JP2004221541A - 固体撮像素子用カバーガラス - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 123
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 title claims abstract description 118
- 239000007787 solid Substances 0.000 title abstract 2
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims abstract description 109
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims abstract description 63
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 56
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 13
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 238000010828 elution Methods 0.000 claims description 8
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000075 oxide glass Substances 0.000 claims description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 15
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 52
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 32
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 description 23
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 18
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 16
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 16
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 13
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 13
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 12
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 8
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 7
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 6
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 5
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 4
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 4
- 238000009863 impact test Methods 0.000 description 4
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 4
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 description 3
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052770 Uranium Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N uranium(0) Chemical compound [U] JFALSRSLKYAFGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006121 base glass Substances 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 2
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 2
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000219492 Quercus Species 0.000 description 1
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001473 dynamic force microscopy Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000002649 leather substitute Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N platinum rhodium Chemical compound [Rh].[Pt] PXXKQOPKNFECSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 235000019592 roughness Nutrition 0.000 description 1
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 235000019587 texture Nutrition 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
- C03C3/093—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium containing zinc or zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/097—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing phosphorus, niobium or tantalum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/102—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead
- C03C3/108—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing lead containing boron
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Abstract
【解決手段】平板ガラスの側面12は、第一透光面11aに対して略垂直をなす第一側面部12aと、第一側面部12aに対して傾斜している第二側面部12bとによって構成される。第一側面部12aの表面粗さは第二側面部12bの表面粗さよりも大きく、第一側面部12aの表面粗さのRa値は0.1〜10nm、Rmax値は0.1〜30nmであり、第二側面部12bの表面粗さのRa値は0.1〜5nm、Rmax値は0.1〜20nmである。第一側面部12aが第一透光面11aに対してなす角度は90°±5°の範囲内にあり、第二側面部12bが第一側面部12aに対してなす角度は8°以下である。
【選択図】図1
Description
め、対策が必要となる。固体撮像素子用カバーガラスの強度に影響するエッジ部のチッピングに関しても、従来からその防止策が検討されており、例えば、特許文献3に開示された方法によれば、エッジ部のチッピングの検査精度を高めることができる。また、特許文献4に開示された方法によれば、エッジ部のチッピングを防止するための面取り加工を効率的に行うことができる。
比率の上限値は0.27、さらに安定した品位が必要であれば0.25とするのが良い。
する2つの各側面について、上記面積比率が同じ値になるようにしても良い。
ことは、製造コストや管理コスト、ひいては製品コストの上昇につながり、現実的ではない。これらの事情を勘案して、稜線部のマイクロクラックを上記レベルに規制することが、固体撮像素子用カバーガラスとして要求される品質を確保し、かつ、コスト上昇を抑制する上で有利である。
て、α線によるソフトエラーの原因となるU(ウラン)、Th(トリウム)については、10ppb〜0.1ppbのオーダーの管理を実現することが可能である。
度に保持された加熱炉30aにより加熱し、下部に取り付けた取り出し耐熱性ローラー30bによって搬入速度の10倍の速度で搬出することによって薄板ガラス40に成形し、この薄板ガラス40の両側をスクライブ成形することで、薄板状の一辺300mmの大板ガラスを成形する。
えることによって、薄板ガラス17の第一加工面15に応力を加えて押し割りを行う。こうして第二加工の割断を行うことによって、第一加工によって形成された予定線に沿って分割された短冊状の板ガラスが得られる。このようにして押し割り加工された短冊状の板ガラスは、それぞれ真空ピンセット(図示省略)を利用して次工程に運搬される。そして、短冊状の板ガラスを再度押し割り加工することによって、最終的な固体撮像素子用カバーガラスが得られる。
理面に認められる表面状態、すなわち、それぞれ間隔の狭い凹凸の大きいリブ(Rib)マーク等の破断面が高速に進行する際に発生する特徴的な破面マークが存在し、同時にその表面粗さのRa値が50nmより大きく、Rmax値が100nmを越える状態となる凹凸の激しい破断面とは明瞭に異なった表面状態を呈している。一方、第二加工によって形成された第二側面部Wは、角部周辺に数本の曲線状の間隔の開いたリブマークの認められる場合があり、かつ広範囲のミラー面が認められるという特徴を有する状態であって、この場合の表面粗さのRa値は0.3〜10nm、Rmax値は2.0〜20.0nmとなっている。
。)。また、触針式表面粗さ測定機タリステップを用いた測定では、測定長0.25mmについて、計測速度0.0025mm/sec、フィルター0.33Hz、倍率20万倍の条件とした(その値を表2中の丸2欄に示した。)。いずれも、試料の側面に対して平行な方向にプローブを走査して計測したものである。表2に示す測定結果から、試料A〜D(実施例)は、いずれも、第一側面部及び第二側面部の表面粗さのRa値、Rmax値が本発明の条件を満足し、良好な表面性状を有することが確認された。一方、試料E(比較例)は、第一側面部の表面粗さのRa値が72.5nmと50nmを越える状態であって非常に粗く、試料A〜D(実施例)との表面性状の相違が顕微鏡観察でも明瞭に判別できた。
上に携帯電話被試験体を落下させた。
ンとして衝撃的に応力が加えられた時に認められる破断面の特徴をもつ破面が認められることが判明した。また、割れが認められなかった残りの被試験体についても、さらに50倍の顕微鏡観察を行ったところ、3検体についてマイクロクラックに起因するマイクロチッピングが、平板ガラスの側面の第一側面部に存在することが確認された。
11a 第一透光面
11b 第二透光面
12 側面
12a(12a1、12a2) 第一側面部
12b(12b1、12b2) 第二側面部
13 稜線部
13a(13a1、13a2) 稜線部上における境界線の線端(線端点)
14(14a、14b) 境界線
α 透光面と第一側面部のなす角度
β 第一側面部と第二側面部のなす角度
Claims (8)
- 無機酸化物ガラス製の平板ガラスからなり、該平板ガラスの板厚方向に相対向する第一透光面及び第二透光面と、該平板ガラスの周縁を構成する側面とを有する固体撮像素子用カバーガラスにおいて、
前記側面は、前記第一透光面に隣接する第一側面部と、該第一側面部及び前記第二透光面に隣接する第二側面部とを備え、
前記第一側面部の表面粗さは前記第二側面部の表面粗さよりも大きく、前記第一側面部の表面粗さのRa値は0.1〜10nm、Rmax値は0.1〜30nmであり、前記第二側面部の表面粗さのRa値は0.01〜5nm、Rmax値は0.01〜20nmであり、
前記第一側面部が前記第一透光面に対してなす角度が90°±5°の範囲内にあり、
前記第二側面部が前記第一側面部に対してなす角度が8°以下であることを特徴とする固体撮像素子用カバーガラス。 - 前記側面の面積に対する前記第一側面部の面積の比率が0.1〜0.3であることを特徴とする請求項1記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- 前記平板ガラスが略四角形状であり、その4つの各辺にそれぞれ対応して前記各側面が在り、全ての前記側面について、前記第一側面部と前記第二側面部との境界線から前記第一透光面までの板厚方向の距離の平均値を求め、その値をZaとしたとき、前記各側面における、前記第一側面部と前記第二側面部との境界線から前記第一透光面までの板厚方向の距離Zが、−0.2≦(Z−Za)/Za≦0.2の関係を満たすことを特徴とする請求項1又は請求項2記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- 相隣接する2つの前記各側面間の稜線部上において、一方の前記各側面における前記第一側面部と前記第二側面部との境界線の線端と、他方の前記各側面における前記第一側面部と前記第二側面部との境界線の線端とが、実質上同一点上にあることを特徴とする請求項3に記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- 波長500nmの可視光線の直線内部透過率と、波長600nmの可視光線の直線内部透過率がそれぞれ95%以上であることを特徴とする請求項1から4の何れかに記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- 質量%表示でSiO2 50〜70%、Al2O3 0.5〜20%、B2O3 5〜20%RO 0.1〜30%(RO=MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO 0〜9%、MO 1〜20%(MO=Li2O+Na2O+K2O)を含有することを特徴とする請求項1から5の何れかに記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- 質量%表示でSiO2 50〜70%、Al2O3 0.5〜20%、B2O3 5〜20%RO 0.1〜30%(RO=MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)、ZnO 0〜9%を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有しないことを特徴とする請求項1から6の何れかに記載の固体撮像素子用カバーガラス。
- アルカリ溶出量がJIS−R3502の規格により0.1mg以下、密度が2.8g/cm3以下、比ヤング率が27GPa/g・cm-3以上、ビッカース硬度が500kg/mm2以上であることを特徴とする請求項1から7の何れかに記載の固体撮像素子用カバーガラス。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003385619A JP4628667B2 (ja) | 2002-11-15 | 2003-11-14 | 固体撮像素子用カバーガラス |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002331949 | 2002-11-15 | ||
JP2002377509 | 2002-12-26 | ||
JP2003385619A JP4628667B2 (ja) | 2002-11-15 | 2003-11-14 | 固体撮像素子用カバーガラス |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004221541A true JP2004221541A (ja) | 2004-08-05 |
JP4628667B2 JP4628667B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=32912815
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003385619A Expired - Lifetime JP4628667B2 (ja) | 2002-11-15 | 2003-11-14 | 固体撮像素子用カバーガラス |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4628667B2 (ja) |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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