JP2004237240A - Film forming method and apparatus - Google Patents
Film forming method and apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004237240A JP2004237240A JP2003030992A JP2003030992A JP2004237240A JP 2004237240 A JP2004237240 A JP 2004237240A JP 2003030992 A JP2003030992 A JP 2003030992A JP 2003030992 A JP2003030992 A JP 2003030992A JP 2004237240 A JP2004237240 A JP 2004237240A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- container
- film
- solution
- forming
- injection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Images
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Details Of Rigid Or Semi-Rigid Containers (AREA)
Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は,容器の表面に成膜するための方法及びその装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年,ペットボトルと呼ばれるポリエチレンテレフタレートからなるプラスティック容器が大量に流通しているが,容器内に充填する飲料が高温の飲料の場合には,容器を通じて該飲料の酸化が進むため,容器の内側表面に,DLC(Diamond Like Carbon)膜,又はSi含有DLC膜をプラズマプロセスによって成膜することが行われている。
【0003】
従来,ペットボトルのような容器の内側表面に,前記DLC膜やSi含有DLC膜を成膜するにあたっては,容器の外側を囲み,減圧チャンバーを兼ねた外部電極を容器外側に配置するとともに,容器の内部に内部電極を配置し,容器の内側に原料ガスを導入し,外部電極に高周波を印加して容器内にプラズマを発生させて,容器の内側表面に所定の成膜処理を施す,いわゆるプラズマCVD方法が採用されている(例えば,特許文献1参照。)。
【0004】
【特許文献1】
特開2001−335946号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら,前記従来の方法は,実施するための装置自体が複雑であり,真空ポンプ,整合をとるためのマッチングボックスを用意しなければならず,また容器の外形に合わせてその都度形状の異なった外部電極も別途用意する必要があった。また所定の減圧度に達するために時間がかかり,単位時間あたりの生産量も満足できるものではなかった。しかも容器内に配置する内部電極表面も成膜されるため,定期的に内部電極をクリーニングするという煩瑣もあった。さらに外部電極の構造から,適用できる容器の形状が限られていた。
【0006】
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり,前記したペットボトルのような容器の表面に成膜をするにあたり,そのようなプラズマCVD方法を用いずに,取り扱いが容易で,かつより生産性の高い成膜方法及びその装置を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため,本発明は,容器の内側表面に被膜を形成する成膜方法であって,成膜対象とする前記容器の中に,成膜用溶液としての希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液,又は該化合物のフッ化水素酸溶液を注入して容器内側表面と前記成膜用溶液を接触させ,所定時間経過後,前記成膜用溶液を容器の外に排出することを特徴とするものである。
【0008】
本発明によれば,容器内に希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液,又は該化合物のフッ化水素酸溶液にフッ化物イオン補足剤を加えたもの,を注入して容器内周と前記成膜用溶液を接触させるようにしたので,容器の内側表面にこれら水溶液中の酸化物が析出して薄膜が形成される。
【0009】
たとえばフッ酸+ZrO2の溶液にホウ酸(BrO3)を加えたものを使用した場合,容器の内側表面には,ZrO2の薄膜が形成される。
化学平衡で示せば,式(1),(2)に示したとおりである。なお具体的な反応プロセスについては,八木健「Synthesis of functional ceramic materials from aqueous solutions」(J Mater. Res. Vol.13 No.5 May 1998 )に詳しい。
【0010】
【数1】
【0011】
したがって,従来のようなプラズマCVDによる成膜方法によらなくとも,容器の内側表面にこれら酸化物の薄膜が形成できる。
【0012】
本発明に適した成膜用溶液としての希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液としては,たとえば,TiO2にフッ酸を加えたものや,HfO2をフッ酸に加えたものがある。これらを使用した場合,TiO2,HfO2の薄膜が容器表面に形成される。またその場合のイオン補足剤としては,ホウ酸が挙げられる。
【0013】
前記成膜用溶液の容器の中への注入にあたっては注入管を用いると共に,該注入管の吐出口を前記容器内の底部近傍に位置させると,容器内の底部近傍から成膜用溶液を注入することができるので,容器内に対流を積極的に発生させて,溶液を均一化して容器表面に均一な成膜処理を施すことが可能である。
【0014】
また容器内の溶液を排出するには,排出管を容器内の底部近傍まで挿入して排出すればよいが,たとえば容器自体を回転させるなどして,口を下方に向け,自重落下によって排出すれば,成膜の均一性を阻害するのを抑えることができる。なお排出管は,注入管と共用してもよい。
【0015】
さらにまた,より排出の際の成膜の不均一性に与える影響を防止するには,前記所定時間経過後,前記成膜用溶液を容器の外へ排出する前に,前記容器内に成膜反応停止剤を注入すれば,その後の溶液の排出によっては,成膜された膜の均一性に影響がない。
たとえばフッ酸+ZrO2の溶液にホウ酸(BrO3)を加える例では,成膜反応停止剤としてフッ酸(HF)を注入すればよい。
【0016】
成膜完了後,前記成膜用溶液を容器の外へ排出した後,フッ酸+ZrO2の溶液にホウ酸(BrO3)を加える例では,残留フッ酸が容器内に残り,そのままでは飲料用の容器として使用できない場合がある。したがって,適宜中和剤を注入して中和処理しても構わない。たとえばフッ酸+ZrO2の溶液にホウ酸(BrO3)を加える例では,適宜のアルカリ性溶液を容器内に注入してアルカリ処理することになる。
【0017】
中和処理を行った後,水等でさらに洗浄することが好ましいが,この場合容器の中に飲用あるいは純水を供給することが好ましい。
【0018】
また以上のような本発明の観点からすれば,たとえば容器の外側表面にも同様な方法で成膜処理することができる。
すなわち,成膜用溶液としての,希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液又は該化合物のフッ化水素酸溶液に,フッ化物イオン補足剤を加えたものに,そのまま容器を浸漬させ,所定時間経過後,容器を成膜用溶液から引き上げればよい。
【0019】
本発明を実施する他の装置としては,たとえば容器内に成膜用溶液を注入するための注入管と,前記容器内の液体を容器の外に排出するための排出管とを有し,前記注入管の注入口及び排出管の吸込口を前記容器内に挿入させ,かつ前記注入管の注入口及び排出管の吸込口を前記容器内の底部近傍まで位置させるための移動機構とを有することを特徴とする,成膜装置が提案できる。なお排出管は,注入管とで共用し,適宜の切替によって注入管,排出管として機能させる構成であっても構わない。
【0020】
排出管に代えて,容器を保持し,前記容器を回転させて前記容器の口を下方に向ける機能を有する管保持部材を有する構成とすれば,容器の口を下方に向けて自由落下による容器内の溶液の外部への排出を実行できる。
【0021】
【発明の実施の形態】
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,本発明にかかる成膜方法を実施するための成膜装置を有する注入,排出ラインの概要を示しており,成膜対象となるたとえばペットボトルなどの容器1は,保持部材2によって保持されている。
【0022】
保持部材2は,容器1の外周を側方から把持自在であり,さらに保持部材2自体は適宜の駆動機構(図示せず)によって上下方向に昇降自在な支柱3によって指示されている。また支柱3自体は,適宜の駆動機構(図示せず)によって基台4上を水平方向に移動自在である。
【0023】
基台4の上方には,第1の注入管11,第1の排出管12,第2の注入管13,第2の排出管14,第3の注入管15,第3の排出管16が,支柱3の移動方向に沿って配置されている。各注入管の吐出口11a,13a,15a,各排出管の吸込口12a,14a,16aは,各々下方に向けられている。
【0024】
第1の注入管11は,ポンプ21を介してタンク22と接続されており,タンク22内の成膜用溶液は,吐出口11aから吐出される。
第1の排出管12は,ポンプ23に接続され,吸込口12aから吸い込んだ液体を外部に排出するように構成されている。
【0025】
第2の注入管13は,ポンプ25を介してタンク26と接続されており,タンク26内の中和剤が,吐出口13aから吐出される。
第2の排出管14は,ポンプ27に接続され,吸込口14aから吸い込んだ液体を外部に排出するように構成されている。なおかかる構成は,場合によっては,省略してもよい。
第3の注入管15は,ポンプ29を介してタンク30と接続されており,タンク30内の飲用水あるいは純水が,吐出口15aから吐出される。
第3の排出管16は,ポンプ31に接続され,吸込口16aから吸い込んだ液体を外部に排出するように構成されている。
なお必要に応じて,第3の注入管15からの供給と第3の排出管16からの排出プロセスは,繰り返し行ってもよい。
【0026】
成膜装置の概要は以上に示したとおりであり,次に成膜方法の実施の形態について説明する。本実施の形態においては,タンク22内の成膜用溶液として,酸化ジルコニウム1モル,フッ酸(HF)が0.6モル,H2Oが600モル,ホウ酸(BO3H3)が0.1モルの比率で混合された溶液を使用している。
【0027】
そしてまず支柱3を移動させて保持部材2によって保持した容器1の口1aを第1の注入管11の真下に位置させる。次いで保持部材2を上昇させて,第1の注入管11の吐出口11aを容器1内に挿入し,吐出口11aを容器1内の底部近傍にまで位置させる。その後ポンプ21を作動させて,所定量の成膜用溶液を第1の注入管11によって容器1の中に注入する。
このとき,酸化ジルコニウムのフッ化溶液の注入管と,ホウ酸の注入管とを別々に用意し,注入のタイミングをずらしてもよい。
【0028】
次いで図3に示したように,保持部材2を下降させ,その後図4に示したように,支柱3を移動させて保持部材2によって保持した容器1の口1aを第1の排出管12の真下に位置させる。次いで図5に示したように,保持部材2を上昇させて,第1の排出管12の吸込口12aを容器1内に挿入し,吸込口12aを容器1内の底部近傍にまで位置させる。その後ポンプ23を稼働させて,容器1内の成膜用溶液を容器1の外に排出する。
【0029】
成膜用溶液の容器1外への排出が完了すると,図6に示したように保持部材2を下降させ,次いで先の成膜用溶液の注入工程と同様にして,第2の注入管13による容器1内への中和剤の注入,第2の排出管14による中和剤の排出,第3の注入管15による純水の注入,第3の排出管16による純水の排出工程が順次行われる。
【0030】
次に本実施の形態で使用した成膜用溶液による成膜について説明する。本実施の形態における成膜用溶液は,既述したように,ZrO2が1モル,HFが0.6モル,H2Oが600モルの比率で混合された金属フッ化物水溶液に,フッ化物イオン補足剤としてBO3H3を0.1モル加えたものを使用している。
【0031】
そして容器1内に当該成膜用溶液を注入して,容器1の内側表面と当該成膜用溶液との接触時間を,3〜10秒とした。これによって,容器1の内側表面に,10nm程度のZrO2の薄膜が形成される。
【0032】
したがって,従来のようにプラズマ成膜方法に拠らなくとも,容器1の内側表面に対して,容易にZrO2の薄膜を形成することができる。
【0033】
なお前記プロセスにおいて,成膜用溶液を容器1内に注入して所定時間経過の成膜用溶液の排出の時間管理が難しい場合には,排出する前に所定時間の終了後直ちに成膜反応を停止させることが便利である。そのため,所定時間経過直後,容器1内に直ちに成膜反応を停止させるための薬剤を注入することが好ましい。前記実施の形態を例にとると,HFを容器1内に注入するとよい。HFの注入にあたっては,前記した各注入管の構成と同様な注入管を用いて注入することができる。
【0034】
前記実施の形態では容器1内の液体,たとえば成膜用溶液,中和剤,純水を容器1の外部に排出する際に,ポンプ,排出管を用いて吸引排液するようにしていたが,容器1の口1aを下方に向けて自重落下によって容器1からこれらの液体を外部に排出するようにしてもよい。
【0035】
そのためたとえば図7に示したように,保持部材2が容器1を保持したまま,回動するなどして容器1の上下を逆にするように,保持部材2に回転機能を持たせてもよい。そうすれば,図8に示したように,前記所定時間経過後,直ちに保持部材2を回転させて容器1の口1aを下方に位置させ,そのまま自重によって容器1内の液体を容器1の外部に排出することができる。
【0036】
その他中和剤,純水の容器1内への供給についても洗浄効果を高めるため,たとえば前記回転機能を有する保持部材2を用いて容器1の口を下方に向け,口1a内にこれら液体のノズルを下から挿入し,これらの液体を容器1内に向けて噴出するようにしてもよい。
【0037】
なお前記実施の形態は,容器1の内側表面に成膜する方法であったが,本発明によれば,容器の外側に成膜することも可能である。かかる場合,たとえば成膜用溶液を貯留する槽内に,容器を浸漬させ,所定時間経過後に当該容器を槽から引き上げればよい。
【0038】
【発明の効果】
本発明によれば,従来のようにプラズマCVDによる成膜方法を採用しなくとも,たとえばペットボトルの内側表面に所定の薄膜,たとえば飲料用に供することができる酸化膜の薄膜を成膜することができ,従来プラズマCVD方法による各種の問題を解消して,安価でかつ多量に製品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態において使用した保持部材を有する注入,排出ラインの説明図である。
【図2】図1の注入,排出ラインにおいて,容器内に成膜用溶液を注入している様子を示す説明図である。
【図3】図1の注入,排出ラインにおいて,溶液内への注入が完了した様子を示す説明図である。
【図4】図1の注入,排出ラインにおいて,第1の排出管の下に容器を移動させた様子を示す説明図である。
【図5】図1の注入,排出ラインにおいて,容器内の成膜用溶液を排出している様子を示す説明図である。
【図6】図1の注入,排出ラインにおいて,容器の成膜用溶液の排出が完了した様子を示す説明図である。
【図7】回転機能を有する保持部材によって容器を保持している状態を示す側面図である。
【図8】図7の保持容器を回転させて容器の口を下方に向けた状態を示す側面図である。
【符号の説明】
1 容器
1a 口
2 保持部材
11 第1の注入管
11a 吐出口
12 第1の排出管
12a 吸込口[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method and an apparatus for forming a film on a surface of a container.
[0002]
[Prior art]
In recent years, plastic containers made of polyethylene terephthalate called PET bottles have been distributed in large quantities. However, when the beverage to be filled in the container is a high-temperature beverage, the oxidation of the beverage proceeds through the container, so that the inner surface of the container is Then, a DLC (Diamond Like Carbon) film or a Si-containing DLC film is formed by a plasma process.
[0003]
Conventionally, when the DLC film or the Si-containing DLC film is formed on the inner surface of a container such as a PET bottle, an outer electrode surrounding the container and an external electrode also serving as a decompression chamber is arranged outside the container. An internal electrode is disposed inside the container, a source gas is introduced into the container, a high frequency is applied to the external electrode to generate plasma in the container, and a predetermined film forming process is performed on the inner surface of the container. A plasma CVD method is employed (for example, see Patent Document 1).
[0004]
[Patent Document 1]
JP 2001-335946 A
[Problems to be solved by the invention]
However, in the above-mentioned conventional method, the apparatus itself for carrying out the method is complicated, a vacuum pump and a matching box for matching must be prepared, and the shape is different depending on the outer shape of the container. External electrodes also had to be prepared separately. Further, it takes time to reach a predetermined degree of pressure reduction, and the production per unit time is not satisfactory. In addition, since the surface of the internal electrode disposed in the container is also formed, it is complicated to periodically clean the internal electrode. Furthermore, due to the structure of the external electrode, the applicable shape of the container has been limited.
[0006]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and when forming a film on the surface of a container such as the above-mentioned PET bottle, it is easy to handle without using such a plasma CVD method. It is an object of the present invention to provide a highly reliable film forming method and an apparatus therefor.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, the present invention relates to a film forming method for forming a film on an inner surface of a container, wherein a rare earth metal fluoro complex compound as a film forming solution is provided in the container to be formed. And an aqueous solution of at least one compound selected from metal fluorides or a hydrofluoric acid solution of the compound is injected to bring the inner surface of the container into contact with the solution for film formation. The solution is discharged outside the container.
[0008]
According to the present invention, an aqueous solution of at least one compound selected from a fluoro complex compound of a rare earth metal and a metal fluoride, or a solution obtained by adding a fluoride ion scavenger to a hydrofluoric acid solution of the compound in a container Are injected to bring the inner periphery of the container into contact with the solution for film formation, so that oxides in these aqueous solutions precipitate on the inner surface of the container to form a thin film.
[0009]
For example, when a solution obtained by adding boric acid (BrO 3 ) to a solution of hydrofluoric acid and ZrO 2 is used, a thin film of ZrO 2 is formed on the inner surface of the container.
The chemical equilibrium is as shown in equations (1) and (2). The specific reaction process is described in detail in Ken Yagi, "Synthesis of functional ceramic materials from aqueous solutions" (J Mater. Res. Vol. 13 No. 5 May 1998).
[0010]
(Equation 1)
[0011]
Therefore, a thin film of these oxides can be formed on the inner surface of the container without using a conventional film forming method by plasma CVD.
[0012]
Examples of the aqueous solution of at least one compound selected from the group consisting of a fluorocarbon complex compound of a rare earth metal and a metal fluoride as a solution for film formation suitable for the present invention include, for example, a solution obtained by adding hydrofluoric acid to TiO 2 or HfO 2. Is added to hydrofluoric acid. When these are used, a thin film of TiO 2 and HfO 2 is formed on the surface of the container. In this case, boric acid may be used as an ion scavenger.
[0013]
When the film-forming solution is injected into the container, an injection tube is used, and when the discharge port of the injection tube is positioned near the bottom in the container, the film-forming solution is injected from near the bottom in the container. Therefore, convection can be positively generated in the container, the solution can be made uniform, and a uniform film forming process can be performed on the surface of the container.
[0014]
In order to discharge the solution in the container, it is sufficient to insert the discharge pipe to the vicinity of the bottom of the container and discharge it. However, for example, by rotating the container itself, turning the mouth downward and discharging by gravity. For example, it is possible to prevent the uniformity of film formation from being hindered. The discharge pipe may be shared with the injection pipe.
[0015]
Furthermore, in order to prevent the influence on the non-uniformity of the film formation at the time of discharging, the film is formed in the container after the predetermined time has elapsed and before the film forming solution is discharged out of the container. If the reaction terminator is injected, the uniformity of the formed film is not affected by the subsequent discharge of the solution.
For example, in the case of adding boric acid (BrO 3 ) to a solution of hydrofluoric acid + ZrO 2 , hydrofluoric acid (HF) may be injected as a film formation reaction stopping agent.
[0016]
In the example where boric acid (BrO 3 ) is added to the solution of hydrofluoric acid + ZrO 2 after the film forming solution is discharged out of the container after the film formation is completed, the residual hydrofluoric acid remains in the container, and as it is for beverages. May not be used as a container. Therefore, the neutralizing treatment may be performed by appropriately injecting a neutralizing agent. For example, in the case of adding boric acid (BrO 3 ) to a solution of hydrofluoric acid + ZrO 2 , an appropriate alkaline solution is injected into a container and alkali treatment is performed.
[0017]
After the neutralization treatment, it is preferable to further wash with water or the like. In this case, it is preferable to supply drinking water or pure water into the container.
[0018]
Further, from the viewpoint of the present invention as described above, for example, a film can be formed on the outer surface of the container by the same method.
That is, an aqueous solution of at least one compound selected from a fluoro complex compound of a rare earth metal and a metal fluoride or a hydrofluoric acid solution of the compound and a fluoride ion scavenger added as a solution for film formation. Then, the container may be immersed as it is, and after a lapse of a predetermined time, the container may be pulled out of the solution for film formation.
[0019]
Another apparatus for carrying out the present invention includes, for example, an injection pipe for injecting a film forming solution into a container, and a discharge pipe for discharging the liquid in the container out of the container. A moving mechanism for inserting the inlet of the injection pipe and the inlet of the discharge pipe into the container, and positioning the inlet of the injection pipe and the suction port of the discharge pipe near the bottom of the container; A film forming apparatus characterized by the following can be proposed. Note that the discharge pipe may be shared with the injection pipe, and may be configured to function as the injection pipe and the discharge pipe by appropriate switching.
[0020]
A container having a function of holding the container and having a function of rotating the container and directing the mouth of the container downward instead of the discharge pipe may be configured such that the container is free-falling with the mouth of the container facing downward. Draining of the solution inside can be performed.
[0021]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described. FIG. 1 shows an outline of an injection / discharge line having a film forming apparatus for performing a film forming method according to the present invention. Is held.
[0022]
The holding
[0023]
Above the
[0024]
The
The
[0025]
The
The
The
The
Note that the supply process from the
[0026]
The outline of the film forming apparatus is as described above. Next, an embodiment of the film forming method will be described. In the present embodiment, as a film forming solution in the
[0027]
Then, first, the
At this time, the injection pipe for the fluorinated solution of zirconium oxide and the injection pipe for boric acid may be separately prepared, and the injection timing may be shifted.
[0028]
Next, as shown in FIG. 3, the holding
[0029]
When the film-forming solution is completely discharged from the
[0030]
Next, film formation using the film formation solution used in this embodiment will be described. As described above, the film-forming solution according to the present embodiment is obtained by mixing a metal fluoride aqueous solution in which 1 mol of ZrO 2 , 0.6 mol of HF, and 600 mol of H 2 O are mixed with each other. As the ion scavenger, one added with 0.1 mol of BO 3 H 3 is used.
[0031]
Then, the film forming solution was poured into the
[0032]
Therefore, a ZrO 2 thin film can be easily formed on the inner surface of the
[0033]
In the above process, when it is difficult to control the time for discharging the film-forming solution after a predetermined time has elapsed after the film-forming solution is injected into the
[0034]
In the above-described embodiment, when the liquid in the
[0035]
Therefore, as shown in FIG. 7, for example, the holding
[0036]
In addition, in order to enhance the cleaning effect also with respect to the supply of the neutralizing agent and pure water into the
[0037]
In the above embodiment, the film is formed on the inner surface of the
[0038]
【The invention's effect】
According to the present invention, a predetermined thin film, for example, an oxide thin film that can be used for beverages is formed on the inner surface of a PET bottle without employing a film forming method by plasma CVD as in the related art. Thus, various problems caused by the conventional plasma CVD method can be solved, and a large number of products can be provided at low cost.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram of an injection / discharge line having a holding member used in the present embodiment.
FIG. 2 is an explanatory view showing a state in which a film-forming solution is injected into a container in the injection and discharge lines in FIG.
FIG. 3 is an explanatory view showing a state in which the injection into the solution is completed in the injection and discharge lines in FIG. 1;
FIG. 4 is an explanatory view showing a state in which a container is moved below a first discharge pipe in the injection / discharge line of FIG. 1;
FIG. 5 is an explanatory view showing a state in which a film-forming solution in a container is being discharged in an injection / discharge line of FIG. 1;
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a state in which the discharge of the film-forming solution from the container is completed in the injection / discharge line of FIG. 1;
FIG. 7 is a side view showing a state where the container is held by a holding member having a rotating function.
8 is a side view showing a state in which the holding container of FIG. 7 is rotated and the mouth of the container is directed downward.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記容器の中に,
成膜用溶液として,希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液,又は該化合物のフッ化水素酸溶液に,フッ化物イオン補足剤を加えたもの,
を注入して容器の内側表面と前記成膜用溶液を接触させ,
所定時間経過後,前記成膜用溶液を容器の外に排出することを特徴とする,成膜方法。A film forming method for forming a film on an inner surface of a container,
In the container,
An aqueous solution of at least one compound selected from a fluoro complex compound of a rare earth metal and a metal fluoride, or a solution obtained by adding a fluoride ion scavenger to a hydrofluoric acid solution of the compound,
And contact the inner surface of the container with the film forming solution,
A film forming method, characterized in that after a predetermined time has elapsed, the film forming solution is discharged out of a container.
前記容器の中に飲用水又は純水を供給して,前記容器の中を洗浄する工程を有することを特徴とする,請求項1,2,3又は4に記載の成膜方法。After discharging the film-forming solution out of the container,
5. The film forming method according to claim 1, further comprising a step of supplying drinking water or pure water into the container to wash the inside of the container.
成膜対象とする容器を,
成膜用溶液としての,希土類金属のフルオロ錯化合物及び金属フッ化物から選ばれた少なくとも1種の化合物の水溶液,又は該化合物のフッ化水素酸溶液に,フッ化物イオン補足剤を加えたもの,
に浸漬し,所定時間経過後,前記容器を前記成膜用溶液から引き上げることを特徴とする,成膜方法。A film forming method for forming a film on an outer surface of a container,
The container for film formation is
An aqueous solution of at least one compound selected from a fluoro complex compound of a rare earth metal and a metal fluoride as a solution for film formation, or a solution obtained by adding a fluoride ion scavenger to a hydrofluoric acid solution of the compound,
And dipping the container from the film forming solution after a predetermined time has elapsed.
前記容器内に成膜用溶液を注入するための注入管と,
前記容器内の液体を容器の外に排出するための排出管とを有し,
前記注入管の注入口及び排出管の吸込口を前記容器内に挿入させ,かつ前記注入管の注入口及び排出管の吸込口を前記容器内の底部近傍まで位置させるための移動機構とを有することを特徴とする,成膜装置。An apparatus for forming a coating on the inner peripheral surface of a container,
An injection tube for injecting a film-forming solution into the container,
A discharge pipe for discharging the liquid in the container out of the container,
A moving mechanism for inserting the inlet of the injection pipe and the inlet of the discharge pipe into the container, and positioning the inlet of the injection pipe and the suction of the discharge pipe near the bottom in the container; A film forming apparatus, characterized in that:
前記容器内に液体を注入するための注入管と,
前記注入管の注入口を前記容器内に挿入させ,かつ前記注入管の注入口を前記容器内の底部近傍まで位置させるための移動機構と,
前記容器を保持し,前記容器を回転させて前記容器の口を下方に向ける機能を有する管保持部材と,
を有することを特徴とする,成膜装置。An apparatus for forming a coating on the inner peripheral surface of a container,
An injection tube for injecting a liquid into the container;
A moving mechanism for inserting the injection port of the injection pipe into the container, and positioning the injection port of the injection pipe to near the bottom of the container;
A tube holding member having a function of holding the container, rotating the container, and turning the mouth of the container downward;
A film forming apparatus, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003030992A JP2004237240A (en) | 2003-02-07 | 2003-02-07 | Film forming method and apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003030992A JP2004237240A (en) | 2003-02-07 | 2003-02-07 | Film forming method and apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004237240A true JP2004237240A (en) | 2004-08-26 |
Family
ID=32957720
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003030992A Withdrawn JP2004237240A (en) | 2003-02-07 | 2003-02-07 | Film forming method and apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2004237240A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7740898B2 (en) | 2005-07-26 | 2010-06-22 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing electroluminescence device |
-
2003
- 2003-02-07 JP JP2003030992A patent/JP2004237240A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7740898B2 (en) | 2005-07-26 | 2010-06-22 | Seiko Epson Corporation | Method for manufacturing electroluminescence device |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN102214548B (en) | Substrate treatment apparatus and substrate treatment method | |
TWI517232B (en) | Chemical liquid preparation method of preparing a chemical liquid for substrate processing, chemical liquid preparation unit preparing a chemical liquid for substrate processing, and substrate processing system | |
JP6311817B2 (en) | Dispensing device | |
TWI354324B (en) | Substrate processing apparatus and substrate proce | |
BG104787A (en) | Container with material coating having barrier effect and method and apparatus for making same | |
JPWO2003104523A1 (en) | Cleaning method and apparatus for source gas introduction pipe used in CVD film forming apparatus | |
KR101484078B1 (en) | Substrate processing apparatus, substrate processing method and storage medium storing therein a program for executing substrate processing method | |
KR20040079843A (en) | Process Liquid Supply Nozzle, Process Liquid Supply Apparatus and Nozzle Cleaning Method | |
JP2004237240A (en) | Film forming method and apparatus | |
JP2006273671A (en) | Crucible washing device | |
KR100773786B1 (en) | Apparatus of etching a glass substrate | |
JP4630881B2 (en) | Substrate cleaning device | |
JP2006278957A (en) | Apparatus and method for substrate processing | |
WO2016088798A1 (en) | Treatment liquid supply device using syringe, and wet treatment device | |
JP2003524560A (en) | Apparatus and method for filling containers | |
JP2010172877A (en) | Coating applicator and waiting method of nozzle | |
JP2007096156A (en) | Device for removing cover film | |
JP2569970B2 (en) | Reaction tube cleaning device | |
JP3612246B2 (en) | Semiconductor wafer etching apparatus and etching method | |
KR100607746B1 (en) | Quartz part cleaner of the semiconductor equipment | |
JP2003197613A (en) | Substrate treatment apparatus | |
JP3380943B2 (en) | Syringe manufacturing equipment | |
JP2003267325A (en) | Gas-cleaning method and gas-cleaning device for plastic container | |
JP2004056005A (en) | Device and method for treating substrate | |
TWI321815B (en) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060509 |