JP2003267325A - Gas-cleaning method and gas-cleaning device for plastic container - Google Patents
Gas-cleaning method and gas-cleaning device for plastic containerInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、内面にアモルファ
ス炭素または珪素含有化合物からなる保護被膜を形成し
たプラスチック容器の内部を洗浄する気体洗浄方法及び
気体洗浄装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a gas cleaning method and a gas cleaning device for cleaning the inside of a plastic container having a protective coating formed of an amorphous carbon or silicon-containing compound on its inner surface.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、飲料、食品、エアゾール、化粧品
容器等の分野では、プラスチック容器としてポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル等からなる容器が一
般に用いられている。このようなプラスチック容器は、
金属容器やガラス容器に比べ、ガスバリア性が劣り、酸
素や炭酸ガス等のガスを透過するため、例えば炭酸飲料
の容器として使用することが難しい等、容器により保存
する内容物が限定されるという問題がある。2. Description of the Related Art Conventionally, containers made of polyethylene, polypropylene, polyester or the like have been generally used as plastic containers in the fields of beverages, foods, aerosols, cosmetics containers and the like. Such a plastic container
Compared to metal containers and glass containers, the gas barrier property is inferior, and since gas such as oxygen and carbon dioxide gas is permeable, it is difficult to use as a container for carbonated drinks, etc. There is.
【０００３】前記問題を解決するために、容器内面にガ
スバリア被膜を形成したプラスチック容器が、特開平２
−７００５９号公報、特開平８−５３１１７号公報、特
開平８−１７５５２８号公報、特表平８−５０９１６６
号公報、特開２０００−７９９４４号公報等に提案され
ている。前記各公報記載の技術によれば、プラスチック
容器に、アモルファス炭素、珪素含有化合物等からなる
ガスバリア被膜を備えることにより、ガスバリア性を改
善することができる。In order to solve the above-mentioned problems, a plastic container having a gas barrier coating formed on the inner surface of the container is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2 (1999) -211.
-70059, JP-A-8-53117, JP-A-8-175528, and JP-A-8-509166.
Japanese Patent Laid-Open No. 2000-79944 and the like. According to the technique described in each of the above publications, the gas barrier property can be improved by providing the plastic container with the gas barrier film made of amorphous carbon, a silicon-containing compound, or the like.
【０００４】前記ガスバリア被膜は、例えば、中空の処
理室に前記プラスチック容器を配置し、該容器口部から
該容器内部に原料ガス導入管を挿入して、該処理室及び
容器内部を真空に排気した後、原料ガスを供給すると共
に高周波またはマイクロ波電圧を印加することによって
プラズマを発生させる方法により形成することができ
る。前記原料ガスとしては、アモルファス炭素からなる
被覆層を形成する場合には常温で気体または液体の脂肪
族炭化水素、芳香族炭化水素、含酸素炭化水素類、含窒
素炭化水素類が用いられ、珪素含有化合物等からなる被
覆層を形成する場合には、シラン、アルキルシラン、ア
ルキルシロキサン、アルコキシシラン等の珪素含有化合
物と、酸素等の酸化性ガスとの混合物が用いられる。The gas barrier coating is formed, for example, by arranging the plastic container in a hollow processing chamber, inserting a raw material gas introduction pipe into the container from the container opening, and evacuating the processing chamber and the container to a vacuum. After that, it can be formed by a method of generating plasma by supplying a source gas and applying a high frequency or microwave voltage. As the raw material gas, in the case of forming a coating layer made of amorphous carbon, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, oxygen-containing hydrocarbons, nitrogen-containing hydrocarbons that are gas or liquid at room temperature are used. In the case of forming a coating layer made of a containing compound or the like, a mixture of a silicon-containing compound such as silane, alkylsilane, alkylsiloxane or alkoxysilane and an oxidizing gas such as oxygen is used.
【０００５】ところで、前記方法によると、前記処理室
に配置された前記プラスチック容器の口部方向に前記原
料ガスが流れるため、口部近傍に厚膜の前記ガスバリア
被膜が形成される傾向がある。また、前記プラスチック
容器の口部から内部に導入される前記ガス導入管等にも
前記ガスバリア被膜が付着し、処理の繰り返しにより次
第に厚膜になる。By the way, according to the above method, since the raw material gas flows toward the mouth of the plastic container arranged in the processing chamber, the thick gas barrier coating tends to be formed near the mouth. Further, the gas barrier coating adheres also to the gas introducing pipe or the like introduced into the inside of the plastic container from the mouth thereof, and becomes gradually thicker by repeating the treatment.
【０００６】前記プラスチック容器の口部近傍または前
記ガス導入管等に形成された厚膜の被膜は、前記ガス導
入管等の装着または取り外しの際に、或いは装置作動時
の振動等により、剥離、脱落し、微粉末となってプラス
チック容器内部に侵入することがある。前記微粉末は人
体に無害であるが、該プラスチック容器に清涼飲料等の
内容物を充填すると該微粉末が容器底部に沈殿し、利用
者に恰も前記内容物の成分の一部が分離したかのような
印象を与えるとの問題がある。The thick film formed in the vicinity of the mouth of the plastic container or in the gas introduction pipe or the like is peeled off when the gas introduction pipe or the like is attached or detached, or by vibration during operation of the apparatus. It may fall off and become fine powder and enter the inside of the plastic container. Although the fine powder is harmless to the human body, when the plastic container is filled with contents such as a soft drink, the fine powder precipitates on the bottom of the container, and the user is unaware that some of the components of the contents are separated. There is a problem with giving the impression of.
【０００７】前記微粉末が前記プラスチック容器内に侵
入しないようにするためには、該プラスチック容器の口
部にマスキング部材を装着して前記ガスバリア被膜の形
成を防止するようにしたり、前記ガス導入管等、前記装
置の前記ガスバリア被膜が付着しやすい部分を頻繁に清
掃する等の対策が考えられる。また、前記プラスチック
容器内に侵入した前記微粉末は、該プラスチック容器に
内容物を充填する前の加圧水による水洗により完全に除
去することができる。In order to prevent the fine powder from entering the plastic container, a masking member is attached to the mouth of the plastic container to prevent the formation of the gas barrier coating, and the gas introducing pipe. For example, it is possible to take measures such as frequently cleaning the portion of the apparatus where the gas barrier coating is likely to adhere. The fine powder that has entered the plastic container can be completely removed by washing with water under pressure before filling the contents of the plastic container.
【０００８】しかしながら、前記対策を施しても、前記
微粉末が前記プラスチック容器内に侵入することを完全
に阻止することは難しく、また、内容物によっては加圧
水による水洗を行わない場合もある。そこで、前記保護
被膜を形成した後に、前記プラスチック容器内の前記微
粉末を確実に除去することができる装置の開発が望まれ
る。However, even if the above measures are taken, it is difficult to completely prevent the fine powder from entering the plastic container, and depending on the contents, washing with pressurized water may not be performed. Therefore, it is desired to develop an apparatus capable of surely removing the fine powder in the plastic container after forming the protective film.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる事情
に鑑み、内面にアモルファス炭素または珪素含有化合物
からなる保護被膜を形成したプラスチック容器の内部を
洗浄して、該容器の内部に侵入した微粉末を確実に除去
することができる気体洗浄方法及び気体洗浄装置を提供
することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION In view of such circumstances, the present invention is to clean the inside of a plastic container having a protective coating formed of an amorphous carbon or a silicon-containing compound on its inner surface, and to infiltrate the inside of the container. An object of the present invention is to provide a gas cleaning method and a gas cleaning device that can reliably remove powder.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明のプラスチック容器の気体洗浄方法は、プ
ラスチック容器の内面にアモルファス炭素または珪素含
有化合物からなる保護被膜を形成した後、該プラスチッ
ク容器の内部に気体を噴出して該プラスチック容器の内
部を洗浄する気体洗浄方法であって、倒立状態で支持さ
れた該プラスチック容器の内部に挿入されたノズルから
上方に向けて気体を噴出して、該プラスチック容器の底
部から側壁に沿って流動する第１の気体流を形成せしめ
る一方、該ノズルから斜め下方に向けて気体を噴出し
て、該側壁に沿って流動する第２の気体流を形成せし
め、第１の気体流を第２の気体流により案内して該側壁
に沿って流下せしめることにより該プラスチック容器の
内部を掃拭して洗浄することを特徴とする。In order to achieve the above object, the method for cleaning a gas of a plastic container according to the present invention comprises forming a protective coating of amorphous carbon or a silicon-containing compound on the inner surface of the plastic container, and then forming the plastic container. A gas cleaning method for cleaning the interior of the plastic container by ejecting gas into the container, comprising ejecting gas upward from a nozzle inserted inside the plastic container supported in an inverted state. While forming a first gas flow flowing from the bottom of the plastic container along the side wall, a gas is jetted obliquely downward from the nozzle to generate a second gas flow flowing along the side wall. And the inside of the plastic container is wiped and cleaned by guiding the first gas flow by the second gas flow and causing it to flow down along the side wall. It is characterized in.
【００１１】前記プラスチック容器の内部に挿入された
ノズルから上方に向けて気体を噴出すると、該気体は該
プラスチック容器の底部から側壁方向に流動し、該底部
と側壁の該底部に近い部分とを洗浄することができる。
しかし、前記気体を上方に向けて噴出するだけでは、該
気体は前記側壁の前記底部に近い部分で側壁から離れて
前記プラスチック容器の内周側に向かってしまい、前記
側壁の口部に近い部分ほど洗浄が不十分になることが懸
念される。When a gas is jetted upward from a nozzle inserted inside the plastic container, the gas flows from the bottom of the plastic container toward the side wall, and the bottom and the part of the side wall near the bottom are flown. Can be washed.
However, if only the gas is jetted upward, the gas is separated from the side wall toward the inner peripheral side of the plastic container at a portion near the bottom portion of the side wall, and the portion near the mouth portion of the side wall. There is a concern that cleaning will become insufficient.
【００１２】そこで、本発明の気体洗浄方法は、前記ノ
ズルから上方に向けて気体を噴出して、該プラスチック
容器の底部から側壁に沿って流動する第１の気体流を形
成せしめる一方、該ノズルから下方に向けて気体を噴出
して、該側壁に沿って流動する第２の気体流を形成せし
める。このようにすることにより、前記側壁の前記底部
に近い部分で側壁から離れて前記プラスチック容器の内
周側に向かおうとする第１の気体流を、第２の気体流に
より案内して該側壁に沿って流下せしめることができ
る。Therefore, in the gas cleaning method of the present invention, the gas is jetted upward from the nozzle to form a first gas flow flowing along the side wall from the bottom of the plastic container, while the nozzle is discharged. A gas is ejected downward from to form a second gas flow flowing along the side wall. By doing so, the first gas flow that is going to leave the side wall toward the inner peripheral side of the plastic container in the portion near the bottom portion of the side wall is guided by the second gas flow, and the side wall is guided. It can be made to flow down along.
【００１３】従って、本発明の気体洗浄方法によれば、
前記プラスチック容器に付着した前記保護被膜の微粉末
を、倒立状態の該プラスチック容器の底部から口部に向
けて前記両気体流で掃拭し、該プラスチック容器の内部
を確実に洗浄することができる。Therefore, according to the gas cleaning method of the present invention,
Fine powder of the protective coating adhered to the plastic container can be wiped with both gas flows from the bottom of the inverted plastic container toward the mouth to reliably clean the inside of the plastic container. .
【００１４】本発明の気体洗浄方法は、倒立状態で支持
された該プラスチック容器の口部から内部に挿入されて
気体を噴出するノズルを備え、該ノズルは、内周側に気
体供給路を備える中空の筒状体と、該筒状体の先端に開
口する第１の気体噴出口と、該筒状体の側面に斜め下方
に向けて開口する第２の気体噴出口とを備えることを特
徴とするプラスチック容器の気体洗浄装置により有利に
実施することができる。The gas cleaning method of the present invention comprises a nozzle which is inserted into the mouth of the plastic container supported in an inverted state and ejects gas, and the nozzle is provided with a gas supply passage on the inner peripheral side. A hollow tubular body, a first gas ejection port that opens at a tip of the tubular body, and a second gas ejection port that opens obliquely downward on a side surface of the tubular body. This can be advantageously carried out by a gas cleaning device for a plastic container.
【００１５】[0015]
【発明の実施の形態】次に、添付の図面を参照しながら
本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。図
１はプラズマＣＶＤ装置の構成例を示す説明的断面図で
あり、図２は本実施形態の気体洗浄装置を示す説明的断
面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, embodiments of the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is an explanatory sectional view showing a configuration example of a plasma CVD apparatus, and FIG. 2 is an explanatory sectional view showing a gas cleaning apparatus of this embodiment.
【００１６】本実施形態の気体洗浄方法は、図１示のプ
ラズマＣＶＤ装置１により内面にアモルファス炭素被覆
層または珪素含有化合物被覆層等からなるガスバリア被
膜（保護被膜）が形成された後のプラスチック容器に用
いるものである。そこで、まず、プラズマＣＶＤ装置１
によるガスバリア被膜の形成について説明する。The gas cleaning method of this embodiment is a plastic container after a gas barrier coating (protective coating) made of an amorphous carbon coating layer or a silicon-containing compound coating layer is formed on the inner surface by the plasma CVD apparatus 1 shown in FIG. Is used for. Therefore, first, the plasma CVD apparatus 1
The formation of the gas barrier coating by the method will be described.
【００１７】図１において、プラズマＣＶＤ装置１は、
パイレックス（商品名）ガラスで形成された側壁２と、
昇降自在の底板３とにより画成された処理室４を備え、
側壁２に臨む位置にマイクロ波発生装置５を備える。処
理室４の上方には、側壁６と上壁７とにより画成された
排気室８が備えられ、処理室４との間には隔壁９が設け
られている。In FIG. 1, the plasma CVD apparatus 1 is
Side wall 2 made of Pyrex (trade name) glass,
A processing chamber 4 defined by a vertically movable bottom plate 3;
A microwave generator 5 is provided at a position facing the side wall 2. An exhaust chamber 8 defined by a side wall 6 and an upper wall 7 is provided above the processing chamber 4, and a partition wall 9 is provided between the processing chamber 4 and the exhaust chamber 8.
【００１８】底板２は、ポリエチレンテレフタレート樹
脂製ボトル等のプラスチック容器１０を配置して上昇移
動することにより、プラスチック容器１０を処理室４内
に収納する。このようにして収納されたプラスチック容
器１０は、マスキング部材１１を介してプラスチック容
器１０の内部が隔壁９に設けられた接続孔１２と連通す
るように配置される。マスキング部材１１は上部突出部
１３が接続孔１２に密に挿入され、マスキング部１４が
プラスチック容器１０の口部に所定の間隔を存して挿入
される。The bottom plate 2 accommodates the plastic container 10 in the processing chamber 4 by disposing a plastic container 10 such as a polyethylene terephthalate resin bottle and moving upward. The plastic container 10 thus stored is arranged so that the inside of the plastic container 10 communicates with the connection hole 12 provided in the partition wall 9 through the masking member 11. The upper protruding portion 13 of the masking member 11 is densely inserted into the connection hole 12, and the masking portion 14 is inserted into the mouth portion of the plastic container 10 at a predetermined interval.
【００１９】処理室４と排気室８とは隔壁９に設けられ
た連通口１５のバルブ１６を介して連通しており、排気
室８の側壁６に形成された排気口１７は図示しない真空
装置に接続されている。排気室８の上壁７にはシール１
８を介してガス導入管１９が支持されており、ガス導入
管１９は上壁７とマスキング部材１１とを貫通して、プ
ラスチック容器１０内に挿入される。The processing chamber 4 and the exhaust chamber 8 communicate with each other through a valve 16 of a communication port 15 provided in the partition wall 9, and an exhaust port 17 formed on the side wall 6 of the exhaust chamber 8 has a vacuum device (not shown). It is connected to the. A seal 1 is provided on the upper wall 7 of the exhaust chamber 8.
A gas introduction pipe 19 is supported via 8, and the gas introduction pipe 19 penetrates the upper wall 7 and the masking member 11 and is inserted into the plastic container 10.
【００２０】図１示のプラズマＣＶＤ装置１では、ま
ず、プラスチック容器１０を載置した底板２を上昇移動
せしめ、処理室４内にプラスチック容器１０を収納す
る。次に、図示しない真空装置を作動して、排気室７内
を排気し、これにより接続孔１２及び連通口１５を介し
て処理室４及びプラスチック容器１０の内部を１〜１０
-2Ｐａ、好ましくは１０-1〜１０-2Ｐａの真空度に減圧
する。In the plasma CVD apparatus 1 shown in FIG. 1, first, the bottom plate 2 on which the plastic container 10 is placed is moved up, and the plastic container 10 is housed in the processing chamber 4. Next, a vacuum device (not shown) is operated to evacuate the inside of the exhaust chamber 7, whereby the interiors of the processing chamber 4 and the plastic container 10 through the connection hole 12 and the communication port 15 are 1 to 10.
The pressure is reduced to -2 Pa, preferably 10 -1 to 10 -2 Pa.
【００２１】次に、前記減圧下に、ガス導入管１９から
プラスチック容器１０内に、原料ガスを供給する。前記
原料ガスとしては、アモルファス炭素からなる被覆層を
形成する場合には常温で気体または液体の脂肪族炭化水
素、芳香族炭化水素、含酸素炭化水素類、含窒素炭化水
素類が用いられ、珪素含有化合物等からなる被覆層を形
成する場合には、シラン、アルキルシラン、アルキルシ
ロキサン、アルコキシシラン等の珪素含有化合物と、酸
素等の酸化性ガスとの混合物が用いられる。Next, the raw material gas is supplied from the gas introduction pipe 19 into the plastic container 10 under the reduced pressure. As the raw material gas, in the case of forming a coating layer made of amorphous carbon, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, oxygen-containing hydrocarbons, nitrogen-containing hydrocarbons that are gas or liquid at room temperature are used. In the case of forming a coating layer made of a containing compound or the like, a mixture of a silicon-containing compound such as silane, alkylsilane, alkylsiloxane or alkoxysilane and an oxidizing gas such as oxygen is used.
【００２２】そして、前記原料ガスが供給されている
間、マイクロ波発生装置５を作動して、ＵＨＦ領域の周
波数、例えば２．４５ＧＨｚ、４００Ｗのマイクロ波を
印加することにより、前記原料ガスを電磁励起してプラ
ズマを発生せしめ、プラスチック容器１０の内壁にアモ
ルファス炭素被覆層または珪素含有化合物被覆層等から
なるガスバリア被膜（図示せず）を形成する。While the source gas is being supplied, the microwave generator 5 is operated to apply a microwave having a frequency in the UHF range, for example, 2.45 GHz and 400 W, so that the source gas is electromagnetized. It is excited to generate plasma, and a gas barrier coating (not shown) including an amorphous carbon coating layer or a silicon-containing compound coating layer is formed on the inner wall of the plastic container 10.
【００２３】次に、前記原料ガスの供給が終了したなら
ば、マイクロ波発生装置５を停止すると共に、処理室４
及びプラスチック容器１０内を大気圧に戻し、底板３を
降下させてプラスチック容器１０を取り出すことによ
り、処理を終了する。Next, when the supply of the source gas is completed, the microwave generator 5 is stopped and the processing chamber 4 is
Then, the inside of the plastic container 10 is returned to the atmospheric pressure, the bottom plate 3 is lowered, and the plastic container 10 is taken out, thereby completing the processing.
【００２４】図１示のプラズマＣＶＤ装置１によれば、
ガス導入管１９からプラスチック容器１０内に導入され
る原料ガスは、プラスチック容器１０の口部方向に流れ
るため、口部内壁に形成される前記ガスバリア被膜が厚
膜化する傾向がある。前記傾向は、前記口部にマスキン
グ部材１１を装着することにより低減することができる
が、マスキング部材１１及び該口部近傍のガス導入管１
９の表面には、前記アモルファス炭素被覆層または珪素
含有化合物被覆層等が形成され、前記処理の繰り返しに
より次第に厚膜になる。この結果、マスキング部材１１
及びガス導入管１９の清掃を行わずに前記処理を繰り返
すと、マスキング部材１１及びガス導入管１９をプラス
チック容器１０の口部に装着したり取り外したりする際
に、前記厚膜化したアモルファス炭素被覆層または珪素
含有化合物被覆層等が剥離、脱落し、微粉末となってプ
ラスチック容器１０内部に侵入する。According to the plasma CVD apparatus 1 shown in FIG.
Since the raw material gas introduced into the plastic container 10 through the gas introduction pipe 19 flows toward the mouth of the plastic container 10, the gas barrier coating formed on the inner wall of the mouth tends to be thickened. The tendency can be reduced by mounting the masking member 11 on the mouth portion, but the masking member 11 and the gas introduction pipe 1 near the mouth portion can be reduced.
The amorphous carbon coating layer, the silicon-containing compound coating layer, or the like is formed on the surface of 9, and the film is gradually thickened by repeating the above-mentioned treatment. As a result, the masking member 11
If the above process is repeated without cleaning the gas introducing pipe 19 and the masking member 11 and the gas introducing pipe 19 are attached to or removed from the mouth of the plastic container 10, the thickened amorphous carbon coating The layer, the silicon-containing compound coating layer, or the like peels off and falls off, and becomes fine powder and enters the inside of the plastic container 10.
【００２５】そこで、次に、プラズマＣＶＤ装置１から
取り出されたプラスチック容器１０の内部を、本実施形
態の気体洗浄方法により洗浄する。本実施形態の気体洗
浄方法は、図２に示す気体洗浄装置２１により行う。Therefore, next, the inside of the plastic container 10 taken out from the plasma CVD apparatus 1 is cleaned by the gas cleaning method of this embodiment. The gas cleaning method of this embodiment is performed by the gas cleaning device 21 shown in FIG.
【００２６】気体洗浄装置２１は、図示しないコンプレ
ッサー等の気体供給装置に接続された導管２２と、導管
２２に接続されて、倒立状態で支持されたプラスチック
容器１０の口部２３に挿入されるノズル２４とからな
る。ノズル２４は、内周側に気体供給路２５を備える中
空筒状体２６と、筒状体２６の先端部に螺着される頭部
２７とからなる。The gas cleaning device 21 has a conduit 22 connected to a gas supply device such as a compressor (not shown), and a nozzle connected to the conduit 22 and inserted into the mouth portion 23 of the plastic container 10 supported in an inverted state. 24 and. The nozzle 24 includes a hollow cylindrical body 26 having a gas supply passage 25 on the inner peripheral side, and a head portion 27 screwed to the tip of the cylindrical body 26.
【００２７】頭部２７は、内周側に形成された気体案内
路２８と、気体案内路２８の先端に開口する気体噴出口
２９とを備えている。気体案内路２８は、気体供給路２
５の延長方向に沿って延在し、気体供給路２５より小径
に形成されている。The head portion 27 is provided with a gas guide passage 28 formed on the inner peripheral side and a gas ejection port 29 opening at the tip of the gas guide passage 28. The gas guide path 28 is the gas supply path 2
5 extends along the extension direction of 5 and has a smaller diameter than the gas supply passage 25.
【００２８】また、頭部２７は、筒状体２６の先端部と
の間に外周方向斜め下方に向けて開口するスリット部３
０を形成する。スリット部３０は、筒状体２６と頭部２
７との間に全周に亘って形成されており、内周側に穿設
された複数の連通孔３１を介して気体案内路２８と連通
している。Further, the head portion 27 has a slit portion 3 which is opened obliquely downward in the outer peripheral direction between the head portion 27 and the tip portion of the tubular body 26.
Form 0. The slit portion 30 includes the tubular body 26 and the head portion 2.
7, and is formed over the entire circumference, and communicates with the gas guide passage 28 through a plurality of communication holes 31 formed on the inner peripheral side.
【００２９】尚、図２において、プラスチック容器１０
は模式的な形状により示されており、図示しない支持手
段により前記のように倒立状態で支持されている。In FIG. 2, the plastic container 10
Is shown in a schematic shape, and is supported in an inverted state by the supporting means (not shown) as described above.
【００３０】次に、気体洗浄装置２１の作動と、本実施
形態の気体洗浄方法とについて説明する。Next, the operation of the gas cleaning device 21 and the gas cleaning method of this embodiment will be described.
【００３１】図１示のプラズマＣＶＤ装置１により内面
にアモルファス炭素被覆層または珪素含有化合物被覆層
等のガスバリア被膜が形成されたプラスチック容器１０
は、口部２３を下方に向けた倒立状態に支持されて、気
体洗浄装置２１に搬送される。気体洗浄装置２１では、
図２示のように、ノズル２４がプラスチック容器１０の
口部２３に挿入され、図示しないコンプレッサー等の気
体供給装置から導管２２を介して供給される空気、窒素
等の気体がプラスチック容器１０の内部に噴射される。A plastic container 10 having a gas barrier coating such as an amorphous carbon coating layer or a silicon-containing compound coating layer formed on the inner surface by the plasma CVD apparatus 1 shown in FIG.
Is supported in an inverted state with the mouth portion 23 facing downward, and is conveyed to the gas cleaning device 21. In the gas cleaning device 21,
As shown in FIG. 2, the nozzle 24 is inserted into the mouth portion 23 of the plastic container 10, and gas such as air and nitrogen supplied from a gas supply device such as a compressor (not shown) via the conduit 22 is supplied to the inside of the plastic container 10. Is injected into.
【００３２】導管２２を介して供給される気体のうち、
気体供給路２５と、気体案内路２８とを介して気体噴出
口２９から上方に向けて噴射されるものは、プラスチッ
ク容器１０の底部３２から側壁３３方向に流動する第１
の気体流Ａを形成する。気体洗浄装置２１では、気体案
内路２８が気体供給路２５より小径とされていることに
より、気体流Ａの流速が大になり、気体噴出口２９から
気体流Ａを噴き出す圧力が高くなるとの効果が得られ
る。Of the gas supplied via conduit 22,
What is ejected upward from the gas ejection port 29 via the gas supply passage 25 and the gas guide passage 28 flows from the bottom portion 32 of the plastic container 10 toward the side wall 33.
Forming a gas flow A of In the gas cleaning device 21, since the gas guide passage 28 has a smaller diameter than the gas supply passage 25, the flow velocity of the gas flow A becomes high, and the pressure of ejecting the gas flow A from the gas ejection port 29 becomes high. Is obtained.
【００３３】気体流Ａは、側壁３３に沿って流動するう
ちに、破線で示すように側壁３３から離れてプラスチッ
ク容器１０の内周側に向かう気体流Ａ’を形成しようと
する。ところが、気体洗浄装置２１では、導管２２を介
して供給される気体のうち、気体供給路２５と、気体案
内路２８とを介してスリット３０から斜め下方に向けて
噴射されるものにより、側壁３３に沿って流動する第２
の気体流Ｂが形成されている。While flowing along the side wall 33, the gas flow A tends to form a gas flow A'which is separated from the side wall 33 toward the inner peripheral side of the plastic container 10 as shown by a broken line. However, in the gas cleaning device 21, of the gas supplied through the conduit 22, the gas that is jetted obliquely downward from the slit 30 through the gas supply passage 25 and the gas guide passage 28 causes the side wall 33. Second flowing along
Gas flow B is formed.
【００３４】そこで、気体流Ａは気体流Ｂにより案内さ
れて側壁３３に沿って流下することとなり、気体流Ａ’
の形成を防止することができる。気体流Ａ，Ｂは、側壁
３３に沿って流下し、口部２３からプラスチック容器１
０の外部に流出する。Therefore, the gas flow A is guided by the gas flow B and flows down along the side wall 33, so that the gas flow A '
Formation can be prevented. The gas flows A and B flow down along the side wall 33, and the plastic container 1 from the mouth 23.
It flows to the outside of 0.
【００３５】従って、気体洗浄装置２１を用いる本実施
形態の気体洗浄方法によれば、プラスチック容器１０に
付着した前記アモルファス炭素被覆層または珪素含有化
合物被覆層等からなるガスバリア被膜の微粉末を、倒立
状態のプラスチック容器１０の底部３２から口部２３に
向けて気体流Ａ，Ｂで掃拭し、プラスチック容器１０の
内部を確実に洗浄することができる。Therefore, according to the gas cleaning method of the present embodiment using the gas cleaning device 21, the fine powder of the gas barrier coating composed of the amorphous carbon coating layer or the silicon-containing compound coating layer adhered to the plastic container 10 is inverted. The inside of the plastic container 10 can be reliably cleaned by sweeping the gas flows A and B from the bottom portion 32 of the plastic container 10 in the state toward the mouth portion 23.
【図１】プラズマＣＶＤ装置の構成例を示す説明的断面
図。FIG. 1 is an explanatory sectional view showing a configuration example of a plasma CVD apparatus.
【図２】本発明の気体洗浄装置の一本実施形態を示す説
明的断面図。FIG. 2 is an explanatory cross-sectional view showing one embodiment of the gas cleaning device of the present invention.
【符号の説明】
１…プラズマＣＶＤ装置、 １０…プラスチック容器、
２１…気体洗浄装置、 ２４…ノズル、 ２５…気体
供給路、 ２６…筒状体、 ２９…第１の気体噴出口、
３０…第２の気体噴出口、 Ａ…第１の気体流、 Ｂ
…第２の気体流。[Explanation of Codes] 1 ... Plasma CVD apparatus, 10 ... Plastic container,
21 ... Gas cleaning device, 24 ... Nozzle, 25 ... Gas supply path, 26 ... Cylindrical body, 29 ... First gas ejection port,
30 ... 2nd gas ejection port, A ... 1st gas flow, B
… Second gas flow.
Claims (2)
素または珪素含有化合物からなる保護被膜を形成した
後、該プラスチック容器の内部に気体を噴出して該プラ
スチック容器の内部を洗浄する気体洗浄方法であって、 倒立状態で支持された該プラスチック容器の内部に挿入
されたノズルから上方に向けて気体を噴出して、該プラ
スチック容器の底部から側壁方向に流動する第１の気体
流を形成せしめる一方、 該ノズルから斜め下方に向けて気体を噴出して、該側壁
に沿って流動する第２の気体流を形成せしめ、 第１の気体流を第２の気体流により案内して該側壁に沿
って流下せしめることにより該プラスチック容器の内部
を掃拭して洗浄することを特徴とする気体洗浄方法。1. A gas cleaning method for cleaning the inside of a plastic container by forming a protective coating made of an amorphous carbon or a silicon-containing compound on the inner surface of the plastic container and then ejecting a gas into the inside of the plastic container. While ejecting gas upward from a nozzle inserted inside the plastic container supported in an inverted state to form a first gas flow flowing in the side wall direction from the bottom of the plastic container, Gas is ejected obliquely downward from the nozzle to form a second gas flow flowing along the side wall, and the first gas flow is guided by the second gas flow and flows down along the side wall. A gas cleaning method, characterized in that the inside of the plastic container is wiped and cleaned by being swept.
素または珪素含有化合物からなる保護被膜を形成した
後、該プラスチック容器の内部に気体を噴出して該プラ
スチック容器の内部を洗浄する気体洗浄装置であって、 倒立状態で支持された該プラスチック容器の口部から内
部に挿入されて気体を噴出するノズルを備え、 該ノズルは、内周側に気体供給路を備える中空の筒状体
と、該筒状体の先端に開口する第１の気体噴出口と、該
筒状体の側面に斜め下方に向けて開口する第２の気体噴
出口とを備えることを特徴とするプラスチック容器の気
体洗浄装置。2. A gas cleaning apparatus for cleaning the inside of a plastic container by forming a protective coating made of an amorphous carbon or a silicon-containing compound on the inner surface of the plastic container and then ejecting a gas into the inside of the plastic container. A nozzle that is inserted inside the mouth of the plastic container supported in an inverted state and ejects gas, the nozzle including a hollow cylindrical body having a gas supply passage on an inner peripheral side thereof; A gas cleaning device for a plastic container, comprising: a first gas outlet opening at a tip of a body; and a second gas outlet opening obliquely downward on a side surface of the tubular body.
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|---|---|---|---|
| JP2002064641A JP2003267325A (en) | 2002-03-11 | 2002-03-11 | Gas-cleaning method and gas-cleaning device for plastic container |
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| JP (1) | JP2003267325A (en) |
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- 2002-03-11 JP JP2002064641A patent/JP2003267325A/en active Pending
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