JP2004212485A - Optical scanner and image forming apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光源から出射された複数の光ビームで被走査面上を同時に走査する光走査装置(マルチビーム走査装置)と、この光走査装置を光書込系に用いたレーザプリンタ、デジタル複写機、レーザファクシミリ、レーザプロッタ等の画像形成装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
画像形成装置の光書込系に用いられる光走査装置において、記録速度を向上させる手段としては、偏向手段であるポリゴンミラーの回転速度を上げる方法がある。しかし、この方法ではモータの耐久性や騒音、振動、及びレーザの変調スピード等が問題となり限界がある。そこで一度に複数の光ビームを走査して複数ラインを同時に記録する光走査装置(マルチビーム走査装置)の提案がなされている(例えば、特許文献1,2,3参照。)。
この光走査装置(マルチビーム走査装置)の光源手段として用いられ、複数の光ビームを出射するマルチビーム光源装置の方式として、例えば1パッケージ内に複数の発光点(発光チャンネル)を持つマルチビーム半導体レーザ(例えば、半導体レーザアレイ)を用いる方式もあるが、半導体レーザアレイは製造プロセス上チャンネル数を増加することが困難であり、また、熱的/電気的なクロストークの影響を除去することが難しく、短波長化が困難であるといった理由により、現在では高価な光源手段として認識されている。
【0003】
一方、シングルビーム半導体レーザは、現在でも短波長化が比較的容易であり、低コストにて製造することが可能であり、種々の工業分野にて汎用的に用いられている。このシングルビーム半導体レーザ、あるいは上記のマルチビーム半導体レーザを光源とし、ビーム合成手段を用いて複数の光ビームを合成するマルチビーム走査装置に関する提案が、従来より多数行われている。
しかし、半導体レーザアレイを光源手段として用いる方法と比較し、ビーム合成手段を用いて複数の光ビームを合成する方法の場合には、環境変動/経時的変動等の影響により、被走査面におけるビームスポット配列(ビームピッチ;走査線間隔)が変動するといった問題が発生しやすい。
そこで、電気信号にて駆動される液晶素子を光源部または光源部直後に配設し、光ビームを上記電気信号に応じて微小角度(数分〜数十分)だけ偏向することで、被走査面上のビームスポット配列を補正する方法が提案されている(例えば、特許文献4,5参照。)。
【0004】
ここで、液晶素子について説明する。
光路偏向素子として使用される液晶素子は、ホモジニアス分子配列のネマティック液晶層を2枚のガラス基盤で挟んだ構造からなり、ガラス基板の内側には、金属酸化物の透明電極が形成されている。通常、ガラス基板の一方、例えば下面には、電気的な接地面を形成するための一様な電極が全面にわたって形成され、他方(上面)には液晶層に必要な電界分布を与えるための電極パターンが形成される。駆動交流電圧(例えば、数キロヘルツの矩形波)を印加すると、複屈折率(分子の長軸と短軸の屈折率差)を有するネマティック液晶分子は、電場に沿って傾く。すなわち液晶分子(長軸の向き)と平行な直線偏光をもった単色光にとって、液晶層は電界分布に応じて局所的に異なった屈折率分布をもった媒質と等価になる。従って液晶を透過した光の波面には、液晶の印加電圧の面内分布に応じた空間的な波面変調あるいは位相変調が加わることになる。
【0005】
電気光学特性の形状は、使用する液晶の弾性定数、誘電率異方性や電圧無印加時の液晶分子の初期配向角から決定される。小さな初期配向角(5度以下)を有する液晶素子は、電気光学特性の低電圧領域で急峻な立下り(しきい値)が見られるが、電圧を増加するにつれて線形に近い応答を示し、その後一定値に飽和する特性を示す。一方、大きな初期配向角を有する液晶素子ではしきい値は消失し、低電圧領域の曲線を二乗曲線で近似できる特性となる。
上面の電極パターンとして、ストライプ状の多数の細長い電極を配置し、一本一本に所定の電圧を印加する電極設計が提案されている。この構造は、高速の応答、高い空間分解能および波面変調の自由度(ビーム偏向やレンズの機能だけでなく任意の複雑な波面変調)を実現できる特長を持っている。
【0006】
液晶素子にて光路偏向素子を構成する場合、液晶素子は液晶の電気光学特性の線形な特性領域を利用して梯子型の電極構造を用いる。液晶素子のビーム照射領域に、現状の露光技術の分解能(約 1μm)から決まる線幅と間隔でストライプ状の細長い透明電極を形成する。このストライプ状の電極の両端を、照射領域の外で二つの横方向に伸びた傾斜電位電極に接続し、全体として梯子型の電極がいくつか並んだ構造とする。束ねた細長い電極の数(幅)は、その領域で必要となる最大のビーム偏向角度によって決定される。
横方向に伸びた傾斜電位電極の両端に電気光学特性の線形領域から選んだ2種類の異なる電圧を印加した場合、ブレーズ型の位相プロファイルが得られ、マイクロプリズムアレイと等価となる。印加電圧制御によりブレーズ角を変化させることで、液晶層に垂直入射した光ビームの方向制御が可能となる。
【0007】
【特許文献1】
特開2000−227563号公報
【特許文献2】
特開平10−215351号公報
【特許文献3】
特開平9−189873号公報
【特許文献4】
特開2000−3110号公報
【特許文献5】
特開2000−47214号公報
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
液晶素子を光路偏向素子として用いる場合、前述の通り、液晶層に必要な電界分布を与え、直線的な屈折率分布(屈折率勾配)を形成する必要がある。一方、ビーム偏向角(最大振れ角)を大きくしたい場合には、液晶層厚をより厚くする必要がある。例えば、10数μm以上の液晶層厚を確保する場合には、液晶層内に分散させる球形のスペーサ部材(液晶モニタ等では5μm程度が一般的)の汎用性が乏しく、直径のばらつきの程度、つまり等級が低いスペーサ部材を使用する必要が生じる。その結果、液晶層厚を均一に確保することが困難となり、液晶層内の屈折率分布の直線性を維持することが困難になる等、実使用上の不具合が発生する恐れがあった。
【0009】
本発明は以上のような従来技術の問題点を解消するためになされたもので、液晶素子を用いて被走査面上のビーム位置を調整するマルチビーム走査装置及びそれを用いた画像形成装置において、諸光学特性に影響を及ぼすことなく被走査面上のビーム位置の調整を可能とする光走査装置及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、光源から出射されたN本(N≧2)の光ビームで被走査面を走査する光走査装置であって、複数の光ビームの走査線位置を調整する複数の手段を備え、複数の手段の少なくとも一の手段は、電気信号にて駆動される液晶素子であることを特徴とする。
【0011】
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、液晶素子を駆動する電気信号を記憶するメモリ手段をさらに備えたことを特徴とする。
【0012】
請求項3記載の発明は、請求項2記載の発明において、メモリ手段に記憶された電気信号により走査線位置の初期調整を行うことを特徴とする。
【0013】
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれかに記載の発明において、液晶素子は、外乱の影響に伴う光ビーム位置の変動を補正することを特徴とする。
【0014】
請求項5記載の発明は、請求項1乃至4のいずれかに記載の発明において、液晶素子は、光ビームの光路を微小角度偏向する機能を備えたことを特徴とする。
【0015】
請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれかに記載の発明において、液晶素子は、N本の光ビームのうち、少なくとも「N−1」本の光ビームの光路に配設されたことを特徴とする。
【0016】
請求項7記載の発明は、請求項6記載の発明において、液晶素子による光路偏向角の最大値をθとしたとき、θ=±4.0(分)以内であることを特徴とする。
【0017】
請求項8記載の発明は、請求項7記載の発明において、液晶素子は、N本の光ビームの光路に配設され、θ=±2.0(分)以内であることを特徴とする。
【0018】
請求項9記載の発明は、走査線位置を調整する液晶素子を備えた光走査装置から被走査面に光書込みを行い、電子写真プロセスにより、被走査面上に静電潜像を形成する装置であって、光走査装置は、請求項1乃至8のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする。
【0019】
請求項10記載の発明は、請求項9記載の発明において、液晶素子は、副走査方向の画素密度を変換可能であることを特徴とする。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明にかかる光走査装置及び画像形成装置の実施の形態について説明する。
【0021】
図1は、本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す図であって、光学配置を示す斜視図である。
光走査装置20は、光源から出射された光ビーム(レーザビーム)を被走査面上に光スポットとして走査する装置であって、光源を備えた光源部22、シリンドリカルレンズ13、偏向器であるポリゴンミラー14、2枚のプラスティック製の走査レンズと1枚の折り返しミラー18により構成されている走査光学系15、その表面が被走査面となる感光体ドラム16とを有してなる。
なお、図1には、2本の光ビームを同時に走査する2ビーム光走査装置を例として示しているが、本発明にかかる光走査装置は、より多くの本数の光ビームを走査するマルチビーム走査装置に展開可能である。
【0022】
図2は、光源部22の構成を示す説明図である。光源部22は、共通のベース部材43に固定された光源である半導体レーザ11a,11bとそれぞれに対応するカップリングレンズ12a,12bとを備える。半導体レーザ11a,11bは、圧入によりベース部材43に固定される。一方、カップリングレンズ12a,12bは、接着によりベース部材43に固定されるが、このとき、カップリングレンズを出射する光ビームの特性、すなわち、コリメート性及び出射光軸方向などに応じて、カップリングレンズの固定位置が調整される。
【0023】
なお、図2においては、2本の光ビーム21a、21bは、主走査断面にてポリゴンミラー14の偏向反射面近傍で互いに交差する構成を採用している。このような構成を採用することにより、ポリゴンミラー14での反射点の差異に起因する2本の光ビーム間の光学特性の偏差、つまり結像位置や倍率等の発生を抑制することが可能となる。ここで、被走査面上でビームスポットが走査される方向を主走査方向とし、主走査方向と直交する方向を副走査方向とする。
【0024】
半導体レーザ11a、11bから出射された光ビームは、それぞれカップリングレンズ12a、12bによりカップリングされ、光ビーム21a,21bとなる。2本の光ビーム21a、21bは、シリンドリカルレンズ13の作用によりポリゴンミラー14の偏向反射面上に、副走査方向のみ収束されて主走査方向に長い線像として結像され、走査光学系(走査レンズ)15により感光体ドラム16の表面上、つまり被走査面上をビームスポットとして走査される。
【0025】
光走査装置(マルチビーム走査装置)においては、被走査面上の光ビームの走査線位置(光ビーム位置)やビームスポット間隔の初期調整、及び環境/経時変動の補正のため、「光ビーム位置補正手段」が具備されることが多い。ここで、メカ的な「光ビーム位置補正手段」の構成例について説明する。
【0026】
図3は、光学ハウジング53に収納された光走査装置20の概略構成を示す、偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図であり、図4は、光学ハウジング53の側壁54への光源部22の取り付け方法を示す説明図である。光源部22は、図4に示すように、一対のねじ45,45により光学ハウジング53の側壁54に設けられた挿入穴55,55にねじ止めされて固定される。その際、側壁54に形成された円形の取付孔54a内で光源部22の円形の突出部22aを回転させることにより、図4の矢印で示すγ方向、つまり略出射光軸回りの回転方向に回転(以下、この回転を「γ回転」という)調整される。2本の光ビーム21aと21bは、前述の通り互いに非平行であるため、光源部22をγ回転させることにより、2ビーム間の副走査方向の相対的な光軸方向を変化させることができる。その結果、被走査面での光ビーム位置やビームスポット間隔を補正することが可能となる。
【0027】
ところが、光源部22をγ回転した後に光学ハウジング53の側壁54にねじ45,45で固定する場合、ねじ締結固定時にスクリュードライバ等の締結工具による回転トルクのため、γ回転の調整量がずれてしまうことが多い。そのため、従来は、「調整→ねじ締結」の工程をトライ・アンド・エラーにて複数回繰り返す必要が生じ、また、最終的に要求される調整時間内に所望の調整値が得られない場合があった。
【0028】
そこで、本発明にかかる光走査装置では、機構的な「光ビーム位置補正手段」とは別に、電気信号にて駆動される液晶素子40を用いて光ビーム位置、つまり走査位置を補正することとした。すなわち、入射した光ビームの出射方向を微小角度(数mrad程度)偏向する機能を有する液晶素子40を用いれば、図1または図3に示すカップリングレンズ12a,12bとシリンドリカルレンズ13との間の任意の位置に上記液晶素子40を配設することができるため、光学ハウジング53内の機構的なレイアウト設計の自由度を拡大することが可能となる。
【0029】
ここで、
カップリングレンズの焦点距離をFcol[mm]
光走査装置の光学系全系の副走査倍率をm[倍]
液晶素子での(副走査断面内の)光路偏向角をθ[rad]
非走査面でのビーム位置変動(調整)量をz[mm]
とすると、
z=m×Fcol×θ
の関係がある。したがって、例えば、Fcol=15[mm]、m=10[倍]の光走査装置(光学系)の場合に、Δz=0.001[mm]=1[μm]の分解能で調整するには、
Δθ=z/Fcol×m
=0.001/15×10
=6.7×10−6[rad]=6.7[μrad]
だけ、液晶素子40にて光路偏向すれば良い。
【0030】
液晶素子は、前述の通り、数キロヘルツ程度の矩形交流電圧を駆動信号として駆動できるが、基準の入力信号パルスに対してその実効電圧を変えることで、液晶素子に入射した光ビームの出射方向を偏向すること、つまり光路偏向することが可能である。図8(a)は、入力信号パルスの変調によるビーム偏向について示す説明図、図8(b)は、基準の入力信号パルスの例について示す説明図である。
ここで、実効電圧を変える一般的な方法としては、図8(c)に示すように、パルス幅(duty)を変更する方法(W→W´)と、図8(d)に示すように、パルス高さを変更する方法(A→A´)とを採用することが可能である。このように、印加電圧の実効値を変えることで、液晶層内の屈折率勾配、すなわち光路偏向角を制御することが可能となる。
【0031】
例えば、印加電圧のパルス高さを変更して実効値を変える場合、実効電圧:2.0ボルトにて3.0[mrad]の光路偏向角を獲得できる液晶素子では、10ビット(=1024階調)のコンバータによりパルス高さを変調することで、2.0[V]/1024階調=1.95[mV/階調]で、3.0[rad]/1024階調=2.93[μrad]の光路偏向(上述の光学系の被走査面のビーム位置換算で、0.44[μm])を容易に達成することができる。
【0032】
したがって、前述した光源部22の機構的なγ回転による光ビーム位置(ビームスポット間隔)調整を粗調整として適用し、液晶素子による調整を微調整として用いることで、高精度の調整を短時間にて確実に達成することが可能となる。そこで、液晶素子を駆動する電気信号を記憶するメモリ手段を光走査装置に備え、先の微調整に用いた電気信号であるところの駆動電圧(実効値)をこのメモリ手段に記憶させておく。このようにすれば、工場出荷後のユーザ先での使用時、たとえば初期設定時に本駆動電圧をメモリ手段から呼び出すことで、所望の光ビーム位置を再現することができるので、ユーザ先でのビーム位置調整の頻度を低減することができる。
【0033】
前記光源部22の場合、2組の半導体レーザ11a、11bとカップリングレンズ12a、12bを共通のベース部材43に固定しているが、カップリングレンズ12a、12bは接着剤(層厚数十から数百μm)を介して固定しているため、例えば工場出荷後に外乱の影響により、半導体レーザとカップリングレンズの相対位置関係が変動する恐れがあった。ここで、「外乱」とは、組立調整時以降の経時変化や機械搬送/設置時の振動、あるいはユーザ先での使用時の温度/湿度の変化等、被走査面の光ビーム位置に影響を及ぼす現象(原因)のことを指す。
半導体レーザとカップリングレンズの相対位置関係、特に副走査断面内の相対位置関係が変化した場合、被走査面での光ビーム位置が変化することになり、2ビーム間の距離、つまり走査線間隔が変動して出力画像の劣化をもたらす恐れがあった。
そこで、前述の液晶素子を適用することで、外乱の影響に伴う被走査面での光ビーム位置(走査線間隔)の変動を補正し、高精度に光ビーム位置を維持することができる。
【0034】
以上説明した実施の形態では、各光ビームの光路に液晶素子を配設、つまりビーム本数N本に対して液晶素子の個数をN個とするものであったが、これに代えて、基準の光ビーム以外の光路に液晶素子を配設、つまりビーム本数N本に対して液晶素子の個数をN−1個とし、基準の光ビームとの位置合わせを行う構成としてもよい。このようにすれば、液晶素子の数を低減することができる。
【0035】
なお、光ビーム位置の補正量を決定するには、光走査装置または画像形成装置に光ビーム位置検出用センサを備えても良いし、あるいは設計的/実験的に導出可能な場合には、予め補正量のデータを記憶した補正用テーブルを用意しておき、このデータに基づき補正量を決定しても構わない。
【0036】
図5は、4ビームを出射する光源装置の分解斜視図である。この光源装置は、図2に示す光源部22と同様の構成からなる第1の光源部41及び第2の光源部42と、光源部41,42から出射される各2ビームを隣接して合成するためのビーム合成プリズム17と、光源部41,42及びビーム合成プリズム17を一体的に保持する保持部材(フランジ)44とから構成されている。このような構成の光源装置においては、第1の光源部41と第2の光源部42の相対的な姿勢が副走査断面内で変化し、その結果として、光源部41から出射される2ビームと光源部42から出射される2ビーム間の相対位置関係が、経時的変化又は温度/環境変化等により、著しく変動する恐れがあった。
このような構成の光源装置の場合には、図6(a)に示すように、図5に示した従来の構成の光源装置に対して液晶素子40を付加した構成とすればよい。図6(b)は、図6(a)の主要な光学素子のみを示したものである。
【0037】
図7は、図6(a)に示す液晶素子40の構成例(6例)を示す説明図である。図7の(a)及び(c)は、4本の光ビームに対して液晶素子、あるいは有効エリアを配設した例であり、残りの4例は、少なくとも3本の光ビームに対して液晶素子、あるいは有効エリアを配設した例である。つまり、光ビームの本数N=4の場合の例である。ここで、有効エリアとは、液晶素子の光透過部を分割した各分割部のことであり、各有効エリアは独立に駆動制御される。
【0038】
図7の(a)〜(f)の各構成は、以下の通りである。
(a):4本の光ビームに対応して、4個の有効エリア(a1)〜(a4)を有する1つの液晶素子40を配設する。
(b):3本の光ビームに対応して、3個の有効エリア(b2)〜(b4)を有する1つの液晶素子40を配設する(1本は基準ビーム)。
(c):4本の光ビームに対応して、4個の液晶素子40a〜40dを共通の保持部材23に固定して配設する。
(d):3本の光ビームに対応して、3個の液晶素子40b〜40dを共通の保持部材23に固定し配設する(1本は基準ビーム)。
(e):第1の光源部41から出射される2ビームに対応して、両ビームを独立に偏向可能なように2個、あるいは2つの有効エリア(e1)及び(e2)を有する液晶素子を配設する。なお、第2の光源部42から出射される2ビームには液晶素子を配設しない。
(f):第1の光源部41から出射される2ビームに対応し、両ビームを共通、つまり同じ偏向角で偏向可能なように1個の液晶素子を配設する。なお、第2の光源部42から出射される2ビームには液晶素子を配設しない。
【0039】
図7に示すような構成の液晶素子を用いることで、前述の光ビームの位置変動を補正することができる。
【0040】
ここで、図6(a)に示す4ビーム用光源装置を用いたマルチビーム走査装置において、液晶素子に要求される「最大振れ角」、つまり液晶素子での光路偏向角の最大値について説明する。
例えば、図6に示す4ビーム用光源装置の構成の場合、第1の光源部41から出射される2ビームと第2の光源部42から出射される2ビーム間の相対的な光軸偏差、つまり光軸の副走査成分が経時的変化又は温度/環境変化等により変動する。この2ビーム間の相対的な光軸偏差を「相対光軸ずれ」と呼ぶ。ベース部材43a、43b及びフランジ44は、工業的には鉄、アルミ又は亜鉛等の金属材料、あるいは成形性に優れた樹脂材料が用いられるが、このような材料にて部品を加工した場合には、経験的に最大で±2.0[分]程度の相対光軸ずれが発生することが分かっている。
【0041】
さらに図2を用いて説明した通り、本光源装置は、カップリングレンズ12a、12bが層厚:数十μm〜数百μm程度の接着層を介して保持部材に固定される構成である。そのため、温湿度の変化時等に基づく熱膨張等の影響により接着層厚が変化し、結果として光ビーム間の相対光軸ずれが変動する恐れがあった。したがって、液晶素子には、少なくともこの相対光軸ずれを補正する程度の最大振れ角が要求される。
【0042】
一方、前記[発明が解決しようとする課題]に記載のように、一般には液晶素子での「最大振れ角」を大きくするのに伴い、液晶層厚を大きくする必要が生じる。現在、10数μm程度以上の液晶層厚を確保するためのスペーサ部材は、汎用的ではなく、等級の高い、つまり直径のばらつきの小さいスペーサ部材を使用するには、高コスト化を回避できない。また、液晶層厚を大きくした場合の副作用として、液晶層厚、透明電極(ITO)膜、配向膜等の膜厚ばらつきに起因する、
(a)屈折率分布の直線性劣化
(b)多重干渉による透過率変動の発生
(c)波面収差の劣化
等の不具合が生じる恐れがある。したがって、液晶素子の製造におけるコスト面、性能面及び歩留まり等を考慮すると、最大振れ角は約±4.0[分]程度とするのが実用上は現実的である。
【0043】
少なくともN−1本の光ビームの光路に液晶素子を配置した、図7(b),(d),(f)に示すような場合には、上述の相対光軸ずれ:±2.0[分]を補正する必要が生じる。さらに、工場での組立時の調整量を考慮すると、液晶素子の最大振れ角は、±2.5[分]以下、望ましくは±4.0[分]以下が要求される。
【0044】
一方、図7(e)に示すようにN本の光ビームの光路に液晶素子を配設した場合には、第1の光源部と第2の光源部から出射される光ビーム間の相対光軸ずれ:±2.0[分]を、2つの有効エリア(1)及び(2)にて補正することが可能である。したがって、要求される最大振れ角は、図7(b),(d),(f)に示す場合の1/2程度で構わない。すなわち、組立時の調整量も加算して、液晶素子の最大振れ角は、±1.5[分]以下、望ましくは±2.0[分]以下が要求される。もちろん、図7(a),(c)に示す場合にも、図7(e)と同様に最大振れ角仕様を緩和することが可能である。
【0045】
このように、N本の光ビームの光路に液晶素子を配設することで、必要な液晶素子の個数の増加に繋がるが、要求される最大振れ角を小さくすることが可能となるため、光学性能維持、部品コスト低下を図ることが可能となる。
【0046】
以上説明した実施の形態によれば、液晶素子の最大振れ角を±4.0[分]以下に限定することで、光学特性に影響を及ほすことなく、被走査面上のビーム位置調整範囲を確保することができる。
【0047】
次に、本発明にかかる画像形成装置について説明する。
画像形成装置は、光走査装置、帯電器、現像器、転写器、定着器、感光体、クリーニング部を有してなり、光走査装置から像担持体である感光体に光書込みを行い、電子写真法により、感光体上に静電潜像を形成する。画像形成装置による画像形成の原理は、周知の通りであり、感光体は、帯電器により一様に帯電され、光走査装置によって形成される露光分布に応じて電位が低下し、感光体上に静電潜像が形成され、現像器によりトナーが付着される。感光体に付着したトナーは、転写器により用紙に転写された後に定着器によって用紙に融解固着される。クリーニング部は、感光体上の残留トナーを除去する。
【0048】
ここで、光走査装置として、これまで説明した本発明にかかる光走査装置を適用することで、前述の効果、すなわち、必要に応じて感光体上の光ビーム(ビームスポット)位置を可変することができるため、高品位な出力画像を得ることが可能となる。また、複数ビームを同時に走査する複数ビーム走査装置の場合には、プリント速度の高速化/高密度化を図ることが可能となる。
【0049】
画像形成装置をプリンタやデジタル複写機等の実機として使用した場合には、製品の工場出荷後の搬送時の振動またはユーザ先への設置場所の制限等により、出荷前の調整工程にて調整したビームスポット間隔、主として副走査方向の間隔、すなわち、走査線間隔が変動する恐れがある。また、ユーザ先での使用時の経時変化や、設置場所の温度環境/連続プリント時等での機内温度上昇等により、走査線間隔が変化する恐れがある。
このような場合には、画像形成装置に走査線間隔を検出する検出系を備えることで、上記原因により発生する走査線間隔を検出し、その結果に基づき液晶素子を駆動して走査線間隔を補正することが可能となる。
【0050】
なお、液晶素子は、副走査方向の画素密度を変換可能とする。すなわち、たとえば、画像形成装置をプリンタと複写機(コピー機)の機能を併有する複合機に適用した場合、プリンタモード、つまり複合機をプリンタとして使用する状態と、コピーモード、つまり複合機を複写機として利用する状態とで、画素密度を切り替える場合がある。例えば、「プリンタモードでは600dpi、コピーモードでは400dpi」というように画素密度を切り替える場合がある。本発明によれば、各モードに適した画素密度を実現することができる。
【0051】
また、画像形成装置に備えられた操作パネル等からオペレータが画素密度切替の指令を出すことにより、使用目的、つまり求める機能に応じて、「高画質対応(1200dpi)←→高速度(多出力枚数)対応(600dpi)」のように、画素密度を切り替えたい場合もある。このような場合には、本画像形成装置に具備された光路偏向素子を駆動/制御することで、容易に画素密度を切り替えることが可能となる。
【0052】
【発明の効果】
本発明によれば、諸光学特性に影響を及ぼすことなく被走査面上のビーム位置の調整を可能とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す図であって、光学配置を示す斜視図である。
【図2】上記光走査装置が備える光源部の構成を示す分解斜視図である。
【図3】光学ハウジングに収納された上記光走査装置の概略構成を示す、偏向回転面に平行な面内に展開した光学配置図である。
【図4】上記光走査装置が備える光源部の上記光学ハウジングの側壁への取り付け方法を示す分解斜視図である。
【図5】従来の光源装置の一例であって、4ビームを出射する光源装置の分解斜視図である。
【図6】図5に示す光源装置に液晶素子を付加して構成した光源装置の(a)は分解斜視図、(b)は主要な光学素子のみの構成を示す斜視図である。
【図7】図6に示す光源装置に付加する液晶素子の各種例を示す斜視図である。
【図8】液晶素子に入射した光ビームの光路偏向について説明した図であり、(a)は光路偏向を示す説明図、(b)(c)(d)は液晶素子を駆動する電気信号(実効電圧)の変化を示す波形図である。
【符号の説明】
11a,11b 半導体レーザ
12a,12b カップリングレンズ
13 シリンドリカルレンズ
14 ポリゴンミラー
15 走査光学系
16 感光体ドラム
17 ビーム合成プリズム
18 折り返しミラー
19 同期センサ
20 光走査装置
21a,21b 光ビーム
22 光源部
23 保持部材
40a,40b 液晶素子
41,42 光源部
43 ベース部材
44 フランジ
53 光学ハウジング
54 側壁[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical scanning device (multi-beam scanning device) that simultaneously scans a surface to be scanned with a plurality of light beams emitted from a light source, a laser printer using the optical scanning device in an optical writing system, and digital copying. And an image forming apparatus such as a laser facsimile, a laser plotter, and the like.
[0002]
[Prior art]
In an optical scanning device used in an optical writing system of an image forming apparatus, as a means for improving a recording speed, there is a method for increasing a rotation speed of a polygon mirror serving as a deflecting unit. However, this method has limitations due to problems such as motor durability, noise, vibration, and laser modulation speed. Therefore, there has been proposed an optical scanning device (multi-beam scanning device) for simultaneously recording a plurality of lines by scanning a plurality of light beams at a time (for example, see
As a method of a multi-beam light source device which is used as a light source means of this optical scanning device (multi-beam scanning device) and emits a plurality of light beams, for example, a multi-beam semiconductor having a plurality of light-emitting points (light-emitting channels) in one package Although there is a method using a laser (for example, a semiconductor laser array), it is difficult to increase the number of channels due to a manufacturing process of the semiconductor laser array, and it is difficult to eliminate the influence of thermal / electrical crosstalk. It is currently recognized as an expensive light source because it is difficult and it is difficult to shorten the wavelength.
[0003]
On the other hand, single-beam semiconductor lasers are still relatively easy to reduce the wavelength even at present, can be manufactured at low cost, and are widely used in various industrial fields. Many proposals have been made on a multi-beam scanning apparatus that combines a single beam semiconductor laser or the above-described multi-beam semiconductor laser as a light source and combines a plurality of light beams using a beam combining unit.
However, in comparison with the method using a semiconductor laser array as the light source means, the method of combining a plurality of light beams using the beam combining means has a problem in that the beam on the surface to be scanned is affected by environmental fluctuation / time-dependent fluctuation. The problem that the spot arrangement (beam pitch; scanning line interval) fluctuates easily occurs.
Therefore, a liquid crystal element driven by an electric signal is disposed at or immediately after the light source section, and the light beam is deflected by a very small angle (several minutes to several tens of minutes) according to the electric signal, thereby performing scanning. A method of correcting a beam spot arrangement on a surface has been proposed (for example, see Patent Documents 4 and 5).
[0004]
Here, the liquid crystal element will be described.
A liquid crystal element used as an optical path deflecting element has a structure in which a nematic liquid crystal layer having a homogeneous molecular arrangement is sandwiched between two glass substrates, and a metal oxide transparent electrode is formed inside the glass substrate. Normally, a uniform electrode for forming an electric ground plane is formed over the entire surface on one side, for example, the lower surface of the glass substrate, and an electrode for giving a necessary electric field distribution to the liquid crystal layer is formed on the other (upper surface). A pattern is formed. When a driving AC voltage (for example, a rectangular wave of several kilohertz) is applied, nematic liquid crystal molecules having a birefringence (difference between the major axis and the minor axis of the molecule) tilt along the electric field. That is, for monochromatic light having linearly polarized light parallel to the liquid crystal molecules (the direction of the long axis), the liquid crystal layer becomes equivalent to a medium having a locally different refractive index distribution according to the electric field distribution. Therefore, the wavefront of the light transmitted through the liquid crystal is subjected to spatial wavefront modulation or phase modulation according to the in-plane distribution of the voltage applied to the liquid crystal.
[0005]
The shape of the electro-optical characteristics is determined from the elastic constant of the liquid crystal used, the dielectric anisotropy, and the initial orientation angle of the liquid crystal molecules when no voltage is applied. A liquid crystal element having a small initial alignment angle (5 degrees or less) shows a sharp fall (threshold) in a low voltage region of the electro-optical characteristics, but shows a nearly linear response as the voltage increases, It shows characteristics that saturate to a constant value. On the other hand, in a liquid crystal element having a large initial alignment angle, the threshold value disappears, and a characteristic in which a curve in a low voltage region can be approximated by a square curve.
As an electrode pattern on the upper surface, there has been proposed an electrode design in which a large number of strip-shaped elongated electrodes are arranged and a predetermined voltage is applied to each of the electrodes. This structure has features that can realize high-speed response, high spatial resolution, and freedom of wavefront modulation (arbitrarily complicated wavefront modulation as well as beam deflection and lens functions).
[0006]
When an optical path deflecting element is configured by a liquid crystal element, the liquid crystal element uses a ladder-type electrode structure using a linear characteristic region of the electro-optical characteristics of the liquid crystal. Stripe-shaped elongated transparent electrodes are formed in the beam irradiation area of the liquid crystal element with a line width and an interval determined by the resolution (about 1 μm) of the current exposure technology. Both ends of this striped electrode are connected to two laterally extending inclined potential electrodes outside the irradiation area, so that a ladder-type electrode is arranged as a whole. The number (width) of the bundled elongated electrodes is determined by the maximum beam deflection angle required in that area.
When two different voltages selected from the linear region of the electro-optical characteristics are applied to both ends of the inclined potential electrode extending in the horizontal direction, a blazed phase profile is obtained, which is equivalent to a microprism array. By changing the blaze angle by controlling the applied voltage, it is possible to control the direction of the light beam that is perpendicularly incident on the liquid crystal layer.
[0007]
[Patent Document 1]
JP 2000-227563 A
[Patent Document 2]
JP-A-10-215351
[Patent Document 3]
JP-A-9-189873
[Patent Document 4]
JP 2000-3110A
[Patent Document 5]
JP 2000-47214 A
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
When a liquid crystal element is used as an optical path deflecting element, it is necessary to give a necessary electric field distribution to the liquid crystal layer and form a linear refractive index distribution (refractive index gradient) as described above. On the other hand, when it is desired to increase the beam deflection angle (maximum deflection angle), it is necessary to increase the thickness of the liquid crystal layer. For example, when securing a liquid crystal layer thickness of more than 10 μm, the versatility of a spherical spacer member (typically about 5 μm in a liquid crystal monitor or the like) dispersed in the liquid crystal layer is poor, and the degree of variation in diameter is small. That is, it is necessary to use a spacer member having a low grade. As a result, it is difficult to ensure a uniform thickness of the liquid crystal layer, and it is difficult to maintain the linearity of the refractive index distribution in the liquid crystal layer.
[0009]
The present invention has been made in order to solve the problems of the conventional technology as described above, and is directed to a multi-beam scanning apparatus that adjusts a beam position on a surface to be scanned using a liquid crystal element and an image forming apparatus using the same. It is another object of the present invention to provide an optical scanning device and an image forming apparatus which can adjust a beam position on a surface to be scanned without affecting various optical characteristics.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to
[0011]
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, a memory means for storing an electric signal for driving the liquid crystal element is further provided.
[0012]
According to a third aspect of the present invention, in the second aspect of the present invention, the initial adjustment of the scanning line position is performed by an electric signal stored in the memory means.
[0013]
According to a fourth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the liquid crystal element corrects a change in the position of the light beam due to the influence of disturbance.
[0014]
According to a fifth aspect of the present invention, in any one of the first to fourth aspects, the liquid crystal element has a function of deflecting the optical path of the light beam by a small angle.
[0015]
According to a sixth aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the liquid crystal element is disposed in an optical path of at least “N−1” light beams among the N light beams. It is characterized by having.
[0016]
According to a seventh aspect of the present invention, when the maximum value of the optical path deflection angle by the liquid crystal element is θ, θ is within ± 4.0 (minutes).
[0017]
The invention according to claim 8 is the invention according to claim 7, wherein the liquid crystal element is disposed in the optical path of the N light beams, and θ is within ± 2.0 (minutes).
[0018]
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided an apparatus for performing optical writing on a scanned surface from an optical scanning device having a liquid crystal element for adjusting a scanning line position, and forming an electrostatic latent image on the scanned surface by an electrophotographic process. Wherein the optical scanning device is the optical scanning device according to any one of
[0019]
According to a tenth aspect of the present invention, in the ninth aspect, the liquid crystal element is capable of converting a pixel density in the sub-scanning direction.
[0020]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of an optical scanning device and an image forming apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
[0021]
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of an optical scanning device according to the present invention, and is a perspective view showing an optical arrangement.
The
Although FIG. 1 shows an example of a two-beam optical scanning device that simultaneously scans two light beams, the optical scanning device according to the present invention is a multi-beam optical scanning device that scans a larger number of light beams. It can be deployed in a scanning device.
[0022]
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating the configuration of the
[0023]
In FIG. 2, a configuration is adopted in which the two
[0024]
Light beams emitted from the
[0025]
In an optical scanning device (multi-beam scanning device), the “light beam position” is used for the initial adjustment of the scanning line position (light beam position) and the beam spot interval of the light beam on the surface to be scanned, and the correction of environmental / temporal variations. Correction means "are often provided. Here, a configuration example of a mechanical “light beam position correcting unit” will be described.
[0026]
FIG. 3 is an optical arrangement diagram showing a schematic configuration of the
[0027]
However, when the
[0028]
Therefore, in the optical scanning device according to the present invention, the light beam position, that is, the scanning position is corrected by using the
[0029]
here,
Set the focal length of the coupling lens to Fcol [mm].
The sub-scanning magnification of the entire optical system of the optical scanning device is m [times]
The optical path deflection angle (in the sub-scan section) of the liquid crystal element is θ [rad].
The amount of beam position variation (adjustment) on the non-scanning surface is z [mm]
Then
z = m × Fcol × θ
There is a relationship. Therefore, for example, in the case of an optical scanning device (optical system) with Fcol = 15 [mm] and m = 10 [times], to adjust with a resolution of Δz = 0.001 [mm] = 1 [μm]
Δθ = z / Fcol × m
= 0.001 / 15 × 10
= 6.7 × 10 -6 [Rad] = 6.7 [μrad]
Only the light path may be deflected by the
[0030]
As described above, the liquid crystal element can drive a rectangular AC voltage of about several kilohertz as a drive signal, but by changing its effective voltage with respect to a reference input signal pulse, the emission direction of the light beam incident on the liquid crystal element can be changed. It is possible to deflect, that is, to deflect the optical path. FIG. 8A is an explanatory diagram illustrating beam deflection due to modulation of an input signal pulse, and FIG. 8B is an explanatory diagram illustrating an example of a reference input signal pulse.
Here, as a general method of changing the effective voltage, a method of changing the pulse width (duty) (W → W ′) as shown in FIG. 8C and a method of changing the pulse width (duty) as shown in FIG. And a method of changing the pulse height (A → A ′). As described above, by changing the effective value of the applied voltage, the refractive index gradient in the liquid crystal layer, that is, the optical path deflection angle can be controlled.
[0031]
For example, when the effective value is changed by changing the pulse height of the applied voltage, a liquid crystal element that can obtain an optical path deflection angle of 3.0 [mrad] at an effective voltage of 2.0 volts has 10 bits (= 1024 floors). By modulating the pulse height by the converter of (g.), 2.0 [V] / 1024 gradation = 1.95 [mV / gradation] and 3.0 [rad] / 1024 gradation = 2.93. An optical path deflection of [μrad] (0.44 [μm] in terms of the beam position on the surface to be scanned of the optical system described above) can be easily achieved.
[0032]
Therefore, the adjustment of the light beam position (beam spot interval) by the mechanical γ rotation of the
[0033]
In the case of the
If the relative positional relationship between the semiconductor laser and the coupling lens, especially the relative positional relationship in the sub-scan section, changes, the light beam position on the surface to be scanned changes, and the distance between the two beams, that is, the scanning line interval May fluctuate to cause deterioration of the output image.
Thus, by applying the above-described liquid crystal element, it is possible to correct the fluctuation of the light beam position (scanning line interval) on the surface to be scanned due to the influence of disturbance, and to maintain the light beam position with high accuracy.
[0034]
In the embodiment described above, a liquid crystal element is disposed in the optical path of each light beam, that is, the number of liquid crystal elements is set to N for the number of beams N. A liquid crystal element may be provided in an optical path other than the light beam, that is, the number of liquid crystal elements may be N−1 for the number of beams N, and the alignment with the reference light beam may be performed. By doing so, the number of liquid crystal elements can be reduced.
[0035]
In order to determine the correction amount of the light beam position, a light beam position detection sensor may be provided in the optical scanning device or the image forming device, or if it can be derived by design / experiment, A correction table storing the data of the correction amount may be prepared, and the correction amount may be determined based on this data.
[0036]
FIG. 5 is an exploded perspective view of a light source device that emits four beams. In this light source device, a first
In the case of a light source device having such a configuration, as shown in FIG. 6A, a configuration in which a
[0037]
FIG. 7 is an explanatory diagram illustrating a configuration example (six examples) of the
[0038]
The respective configurations of FIGS. 7A to 7F are as follows.
(A): One
(B): One
(C): Four
(D): Three
(E): A liquid crystal element having two or two effective areas (e1) and (e2) so that both beams can be independently deflected in correspondence with two beams emitted from the first
(F): One liquid crystal element is provided so as to correspond to two beams emitted from the first
[0039]
By using the liquid crystal element having the configuration shown in FIG. 7, the above-described positional fluctuation of the light beam can be corrected.
[0040]
Here, in the multi-beam scanning apparatus using the four-beam light source device shown in FIG. 6A, the "maximum deflection angle" required for the liquid crystal element, that is, the maximum value of the optical path deflection angle in the liquid crystal element will be described. .
For example, in the case of the configuration of the four-beam light source device shown in FIG. 6, the relative optical axis deviation between the two beams emitted from the first
[0041]
Further, as described with reference to FIG. 2, the present light source device has a configuration in which the
[0042]
On the other hand, as described in the above-mentioned [Problems to be Solved by the Invention], generally, as the "maximum deflection angle" of the liquid crystal element increases, the thickness of the liquid crystal layer needs to be increased. At present, a spacer member for securing a liquid crystal layer thickness of about 10 μm or more is not versatile. If a spacer member having a high grade, that is, a small diameter variation is used, an increase in cost cannot be avoided. Also, as a side effect of increasing the thickness of the liquid crystal layer, variations in the thickness of the liquid crystal layer, the transparent electrode (ITO) film, the alignment film, and the like are caused.
(A) Degradation of linearity of refractive index distribution
(B) Occurrence of transmittance fluctuation due to multiple interference
(C) Deterioration of wavefront aberration
And the like may occur. Therefore, in consideration of cost, performance, yield, and the like in manufacturing a liquid crystal element, it is practically practical to set the maximum deflection angle to about ± 4.0 [minutes].
[0043]
In the case where the liquid crystal element is arranged in the optical path of at least N-1 light beams as shown in FIGS. 7B, 7D, and 7F, the above-mentioned relative optical axis deviation: ± 2.0 [ Minutes] needs to be corrected. Further, in consideration of the adjustment amount at the time of assembly at the factory, the maximum deflection angle of the liquid crystal element is required to be ± 2.5 [min] or less, preferably ± 4.0 [min] or less.
[0044]
On the other hand, when a liquid crystal element is provided in the optical path of N light beams as shown in FIG. 7E, the relative light between the light beams emitted from the first light source unit and the second light source unit Axis deviation: ± 2.0 [minutes] can be corrected in the two effective areas (1) and (2). Therefore, the required maximum deflection angle may be about の of the case shown in FIGS. 7B, 7D, and 7F. That is, the maximum deflection angle of the liquid crystal element is required to be ± 1.5 [min] or less, preferably ± 2.0 [min] or less, by adding the adjustment amount at the time of assembly. Of course, also in the cases shown in FIGS. 7A and 7C, the maximum deflection angle specification can be relaxed similarly to FIG. 7E.
[0045]
By arranging the liquid crystal elements in the optical path of the N light beams in this manner, the number of necessary liquid crystal elements can be increased. However, the required maximum deflection angle can be reduced. It is possible to maintain performance and reduce parts costs.
[0046]
According to the embodiment described above, by limiting the maximum deflection angle of the liquid crystal element to ± 4.0 [min] or less, the beam position adjustment range on the surface to be scanned can be obtained without affecting the optical characteristics. Can be secured.
[0047]
Next, an image forming apparatus according to the present invention will be described.
The image forming apparatus includes an optical scanning device, a charger, a developing device, a transfer device, a fixing device, a photoconductor, and a cleaning unit. An electrostatic latent image is formed on the photoconductor by a photographic method. The principle of image formation by an image forming apparatus is well known, and the photoreceptor is uniformly charged by a charger, and the potential decreases in accordance with the exposure distribution formed by the optical scanning device. An electrostatic latent image is formed, and toner is adhered by a developing device. The toner adhering to the photoreceptor is transferred to a sheet by a transfer unit and then fused and fixed to the sheet by a fixing unit. The cleaning unit removes residual toner on the photoconductor.
[0048]
Here, by applying the optical scanning device according to the present invention described so far as the optical scanning device, the above-described effect, that is, the position of the light beam (beam spot) on the photosensitive member can be changed as necessary. Therefore, a high-quality output image can be obtained. In the case of a multiple beam scanning device that scans multiple beams simultaneously, it is possible to increase the printing speed / density.
[0049]
When the image forming apparatus was used as an actual machine such as a printer or a digital copier, the adjustment was performed in an adjustment process before shipment due to vibration during transportation of the product after shipment from the factory or restrictions on an installation location at a user. The beam spot interval, mainly the interval in the sub-scanning direction, that is, the scanning line interval may vary. In addition, there is a possibility that the scanning line interval may change due to a temporal change during use at the user's site, a temperature environment at the installation location / internal temperature rise during continuous printing, and the like.
In such a case, the image forming apparatus is provided with a detection system for detecting the scanning line interval, thereby detecting the scanning line interval generated due to the above-described cause, and driving the liquid crystal element based on the result to set the scanning line interval. It becomes possible to correct.
[0050]
Note that the liquid crystal element can change the pixel density in the sub-scanning direction. That is, for example, when the image forming apparatus is applied to a multifunction peripheral having both functions of a printer and a copier (copier), a printer mode, that is, a state in which the multifunction peripheral is used as a printer, and a copy mode, that is, the multifunction peripheral is copied. There is a case where the pixel density is switched depending on the state used as a device. For example, the pixel density may be switched to “600 dpi in the printer mode, 400 dpi in the copy mode”. According to the present invention, it is possible to realize a pixel density suitable for each mode.
[0051]
In addition, an operator issues a command for switching pixel density from an operation panel or the like provided in the image forming apparatus, so that “high image quality (1200 dpi) ← → high speed (multiple output sheets) ) (600 dpi) ". In such a case, the pixel density can be easily switched by driving / controlling the optical path deflecting element provided in the image forming apparatus.
[0052]
【The invention's effect】
According to the present invention, it is possible to adjust the beam position on the surface to be scanned without affecting various optical characteristics.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a view showing an embodiment of an optical scanning device according to the present invention, and is a perspective view showing an optical arrangement.
FIG. 2 is an exploded perspective view illustrating a configuration of a light source unit included in the optical scanning device.
FIG. 3 is an optical arrangement diagram showing a schematic configuration of the optical scanning device housed in an optical housing, which is developed in a plane parallel to a deflection rotation surface.
FIG. 4 is an exploded perspective view showing a method of attaching a light source unit included in the optical scanning device to a side wall of the optical housing.
FIG. 5 is an exploded perspective view of a light source device that emits four beams, which is an example of a conventional light source device.
6A is an exploded perspective view of a light source device configured by adding a liquid crystal element to the light source device illustrated in FIG. 5, and FIG. 6B is a perspective view illustrating a configuration of only main optical elements.
7 is a perspective view showing various examples of a liquid crystal element added to the light source device shown in FIG.
FIGS. 8A and 8B are diagrams illustrating optical path deflection of a light beam incident on a liquid crystal element, wherein FIG. 8A is an explanatory view illustrating optical path deflection, and FIGS. 8B, 8C, and 8D are electric signals (D) for driving the liquid crystal element. FIG. 6 is a waveform chart showing a change in an effective voltage.
[Explanation of symbols]
11a, 11b Semiconductor laser
12a, 12b coupling lens
13 Cylindrical lens
14 Polygon mirror
15 Scanning optical system
16 Photoconductor drum
17 Beam combining prism
18 Folding mirror
19 Synchronous sensor
20 Optical scanning device
21a, 21b Light beam
22 Light source
23 Holding member
40a, 40b liquid crystal element
41, 42 light source unit
43 Base member
44 Flange
53 Optical housing
54 Side wall
Claims (10)
上記複数の光ビームの走査線位置を調整する複数の手段を備え、
上記複数の手段の少なくとも一の手段は、電気信号にて駆動される液晶素子であることを特徴とする光走査装置。An optical scanning device that scans a surface to be scanned with N (N ≧ 2) light beams emitted from a light source,
Comprising a plurality of means for adjusting the scanning line position of the plurality of light beams,
An optical scanning device, wherein at least one of the plurality of units is a liquid crystal element driven by an electric signal.
θ=±4.0(分)
以内である請求項6記載の光走査装置。When the maximum value of the optical path deflection angle by the liquid crystal element is θ,
θ = ± 4.0 (min)
The optical scanning device according to claim 6, wherein
θ=±2.0(分)以内である請求項7記載の光走査装置。The liquid crystal element is disposed in an optical path of N light beams,
The optical scanning device according to claim 7, wherein θ is within ± 2.0 (minutes).
上記光走査装置は、請求項1乃至8のいずれかに記載の光走査装置であることを特徴とする画像形成装置。An apparatus for performing optical writing on a scanned surface from an optical scanning device having a liquid crystal element for adjusting a scanning line position, and forming an electrostatic latent image on the scanned surface by an electrophotographic process,
An image forming apparatus, wherein the optical scanning device is the optical scanning device according to any one of claims 1 to 8.
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