JP2004259663A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】マイクロ波導入窓2に、プロセスガスを導入してチャンバー10内に放出するガス流路6を設ける。ガス流路6は、プロセスガスを導入する1個のガス導入口7に対し導入されたプロセスガスを放出する2個以上のガス噴出口9を有するように分岐している。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、表面波励起プラズマを利用したプラズマ処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来、半導体製造プロセスでは、成膜、エッチング処理、アッシング処理等にプラズマ技術が多く利用されている。また、太陽電池、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ等の製造にもプラズマ技術が利用されている。高密度で均一なプラズマを生成すれば、被処理物に安定して均一な処理ができる。
【0003】
高密度で均一なプラズマを生成できるプラズマ処理装置としては、表面波励起プラズマ(SWP:Surface Wave Plasma)を利用する装置が知られている(例えば、特許文献1参照)。この装置は、導波管内を伝播するマイクロ波をスロットアンテナから誘電体窓(マイクロ波導入窓)を通してプラズマ生成室内に導入し、誘電体窓の表面に生じた表面波によってプラズマ生成室内のプロセスガスを励起し、表面波励起プラズマを生成するものである。従来の装置では、プロセスガスは、プラズマ生成室の側面に設けられた1つのガス導入部から直接にプラズマ生成室内に導入されている。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−348898号公報(第2頁、図1)
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
この種のプラズマ処理装置において、特に誘電体窓を大きくして大面積のプラズマを得たい場合、誘電体窓の表面に沿ってプロセスガスの濃度分布が不均一になる。ガスの濃度分布が不均一になると、ラジカル密度、電子密度分布も不均一になり、プラズマ密度分布も不均一になるという問題がある。
【0006】
本発明は、大面積のプラズマでも均一なプラズマ密度分布が得られるプラズマ処理装置を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
(1)請求項1のプラズマ処理装置は、底面にスロットアンテナが設けられたマイクロ波導波管と、スロットアンテナを通して導入されたマイクロ波から表面波を形成し、伝播させるマイクロ波導入窓と、表面波によりプロセスガスを励起して表面波励起プラズマを生成し、表面波励起プラズマにより被処理物を処理する気密容器と、マイクロ波導入窓に設けられ、プロセスガスを導入して気密容器内に放出するガス流路とを備えたことを特徴とする。
(2)上記のプラズマ処理装置において、ガス流路は、プロセスガスを導入する1個のガス導入口に対し導入されたプロセスガスを放出する2個以上のガス噴出口を有するように分岐していることが好ましい。
また、ガス導入口は2個以上設けられ、各々のガス導入口には、異種のプロセスガスを導入することが好ましい。
さらに、2個以上のガス噴出口は、マイクロ波導入窓の表面波の伝播領域に2次元的に分布していることが好ましい。
(3)請求項5のプラズマ処理装置は、底面にスロットアンテナが設けられたマイクロ波導波管と、スロットアンテナを通して導入されたマイクロ波から表面波を形成し、伝播させるマイクロ波導入窓と、表面波によりプロセスガスを励起して表面波励起プラズマを生成し、表面波励起プラズマにより被処理物を処理する気密容器と、マイクロ波導入窓近傍の気密容器に設けられ、プロセスガスを気密容器内に均一に導入する2つ以上のガス導入部とを備えたことを特徴とする。
【0008】
【発明の実施の形態】
以下、本発明によるプラズマ処理装置について、図面を参照して説明する。
図1は、本発明の実施の形態によるプラズマ処理装置を模式的に示す全体構成図である。図2は、本発明の実施の形態によるプラズマ処理装置の誘電体板におけるガス流路の構造を模式的に示す平面図である。図1と図2において、対応する部品には同一符号を付す。但し、図2ではガス流路が2系統あるので、ガス流路6aまたは6bのように表わす。
【0009】
図1に示されるプラズマ処理装置は、マイクロ波導波管1と、誘電体板2と、チャンバー本体3およびフランジ4から成るチャンバー10とを備える。チャンバー10は、ステンレス鋼、アルミニウム、アルミニウム合金等の非磁性金属材料から製作される。
【0010】
マイクロ波導波管1は、誘電体板2の上面に載置されている。マイクロ波導波管1の底板1aには、マイクロ波を誘電体板2へ導くスロットアンテナ5が複数個形成されている。
誘電体板2は、チャンバー10内に気密空間を形成するように、チャンバー本体3に取り付けられている。誘電体板2は、石英、アルミナ、ジルコニア、パイレックスガラス(米国コーニング社の登録商標)等の誘電性材料から製作される。
【0011】
図1に示されるように、誘電体板2には、ガス流路6が設けられている。ガス流路6は、プロセスガスを導入するガス導入口7、誘電体板2の内部に形成された配管部8およびチャンバー10内にプロセスガスを放出するガス噴出口9から構成されている。ガス流路6は、ガス導入口7から配管部8を経てガス噴出口9まで通じている。配管部8は分岐しており、1つのガス導入口7に対し複数のガス噴出口9がある。ガス噴出口9は、誘電体板2の全面にわたって2次元的に形成されている。
【0012】
プロセスガスは、フランジ4を貫通するガス導入部11からガス導入口7へ導かれ、分岐した配管部8を経て複数のガス噴出口9からチャンバー10内に放出される。プロセスガスとしては、O2,SiH4,H2,N2,SF6,Cl2,Ar,He等が使用される。チャンバー本体3には真空排気口12が設けられている。ガス噴出口9からプロセスガスを放出しながら真空排気口12によって排気することによって、チャンバー10内の圧力は通常、0.1〜50Pa程度に保持される。
なお、ガス流路6は、配管部8を分岐せず、単に1つのガス噴出口9を有するように構成してもよい。
【0013】
ここで、誘電体板2に形成されたガス流路6の構造について、図2を参照して説明する。
ガス流路は2系統あり、ガス流路6aにはガスA、ガス流路6bにはガスBが流れる。ガス流路6aは、図面上、左上にあるガス導入口7aから配管部8aに通じている。配管部8aは5本に分岐してそれぞれ3個のガス噴出口9aに通じている。ガス噴出口9aは、ピッチp1で配列されている。また、ガス流路6bは、図面上、右上にあるガス導入口7bから配管部8bに通じている。配管部8bは5本に分岐してそれぞれ6個のガス噴出口9bに通じている。ガス噴出口9bは、ピッチp2で配列されている。
【0014】
不図示のマイクロ波出力部から発振された例えば周波数2.45GHzのマイクロ波は、マイクロ波導波管1の内部を紙面の垂直方向に進行する。マイクロ波は、スロットアンテナ5を通過して誘電体板2に入射し、表面波Sとなって誘電体板2のチャンバー本体3側の表面を伝播し、瞬時に誘電体板2の全面に拡がる。表面波Sの伝播領域は、誘電体板2の表面の面積にほぼ等しい。
【0015】
この表面波エネルギーは、チャンバー10内に導入されているプロセスガスを励起してプラズマPを生成させる。図示されていないが、プラズマP中に被処理物を置くことによって、成膜、エッチング、アッシング等の処理が行われる。
本実施の形態では、誘電体板2にガス流路6を形成し、複数のガス噴出口9からプロセスガスを放出することによって、誘電体板2の表面に沿ってチャンバー10内のガス濃度分布を均一にすることができ、プラズマ密度分布も均一になる。
【0016】
ガス導入口7aの開口とガス噴出口9aの開口は、誘電体板2の同一面に設けてもよいし、別々の面、例えば対向面に設けてもよい。ガス導入口7bとガス噴出口9bの位置関係についても同様である。
ガス噴出口9のピッチp1とp2は、いずれも5mm以上とすることにより、ガス濃度分布の均一化を満足しつつ、加工コストが低減できる。また、ピッチp1は、一様とは限らず、例えばガス導入口7aから離れるに従って変化させてもよい。ピッチp2についても同様である。ガス導入口7から遠距離にあるピッチを、近距離にあるピッチよりも小さくすると、より一層ガス濃度分布は均一になる。
ガス噴出口9の口径は、0.3〜3mmの範囲が好ましい。また、ガス噴出口9の口径も、一様とは限らず、例えばガス導入口7から離れるに従って変化させてもよい。ガス導入口7から遠距離にあるガス噴出口9の口径を、近距離にあるガス噴出口9の口径よりも大きくすると、より一層ガス濃度分布は均一になる。
【0017】
次に、誘電体板2にガス流路6を形成する加工法について説明する。
図3は、本発明の実施の形態によるプラズマ処理装置の誘電体板にガス流路を加工する方法を説明するための透視図である。図2に対応する部品には同一符号を付す。
図2に示されるガス流路6aを形成する場合は、先ず、2枚の誘電体ブロック21,22を用意する。2枚の誘電体ブロック21,22を合わせた体積は、誘電体板2の体積に等しい。
【0018】
誘電体ブロック21には、上下に貫通するガス導入口7aと、ガス導入口7aの裏面側の開口に通じ、5つの経路に分岐している溝部21aが形成される。溝部21aは、横断面が半円の溝である。誘電体ブロック22には、5つの経路に分岐している溝部22aが形成される。溝部22aは、横断面が半円の溝であり、溝部21aに合致するように形成される。溝部21aと22aを合致させると、横断面が円形の管になる。もちろん、この横断面は、円形に限るものではなく、楕円形や多角形等でもよい。
次に、溝部22aの分岐した経路毎に、上下に貫通するガス噴出口9aが形成される。
図3において、2枚の誘電体ブロック21と22の対向面同士が接合されることにより、溝部21aと22aから成る配管部8aが形成され、ガス流路6aが完成する。ガス流路6bについても同様の手順で形成される。
【0019】
誘電体ブロック21,22として石英を使用する場合は、ガス導入口7a、ガス噴出口9aおよび溝部21a,22aは、砥粒噴射装置により加工される。その後、誘電体ブロック21と22は、対向面同士が密着されて、加熱圧着により接合される。
また、誘電体ブロック21,22としてアルミナ、ジルコニア等のセラミックスを使用する場合は、誘電体ブロック21,22が焼結前の生材の状態でガス導入口7a、ガス噴出口9aおよび溝部21a,22aが形成される。その後、誘電体ブロック21と22の生材は、対向面同士が密着されて、焼結される。
【0020】
本実施の形態では、ガス流路6は2系統あるものとして説明したが、もちろん3系統以上あってもよい。系統の数を増やすことによって、多種類のプロセスガスを使用することができる。
また、本実施の形態では、2系統のガス流路6に異種のガスAとガスBを使用するものとして説明した。例えば、ガスAとして反応性の強いO2ガスを用い、ガスBとして高いプラズマ密度の保持に寄与するArガスを用いることにより、半導体表面の改質処理を短時間で安定して行うことができる。
一方、2系統のガス流路6に同種のプロセスガスを使用してもよい。1種類のプロセスガスを多数のガス噴出口9から放出することにより、チャンバー10内のガス濃度分布は、より均一になる。
さらに、1種類のプロセスガスの代わりに、2種類以上のプロセスガスを予め混合しておき、この混合ガスを2系統のガス流路6に使用してもよい。
【0021】
本実施の形態では、1枚の誘電体板2にガス流路6を形成することにより、チャンバー10内のガス濃度分布の均一化を図った。誘電体板を複数個に分割し、隣接する個々の誘電体板の隙間からプロセスガスをチャンバー10内に導入するように装置を構成することによっても、ガス濃度分布の均一化を図ることができる。
【0022】
図4は、本発明の実施の形態の変形例であり、プラズマ処理装置全体を模式的に示す概略構成図である。図1の部品に対応するものには同一符号を付し、説明を省略する。
図4に示されるプラズマ処理装置においては、誘電体板2にガス流路を形成せずに、チャンバー本体3の誘電体板2を取り囲む側面に複数のガス導入部31を設ける。ガス導入部31は、プロセスガスを装置の外部から直接にチャンバー10内へ導入する。複数のガス導入部31は、ほぼ等間隔にチャンバー本体3の側面に配置される。例えば、ガス導入部31が2つの場合は、誘電体板2の中心に対して対称に配置され、4つの場合は、誘電体板2の中心に対して90度間隔で配置される。これにより、誘電体板2の表面に沿ってチャンバー10内のガス濃度分布を均一にすることができるので、プラズマ密度分布も均一になる。
【0023】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、均一なプラズマ密度分布が得られるプラズマ処理装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態に係るプラズマ処理装置全体を模式的に示す概略構成図である。
【図2】本発明の実施の形態に係るプラズマ処理装置の誘電体板におけるガス流路の構造を模式的に示す平面図である。
【図3】本発明の実施の形態によるプラズマ処理装置の誘電体板にガス流路を加工する方法を説明するための透視図である。
【図4】本発明の実施の形態の変形例であり、プラズマ処理装置全体を模式的に示す概略構成図である。
【符号の説明】
1:マイクロ波導波管
2:誘電体板(マイクロ波導入窓)
3:チャンバー本体
4:フランジ
5:スロットアンテナ
6:ガス流路
7:ガス導入口
8:配管部
9:ガス噴出口
10:チャンバー
31:ガス導入部
S:表面波
P:プラズマ
Claims (5)
- 底面にスロットアンテナが設けられたマイクロ波導波管と、
前記スロットアンテナを通して導入されたマイクロ波から表面波を形成し、伝播させるマイクロ波導入窓と、
前記表面波によりプロセスガスを励起して表面波励起プラズマを生成し、前記表面波励起プラズマにより被処理物を処理する気密容器と、
前記マイクロ波導入窓に設けられ、前記プロセスガスを導入して前記気密容器内に放出するガス流路とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1のプラズマ処理装置において、
前記ガス流路は、前記プロセスガスを導入する一のガス導入口に対し導入されたプロセスガスを放出する二以上のガス噴出口を有するように分岐していることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2のプラズマ処理装置において、
前記ガス導入口は二以上設けられ、各々のガス導入口は、異種の前記プロセスガスを導入することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項2または3のプラズマ処理装置において、
前記二以上のガス噴出口は、前記マイクロ波導入窓の前記表面波の伝播領域に2次元的に分布していることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 底面にスロットアンテナが設けられたマイクロ波導波管と、
前記スロットアンテナを通して導入されたマイクロ波から表面波を形成し、伝播させるマイクロ波導入窓と、
前記表面波によりプロセスガスを励起して表面波励起プラズマを生成し、前記表面波励起プラズマにより被処理物を処理する気密容器と、
前記マイクロ波導入窓近傍の気密容器に設けられ、前記プロセスガスを前記気密容器内に均一に導入する二以上のガス導入部とを備えたことを特徴とするプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003051364A JP2004259663A (ja) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003051364A JP2004259663A (ja) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | プラズマ処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004259663A true JP2004259663A (ja) | 2004-09-16 |
Family
ID=33116519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003051364A Pending JP2004259663A (ja) | 2003-02-27 | 2003-02-27 | プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004259663A (ja) |
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- 2003-02-27 JP JP2003051364A patent/JP2004259663A/ja active Pending
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Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050512 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20061127 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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