【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、遮光性画像の形成性に優れた感光性転写材料、及びこれを用いて作製したカラーフィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示用カラーフィルターは、ガラス等の基板上に赤色、緑色、青色のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界を遮光性画像（ブラックマトリックス）で区分した構造である。このようなカラーフィルターの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、１）染色法、２）印刷法、３）着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法（着色レジスト法）（例えば、特許文献１、２及び３参照。）、４）仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法（例えば、特許文献４、５及び６参照。）、５）予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法（転写方式）が知られている（例えば、特許文献７参照。）。その他にも、電着法或いは蒸着法等の方法も知られている。
【０００３】
カラーフィルター用ブラックマトリックスを形成する方法としては、金属薄膜を用いる方法や、黒色感光性樹脂を用いる方法等が知られている。
上記ブラックマトリックスの形成方法中、黒色感光性樹脂を用いる方法は、金属薄膜を用いる方法に比べ、製造コスト等の点で有利である。しかし、黒色感光性樹脂層側からのマスク露光・現像によりブラックマトリックスを形成する場合、光漏れを防止するために各画素と黒色樹脂とを重ねることに起因して、カラーフィルター表面に大きな突起を形成してしまうという問題があった。カラーフィルター表面に大きな段差があると、その上に形成される透明電極の断線や液晶の配向乱れの原因になるため、研磨により突起を削り取ったり、平滑化層を設ける等の手段が用いられるが、コストアップや歩留り低下につながったりするため好ましくない。
【０００４】
一方、着色画素に光吸収剤を添加する等の方法により光吸収性を付与し、黒色感光性樹脂層形成面の反対側からのフォトマスクを介さない露光によりブラックマトリックスを形成する、所謂セルフアライメント方式も提案されている（例えば、特許文献８参照）。しかし、セルフアライメント方式の場合、黒色感光性樹脂層の濃度を高くすると、黒色感光性樹脂層自体の遮光性により、感光性樹脂層の露光部を表面まで硬化させることが困難になるため、現像により表面側から樹脂が溶出し、形成後のブラックマトリックスにおける光学濃度の低下や膜減りを招来するという問題があった。
【０００５】
上記問題に鑑み、例えば、透明基板上に複数の着色画素パターンを形成後、該画素パターン上に黒色感光性樹脂層を設け、フォトマスクを介して露光後、現像してブラックマトリクスを形成し、次いで該画素パターンの反対面側から全面露光を行う方法が開示されているが（例えば、特許文献９参照。）、製造工程が煩雑である等の点から、更なる改善が望まれているのが現状である。
【０００６】
なお、感光性樹脂組成物に関しては、アルカリ現像後の残留物レベルの低減を目的とした感光性組成物において、光重合性システムとして、ヘキサアリールビイミダゾール等と水素供与体化合物との併用に関する記載がある（例えば、特許文献１０参照。）。
【０００７】
【特許文献１】
特開昭６３−２９８３０４号公報
【特許文献２】
特開昭６３−３０９９１６号公報
【特許文献３】
特開平１−１５２４４９号公報
【特許文献４】
特開昭６１−９９１０３号公報
【特許文献５】
特開昭６１−２３３７０４号公報
【特許文献６】
特開昭６１−２７９８０２号公報
【特許文献７】
特開昭６１−９９１０２号公報
【特許文献８】
特開平４−６９６０２号公報
【特許文献９】
特開平７−１２０６１３号公報
【特許文献１０】
特表２００２−５０７００４号公報
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記事情に鑑みて、本発明は、下記目的を達成することを課題とする。
即ち、本発明は、遮光性画像の形成性に優れた感光性転写材料、及び該感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が高く、かつ充分な膜厚のブラックマトリックスを有するカラーフィルタを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するための具体的手段は以下の通りである。
＜１＞ 仮支持体上に、該仮支持体側から順に、少なくとも、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、光重合開始剤、多官能性モノマー、及び遮光剤を含有する感光性樹脂層とを有する感光性転写材料であって、
前記光重合開始剤が、水素供与体を含むことを特徴とする感光性転写材料である。
【００１０】
＜２＞ 前記光重合開始剤が、アクリジン系化合物を含むことを特徴とする前記＜１＞に記載の感光性転写材料である。
【００１１】
＜３＞ 前記＜１＞又は＜２＞に記載の感光性転写材料を用いて作製したことを特徴とするカラーフィルタである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
［感光性転写材料］
本発明の感光性転写材料について説明する。
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に、該仮支持体側から順に、少なくとも、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層と、光重合開始剤、多官能性モノマー、及び遮光剤を含有する感光性樹脂層とが設けられて構成され、好ましくは感光性樹脂層を保護するためのカバーシートを有してなり、必要に応じて更に中間層等の他の層を有していてもよい。
【００１３】
〈感光性樹脂層〉
本発明に係る感光性樹脂層は、アルカリ可溶性に構成され、光重合開始剤、多官能性モノマー、及び遮光剤を少なくとも含有する層であり、該光重合開始剤は水素供与体を含んで構成される。また、必要に応じて他の成分を含んでいてもよい。この感光性樹脂層は、該層を構成する各成分を含む感光性樹脂組成物を、例えば溶液状の塗布液に調製し、これをスピンコーターやバーコーター等を用いた公知の塗布法により塗布等して仮支持体上に層状に設けることで形成することができる。
以下、感光性樹脂層を構成する各成分について詳細に説明する。
【００１４】
−光重合開始剤−
前記光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光ともいう）により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得るものであり公知の光重合開始剤又は光重合開始剤系の中から選択される成分と、水素供与体とを必須成分とするものである。
【００１５】
前記公知の光重合開始剤又は光重合開始剤系から選択される成分としては、例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００１６】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００１７】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、などのアクリジン系化合物；
【００１８】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；その他、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
【００１９】
上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。これらの中でも、本発明においては、アクリジン系化合物を含有することことが特に好ましい。
具体的には、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジン、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが、好適に挙げられる。
【００２０】
本発明に係る光重合開始剤中、公知の光重合開始剤又は光重合開始剤系から選択される成分は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
また、本発明に係る光重合開始剤の感光性樹層における総量としては、感光性樹脂層の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。前記総量が、０．１質量％未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、２０質量％を越えると、形成された画像の下部に削れが生じやすくなることがある。
【００２１】
前記水素供与体とは、露光により前記公知の光重合開始剤又は光重合開始剤系から選択される成分から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
本発明の感光性転写材料においては、感光性樹脂層に含有される光重合開始剤が水素供与体を含むことにより、遮光剤を含有する感光性樹脂層であっても露光部を充分に硬化させることができ、延いては、高い光学濃度と充分な膜厚のブラックマトリックスを有するカラーフィルタを作製することが可能となる。なお、遮光剤については後述する。
【００２２】
前記水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。
【００２３】
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００２４】
上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００２５】
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００２６】
前記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００２７】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００２８】
前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。
【００２９】
本発明において、前記水素供与体の感光性樹脂層における総量としては、感光性樹脂層の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。また、前記公知の光重合開始剤又は光重合開始剤系から選択される成分と水素供与体との質量比としては、１：１０〜１０：１が好ましく、１：３〜３：１がより好ましい。
【００３０】
−多官能性モノマー−
前記多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、２−エチル−２−ブチル−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、１，４−ジイソプロペニルベンゼン、１，４−ジヒドロキシベンゼンジ（メタ）アクリレート、デカメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、等が挙げられる。
【００３１】
また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
【００３２】
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレートである。
【００３３】
前記多官能性モノマーの感光性樹脂層における含有量としては、感光性樹脂層の全固形分（質量）に対して、５〜８０質量％が好ましく、１０〜７０質量％が特に好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、８０質量％を越えると、感光性樹脂層としたときのタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。
【００３４】
−遮光剤−
本発明に係る感光性樹脂層は遮光剤を含有する。ここで、本発明において「遮光剤」とは、感光性樹脂層の波長４００ｎｍ〜６５０ｎｍにおける平均光透過率を５％以下に調整しうるものを意味する。本発明に係る感光性樹脂層は、このように光透過率が小さい層であっても露光部が充分に硬化しうるものである。
本発明における遮光剤として、具体的には、カーボンブラック、顔料、染料、金属粒子、等が挙げられる。
【００３５】
また、前記遮光剤は、感光性樹脂層中に均一に分散されていることが好ましく、５μｍ以下の粒径のものが好ましく、粒径が１μｍ以下のものがより好ましく、０．５μｍ以下の粒径のものが特に好ましい。
【００３６】
前記顔料の具体例としては、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・イエローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２）、パーマネント・イエローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７）、パーマネント・イエローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）、及びカーボンが好適に挙げられる。
【００３７】
黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８等が好ましい。
【００３８】
オレンジ顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ４３、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５１、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５５、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ５９、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６１等が好ましい。
【００３９】
赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１等が好ましい。
【００４０】
バイオレット顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット５０等が好ましい。
【００４１】
青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６４等が好ましい。
緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６等が好ましい。
ブラウン顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２６等が好ましい。
黒色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラック７、Ｃ．Ｉピグメントブラック１０等が好ましい。
【００４２】
前記遮光剤は、単独で、又は２種以上混合して用いることができる。
また、本発明の感光性転写材料を、カラーフィルタのブラックマトリックス作製に適用する場合には、上記した各遮光剤を単独、又は２種以上混合して黒色となるように調製してもよい。
【００４３】
前記遮光剤の感光性樹脂層における含有量としては、感光性樹脂層の固形分（質量）の１〜６０質量％が好ましく、２〜５０質量％がより好ましい。
【００４４】
上記のほか、本発明の感光性樹脂層には、必要に応じて、更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。
感光性樹脂層を構成する感光性樹脂組成物は、少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００４５】
〈アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層〉
本発明に係る熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【００４６】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【００４７】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。
【００４８】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００４９】
本発明において、アルカリ可溶とは、下記のアルカリ物質の水溶液、又はこれに水と混和性のある有機溶媒を混合したものに可溶であることをいう。なお、前記した感光性樹脂層についても同様である。
【００５０】
ここでのアルカリ性物質としては、後述する現像液に用いられるものと同様のアルカリ性物質を挙げることができ、水溶液とした時の該アルカリ性物質の濃度は０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。また、水と混和性のある適当な有機溶剤としては、後述する「水と混和性の有機溶剤」と同様のものが挙げられ、水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％である。
【００５１】
熱可塑性樹脂層の厚みは６μｍ以上が好ましい。該厚みが６μｍ未満であると、１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能となることがある。また、上限については、転写の際感光性樹脂層側に残留した場合の現像性、製造適性等から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００５２】
熱可塑性樹脂層は、溶液状に調製した熱可塑性樹脂層形成用の塗布液を、スピンコーター、バーコーター等を用いた公知の塗布法を用いて仮支持体上に塗布する等の方法により設けることができる。
【００５３】
〈他の層〉
上記のほか、中間層等の他の層を設けることもできる。
中間層には、上記した層を重層塗布する際の混合防止、これらの層の間の密着力の調整、転写の際に感光性樹脂層側に残留して酸素遮断の機能を発揮するもの、等の種々の機能を持たせることができる。例えば、酸素遮断機能を有するものとしては、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解し、低い酸素透過性を示すものの中から公知のものを適用できる。特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。
【００５４】
特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は中間層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜６０質量％、更に好ましくは１０〜５０質量％である。１質量％未満であると、感光性樹脂層との十分な密着が得られないことがあり、７５質量％を越えると、酸素遮断能が低下することがある。
【００５５】
中間層の厚みは、非常に薄く設けられ、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍが特に好ましい。約０．１μｍ未満であると、酸素の透過性が高すぎることがあり、約５μｍを越えると、現像時又は中間層除去時に長時間を要することがある。
【００５６】
〈仮支持体〉
仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。
前記仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
【００５７】
本発明の感光性転写材料は、転写方式により作製されるカラーフィルタの遮光性画像（ブラックマトリックス）形成用材料として好適に用いられる。
【００５８】
［画像形成方法］
本発明の感光性転写材料に適用される画像形成方法としては、上述の本発明の感光性転写材料を用いて、前記感光性転写材料の感光性樹脂層の表面と基板とを少なくとも加熱しながら密着させて積層体とし、前記基板の該密着面と逆側（非密着面側）、すなわち前記感光性樹脂層と密着されていない側から前記感光性樹脂層を画像様に露光し、現像する画像形成工程を有してなるものが好ましい。即ち、予め仮支持体上に熱可塑性樹脂層と必要に応じて中間層と感光性樹脂層とを有する感光性転写材料の少なくとも前記感光性樹脂層を、基板上に転写する転写法を利用したものであることが好ましい。
【００５９】
本発明の感光性転写材料は、既述のごとく、カラーフィルタの遮光性画像（ブラックマトリックス）形成用材料として好適であり、この場合、下記（１）又は（２）の画像形成方法により画像を形成することが好ましい。
【００６０】
（１）感光性転写材料の感光性樹脂層の表面と基板（永久支持体）とを少なくとも加熱しながら密着させた後、前記基板の非密着面側から前記感光性樹脂層を画像様に露光し、現像する工程、及び好ましくは加熱等の工程を施すことにより遮光性画像（ブラックマトリックス）を形成する方法。
この場合は、ブラックマトリックスの形成後に、色相の異なる複数の他の感光性転写材料（即ち、感光性樹脂層に赤、緑、青等の顔料、染料等が添加された感光性転写材料）を用い、上記同様の画像形成工程を色相分だけ繰り返し行って着色画素を形成することにより、複数色からなるパターン画像（カラーフィルタ）を形成することができる。
【００６１】
（２）一色以上の着色画素が形成された基板（永久支持体）上に、感光性転写材料の感光性樹脂層の表面を少なくとも加熱しながら密着させた後、前記基板の非密着面側から前記感光性樹脂層を全面露光し、現像する工程、及び好ましくは加熱等の工程を施すことにより遮光性画像（ブラックマトリックス）を形成する方法。
この場合、全面露光する場合には、各着色画像が遮光マスクとして機能し、マスクの位置合わせの工程が不要となり、これらの位置ズレ等の不安が解消され、着色画素が形成されていない部分の全ての部分に遮光性画像（ブラックマトリックス）を隙間なく形成することが可能となる。
【００６２】
上記（１）及び（２）の何れの画像形成方法を適用した場合についても、現像は、重合硬化されていない領域を適当なアルカリ現像液で洗い去ることによって行われる。
【００６３】
なお、各着色画素形成用の感光性転写材料としては、例えば、本発明の感光性転写材料における遮光剤を含有する感光性樹脂層を、着色材料を含有する感光性樹脂層に代えた感光性転写材料、等が好ましい。具体的には、例えば、特開平５−８０５０３号公報、特開平１０−２２１５８号公報、特開２００１−２２１９０９号公報、等に記載の感光性転写材料が好適に用いられる。
【００６４】
カラーフィルタを構成する基板（永久支持体）としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。感光性樹脂組成物を基板上に層状に設ける場合、設けられた感光性樹脂層の層厚としては、通常０．１〜５０μｍであり、特に好ましくは１〜５μｍである。
【００６５】
以下、感光性転写材料を用いてブラックマトリックス及び着色画素を有するカラーフィルタの形成について更に説明する。
仮支持体上に、熱可塑性樹脂層、必要により設けられる中間層、感光性樹脂層がこの順に形成された後、更に該感光性樹脂層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を用意する。まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した感光性樹脂層の表面を、上記（１）の画像形成方法を適用する場合であれば永久支持体（基板）上に貼り合わせた後、又は、上記（２）の画像形成方法を適用する場合であれば着色画素が形成された基板（永久支持体）上に貼り合わせた後、ラミネータ等を通して加熱、加圧して積層する（積層体）。ラミネータには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
【００６６】
次いで、熱可塑性樹脂層があるときには熱可塑性樹脂層と仮支持体との間で、熱可塑性樹脂層及び中間層があるときには熱可塑性樹脂層と仮支持体との間、または熱可塑性樹脂層と中間層の間で剥離し、仮支持体を除去する。続いて、基板の非密着面側から感光性樹脂層に対し、上記（１）の方法の場合であれば画像様に光源より紫外線を照射し、また上記（２）の方法の場合であれば基板の非密着面側の全面に紫外線を照射する。照射後、所定の処理液を用いて現像処理する。現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
【００６７】
適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド）、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１〜３０質量％が好ましく、ｐＨは８〜１４が好ましい。
【００６８】
前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は０．１〜３０質量％が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００６９】
前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から４０℃が好ましい。現像時間は、感光性樹脂組成物の種類、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常１０秒〜２分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【００７０】
光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
【００７１】
好ましくは、現像する工程を経た後、加熱処理（いわゆるベーク処理）する加熱工程を設ける。即ち、光照射により光重合した層、即ちカラーフィルタの場合には各色の画素やブラックマトリックスを有する基板を、電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、感光性樹脂組成物の組成や形成された層（画素等）の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約１２０℃〜約２５０℃で約１０分〜約１２０分間加熱することが好ましい。
【００７２】
上記（１）の方法場合は、ブラックマトリックスが形成された後、同様の操作を着色画素用の感光性転写材料を用いて繰り返すことにより所望の色相からなるカラーフィルタを形成することができる。
以上のようにして、着色画素及びブラックマトリックスを基板上に有するカラーフィルタを形成することができる。
【００７３】
［カラーフィルタ］
本発明のカラーフィルタは、上述した本発明の感光性転写材料を用いて作製したことを特徴とするものであり、永久支持体となる基板上に、一色以上の着色画素及びブラックマトリックスが少なくとも設けられて構成される。
具体的なカラーフィルタの作製方法は、既述の通りである。感光性転写材料を用いた転写法により作製することによって、均一厚のパターンを容易に形成することができる。
また、本発明の感光性転写材料を用いることにより、光学濃度が高く、かつ充分な膜厚のブラックマトリックスを有するカラーフィルタが作製される。
【００７４】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」及び「部」はいずれも質量基準である。
【００７５】
（実施例１）
−ブラックマトリックス形成用感光性転写材料の作製−
仮支持体として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートベースフィルム（ＰＥＴベースフィルム）を準備し、該フィルム上に、下記組成を混合して得た熱可塑性樹脂層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、１２０℃のオーブン内で５分間乾燥し、ＰＥＴベースフィルム上に層厚１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
【００７６】
〔熱可塑性樹脂層用塗布液の組成〕
・ベンジルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ・・・ ４．５部
（共重合比４．５／１１．７／５５／２８．８重量平均分子量８００００）
・スチレン／アクリル酸共重合体 ・・・ １５部
（共重合組成比６０／４０ 重量平均分子量８０００）
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニルプロパン］・・・ ７部
・Ｆ−１７６ＰＦ（フッ素系界面活性剤、大日本インキ（株）製）・・・ １．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル ・・・ ２８部
・メチルエチルケトン ・・・ ２７部
【００７７】
次に、下記組成を混合して中間層用塗布液を調製し、前記熱可塑性樹脂層上に、スピンコーターにより更に中間層用塗布液を塗布した。その後、１００℃のオーブンで２分間乾燥し、熱可塑性樹脂層上に層厚１．６μｍの中間層を形成した。
〔中間層用塗布液の組成〕
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２０５，（株）クラレ製）・・・ １３部
・ポリビニルピロリドン ・・・ ６部
（ＰＶＰ−Ｋ３０，五協産業（株）製）
・メタノール ・・・１７３部
・イオン交換水 ・・・２１１部
【００７８】
次に、上記のように熱可塑性樹脂層及び中間層が設けられたＰＥＴベースフィルムを用意すると共に、下記組成を混合して、遮光性感光性樹脂層用塗布液を調製した。そして、ＰＥＴベースフィルム上の中間層上に遮光性感光性樹脂層用塗布液をスピンコーターにより塗布した。その後、１００℃のオーブンで２分間乾燥し、厚み３μｍの遮光性感光性樹脂層を形成した。更に、感光性樹脂層上にカバーフィルムとして１２μｍ厚のポリプロピレンフィルムを室温下でラミネートし、ＰＥＴベースフィルム上に熱可塑性樹脂層、中間層、遮光性感光性樹脂層、及びカバーフィルムがこの順に積層されてなる、本発明の感光性転写材料を得た。
【００７９】
〔遮光性感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・ＳＰＢ−１０ ・・・ ２０．９７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ６０分散液、富士写真フイルム（株）製）
・ＹＴ−２０ ・・・ ６．３８部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＲＴ−２−２ ・・・ １．７４部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ ・・・ ２．９８部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・７２７０Ｍ ・・・ ８．３７部
（カーボンブラック分散液 御国色素（株）製
・ＭＭＰＧ−ＡＣ ・・・ １７．６１部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン ・・・ ３４．７６部
・界面活性剤 ・・・ ０．０７部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・ヒドロキノンモノメチルエーテル ・・・ ０．００２１部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ４．５３部
・９−フェニルアクリジン ・・・ ０．２３部
・２−メルカプト−５−メチルメルカプト−
１，３，４−チアジアゾール ・・・ ０．２３部
【００８０】
−着色画素形成用感光性転写材料の作製−
上記ブラックマトリックス形成用感光性転写材料の作製において、「遮光性感光性樹脂層用塗布液」を、下記の組成の赤色感光性樹脂層用塗布液、緑色感光性樹脂層用塗布液、青色感光性樹脂層用塗布液に変更した他は同様にして、赤色画素形成用、緑色画素形成用、及び青色画素形成用の３種の感光性転写材料を得た。
【００８１】
〔赤色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・ＲＴ−１０７ ・・・ ２１．６５部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液 富士フイルムアーチ（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ ・・・ ３１．２０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン ・・・ ３４．９６部
・界面活性剤 ・・・ ０．０６部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン ・・・ ０．００１２部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ・・・ ４．９７部
（共重合比＝７２／２８、分子量３００００）
・ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ４．９２部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール ・・・ ０．３１部
・７−｛〔−４（ジエチルアミノ）−６−（３−ヒドロキシメチル
ピペリジノ）−ｓ−トリアジニル（２）〕−アミノ｝
−３−フェニルクマリン ・・・ １．５０部
・２，４，６−トリス〔２，４ビス（メトキシカルボニルオキシ）
フェニル〕−１，３，５−トリアジン ・・・ ０．３７部
【００８２】
〔緑色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・ＧＴ−２ ・・・ １５．８６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＧ３６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＹＴ−１２３ ・・・ １１．０６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３８分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ ・・・ １０．２５部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン ・・・ ５１．４９部
・界面活性剤 ・・・ ０．１９部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン ・・・ ０．００４部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ・・・ ４．４７部
（共重合比＝７２／２８、分子量３００００）
・ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ５．２７部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール ・・・ ０．１９３部
・７−｛〔−４（ジエチルアミノ）−６−（３−ヒドロキシメチル
ピぺリジノ）−ｓ−トリアジニル（２）〕−アミノ｝
−３−フェニルクマリン ・・・ １．２６部
【００８３】
〔青色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・７０７５Ｍ ・・・ ３２．９３部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、御国色素（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ ・・・ ０．６９部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン ・・・ ５２．５０部
・界面活性剤 ・・・ ０．１２部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン ・・・ ０．０１２部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ・・・ ８．１０部
（共重合比＝７８／２２、分子量４００００）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート ・・・ ５．１９部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール ・・・ ０．２０部
・２，４，６−トリス（２，４ビス（メトキシカルボニルオキシ）
フェニル〕−１，３，５−トリアジン ・・・ ０．２５部
【００８４】
−カラーフィルターの作製−
ガラス基板をシランカップリング剤溶液（信越化学（株）製の「ＫＢＭ−６０３」；１％希釈液）に３分間浸漬し、１０秒水洗し、エアガンで水切り後、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して、シランカップリング処理ガラス基板を得た。
【００８５】
上記により得られれた赤色画素用感光性転写材料からカバーフィルムを除去し、前記シランカップリング処理ガラス基板と、該感光性転写材料の感光性樹脂層が接するように重ね合わせ、ラミネータ（大成ラミネータ（株）製のファーストラミネーター８Ｂ−５５０−８０）を用いて、２ｋｇ／ｍ２の加圧、１３０℃のローラー温度、０．２ｍ／ｍｉｎの送り条件で貼り合わせた。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。アライナーＭＡＰ−１２００Ｌ（大日本スクリーン（株）製）を用い、赤色画素用フォトマスクを介して、超高圧水銀灯（２ｋＷ）にて、感光性樹脂層に６０ｃｍの距離から３秒間露光を行った（照射エネルギー：２０ｍＪ／ｃｍ２）。次いで所定の処理液（Ｔ−ＰＤ２：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）を用いて、熱可塑性樹脂層および中間層を除去した。その後、所定の処理液（Ｔ−ＣＤ１：富士写真フイルム（株）製の５倍希釈液）にて感光性樹脂層を現像して未露光部分を除去し、更に所定の処理液（Ｔ−ＳＤ１：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）にてブラシをかけながら現像残膜を除去し、ガラス基板上に赤色画素パターンを得た。更に画素パターンの硬化を進めるため、アライナーにて基板の表裏から基板全面を５００ｍＪ／ｃｍ２でポスト露光し、２２０℃のオーブンで２０分間焼成した。
【００８６】
次いで、緑色画素用感光性転写材料を用い、同様に赤色画素パターン付きガラス基板上に緑色感光性転写材料を貼り合わせ、仮支持体除去、パターン露光、熱可塑性樹脂層および中間層除去、現像、残膜処理を行い、更にポスト露光を行い、２２０℃のオーブンにて２０分焼成して、赤色画素及び緑色画素パターンが設けられたカラーフィルタ基板を得た。
【００８７】
次いで、青色画素用感光性転写材料を用い、同様に赤色及び緑色画素パターン付きガラス基板上に青色感光性転写材料を貼り合わせ、仮支持体除去、パターン露光、熱可塑性樹脂層及び中間層除去、現像、残膜処理を行い、更にポスト露光を行い、２２０℃のオーブンにて２０分焼成して、赤色画素、緑色画素及び青色画素パターンが設けられたカラーフィルタ基板を得た。
【００８８】
続いて、ブラックマトリックス形成用の感光性転写材料からカバーフィルムを除去し、この感光性転写材料の黒色感光性樹脂層の表面と、赤色、緑色、及び青色画像を有するガラス基板の赤色、緑色、青色画像が設けられている側の表面とが接するように重ね合わせ、上記同様にしてラミネータを用いて貼り合わせた。引き続き、ＰＥＴベースフィルム（仮支持体）を遮光性感光性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。そして、アライナーＭＡＰ−１２００Ｌ（大日本スクリーン（株）製）を用いて、赤色、緑色、及び青色画像を有しない画像非形成面側から超高圧水銀灯（２ｋＷ）により７０ｍＪ／ｃｍ２で露光を行ない、更に赤色画像等の場合と同様にして現像、ポスト露光を行い、２４０℃のオーブンで５０分間焼成して、赤色画像、緑色画像、及び青色画像を有しない非画像部に黒色の遮光性画像（ブラックマトリックス）を形成した。以上のようにして、赤色画像、緑色画像、及び青色画像とこれらの間に形成された黒色の遮光像とからなるカラーフィルタを得た。
【００８９】
＜評価＞
上記より得たカラーフィルタの遮光性画像部分（ブラックマトリックス部分）について、光学濃度及び膜厚（μｍ）を以下のように評価した。評価結果は下記表１に示す。
【００９０】
１．光学濃度
光学濃度は、マクベス透過型濃度計ＴＤ−９０４型（白黒濃度（ビジュアル）；マクベス社製）により測定した。なお、光学濃度の値が３．０以上であれば、実用上問題のないレベルの光学濃度であるといえる。
【００９１】
１．膜厚（μｍ）
ブラックマトリックスの膜厚（μｍ）は、微細形状測定測定器Ｐ−１０型（ケーエルエー・テンコール社製）により測定した。
なお、膜厚が２．０μ以上であれば、実用上問題のないレベルの膜厚であるといえる。
【００９２】
（実施例２）
実施例１において、遮光性感光性樹脂層用塗布液の調製に用いられた９−フェニルアクリジン０．２３部を、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール ０．２３部に変更した以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタを作製し、更に同様の評価を行なった。
【００９３】
（比較例１）
実施例１において、遮光性感光性樹脂層用塗布液の調製に用いられたメルカプトチアジアゾールを用いなかった以外は、実施例１と同様にして、カラーフィルタを作製し、更に同様の評価を行なった。
【００９４】
（比較例２）
実施例２において、遮光性感光性樹脂層用塗布液の調製に用いられたメルカプトチアジアゾールを用いなかった以外は、実施例２と同様にして、カラーフィルタを作製し、更に同様の評価を行なった。
【００９５】
【表１】
【００９６】
表１に示されるように、光重合開始剤の成分として、水素供与体であるメルカプトチアジアゾールを含む本発明の感光性転写材料を用いて作製されたカラフィルタは、ブラックマトリックスの光学濃度及び膜厚の何れについても優れたものであった。
【００９７】
【発明の効果】
本発明によれば、遮光性画像形成性に優れた感光性転写材料、及び該感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が高く、かつ充分な膜厚のブラックマトリックスを有するカラーフィルタを提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a photosensitive transfer material excellent in light-shielding image formability and a color filter produced using the same.
[0002]
[Prior art]
The color filter for liquid crystal display has a structure in which red, green, and blue dot images are arranged in a matrix on a substrate such as glass, and the boundaries are divided by a light-shielding image (black matrix). As a method for producing such a color filter, conventionally, a substrate such as glass is used as a support, 1) a dyeing method, 2) a printing method, 3) application of a colored photosensitive resin solution, and repeated exposure and development. Colored photosensitive resin liquid method (colored resist method) (see, for example, Patent Documents 1, 2, and 3), 4) A method of sequentially transferring an image formed on a temporary support onto a final or temporary support ( For example, see Patent Documents 4, 5 and 6.) 5) A colored layer is formed by coating a preliminarily colored photosensitive resin solution on a temporary support, and this photosensitive colored layer is formed directly on the substrate in sequence. A method (transfer system) for forming a multicolor image by a method of repeating transfer, exposure and development by the number of colors is known (for example, see Patent Document 7). In addition, methods such as an electrodeposition method or a vapor deposition method are also known.
[0003]
As a method for forming a black matrix for a color filter, a method using a metal thin film, a method using a black photosensitive resin, and the like are known.
Among the methods for forming the black matrix, the method using a black photosensitive resin is advantageous in terms of manufacturing cost and the like as compared with the method using a metal thin film. However, when forming a black matrix by mask exposure / development from the black photosensitive resin layer side, large protrusions are formed on the surface of the color filter due to overlapping each pixel and the black resin to prevent light leakage. There was a problem of forming. If there is a large level difference on the surface of the color filter, it may cause disconnection of the transparent electrode formed on the surface or disorder of the alignment of the liquid crystal. Therefore, means such as scraping the protrusions by polishing or providing a smoothing layer are used. This is not preferable because it leads to an increase in cost and a decrease in yield.
[0004]
On the other hand, light absorption is imparted to the colored pixels by a method such as adding a light absorber, and so-called self-alignment is performed in which a black matrix is formed by exposure not through a photomask from the opposite side of the black photosensitive resin layer formation surface A method has also been proposed (see, for example, Patent Document 8). However, in the case of the self-alignment method, if the density of the black photosensitive resin layer is increased, it becomes difficult to cure the exposed portion of the photosensitive resin layer to the surface due to the light shielding property of the black photosensitive resin layer itself. This causes a problem that the resin is eluted from the surface side, resulting in a decrease in optical density and a reduction in film thickness in the black matrix after formation.
[0005]
In view of the above problem, for example, after forming a plurality of colored pixel patterns on a transparent substrate, a black photosensitive resin layer is provided on the pixel pattern, exposed through a photomask, and developed to form a black matrix. Next, a method of performing full exposure from the opposite side of the pixel pattern is disclosed (for example, see Patent Document 9). However, further improvement is desired in view of complicated manufacturing processes. Is the current situation.
[0006]
As for the photosensitive resin composition, in the photosensitive composition for the purpose of reducing the residue level after alkali development, as a photopolymerizable system, a description relating to the combined use of a hexaarylbiimidazole and a hydrogen donor compound. (For example, refer to Patent Document 10).
[0007]
[Patent Document 1]
JP-A-63-298304
[Patent Document 2]
JP-A 63-309916
[Patent Document 3]
Japanese Patent Laid-Open No. 1-152449
[Patent Document 4]
JP-A-61-99103
[Patent Document 5]
JP-A-61-233704
[Patent Document 6]
JP-A 61-279802
[Patent Document 7]
JP-A-61-99102
[Patent Document 8]
Japanese Patent Laid-Open No. 4-69602
[Patent Document 9]
Japanese Patent Laid-Open No. 7-120613
[Patent Document 10]
Special table 2002-507004 gazette
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
In view of the above circumstances, an object of the present invention is to achieve the following object.
That is, the present invention relates to a photosensitive transfer material excellent in light-shielding image formability, and a color filter having a black matrix having a sufficient optical density and a sufficient film thickness, which is produced using the photosensitive transfer material. The purpose is to provide.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
Specific means for solving the above problems are as follows.
<1> On the temporary support, in order from the temporary support side, at least an alkali-soluble thermoplastic resin layer, and a photosensitive resin layer containing a photopolymerization initiator, a polyfunctional monomer, and a light-shielding agent. A photosensitive transfer material comprising:
The photosensitive transfer material is characterized in that the photopolymerization initiator contains a hydrogen donor.
[0010]
<2> The photosensitive transfer material according to <1>, wherein the photopolymerization initiator includes an acridine compound.
[0011]
<3> A color filter produced using the photosensitive transfer material according to <1> or <2>.
[0012]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
[Photosensitive transfer material]
The photosensitive transfer material of the present invention will be described.
The photosensitive transfer material of the present invention contains at least an alkali-soluble thermoplastic resin layer, a photopolymerization initiator, a polyfunctional monomer, and a light-shielding agent in this order from the temporary support side on the temporary support. And a photosensitive resin layer, and preferably includes a cover sheet for protecting the photosensitive resin layer, and may further include other layers such as an intermediate layer as necessary. .
[0013]
<Photosensitive resin layer>
The photosensitive resin layer according to the present invention is configured to be alkali-soluble and includes at least a photopolymerization initiator, a polyfunctional monomer, and a light-shielding agent, and the photopolymerization initiator includes a hydrogen donor. Is done. Moreover, the other component may be included as needed. For this photosensitive resin layer, a photosensitive resin composition containing each component constituting the layer is prepared, for example, as a solution coating solution, and this is applied by a known coating method using a spin coater, a bar coater, or the like. For example, it can be formed by providing a layer on the temporary support.
Hereinafter, each component which comprises the photosensitive resin layer is demonstrated in detail.
[0014]
-Photopolymerization initiator-
The photopolymerization initiator is capable of generating an active species that initiates polymerization of a polyfunctional monomer described later upon irradiation (also referred to as exposure) of radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, or X-ray. And a component selected from known photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems and a hydrogen donor as essential components.
[0015]
Examples of the components selected from the known photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system include, for example, trihalomethyl group-containing compounds, acridine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, Examples include benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds, and the like.
[0016]
Specifically, a trihalomethyl group-substituted trihalomethyloxazole derivative or s-triazine derivative described in JP-A No. 2001-117230, a trihalomethyl-s-triazine compound described in US Pat. No. 4,239,850, A trihalomethyl group-containing compound such as the trihalomethyloxadiazole compound described in Japanese Patent No. 4221976;
[0017]
9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 9-pyrazinylacridine, 1,2-bis (9-acridinyl) ethane, 1,3-bis (9-acridinyl) propane, 1,4-bis (9-acridinyl) ) Butane, 1,5-bis (9-acridinyl) pentane, 1,6-bis (9-acridinyl) hexane, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,8-bis (9-acridinyl) octane 1,9-bis (9-acridinyl) nonane, 1,10-bis (9-acridinyl) decane, 1,11-bis (9-acridinyl) undecane, 1,12-bis (9-acridinyl) dodecane, etc. Acridine compounds such as bis (9-acridinyl) alkane;
[0018]
6- (p-methoxyphenyl) -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis ( Triazine compounds such as (trichloromethyl) -s-triazine; 9,10-dimethylbenzphenazine, Michler's ketone, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyldimethyl ketal, thioxanthone / amine, 2,2 ′ -Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like.
[0019]
Among the above, at least one selected from a trihalomethyl group-containing compound, an acridine compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, and a triazine compound is preferable, and particularly selected from a trihalomethyl group-containing compound and an acridine compound. It is preferable to contain at least one kind. Trihalomethyl group-containing compounds and acridine compounds are also useful in that they are versatile and inexpensive. Among these, in the present invention, it is particularly preferable to contain an acridine compound.
Specifically, the trihalomethyl group-containing compound is 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole, the acridine compound is 9-phenylacridine, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1 , 3,4-oxadiazole and other trihalomethyl group-containing compounds, and Michler's ketone, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 ′ -Biimidazole is preferred.
[0020]
In the photopolymerization initiator according to the present invention, components selected from known photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems may be used alone or in combination of two or more.
Moreover, as a total amount in the photosensitive resin layer of the photoinitiator concerning this invention, 0.1-20 mass% of the total solid (mass) of the photosensitive resin layer is preferable, and 0.5-10 mass% is preferable. Particularly preferred. If the total amount is less than 0.1% by mass, the photocuring efficiency of the composition is low and exposure may take a long time. If it exceeds 20% by mass, the lower part of the formed image is scraped. May be easier.
[0021]
The hydrogen donor refers to a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from a component selected from the known photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system by exposure.
In the photosensitive transfer material of the present invention, the photopolymerization initiator contained in the photosensitive resin layer contains a hydrogen donor, so that the exposed portion is sufficiently cured even if the photosensitive resin layer contains a light shielding agent. As a result, it is possible to produce a color filter having a black matrix having a high optical density and a sufficient film thickness. The light shielding agent will be described later.
[0022]
The hydrogen donor is preferably a mercaptan-based compound, an amine-based compound or the like defined below from the viewpoint that sensitivity can be further improved.
[0023]
The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ A mercaptan-based hydrogen donor). The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “the amine compound”). , Referred to as “amine-based hydrogen donor”). These hydrogen donors may have a mercapto group and an amino group at the same time.
[0024]
Specific examples of the mercaptan-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-2. , 5-dimethylaminopyridine, and the like. Of these, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.
[0025]
Specific examples of the amine-based hydrogen donor include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl. Examples include -4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like. Of these, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.
[0026]
The hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more, and the formed image is less likely to fall off from the permanent support during development, and can be improved in strength and sensitivity. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors.
[0027]
Specific examples of the combination of the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-. Examples thereof include bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone. More preferred combinations are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone and 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzobenzone. Thiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone.
[0028]
When the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor are combined, the mass ratio (M: A) of the mercaptan hydrogen donor (M) to the amine hydrogen donor (A) is usually 1: 1-1: 4 is preferable, and 1: 1-1: 3 is more preferable.
[0029]
In the present invention, the total amount of the hydrogen donor in the photosensitive resin layer is preferably 0.1 to 20% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass, based on the total solid content (mass) of the photosensitive resin layer. . The mass ratio of the component selected from the known photopolymerization initiator or photopolymerization initiator system to the hydrogen donor is preferably 1:10 to 10: 1, more preferably 1: 3 to 3: 1. preferable.
[0030]
-Multifunctional monomer-
As said polyfunctional monomer, the following compound can be used individually or in combination with another monomer. Specifically, t-butyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 2- Ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, polyoxy Ethylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-dihydroxy Nzenji (meth) acrylate, decamethylene glycol di (meth) acrylate, styrene, diallyl fumarate, triallyl trimellitate, lauryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) acrylamide, and the like.
[0031]
Moreover, reaction of a compound having a hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and polyethylene glycol mono (meth) acrylate with a diisocyanate such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate and xylene diisocyanate. Things can also be used.
[0032]
Of these, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate are particularly preferable.
[0033]
As content in the photosensitive resin layer of the said polyfunctional monomer, 5-80 mass% is preferable with respect to the total solid (mass) of the photosensitive resin layer, and 10-70 mass% is especially preferable. When the content is less than 5% by mass, the resistance to the alkali developer at the exposed portion of the composition may be inferior, and when it exceeds 80% by mass, the tackiness of the photosensitive resin layer increases. Therefore, the handleability may be inferior.
[0034]
-Light shielding agent-
The photosensitive resin layer according to the present invention contains a light shielding agent. Here, in the present invention, the “light-shielding agent” means one that can adjust the average light transmittance of the photosensitive resin layer at a wavelength of 400 nm to 650 nm to 5% or less. Even if the photosensitive resin layer according to the present invention is a layer having such a low light transmittance, the exposed portion can be sufficiently cured.
Specific examples of the light-shielding agent in the present invention include carbon black, pigments, dyes, and metal particles.
[0035]
The light-shielding agent is preferably dispersed uniformly in the photosensitive resin layer, preferably has a particle size of 5 μm or less, more preferably 1 μm or less, and particles of 0.5 μm or less. A diameter is particularly preferred.
[0036]
Specific examples of the pigment include Victoria Pure Blue BO (C.I. 42595), Auramin (C.I. 41000), Fat Black HB (C.I. 26150), Monolite Yellow GT (C.I. Pigment Yellow 12), Permanent Yellow GR (C.I. Pigment Yellow 17), Permanent Yellow HR (C.I. Pigment Yellow 83), Permanent Carmine FBB (C.I. Pigment Red 146) ), Hoster Balm Red ESB (CI Pigment Violet 19), Permanent Ruby FBH (CI Pigment Red 11) Fastel Pink B Supra (CI Pigment Red 81) Monastral First Blue (CI Pigment Blue 15 Mono Light Fast Black B (C.I. Pigment Black 1), and carbon is preferably exemplified.
[0037]
Examples of yellow pigments include C.I. I. Pigment yellow 20, C.I. I. Pigment yellow 24, C.I. I. Pigment yellow 83, C.I. I. Pigment yellow 86, C.I. I. Pigment yellow 93, C.I. I. Pigment yellow 109, C.I. I. Pigment yellow 110, C.I. I. Pigment yellow 117, C.I. I. Pigment yellow 125, C.I. I. Pigment yellow 137, C.I. I. Pigment yellow 138, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 147, C.I. I. Pigment yellow 148, C.I. I. Pigment yellow 153, C.I. I. Pigment yellow, C.I. I. Pigment yellow 154, C.I. I. Pigment yellow 166, C.I. I. Pigment Yellow 168 and the like are preferable.
[0038]
Examples of orange pigments include C.I. I. Pigment orange 36, C.I. I. Pigment orange 43, C.I. I. Pigment orange 51, C.I. I. Pigment orange 55, C.I. I. Pigment orange 59, C.I. I. Pigment Orange 61 and the like are preferable.
[0039]
Examples of red pigments include C.I. I. Pigment red 9, C.I. I. Pigment red 97, C.I. I. Pigment red 122, C.I. I. Pigment red 123, C.I. I. Pigment red 149, C.I. I. Pigment red 168, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 180, C.I. I. Pigment red 192, C.I. I. Pigment red 215, C.I. I. Pigment red 216, C.I. I. Pigment red 217, C.I. I. Pigment red 220, C.I. I. Pigment red 223, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment red 226, C.I. I. Pigment red 227, C.I. I. Pigment red 228, C.I. I. Pigment red 240, C.I. I. Pigment Red 48: 1 and the like are preferable.
[0040]
Examples of violet pigments include C.I. I. Pigment violet 19, C.I. I. Pigment violet 23, C.I. I. Pigment violet 29, C.I. I. Pigment violet 30, C.I. I. Pigment violet 37, C.I. I. Pigment violet 40, C.I. I. Pigment Violet 50 and the like are preferable.
[0041]
Examples of blue pigments include C.I. I. Pigment blue 15, C.I. I. Pigment blue 15: 6, C.I. I. Pigment blue 22, C.I. I. Pigment blue 60, C.I. I. Pigment Blue 64 and the like are preferable.
Examples of green pigments include C.I. I. Pigment green 7, C.I. I. Pigment Green 36 and the like are preferable.
Examples of the brown pigment include C.I. I. Pigment brown 23, C.I. I. Pigment brown 25, C.I. I. Pigment Brown 26 and the like are preferable.
Examples of black pigments include C.I. I. Pigment black 7, C.I. I pigment black 10 or the like is preferable.
[0042]
The said light-shielding agent can be used individually or in mixture of 2 or more types.
Moreover, when applying the photosensitive transfer material of this invention for black matrix preparation of a color filter, you may prepare each above-mentioned light-shielding agent individually or in mixture of 2 or more types so that it may become black.
[0043]
As content in the photosensitive resin layer of the said light-shielding agent, 1-60 mass% of solid content (mass) of the photosensitive resin layer is preferable, and 2-50 mass% is more preferable.
[0044]
In addition to the above, the photosensitive resin layer of the present invention may further contain known additives such as plasticizers, fillers, stabilizers, polymerization inhibitors, surfactants, solvents, adhesion promoters as necessary. Etc. can be contained.
The photosensitive resin composition constituting the photosensitive resin layer is preferably softened or tacky at a temperature of at least 150 ° C., and is preferably thermoplastic. From such a viewpoint, it can be modified by adding a compatible plasticizer.
[0045]
<Alkali-soluble thermoplastic resin layer>
The thermoplastic resin layer according to the present invention is alkali-soluble and includes at least a resin component, and the resin component preferably has a substantial softening point of 80 ° C. or less.
Examples of alkali-soluble thermoplastic resins having a softening point of 80 ° C. or lower include saponified products of ethylene and acrylate copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylate copolymers, vinyltoluene and (meth) acrylic. Examples thereof include saponification products of acid ester copolymers, saponification products such as poly (meth) acrylic acid esters, and (meth) acrylic acid ester copolymers such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate.
[0046]
For the thermoplastic resin layer, at least one of the above-mentioned thermoplastic resins can be appropriately selected and used. Further, “Plastic Performance Handbook” (edited by the Japan Plastics Industry Federation, All Japan Plastics Molding Industry Federation, published by the Industrial Research Council, Of those organic polymers having a softening point of about 80 ° C. or lower, issued on October 25, 1968), those soluble in an alkaline aqueous solution can be used.
[0047]
In addition, for an organic polymer substance having a softening point of 80 ° C. or higher, by adding various plasticizers compatible with the polymer substance to the organic polymer substance, the substantial softening point is 80 ° C. or lower. It can also be used by lowering. In addition, these organic polymer substances include various polymers, supercooling substances, adhesion improvers or interfaces within the range where the substantial softening point does not exceed 80 ° C. for the purpose of adjusting the adhesive force with the temporary support. Activators, mold release agents, etc. can also be added.
[0048]
Specific examples of preferable plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate biphenyl diphenyl phosphate.
[0049]
In the present invention, alkali-soluble means that it is soluble in an aqueous solution of the following alkaline substance or a mixture of this with an organic solvent miscible with water. The same applies to the photosensitive resin layer described above.
[0050]
As an alkaline substance here, the alkaline substance similar to what is used for the developing solution mentioned later can be mentioned, The density | concentration of this alkaline substance when it is set as aqueous solution is preferable 0.01-30 mass%, pH is 8-14 are preferable. Examples of suitable organic solvents miscible with water include those similar to the “water-miscible organic solvent” described later, and the concentration of the water-miscible organic solvent is 0.1 to 30 mass. %.
[0051]
The thickness of the thermoplastic resin layer is preferably 6 μm or more. When the thickness is less than 6 μm, it may be impossible to completely absorb the unevenness of the foundation of 1 μm or more. Further, the upper limit is about 100 μm or less, preferably about 50 μm or less, from the viewpoint of developability and manufacturing suitability when remaining on the photosensitive resin layer side during transfer.
[0052]
The thermoplastic resin layer is provided by a method such as applying a coating solution for forming a thermoplastic resin layer prepared in a solution form on a temporary support using a known coating method using a spin coater, a bar coater, or the like. be able to.
[0053]
<Other layers>
In addition to the above, other layers such as an intermediate layer may be provided.
In the intermediate layer, prevention of mixing when the above-mentioned layers are applied in layers, adjustment of adhesion between these layers, one that remains on the photosensitive resin layer side during transfer and exhibits an oxygen blocking function, Various functions such as these can be provided. For example, as a substance having an oxygen barrier function, a known substance that is dispersed or dissolved in water or an alkaline aqueous solution and exhibits low oxygen permeability can be applied. Polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose, water-soluble cellulose ethers, water-soluble of carboxyalkyl starch described in JP-A Nos. 46-2121 and 56-40824 Water-soluble salts of the group consisting of salts, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, various polyacrylamides, various water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, various starches and the like, Examples thereof include styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and combinations of two or more thereof.
[0054]
Particularly preferred is a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone. The polyvinyl alcohol preferably has a saponification rate of 80% or more, and the content of polyvinyl pyrrolidone is preferably 1 to 75% by mass, more preferably 1 to 60% by mass, and still more preferably 10 to 50% by mass of the solid content of the intermediate layer. %. If it is less than 1% by mass, sufficient adhesion to the photosensitive resin layer may not be obtained, and if it exceeds 75% by mass, the oxygen blocking ability may be lowered.
[0055]
The thickness of the intermediate layer is very thin and is preferably about 0.1 to 5 μm, particularly preferably 0.5 to 2 μm. If it is less than about 0.1 μm, the oxygen permeability may be too high, and if it exceeds about 5 μm, it may take a long time for development or removal of the intermediate layer.
[0056]
<Temporary support>
The temporary support can be appropriately selected from those that are chemically and thermally stable and made of a flexible material. Specifically, a thin sheet or a laminate thereof such as Teflon (R), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, or polypropylene is preferable.
As thickness of the said temporary support body, 5-300 micrometers is suitable, Preferably it is 20-150 micrometers.
[0057]
The photosensitive transfer material of the present invention is suitably used as a light-shielding image (black matrix) forming material for a color filter produced by a transfer method.
[0058]
[Image forming method]
As an image forming method applied to the photosensitive transfer material of the present invention, the above-described photosensitive transfer material of the present invention is used and at least the surface of the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material and the substrate are heated. Adhering to a laminate, the photosensitive resin layer is imagewise exposed and developed from the opposite side (non-adherent surface side) of the substrate, that is, the side not in close contact with the photosensitive resin layer. What has an image formation process is preferable. That is, a transfer method in which at least the photosensitive resin layer of a photosensitive transfer material having a thermoplastic resin layer on a temporary support and an intermediate layer and a photosensitive resin layer as necessary is transferred onto a substrate in advance is used. It is preferable.
[0059]
As described above, the photosensitive transfer material of the present invention is suitable as a light-shielding image (black matrix) forming material for a color filter. In this case, an image is formed by the following image forming method (1) or (2). It is preferable to form.
[0060]
(1) After the surface of the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material and the substrate (permanent support) are brought into close contact with each other while being heated, the photosensitive resin layer is exposed imagewise from the non-adhering surface side of the substrate. And a step of developing, and preferably a step of heating or the like, to form a light-shielding image (black matrix).
In this case, after the formation of the black matrix, a plurality of other photosensitive transfer materials having different hues (that is, a photosensitive transfer material in which pigments such as red, green, and blue, and dyes are added to the photosensitive resin layer) are used. A pattern image (color filter) composed of a plurality of colors can be formed by repeatedly using the same image forming process as described above and forming colored pixels.
[0061]
(2) After the surface of the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material is brought into close contact with at least heating on a substrate (permanent support) on which one or more colored pixels are formed, from the non-adhesive surface side of the substrate A method of forming a light-shielding image (black matrix) by subjecting the photosensitive resin layer to a whole surface exposure and development, and preferably a step such as heating.
In this case, when the entire surface is exposed, each colored image functions as a light-shielding mask, eliminating the need for a mask alignment process, eliminating the anxiety of these positional shifts, and the like where the colored pixels are not formed. It is possible to form a light-shielding image (black matrix) without any gaps in all parts.
[0062]
In the case where any one of the image forming methods (1) and (2) is applied, development is performed by washing away an unpolymerized region with a suitable alkaline developer.
[0063]
In addition, as the photosensitive transfer material for forming each colored pixel, for example, the photosensitive resin layer containing the light shielding agent in the photosensitive transfer material of the present invention is replaced with a photosensitive resin layer containing a coloring material. A transfer material or the like is preferable. Specifically, for example, photosensitive transfer materials described in JP-A-5-80503, JP-A-10-22158, JP-A-2001-221909, and the like are preferably used.
[0064]
As the substrate (permanent support) constituting the color filter, a metallic support, a metal bonded support, glass, ceramic, a synthetic resin film, or the like can be used. Particularly preferred are transparent glass and synthetic resin film having good dimensional stability. When providing the photosensitive resin composition in layers on a substrate, the layer thickness of the provided photosensitive resin layer is usually 0.1 to 50 μm, particularly preferably 1 to 5 μm.
[0065]
Hereinafter, formation of a color filter having a black matrix and colored pixels using a photosensitive transfer material will be further described.
After the thermoplastic resin layer, the intermediate layer provided if necessary, and the photosensitive resin layer are formed in this order on the temporary support, a photosensitive transfer material in which a cover sheet is further provided on the photosensitive resin layer is prepared. To do. First, after peeling off and removing the cover sheet, the surface of the exposed photosensitive resin layer is pasted onto a permanent support (substrate) if the image forming method of (1) is applied, or In the case of applying the image forming method of (2) above, after laminating on a substrate (permanent support) on which colored pixels are formed, lamination is performed by heating and pressing through a laminator or the like (laminate). As the laminator, those appropriately selected from conventionally known laminators, vacuum laminators and the like can be used, and an auto-cut laminator can also be used in order to further increase the productivity.
[0066]
Next, when there is a thermoplastic resin layer, between the thermoplastic resin layer and the temporary support, and when there is a thermoplastic resin layer and an intermediate layer, between the thermoplastic resin layer and the temporary support, or with the thermoplastic resin layer. It peels between intermediate | middle layers and a temporary support body is removed. Subsequently, when the method (1) is applied to the photosensitive resin layer from the non-contact surface side of the substrate, ultraviolet rays are emitted from the light source in an image-like manner, and if the method is the method (2) above. Irradiate the entire surface of the non-contact surface side of the substrate with ultraviolet rays. After the irradiation, development processing is performed using a predetermined processing solution. As the developer used in the development process, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is used, but it may be further added with a small amount of an organic solvent miscible with water.
[0067]
Suitable alkaline substances include alkali metal hydroxides (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (eg, sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (eg, sodium bicarbonate). , Potassium bicarbonate), alkali metal silicates (eg, sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (eg, sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, Examples include morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like. The concentration of the alkaline substance is preferably 0.01 to 30% by mass, and the pH is preferably 8 to 14.
[0068]
Examples of the “water-miscible organic solvent” include, for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether. Benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like are preferable. . The concentration of the organic solvent miscible with water is preferably 0.1 to 30% by mass. Furthermore, a known surfactant can be added, and the concentration of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by mass.
[0069]
The developer can be used as a bath solution or a spray solution. When removing the uncured portion of the photosensitive resin layer, methods such as rubbing with a rotating brush or wet sponge in the developer can be combined. The liquid temperature of the developer is usually preferably from about room temperature to 40 ° C. The development time depends on the type of photosensitive resin composition, the alkalinity and temperature of the developer, and the type and concentration when an organic solvent is added, but is usually about 10 seconds to 2 minutes. If it is too short, the development of the non-exposed area may be insufficient, and the absorbance of ultraviolet rays may be insufficient, and if it is too long, the exposed area may be etched. It is also possible to put a water washing step after the development processing.
[0070]
Examples of the light source used for the light irradiation include medium to ultrahigh pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and the like.
[0071]
Preferably, a heating step of performing a heat treatment (so-called baking treatment) is provided after the developing step. That is, a layer photopolymerized by light irradiation, that is, in the case of a color filter, a substrate having pixels of each color and a black matrix is heated in an electric furnace, a dryer or the like, or irradiated with an infrared lamp. The heating temperature and time depend on the composition of the photosensitive resin composition and the thickness of the formed layer (pixels, etc.), but in general, from the viewpoint of obtaining sufficient solvent resistance, alkali resistance, and ultraviolet absorbance. Heating at 120 ° C. to about 250 ° C. for about 10 minutes to about 120 minutes is preferred.
[0072]
In the case of the above method (1), after the black matrix is formed, a color filter having a desired hue can be formed by repeating the same operation using a photosensitive transfer material for colored pixels.
As described above, a color filter having colored pixels and a black matrix on a substrate can be formed.
[0073]
[Color filter]
The color filter of the present invention is manufactured using the above-described photosensitive transfer material of the present invention, and at least one colored pixel and a black matrix are provided on a substrate serving as a permanent support. Configured.
The specific method for producing the color filter is as described above. By producing by a transfer method using a photosensitive transfer material, a pattern with a uniform thickness can be easily formed.
Further, by using the photosensitive transfer material of the present invention, a color filter having a black matrix having a high optical density and a sufficient film thickness is produced.
[0074]
【Example】
Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples, “%” and “part” are based on mass unless otherwise specified.
[0075]
(Example 1)
-Preparation of photosensitive transfer material for black matrix formation-
A 75 μm-thick polyethylene terephthalate base film (PET base film) was prepared as a temporary support, and a thermoplastic resin layer coating solution obtained by mixing the following composition was applied onto the film using a spin coater. It was dried in an oven at 5 ° C. for 5 minutes to form a thermoplastic resin layer having a layer thickness of 15 μm on the PET base film.
[0076]
[Composition of coating solution for thermoplastic resin layer]
・ Benzyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer 4.5 parts
(Copolymerization ratio 4.5 / 11.7 / 55 / 28.8 weight average molecular weight 80000)
・ Styrene / acrylic acid copolymer: 15 parts
(Copolymerization composition ratio 60/40 Weight average molecular weight 8000)
・ 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenylpropane] 7 parts
・ F-176PF (fluorinated surfactant, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.) 1.5 parts
・ Propylene glycol monomethyl ether ・ ・ ・ 28 parts
・ Methyl ethyl ketone: 27 parts
[0077]
Next, the following composition was mixed to prepare an intermediate layer coating solution, and the intermediate layer coating solution was further applied onto the thermoplastic resin layer by a spin coater. Thereafter, it was dried in an oven at 100 ° C. for 2 minutes to form an intermediate layer having a layer thickness of 1.6 μm on the thermoplastic resin layer.
[Composition of coating solution for intermediate layer]
・ Polyvinyl alcohol (PVA-205, manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 13 parts
・ Polyvinylpyrrolidone: 6 parts
(PVP-K30, manufactured by Gokyo Sangyo Co., Ltd.)
・ Methanol: 173 parts
・ Ion exchange water: 211 parts
[0078]
Next, a PET base film provided with the thermoplastic resin layer and the intermediate layer as described above was prepared, and the following composition was mixed to prepare a coating solution for a light-shielding photosensitive resin layer. And the coating liquid for light-shielding photosensitive resin layers was apply | coated with the spin coater on the intermediate | middle layer on PET base film. Then, it dried for 2 minutes in 100 degreeC oven, and formed the light-shielding photosensitive resin layer of thickness 3 micrometers. Furthermore, a 12 μm thick polypropylene film is laminated as a cover film on the photosensitive resin layer at room temperature, and a thermoplastic resin layer, an intermediate layer, a light-shielding photosensitive resin layer, and a cover film are laminated in this order on the PET base film. Thus, the photosensitive transfer material of the present invention was obtained.
[0079]
[Composition of coating solution for light-shielding photosensitive resin layer]
・ SPB-10 ... 20.97 parts
(CI PB60 dispersion, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.)
・ YT-20 ... 6.38 parts
(C.I.PY139 dispersion, manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ RT-2-2 ... 1.74 parts
(C.I.PB15: 6 dispersion, manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ CFP-FF-802V ... 2.98 parts
(CI PV23 dispersion, manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ 7270M ... 8.37 parts
(Carbon black dispersion manufactured by Mikuni Color Co., Ltd.
・ MMPG-AC: 17.61 parts
(Propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Methyl ethyl ketone 34.76 parts
・ Surfactant ... 0.07 part
(Megafuck F-176PF, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
Hydroquinone monomethyl ether: 0.0021 part
・ Dipentaerythritol hexaacrylate: 4.53 parts
・ 9-phenylacridine: 0.23 parts
・ 2-mercapto-5-methylmercapto-
1,3,4-thiadiazole 0.23 parts
[0080]
-Production of photosensitive transfer material for forming colored pixels-
In the preparation of the black matrix-forming photosensitive transfer material, the “light-shielding photosensitive resin layer coating solution” is a red photosensitive resin layer coating solution, a green photosensitive resin layer coating solution, or a blue photosensitive resin having the following composition. Three types of photosensitive transfer materials for red pixel formation, green pixel formation, and blue pixel formation were obtained in the same manner except that the coating liquid was changed to the coating solution for the photosensitive resin layer.
[0081]
[Composition of coating liquid for red photosensitive resin layer]
RT-107 21.65 parts
(C.I.PR254 dispersion manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ MMPG-AC 31.20 parts
(Propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Methyl ethyl ketone 34.96 parts
・ Surfactant ... 0.06 part
(Megafuck F-176PF, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
・ Phenothiazine: 0.0012 parts
・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer: 4.97 parts
(Copolymerization ratio = 72/28, molecular weight 30000)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate ・ ・ ・ 4.92 parts
2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl)
-1,3,4-oxadiazole ... 0.31 part
・ 7-{[-4 (Diethylamino) -6- (3-hydroxymethyl
Piperidino) -s-triazinyl (2)]-amino}
-3-Phenylcoumarin ... 1.50 parts
・ 2,4,6-Tris [2,4bis (methoxycarbonyloxy)
Phenyl] -1,3,5-triazine 0.37 parts
[0082]
[Composition of coating solution for green photosensitive resin layer]
・ GT-2 ... 15.86 parts
(C.I. PG36 dispersion, manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ YT-123 ... 11.06 parts
(C.I.PY138 dispersion, manufactured by FUJIFILM Arch Corporation)
・ MMPG-AC ... 10.25 parts
(Propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Methyl ethyl ketone: 51.49 parts
・ Surfactant ... 0.19 parts
(Megafuck F-176PF, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
・ Phenothiazine: 0.004 part
・ Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer: 4.47 parts
(Copolymerization ratio = 72/28, molecular weight 30000)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate ... 5.27 parts
2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl)
-1,3,4-oxadiazole ... 0.193 parts
・ 7-{[-4 (Diethylamino) -6- (3-hydroxymethyl
Piperidino) -s-triazinyl (2)]-amino}
-3-Phenylcoumarin ... 1.26 parts
[0083]
[Composition of coating solution for blue photosensitive resin layer]
・ 7075M ... 32.93 parts
(C.I.PB15: 6 dispersion, manufactured by Mikuni Color Co., Ltd.)
・ MMPG-AC ... 0.69 parts
(Propylene glycol monomethyl ether acetate)
・ Methyl ethyl ketone: 52.50 parts
・ Surfactant ... 0.12 parts
(Megafuck F-176PF, manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd.)
・ Phenothiazine: 0.012 part
-Benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer ... 8.10 parts
(Copolymerization ratio = 78/22, molecular weight 40000)
-Dipentaerythritol hexaacrylate ... 5.19 parts
2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl)
-1,3,4-oxadiazole ... 0.20 part
・ 2,4,6-Tris (2,4bis (methoxycarbonyloxy)
Phenyl] -1,3,5-triazine 0.25 part
[0084]
-Production of color filters-
The glass substrate is immersed in a silane coupling agent solution (“KBM-603” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; 1% diluted solution) for 3 minutes, washed with water for 10 seconds, drained with an air gun, and then in an oven at 110 ° C. for 5 minutes. It dried and the silane coupling process glass substrate was obtained.
[0085]
The cover film is removed from the photosensitive transfer material for red pixels obtained as described above, and the silane coupling-treated glass substrate and the photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material are brought into contact with each other. 2 kg / m using a first laminator 8B-550-80) 2 The film was bonded together under a pressure of 130 ° C., a roller temperature of 130 ° C., and a feed condition of 0.2 m / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support. Using an aligner MAP-1200L (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.), the photosensitive resin layer was exposed for 3 seconds from a distance of 60 cm with a super high pressure mercury lamp (2 kW) through a photomask for red pixels ( Irradiation energy: 20 mJ / cm 2 ). Subsequently, the thermoplastic resin layer and the intermediate layer were removed using a predetermined processing solution (T-PD2: 10-fold diluted solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Thereafter, the photosensitive resin layer is developed with a predetermined processing solution (T-CD1: 5-fold diluted solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) to remove unexposed portions, and further, a predetermined processing solution (T-SD1). : Development residual film was removed while brushing with a 10-fold diluted solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. to obtain a red pixel pattern on the glass substrate. In order to further cure the pixel pattern, the entire surface of the substrate is 500 mJ / cm from the front and back of the substrate with an aligner. 2 And post-exposure and baked in an oven at 220 ° C. for 20 minutes.
[0086]
Next, using the green pixel photosensitive transfer material, similarly, the green photosensitive transfer material is laminated on a glass substrate with a red pixel pattern, temporary support removal, pattern exposure, thermoplastic resin layer and intermediate layer removal, development, Residual film treatment was performed, post-exposure was performed, and baking was performed in an oven at 220 ° C. for 20 minutes to obtain a color filter substrate provided with red pixel and green pixel patterns.
[0087]
Next, using the blue pixel photosensitive transfer material, similarly, the blue photosensitive transfer material is bonded onto the glass substrate with red and green pixel patterns, temporary support removal, pattern exposure, thermoplastic resin layer and intermediate layer removal, Development and residual film treatment were performed, post-exposure was performed, and baking was performed in an oven at 220 ° C. for 20 minutes to obtain a color filter substrate provided with red pixel, green pixel, and blue pixel patterns.
[0088]
Subsequently, the cover film is removed from the photosensitive transfer material for forming the black matrix, the surface of the black photosensitive resin layer of the photosensitive transfer material, and the red, green, and red of the glass substrate having red, green, and blue images, They were superposed so as to be in contact with the surface on which the blue image was provided, and were bonded together using a laminator in the same manner as described above. Subsequently, the PET base film (temporary support) was peeled off at the interface with the light-shielding photosensitive resin layer, and the temporary support was removed. Then, using an aligner MAP-1200L (manufactured by Dainippon Screen Co., Ltd.), 70 mJ / cm by an ultrahigh pressure mercury lamp (2 kW) from the non-image forming surface side having no red, green, and blue images. 2 Then, develop and post-exposure in the same manner as in the case of a red image, etc., baked in an oven at 240 ° C. for 50 minutes, and black on the non-image portion having no red image, green image, and blue image. A light-shielding image (black matrix) was formed. As described above, a color filter including a red image, a green image, and a blue image and a black light-shielding image formed therebetween was obtained.
[0089]
<Evaluation>
About the light-shielding image part (black matrix part) of the color filter obtained from the above, optical density and film thickness (micrometer) were evaluated as follows. The evaluation results are shown in Table 1 below.
[0090]
1. Optical density
The optical density was measured with a Macbeth transmission type densitometer TD-904 (black and white density (visual); manufactured by Macbeth). In addition, if the value of optical density is 3.0 or more, it can be said that it is a level of optical density which does not have a practical problem.
[0091]
1. Film thickness (μm)
The film thickness (μm) of the black matrix was measured by a fine shape measuring instrument P-10 type (manufactured by KLA Tencor).
If the film thickness is 2.0 μm or more, it can be said that the film thickness is at a level where there is no practical problem.
[0092]
(Example 2)
In Example 1, 0.23 part of 9-phenylacridine used for the preparation of the coating solution for light-shielding photosensitive resin layer was replaced with 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5. , 5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole A color filter was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 0.23 part, and the same evaluation was performed.
[0093]
(Comparative Example 1)
In Example 1, a color filter was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the mercaptothiadiazole used for the preparation of the coating solution for the light-shielding photosensitive resin layer was not used. .
[0094]
(Comparative Example 2)
In Example 2, a color filter was prepared and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the mercaptothiadiazole used in the preparation of the coating solution for light-shielding photosensitive resin layer was not used. .
[0095]
[Table 1]
[0096]
As shown in Table 1, the color filter produced using the photosensitive transfer material of the present invention containing a hydrogen donor mercaptothiadiazole as a component of the photopolymerization initiator has an optical density and film thickness of the black matrix. Both of these were excellent.
[0097]
【The invention's effect】
According to the present invention, there are provided a photosensitive transfer material excellent in light-shielding image-forming property, and a color filter produced using the photosensitive transfer material and having a black matrix having a high optical density and a sufficient film thickness. can do.
