JP2004231780A

JP2004231780A - Protective film for reflection-proof layer and optical member with reflection-proof layer

Info

Publication number: JP2004231780A
Application number: JP2003021601A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Inoue; 剛井上; Kazuto Okumura; 和人奥村; Atsushi Yamada; 山田　　敦
Original assignee: Nitto Denko Corp
Current assignee: Nitto Denko Corp
Priority date: 2003-01-30
Filing date: 2003-01-30
Publication date: 2004-08-19
Anticipated expiration: 2023-01-30
Also published as: JP4499995B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a protective film for reflection-proof layer enabling its good condition to be maintained without deforming the surface of the reflection-proof layer even in the case of undergoing pressure treatment and good in peelability corresponding to a trend toward wider screens, and to provide optical members with a reflection-proof layer where such a protective film is laminated on the surface of the reflection-proof layer. <P>SOLUTION: The protective film for reflection-proof layer is composed such that an adhesive layer ≤15μm thick is provided on a base film, the shrinkage after heated at 120°C for 1 h is ≤1.5%, and the ratio( high-speed peeling/low-speed peeling ) of the tackiness in peeling a test reflection-proof layer at a pull speed of 30 m/min off the layer to that at a pull speed of 0.3 m/min is ≤2.0. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルター等の反射防止層付き光学部材の反射防止層を保護するための反射防止層用保護フィルム、及び当該保護フィルムを反射防止層の表面に貼着してある反射防止層付き光学部材に関する。
【０００２】
【従来の技術】
反射防止フィルター（ＡＲ（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）フィルター）は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴなど各種ディスプレイに光反射防止機能を付与する重要な材料であり、特に反射防止フィルターの反射防止層は、その機能を発現させる上で、非常に重要である。通常、反射防止層は反射防止フィルターの最表面に設けられるため、反射防止層は最終製品で使用されるまで保護フィルムにより保護されているのが一般的である（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、反射防止層は、反射防止フィルターに限らず、偏光板や光学フィルターなどの光学部材の表面に設けられて、光学部材からの反射を防止するのに利用されている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００１−２６２０８８号公報（第２頁、図１）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、一般的な保護フィルムを使用した場合、反射防止フィルターの加工時に加熱・加圧処理をされる場合や、長期間、特に温度変化のあるような条件で保管された場合に、反射防止層が変形する場合があった。このような反射防止層のゆがみによって、実使用において光反射防止機能を損なうという問題があった。この現象は、特に加圧処理などを行う場合に顕著に発生する。
【０００６】
また最近はＬＣＤ、ＰＤＰなど大画面化への要求が大きく、大型の反射防止フィルター等からの保護フィルムの剥離作業性が重要視されている。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、加圧処理などが行われる場合でも、反射防止層の表面を変形させることなく良好な状態を維持でき、また大画面化に対応した良好な剥離性を有する反射防止層用保護フィルム、並びに当該保護フィルムを反射防止層の表面に貼着してある反射防止層付き光学部材を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは鋭意研究する中で、特定厚み以下の粘着剤層を設けた保護フィルムの熱収縮率を小さくしながら、反射防止層の表面に対する高速剥離時の粘着力と低速剥離時の粘着力との比を２．０以下とすることにより、反射防止層の表面を変形することなく良好な状態を維持でき、また大画面化に対応した良好な剥離性を有することを見出し、本発明に至った。
【０００９】
即ち、本発明の反射防止層用保護フィルムは、厚みが１５μｍ以下の粘着剤層を基材フィルムに設けてあり、１２０℃で１時間加熱後の収縮率が１．５％以下であると共に、評価用反射防止層の表面に対する引張速度３０ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力と引張速度０．３ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力との比（高速剥離／低速剥離）が２．０以下であることを特徴とする。本発明において、収縮率および粘着力の比などの物性は、具体的には実施例に記載された測定方法により測定される値である。
【００１０】
上記において、粘着剤層がアクリル系粘着剤を含有することが好ましい。アクリル系粘着剤は、主ポリマーのモノマー成分の変更によって粘着力の制御が行い易く、接着性と剥離性のバランスを良好に制御し易い。
【００１１】
また、基材フィルムがポリエチレンテレフタレートフィルムからなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムは、１２０℃付近での収縮率が小さく、粘着剤層の形成も容易に行え、コスト的にも有利となる。
【００１２】
一方、本発明の反射防止層付き光学部材は、最表面に反射防止層を設けた光学部材の表面に保護フィルムを貼着してある反射防止層付き光学部材において、前記保護フィルムは、厚みが１５μｍ以下の粘着剤層を基材フィルムに設けてあり、１２０℃で１時間加熱後の収縮率が１．５％以下であると共に、前記反射防止層の表面に対する引張速度３０ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力と引張速度０．３ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力との比（高速剥離／低速剥離）が２．０以下であることを特徴とする。
【００１３】
上記において、前記光学部材が反射防止フィルターであることが好ましい。反射防止フィルターは、特に、加工時に加熱・加圧処理をされる場合が多く、反射防止層の変形による問題が生じ易かったところ、上記のような保護フィルムを使用することによって、反射防止層の表面を変形させることなく良好な状態を維持でき、また大画面化に対応した良好な剥離性を有する反射防止フィルターとすることができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明の保護フィルムは、厚みが１５μｍ以下の粘着剤層を基材フィルムに設けてあり、粘着剤層の厚みは、好ましくは２〜１０μｍである。ここで粘着剤層の厚みが１５μｍを超える場合には、加圧処理等行う場合に加圧ムラが発生し、その結果、反射防止層が変形する場合がある。
【００１５】
本発明の保護フィルムは、１２０℃で１時間加熱後の収縮率が１．５％以下であり、好ましくは収縮率が１％以下、より好ましくは０．５％以下である。１２０℃で１時間加熱後の収縮率が１．５％を超える場合には、フィルムの加圧処理等行う場合にフィルムの収縮応力が発生し、その結果、反射防止層が変形する場合がある。
【００１６】
また、本発明の保護フィルムは、評価用反射防止層の表面に対する引張速度３０ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力と引張速度０．３ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力との比（高速剥離／低速剥離）が２．０以下であり、好ましくは１．５以下である。粘着力との比が２．０を超える場合には、保護フィルムの剥離作業性が困難になる。
【００１７】
粘着剤層の主ポリマーとしては、接着性と剥離性のバランスを得るという点から、アクリル系ポリマーが良好である。ここで用いられるアクリル系ポリマーについては、炭素数が１〜１８までのアルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルなどのモノマーや共重合性改質モノマーを１種または２種以上溶液重合、乳化重合など適宣の方式で単独重合または共重合したものである。
【００１８】
なお前記した（メタ）アクリル酸エステルや共重合性改質モノマーの具体例としては、ブチル基や２−エチルヘキシル基、イソオクチル基やイソノニル基、エチル基やメチル基等のアルキル基を有する（メタ）アクリル酸のエステル、（メタ）アクリロニトリル、酢酸ビニルやスチレン、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸やビニルピロリドン、グリシジル基やジメチルアミノエチル基やヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、ビニルアミンやアリルアミン、エチレンイミンなどの改質モノマーなどがあげられる。
【００１９】
なお上記アクリル系ポリマーについては、そのまま粘着剤のベースポリマーとして用いることもできるが、通常は粘着剤の凝集力を向上させる目的で架橋剤を配合して用いる。アクリル系ポリマーの架橋構造化は、アクリル系ポリマーを合成する際に内部架橋剤として多官能（メタ）アクリレートなどを添加するか、あるいはアクリル系ポリマーを合成した後に外部架橋剤として多官能のエポキシ系化合物やイソシアネート系化合物などを添加することにより実施できる。その他、放射線照射による架橋処理を施してもよい。これらの中でも、架橋構造を形成する好ましい方法は、外部架橋剤として多官能性エポキシ化合物や多官能性イソシアネート化合物を配合する方法である。なお、ここでいう多官能性とは２官能性以上を意味する。
【００２０】
多官能性エポキシ化合物には、分子中に２個以上のエポキシ基を有する種々の化合物が含まれ、その代表的な例として、例えば、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパングリシジルエーテル、テトラグリシジル−１，３−ビスアミノメチルシクロヘキサン、テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、トリグリシジル−ｐ−アミノフエノールなどがある。また、多官能イソシアネート化合物には、分子中に２個以上のイソシアネート基を有する種々の化合物が含まれ、その代表的な例として、例えば、ジフェニルメタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられる。
【００２１】
これらの架橋剤は単独で又は２種以上を組み合わせて使用でき、その使用量は、アクリル系ポリマーの組成や分子量などに応じて適宜選択できる。その際、反応を促進させるために、粘着剤に通常用いられるジブチルスズラウレートなどの架橋触媒を加えるようにしてもよい。また、粘着剤には、必要に応じて、粘着性付与剤、充填剤、顔料、着色剤、酸化防止剤などの慣用の添加剤を配合してもよい。
【００２２】
本発明において、反射防止層の表面に対する高速剥離時の粘着力と低速剥離時の粘着力との比を２．０以下とすべく、その値を低下させる方法としては、粘着剤層の厚みを小さくする方法、粘着剤を構成するアクリル系ポリマーの組成として高ガラス転位点（Ｔｇ）のモノマーを共重合させる方法、架橋密度を高くする方法などが挙げられる。
【００２３】
基材フィルムとしては、保護フィルムとしての熱収縮率を制御する関係よりポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等の熱可塑性フィルムが好適であり、さらには透明性やフィッシュアイ等の点よりＰＥＴフィルムが好ましい。また、熱収縮率を小さくする上で、未延伸又は低延伸タイプの樹脂フィルムや、融点又はガラス転位点の高い材料を使用するのが有利である。その厚みは特に制限はないが、剥離性と曲面追従性の観点から好ましくは１０〜８０μｍ、さらに好ましくは２０〜６０μｍである。
【００２４】
また基材フィルム表面には、粘着剤層との投錨性を上げるなど必要に応じて、コロナ処理やスパッタリング処理など電気的処理を行ってもよい。また帯電防止効果を付与させるための帯電防止剤塗布や粘着剤層との投錨性をあげるための下塗剤塗布処理なども、必要に応じて行ってよい。
【００２５】
保護フィルムの形成は例えば、粘着剤層形成材の溶剤による溶液や熱溶融液を基材フィルムに塗布する方法や、それに準じセパレータ上に塗布形成した粘着剤層を基材フィルムに移着する方法、粘着剤層形成材を基材フィルム上に押出成形塗布する方法、基材フィルム上に粘着剤層をラミネートする方法などの、公知の接着シートの形成方法に準じて行うことができる。粘着剤は必要に応じて、使用に供されるまでの間、セパレータなどを仮着して保護される。
【００２６】
一方、本発明の反射防止層付き光学部材は、以上のような本発明の保護フィルムを、最表面に反射防止層を設けた光学部材の表面に貼着したものである。即ち、貼着した保護フィルムは、厚みが１５μｍ以下の粘着剤層を基材フィルムに設けてあり、１２０℃で１時間加熱後の収縮率が１．５％以下であると共に、前記反射防止層の表面に対する引張速度３０ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力と引張速度０．３ｍ／ｍｉｎでの剥離時の粘着力との比（高速剥離／低速剥離）が２．０以下であることを特徴とする。
【００２７】
反射防止層を設けた光学部材としては、反射防止層が設けられる従来公知の光学部材であれば何れでもよく、例えば反射防止フィルターの他、偏光子に透明保護層が設けられた偏光板、偏光板に他の光学素子（光学層）を積層したもの、反射板、半透過板、位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルム、輝度向上フィルムなどに反射防止層を設けた光学部材（光学フィルター）が挙げられる。その他、液晶表示装置、有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）などに使用される表面部材に反射防止層を設けたものであってもよい。
【００２８】
本発明の光学部材としては、上記光学部材のうち、反射防止フィルターであることが好ましい。反射防止フィルターは、透明基板の最表面に反射防止層が設けられており、透明基板と反射防止層との間には、必要に応じて高屈折率の透明樹脂層が設けられる。透明樹脂層の表面は光散乱効果を得るために凹凸を形成してもよい。凹凸を形成する場合、微粒子等が含有されるが、透明樹脂層には、屈折率を制御するための機能性フィラーを適宜に含有することができる。反射防止フィルターとしては、透明基板に高屈折率の透明樹脂層と低屈折率の反射防止層とが設けられたものが一般的である。
【００２９】
透明基板としては、ポリエステル系ポリマー、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、オレフィン系ポリマー、アミド系ポリマー等の透明ポリマーからなるフィルムがあげられる。透明基板の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１０〜５００μｍ程度である。
【００３０】
透明樹脂層を構成する樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂などがあげられるが、紫外線硬化型樹脂が好適である。紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものがあげられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。
【００３１】
透明樹脂層の屈折率は１．４９〜１．７２になるように調整するのが好ましい。また透明樹脂層の屈折率は、透明基板の屈折率より高く、反射防止層の屈折率が透明基板の屈折率より低いことが好ましい。反射率の観点から透明樹脂層には高屈折率が求められ、反射防止層にはより低い屈折率が求められる。透明樹脂層の厚さは特に制限されないが、２０μｍ以下、特に１〜１０μｍとするのが好ましい。
【００３２】
反射防止層の屈折率は１．３０〜１．４８になるように調整するのが好ましい。低屈折率材料は透明樹脂層よりも屈折率の低いものであれば特に制限されない。低屈折率層材料としては、例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂系材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド系材料、テトラエトキシシラン、チタンテトラエトキシド等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル系材料等があげられる。また、それぞれの材料は、表面の防汚染性付与するためフッ素基含有化合物を用いることができる。反射防止層は、シロキサン骨格を含むことが耐擦傷性の面から好ましく、低屈折率材料としては、特にゾル−ゲル系材料が好ましい。反射防止層の厚さは特に制限されないが、０．０５〜０．３μｍ程度、特に０．１〜０．３μｍとするのが好ましい。反射率低減の観点より、通常、厚み（ｎｍ）×屈折率の値が１４０ｎｍ程度となるように設定するのが好ましい。
【００３３】
【実施例】
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。
【００３４】
（１）収縮率
得られた保護フィルムをオートクレーブにて１２０℃で１時間加熱し、その前後の縦（長手）方向の寸法を計測して収縮率を算出した。
【００３５】
（２）粘着力の比
反射防止偏光板（ＡＲＣ１５０Ｔ，日東電工（株）製）の反射防止層（これが評価用反射防止層に相当する）の表面に対する高速剥離時の粘着力と低速剥離時の粘着力との比を次のようにして求めた。反射防止偏光板の反射防止層の表面に線圧：７８Ｎ／ｃｍ、速度０．３ｍ／ｍｉｎの条件で保護フィルムをラミネートし、３０分後の低速粘着力（引張速度：０．３ｍ／ｍｉｎ）および高速粘着力（３０ｍ／ｍｉｎ）を測定（１８０°ピール）し、高速粘着力の値を低速粘着力の値で割って算出した。
【００３６】
（３）保護フィルムの剥離感および反射防止層表面の外観
反射防止偏光板（ＡＲＣ１５０Ｔ，日東電工（株）製）の反射防止層表面に、保護フィルムを線圧：７８Ｎ／ｃｍでラミネータ圧着することにより貼付し、オートクレーブを用いて１１０℃で５００ｋＰａの条件で１時間加圧処理を行い、室温で２時間放置後に保護フィルムを剥離して、保護フィルムの剥離感を調べ、反射防止層表面の外観（ゆがみ）を目視にて確認した。
【００３７】
実施例１
常用の方法を用いて、アクリル酸２−エチルヘキシル（５５重量部）、酢酸ビニル（４５重量部）、アクリル酸（３重量部）からなるアクリル系ポリマーの２０重量％トルエン溶液を準備した。そこにアクリル系ポリマー１００重量部に対して、エポキシ系架橋剤（テトラッドＣ、三菱瓦斯化学製）を２重量部配合し、３８μｍのＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステル製，Ｔ１００）に乾燥後粘着剤層の厚みが５μｍとなるように塗布し、１３０℃で１分間乾燥して保護フィルムを得た。
【００３８】
実施例２
乾燥後の粘着剤層の厚みが１０μｍであること以外は実施例１に準じて保護フィルムを得た。
【００３９】
比較例１
乾燥後の粘着剤層の厚みが２０μｍであること以外は実施例１に準じて保護フィルムを得た。
【００４０】
比較例２
常用の方法を用いて、アクリル酸２−エチルヘキシル（１００重量部）、アクリル酸ヒドロキシエチル（４重量部）からなるアクリル系ポリマーの２０重量％トルエン溶液を準備した。そこにアクリル系ポリマー１００重量部に対して、イソシアネート系架橋剤（コロネートＬ、日本ポリウレタン製）を３．５重量部、反応触媒（ＯＬ−１、東京ファインケミカル製）０．０５重量部配合し、３８μｍのＰＥＴフィルム（三菱化学ポリエステル製，Ｔ１００）に乾燥後粘着剤層の厚みが１０μｍとなるように塗布し、１３０℃で１分間乾燥して保護フィルムを得た。
【００４１】
比較例３
３８μｍのＰＥＴフィルムに替えて、４０μｍのＰＰフィルム（二村化学製，ＦＢＳ）を用い接着剤の乾燥条件を８０℃×３分間にすること以外は実施例１に準じて保護フィルムを得た。
【００４２】
以上で得られた保護フィルムを用いて前述の各評価を行った。その結果を表１に示す。
【００４３】
【表１】

表１の結果が示すように、実施例の保護フィルムでは反射防止層のゆがみもなく、剥離性も良好であった。これに対して、粘着剤層の厚みが厚すぎる比較例１では、反射防止層のゆがみが生じ、粘着力比が大きすぎる比較例２では、剥離性が悪く、収縮率が大きすぎる比較例３では、反射防止層のゆがみが生じた。[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention provides a protective film for an antireflection layer for protecting an antireflection layer of an optical member having an antireflection layer such as an antireflection filter, and an antireflection layer having the protective film adhered to the surface of the antireflection layer. The present invention relates to an attached optical member.
[0002]
[Prior art]
An anti-reflection filter (AR (anti-reflection) filter) is an important material that imparts an anti-reflection function to various displays such as LCDs, PDPs, and CRTs. In particular, the anti-reflection layer of the anti-reflection filter exhibits its function. It is very important in making it happen. Usually, since the antireflection layer is provided on the outermost surface of the antireflection filter, the antireflection layer is generally protected by a protective film until used in a final product (for example, see Patent Document 1).
[0003]
Further, the antireflection layer is provided not only on the antireflection filter but also on the surface of an optical member such as a polarizing plate or an optical filter, and is used to prevent reflection from the optical member.
[0004]
[Patent Document 1]
JP 2001-262888 A (page 2, FIG. 1)
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, when a general protective film is used, when heat and pressure treatment is performed during processing of the anti-reflection filter, or when stored for a long time, particularly under conditions where the temperature changes, the anti-reflection layer Was sometimes deformed. Due to such distortion of the antireflection layer, there is a problem in that the antireflection function is impaired in actual use. This phenomenon occurs remarkably especially when pressure treatment is performed.
[0006]
Recently, there has been a great demand for a large screen such as an LCD or PDP, and the workability of peeling a protective film from a large antireflection filter or the like has been regarded as important.
[0007]
Therefore, an object of the present invention is to provide an anti-reflection layer that can maintain a good state without deforming the surface of the anti-reflection layer even when a pressure treatment or the like is performed, and has a good peeling property corresponding to a large screen. An object of the present invention is to provide a protective film for a layer and an optical member with an antireflection layer in which the protective film is adhered to the surface of the antireflection layer.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
The present inventors have conducted intensive research and have found that while reducing the heat shrinkage of a protective film provided with an adhesive layer having a specific thickness or less, the adhesive force at the time of high-speed peeling and the adhesiveness at a low speed peeling to the surface of the antireflection layer are reduced. By setting the ratio to the force to 2.0 or less, it was found that a good state can be maintained without deforming the surface of the antireflection layer, and that the antireflection layer has good releasability corresponding to a large screen. Reached.
[0009]
That is, the protective film for an antireflection layer of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less provided on a base film, and a shrinkage rate after heating at 120 ° C. for 1 hour of 1.5% or less, The ratio of the adhesive strength at the time of peeling at a tensile speed of 30 m / min to the surface of the antireflection layer for evaluation at a tensile speed of 30 m / min to the adhesive force at the time of peeling at a tensile speed of 0.3 m / min (high-speed peeling / low-speed peeling) is 2.0 or less. It is characterized by being. In the present invention, the physical properties such as the ratio of shrinkage and adhesive strength are values measured by the measuring methods described in the examples.
[0010]
In the above, the pressure-sensitive adhesive layer preferably contains an acrylic pressure-sensitive adhesive. The acrylic pressure-sensitive adhesive easily controls the adhesive force by changing the monomer component of the main polymer, and easily controls the balance between the adhesiveness and the releasability.
[0011]
Further, it is preferable that the base film is made of a polyethylene terephthalate film. The polyethylene terephthalate film has a small shrinkage at around 120 ° C., can easily form an adhesive layer, and is advantageous in cost.
[0012]
On the other hand, the optical member with an antireflection layer of the present invention is an optical member with an antireflection layer in which a protective film is adhered to the surface of an optical member having an antireflection layer on the outermost surface, wherein the protective film has a thickness. A pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less is provided on the base film, and the shrinkage after heating at 120 ° C. for 1 hour is 1.5% or less, and peeling at a tensile speed of 30 m / min to the surface of the antireflection layer. The ratio of the adhesive force at the time of peeling to the adhesive force at the time of peeling at a tensile speed of 0.3 m / min (high-speed peeling / low-speed peeling) is 2.0 or less.
[0013]
In the above, it is preferable that the optical member is an antireflection filter. Anti-reflection filters, in particular, are often subjected to heat and pressure treatment during processing, where problems due to deformation of the anti-reflection layer were likely to occur. An antireflection filter which can maintain a good state without deforming the surface and has a good peeling property corresponding to a large screen can be obtained.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
The protective film of the present invention has a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less provided on a base film, and the pressure-sensitive adhesive layer preferably has a thickness of 2 to 10 μm. Here, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer exceeds 15 μm, unevenness in pressure occurs when pressure treatment or the like is performed, and as a result, the antireflection layer may be deformed.
[0015]
The protective film of the present invention has a shrinkage ratio after heating at 120 ° C. for 1 hour of 1.5% or less, preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less. If the shrinkage after heating at 120 ° C. for 1 hour exceeds 1.5%, shrinkage stress of the film occurs when the film is subjected to pressure treatment or the like, and as a result, the antireflection layer may be deformed. .
[0016]
Further, the protective film of the present invention has a ratio of the adhesive force at the time of peeling at a tensile speed of 30 m / min to the surface of the antireflection layer for evaluation at a tensile speed of 0.3 m / min (the high-speed peeling). / Low-speed peeling) is 2.0 or less, preferably 1.5 or less. When the ratio to the adhesive strength exceeds 2.0, the workability of peeling the protective film becomes difficult.
[0017]
As the main polymer of the pressure-sensitive adhesive layer, an acrylic polymer is preferable from the viewpoint of obtaining a balance between adhesiveness and releasability. As the acrylic polymer used here, one or two or more monomers such as a (meth) acrylate having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms or a copolymerizable modifying monomer are subjected to solution polymerization and emulsion polymerization. It is obtained by homopolymerization or copolymerization in an appropriate manner.
[0018]
Specific examples of the (meth) acrylate and the copolymerizable modifying monomer include an alkyl group such as a butyl group, a 2-ethylhexyl group, an isooctyl group, an isononyl group, and an ethyl group or a methyl group. Acrylic acid ester, (meth) acrylonitrile, vinyl acetate and styrene, (meth) acrylic acid, maleic anhydride and vinylpyrrolidone, (meth) acrylic acid ester having glycidyl group, dimethylaminoethyl group and hydroxyl group, (meth) Modified monomers such as acrylamide, vinylamine, allylamine, and ethyleneimine are exemplified.
[0019]
The acrylic polymer can be used as it is as a base polymer of the pressure-sensitive adhesive. However, usually, a cross-linking agent is blended and used for the purpose of improving the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive. The cross-linking structure of the acrylic polymer can be obtained by adding a polyfunctional (meth) acrylate or the like as an internal cross-linking agent when synthesizing the acrylic polymer, or by synthesizing the acrylic polymer and then multi-functional epoxy-based as an external cross-linking agent. It can be carried out by adding a compound or an isocyanate compound. In addition, crosslinking treatment by irradiation with radiation may be performed. Among these, a preferred method of forming a crosslinked structure is a method of blending a polyfunctional epoxy compound or a polyfunctional isocyanate compound as an external crosslinking agent. In addition, polyfunctionality here means bifunctional or more.
[0020]
The polyfunctional epoxy compound includes various compounds having two or more epoxy groups in a molecule. Representative examples thereof include sorbitol tetraglycidyl ether, trimethylolpropane glycidyl ether, and tetraglycidyl-1. , 3-bisaminomethylcyclohexane, tetraglycidyl-m-xylenediamine, triglycidyl-p-aminophenol and the like. In addition, the polyfunctional isocyanate compound includes various compounds having two or more isocyanate groups in a molecule, and typical examples thereof include diphenylmethane diisocyanate, tolylene diisocyanate, and hexamethylene diisocyanate. .
[0021]
These cross-linking agents can be used alone or in combination of two or more, and the amount used can be appropriately selected according to the composition and molecular weight of the acrylic polymer. At that time, in order to accelerate the reaction, a crosslinking catalyst such as dibutyltin laurate which is usually used for an adhesive may be added. If necessary, conventional additives such as a tackifier, a filler, a pigment, a colorant, and an antioxidant may be added to the pressure-sensitive adhesive.
[0022]
In the present invention, in order to make the ratio of the adhesive force at the time of high-speed peeling to the surface of the antireflection layer and the adhesive force at the time of low-speed peeling 2.0 or less, as a method of reducing the value, the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer A method of reducing the size, a method of copolymerizing a monomer having a high glass transition point (Tg) as the composition of the acrylic polymer constituting the pressure-sensitive adhesive, and a method of increasing the crosslink density are exemplified.
[0023]
As the base film, a thermoplastic film such as polyethylene terephthalate (PET), polyimide, polycarbonate, or polytetrafluoroethylene (PTFE) is preferable from the viewpoint of controlling the heat shrinkage as a protective film. A PET film is preferred from the viewpoint of fish eyes and the like. In order to reduce the heat shrinkage, it is advantageous to use a non-stretched or low-stretched resin film or a material having a high melting point or glass transition point. The thickness is not particularly limited, but is preferably from 10 to 80 μm, and more preferably from 20 to 60 μm, from the viewpoint of the releasability and the ability to follow a curved surface.
[0024]
Further, the surface of the base film may be subjected to an electrical treatment such as a corona treatment or a sputtering treatment as required, for example, to enhance the anchoring property with the pressure-sensitive adhesive layer. If necessary, coating with an antistatic agent for imparting an antistatic effect or coating with an undercoating agent for improving anchorage with the pressure-sensitive adhesive layer may be performed as necessary.
[0025]
The formation of the protective film is, for example, a method of applying a solution or a hot melt of a solvent of the pressure-sensitive adhesive layer forming material to the base film, or a method of transferring the pressure-sensitive adhesive layer formed on a separator according to the method to the base film. The method can be performed according to a known method for forming an adhesive sheet, such as a method in which an adhesive layer forming material is extrusion-coated on a base film, a method in which an adhesive layer is laminated on a base film, and the like. The adhesive is temporarily protected by a separator or the like, as needed, until it is used.
[0026]
On the other hand, the optical member with an antireflection layer of the present invention is obtained by sticking the above-described protective film of the present invention on the surface of an optical member provided with an antireflection layer on the outermost surface. That is, the attached protective film has a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less provided on the base film, a shrinkage ratio after heating at 120 ° C. for 1 hour of 1.5% or less, and the antireflection layer. Wherein the ratio of the adhesive strength at the time of peeling at a tensile speed of 30 m / min to the adhesive force at the time of peeling at a tensile speed of 0.3 m / min (high-speed peeling / low-speed peeling) is 2.0 or less. And
[0027]
As the optical member provided with the antireflection layer, any conventionally known optical member provided with the antireflection layer may be used. For example, in addition to an antireflection filter, a polarizing plate having a transparent protective layer provided on a polarizer, a polarizing plate, Other optical elements (optical layers) laminated on a plate, reflectors, transflectors, retardation plates (including wavelength plates such as 1/2 and 1/4), viewing angle compensation films, brightness enhancement films, etc. An optical member (optical filter) provided with an anti-reflection layer is exemplified. In addition, an antireflection layer may be provided on a surface member used for a liquid crystal display device, an organic electroluminescence device (organic EL display device), a plasma display panel (PDP), or the like.
[0028]
The optical member of the present invention is preferably an antireflection filter among the above optical members. The antireflection filter has an antireflection layer provided on the outermost surface of a transparent substrate, and a high refractive index transparent resin layer is provided between the transparent substrate and the antireflection layer as needed. The surface of the transparent resin layer may have irregularities to obtain a light scattering effect. When forming the irregularities, fine particles and the like are contained, and the transparent resin layer may appropriately contain a functional filler for controlling the refractive index. As an antireflection filter, a filter in which a transparent resin layer having a high refractive index and an antireflection layer having a low refractive index are provided on a transparent substrate is generally used.
[0029]
Examples of the transparent substrate include a film made of a transparent polymer such as a polyester polymer, a cellulose polymer, a polycarbonate polymer, an acrylic polymer, a styrene polymer, an olefin polymer, and an amide polymer. Although the thickness of the transparent substrate can be determined as appropriate, it is generally about 10 to 500 μm from the viewpoint of workability such as strength and handleability, thinness, and the like.
[0030]
Examples of the resin constituting the transparent resin layer include a thermosetting resin, a thermoplastic resin, an ultraviolet-curable resin, an electron beam-curable resin, and a two-component mixed resin, and an ultraviolet-curable resin is preferable. . Examples of the UV-curable resin include various resins such as polyester, acrylic, urethane, amide, silicone, and epoxy resins, and include UV-curable monomers, oligomers, and polymers.
[0031]
It is preferable to adjust the refractive index of the transparent resin layer to be 1.49 to 1.72. Further, the refractive index of the transparent resin layer is preferably higher than the refractive index of the transparent substrate, and the refractive index of the antireflection layer is preferably lower than the refractive index of the transparent substrate. From the viewpoint of reflectivity, a high refractive index is required for the transparent resin layer, and a lower refractive index is required for the antireflection layer. The thickness of the transparent resin layer is not particularly limited, but is preferably 20 μm or less, particularly preferably 1 to 10 μm.
[0032]
It is preferable to adjust the refractive index of the antireflection layer to be 1.30 to 1.48. The low refractive index material is not particularly limited as long as it has a lower refractive index than the transparent resin layer. Examples of the low-refractive-index layer material include a resin-based material such as an ultraviolet-curable acrylic resin, a hybrid-based material in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in a resin, and a metal alkoxide such as tetraethoxysilane and titanium tetraethoxide. And sol-gel based materials using the same. In addition, a fluorine group-containing compound can be used for each material in order to impart antifouling properties to the surface. The antireflection layer preferably contains a siloxane skeleton from the viewpoint of scratch resistance, and as the low refractive index material, a sol-gel material is particularly preferable. The thickness of the anti-reflection layer is not particularly limited, but is preferably about 0.05 to 0.3 μm, particularly preferably 0.1 to 0.3 μm. From the viewpoint of reducing the reflectance, it is usually preferable to set the value of thickness (nm) × refractive index to be about 140 nm.
[0033]
【Example】
Hereinafter, examples and the like that specifically show the configuration and effects of the present invention will be described. The evaluation items in Examples and the like were measured as follows.
[0034]
(1) Shrinkage The obtained protective film was heated in an autoclave at 120 ° C. for 1 hour, and the longitudinal (longitudinal) dimensions before and after the heating were measured to calculate the shrinkage.
[0035]
(2) Adhesive force of specific antireflection polarizing plate (ARC150T, manufactured by Nitto Denko Corporation) Adhesive force to the surface of the antireflection layer (this corresponds to the antireflection layer for evaluation) at the time of high speed peeling and at the time of low speed peeling The ratio to the adhesive strength was determined as follows. A protective film is laminated on the surface of the antireflection layer of the antireflection polarizing plate under the conditions of a linear pressure of 78 N / cm and a speed of 0.3 m / min, and a low-speed adhesive force after 30 minutes (tensile speed: 0.3 m / min). And the high-speed adhesive force (30 m / min) was measured (180 ° peel), and calculated by dividing the value of the high-speed adhesive force by the value of the low-speed adhesive force.
[0036]
(3) Feeling of peeling of protective film and appearance of antireflection layer surface Laminator pressure bonding of the protective film to the antireflection layer surface of an antireflection polarizing plate (ARC150T, manufactured by Nitto Denko Corporation) at a linear pressure of 78 N / cm. Pressure treatment at 500 ° C. for 1 hour at 110 ° C. using an autoclave. After leaving at room temperature for 2 hours, the protective film is peeled off, and the peeling feeling of the protective film is examined. (Distortion) was visually confirmed.
[0037]
Example 1
Using a conventional method, a 20% by weight toluene solution of an acrylic polymer composed of 2-ethylhexyl acrylate (55 parts by weight), vinyl acetate (45 parts by weight), and acrylic acid (3 parts by weight) was prepared. 2 parts by weight of an epoxy-based cross-linking agent (Tetrad C, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co.) is mixed with 100 parts by weight of the acrylic polymer, and dried on a 38 μm PET film (M100, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester, T100) to form an adhesive layer. Was applied to a thickness of 5 μm and dried at 130 ° C. for 1 minute to obtain a protective film.
[0038]
Example 2
A protective film was obtained according to Example 1, except that the thickness of the dried pressure-sensitive adhesive layer was 10 μm.
[0039]
Comparative Example 1
A protective film was obtained according to Example 1, except that the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer after drying was 20 μm.
[0040]
Comparative Example 2
Using a conventional method, a 20% by weight toluene solution of an acrylic polymer composed of 2-ethylhexyl acrylate (100 parts by weight) and hydroxyethyl acrylate (4 parts by weight) was prepared. To 100 parts by weight of the acrylic polymer, 3.5 parts by weight of an isocyanate-based crosslinking agent (Coronate L, manufactured by Nippon Polyurethane) and 0.05 part by weight of a reaction catalyst (OL-1, manufactured by Tokyo Fine Chemical) were blended. After drying on a 38 μm PET film (manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester, T100), the pressure-sensitive adhesive layer was applied to a thickness of 10 μm and dried at 130 ° C. for 1 minute to obtain a protective film.
[0041]
Comparative Example 3
A protective film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the adhesive was dried at 80 ° C. for 3 minutes using a 40 μm PP film (FBS, manufactured by Nimura Chemical Co., Ltd.) instead of the 38 μm PET film.
[0042]
Each of the above-mentioned evaluations was performed using the protective film obtained above. Table 1 shows the results.
[0043]
[Table 1]

As shown in the results of Table 1, in the protective films of Examples, the antireflection layer was free from distortion and the releasability was good. On the other hand, in Comparative Example 1 where the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer was too thick, distortion of the antireflection layer occurred, and in Comparative Example 2 where the adhesive force ratio was too large, the peelability was poor and the shrinkage ratio was too large. In, distortion of the antireflection layer occurred.

Claims

A pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less is provided on the base film, the shrinkage after heating at 120 ° C. for 1 hour is 1.5% or less, and the tensile speed with respect to the surface of the antireflection layer for evaluation is 30 m / min. A protective film for an antireflection layer, wherein the ratio (high-speed peeling / low-speed peeling) of the adhesive force at the time of peeling at a tensile speed of 0.3 m / min to the adhesive force at a peeling speed of 0.3 m / min is 2.0 or less.

The protective film for an antireflection layer according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer contains an acrylic pressure-sensitive adhesive.

3. The protective film for an anti-reflection layer according to claim 1, wherein the base film is made of a polyethylene terephthalate film.

In an optical member with an anti-reflection layer in which a protective film is attached to the surface of an optical member having an anti-reflection layer provided on the outermost surface, the protective film has a pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 15 μm or less provided on a base film. The shrinkage after heating at 120 ° C. for 1 hour is 1.5% or less, and the adhesive strength at the time of peeling at a tensile speed of 30 m / min against the surface of the antireflection layer and the tensile speed of 0.3 m / min. An optical member with an anti-reflection layer, wherein the ratio of the adhesive strength at the time of peeling (high-speed peeling / low-speed peeling) to 2.0 or less.

The optical member with an antireflection layer according to claim 4, wherein the optical member is an antireflection filter.