JP2004244689A - Method for manufacturing porous material, and porous material - Google Patents

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秀幸 安田
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Koji Kishio
光二 岸尾
Yoshinori Hayashi
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a porous material, which can freely control sizes of vacancies in a micro-region and improve an aspect ratio of the vacancy, and to provide a porous material which has the fine vacancies with the high aspect ratio. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the porous material comprises melting a raw material and solidifying it to prepare an alloy having two or more phases regularly crystallized; and subsequently removing at least one of the two or more phases crystallized in the alloy, to form the vacancies in the positions at which the removed phases existed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多孔体の製造方法及び多孔体に関する。
【0002】
【従来の技術】
フィルター機能や触媒機能を付加すること、及び軽量化を図るなどの観点より、表面あるいは表面から内部に貫通した微細な空孔を有する多孔体が注目を浴びている。従来、このような多孔体はレーザ加工などの微細加工技術や、電気化学的手法(陽極酸化)、あるいは発泡を用いて実施していた。
【0003】
上記レーザ加工などの方法においては、μmオーダの空孔を形成することは困難であるとともに、空孔の孔径に比較して深さが大きい(高アスペクト比)ものを形成することは困難であった。また、前記電気化学的手法においては、自己組織化によって孔径が決定されてしまうため、その大きさはnmオーダに限定されてしまい、μmオーダの孔径の空孔を有する多孔体の作製は困難であった。さらに、前記発泡を用いた方法では、mmオーダの空孔しか形成することができず、微細な空孔を有する多孔体を形成することは困難であるとともに、前記空孔のアスペクト比についても十分に大きくすることはできないでいた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、空孔の大きさを微小領域で自由に制御することができるとともに、前記空孔のアスペクト比を向上させることのできる、多孔体の製造方法、及び微細かつ高アスペクト比の空孔を有する多孔体を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成すべく、本発明は、
原料を溶解させた後、凝固させて2以上の相が規則的に晶出した合金系を作製する工程と、
前記合金系において晶出させた、前記2以上の相の内の少なくとも一つを除去し、この除去された相が位置した部分において空孔を形成する工程と、
を具えることを特徴とする、多孔体の製造方法に関する。
【0006】
本発明によれば、目的とする多孔体を2以上の相が規則的に晶出してなる合金系から構成し、この合金系の少なくとも一相を選択的に除去することによって、その除去部分に空孔を形成して得るものである。したがって、前記合金系の除去すべき相の大きさを所定の範囲に規定すれば、その相を除去することによって、nmオーダからμmオーダの広範囲な領域の微細空孔、具体的には0.1nm〜100μmの大きさの空孔を有する多孔体を簡易に製造することができる。
【0007】
また、前記除去すべき相は、前記合金系の内部に延在しているので、前記相を除去して得た空孔は十分大きな深さを有し、高いアスペクト比、具体的には1000以上のアスペクト比を有する空孔を形成することができる。
【0008】
前記合金系は、原料から溶解凝固させて得る際に、前記凝固の過程で磁場を印加することが好ましい。これによって、前記原料の組成成分、並びに溶解法や凝固法などの製造方法及び製造条件などに依存することなく、微細な規則的組織を有する合金系を簡易に得ることができる。
【0009】
また、前記合金系から前記相を除去する際には、前記合金系を所定の溶液中に浸漬し、浸出させることにより実行する、あるいは前記合金系を所定の電解液中に浸漬し、電気化学的に処理することによって実行することが好ましい。このような方法を用いれば、前記相を簡易に除去することができる。なお、電気化学処理によって相除去を行う場合は、前記電解液中に界面活性剤や粘度調整剤を含有させることが好ましい。これによって、前述した選択的な相除去を簡易に行うことができる。
【0010】
さらに、上述した合金系を製造した後、相除去を行う前において、前記合金系に対して塑性加工を施すことが好ましい。これによって、前記合金系中の規則的組織の大きさを低減させることができ、除去すべき相の大きさも十分に低減することができる。したがって、所望する大きさの微細な空孔を有する多孔体を簡易に得ることができるようになる。
【0011】
また、本発明においては、前記空孔を形成した後の前記合金系に対して電気化学処理を施し、前記合金系に含有された元素を晶出させることが好ましい。例えば、前記合金系中にNi、Co、Tiなどの元素を含有させておくことにより、前記空孔の内表面に前記元素を晶出させることができ、触媒作用や耐食性を付加することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を発明の実施の形態に基づいて詳細に説明する。
図1〜図5は、本発明の製造方法の各工程を説明するための図である。図1は、多孔体を構成する合金系を製造するために用いる凝固装置図である。図1に示す装置10においては、炉11内に発熱体12を有するとともに、炉11の周囲を覆うようにして電磁石13が設けられている。電磁石13内部にはコイル14が内蔵されている。また、発熱体12の下方には冷却装置15が設けられている。さらに、炉11の下方においては引き下げ装置16が設けられ、装置16に備え付けられた可動棒17の先端には原料Yが取り付けられている。
【0013】
原料Yは、炉11内の発熱体12によって溶解されると同時に、電磁石13による印加磁場の下、装置16によって下方に引き下げられる。そして、冷却装置15によって所定の磁場中凝固され、所定の合金系Xが得られる。この合金系Xは、後の工程において前記合金を構成する少なくとも一つの相を選択的に除去するため、2以上の相を含んでいることが必要である。例えば、合金系Xは偏晶系合金、共晶系合金、及び包晶系合金などから構成することができる。
【0014】
なお、上述した凝固過程において磁場印加は必須の要素ではないが、このような磁場印加を行うことにより、原料Yの組成成分、さらには凝固速度などの製造条件に依存することなく、2以上の相が規則的に晶出した合金系Xを得ることができる。このような観点から、前記印加磁場の大きさは0.5T〜10Tに設定する。
【0015】
図2は、合金系Xの断面を概略的に示した図である。上述した工程を経ることにより、合金系Xは、例えば金属相Aの母材中に金属相Bがロッド状に分散したような構成を呈するようになる。
【0016】
また、上述した凝固過程を経ることにより、合金系X中の各相は相当程度に微細化するが、以下に詳述するように、合金系Xを構成する少なくとも一相を選択的に除去して空孔を形成し、多孔体を作製するので、前記除去すべき相の大きさが直接的に前記空孔の大きさに反映される。したがって、合金系Xを構成する相が十分に微細化されていない場合は、合金系Xに対して塑性加工を施し、構成相の大きさをさらに微細化することが好ましい。
【0017】
前記塑性加工の種類は特に限定されるものではないが、押出加工や圧延加工などを例示することができる。
【0018】
図3は、上述のような工程を経て得た合金系Xから、構成相を選択的に除去するための装置を概略的に示す図である。図3に示す除去装置20は、容器25内に所定の溶液27が満たされている。合金系Xは容器27内に浸漬させ、合金系Xから、所定の相のみを選択的に浸出させて除去する。これによって、合金系Xの、前記相が除去された位置には空孔が形成され、目的とする多孔体を得ることができる。
【0019】
溶液27は酸やアルカリなどの溶解性の強い溶液から構成する。具体的な組成及び濃度については、合金系Xの組成成分などに応じて決定する。
【0020】
図4は、合金系Xから所定の構成相を選択的に除去するための他の装置を概略的に示す図である。図4に示す装置30は、容器30内において電解液37が満たされており、電解液37中に浸漬するようにして参照電極38及び対極39が配置されている。参照電極38あるいは対極39と作用極である合金系X間に所定の電圧を印加し、電解液37中に合金系Xを浸漬すると、合金系Xからは所定の相のみが選択的に腐食及び溶出する。これによって、前記相が除去された位置には空孔が形成され、目的とする多孔体を得ることができる。
【0021】
この場合、参照電極38あるいは対極39と合金系X間に印加する電圧の大きさ、すなわち参照電極38あるいは対極39に対する合金系Xの電位を制御することにより、合金系Xの腐食及び溶出の状態を制御することができる。例えば、所定の相の溶解速度が高い電位に印加されるような状態に設定すれば、合金系Xより、目的とする相のみを選択的に除去することができるようになる。
【0022】
また、所定の相以外の相に対しても溶解速度が高い電位に設定すれば、合金系Xより前記除去すべき相に加えてその他の相、例えば合金系Xの母材を構成する相をも部分的に除去することができるようになる。したがって、最終的に得る多孔体の空孔数、すなわち多孔率を任意に設定することができるようになる。
【0023】
前記のような状態は、例えばAl−In合金において、別個に晶出したAl相及びIn相の内、In相のみを除去するような場合に採用することができる。後者のような状態は、同じくAl−In合金において、前記In相に加えて、前記Al相を部分的に除去するような場合に採用することができる。
【0024】
図4に示す装置を用いる電気化学的手法においては、電解液37中に界面活性剤や粘度調整剤を含有させることができる。これによって、目的とする相の選択的除去をより効果的に行うことができる。界面活性剤としては市販のものを用いることができ、粘度調整剤としてはリン酸などを用いることができる。
【0025】
図5は、本発明における好ましい態様を説明するための図である。上述した工程を経た合金系Xは、樹脂材41などによってその周囲を被覆して絶縁するとともに、合金系Xの下面においてリード線42を付着させる。そして、リード線42を介して所定の電流を流すことにより、合金系Xに対して追加の電気化学処理を実施する。これによって、合金系Xの空孔の内表面に、合金系X中に含有させた他の元素を晶出させることができ、最終的に得る多孔体に対して所定の機能を付加することができる。
【0026】
例えば、原料Y中に予め微量の追加元素を含有させておくことにより、上述した追加の電気化学処理によって、合金系Xより前記追加元素を空孔の内表面上に晶出させることができ、目的とする多孔体に触媒作用や耐食性などの機能を付加することができる。追加の元素としては、Ni、Co及びTiなどを例示することができる。なお、樹脂材41は特に設けなくても良い。
【0027】
以上、図1〜図4の工程、あるいは図1〜図5の工程を経ることにより、nmオーダからμmオーダの広範囲な領域、具体的には0.1nm〜100μmの大きさであって、アスペクト比が1000以上の空孔を有する多孔体を製造することができる。
【0028】
上述したように、本発明の多孔体における前記空孔の大きさは、従来のものに比較して極めて広範囲に設定することができるとともに、極めて高いアスペクト比を呈する。
【0029】
なお、前記空孔の大きさは、空孔形状が円形状の場合はその直径を表し、空孔形状が矩形状の場合はその一辺の長さを表す。
【0030】
【実施例】
Al−32.1wt%In合金を、図1に示すような装置を用いて成長速度100mm/時間以下で凝固させ、Al母材中にInロッドが分散した微細な2つの金属相を生成させた。次いで、前記合金に対して圧延処理を施し、In相の大きさを0.1μm〜10μmに設定した。次いで、前記合金を図4に示すような電解装置内に設置した。電解液は10%硝酸水溶液を用い、参照電極を塩化銀から構成するとともに、対極を白金から構成し、前記参照電極および作用極であるAl−In合金間に所定の電圧を印加することにより、前記合金よりIn相の選択的除去を実施した。
【0031】
このとき、前記塩化銀の電位に対してAl−In合金の電位を0〜2Vに設定した際には、前記In相のみが選択的に腐食及び溶出されることが確認された。このようにして得た多孔体の顕微鏡写真を図6に示す。図6から明らかなように、このような選択除去工程を経て得た多孔体には約10μmであって、深さの大きな高アスペクト比の空孔が複数形成されていることが分かる。
【0032】
また、前記白金電極の電位を0V〜2Vに設定した際には、前記In相に加えて、前記Al母材が部分的に腐食されて溶出していることが確認された。
【0033】
なお、上述したAl−In合金系においては、In含有量が17重量%から51.5重量%間で変化させた場合においても、上述したような空孔が形成できることが確認された。また、硝酸水溶液における硝酸濃度を5−20%の範囲で変化させた場合においても、上述したような空孔が形成できることが確認された。
【0034】
以上、具体例を挙げながら発明の実施の形態に基づいて本発明を詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。
【0035】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、空孔の大きさを微小領域で自由に制御することができるとともに、前記空孔のアスペクト比を向上させることのできる、多孔体の製造方法、及び微細かつ高アスペクト比の空孔を有する多孔体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の多孔体の製造方法に用いる凝固装置図である。
【図2】本発明の多孔体を構成する合金系の断面図である。
【図3】本発明の多孔体の製造方法に用いる選択除去装置である。
【図4】本発明の多孔体の製造方法に用いる選択除去装置である。
【図5】本発明の多孔体の製造方法における好ましい態様における工程図である。
【図6】本発明の多孔体の表面顕微鏡写真である。
【符号の説明】
10 凝固装置
11 炉
12 発熱体
13 電磁石
14 コイル
15 冷却装置
16 引き下げ装置
17 可動棒
X 合金系
Y 原料
20、30 選択除去装置
25、35 容器
27 溶液
37 電解液
38 参照電極
39 対極
41 樹脂材
42 リード線
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method for manufacturing a porous body and a porous body.
[0002]
[Prior art]
BACKGROUND ART From the viewpoint of adding a filter function and a catalyst function and reducing the weight, a porous body having fine pores penetrating from the surface or from the surface to the inside has attracted attention. Conventionally, such a porous body has been implemented by using a fine processing technique such as laser processing, an electrochemical method (anodic oxidation), or foaming.
[0003]
In the above-mentioned methods such as laser processing, it is difficult to form holes of the order of μm, and it is also difficult to form holes having a depth (high aspect ratio) larger than the hole diameter of the holes. Was. Further, in the electrochemical method, since the pore size is determined by self-organization, the size is limited to the order of nm, and it is difficult to produce a porous body having pores having a pore size of the order of μm. there were. Further, in the method using the foaming, only holes of the order of mm can be formed, and it is difficult to form a porous body having fine holes, and the aspect ratio of the holes is also sufficient. Couldn't be larger.
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention provides a method for producing a porous body, and a method for producing a porous material having a fine and high aspect ratio, in which the size of pores can be freely controlled in a minute area and the aspect ratio of the pores can be improved. It is an object to provide a porous body having the following.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention provides:
Dissolving the raw materials and then solidifying to produce an alloy system in which two or more phases are regularly crystallized;
Removing at least one of the two or more phases crystallized in the alloy system and forming a void in a portion where the removed phase is located;
And a method for producing a porous body.
[0006]
According to the present invention, the target porous body is composed of an alloy system in which two or more phases are regularly crystallized, and by selectively removing at least one phase of the alloy system, It is obtained by forming holes. Therefore, if the size of the phase to be removed in the alloy system is defined within a predetermined range, the phase is removed, and thus fine pores in a wide range from the order of nm to the order of μm, specifically 0.1 μm. A porous body having pores with a size of 1 nm to 100 μm can be easily manufactured.
[0007]
In addition, since the phase to be removed extends inside the alloy system, the pores obtained by removing the phase have a sufficiently large depth and a high aspect ratio, specifically, 1000 Voids having the above aspect ratio can be formed.
[0008]
When the alloy system is obtained by melting and solidifying from a raw material, it is preferable to apply a magnetic field during the solidification process. This makes it possible to easily obtain an alloy system having a fine regular structure without depending on the composition of the raw material, the production method such as the melting method and the solidification method, and the production conditions.
[0009]
Further, when the phase is removed from the alloy system, the phase is removed by immersing the alloy system in a predetermined solution and leaching it, or the alloy system is immersed in a predetermined electrolytic solution to perform electrochemical removal. It is preferable to perform the processing by performing the processing. By using such a method, the phase can be easily removed. When the phase is removed by an electrochemical treatment, it is preferable that a surfactant and a viscosity modifier are contained in the electrolytic solution. Thus, the above-described selective phase removal can be easily performed.
[0010]
Further, after the above-described alloy system is manufactured, it is preferable to subject the alloy system to plastic working before performing phase removal. As a result, the size of the regular structure in the alloy system can be reduced, and the size of the phase to be removed can be sufficiently reduced. Therefore, a porous body having fine pores of a desired size can be easily obtained.
[0011]
Further, in the present invention, it is preferable that the alloy system after the formation of the holes is subjected to an electrochemical treatment to crystallize the elements contained in the alloy system. For example, by including an element such as Ni, Co, or Ti in the alloy system, the element can be crystallized on the inner surface of the pore, and a catalytic action or corrosion resistance can be added. .
[0012]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments of the invention.
1 to 5 are views for explaining each step of the manufacturing method of the present invention. FIG. 1 is a diagram of a solidification apparatus used for producing an alloy system constituting a porous body. In an apparatus 10 shown in FIG. 1, a heating element 12 is provided in a furnace 11, and an electromagnet 13 is provided so as to cover the periphery of the furnace 11. A coil 14 is built in the electromagnet 13. Further, a cooling device 15 is provided below the heating element 12. Further, a lowering device 16 is provided below the furnace 11, and a raw material Y is attached to a distal end of a movable rod 17 provided in the device 16.
[0013]
The raw material Y is melted by the heating element 12 in the furnace 11 and, at the same time, is pulled down by the device 16 under the magnetic field applied by the electromagnet 13. Then, it is solidified in a predetermined magnetic field by the cooling device 15 to obtain a predetermined alloy system X. This alloy system X needs to contain two or more phases in order to selectively remove at least one phase constituting the alloy in a later step. For example, the alloy X can be composed of a monotectic alloy, a eutectic alloy, a peritectic alloy, or the like.
[0014]
The application of a magnetic field is not an essential element in the above-described solidification process, but by applying such a magnetic field, two or more components can be obtained without depending on the composition of the raw material Y and further on the production conditions such as the solidification rate. An alloy system X in which phases are regularly crystallized can be obtained. From such a viewpoint, the magnitude of the applied magnetic field is set to 0.5T to 10T.
[0015]
FIG. 2 is a diagram schematically showing a cross section of alloy system X. Through the above-described steps, the alloy system X comes to have a configuration in which, for example, the metal phase B is dispersed in a rod shape in the base material of the metal phase A.
[0016]
Further, through the above-described solidification process, each phase in the alloy system X is considerably miniaturized. However, as described in detail below, at least one phase constituting the alloy system X is selectively removed. Thus, the size of the phase to be removed is directly reflected on the size of the pore. Therefore, when the phases constituting the alloy system X are not sufficiently refined, it is preferable to subject the alloy system X to plastic working to further refine the size of the constituent phases.
[0017]
The type of the plastic working is not particularly limited, and examples thereof include extrusion and rolling.
[0018]
FIG. 3 is a diagram schematically showing an apparatus for selectively removing a constituent phase from alloy system X obtained through the above-described steps. In the removing device 20 shown in FIG. 3, a container 25 is filled with a predetermined solution 27. The alloy system X is immersed in the container 27, and only a predetermined phase is selectively leached and removed from the alloy system X. As a result, pores are formed at the positions of the alloy X where the phase has been removed, and a target porous body can be obtained.
[0019]
The solution 27 is composed of a highly soluble solution such as an acid or an alkali. The specific composition and concentration are determined according to the composition of the alloy X and the like.
[0020]
FIG. 4 is a view schematically showing another apparatus for selectively removing a predetermined constituent phase from the alloy system X. In the apparatus 30 shown in FIG. 4, the electrolyte 30 is filled in the container 30, and the reference electrode 38 and the counter electrode 39 are arranged so as to be immersed in the electrolyte 37. When a predetermined voltage is applied between the reference electrode 38 or the counter electrode 39 and the alloy system X which is a working electrode, and the alloy system X is immersed in the electrolytic solution 37, only a predetermined phase from the alloy system X is selectively corroded and corroded. Elute. As a result, pores are formed at positions where the phase has been removed, and a target porous body can be obtained.
[0021]
In this case, by controlling the magnitude of the voltage applied between the reference electrode 38 or the counter electrode 39 and the alloy system X, that is, by controlling the potential of the alloy system X with respect to the reference electrode 38 or the counter electrode 39, the state of corrosion and elution of the alloy system X is controlled. Can be controlled. For example, by setting a state in which the dissolution rate of a predetermined phase is applied to a high potential, only the target phase can be selectively removed from the alloy system X.
[0022]
Further, if the potential for dissolution is set to a high potential for a phase other than the predetermined phase, other phases, for example, a phase constituting a base material of the alloy X, are added to the phase to be removed from the alloy X. Can also be partially removed. Therefore, the number of pores of the finally obtained porous body, that is, the porosity can be arbitrarily set.
[0023]
Such a state can be adopted, for example, in the case of removing only the In phase from the separately crystallized Al phase and In phase in an Al—In alloy. The latter state can also be employed in the case where the Al phase is partially removed in addition to the In phase in the Al—In alloy.
[0024]
In the electrochemical method using the apparatus shown in FIG. 4, a surfactant or a viscosity modifier can be contained in the electrolytic solution 37. Thereby, the target phase can be selectively removed more effectively. A commercially available surfactant can be used as the surfactant, and phosphoric acid or the like can be used as the viscosity modifier.
[0025]
FIG. 5 is a diagram for explaining a preferred embodiment of the present invention. The alloy system X that has undergone the above-described steps is covered with a resin material 41 or the like to be insulated, and a lead wire 42 is attached to the lower surface of the alloy system X. Then, an additional electrochemical treatment is performed on the alloy system X by flowing a predetermined current through the lead wire 42. Thereby, other elements contained in the alloy system X can be crystallized on the inner surface of the pores of the alloy system X, and a predetermined function can be added to the finally obtained porous body. it can.
[0026]
For example, by adding a trace amount of the additional element in the raw material Y in advance, the additional element can be crystallized from the alloy system X on the inner surface of the pores by the additional electrochemical treatment described above, Functions such as catalytic action and corrosion resistance can be added to the target porous body. Examples of the additional element include Ni, Co, and Ti. Note that the resin material 41 may not be provided.
[0027]
As described above, through the steps of FIG. 1 to FIG. 4 or the steps of FIG. 1 to FIG. 5, a wide range of nm order to μm order, specifically 0.1 nm to 100 μm, A porous body having pores with a ratio of 1000 or more can be produced.
[0028]
As described above, the size of the pores in the porous body of the present invention can be set in an extremely wide range as compared with a conventional one, and exhibits an extremely high aspect ratio.
[0029]
The size of the hole indicates the diameter when the hole shape is circular, and indicates the length of one side when the hole shape is rectangular.
[0030]
【Example】
The Al-32.1 wt% In alloy was solidified at a growth rate of 100 mm / hour or less using an apparatus as shown in FIG. 1 to generate two fine metal phases in which In rods were dispersed in the Al base material. . Next, the alloy was subjected to a rolling treatment, and the size of the In phase was set to 0.1 μm to 10 μm. Next, the alloy was placed in an electrolytic device as shown in FIG. The electrolyte is a 10% nitric acid aqueous solution, the reference electrode is made of silver chloride, the counter electrode is made of platinum, and a predetermined voltage is applied between the reference electrode and the Al-In alloy serving as a working electrode. The In phase was selectively removed from the alloy.
[0031]
At this time, when the potential of the Al-In alloy was set to 0 to 2 V with respect to the potential of the silver chloride, it was confirmed that only the In phase was selectively corroded and eluted. FIG. 6 shows a micrograph of the porous body thus obtained. As is clear from FIG. 6, the porous body obtained through such a selective removal step has a plurality of holes with a large depth of about 10 μm and a high aspect ratio.
[0032]
When the potential of the platinum electrode was set to 0 V to 2 V, it was confirmed that the Al base material was partially corroded and eluted in addition to the In phase.
[0033]
In the Al-In alloy system described above, it was confirmed that the above-described pores could be formed even when the In content was changed from 17% by weight to 51.5% by weight. It was also confirmed that the above-described pores could be formed even when the nitric acid concentration in the aqueous nitric acid solution was changed in the range of 5 to 20%.
[0034]
As described above, the present invention has been described in detail based on the embodiments of the present invention with specific examples. However, the present invention is not limited to the above description, and any modifications or changes may be made without departing from the scope of the present invention. Changes are possible.
[0035]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to freely control the size of pores in a minute region, and to improve the aspect ratio of the pores, a method for manufacturing a porous body, and A porous body having fine and high aspect ratio pores can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram of a solidification apparatus used in a method for producing a porous body of the present invention.
FIG. 2 is a sectional view of an alloy system constituting the porous body of the present invention.
FIG. 3 is a selective removal device used in the method for producing a porous body of the present invention.
FIG. 4 is a selective removal device used in the method for producing a porous body of the present invention.
FIG. 5 is a process chart in a preferred embodiment of the method for producing a porous body of the present invention.
FIG. 6 is a surface micrograph of a porous body of the present invention.
[Explanation of symbols]
REFERENCE SIGNS LIST 10 solidification device 11 furnace 12 heating element 13 electromagnet 14 coil 15 cooling device 16 pulling-down device 17 movable rod X alloy-based Y raw material 20, 30 selective removal device 25, 35 container 27 solution 37 electrolyte solution 38 reference electrode 39 counter electrode 41 resin material 42 Lead

Claims (18)

原料を溶解させた後、凝固させて2以上の相が規則的に晶出した合金系を作製する工程と、
前記合金系において晶出させた、前記2以上の相の内の少なくとも一つを除去し、この除去された相が位置した部分において空孔を形成する工程と、
を具えることを特徴とする、多孔体の製造方法。
Dissolving the raw materials and then solidifying to produce an alloy system in which two or more phases are regularly crystallized;
Removing at least one of the two or more phases crystallized in the alloy system, and forming pores in a portion where the removed phase is located;
A method for producing a porous body, comprising:
前記凝固は磁場存在下で実施することを特徴とする、請求項1に記載の多孔体の製造方法。The method according to claim 1, wherein the coagulation is performed in the presence of a magnetic field. 前記磁場は、0.5T〜10Tであることを特徴とする、請求項2に記載の多孔体の製造方法。The method according to claim 2, wherein the magnetic field is 0.5T to 10T. 前記相の除去は、前記合金系を所定の溶液中に浸漬し、浸出させて行うことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 1 to 3, wherein the removal of the phase is performed by immersing the alloy system in a predetermined solution and leaching the alloy system. 前記相の除去は、前記合金系を所定の電解液中に浸漬し、電気化学的に除去することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 1 to 3, wherein the removing of the phase is performed by immersing the alloy system in a predetermined electrolytic solution and electrochemically removing the alloy system. 前記電解液中に負電圧を印加し、前記合金系の、除去すべき所定の相のみを除去することを特徴とする、請求項5に記載の多孔体の製造方法。The method for manufacturing a porous body according to claim 5, wherein a negative voltage is applied to the electrolyte to remove only a predetermined phase of the alloy system to be removed. 前記電解液中に正電圧を印加し、前記合金系の、除去すべき所定の相に加えて、前記合金系の他の部分をも電気的に溶解させて除去して追加の空孔を形成することを特徴とする、請求項5に記載の多孔体の製造方法。A positive voltage is applied to the electrolyte, and in addition to the predetermined phase of the alloy system to be removed, other portions of the alloy system are also electrically dissolved and removed to form additional holes. The method for producing a porous body according to claim 5, wherein: 前記電解液中に界面活性剤を含有させることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 5 to 7, wherein a surfactant is contained in the electrolytic solution. 前記電解液中に粘度調整剤を含有させることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 5 to 8, wherein a viscosity modifier is contained in the electrolytic solution. 前記合金系を作製した後において、前記合金系に塑性加工を施し、前記規則的組織を微細化する工程を具えることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The porous body according to any one of claims 1 to 9, further comprising a step of subjecting the alloy system to plastic working after producing the alloy system to refine the regular structure. Manufacturing method. 前記塑性加工は押出加工であることを特徴とする、請求項10に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to claim 10, wherein the plastic working is extrusion. 前記塑性加工は圧延加工であることを特徴とする、請求項10に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to claim 10, wherein the plastic working is rolling. 前記空孔を形成した後において、前記合金系に電気化学処理を施し、前記空孔の内表面に、前記合金系に含有された元素を晶出させる工程を具えることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。After forming the holes, the method further comprises a step of subjecting the alloy system to an electrochemical treatment to crystallize an element contained in the alloy system on an inner surface of the holes. Item 13. The method for producing a porous body according to any one of Items 1 to 12. 前記空孔のアスペクト比が1000以上であることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 1 to 13, wherein an aspect ratio of the holes is 1000 or more. 前記空孔の大きさが0.1nm〜100μmであることを特徴とする、請求項1〜14のいずれか一に記載の多孔体の製造方法。The method for producing a porous body according to any one of claims 1 to 14, wherein the size of the pores is 0.1 nm to 100 m. アスペクト比が1000以上である空孔を具えることを特徴とする、多孔体。A porous body having pores having an aspect ratio of 1000 or more. 前記空孔の大きさが0.1nm〜100μmであることを特徴とする、請求項16に記載の多孔体。The porous body according to claim 16, wherein the size of the pore is 0.1 nm to 100 m. 前記空孔の内表面に母材と異なる元素が晶出していることを特徴とする、請求項16又は17に記載の多孔体。The porous body according to claim 16, wherein an element different from the base material is crystallized on the inner surface of the pore.
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