 efficiently uses a sufficient amount of gas from both the outer surface 72a side and the ceiling 82a side of the inlet portion 10. Can be inhaled well. In addition, directions B1 and B2 indicated by two arrows shown in FIGS. 1 and 4 indicate main suction directions of gas via the upper filter 31 and the lower filter 32, respectively.

入口フィルタ３０を通過して、当該入口フィルタ３０によって化学汚染物質の濃度が低減された気体は、入口内空１１に流入した後、送風機５０によって更に下流側に送られる。すなわち、入口フィルタ３０によって浄化された気体は、送風機５０を介して入口内空１１から胴部内空２１に流入する。 After passing through the inlet filter 30, the gas whose concentration of chemical contaminants has been reduced by the inlet filter 30 flows into the inlet inner space 11, and then is sent further downstream by the blower 50. That is, the gas purified by the inlet filter 30 flows from the inlet inner space 11 into the trunk inner space 21 via the blower 50.

そして、胴部内空２１に流入した気体は、最終的に、出口フィルタ６０を介して排出口２２から胴部２０外に排出される。この結果、入口フィルタ３０によって化学汚染物質の濃度が低減され、更に出口フィルタ６０によって微粒子が除去された浄化気体は、第一の部屋７０の供給口７３から内空７４に供給される。なお、図１及び図４に示す矢印の指す方向Ｄは、胴部２０からの気体の主な排出方向を示している。 The gas that has flowed into the trunk inner space 21 is finally discharged out of the trunk section 20 from the discharge port 22 via the outlet filter 60. As a result, the purified gas from which the concentration of chemical contaminants has been reduced by the inlet filter 30 and the fine particles have been removed by the outlet filter 60 is supplied from the supply port 73 of the first chamber 70 to the inner space 74. A direction D indicated by an arrow shown in FIGS. 1 and 4 indicates a main gas discharge direction from the body portion 20.

このように、本装置１は、第一の部屋７０の外面７２ａと第二の部屋８０の天井８２ａとに挟まれた空間において、当該外面７２ａ及び当該天井８２ａに沿って配置された場合であっても、当該外面７２ａ及び当該天井８２ａと入口フィルタ３０との間に吸気用の空間を十分に確保することができるため、当該第一の部屋７０に十分な量の浄化気体を効率よく安定して供給することができる。 As described above, the present apparatus 1 is a case where the device 1 is arranged along the outer surface 72a and the ceiling 82a in a space between the outer surface 72a of the first room 70 and the ceiling 82a of the second room 80. However, since a sufficient space for intake air can be secured between the outer surface 72a and the ceiling 82a and the inlet filter 30, a sufficient amount of purified gas can be efficiently stabilized in the first chamber 70. Can be supplied.

［実施例］
次に、本装置１を用いた気体の浄化について具体的な例を説明する。本実施例では、入口フィルタ３１，３２としてＶ字を為す一対の有機ガス除去用ケミカルフィルタ（ケミカルガードＴＸ、ニチアス株式会社製）を備え、送風機５０として軸流ファンを備え、出口フィルタ６０として微粒子を除去するＵＬＰＡフィルタを備えたファンフィルタユニットを本装置１として用いた。 [Example]
Next, a specific example of gas purification using the apparatus 1 will be described. In this embodiment, the inlet filters 31 and 32 are provided with a pair of organic gas removing chemical filters (Chemical Guard TX, manufactured by Nichias Co., Ltd.), an axial fan as the blower 50, and fine particles as the outlet filter 60. A fan filter unit equipped with a ULPA filter for removing the above was used as the apparatus 1.

本装置１において、ケミカルフィルタは、気体が吸入される外表面３１a，３２ａの寸法が４３０×４３０ｍｍであり、厚さ（気体の流入方向Ｂ１，Ｂ２の長さ）が４０ｍｍであった。また、ＵＬＰＡフィルタは、気体が排出される外表面６０ａの寸法が５５０×５５０ｍｍであり、厚さ（気体の排出方向Ｄの長さ）が６５ｍｍであった。 In this apparatus 1, the chemical filter has outer surfaces 31a and 32a through which gas is sucked in dimensions of 430 × 430 mm and a thickness (length of gas inflow directions B1 and B2) of 40 mm. In the ULPA filter, the dimension of the outer surface 60a through which the gas was discharged was 550 × 550 mm, and the thickness (the length in the gas discharge direction D) was 65 mm.

また、比較の対象として、図５に示すようなファンフィルタユニット３（以下、「第一対照装置３」という）及び図６に示すようなファンフィルタユニット４（以下、「第二対照装置４」という）を用いた。 Further, as comparison targets, a fan filter unit 3 (hereinafter referred to as “first control device 3”) as shown in FIG. 5 and a fan filter unit 4 (hereinafter referred to as “second control device 4”) as shown in FIG. Used).

すなわち、図５に示すように、第一対照装置３には、入口部１０を設けることなく、胴部２０の上流端面を塞ぐケミカルフィルタ１００を設けた。この第一対照装置３のケミカルフィルタ１００は、気体が吸入される外表面１００ａの寸法が２５０×５００ｍｍであり、厚さが４０ｍｍであった。 That is, as shown in FIG. 5, the first control device 3 is provided with a chemical filter 100 that closes the upstream end surface of the body portion 20 without providing the inlet portion 10. In the chemical filter 100 of the first control device 3, the dimensions of the outer surface 100a through which gas is sucked were 250 × 500 mm and the thickness was 40 mm.

また、図６に示すように、第二対照装置４には、胴部２０の幅方向内側に傾斜することなく、胴部２０の上流側に直線的に延び出す一対のケミカルフィルタ１０１，１０２を設けた。この第二対照装置４のケミカルフィルタ１０１，１０２は、気体が吸入される外表面１０１ａ，１０２ａの寸法が３８６×４８０ｍｍであり、厚さが４０ｍｍであった。 Further, as shown in FIG. 6, the second control device 4 includes a pair of chemical filters 101 and 102 that linearly extend to the upstream side of the trunk portion 20 without being inclined inward in the width direction of the trunk portion 20. Provided. In the chemical filters 101 and 102 of the second control device 4, the dimensions of the outer surfaces 101a and 102a through which the gas is sucked are 386 × 480 mm and the thickness is 40 mm.

浄化の対象とする気体としては、温度が２３℃、湿度が５０％ＲＨであって、ｎ−デカンを５０μg／ｍ^３の濃度で含む空気を用いた。 As the gas to be purified, air having a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% RH and containing n-decane at a concentration of 50 μg / m ³ was used.

また、以下の特性の測定及び評価において、装置からの浄化気体の排出流量は８．８ｍ^３/分とした。ケミカルフィルタの単位面積当たりの空気の吸入速度は、本装置１において０．４０ｍ/秒、第一対照装置３において１．１７ｍ/秒、第二対照装置４において０．７９ｍ/秒であった。また、ＵＬＰＡフィルタの単位面積当たりの空気の排出速度は、いずれの装置においても０．５ｍ/秒であった。 In the measurement and evaluation of the following characteristics, the discharge flow rate of the purified gas from the apparatus was 8.8 m ³ / min. The suction speed of air per unit area of the chemical filter was 0.40 m / sec in the present apparatus 1, 1.17 m / sec in the first control apparatus 3, and 0.79 m / sec in the second control apparatus 4. Moreover, the discharge speed of air per unit area of the ULPA filter was 0.5 m / sec in any apparatus.

そして、これらの装置に用いたケミカルフィルタの圧力損失を、次のような方法で測定した。すなわち、内寸が１００ｍｍ×１００ｍｍで奥行きが所定長さの風洞に、吸入面積が１００ｍｍ×１００ｍｍ、厚さ４０ｍｍのケミカルフィルタを隙間が生じないように設置した。この風洞を構成する外壁のうち、ケミカルフィルタの上流側及び下流側の一部に１箇所ずつ穴をあけて、当該穴から直管を引き出した。そして、この直管に差圧計を設置して、風洞内におけるケミカルフィルタの上流側と下流側との差圧を測定した。また、この差圧の測定と同時に、ケミカルフィルタの下流側で超音波流量計を用いて空気の流量を測定した。そして、測定した流量に基づいて、ケミカルフィルタの単位面積当たりの空気の平均通過速度を算出した。 And the pressure loss of the chemical filter used for these apparatuses was measured by the following methods. That is, a chemical filter having a suction area of 100 mm × 100 mm and a thickness of 40 mm was installed in a wind tunnel having an inner dimension of 100 mm × 100 mm and a depth of a predetermined length so as not to generate a gap. In the outer wall constituting this wind tunnel, holes were made one by one in a part on the upstream side and downstream side of the chemical filter, and a straight pipe was drawn out from the hole. And the differential pressure gauge was installed in this straight pipe, and the differential pressure | voltage between the upstream and downstream of a chemical filter in a wind tunnel was measured. Simultaneously with the measurement of the differential pressure, the flow rate of air was measured using an ultrasonic flowmeter on the downstream side of the chemical filter. And based on the measured flow volume, the average passage speed of the air per unit area of a chemical filter was computed.

また、本装置１、第一対照装置３、及び第二対照装置４について、次のような方法でフィルタ初期除去性能を測定した。すなわち、ケミカルフィルタを通過する前の空気中のｎ−デカン濃度Ｃ０と、当該ケミカルフィルタを通過した後の空気中のｎ−デカン濃度Ｃ１と、をガスクロマトグラフィーによって測定した。このｎ−デカン濃度の測定は、測定開始後１〜２時間以内の複数のタイミングで行った。そして、各測定タイミングについて、通過前濃度Ｃ０から通過後濃度Ｃ１を減じた除去濃度Ｃ２の、当該通過前濃度Ｃ０に対する１００％分率をフィルタ除去性能として算出し、これらの平均値をフィルタ初期除去性能とした。 Further, the initial filter removal performance of the present apparatus 1, the first control apparatus 3, and the second control apparatus 4 was measured by the following method. That is, the n-decane concentration C0 in the air before passing through the chemical filter and the n-decane concentration C1 in the air after passing through the chemical filter were measured by gas chromatography. The n-decane concentration was measured at a plurality of timings within 1 to 2 hours after the start of measurement. Then, at each measurement timing, the removal concentration C2 obtained by subtracting the post-passage concentration C1 from the pre-passage concentration C0 is calculated as a filter removal performance with respect to the pre-passage concentration C0, and the average value of these is calculated as the initial filter removal The performance.

また、これらの装置について、次のような方法でフィルタ９０％除去予測寿命及びフィルタ８０％除去予測寿命を評価した。すなわち、フィルタ９０％除去予測寿命及びフィルタ８０％除去予測寿命は、ケミカルフィルタを通過する前の対象気体中ｎ−デカン濃度Ｃ０を１００％とした場合において、使用に伴い当該ケミカルフィルタの除去性能が低下することにより、当該ケミカルフィルタを通過した後の対象気体中に残存しているｎ−デカンの濃度が上昇してそれぞれ１０％及び２０％になるまでの使用時間（ｎ−デカンの除去率が９０％及び８０％に低下するまでの使用時間）として評価した。具体的には、フィルタ９０％除去予測寿命及びフィルタ８０％除去予測寿命は、上述の測定条件に加え、ケミカルフィルタのハニカム構造の有効表面積、ｎ−デカンの物質移動係数等を用い、Ｆｉｃｋの法則に従った拡散現象の理論モデル式に基づいて、差分法による数値解析により算出した。 Moreover, about these apparatuses, the filter 90% removal prediction lifetime and the filter 80% removal prediction lifetime were evaluated by the following methods. That is, the predicted filter 90% removal life and the expected filter 80% removal life are that when the n-decane concentration C0 in the target gas before passing through the chemical filter is 100%, the removal performance of the chemical filter is increased with use. By reducing the concentration, the concentration of n-decane remaining in the target gas after passing through the chemical filter is increased to 10% and 20%, respectively. It was evaluated as the use time until it decreased to 90% and 80%). Specifically, the predicted 90% removal life of the filter and the estimated 80% removal life of the filter are determined by using the effective surface area of the honeycomb structure of the chemical filter, the mass transfer coefficient of n-decane, and the like in addition to the measurement conditions described above. Based on the theoretical model formula of the diffusion phenomenon according to the above, it was calculated by numerical analysis by the difference method.

上述の方法により測定した圧力損失は、本装置１において３２Ｐａ、第一対照装置３において９３Ｐａ、第二対照装置４において６２Ｐａであった。すなわち、本装置１においては、第一対照装置３及び第二対照装置４に比して圧力損失を低減することができた。 The pressure loss measured by the above method was 32 Pa in the present apparatus 1, 93 Pa in the first control apparatus 3, and 62 Pa in the second control apparatus 4. That is, in this device 1, the pressure loss could be reduced as compared with the first control device 3 and the second control device 4.

上述の方法により測定したフィルタ初期除去性能は、本装置１において９８．３％、第一対照装置３において７６．５％、第二対照装置４において８７．５％であった。すなわち、本装置１においては、第一対照装置３及び第二対照装置４に比してフィルタ初期除去性能を向上させることができた。 The initial filter removal performance measured by the above-described method was 98.3% in the present apparatus 1, 76.5% in the first control apparatus 3, and 87.5% in the second control apparatus 4. That is, in the present apparatus 1, the filter initial removal performance can be improved as compared with the first control apparatus 3 and the second control apparatus 4.

上述の方法により評価したフィルタ９０％除去予測寿命は、本装置１において６３４７時間であった。第一対照装置３及び第二対照装置４については、測定開始時において既にｎ−デカンの除去率が９０％未満であったため、フィルタ９０％除去予測寿命を評価することができなかった。すなわち、本装置１においては、第一対照装置３及び第二対照装置４に比してフィルタ９０％除去予測寿命を延長させることができると評価された。 The estimated 90% filter removal life evaluated by the above method was 6347 hours in the present apparatus 1. Regarding the first control device 3 and the second control device 4, since the removal rate of n-decane was already less than 90% at the start of measurement, it was not possible to evaluate the expected 90% removal life of the filter. That is, in this apparatus 1, it was evaluated that the filter 90% removal predicted life can be extended as compared with the first control apparatus 3 and the second control apparatus 4.

上述の方法により評価したフィルタ８０％除去予測寿命は、本装置１において８２２０時間、第二対照装置４において２４８９時間であった。第一対照装置３については、測定開始時において既にｎ−デカンの除去率が８０％未満であったため、フィルタ８０％除去予測寿命を評価することができなかった。すなわち、本装置１においては、第一対照装置３及び第二対照装置４に比してフィルタ８０％除去予測寿命を延長させることができると評価された。 The expected life of filter 80% removal evaluated by the above-mentioned method was 8220 hours in the present apparatus 1 and 2489 hours in the second control apparatus 4. As for the first control device 3, since the removal rate of n-decane was already less than 80% at the start of measurement, it was impossible to evaluate the filter 80% removal expected life. That is, in this apparatus 1, it was evaluated that the filter 80% removal predicted life can be extended as compared with the first control apparatus 3 and the second control apparatus 4.

なお、本発明に係る浄化気体供給装置は上述の例に限られない。すなわち、入口フィルタ３０は、Ｖ字を為す一対の入口フィルタ３１，３２に限られず、例えば、１つ又は３つ以上のフィルタであってもよい。また、例えば、入口フィルタ３０は、Ｖ字を為すフィルタを複数対組合せたもの（例えば、Ｗ字を為す２対のフィルタ）でもよい。また、例えば、一対の入口フィルタ３１，３２が用いられる場合には、フィルタ同士の為す角度は、鋭角であれば、図に例示されたものに限られない。 The purified gas supply device according to the present invention is not limited to the above example. That is, the inlet filter 30 is not limited to the pair of inlet filters 31 and 32 having a V shape, and may be, for example, one or three or more filters. For example, the inlet filter 30 may be a combination of a plurality of pairs of V-shaped filters (for example, two pairs of filters that form a W-shape). For example, when a pair of inlet filters 31 and 32 are used, the angle between the filters is not limited to that illustrated in the figure as long as the angle is an acute angle.

また、入口フィルタ３０としては、目的に応じて、任意の種類のものを用いることができ、例えば、気体中の酸性物資や塩基性物質等の化学汚染物質を吸着等によって除去できるケミカルフィルタ、気体中の異臭成分を吸着等によって除去できる脱臭フィルタ、気体中の化学汚染物質を分解除去できる触媒フィルタ等を用いることができる。この場合、入口フィルタ３０に用いられる機能剤として、例えば、活性炭、イオン交換樹脂、ゼオライト、光触媒、マンガン触媒、銅マンガン触媒等を用いることができる。また、入口フィルタ３０としては、例えば、気体中の所望の径の粒子を捕捉して除去できる集塵フィルタを用いることもできる。また、入口フィルタ３０としては、目的に応じて、任意の形状のものを用いることができ、例えば、ハニカム構造体、プリーツ構造体、ペレット、押し出し成形体、発泡体等を用いることができる。例えば、圧力損失が小さく汚染物質の除去寿命が長いという点から、入口フィルタ３０としてハニカム構造体を好適に用いることができる。 The inlet filter 30 may be of any type depending on the purpose, for example, a chemical filter or gas that can remove chemical contaminants such as acidic substances and basic substances in the gas by adsorption or the like. A deodorizing filter that can remove the off-flavor components in the inside by adsorption, a catalyst filter that can decompose and remove chemical contaminants in the gas, and the like can be used. In this case, for example, activated carbon, ion exchange resin, zeolite, photocatalyst, manganese catalyst, copper manganese catalyst, or the like can be used as the functional agent used for the inlet filter 30. Further, as the inlet filter 30, for example, a dust collection filter that can capture and remove particles having a desired diameter in the gas can be used. The inlet filter 30 can be of any shape depending on the purpose. For example, a honeycomb structure, a pleated structure, a pellet, an extruded body, a foam, or the like can be used. For example, a honeycomb structure can be suitably used as the inlet filter 30 because the pressure loss is small and the contaminant removal life is long.

また、出口フィルタ６０としても、上述の入口フィルタ３０の場合と同様に、目的に応じて任意の種類及び形状のフィルタを用いることができる。また、入口フィルタ３０と出口フィルタ６０との組み合わせは、上述の例に限られず、目的に応じて任意のフィルタを適宜組み合わせて用いることができる。例えば、入口フィルタ３０としてハニカム構造体のケミカルフィルタを使用し、出口フィルタ６０としてプリーツ構造の除塵フィルタを使用する場合には、気体中の化学汚染物質及び塵埃を効果的に除去することができる。 Also, as the outlet filter 60, as in the case of the inlet filter 30 described above, a filter of any kind and shape can be used depending on the purpose. Further, the combination of the inlet filter 30 and the outlet filter 60 is not limited to the above-described example, and arbitrary filters can be appropriately combined depending on the purpose. For example, when a honeycomb structure chemical filter is used as the inlet filter 30 and a pleated dust filter is used as the outlet filter 60, chemical contaminants and dust in the gas can be effectively removed.

また、上述の例では、入口フィルタ３０の下流側に出口フィルタ６０を１つ設けた２重の浄化構造について説明したが、これに限られず、例えば、入口フィルタ３０のみを備えて出口フィルタ６０を備えないものであってもよく、また、入口フィルタ３０より下流側に更に複数のフィルタを設けた３重以上の浄化構造を用いることもできる。 In the above example, the double purification structure in which one outlet filter 60 is provided on the downstream side of the inlet filter 30 has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, the outlet filter 60 is provided with only the inlet filter 30. It may not be provided, and a triple or more purification structure in which a plurality of filters are further provided on the downstream side of the inlet filter 30 may be used.

また、胴部２０の形状は立方体や直方体に限られず、例えば、ダクトのように円筒状であってもよい。また、送風機５０は、上述のような軸流ファンに限られず、例えば、回転する羽根部の回転軸方向に気体を吸入して当該羽根部の円周接線方向に気体を排出するブロワや、シロッコファン、ターボファン等であってもよい。また、送風機５０は、入口フィルタ３０の下流側に設けられるものに限られず、例えば、入口フィルタ３０の上流側に設けられて、気体を当該入口フィルタ３０に向けて圧送するものであってもよい。 Moreover, the shape of the trunk | drum 20 is not restricted to a cube or a rectangular parallelepiped, For example, a cylindrical shape like a duct may be sufficient. The blower 50 is not limited to the axial fan as described above. For example, a blower that sucks gas in the rotation axis direction of the rotating blade portion and discharges gas in the circumferential tangential direction of the blade portion, or a sirocco A fan, a turbo fan, etc. may be sufficient. Further, the blower 50 is not limited to the one provided on the downstream side of the inlet filter 30. For example, the blower 50 may be provided on the upstream side of the inlet filter 30 and pressure-feed gas toward the inlet filter 30. .

また、本発明に係る浄化気体供給構造において、第一の部屋７０は、浄化された気体を供給する必要のある空間が形成されたものであれば特に限られず、例えば、半導体や液晶の製造装置、無菌操作や半導体処理が行われるクリーンルーム、食品や医薬品の製造工場等を用いることができる。また、本発明に係る浄化気体供給装置が設置される態様は、上述の例に限られず、例えば、胴部２０が部屋の内壁面に沿って設置され、当該部屋内に浄化気体を供給することとしてもよい。また、本発明に係る浄化気体供給装置が浄化の対象とする気体は、上述の例に限られず、例えば、第一の部屋７０から再循環される気体であってもよい。なお、この場合も、少なくとも入口フィルタ３０は、第一の部屋７０外に設置され、当該第一の部屋７０外で当該入口フィルタ３０による気体の浄化が行われる。 In the purified gas supply structure according to the present invention, the first chamber 70 is not particularly limited as long as a space in which the purified gas needs to be supplied is formed. For example, a semiconductor or liquid crystal manufacturing apparatus A clean room where aseptic operation and semiconductor processing are performed, a food and pharmaceutical manufacturing factory, and the like can be used. Moreover, the aspect in which the purified gas supply apparatus which concerns on this invention is installed is not restricted to the above-mentioned example, For example, the trunk | drum 20 is installed along the inner wall face of a room, and supplies the purified gas in the said room It is good. Further, the gas to be purified by the purified gas supply apparatus according to the present invention is not limited to the above example, and may be a gas recirculated from the first chamber 70, for example. Also in this case, at least the inlet filter 30 is installed outside the first chamber 70, and gas purification by the inlet filter 30 is performed outside the first chamber 70.

本発明の一実施形態に係る浄化気体供給装置の側面図である。It is a side view of the purified gas supply device concerning one embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態に係る浄化気体供給装置の平面図である。It is a top view of the purification gas supply apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る浄化気体供給構造についての説明図である。It is explanatory drawing about the purified gas supply structure which concerns on one Embodiment of this invention. 図３に示す浄化気体供給構造の一部についての拡大図である。It is an enlarged view about a part of purified gas supply structure shown in FIG. 対照とするファンフィルタユニットの側面図である。It is a side view of the fan filter unit used as a contrast. 対照とする他のファンフィルタユニットの側面図である。It is a side view of the other fan filter unit used as a contrast.

Explanation of symbols

１浄化気体供給装置、２浄化気体供給構造、３第一対照装置、４第二対照装置、１０入口部、１１入口内空、２０胴部、２１胴部内空、２２排出口、２３上面、２４下面、３０入口フィルタ、３１上側フィルタ、３２下側フィルタ、４０，４１，４２整流板、５０送風機、５１回転軸、５２羽根部、６０出口フィルタ、７０第一の部屋、７１外壁、７２外面、７３供給口、７４内空、８０第二の部屋、８１外壁、８２内面。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Purified gas supply apparatus, 2 Purified gas supply structure, 3 1st control apparatus, 4 2nd control apparatus, 10 inlet part, 11 inlet inner space, 20 trunk | drum, 21 trunk inner sky, 22 discharge port, 23 upper surface, 24 Lower surface, 30 inlet filter, 31 upper filter, 32 lower filter, 40, 41, 42 current plate, 50 blower, 51 rotating shaft, 52 blade section, 60 outlet filter, 70 first chamber, 71 outer wall, 72 outer surface, 73 supply port, 74 inner space, 80 second chamber, 81 outer wall, 82 inner surface.

Claims

A purified gas supply device that inhales and purifies gas and discharges the purified gas,
A blower is provided, has an outer surface on one side in the width direction and an outer surface on the other side in the width direction facing each other, and a body portion for discharging the purified gas;
A filter for purifying a gas to be sucked into the barrel, the barrel being inclined to the other side in the widthwise direction of the body portion with respect to the direction along the outer surface of the one widthwise side of the body portion And at least one filter extending upstream of
Wherein the said outer surface of one side in the widthwise direction of the body, cleaning the gas supply apparatus, wherein a discharge port cleaned gas is discharged is formed.

The purified gas supply apparatus according to claim 1, wherein the blower is an axial fan.

In the purified gas supply structure in which the first chamber to which the purified gas is to be supplied is installed in the second chamber, the first chamber is disposed between the outer surface of the outer wall of the first chamber and the second chamber. ,
The outer surface of the one widthwise side of the barrel, purifying the gas supply device according to claim 1 or 2, characterized in that it is arranged so as to extend along said outer surface of said first chamber.

The purified gas supply device according to any one of claims 1 to 3, wherein the filters are a pair of filters extending to the upstream side of the body part, and are inclined so as to approach each other toward the upstream side. .

The purified gas supply device according to any one of claims 1 to 4, further comprising a rectifying plate disposed on the downstream side of the filter so as to reduce a deviation in inflow resistance of the gas in the filter.

A first chamber in which the purified gas is to be supplied,
A second room in which the first room is installed;
The purified gas supply device according to any one of claims 1 to 5, which is disposed between an outer surface of an outer wall of the first chamber and the second chamber.
A purified gas supply structure characterized by comprising: