JP2004251486A - Chiller device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置などで負荷の温度制御を行うチラー装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体の製造・加工工程では、製膜する半導体層の膜質や、半導体層に打ち込む不純物の濃度などを均一に保つために、基板であるウエハーの温度管理を厳密に行う必要がある。従来の半導体製造装置では、例えば図11に示すチラー装置200を用いて、各工程毎に温度管理を行っている(特許文献1参照)。
【0003】
チラー装置200は、冷却器201、および冷媒を循環するポンプ202を備えた一次側回路C1と、熱交換器203を介して一次側回路C1の冷媒と熱交換する冷媒を循環するポンプ204、バッファタンク205、および抵抗流路206を備えた二次側回路C2と、負荷Wを冷却する負荷側の冷媒を循環するポンプ207、および抵抗流路208を備えた負荷側回路C3とから構成される。
【0004】
二次側回路C2と負荷側回路C3とは、連絡流路209、210により接続されている。連絡流路210には、この連絡流路210を流れる冷媒の流量を制御する制御バルブ211が設けられている。制御バルブ211の開度は、負荷Wの温度を検出する温度調節器212からの出力信号に応じて制御される。このようにすると、温度制御の精度が向上し、負荷Wの温度変動が大きな場合でも迅速に対応することができる。また、装置全体が小型化され、設置条件の自由度が増すという利点がある。
【0005】
チラー装置200では、二次側回路C2の冷媒温度を負荷側回路C3の冷媒の設定温度よりも僅かに低い一定温度(例えば設定温度−3℃±1〜0.5℃)に制御している。このため、冷却器201を常時運転して、一次側回路C1のホットガスバイパス制御、または冷却器201のインバータ制御により、熱交換器203へ供給される一次側回路C1の冷媒温度を制御するとともに、負荷側回路C3の冷媒温度が設定温度よりも下回らないように、負荷側回路C3の冷媒をヒータ213により頻繁に加熱する必要があり、膨大なエネルギーを消費していた。
【0006】
上記のような問題点を解決するために、本発明者は、図12に示すようなチラー装置300を考案した。このチラー装置300は、圧縮器301、凝縮器302、膨張弁303、および熱交換器304を備えた一次側回路C1と、熱交換器304を介して一次側回路C1の冷媒と熱交換する冷媒を循環するポンプ305、バイパス流路306、温度センサ320、および供給流路307を備えた二次側回路C2と、負荷Wを冷却する負荷側の冷媒を循環するポンプ308、および混合タンク309を備えた負荷側回路C3とから構成される。
【0007】
供給流路307には、制御バルブ310が設けられている。この制御バルブ310の下流側は、混合タンク309に接続されている。混合タンク309は、流路311を介してメインタンク312に接続され、ポンプ308の吸い込み流路313と負荷Wの下流側の戻り流路314とに接続している。バイパス流路306には、バルブ315が設けられており、このバルブ315の下流側はメインタンク312に接続されている。
【0008】
制御バルブ310の開度は、負荷Wの温度を検出する温度センサ316からの出力信号に応じて制御される。チラー装置300では、温度センサ320からの検出信号に応じて、この温度が予め設定した下限設定温度に冷却されるまで一次側回路C1の冷却器(圧縮器301、凝縮器302、膨張弁303、および熱交換器304)を作動させ、下限設定温度まで下がった時点でこれらの作動を停止させる。これにより、装置の省エネルギー化を実現させることができる。
【0009】
一次側回路C1の凝縮器302には、屋外冷却器317から導入した一次冷却水が供給される。この一次冷却水は、負荷Wの下流側に設けられた熱交換器318にも供給され、熱交換器318を介して負荷側回路C3の冷媒を冷却し、その粗熱を除去する。
【0010】
【特許文献1】
特許第3095377号
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上記のようなチラー装置300に用いられる屋外冷却器317は、凝縮器302や熱交換器318で加熱された一次冷却水を冷却するために、ある程度の冷却能力が必要となり、装置の省エネルギー化、小型化を促進する上で障害となっていた。
【0012】
本発明は、屋外冷却器の消費エネルギーを必要最小限に抑えることで、装置の省エネルギー化を実現させることができるチラー装置を提供することを目的とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、本発明は、複数配列された負荷に配置され、冷媒を用いて負荷を冷却する複数のチラー装置と、複数のチラー装置内の冷媒と熱交換することにより冷媒を冷却する冷却水を、各チラー装置に循環させる冷却水循環回路とを備えたチラー装置において、前記冷却水を冷却するクーリングタワーと、クーリングタワーの冷却能力を補うように冷却水を冷却する補助冷却器と、クーリングタワー、補助冷却器、および冷却水循環回路に冷却水を供給するとともに、これらから戻された冷却水が貯留される冷却水タンクと、冷却水タンク内の冷却水温度に基づいて、クーリングタワーおよび補助冷却器に供給される冷却水の流量、並びに補助冷却器の動作を制御する制御手段とを設けたことを特徴とする。
【0014】
また、本発明は、複数配列された負荷に配置され、冷媒を用いて負荷を冷却する複数のチラー装置と、複数のチラー装置内の冷媒と熱交換することにより冷媒を冷却する冷却水を、各チラー装置に循環させる冷却水循環回路とを備えたチラー装置において、前記冷却水循環回路を、冷却水を冷却する冷却水冷却器と、冷却水を複数のチラー装置に向けて供給する冷却水供給流路と、冷却水供給流路を経由した冷却水を前記冷却水冷却器に戻す冷却水戻り流路と、前記冷却水供給流路から分岐して、複数のチラー装置に冷却水を供給する分岐冷却水供給流路と、前記冷却水戻り流路から分岐して、複数のチラー装置から冷却水を戻す分岐冷却水戻り流路と、前記分岐冷却水供給流路から供給される冷却水のうち、熱交換に使用されない冷却水を、前記分岐冷却水戻り流路に戻す冷却水バイパス流路とから構成するとともに、前記複数のチラー装置の熱交換器に供給する直前で冷却水が戻されるように、前記冷却水バイパス流路を配置したことを特徴とする。
【0015】
【発明の実施の形態】
図1に、本発明のチラー装置を適用した半導体製造システムの構成を示す。半導体製造システム2は、半導体製造装置s1〜s9と、親チラー装置p1、p2と、子チラー装置ch1〜ch9とからなり、塵埃・温湿度管理されたクリーンルーム内に設置されている。半導体製造装置s1〜s9は、半導体膜を製膜するCVDまたはPVD装置や、真空蒸着装置、半導体に不純物を打ち込むインプラント装置などから構成される。親チラー装置p1、p2には、それぞれ純水冷媒、フッ素系冷媒を用いたものを例示している。
【0016】
子チラー装置ch1〜ch9は、半導体製造装置s1〜s9の負荷W1〜W9(図5〜8参照)の温度が、各々の設定温度となるように温度制御する。親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9には、クリーンルーム外に設置された屋外冷却ユニット10からの一次冷却水が循環する一次冷却水配管11が接続されている。また、子チラー装置ch1、ch6には、親チラー装置p1からの純水冷媒が循環する純水冷媒配管12(破線で示す)が接続され、子チラー装置ch2、ch7には、親チラー装置p2からのフッ素系冷媒が循環するフッ素系冷媒配管13(一点鎖線で示す)が接続されている。
【0017】
半導体製造システム2の配管系統を示す図2において、一次冷却水配管11は、親チラー装置p2、p1、子チラー装置ch1〜ch9の近傍を経由して配管される冷却水供給流路11aと、この冷却水供給流路11aとは逆に、子チラー装置ch9〜ch1、親チラー装置p1、p2の順に一次冷却水が戻される冷却水戻り流路11bとからなり、これらの流路11a、11bを介して一次冷却水が屋外冷却ユニット10に循環されるように構成されている。冷却水戻り流路11bを経由して屋外冷却ユニット10に戻された一次冷却水は、屋外冷却ユニット10で再度冷却され、流路11a、11bで再度循環される。
【0018】
屋外冷却ユニット10から供給される一次冷却水は、冷却水供給流路11aから分岐した分岐冷却水供給流路14a〜14nを介して親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9に各々供給される。また、これら親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9からは、冷却水戻り流路11bに一次冷却水を戻す分岐冷却水戻り流路15a〜15nが配設されている。ここで、子チラー装置ch3、ch5およびch8には、分岐冷却水供給流路および分岐冷却水戻り流路が2系統(ch3では14e、15eおよび14f、15f、ch5では14h、15hおよび14i、15i、ch8では14l、15lおよび14m、15m)設けられており、子チラー装置ch3、ch5およびch8では、この2系統で一次冷却水の供給および戻り動作が行われる。
【0019】
純水冷媒配管12は、子チラー装置ch1〜ch6の近傍を経由して配管される純水冷媒供給流路12aと、この純水冷媒供給流路12aとは逆に、子チラー装置ch6〜ch1の順に純水冷媒が戻される純水冷媒戻り流路12bとからなり、これらの流路12a、12bを介して純水冷媒が親チラー装置p1に循環されるように構成されている。純水冷媒戻り流路12bを経由して親チラー装置p1に戻された純水冷媒は、親チラー装置p1で再度冷却され、流路12a、12bで再度循環される。
【0020】
親チラー装置p1から供給される純水冷媒は、純水冷媒供給流路12aから分岐した分岐純水冷媒供給流路16a、16bを介して子チラー装置ch1およびch6に供給される。また、これら子チラー装置ch1およびch6からは、純水冷媒戻り流路12bに純水冷媒を戻す分岐純水冷媒戻り流路17a、17bが配設されている。
【0021】
フッ素系冷媒配管13は、子チラー装置ch1〜ch7の近傍を経由して配管されるフッ素系冷媒供給流路13aと、このフッ素系冷媒供給流路13aとは逆に、子チラー装置ch7〜ch1の順に供給されたフッ素系冷媒が戻されるフッ素系冷媒戻り流路13bとからなり、これらの流路13a、13bを介してフッ素系冷媒が親チラー装置p2に循環されるように構成されている。フッ素系冷媒戻り流路13bを経由して親チラー装置p2に戻されたフッ素系冷媒は、親チラー装置p2で再度冷却され、流路13a、13bで再度循環される。
【0022】
親チラー装置p2から供給されるフッ素系冷媒は、フッ素系冷媒供給流路13aから分岐した分岐フッ素系冷媒供給流路18a、18bを介して子チラー装置ch2およびch7に供給される。また、これら子チラー装置ch2およびch7からは、フッ素系冷媒戻り流路13bにフッ素系冷媒を戻す分岐フッ素系冷媒戻り流路19a、19bが配設されている。
【0023】
ここで、図2の配管系統例は、一次冷却水、純水冷媒およびフッ素系冷媒が、配管11、12および13の各々を循環され、且つ一次冷却水、純水冷媒およびフッ素系冷媒が複数のチラー装置に供給可能となっていること(例えば、一次冷却水は親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9に、純水冷媒は子チラー装置ch1およびch6に、フッ素系冷媒は子チラー装置ch2およびch7に各々供給され、戻されること)を示すものであって、親チラー装置p1、p2から、純水冷媒、フッ素系冷媒のどちらも供給されない子チラー装置(ch3〜ch5、ch8およびch9)も例示されているが、これらの子チラー装置ch1〜ch9は、同タイプの子チラー装置(例えばch1、あるいはch3)であってもよく、その構成は半導体製造システム2の仕様に応じて適宜変更可能である。また、配管11、12および13は、使用する子チラー装置に応じて変更すればよく、例えばch1、ch2タイプの子チラー装置のみで構成した場合、全子チラー装置を網羅するように配管12、13を配設し、全子チラー装置に対して冷媒を供給するように配設してもよい。さらに、子チラー装置ch1〜ch9が、純水冷媒、フッ素系冷媒のいずれか一方のみを必要とする構成であった場合は、親チラー装置p1、p2、および配管12、13のいずれか一方を省略してもよい。
【0024】
図3に示すように、屋外冷却ユニット10は、クーリングタワー20、屋外冷却器21、および一次冷却水タンク22から構成される。この屋外冷却ユニット10は、親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9に供給される一次冷却水を、半導体製造工場の空調や各種温度制御に用いられるクーリングタワー20で冷却し、クーリングタワー20の冷却能力が不足した場合に屋外冷却器21を作動させ、その不足分を補うように冷却水を冷却する。
【0025】
クーリングタワー20は、ポンプ23で循環される冷却水を、図示しない送風機で取り込んだ外気(約5〜32℃)と接触させることで冷却する。ポンプ23の下流側には、Δt=3〜5℃で熱交換効率が良好なプレート式の熱交換器24が設けられている。クーリングタワー20で冷却された冷却水は、この熱交換器24を介して一次冷却水タンク22からの一次冷却水を冷却する。
【0026】
屋外冷却器21は、圧縮器25、凝縮器26、膨張弁27、および熱交換器28からなる。屋外冷却器21内の冷媒ガスは、圧縮器25で圧縮されて高温・高圧状態となる。高温・高圧状態となった冷媒ガスは、凝縮器26により液化された後、膨張弁27によりガス化され、熱交換器28を介して一次冷却水を冷却する。この屋外冷却器21は、一次冷却水の温度が急激に変化したときや夏期使用時など、クーリングタワー20の冷却能力が不足した場合にのみ作動する。
【0027】
一次冷却水タンク22には、一次冷却水配管11の冷却水供給流路11a、冷却水戻り流路11bと、ポンプ29を介してクーリングタワー20、屋外冷却器21へと一次冷却水を供給する供給流路30と、熱交換器24で冷却された一次冷却水の戻り流路31と、熱交換器28で冷却された一次冷却水の戻り流路32と、一次冷却水タンク22内の一次冷却水温度を検出する温度センサ33とが接続されている。一次冷却水タンク22内の一次冷却水は、所定の温度(例えば15℃)に温度制御され、インバータ制御されたポンプ34により親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9に供給される。
【0028】
供給流路30は、ポンプ29の下流側で流路30aと流路30bとに分岐しており、流路30aは熱交換器24に、流路30bは熱交換器28にそれぞれ一次冷却水を供給する。これらの流路30a、30bには、一次冷却水の流量を調節する制御バルブ35、36が設けられている。制御バルブ35、36の開度は、温度センサ33に接続されたコントローラ37からの出力信号に応じて制御される。
【0029】
コントローラ37は、温度センサ33の出力が設定温度以上となった場合には、制御バルブ35を開いて熱交換器24に一次冷却水を導入する。一方、温度センサ33の出力が設定温度に達した場合には、一次冷却水がそれ以上冷却されないように制御バルブ35を閉じる。制御バルブ35を通過した一次冷却水は、熱交換器24でクーリングタワー20の冷却水により冷却され、戻り流路31を経由して一次冷却水タンク22に戻る。
【0030】
クーリングタワー20の冷却能力が不足した場合、コントローラ37は屋外冷却器21を作動させるとともに、制御バルブ36を開いて熱交換器28に一次冷却水を導入する。制御バルブ36を通過した一次冷却水は、熱交換器28で屋外冷却器21の冷媒により冷却され、戻り流路32を経由して一次冷却水タンク22に戻る。クーリングタワー20のみで一次冷却水の温度制御が可能な場合には、制御バルブ36を閉じて屋外冷却器21の作動を停止させる。このように、クーリングタワー20の冷却能力の不足分を補助する冷却器として屋外冷却器21を作動させることで、屋外冷却器21の消費エネルギーを必要最小限に抑えることができ、屋外冷却器21の小型化が可能となる。
【0031】
図4に示すように、親チラー装置p1、p2は、それぞれ一次側回路C1a、C1bと二次側回路C2a、C2bとから構成される。一次側回路C1a、C1bには、圧縮器40a、40b、凝縮器41a、41b、膨張弁42a、42b、および熱交換器43a、43bが設けられている。一次側回路C1a、C1b内の冷媒ガスは、圧縮器40a、40bで圧縮されて高温・高圧状態となる。高温・高圧状態となった冷媒ガスは、凝縮器41a、41bにより液化された後、膨張弁42a、42bによりガス化され、熱交換器43a、43bを介して二次側回路C2a、C2bの冷媒を冷却する。なお、これら圧縮器40a、40b、凝縮器41a、41b、膨張弁42a、42b、および熱交換器43a、43bは、冷却器を構成している。
【0032】
二次側回路C2a、C2bには、二次側ポンプ44a、44b、メインタンク45a、45b、および温度センサ46a〜48a、46b〜48bが設けられている。メインタンク45a、45bには、所定量の純水冷媒およびフッ素系冷媒が貯留されており、純水冷媒戻り流路12b、フッ素系冷媒戻り流路13bと、二次側ポンプ44a、44bの下流側とが接続されている。メインタンク45a、45b内の冷媒は、二次側ポンプ44a、44bにより二次側回路C2a、C2bを循環し、熱交換器43a、43bにより冷却された後、純水冷媒供給流路12a、フッ素系冷媒供給流路13aを介して子チラー装置ch1、ch6およびch2、ch7へと供給される。子チラー装置ch1、ch6およびch2、ch7からの冷媒は、戻り流路12b、13bを介してメインタンク45a、45bに戻される。
【0033】
温度センサ46a、46bは、メインタンク45a、45bから流出する冷媒の温度を、温度センサ47a、47bは、熱交換器43a、43bにより冷却された冷媒の温度を、温度センサ48a、48bは、戻り流路12b、13bを介してメインタンク45a、45bに還流される冷媒の温度をそれぞれ検出する。これらの温度センサ46a〜48a、46b〜48bの出力信号は、温度調節器140(図9参照)に送信される。
【0034】
親チラー装置p1、p2の冷媒の温度は、子チラー装置ch1、ch2、ch6、ch7により温度制御される負荷の設定温度よりも低く、且つ後述する制御バルブの開閉で制御することが可能な温度範囲に設定される(例えば子チラー装置の設定温度から−5〜−20℃)。親チラー装置p1、p2は、メインタンク45a、45bから流出する冷媒の温度を検出する温度センサ46a、46bの出力が、設定温度範囲よりも高くなると、一次側回路C1a、C1bの冷却器および二次側ポンプ44a、44bを作動させ、設定温度の下限値に達した時点でこれらの作動を停止させる。
【0035】
図5に示すように、子チラー装置ch1は、冷媒循環回路Cr1 と、一次冷却水循環回路Cw1 と、負荷側回路C31 とから構成される。冷媒循環回路Cr1 には、前述の分岐純水冷媒供給流路16a、分岐純水冷媒戻り流路17aの他に、純水冷媒バイパス流路50、温度センサ51、制御バルブ52、および抵抗バルブ53、54が設けられている。純水冷媒バイパス流路50は、負荷側回路C31 に供給する直前で純水冷媒が戻されるように、制御バルブ52の直前に配置され、分岐純水冷媒供給流路16aと純水冷媒戻り流路12bとを接続している。制御バルブ52を通過しない純水冷媒は、この純水冷媒バイパス流路50および純水冷媒戻り流路12bを介してメインタンク45aに戻される。
【0036】
温度センサ51は、分岐純水冷媒供給流路16aを通過する冷媒の温度を検出する。制御バルブ52は、負荷側回路C31 の冷媒温度および設定温度に応じて開度を調節し、負荷側回路C31 に供給する冷媒の流量を制御する。すなわち、負荷側回路C31 の冷媒の温度を検出する温度センサ61の出力に応じて、負荷側回路C31 の設定温度となるように冷媒を供給する。したがって、制御バルブ52は、全開または全閉となる場合がある。抵抗バルブ53、54は、冷媒の供給量に応じて分岐純水冷媒戻り流路17aに戻される冷媒、および純水冷媒バイパス流路50を通過する制御バルブ52に供給されなかった冷媒を戻すときの抵抗として作用する。なお、制御バルブ52としては、微小流量から大流量まで高精度な制御が可能なニードル式のバルブ、例えば株式会社鷺宮製作所製の汎用型電子膨張弁PKV形またはEKV形が用いられる。
【0037】
一次冷却水循環回路Cw1 には、前述の分岐冷却水供給流路14c、分岐冷却水戻り流路15cの他に、冷却水バイパス流路55、温度センサ56、制御バルブ57、抵抗バルブ38、および熱交換器39が設けられている。制御バルブ57は、温度センサ56、62により制御され、温度センサ62の出力が温度センサ56の出力よりも高温であることを条件として開き、その逆の場合は閉じられる。冷却水バイパス流路55は、制御バルブ57が閉じられたときに、負荷側回路C31 に供給する直前で冷却水が戻されるように、制御バルブ57の直前に配置され、分岐冷却水供給流路14cと分岐冷却水戻り流路15cとを接続している。制御バルブ57を通過しない冷却水は、この冷却水バイパス流路55、分岐冷却水戻り流路15c、および冷却水戻り流路11bを介して屋外冷却ユニット10に戻される。
【0038】
温度センサ56は、分岐冷却水供給流路14cを通過する一次冷却水の温度を検出する。制御バルブ57は、負荷側回路C31 の冷媒温度および設定温度に応じて開度を調節し、熱交換器59に供給する一次冷却水の流量を制御する。抵抗バルブ58は、冷却水バイパス流路55を通過する一次冷却水の抵抗として作用する。負荷側回路C31 の冷媒は、熱交換器59を介して制御バルブ57を通過した一次冷却水に冷却され、粗熱を除去される。これにより、二次側回路C2aの冷媒温度が高くなることが少なくなり、延いては二次側回路C2aの冷媒温度を設定温度範囲内に長時間保つことができる。したがって、一次側回路C1aの冷却器が作動する時間をより短くすることができ、装置の省エネルギー化をさらに促進させることが可能となる。
【0039】
負荷側回路C31 には、負荷W1を冷却する負荷側の冷媒を循環する負荷側ポンプ60、温度センサ61〜63、および混合タンク64が設けられている。温度センサ61は、負荷側ポンプ60から流出する冷媒の温度を、温度センサ62は、負荷W1の戻り側の冷媒の温度を、温度センサ63は、熱交換器59により冷却された冷媒の温度をそれぞれ検出する。これらの温度センサ61〜63の出力信号は、温度調節器140(図9参照)に送信される。
【0040】
子チラー装置ch1は、温度センサ61の出力(負荷側回路C31 の冷媒温度)が予め設定された温度であるとき、または温度センサ61および63の出力が同一であるときには、制御バルブ52を閉じて負荷側回路C31 の冷媒がそれ以上冷却されないようにする。一方、温度センサ61の出力が設定温度以上になった場合は、温度センサ51の出力を考慮しながら制御バルブ52を開き、二次側回路C2aの冷媒を混合タンク64に導入する。
【0041】
一次冷却水循環回路Cw1 は、温度センサ62の出力(負荷W1の戻り側の冷媒温度)が設定温度よりも高く、且つ温度センサ56の出力(分岐冷却水供給流路14cを通過する一次冷却水の温度)が温度センサ62の出力よりも低い場合に、制御バルブ57を開いて一次冷却水を熱交換器59に導入する。
【0042】
混合タンク64は、制御バルブ52を介して供給される冷媒と、負荷側回路C31 の冷媒とを混合して負荷側回路C31 に供給する。なお、この混合タンク64内には、温度センサ61の出力が設定温度を下回ったときに作動する図示しないヒータが組み込まれている。
【0043】
混合タンク64には、予備タンク65が接続されている。この予備タンク65には、純水冷媒が貯留されており、運転開始時に負荷側回路C31 に冷媒を供給するとともに、配管のガス抜きを行うために設けられている。また、必要に応じて制御バルブ52を閉じた状態で使用すれば、後述する子チラー装置ch4、ch9と同様の構成となり、子チラー装置ch1を親チラー装置p1と切り離して、単独のチラー装置として稼働させることができる。したがって、負荷側回路C31 の冷媒の種類を代える際に、極めて有用な構成であると言える。なお、予備タンク65は、子チラー装置ch1よりも上側に配置することが好ましい。
【0044】
次に、図4および図5を参照して、子チラー装置ch1の動作について説明する。半導体製造システム2の運転開始とともに、一次側回路C1aの冷却器、二次側ポンプ44a、および負荷側ポンプ60が駆動される。冷却器により冷却された一次側回路C1aの冷媒は、熱交換器43aを介して二次側回路C2aの冷媒を冷却する。このとき、温度センサ61で検出される冷媒の温度(負荷W1に供給される冷媒の温度)が設定温度以下であった場合、制御バルブ52は閉じられ、冷媒は純水冷媒バイパス流路50を経由してメインタンク45aに戻される。負荷側回路C31 では、二次側回路C2aの冷媒との熱交換は行われず、負荷側ポンプ60により冷媒が循環した状態となる。
【0045】
一方、温度センサ61で検出される冷媒の温度が、設定温度以上になった場合、シーケンサ141(図9参照)から検出温度に応じたパルス信号が出力され、制御バルブ52の開度が調節される。制御バルブ52が開くと、その開度に応じた流量の冷媒が混合タンク64に流入する。制御バルブ52を通過しない冷媒は、純水冷媒バイパス流路50を経由してメインタンク45aに戻される。
【0046】
混合タンク64内では、二次側回路C2aから流入した冷媒と負荷側回路C31 の冷媒とが合流して混合される。混合された冷媒は、混合タンク64から負荷側ポンプ60に吸い込まれ、負荷W1を設定温度となるように冷却する。負荷W1を冷却した冷媒は、一次冷却水循環回路Cw1 で粗熱を除去された後、二次側回路C2aから流入した冷媒の流量に相当する流量で再び混合タンク64、分岐純水冷媒戻り流路17aを経由してメインタンク45aに戻される。
【0047】
ここで、子チラー装置ch1、ch2、ch6、およびch7は同様の構成であり、ch1、ch6は純水冷媒を、ch2、ch7はフッ素系冷媒を用いている点が異なるだけであるので、ch1のみを図示し、その他の装置の説明および図示は省略する。
【0048】
図6に示すように、子チラー装置ch3の一次冷却水循環回路Cw3 には、前述の分岐冷却水供給流路14e、分岐冷却水戻り流路15eの他に、冷却水バイパス流路70、温度センサ71、制御バルブ72、抵抗バルブ73、および熱交換器74が設けられている。冷却水バイパス流路70は、負荷側回路C33 に供給する直前で冷却水が戻されるように、制御バルブ72の直前に配置され、分岐冷却水供給流路14eと分岐冷却水戻り流路15eとを接続している。制御バルブ72を通過しない冷却水は、この冷却水バイパス流路70、分岐冷却水戻り流路15e、および冷却水戻り流路11bを介して屋外冷却ユニット10に戻される。
【0049】
温度センサ71は、分岐冷却水供給流路14eを通過する一次冷却水の温度を検出する。制御バルブ72は、負荷側回路C33 の冷媒温度および設定温度に応じて(温度センサ71、81の出力を比較することにより)開度を調節し、熱交換器74に供給する一次冷却水の流量を制御する。抵抗バルブ73は、冷却水バイパス流路70を通過する一次冷却水の抵抗として作用する。熱交換器74は、一次冷却水と負荷側回路C33 の冷媒との熱交換を行い、負荷側回路C33 の冷媒を冷却する。なお、子チラー装置ch3は、一次冷却水循環回路Cw3 を用いて負荷側回路C33 の冷媒を冷却する点のみがch1と異なり、その他の構成および作用はch1と同一であるので、構成部品には符号のみを付し、説明を省略する。また、子チラー装置ch3およびch8は、負荷側回路で使用する冷媒(ch3は純水冷媒、ch8はフッ素系冷媒)が異なるだけであるので、子チラー装置ch8の図示および説明は省略する。
【0050】
図7に示す子チラー装置ch4は、前述のように子チラー装置ch1で制御バルブ52を閉じて使用した状態と同様で、ペルチェ素子101を用いて負荷側回路C34 の冷媒の温度調節を行う点のみが異なる。子チラー装置ch4では、一次冷却水循環回路Cw4 で負荷側回路C34 の冷媒を設定温度にある程度温度制御し、ペルチェ素子101で負荷側回路C34 の冷媒を冷却または加熱して、僅かな温度誤差を補正する。なお、子チラー装置ch4およびch9は、子チラー装置ch3の場合と同様に、負荷側回路で使用する冷媒(ch4は純水冷媒、ch9はフッ素系冷媒)が異なるだけであるので、子チラー装置ch9の図示および説明は省略する。
【0051】
図8に示す子チラー装置ch5は、図12に示すチラー装置300と同様の構成で、メインタンク119に貯留されたフッ素系冷媒により負荷側回路C35 の冷媒を冷却する。一次冷却水循環回路Cw5 、Cw5 ´には、一次冷却水バイパス流路110、130が設けられている。一次側回路C15 の冷媒を冷却する必要がないとき、あるいは負荷側回路C35 の冷媒の粗熱を除去する必要がないときには、一次冷却水がこれらのバイパス流路110、130により屋外冷却ユニット10に戻される。このようにすると、高価なフッ素系冷媒を親チラー装置p1で全て賄う必要がなくなり、且つ半導体製造システム2の仕様に応じて、温度制御の精度が高い単独のチラー装置を用いることができる。
【0052】
図9に示すように、親チラー装置p1、p2、および子チラー装置ch1〜ch9に取り付けられた温度センサの出力は、温度調節器140に入力される。シーケンサ141は、温度調節器140から送信される各部の温度情報に基づいて、冷却器、制御バルブ、ヒータ、およびペルチェ素子に対して前述のような制御を行う。
【0053】
なお、子チラー装置ch1、ch2、ch5、ch6、およびch7の負荷側回路として、図10に示す負荷側回路C310を用いてもよい。この負荷側回路C310では、抵抗バルブ157の抵抗に抗して供給流路151から供給される冷媒が、ポンプ150により循環される。バイパス流路153は、負荷側回路C310に供給する直前で冷媒が戻されるように、抵抗バルブ157の直前に配置されている。抵抗バルブ157を通過しない冷却水は、このバイパス流路153および戻り流路152を介して冷媒供給源に戻される。
【0054】
制御バルブ155は、負荷W10の下流側に配置されている。負荷側回路C310では、この制御バルブ155の開度に応じて負荷W10で加熱された冷媒を引き抜き、引き抜いた分の冷媒を供給流路151から供給する。このようにすると、二次側冷媒と負荷側冷媒とを合流させて混合する混合タンクが不要になり、混合タンクによって負荷側回路の温度追随性を阻害されることが抑制される。なお、この場合、上記実施形態で混合タンクに組み込まれるヒータは、ポンプ150の前後に配置すればよい。
【0055】
【発明の効果】
以上のように、本発明のチラー装置によれば、冷却水を冷却するクーリングタワーと、クーリングタワーの冷却能力を補うように冷却水を冷却する補助冷却器と、クーリングタワー、補助冷却器、および冷却水循環回路に冷却水を供給するとともに、これらから戻された冷却水が貯留される冷却水タンクと、冷却水タンク内の冷却水温度に基づいて、クーリングタワーおよび補助冷却器に供給される冷却水の流量、並びに補助冷却器の動作を制御する制御手段とを設けたので、屋外冷却器の消費エネルギーを必要最小限に抑えることができ、装置の省エネルギー化を実現させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のチラー装置を適用した半導体製造システムの概略図である。
【図2】半導体製造システムの配管系統を示すブロック図である。
【図3】屋外冷却ユニットの構成を示す回路図である。
【図4】親チラー装置の構成を示す回路図である。
【図5】子チラー装置ch1の構成を示す回路図である。
【図6】子チラー装置ch3の構成を示す回路図である。
【図7】子チラー装置ch4の構成を示す回路図である。
【図8】子チラー装置ch5の構成を示す回路図である。
【図9】チラー装置の制御手順を示すブロック図である。
【図10】負荷側回路の別の実施形態を示す回路図である。
【図11】従来のチラー装置を示す回路図である。
【図12】従来のチラー装置を示す回路図である。
【符号の説明】
2 半導体製造システム
10 屋外冷却ユニット
11 一次冷却水配管
11a 冷却水供給流路
11b 冷却水戻り流路
12 純水冷媒配管
12a 純水冷媒供給流路
12b 純水冷媒戻り流路
13 フッ素系冷媒配管
13a フッ素系冷媒供給流路
13b フッ素系冷媒戻り流路
14a〜14n 分岐冷却水供給流路
15a〜15n 分岐冷却水戻り流路
16a、16b 分岐純水冷媒供給流路
17a、17b 分岐純水冷媒戻り流路
18a、18b 分岐フッ素系冷媒供給流路
19a、19b 分岐フッ素系冷媒戻り流路
20 クーリングタワー
21 屋外冷却器
22 一次冷却水タンク
33 温度センサ
35、36、52、57 制御バルブ
37 コントローラ
64 混合タンク
101 ペルチェ素子
140 温度調節器
141 シーケンサ
p1、p2 親チラー装置
ch1〜ch9 子チラー装置
C1a、C1b、C15 、C110 一次側回路
C2a、C2b、C25 、C210 二次側回路
C31 、C33 、C34 、C35 、C310 負荷側回路[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a chiller device for controlling a temperature of a load in a semiconductor manufacturing apparatus or the like.
[0002]
[Prior art]
In a semiconductor manufacturing / processing process, it is necessary to strictly control the temperature of a wafer as a substrate in order to keep the film quality of a semiconductor layer to be formed, the concentration of impurities implanted into the semiconductor layer, and the like uniform. In a conventional semiconductor manufacturing apparatus, for example, a chiller apparatus 200 shown in FIG. 11 is used to perform temperature control for each process (see Patent Document 1).
[0003]
The chiller device 200 includes a primary circuit C1 including a
[0004]
The secondary circuit C2 and the load circuit C3 are connected by
[0005]
In the chiller device 200, the refrigerant temperature of the secondary circuit C2 is controlled to a constant temperature slightly lower than the set temperature of the refrigerant of the load circuit C3 (for example, a set temperature of -3 ° C. ± 1 to 0.5 ° C.). . Therefore, the
[0006]
In order to solve the above problems, the present inventor has devised a chiller device 300 as shown in FIG. The chiller device 300 includes a primary circuit C1 including a
[0007]
A
[0008]
The opening of the
[0009]
The primary cooling water introduced from the
[0010]
[Patent Document 1]
Patent No. 3095377
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
The
[0012]
An object of the present invention is to provide a chiller device capable of realizing energy saving of the device by minimizing energy consumption of an outdoor cooler to a necessary minimum.
[0013]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention is arranged in a plurality of arranged loads, a plurality of chiller devices that cool the load using a refrigerant, and a refrigerant by performing heat exchange with the refrigerant in the plurality of chiller devices. In a chiller device including a cooling water circulation circuit that circulates cooling water to be cooled to each chiller device, a cooling tower that cools the cooling water, and an auxiliary cooler that cools the cooling water so as to supplement the cooling capacity of the cooling tower, The cooling tower supplies the cooling water to the cooling tower, the auxiliary cooler, and the cooling water circulation circuit, and stores the cooling water returned from the cooling water tank and the cooling tower and the auxiliary cooling based on the cooling water temperature in the cooling water tank. Control means for controlling the flow rate of cooling water supplied to the cooler and the operation of the auxiliary cooler.
[0014]
Further, the present invention is arranged in a plurality of arranged loads, a plurality of chiller devices that cool the load using a refrigerant, and cooling water that cools the refrigerant by exchanging heat with the refrigerant in the plurality of chiller devices, In a chiller device provided with a cooling water circulation circuit that circulates through each chiller device, the cooling water circulation circuit includes a cooling water cooler that cools the cooling water, and a cooling water supply flow that supplies the cooling water to the plurality of chiller devices. A cooling water return flow path for returning cooling water via the cooling water supply flow path to the cooling water cooler; and a branch branching from the cooling water supply flow path to supply cooling water to a plurality of chiller devices. A cooling water supply flow path, a branch cooling water return flow path branched from the cooling water return flow path and returning cooling water from a plurality of chiller devices, and a cooling water supplied from the branch cooling water supply flow path. Cooling water not used for heat exchange A cooling water bypass flow path for returning to the branch cooling water return flow path, and the cooling water bypass flow path is arranged such that cooling water is returned immediately before supplying the heat to the heat exchangers of the plurality of chillers. It is characterized by having done.
[0015]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
FIG. 1 shows a configuration of a semiconductor manufacturing system to which the chiller device of the present invention is applied. The semiconductor manufacturing system 2 includes semiconductor manufacturing devices s1 to s9, parent chiller devices p1 and p2, and child chiller devices ch1 to ch9, and is installed in a clean room where dust, temperature and humidity are controlled. The semiconductor manufacturing apparatuses s1 to s9 include a CVD or PVD apparatus for forming a semiconductor film, a vacuum evaporation apparatus, an implant apparatus for implanting impurities into a semiconductor, and the like. Each of the parent chiller devices p1 and p2 uses a pure water refrigerant and a fluorine-based refrigerant, respectively.
[0016]
The child chiller devices ch1 to ch9 perform temperature control so that the temperatures of the loads W1 to W9 (see FIGS. 5 to 8) of the semiconductor manufacturing devices s1 to s9 become the respective set temperatures. A primary
[0017]
In FIG. 2 showing a piping system of the semiconductor manufacturing system 2, a primary
[0018]
The primary cooling water supplied from the
[0019]
The pure water
[0020]
The pure water refrigerant supplied from the parent chiller device p1 is supplied to the child chiller devices ch1 and ch6 via the branched pure water
[0021]
The
[0022]
The fluorine-based refrigerant supplied from the parent chiller device p2 is supplied to the child chiller devices ch2 and ch7 via the branched fluorine-based
[0023]
Here, in the example of the piping system of FIG. 2, the primary cooling water, the pure water refrigerant, and the fluorine-based refrigerant are circulated through each of the
[0024]
As shown in FIG. 3, the
[0025]
The
[0026]
The
[0027]
The primary
[0028]
The
[0029]
When the output of the
[0030]
When the cooling capacity of the
[0031]
As shown in FIG. 4, the parent chiller devices p1 and p2 are respectively composed of primary side circuits C1a and C1b and secondary side circuits C2a and C2b. The primary circuits C1a and C1b are provided with
[0032]
The secondary circuits C2a and C2b are provided with
[0033]
The
[0034]
The temperature of the refrigerant of the parent chiller devices p1 and p2 is lower than the set temperature of the load whose temperature is controlled by the child chiller devices ch1, ch2, ch6, and ch7, and can be controlled by opening and closing a control valve described later. It is set to a range (for example, -5 to -20 ° C from the set temperature of the child chiller device). When the outputs of the
[0035]
As shown in FIG. 5, the child chiller device ch1 includes a refrigerant circulation circuit Cr. 1 And the primary cooling water circulation circuit Cw 1 And the load side circuit C3 1 It is composed of Refrigerant circulation circuit Cr 1 In addition to the branch pure water refrigerant
[0036]
The
[0037]
Primary cooling water circulation circuit Cw 1 A cooling water
[0038]
The
[0039]
Load side circuit C3 1 Is provided with a load-
[0040]
The child chiller device ch1 outputs the output of the temperature sensor 61 (the load side circuit C3). 1 When the refrigerant temperature is a preset temperature, or when the outputs of the
[0041]
Primary cooling water circulation circuit Cw 1 The output of the temperature sensor 62 (the refrigerant temperature on the return side of the load W1) is higher than the set temperature, and the output of the temperature sensor 56 (the temperature of the primary cooling water passing through the branch cooling
[0042]
The mixing
[0043]
A
[0044]
Next, the operation of the child chiller device ch1 will be described with reference to FIGS. When the operation of the semiconductor manufacturing system 2 starts, the cooler of the primary circuit C1a, the
[0045]
On the other hand, when the temperature of the refrigerant detected by the
[0046]
In the
[0047]
Here, the child chiller devices ch1, ch2, ch6, and ch7 have the same configuration, except that ch1 and ch6 use pure water refrigerant, and ch2 and ch7 use fluorine-based refrigerant. Only the illustration is shown, and the description and illustration of the other devices are omitted.
[0048]
As shown in FIG. 6, the primary cooling water circulation circuit Cw of the child chiller device ch3 3 The cooling water
[0049]
The temperature sensor 71 detects the temperature of the primary cooling water passing through the branch cooling
[0050]
The child chiller device ch4 shown in FIG. 7 is similar to the state in which the
[0051]
The child chiller device ch5 shown in FIG. 8 has a configuration similar to that of the chiller device 300 shown in FIG. 12, and uses a fluorine-based refrigerant stored in the main tank 119 to load the circuit C3. 5 To cool the refrigerant. Primary cooling water circulation circuit Cw 5 , Cw 5 ′ Are provided with primary cooling
[0052]
As shown in FIG. 9, the outputs of the temperature sensors attached to the parent chiller devices p1 and p2 and the child chiller devices ch1 to ch9 are input to the
[0053]
The load-side circuit C3 shown in FIG. 10 is used as a load-side circuit of the child chiller devices ch1, ch2, ch5, ch6, and ch7. 10 May be used. This load side circuit C3 10 Then, the refrigerant supplied from the
[0054]
The
[0055]
【The invention's effect】
As described above, according to the chiller device of the present invention, the cooling tower that cools the cooling water, the auxiliary cooler that cools the cooling water so as to supplement the cooling capacity of the cooling tower, the cooling tower, the auxiliary cooler, and the cooling water circulation circuit The cooling water is supplied to the cooling water tank for storing the cooling water returned from the cooling water tank, and the flow rate of the cooling water supplied to the cooling tower and the auxiliary cooler based on the cooling water temperature in the cooling water tank. In addition, since the control means for controlling the operation of the auxiliary cooler is provided, the energy consumption of the outdoor cooler can be minimized, and energy saving of the apparatus can be realized.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic diagram of a semiconductor manufacturing system to which a chiller device of the present invention is applied.
FIG. 2 is a block diagram showing a piping system of the semiconductor manufacturing system.
FIG. 3 is a circuit diagram showing a configuration of an outdoor cooling unit.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a configuration of a parent chiller device.
FIG. 5 is a circuit diagram showing a configuration of a child chiller device ch1.
FIG. 6 is a circuit diagram showing a configuration of a child chiller device ch3.
FIG. 7 is a circuit diagram showing a configuration of a child chiller device ch4.
FIG. 8 is a circuit diagram showing a configuration of a child chiller device ch5.
FIG. 9 is a block diagram showing a control procedure of the chiller device.
FIG. 10 is a circuit diagram showing another embodiment of the load-side circuit.
FIG. 11 is a circuit diagram showing a conventional chiller device.
FIG. 12 is a circuit diagram showing a conventional chiller device.
[Explanation of symbols]
2 Semiconductor manufacturing system
10. Outdoor cooling unit
11 Primary cooling water piping
11a Cooling water supply channel
11b Cooling water return channel
12 Pure water refrigerant piping
12a Pure water refrigerant supply channel
12b Pure water refrigerant return flow path
13 Fluorine refrigerant piping
13a Fluorine-based refrigerant supply channel
13b Fluorine-based refrigerant return flow path
14a-14n Branch cooling water supply flow path
15a to 15n Branch cooling water return flow path
16a, 16b Branch pure water refrigerant supply flow path
17a, 17b Branch pure water refrigerant return flow path
18a, 18b Branch fluorinated refrigerant supply channel
19a, 19b Branched fluorine-based refrigerant return flow path
20 Cooling Tower
21 Outdoor cooler
22 Primary cooling water tank
33 temperature sensor
35, 36, 52, 57 control valve
37 Controller
64 mixing tank
101 Peltier device
140 temperature controller
141 sequencer
p1, p2 parent chiller device
ch1-ch9 child chiller device
C1a, C1b, C1 5 , C1 10 Primary circuit
C2a, C2b, C2 5 , C2 10 Secondary circuit
C3 1 , C3 3 , C3 4 , C3 5 , C3 10 Load side circuit
Claims (2)
複数のチラー装置内の冷媒と熱交換することにより冷媒を冷却する冷却水を、各チラー装置に循環させる冷却水循環回路とを備えたチラー装置において、
前記冷却水を冷却するクーリングタワーと、クーリングタワーの冷却能力を補うように冷却水を冷却する補助冷却器と、
クーリングタワー、補助冷却器、および冷却水循環回路に冷却水を供給するとともに、これらから戻された冷却水が貯留される冷却水タンクと、
冷却水タンク内の冷却水温度に基づいて、クーリングタワーおよび補助冷却器に供給される冷却水の流量、並びに補助冷却器の動作を制御する制御手段とを設けたことを特徴とするチラー装置。A plurality of chiller devices arranged in a plurality of arranged loads and cooling the load using a refrigerant,
In a chiller device including a cooling water circulation circuit that circulates cooling water that cools the refrigerant by exchanging heat with the refrigerant in the plurality of chiller devices, and circulates the chiller device.
A cooling tower that cools the cooling water, and an auxiliary cooler that cools the cooling water to supplement the cooling capacity of the cooling tower,
A cooling water tank that supplies cooling water to the cooling tower, the auxiliary cooler, and the cooling water circulation circuit, and stores the cooling water returned from the cooling tower, the auxiliary cooler, and the cooling water circulation circuit;
A chiller device comprising: a control unit that controls a flow rate of cooling water supplied to a cooling tower and an auxiliary cooler and an operation of the auxiliary cooler based on a temperature of the cooling water in the cooling water tank.
複数のチラー装置内の冷媒と熱交換することにより冷媒を冷却する冷却水を、各チラー装置に循環させる冷却水循環回路とを備えたチラー装置において、
前記冷却水循環回路を、冷却水を冷却する冷却水冷却器と、冷却水を複数のチラー装置に向けて供給する冷却水供給流路と、冷却水供給流路を経由した冷却水を前記冷却水冷却器に戻す冷却水戻り流路と、
前記冷却水供給流路から分岐して、複数のチラー装置に冷却水を供給する分岐冷却水供給流路と、前記冷却水戻り流路から分岐して、複数のチラー装置から冷却水を戻す分岐冷却水戻り流路と、
前記分岐冷却水供給流路から供給される冷却水のうち、熱交換に使用されない冷却水を、前記分岐冷却水戻り流路に戻す冷却水バイパス流路とから構成するとともに、
前記複数のチラー装置の熱交換器に供給する直前で冷却水が戻されるように、前記冷却水バイパス流路を配置したことを特徴とするチラー装置。A plurality of chiller devices arranged in a plurality of arranged loads and cooling the load using a refrigerant,
In a chiller device including a cooling water circulation circuit that circulates cooling water that cools the refrigerant by exchanging heat with the refrigerant in the plurality of chiller devices, and circulates the chiller device.
The cooling water circulation circuit includes a cooling water cooler that cools the cooling water, a cooling water supply passage that supplies the cooling water to a plurality of chillers, and a cooling water supply passage that passes through the cooling water supply passage. A cooling water return passage returning to the cooler;
A branch cooling water supply channel that branches from the cooling water supply channel and supplies cooling water to a plurality of chiller devices; and a branch that branches from the cooling water return channel and returns cooling water from the plurality of chiller devices. A cooling water return flow path;
Of the cooling water supplied from the branch cooling water supply flow path, a cooling water not used for heat exchange, and a cooling water bypass flow path returning to the branch cooling water return flow path,
The chiller device, wherein the cooling water bypass flow path is arranged so that the cooling water is returned immediately before supplying the cooling water to the heat exchangers of the plurality of chiller devices.
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