JP2003337293A - Optical scanner and light source device and image forming apparatus - Google Patents

Optical scanner and light source device and image forming apparatus

Info

Publication number
JP2003337293A
JP2003337293A JP2002256704A JP2002256704A JP2003337293A JP 2003337293 A JP2003337293 A JP 2003337293A JP 2002256704 A JP2002256704 A JP 2002256704A JP 2002256704 A JP2002256704 A JP 2002256704A JP 2003337293 A JP2003337293 A JP 2003337293A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
optical
light source
scanning device
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002256704A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Migaku Amada
天田  琢
Seizo Suzuki
清三 鈴木
Satoru Ito
悟 伊藤
Tomohiro Nakajima
智宏 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2002256704A priority Critical patent/JP2003337293A/en
Priority to US10/386,654 priority patent/US7333254B2/en
Publication of JP2003337293A publication Critical patent/JP2003337293A/en
Priority to US11/971,227 priority patent/US7706040B2/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical scanner capable of correcting (feedback adjustment) the environmental fluctuation of a beam spot array (beam pitch) on a surface to be scanned or the fluctuation of the beam spot array due to aging. <P>SOLUTION: In the optical scanner 20 simultaneously scanning the surface to be scanned 16 in a main scanning direction with a plurality of light beams 21a and 21b emitted from light sources 11a and 11b, a beam spot position on the surface to be scanned is adjusted by varying the position of at least one light beam made to scan the surface 16 by optical path deflecting means (for example, a liquid crystal deflecting element controlled according to an electrical signal) 28a and 28b disposed in the optical path of the light beam. Thus, the beam spot array on the surface to be scanned can be adjusted by driving at a low voltage without making the scanner larger, causing vibration, producing noise or generating heat. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光源から出射され
た複数の光ビームで被走査面上を主走査方向に同時に走
査する光走査装置(マルチビーム走査装置)、及びその
光走査装置に用いられる光源装置、及び前記光走査装置
を光書込系に用いたレーザプリンタ、デジタル複写機、
レーザファクシミリ、レーザプロッタ等の画像形成装置
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is used for an optical scanning device (multi-beam scanning device) which simultaneously scans a surface to be scanned with a plurality of light beams emitted from a light source in a main scanning direction, and an optical scanning device thereof. Light source device, and laser printer using the optical scanning device in an optical writing system, digital copying machine,
The present invention relates to an image forming apparatus such as a laser facsimile and a laser plotter.

【0002】[0002]

【従来の技術】[Prior art]

【特許文献1】特開2000−227563号公報[Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2000-227563

【特許文献2】特開平10−215351号公報[Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 10-215351

【特許文献3】特開平9−189873号公報[Patent Document 3] Japanese Unexamined Patent Publication No. 9-189873

【特許文献4】特開平10−282531号公報[Patent Document 4] Japanese Patent Laid-Open No. 10-282531

【特許文献5】特開2000−3110号公報[Patent Document 5] Japanese Patent Laid-Open No. 2000-3110

【特許文献6】特開2000−47214号公報[Patent Document 6] Japanese Patent Laid-Open No. 2000-47214

【特許文献7】特開昭63−240533号公報[Patent Document 7] Japanese Patent Laid-Open No. 63-240533

【特許文献8】特開平8−313941号公報[Patent Document 8] Japanese Unexamined Patent Publication No. 8-313941

【特許文献9】特開平9−325288号公報[Patent Document 9] JP-A-9-325288

【特許文献10】特開平10−62705号公報[Patent Document 10] Japanese Patent Laid-Open No. 10-62705

【0003】画像形成装置の光書込系に用いられる光走
査装置において、記録速度を向上させる手段としては、
偏向手段であるポリゴンミラーの回転速度を上げる方法
がある。しかし、この方法ではモータの耐久性や騒音、
振動、及びレーザの変調スピード等が問題となり限界が
ある。そこで一度に複数の光ビームを走査して複数ライ
ンを同時に記録する光走査装置(マルチビーム走査装
置)の提案がなされている。この光走査装置(マルチビ
ーム走査装置)の光源手段として用いられ、複数のレー
ザビームを出射するマルチビーム光源装置の方式とし
て、例えば1パッケージ内に複数の発光点(発光チャン
ネル)を持つマルチビーム半導体レーザ(例えば、半導
体レーザアレイ)を用いる方式があるが、半導体レーザ
アレイは製造プロセス上チャンネル数を増加することが
困難であり、また、熱的/電気的なクロストークの影響
を除去することが難しく、短波長化が困難であるといっ
た理由により、現在では高価な光源手段である。
In an optical scanning device used in an optical writing system of an image forming apparatus, a means for improving the recording speed is as follows.
There is a method of increasing the rotation speed of the polygon mirror that is the deflecting means. However, with this method, the durability and noise of the motor,
Vibration and the modulation speed of the laser are problematic and limited. Therefore, an optical scanning device (multi-beam scanning device) has been proposed which scans a plurality of light beams at a time to record a plurality of lines at the same time. As a method of a multi-beam light source device used as a light source means of this optical scanning device (multi-beam scanning device) and emitting a plurality of laser beams, for example, a multi-beam semiconductor having a plurality of light emitting points (light emitting channels) in one package Although there is a method of using a laser (for example, a semiconductor laser array), it is difficult to increase the number of channels in the manufacturing process of the semiconductor laser array, and it is possible to eliminate the influence of thermal / electrical crosstalk. It is currently an expensive light source means because it is difficult and it is difficult to shorten the wavelength.

【0004】一方、シングルビーム半導体レーザは、現
在でも短波長化が比較的容易であり、低コストにて製造
することが可能であり、種々の工業分野にて汎用的に用
いられている。このシングルビーム半導体レーザ(ある
いは上記のマルチビーム半導体レーザ)を光源とし、ビ
ーム合成手段を用いて複数のレーザビームを合成する光
源装置及びマルチビーム走査装置に関する提案が、従来
より多数行われている。しかし半導体レーザアレイを光
源手段として用いる方法と比較し、ビーム合成手段を用
いて複数のレーザビームを合成する方法の場合には、環
境変動/経時等の影響により、被走査面におけるビーム
スポット配列(ビームピッチ;走査線間隔)が変動する
といった問題が発生しやすかった。
On the other hand, the single-beam semiconductor laser is still relatively easy to shorten the wavelength, can be manufactured at low cost, and is widely used in various industrial fields. Many proposals have been made in the past regarding a light source device and a multi-beam scanning device that combine a plurality of laser beams using a beam combining means using this single-beam semiconductor laser (or the above-mentioned multi-beam semiconductor laser) as a light source. However, compared with the method of using the semiconductor laser array as the light source means, in the case of the method of synthesizing a plurality of laser beams using the beam synthesizing means, the beam spot array ( The problem that the beam pitch; the scanning line interval) fluctuates easily occurs.

【0005】この問題を解決する方法に関する従来技術
の代表例を以下に示す。 (1)[特許文献1]特開2000−227563号公報
に記載の「マルチビーム走査光学装置」 複数の光源から出射される光ビームをビーム合成プリズ
ムを用いて合成するマルチビーム走査光学装置におい
て、ビーム合成プリズムの、光路に沿ったシフト、及び
主走査断面内または副走査断面内の傾き調整により、光
ビームの出射方向を調整することで、被走査面上のビー
ムスポット位置を調整することが記載されている。 (2)[特許文献2]特開平10−215351号公報に
記載の「光ビーム走査装置」 複数の光源から出射される光ビームをビーム合成プリズ
ムを用いて合成する光ビーム走査装置において、ポリゴ
ンミラーの反射面上に線像を形成するためのシリンドリ
カルレンズを副走査方向にシフトすることにより、光ビ
ームの出射方向を調整することで、被走査面上のビーム
スポット位置を調整することが記載されている。 (3)[特許文献3]特開平9−189873号公報に記
載の「マルチビーム走査方法およびマルチビーム走査装
置」 複数の光源から出射される光ビームをハーフミラーを用
いて合成するマルチビーム走査装置において、光路中に
設けられたガルバノミラーの傾き調整及び光源装置の傾
き調整により、光ビームの出射方向を調整することで、
被走査面上のビームスポット位置を調整することが記載
されている。 (4)[特許文献4]特開平10−282531号公報に
記載の「光学偏向器」 電気光学効果を有する電気光学材料(ニオブ酸リチウム
等)の屈折率変化を利用して、レーザビームを偏向する
ことが記載されている。 (5)[特許文献5]特開2000−3110号公報に記
載の「画像形成装置および画像形成装置の制御方法」 光路偏向素子(液晶素子)により被走査面上の走査位置
を調整する発明であり、感光体ドラムの回転むらに起因
する走査線ピッチむらを補正する。また、感光体ドラム
の周速を検知する検知手段を有する。 (6)[特許文献6]特開2000−47214号公報に
記載の「光路可変装置、及びそれを用いた画像形成装
置」 複数の液晶層を構成した光路偏向素子と、それを用いた
画像形成装置に関する発明であり、上記(5)と同様、感
光体ドラムの回転むらに起因する走査線ピッチむらを補
正することを目的とする。
A representative example of the prior art relating to a method for solving this problem is shown below. (1) [Patent Document 1] "Multi-beam scanning optical device" described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-227563 In a multi-beam scanning optical device that combines light beams emitted from a plurality of light sources using a beam combining prism, The beam spot position on the surface to be scanned can be adjusted by adjusting the emission direction of the light beam by shifting the beam combining prism along the optical path and adjusting the tilt in the main scanning section or the sub-scanning section. Have been described. (2) [Patent Document 2] "Light beam scanning device" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-215351 In a light beam scanning device for combining light beams emitted from a plurality of light sources using a beam combining prism, a polygon mirror It is described that the beam spot position on the surface to be scanned is adjusted by adjusting the emission direction of the light beam by shifting the cylindrical lens for forming a line image on the reflecting surface in the sub-scanning direction. ing. (3) [Patent Document 3] "Multi-beam scanning method and multi-beam scanning device" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-189873 A multi-beam scanning device for combining light beams emitted from a plurality of light sources using a half mirror In, by adjusting the inclination of the galvanometer mirror and the inclination of the light source device provided in the optical path, by adjusting the emission direction of the light beam,
It is described that the beam spot position on the surface to be scanned is adjusted. (4) [Patent Document 4] "Optical Deflector" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-282531 A laser beam is deflected by utilizing a change in the refractive index of an electro-optical material (such as lithium niobate) having an electro-optical effect. It is described to do. (5) [Patent Document 5] "Image forming apparatus and method for controlling image forming apparatus" described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-3110. An invention in which a scanning position on a surface to be scanned is adjusted by an optical path deflecting element (liquid crystal element). Yes, the scanning line pitch unevenness due to the uneven rotation of the photosensitive drum is corrected. Further, it has a detection means for detecting the peripheral speed of the photosensitive drum. (6) [Patent Document 6] "Optical path changing device and image forming apparatus using the same" described in Japanese Patent Laid-Open No. 2000-47214, and an optical path deflecting element having a plurality of liquid crystal layers, and image forming using the same. The present invention relates to an apparatus, and an object of the present invention is to correct scanning line pitch unevenness caused by rotation unevenness of a photosensitive drum, as in the above (5).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の(1)〜
(3)等のような既存の発明の多くは、メカ機構を用いて
光ビームの光路を偏向することにより被走査面上のビー
ムスポット配列を調整するものであった。しかしながら
メカ機構を有する調整機構の場合、部品数増加に伴う信
頼性の低下(短寿命化)及びユニットの大型化、バック
ラッシュ等による制御時のヒステリシスの発生、振動/
騒音/熱の発生等、種々の問題が発生する虞れがあっ
た。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention (1)-
In many of the existing inventions such as (3), the beam spot arrangement on the surface to be scanned is adjusted by deflecting the optical path of the light beam using a mechanical mechanism. However, in the case of an adjusting mechanism having a mechanical mechanism, reliability is reduced (shorter life) due to an increase in the number of parts, the unit is enlarged, hysteresis is generated during control due to backlash, vibration /
There is a possibility that various problems such as noise / heat generation may occur.

【0007】また、上記従来技術の(4)等のような電気
光学効果によりプリズムの屈折率変化を利用する方法
や、音響光学素子を用いて回折により光ビームを偏向す
る方法が提案されているが、高い駆動電圧が要求される
ため取り扱いが煩雑であり、また発熱等の問題が発生す
るなど、実用的な方法ではなかった。一方上記従来技術
の(5)及び(6)では、画像形成装置において、感光体ド
ラムの回転むらに起因する走査線ピッチむらを補正(タ
ンデム光走査装置における感光体ドラム間の画像情報の
重ね合わせ精度の向上)するために光路偏向素子として
液晶素子を用いている。
Further, a method of utilizing the change in the refractive index of the prism by the electro-optical effect, such as the above-mentioned prior art (4), and a method of deflecting a light beam by diffraction using an acousto-optic element have been proposed. However, since a high driving voltage is required, the handling is complicated, and problems such as heat generation occur, which is not a practical method. On the other hand, in the above-mentioned prior arts (5) and (6), in the image forming apparatus, the unevenness of the scanning line pitch caused by the uneven rotation of the photosensitive drums is corrected (the superposition of the image information between the photosensitive drums in the tandem optical scanning device). A liquid crystal element is used as an optical path deflecting element in order to improve accuracy.

【0008】本発明は上記事情に鑑みてなされたもので
あり、光源から出射された複数の光ビームで被走査面上
を主走査方向に同時に走査する光走査装置において、被
走査面上でのビームスポット配列(ビームピッチ)の環
境変動または経時によるビームスポット配列の変動を補
正(フィードバック調整)することが可能な光走査装置
を提供することを目的とする。また、本発明は、被走査
面上でのビームスポット配列を調整可能な光走査装置に
おける小型の光源装置を提供することを目的とする。さ
らに本発明は、上記光走査装置を備え、高品質な出力画
像を得られる画像形成装置を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and in an optical scanning device that simultaneously scans a surface to be scanned with a plurality of light beams emitted from a light source in the main scanning direction, the surface of the surface to be scanned is scanned. An object of the present invention is to provide an optical scanning device capable of correcting (feedback adjustment) the environmental change of the beam spot array (beam pitch) or the temporal change of the beam spot array. It is another object of the present invention to provide a small light source device in an optical scanning device capable of adjusting the beam spot arrangement on the surface to be scanned. A further object of the present invention is to provide an image forming apparatus including the above optical scanning device and capable of obtaining a high quality output image.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に係る発明は、被走査面上でのビームスポ
ット配列を調整することが可能な光走査装置を提供する
ものであって、「光源から出射された複数の光ビームで
被走査面上を主走査方向に同時に走査する光走査装置に
おいて、光ビームの光路内に配設された光路偏向手段に
より、被走査面上に走査される少なくとも一つの光ビー
ムの位置を可変すること」を特徴としている。
In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 provides an optical scanning device capable of adjusting a beam spot arrangement on a surface to be scanned. , "In an optical scanning device that simultaneously scans a surface to be scanned in the main scanning direction with a plurality of light beams emitted from a light source, an optical path deflecting unit disposed in the optical path of the light beam scans the surface to be scanned. The position of at least one light beam is changed. "

【0010】請求項2に係る発明は、請求項1記載の光
走査装置において、光路偏向手段の具体例を示すもので
あり、「前記光路偏向手段として、電気信号で制御可能
な液晶素子からなる液晶偏向素子を用い、該液晶偏向素
子により、被走査面上に走査される少なくとも一つの光
ビームの位置を可変すること」を特徴としている。ま
た、請求項3に係る発明は、請求項2記載の光走査装置
において、「前記液晶偏向素子は、光ビームを互いに直
交する2方向に独立に偏向可能であること」を特徴とし
ている。
The invention according to claim 2 shows a specific example of the optical path deflecting means in the optical scanning device according to claim 1, wherein the optical path deflecting means comprises a liquid crystal element controllable by an electric signal. A liquid crystal deflecting element is used, and the position of at least one light beam scanned on the surface to be scanned is changed by the liquid crystal deflecting element. " The invention according to claim 3 is the optical scanning device according to claim 2, wherein "the liquid crystal deflecting element is capable of independently deflecting a light beam in two directions orthogonal to each other".

【0011】請求項4に係る発明は、請求項2記載の光
走査装置において、部品点数の低減及び位置決め精度の
向上を図るものであり、「前記液晶偏向素子は、一つの
素子上に互いに独立に変調可能な有効エリアを複数有す
ること」を特徴としている。また、請求項5に係る発明
は、請求項2記載の光走査装置において、出射される光
ビームのビーム特性を容易に調整することができるよう
にするものであり、「前記光源は、少なくとも、発光点
となる半導体レーザと、該半導体レーザから出射される
レーザ光をカップリングするためのカップリングレンズ
とからなること」を特徴としている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the optical scanning device according to the second aspect, the number of components is reduced and the positioning accuracy is improved. It has a plurality of effective areas that can be modulated. ” According to a fifth aspect of the invention, in the optical scanning device according to the second aspect, it is possible to easily adjust the beam characteristics of the emitted light beam. And a coupling lens for coupling the laser light emitted from the semiconductor laser. ”

【0012】さらに請求項6に係る発明は、請求項2ま
たは4記載の光走査装置において、光源配置の自由度の
拡大を図るものであり、「互いに異なる複数の光源から
出射された光ビームを、ビーム合成手段を用いて合成す
ること」を特徴としている。また、請求項7に係る発明
は、請求項6記載の光走査装置において、ビーム合成手
段の合成誤差を補正するものであり、「前記光源は、少
なくとも、発光点となる半導体レーザと、該半導体レー
ザから出射されるレーザ光をカップリングするためのカ
ップリングレンズとからなり、前記半導体レーザと、そ
れに対応するカップリングレンズの組み付け(位置調整
/固定)に際し、ビーム合成手段の合成誤差を補正して
組み付けられること」を特徴としている。
Further, the invention according to claim 6 is, in the optical scanning device according to claim 2 or 4, intended to expand the degree of freedom of the arrangement of the light sources, and is to say that "light beams emitted from a plurality of different light sources are , Using beam synthesizing means ”. According to a seventh aspect of the present invention, in the optical scanning device according to the sixth aspect, the combining error of the beam combining means is corrected, wherein "the light source is at least a semiconductor laser serving as a light emitting point, and the semiconductor. A coupling lens for coupling laser light emitted from a laser, which corrects a synthesis error of the beam synthesizing means when the semiconductor laser and the corresponding coupling lens are assembled (position adjustment / fixation). It can be assembled as a product.

【0013】請求項8に係る発明は、請求項2記載の光
走査装置において、液晶偏向素子の有効エリアの大きさ
を必要最小限とするものであり、「ビーム整形用の開口
部をもつアパーチャ部材を、光ビームの光路において液
晶偏向素子より上流側(光源側)に配設したこと」を特
徴としている。また、請求項9に係る発明は、請求項8
記載の光走査装置において、開口と液晶偏向素子の有効
エリアの位置決め精度の向上を図るものであり、「ビー
ム整形用の開口を、液晶偏向素子の入射面または出射面
に形成したこと」を特徴としている。
According to an eighth aspect of the present invention, in the optical scanning device according to the second aspect, the size of the effective area of the liquid crystal deflecting element is set to a necessary minimum, and "Aperture having an opening for beam shaping is used. The member is arranged on the upstream side (light source side) of the liquid crystal deflecting element in the optical path of the light beam. " The invention according to claim 9 is the invention according to claim 8.
The optical scanning device described above is intended to improve the positioning accuracy of the aperture and the effective area of the liquid crystal deflecting element, and is characterized in that "the aperture for beam shaping is formed on the incident surface or the emitting surface of the liquid crystal deflecting element". I am trying.

【0014】請求項10に係る発明は、請求項2〜9の
うちの何れか一つに記載の光走査装置であって、光源か
ら出射された複数の光ビームを、被走査面上に同時に光
スポットとして走査する光走査装置において、温度変化
/経時変化に伴うビームスポット配列の劣化の抑制を図
るものであり、「被走査面上を同時に走査される複数の
光スポットの位置を検知する検知手段と、その検知結果
に基づき液晶偏向素子を駆動/制御するための駆動手段
とを有し、少なくとも一つの光スポットの位置を可変す
ること」を特徴としている。
The invention according to claim 10 is the optical scanning device according to any one of claims 2 to 9, wherein a plurality of light beams emitted from a light source are simultaneously emitted onto a surface to be scanned. In an optical scanning device that scans as a light spot, it is intended to suppress deterioration of the beam spot array due to temperature change / time change. Means and a drive means for driving / controlling the liquid crystal deflecting element based on the detection result, and the position of at least one light spot is variable. ”

【0015】請求項11に係る発明は、被走査面でのビ
ームスポット配列を調整可能な光走査装置における小型
の光源装置を提供するものであり、「請求項1記載の光
走査装置に用いられ、複数の光ビームを出射する光源装
置であって、複数の光源から出射される光ビームに対応
して、各光ビームを独立に偏向するための複数の光路偏
向手段を具備し、前記複数の光路偏向手段は一体構造と
なっていること」を特徴としている。
The invention according to claim 11 provides a small light source device in an optical scanning device capable of adjusting a beam spot arrangement on a surface to be scanned, and is used in the optical scanning device according to claim 1. A light source device for emitting a plurality of light beams, comprising a plurality of optical path deflecting means for independently deflecting the respective light beams corresponding to the light beams emitted from the plurality of light sources. The optical path deflecting means has an integrated structure. "

【0016】請求項12に係る発明は、請求項11記載
の光源装置において、走査光学系の特性に適合したビー
ムスポット位置調整の感度を獲得するものであり、「前
記光路偏向手段は、光路中に配設された透過型光学素子
であること」を特徴としている。また、請求項13に係
る発明は、請求項11記載の光源装置において、走査光
学系の特性に適合したビームスポット位置調整の感度を
獲得するものであり、「前記光路偏向手段は、光路中に
配設された反射型光学素子であることを特徴としてい
る。
According to a twelfth aspect of the present invention, in the light source device according to the eleventh aspect, the sensitivity of beam spot position adjustment adapted to the characteristics of the scanning optical system is obtained. It is a transmissive optical element disposed in. According to a thirteenth aspect of the present invention, in the light source device according to the eleventh aspect, the sensitivity of beam spot position adjustment adapted to the characteristics of the scanning optical system is obtained. It is characterized in that it is a reflection type optical element provided.

【0017】請求項14に係る発明は、請求項12また
は13記載の光源装置において、高分解能な(微調整可
能な)調整機構を実現するものであり、「前記透過型光
学素子または反射型光学素子は、圧電素子を用いた駆動
手段により駆動されること」を特徴としている。また、
請求項15に係る発明は、請求項12または13記載の
光源装置において、入力信号に対し、確実に所望の出力
(光学素子の変位または各変位)を達成するものであ
り、「前記透過型光学素子または反射型光学素子は、入
力パルス信号により所定の角度だけ回転するパルスモー
タ、または入力パルス信号により所定の距離だけ直進す
るパルスモータを用いた駆動手段により、駆動されるこ
と」を特徴としている。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in the light source device according to the twelfth or thirteenth aspect, a high resolution (finely adjustable) adjusting mechanism is realized. The element is driven by driving means using a piezoelectric element. " Also,
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the light source device according to the twelfth or thirteenth aspect, a desired output (displacement of the optical element or each displacement) is reliably achieved with respect to the input signal. The element or the reflection-type optical element is driven by a driving means using a pulse motor that rotates a predetermined angle by an input pulse signal or a pulse motor that moves straight by a predetermined distance by an input pulse signal. " .

【0018】請求項16に係る発明は、請求項11記載
の光源装置において、可動部なく、また低消費電力にて
ビームスポット位置調整可能な光源装置を提供するもの
であり、「前記光路偏向手段は電気信号にて駆動される
液晶素子(液晶偏向素子)であること」を特徴としてい
る。また、請求項17に係る発明は、請求項11〜16
のうちの何れか一つに記載の光源装置において、ビーム
スポット配列の初期調整の容易化を図るものであり、
「複数の光源を主走査方向に一列に配列し、これらを一
体的に保持する第一の光源部と、前記第一の光源部と同
様に構成した第二の光源部と、前記第一の光源部と第二
の光源部から出射される光ビームを近接して出射するビ
ーム合成手段と、から構成されること」を特徴としてい
る。
According to a sixteenth aspect of the present invention, in the light source device according to the eleventh aspect, there is provided a light source device capable of adjusting the beam spot position without moving parts and with low power consumption. Is a liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) driven by an electric signal. ” Further, the invention according to claim 17 is,
In the light source device according to any one of the above, for facilitating initial adjustment of the beam spot array,
"A plurality of light sources are arranged in a line in the main scanning direction, a first light source unit that integrally holds these, a second light source unit configured similarly to the first light source unit, and the first And a beam synthesizing means for closely emitting the light beams emitted from the second light source portion. ”

【0019】請求項18に係る発明は、請求項11〜1
7のうちの何れか一つに記載の光源装置において、光源
から出射される光ビームのビーム特性(コリメート率、
光軸方向)の調整の容易化を図るものであり、「前記複
数の光源は、複数の半導体レーザとそれに対応するカッ
プリングレンズとから構成されること」を特徴としてい
る。また、請求項19に係る発明は、請求項11〜18
のうちの何れか一つに記載の光源装置において、光路偏
向手段における有効エリアの狭範囲化を図るものであ
り、「光ビーム整形用の開口をもつアパーチャ部材を、
前記光路偏向手段より上流側(光源側)に具備したこ
と」を特徴としている。
The invention of claim 18 relates to claims 11 to 1.
In the light source device according to any one of 7, the beam characteristics (collimation rate,
This is for facilitating adjustment in the optical axis direction) and is characterized in that "the plurality of light sources are composed of a plurality of semiconductor lasers and coupling lenses corresponding thereto". Further, the invention according to claim 19 is,
In the light source device according to any one of the above, it is intended to narrow the effective area in the optical path deflecting means, and "Aperture member having an opening for light beam shaping,
It is provided on the upstream side (light source side) of the optical path deflecting means ”.

【0020】請求項20に係る発明は、請求項11〜1
9のうちの何れか一つに記載の光源装置を具備し、光源
から出射された複数の光ビームを被走査面上に光スポッ
トとして走査する光走査装置において、温度変化/経時
変化に伴うビームスポット配列の劣化の抑制を図るもの
であり、「前記被走査面上における複数の光スポットの
配列を検知する検知手段と、その検知結果に基づき光路
偏向手段を駆動/制御するための駆動手段とを有するこ
と」を特徴としている。また、請求項21に係る発明
は、請求項20記載の光走査装置であって、光源から出
射された複数の光ビームを、偏向器により偏向反射し、
走査結像光学系により被走査面上に光スポットとして走
査する光走査装置において、変調開始タイミングを設定
するための同期信号を、各光ビームに対して独立に検出
するものであり、「前記偏向器に入射する複数の光ビー
ム(の主光線)は、主走査断面にて互いに平行ではない
こと」を特徴としている。
The invention of claim 20 relates to claims 11 to 1.
9. A light scanning device comprising the light source device according to any one of 9 to scan a plurality of light beams emitted from a light source as a light spot on a surface to be scanned, the beam according to temperature change / time change. In order to suppress the deterioration of the spot arrangement, "a detecting means for detecting the arrangement of a plurality of light spots on the surface to be scanned, and a driving means for driving / controlling the optical path deflecting means based on the detection result. It is characterized by having. The invention according to claim 21 is the optical scanning device according to claim 20, wherein a plurality of light beams emitted from the light source are deflected and reflected by a deflector,
In an optical scanning device that scans a surface to be scanned as a light spot by a scanning imaging optical system, a synchronization signal for setting a modulation start timing is detected independently for each light beam. The plurality of light beams (the chief rays of the light beams) incident on the vessel are not parallel to each other in the main scanning section. "

【0021】請求項22に係る発明は、請求項1記載の
光走査装置であって、被走査面のビームスポット位置調
整可能な光走査装置を提供するものであり、「複数の光
源手段からなる光源装置と、前記光源装置から出射され
た複数の光ビームを合成するビーム合成手段と、前記ビ
ーム合成手段にて合成された複数の光ビームを偏向する
偏向器と、前記偏向器により偏向された複数の光ビーム
を被走査面上に導く走査手段とからなる光走査装置にお
いて、前記被走査面上の光ビームの位置を制御するため
に、該光ビームの光路を偏向する光路偏向手段を、光源
手段とビーム合成手段の間に備えたこと」を特徴として
いる。また請求項23に係る発明は、請求項22記載の
光走査装置において、「前記光路偏向手段は、透過型光
学素子を偏心させて備えること」を特徴としている。
The invention according to claim 22 is the optical scanning device according to claim 1, which provides an optical scanning device capable of adjusting a beam spot position on a surface to be scanned, which comprises "a plurality of light source means. A light source device, a beam combining means for combining a plurality of light beams emitted from the light source device, a deflector for deflecting the plurality of light beams combined by the beam combining means, and a deflector deflected by the deflector. In an optical scanning device including a scanning unit that guides a plurality of light beams onto a surface to be scanned, an optical path deflecting unit that deflects an optical path of the light beams in order to control the position of the light beam on the surface to be scanned, It is provided between the light source means and the beam combining means. " According to a twenty-third aspect of the present invention, in the optical scanning device of the twenty-second aspect, "the optical path deflecting means is provided with a transmissive optical element eccentrically provided".

【0022】ところで、請求項22に係る光走査装置に
おいては、光路偏向手段として液晶素子を用いて光路偏
向することにより、被走査面上のビームスポット位置の
調整(補正)を容易に実現することができる。また、温
度変化などによる経時的ビームスポット位置変動も補正
することが可能である。さらに、光量ロスが少ない、低
駆動電力可能等の利点がある。
By the way, in the optical scanning device according to the twenty-second aspect, the liquid crystal element is used as the optical path deflecting means to perform optical path deflection, so that adjustment (correction) of the beam spot position on the surface to be scanned can be easily realized. You can Further, it is possible to correct a temporal change in beam spot position due to a temperature change or the like. Furthermore, there are advantages such as low loss of light quantity and low driving power.

【0023】その反面、液晶素子は一般に回折によるゴ
ースト光を発生しやすい不具合点がある。ここで液晶素
子は、大きく分けて以下の2方式に大別できる。 (1)複数の電極に印加電圧を加えることにより屈折率分
布を発生させ、プリズム効果により入射光を偏向させる
方式。 (2)複数の電極に印加電圧を加えることにより回折格子
として機能する縞パターンを生成し、回折効果により入
射光を偏向させる方式。
On the other hand, liquid crystal elements generally have a drawback that ghost light is likely to be generated due to diffraction. Here, the liquid crystal element can be roughly classified into the following two types. (1) A method in which an applied voltage is applied to a plurality of electrodes to generate a refractive index distribution and the incident light is deflected by a prism effect. (2) A method in which a stripe pattern that functions as a diffraction grating is generated by applying an applied voltage to a plurality of electrodes, and incident light is deflected by the diffraction effect.

【0024】いずれの場合も、複数の電極は、ほぼ等間
隔に並んだ電極パターンを形成するため、電極ピッチに
相当する回折光を一般に発生する。電極により発生する
回折光のうち0次光が書込データとして偏向されるが、
±1次光、±2次光、±3次光・・・は不要なゴースト
光である。こうしたゴースト光が被走査面に達した場
合、画像上にもゴースト画像が発生し、画像劣化を招く
虞があった。
In any case, since the plurality of electrodes form an electrode pattern arranged at substantially equal intervals, diffracted light corresponding to the electrode pitch is generally generated. Of the diffracted light generated by the electrodes, the 0th-order light is deflected as write data,
± 1st order light, ± 2nd order light, ± 3rd order light, etc. are unnecessary ghost lights. When such ghost light reaches the surface to be scanned, a ghost image may be generated on the image, which may cause image deterioration.

【0025】そこで、請求項24に係る発明は、光路偏
向手段に液晶素子を用いた場合に液晶素子にて発生する
ゴースト光を除去するものであり、「請求項22記載の
光走査装置において、前記光路偏向手段は、電気信号に
て制御可能な液晶素子(液晶偏向素子)であり、該液晶
素子にて発生するゴースト光を除去するゴースト光除去
手段(スリット開口)を、液晶素子と偏向器の間に備え
たこと」を特徴としている。また、請求項25に係る発
明は、請求項24記載の光走査装置において、ゴースト
光の除去を効果的に行うものであり、「前記光路偏向手
段より上流側(光源手段側)の光路内に光ビーム整形用
の開口絞り(アパーチャ)を備え、下記の関係式を満足
すること」を特徴としている。 L>(1/2)×tanθ×(b+Δ) {b:液晶素子により偏向される光ビームの全幅(径) Δ:スリット開口の全幅 L:液晶素子とスリット開口との距離 2θ:液晶素子で発生するゴースト光の、+1次光と−
1次光の間の角度}
Therefore, the invention according to claim 24 is to eliminate the ghost light generated in the liquid crystal element when the liquid crystal element is used for the optical path deflecting means. "In the optical scanning device according to claim 22, The optical path deflecting means is a liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) that can be controlled by an electric signal, and a ghost light removing means (slit aperture) for removing ghost light generated in the liquid crystal element is provided with a liquid crystal element and a deflector. "Prepared in between". According to a twenty-fifth aspect of the invention, in the optical scanning device according to the twenty-fourth aspect, the ghost light is effectively removed, and "in the optical path on the upstream side (light source means side) of the optical path deflecting means". It is equipped with an aperture stop (aperture) for shaping a light beam, and satisfies the following relational expression ”. L> (1/2) × tan θ × (b + Δ) {b: Total width (diameter) of light beam deflected by liquid crystal element Δ: Total width of slit opening L: Distance between liquid crystal element and slit opening 2θ: In liquid crystal element Of the ghost light generated, + 1st-order light and −
Angle between primary lights}

【0026】さらに請求項26に係る発明は、光源手段
(半導体レーザ等)の劣化時の部品交換を容易にするも
のであり、「請求項22〜25のうちの何れか一つに記
載の光走査装置を光学ハウジングに収納した構成の光走
査装置であって、前記光源装置は光学ハウジングの側壁
に固定または保持され、前記光路偏向手段及びビーム合
成手段は光学ハウジング内部の共通の保持部に固定また
は保持されること」を特徴としている。
Further, the invention according to claim 26 facilitates the replacement of parts when the light source means (semiconductor laser or the like) is deteriorated, and "the light according to any one of claims 22 to 25 is provided. An optical scanning device having a scanning device housed in an optical housing, wherein the light source device is fixed or held on a side wall of the optical housing, and the optical path deflecting means and the beam synthesizing means are fixed on a common holding portion inside the optical housing. Or be retained ”.

【0027】次に請求項27に係る発明は、作像速度の
高速化、高密度化、高品位化、及び環境負荷低減を図る
ことができ、高品質な出力画像を得られる画像形成装置
を提供するものであり、「請求項1〜10,20〜26
のうちの何れか一つに記載の光走査装置を具備し、該光
走査装置によって静電潜像が形成される感光手段と、静
電潜像をトナーで顕像化する現像手段と、顕像化された
トナー像を記録媒体に転写する転写手段とを有するこ
と」を特徴としている。
Next, the invention according to claim 27 provides an image forming apparatus capable of achieving high speed image forming speed, high density, high quality, and reduction of environmental load, and capable of obtaining a high quality output image. What is provided is "Claims 1-10, 20-26.
And a developing means for developing an electrostatic latent image with toner, and a developing means for developing the electrostatic latent image with toner. And a transfer unit that transfers the imaged toner image to a recording medium ”.

【0028】請求項28に係る発明は、作像速度の高速
化、高密度化、高品位化、及び環境負荷低減を図ること
ができ、高品質な出力画像を得られる画像形成装置を提
供するものであり、「請求項27記載の画像形成装置に
おいて、前記記録媒体上の出力画像に基づきオペレータ
が光路偏向素子を駆動/制御すること」を特徴としてい
る。
The invention according to claim 28 provides an image forming apparatus capable of achieving high-speed image forming speed, high density, high quality, and reduction of environmental load, and capable of obtaining a high quality output image. The image forming apparatus according to claim 27 is characterized in that the operator drives / controls the optical path deflecting element based on the output image on the recording medium.

【0029】請求項29に係る発明は、タンデム方式対
応の画像形成装置を提供するものであり、「請求項27
または28記載の画像形成装置において、被走査面とな
る感光手段を複数有すること」を特徴としている。ま
た、請求項30に係る発明は、分割走査方式対応の画像
形成装置を提供するものであり、「請求項27または2
8記載の画像形成装置において、前記光走査装置を複数
備え、一つの感光手段に対して、複数の光走査装置を主
走査方向に直列に配置したこと」を特徴としている。さ
らに請求項31に係る発明は、「請求項27〜30のう
ちの何れか一つに記載の画像形成装置において、画素密
度を切り替え可能であること」を特徴としている。
The invention according to claim 29 is to provide an image forming apparatus compatible with the tandem system.
Alternatively, the image forming apparatus described in Item 28 has a plurality of photosensitive means serving as a surface to be scanned ”. The invention according to claim 30 provides an image forming apparatus compatible with a divided scanning method.
8. The image forming apparatus according to item 8, wherein a plurality of the optical scanning devices are provided, and the plurality of optical scanning devices are arranged in series in the main scanning direction with respect to one photosensitive unit. ” Furthermore, the invention according to claim 31 is characterized in that "in the image forming apparatus according to any one of claims 27 to 30, the pixel density can be switched."

【0030】[0030]

【発明の実施の形態】[実施形態1]まず本発明の第一
の実施形態として、請求項1〜10に係る発明の構成、
動作及び作用を図示の実施例に基づいて詳細に説明す
る。尚、以下の実施例の説明においては、X方向を光路
(光軸)に沿った方向、Y方向を主走査(対応)方向、
Z方向を副走査(対応)方向とする。また、通常「主走
査方向」及び「副走査方向」とは、被走査面でビームス
ポットが走査される方向とその直交方向を意味するが、
本実施形態では、光路の各場所で、(被走査面の)主走
査方向と副走査方向に対応する方向を(広い意味で)各
々「主走査方向」、「副走査方向」と呼んでいる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS [Embodiment 1] First, as the first embodiment of the present invention, the configuration of the invention according to claims 1 to 10,
The operation and action will be described in detail based on the illustrated embodiment. In the following description of the embodiments, the X direction is along the optical path (optical axis), the Y direction is the main scanning (corresponding) direction,
The Z direction is the sub-scanning (corresponding) direction. Further, the "main scanning direction" and "sub-scanning direction" usually mean the direction in which the beam spot is scanned on the surface to be scanned and the direction orthogonal thereto,
In the present embodiment, the directions corresponding to the main scanning direction (of the surface to be scanned) and the sub-scanning direction (in a broad sense) at each position of the optical path are called the “main scanning direction” and the “sub-scanning direction”, respectively. .

【0031】(実施例1−1)図1は本発明の一実施例
を示す図であって、光走査装置の光学的配置を示す斜視
図である。図1において、「光源装置18」は少なくと
も「2組の半導体レーザ11a,11bとカップリング
レンズ12a,12b」から構成されているが、このよ
うな構成に限定されるわけではない。また、上記半導体
レーザ11a,11bは唯一の発光点を有するシングル
ビーム半導体レーザでも良いし、複数の発光点を有する
マルチビーム半導体レーザ(半導体レーザアレイ)でも
構わない。上記半導体レーザ11a,11bを出射した
レーザ光は、カップリングレンズ12a,12bにより
カップリングされ、2本の光ビーム(レーザビーム)2
1a,21bとなる。
(Embodiment 1-1) FIG. 1 is a view showing an embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of an optical scanning device. In FIG. 1, the “light source device 18” is composed of at least “two sets of semiconductor lasers 11a and 11b and coupling lenses 12a and 12b”, but it is not limited to such a structure. The semiconductor lasers 11a and 11b may be single beam semiconductor lasers having a single light emitting point or multi-beam semiconductor lasers (semiconductor laser array) having a plurality of light emitting points. Laser light emitted from the semiconductor lasers 11a and 11b is coupled by coupling lenses 12a and 12b, and two light beams (laser beams) 2
1a and 21b.

【0032】光源装置18を出射した2本の光ビーム2
1a,21bはシリンドリカルレンズ13の作用により
偏向器であるポリゴンミラー14の偏向反射面上に(副
走査方向に結像し、主走査方向に長い)線像として結像
された後、2枚の走査レンズ15a,15bと折り返し
ミラー15cで構成された走査光学系15により、被走
査面(例えば感光体ドラム)16上をビームスポットと
して走査される。尚、このような、光源装置18から出
射された複数の光ビームを被走査面16上にビームスポ
ットとして走査する装置20を「光走査装置(またはマ
ルチビーム走査装置)」と呼ぶことにする。
Two light beams 2 emitted from the light source device 18
1a and 21b are imaged as line images (imaged in the sub-scanning direction and long in the main scanning direction) on the deflective reflection surface of the polygon mirror 14 which is a deflector by the action of the cylindrical lens 13, and then two sheets are formed. A scanning optical system 15 including scanning lenses 15a and 15b and a folding mirror 15c scans a surface to be scanned (for example, a photosensitive drum) 16 as a beam spot. The device 20 that scans the plurality of light beams emitted from the light source device 18 as a beam spot on the surface 16 to be scanned will be referred to as an "optical scanning device (or a multi-beam scanning device)".

【0033】この光走査装置20を画像形成装置の光書
込装置として利用する場合、光ビームは出力画像データ
に対応して変調されるが、その変調開始タイミングのた
めの電気信号(同期信号)は、同期検知板19に光ビー
ムが入射することにより得られる。ここで、図2に主走
査断面(光軸と主走査方向に平行な断面)における光学
的配置と光路を示すが、2本の光ビーム21a,21b
は、ポリゴンミラー14の偏向反射面の近傍にて「角度
θ」で交差する構成となっている。これにより2ビーム
間の光学特性(像面湾曲、倍率誤差等)の偏差の発生を
抑制することが可能となる。
When this optical scanning device 20 is used as an optical writing device of an image forming apparatus, a light beam is modulated in accordance with output image data, and an electric signal (synchronization signal) for the modulation start timing Is obtained when the light beam is incident on the synchronization detection plate 19. Here, FIG. 2 shows an optical arrangement and an optical path in the main scanning section (section parallel to the optical axis and the main scanning direction).
In the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the polygon mirror 14 intersect at "angle θ". This makes it possible to suppress the occurrence of deviations in optical characteristics (field curvature, magnification error, etc.) between the two beams.

【0034】また、図3に示すように、被走査面16上
では2本の光ビーム21a,21bによる2つのビーム
スポットBS1,BS2は、主走査方向に所定の間隔
(ビームピッチ:PY)で配列されるが、その走査密度
に応じ、副走査方向に所定の間隔(ビームピッチ:P
Z)を維持することが要求される。このビームピッチを
設定するには、図4に示すように、半導体レーザ11
a,11bから出射される2本の光ビーム21a,21
bのなす角度(副走査断面へ射影した2本の光ビームの
出射角度)φを設定すればよい。
Further, as shown in FIG. 3, the two beam spots BS1 and BS2 formed by the two light beams 21a and 21b on the surface 16 to be scanned have a predetermined interval (beam pitch: PY) in the main scanning direction. They are arranged, but depending on the scanning density, a predetermined interval (beam pitch: P
Z) is required to be maintained. To set this beam pitch, as shown in FIG.
Two light beams 21a and 21 emitted from a and 11b
The angle formed by b (the emission angle of the two light beams projected on the sub-scan section) φ may be set.

【0035】図1において、カップリングレンズ12
a,12bとシリンドリカルレンズ13の間の光路内に
は光路偏向手段として2つの液晶素子28a,28bか
らなる液晶偏向素子28が配設されており、2本の光ビ
ーム21a,21bの光路内に配設された液晶偏向素子
28の液晶素子28a,28bを電気信号にて駆動/制
御(変調)することで、2本の光ビーム21a,21b
の光軸(光ビームの方向)を各々独立に偏向することが
できる。これにより上記角度φを所望の値に設定するこ
とが可能となる(請求項1,2)。尚、光ビームの偏向
は、2本の光ビーム21a,21bの両方に対し行って
も良いし、一方の光ビームに対しのみ行っても構わな
い。
In FIG. 1, the coupling lens 12
In the optical path between the a and 12b and the cylindrical lens 13, a liquid crystal deflecting element 28 including two liquid crystal elements 28a and 28b is disposed as an optical path deflecting means, and in the optical paths of the two light beams 21a and 21b. By driving / controlling (modulating) the liquid crystal elements 28a and 28b of the arranged liquid crystal deflecting element 28 with electric signals, two light beams 21a and 21b are provided.
The optical axis (direction of the light beam) can be independently deflected. This makes it possible to set the angle φ to a desired value (claims 1 and 2). The deflection of the light beam may be performed on both of the two light beams 21a and 21b, or may be performed on only one of the light beams.

【0036】従来は光ビームの光路を偏向する光路偏向
手段として、 機械的な方法(光路内に配設されたミラー、プリズム
等を可動する)、 電気光学素子を利用する方式(電気光学素子材料によ
るプリズムの屈折率変化を利用し、光路を偏向する)、 音響光学素子を利用する方式(超音波により圧電体内
に回折格子を発生させ、光路を偏向する)、 などのような光路偏向手段が提案、実用化されてきた
が、いずれの方式も装置が大型化する、振動、騒音、熱
が発生する、低電圧駆動が困難、などの理由による不具
合があった。
Conventionally, as an optical path deflecting means for deflecting the optical path of a light beam, a mechanical method (moving a mirror, a prism, etc. arranged in the optical path), a method using an electro-optical element (electro-optical element material) The optical path is deflected using the change in the refractive index of the prism), the method that uses an acousto-optic element (a diffraction grating is generated in the piezoelectric body by ultrasonic waves to deflect the optical path), etc. Although they have been proposed and put into practical use, all of them have problems due to the reasons such as an increase in size of the device, generation of vibration, noise, heat, and difficulty in low voltage driving.

【0037】しかし、光ビームを偏向する光路偏向手段
として、本実施例のような液晶偏向素子28を使用する
ことにより、装置の小型化、振動等の発生の抑制、低電
圧駆動が可能となる。
However, by using the liquid crystal deflecting element 28 of this embodiment as the optical path deflecting means for deflecting the light beam, it becomes possible to downsize the device, suppress the occurrence of vibration, etc., and drive it at a low voltage. .

【0038】ここで、図5(a),(b)に液晶偏向素
子28の構成及び動作の一例を示す。図5(a)におい
て、液晶偏向素子28を構成する液晶素子は、透明電極
28−2と配向膜28−3が形成された2枚の透明なガ
ラス基板28−1と、スペーサ28−4、及び液晶28
−5で構成され、2枚のガラス基板28−1を、配向膜
28−3が対向するようにスペーサ28−4を挟んで配
置し、2枚のガラス基板28−1の間の空間に液晶28
−5を充填したものである。この液晶素子の透明電極2
8−2に駆動制御系28−6を接続し、駆動電圧として
矩形波または正弦波を入力することにより、図5(b)
に示すように、光ビームを偏向することができる。ま
た、上記矩形波または正弦波の幅(デューティ)または
振幅を可変することにより、偏向角の調整が可能とな
る。
Here, FIGS. 5A and 5B show an example of the configuration and operation of the liquid crystal deflecting element 28. In FIG. 5A, the liquid crystal element that constitutes the liquid crystal deflecting element 28 includes two transparent glass substrates 28-1 on which a transparent electrode 28-2 and an alignment film 28-3 are formed, a spacer 28-4, And liquid crystal 28
-5, two glass substrates 28-1 are arranged with a spacer 28-4 sandwiched so that the alignment films 28-3 face each other, and a liquid crystal is placed in the space between the two glass substrates 28-1. 28
-5 is filled. Transparent electrode 2 of this liquid crystal element
By connecting a drive control system 28-6 to 8-2 and inputting a rectangular wave or a sine wave as a drive voltage, the drive control system 28-6 shown in FIG.
The light beam can be deflected, as shown in. Further, the deflection angle can be adjusted by changing the width (duty) or the amplitude of the rectangular wave or the sine wave.

【0039】尚、感光体ドラムの回転むら等に対応させ
るため、光ビーム偏向の応答速度を高めたい場合には、
液晶偏向素子28に複数の液晶層にて構成された液晶素
子を用いるとよく、応答速度を上記ほど高める必要がな
い場合には、液晶層は単層でも構わない。
If it is desired to increase the response speed of light beam deflection in order to deal with uneven rotation of the photosensitive drum,
A liquid crystal element composed of a plurality of liquid crystal layers may be used as the liquid crystal deflecting element 28, and the liquid crystal layer may be a single layer if the response speed does not need to be increased as much as above.

【0040】一方、被走査面16でのビームスポットの
主走査方向の間隔:PYは、走査光学系の主走査方向の
焦点距離をFYとすると、 PY=FY×θ で与えられる。従って液晶偏向素子28を用いて2本の
光ビームの両方あるいはいずれか一方を偏向し、2本の
光ビームのなす角度を「主走査断面内にて角度Δθ」だ
け変化させることにより、上式の「角度θ」を「θ+Δ
θ」とすることができる。これにより主走査方向の間
隔:PYも所望の値に設定することが可能となる。すな
わち、少なくとも一方の光ビームを2方向(主走査方向
及び副走査方向)に独立に偏向することにより、被走査
面16でのビームスポット配列を任意に設定(調整)す
ることが可能となる(請求項3)。この場合、液晶偏向
素子28は、一体でも良いし、二体化(2枚を重ね合わ
せる)しても構わない。
On the other hand, the interval PY between the beam spots in the main scanning direction on the surface 16 to be scanned is given by PY = FY × θ, where FY is the focal length of the scanning optical system in the main scanning direction. Therefore, the liquid crystal deflecting element 28 is used to deflect both or one of the two light beams, and the angle formed by the two light beams is changed by "the angle Δθ in the main scanning cross section". “Angle θ” of “θ + Δ
θ ”. This makes it possible to set the interval PY in the main scanning direction to a desired value. That is, by independently deflecting at least one of the light beams in two directions (main scanning direction and sub-scanning direction), it becomes possible to arbitrarily set (adjust) the beam spot arrangement on the scanned surface 16. Claim 3). In this case, the liquid crystal deflecting element 28 may be integrated or may be integrated (two pieces are stacked).

【0041】図1においては、液晶偏向素子28を構成
する液晶素子28a,28bは、2本の光ビームに対し
て個別に設けられている。それに対して、後述の図6に
示すように単一の液晶素子からなる液晶偏向素子28を
複数の(図6の場合2つの)領域(有効エリア)に分割
し、各有効エリアを互いに独立に変調可能とすることが
できる(請求項4)。これにより、部品点数の低減、位
置決め精度の向上を図ることができ、また電気信号を入
力するための配線も簡略化可能となる。
In FIG. 1, the liquid crystal elements 28a and 28b constituting the liquid crystal deflecting element 28 are individually provided for the two light beams. On the other hand, as shown in FIG. 6 described later, the liquid crystal deflecting element 28 formed of a single liquid crystal element is divided into a plurality of (two in the case of FIG. 6) regions (effective areas), and each effective area is independent of each other. It can be modifiable (claim 4). As a result, the number of parts can be reduced, the positioning accuracy can be improved, and the wiring for inputting an electrical signal can be simplified.

【0042】尚、ここで、本発明に適用できる「液晶偏
向素子」の構成、動作の例について説明を補足してお
く。液晶偏向素子は、電気的な信号で駆動されるもの
と、磁気的な信号で駆動されるものとが知られている
が、以下では、電気的な信号で駆動されるものを例にと
って説明する。電気的な信号による駆動で光束を偏向さ
せる液晶偏向素子は、大別すると、電気信号により「屈
折率を変化させる」ものと、電気信号により「回折作用
を起こさせる」ものとの2種に分けられる。
Here, a supplementary description will be given of an example of the configuration and operation of the "liquid crystal deflecting element" applicable to the present invention. It is known that the liquid crystal deflecting element is driven by an electric signal and the liquid crystal deflecting element is driven by a magnetic signal, but in the following description, an example of driving by an electric signal will be described. . The liquid crystal deflecting element that deflects a light beam by driving with an electric signal is roughly classified into two types: one that “changes the refractive index” by an electric signal and one that “causes a diffractive action” by an electric signal. To be

【0043】まず、屈折率の変化を利用する液晶偏向素
子につき説明すると、この種のものは、例えば、[特許
文献7]特開昭63−240533号公報に記載されて
いる。1例を示すと図32の如くである。図32(b)
において、液晶1は「誘電異方性が正のネマチック液
晶」で、スペーサ3により所定間隙に保たれた1対の透
明配向膜2A、2B間に薄層状に密封されている。符号
1Aで示す液晶分子は「分子軸方向に長い形状」であ
る。配向膜2Aは、液晶分子1Aの分子軸が配向膜表面
に対して直交方向となるように配向処理され、配向膜2
Bは、液晶分子1Aの分子軸が配向膜表面に対して平行
方向となるように配向処理されている。
First, a liquid crystal deflecting element utilizing the change in refractive index will be described. This type is described in, for example, [Patent Document 7] Japanese Patent Laid-Open No. 63-240533. FIG. 32 shows an example. FIG. 32 (b)
In the above, the liquid crystal 1 is a “nematic liquid crystal having a positive dielectric anisotropy”, and is sealed in a thin layer between the pair of transparent alignment films 2A and 2B held by the spacer 3 in a predetermined gap. The liquid crystal molecules indicated by reference numeral 1A have a "long shape in the molecular axis direction". The alignment film 2A is subjected to alignment treatment so that the molecular axes of the liquid crystal molecules 1A are orthogonal to the alignment film surface.
In B, the alignment treatment is performed so that the molecular axis of the liquid crystal molecule 1A is parallel to the alignment film surface.

【0044】配向膜2Aの外側にはZnO等による透明
な電気抵抗膜4が形成されている。透明な電気抵抗膜
4、配向膜2A、2Bおよび液晶1は、図32(b)に
示す如く1対の透明なガラス基板5A、5Bにより挟持
されている。ガラス基板5Bの配向膜2B側の面にはI
TO等による透明な電極膜6が一面に形成されている。
一方、ガラス基板5Aの配向膜2A側の面には、図32
(a)に示すようなパターンの電極7A、7Bが形成さ
れ、これら電極7A、7Bは(b)に示す如く、電気抵
抗膜4に接している。電極7A、7Bは、これらが「光
束の透過領域にかかる場合」にはITO等により透明電
極として形成されるが、電極7A、7Bが光束の透過領
域にかからなければ(電極7A、7Bが光束を遮らなけ
れば)金属薄膜等により不透明な電極として形成するこ
ともできる。図32の例では、電極7A、7Bは透明電
極として形成されている。
A transparent electric resistance film 4 made of ZnO or the like is formed outside the alignment film 2A. The transparent electric resistance film 4, the alignment films 2A and 2B, and the liquid crystal 1 are sandwiched by a pair of transparent glass substrates 5A and 5B as shown in FIG. 32 (b). I is formed on the surface of the glass substrate 5B on the side of the alignment film 2B.
A transparent electrode film 6 made of TO or the like is formed on one surface.
On the other hand, as shown in FIG.
Electrodes 7A and 7B having a pattern as shown in (a) are formed, and these electrodes 7A and 7B are in contact with the electric resistance film 4 as shown in (b). The electrodes 7A, 7B are formed as transparent electrodes made of ITO or the like when "they are in the light flux transmission area", but the electrodes 7A, 7B are not in the light flux transmission area (the electrodes 7A, 7B are It is also possible to form an opaque electrode by using a metal thin film or the like (if the light flux is not blocked). In the example of FIG. 32, the electrodes 7A and 7B are formed as transparent electrodes.

【0045】図32(b)の状態において、電極膜6と
電極7Bを接地し、図32(a)に示す電極7A、7B
の端子A、B間に電圧:Vを印加すると、電気抵抗膜4
の電位は、電極7Aの側から電極7Bの側へ直線的に低
下する。このため、電気抵抗膜4と透明な電極膜6との
間には「図32(b)の上方から下方へ向て直線的に減
少する電界(向きは図の左右方向を向いている)」が作
用する。この電界は液晶1に作用し、液晶分子1Aを
「その分子軸が電界に平行になるよう」に回転させる。
液晶分子1Aの回転角は「電界の強さに直線的に比例」
するので、上記電界が作用すると、電極7Aの側では液
晶分子1Aの分子軸は電界の方向(図の左右方向)によ
り近くなるが、電極7Bの側では電界が実質的に0であ
るので、液晶分子1Aの分子軸は殆ど電極膜6に平行の
ままである。
In the state of FIG. 32B, the electrode film 6 and the electrode 7B are grounded, and the electrodes 7A and 7B shown in FIG.
When a voltage V is applied between the terminals A and B of the electric resistance film 4
Potential linearly decreases from the electrode 7A side to the electrode 7B side. Therefore, between the electric resistance film 4 and the transparent electrode film 6, "the electric field linearly decreasing from the upper side to the lower side in FIG. 32 (b) (the direction is the left-right direction in the figure)". Works. This electric field acts on the liquid crystal 1 to rotate the liquid crystal molecule 1A "in such a manner that its molecular axis is parallel to the electric field".
The rotation angle of the liquid crystal molecule 1A is "linearly proportional to the strength of the electric field."
Therefore, when the electric field acts, the molecular axis of the liquid crystal molecule 1A is closer to the direction of the electric field (left and right direction in the figure) on the electrode 7A side, but the electric field is substantially 0 on the electrode 7B side. The molecular axis of the liquid crystal molecule 1A remains almost parallel to the electrode film 6.

【0046】液晶分子1Aの誘電率は、分子軸に平行な
方向において大きく、分子軸に直交する方向において小
さい。このため、屈折率は分子軸に平行な方向において
より大きくなる。上記電界の作用により、上述の如き
「液晶分子1Aの分子軸の向きの分布」が生じると、液
晶1における「屈折率」は、分子軸が電界に略平行とな
る電極7Aの側で高く、電極7Bの側では低くなり、図
32(c)に示すように電極7Aの側から電極7Bの側
へ直線的に減少する。従って、このような屈折率分布が
生じている液晶偏向素子に、図32(b)の右側から光
束を入射させて液晶偏向素子を透過させると、透過光束
は屈折率分布の作用により、屈折率の高い側(図32
(b)で上方)へ偏向される。接地する電極を電極7B
から7Aに変えて、端子A、B間に印加する電圧の向き
を上記と逆にすれば、図32の場合と逆に、電極7Bの
側から電極7Aの側へ向って減少する屈折率分布が得ら
れ、透過光束を図32の下方へ偏向させることができ
る。
The dielectric constant of the liquid crystal molecule 1A is large in the direction parallel to the molecular axis and small in the direction orthogonal to the molecular axis. Therefore, the refractive index becomes larger in the direction parallel to the molecular axis. When the above-mentioned “distribution of the orientation of the molecular axis of the liquid crystal molecule 1A” is generated by the action of the electric field, the “refractive index” in the liquid crystal 1 is high on the side of the electrode 7A whose molecular axis is substantially parallel to the electric field, It becomes lower on the side of the electrode 7B, and linearly decreases from the side of the electrode 7A to the side of the electrode 7B as shown in FIG. 32 (c). Therefore, when a light beam is made incident on the liquid crystal deflecting element having such a refractive index distribution from the right side of FIG. 32 (b) and is transmitted through the liquid crystal deflecting element, the transmitted light beam has a refractive index distribution due to the action of the refractive index distribution. High side (Fig. 32)
It is deflected upward in (b). The electrode to be grounded is electrode 7B
To 7A and the direction of the voltage applied between terminals A and B is reversed from the above, the refractive index distribution decreases from the electrode 7B side to the electrode 7A side, contrary to the case of FIG. And the transmitted light flux can be deflected downward in FIG.

【0047】以上が、屈折率変化を利用した液晶偏向素
子による光束偏向の原理である。偏向の程度である偏向
量、即ち「偏向角」は、液晶偏向素子に固有の値で飽和
し、飽和するとそれより大きな偏向角は生じない。液晶
偏向素子を駆動する電気信号としては「直流電圧」を用
いても良いが、液晶偏向素子の寿命の面から考えると、
電気信号は「パルス状または正弦波状に変調された信号
で、平均電圧が0V近傍であるもの」が好ましい。偏向
角を変化させるには、端子A、B間の電位差:Vの増減
によって行うこともできるが、上記パルス信号を駆動信
号とする場合は「パルスのデュ−ティ比」を変えること
によっても行うことができる。図1に示すような液晶偏
向素子の場合、電極7Aと7Bとの間の間隔が、光束径
に比して大きければ、回折光は発生しない。
The above is the principle of light beam deflection by the liquid crystal deflecting element utilizing the change in refractive index. The deflection amount, that is, the "deflection angle", which is the degree of deflection, is saturated with a value peculiar to the liquid crystal deflecting element, and when it is saturated, a larger deflection angle does not occur. A "DC voltage" may be used as an electric signal for driving the liquid crystal deflecting element, but from the viewpoint of the life of the liquid crystal deflecting element,
The electric signal is preferably a signal that is modulated in a pulse shape or a sine wave shape and has an average voltage in the vicinity of 0V. The deflection angle can be changed by increasing or decreasing the potential difference V between the terminals A and B, but when the pulse signal is used as the drive signal, it can also be changed by changing the "pulse duty ratio". be able to. In the case of the liquid crystal deflecting element as shown in FIG. 1, if the distance between the electrodes 7A and 7B is larger than the light beam diameter, no diffracted light is generated.

【0048】図33は「電気信号により屈折率を変化さ
せる方式の液晶偏向素子」の別の例である。繁雑を避け
るため、混同の虞がないと思われるものについては図3
2におけると同一の符号を用いた。この素子は図32の
素子の変形例であり、図32の素子との差異は、ガラス
基板5Aの側において、透明な電気抵抗膜を3つの部分
4A、4B、4Cに分割し、透明電極を図33(a)の
如くにパターニングし、電気抵抗膜4Aに透明電極7A
1と7B1が対応し、電気抵抗膜4Bに透明電極7A2
と7B2が対応し、電気抵抗膜4Cに透明電極7A3と
7B3が対応するようにした点にある。端子A、B間に
駆動信号を印加すると、図33(c)の如き屈折率分布
が得られる。この場合、端子A、Bに印加する電圧:V
に対する電界の変化率が大きくなるので、図32の素子
に比してより「大きな屈折率勾配」が得られ、より大き
な偏向角(偏向量)を得ることができる。
FIG. 33 shows another example of the "liquid crystal deflecting element of the type in which the refractive index is changed by an electric signal". To avoid complications, see Figure 3 for items that are not likely to be confused.
The same reference numerals as in 2 were used. This element is a modification of the element of FIG. 32, and the difference from the element of FIG. 32 is that the transparent electric resistance film is divided into three parts 4A, 4B, 4C on the glass substrate 5A side, and the transparent electrode is Patterning is performed as shown in FIG. 33A, and the transparent electrode 7A is formed on the electric resistance film 4A.
1 and 7B1 correspond to each other, and the transparent electrode 7A2 is provided on the electric resistance film 4B.
And 7B2 correspond to each other, and the transparent electrodes 7A3 and 7B3 correspond to the electric resistance film 4C. When a drive signal is applied between the terminals A and B, a refractive index distribution as shown in FIG. 33 (c) is obtained. In this case, the voltage applied to terminals A and B: V
Since the change rate of the electric field with respect to is large, a "larger refractive index gradient" can be obtained and a larger deflection angle (deflection amount) can be obtained as compared with the element of FIG.

【0049】図33に示すタイプの液晶偏向素子の場
合、電気抵抗膜とこれに組合せられる対の電極(例え
ば、電気抵抗膜4Aと電極7A1、7A2)の組合せの
数(上の例では3)が大きくなるに従い、偏向角を大き
くできる反面、光束の透過領域における上記組合せの周
期構造の周期が小さくなり、回折光を生じるようにな
る。
In the case of the liquid crystal deflecting element of the type shown in FIG. 33, the number of combinations of the electric resistance film and a pair of electrodes (for example, the electric resistance film 4A and the electrodes 7A1 and 7A2) combined therewith (3 in the above example). As the angle becomes larger, the deflection angle can be made larger, but the period of the periodic structure of the above combination in the light transmitting region becomes smaller, and diffracted light is generated.

【0050】図34は液晶偏向素子のさらに別の例を示
している。この液晶偏向素子は「電気信号により回折作
用を起こさせるもの」である。この型の液晶偏向素子
は、例えば[特許文献8]特開平8−313941号公
報に詳しく記載されている。図34においても繁雑を避
けるため、混同の虞がないと思われるものについては、
図32におけると同一の符号を用いた。
FIG. 34 shows still another example of the liquid crystal deflecting element. This liquid crystal deflecting element is "an element that causes a diffracting action by an electric signal". This type of liquid crystal deflecting element is described in detail, for example, in [Patent Document 8] JP-A-8-313941. In order to avoid complication in FIG. 34 as well, for items that are not likely to be confused,
The same reference numerals as in FIG. 32 are used.

【0051】図34(a)において、液晶1は例えば
「液晶分子1Aの分子軸方向の誘電率が、分子軸に直交
する方向の誘電率よりも小さい、誘電異方性が負のネマ
チック液晶」で、スペーサ3により所定間隙に保たれた
1対の透明配向膜2A、2Bの間に薄層状に密封されて
いる。配向膜2A、2Bは、透明電極6Aを有するガラ
ス基板5Aと、透明電極6Bを有するガラス基板5Bと
により挟持されている。透明電極6A、6BはITO等
で薄膜状に形成され、それぞれガラス基板5A、5Bの
面に所定の形状(例えば矩形形状)で一様に形成されて
いる。配向膜2A、2Bは、液晶分子1Aの分子軸方向
が図面に直交する方向となるように、液晶1に対する配
向を行う。
In FIG. 34 (a), the liquid crystal 1 is, for example, "a nematic liquid crystal having a negative dielectric anisotropy in which the dielectric constant of the liquid crystal molecule 1A in the molecular axis direction is smaller than the dielectric constant in the direction orthogonal to the molecular axis". Thus, a thin layer is sealed between the pair of transparent alignment films 2A and 2B which are kept at a predetermined gap by the spacer 3. The alignment films 2A and 2B are sandwiched between a glass substrate 5A having a transparent electrode 6A and a glass substrate 5B having a transparent electrode 6B. The transparent electrodes 6A and 6B are formed of ITO or the like in a thin film shape, and are uniformly formed in a predetermined shape (for example, a rectangular shape) on the surfaces of the glass substrates 5A and 5B, respectively. The alignment films 2A and 2B perform alignment with respect to the liquid crystal 1 so that the molecular axis directions of the liquid crystal molecules 1A are orthogonal to the drawing.

【0052】このような状況で、透明電極6A、6B間
に「直流もしくは300Hz程度以下の低周波の電圧」
を印加させると、液晶1内に、図の上下方向(前記「配
向方向」と直交する方向)を格子配列方向とする回折格
子パターンが形成される([特許文献8]の段落「00
54」)。図34(b)は、このように形成された回折
格子パターンにおける屈折率分布である。この状態で光
束を液晶偏向素子に入射させると、透過光は上記回折格
子パターンにより(図34(a)の上下方向に)回折光
を生じる。上記低周波の電圧の電圧値を変化させると、
形成される回折格子パターンの格子ピッチが変化し、回
折角が変化する([特許文献8]の段落「005
7」)。従って、例えば「回折の1次光」に着目すれ
ば、1次光の偏向角を調整することにより、光束を所定
方向(上に説明した場合では、図34(a)の上下方
向)に所望の偏向角で偏向させることができる。
In such a situation, "a direct current or a low frequency voltage of about 300 Hz or less" is applied between the transparent electrodes 6A and 6B.
Is applied, a diffraction grating pattern is formed in the liquid crystal 1 with the grating arrangement direction being the vertical direction of the figure (the direction orthogonal to the “alignment direction”) (paragraph “00 of Patent Document 8”).
54 "). FIG. 34B shows the refractive index distribution in the diffraction grating pattern thus formed. When the light flux is incident on the liquid crystal deflecting element in this state, the transmitted light is diffracted by the diffraction grating pattern (in the vertical direction of FIG. 34 (a)). When the voltage value of the low frequency voltage is changed,
The grating pitch of the formed diffraction grating pattern changes, and the diffraction angle changes (paragraph “005 of Patent Document 8”).
7 "). Therefore, for example, focusing on the “first-order light of diffraction”, by adjusting the deflection angle of the first-order light, the luminous flux is desired in a predetermined direction (in the above-described case, the vertical direction of FIG. 34A). It can be deflected at a deflection angle of.

【0053】また、図34の液晶偏向素子の透明電極6
A、6B間に印加する電圧を高周波電圧にすると、液晶
1に配向方向に直交する方向の回折格子パターンが現
れ、図34(a)の「図面に直交する方向の回折光」を
得ることができる。この場合は、液晶に印加する高周波
電圧の「包絡電圧」を増減させることにより、回折角を
変化させることができる([特許文献8]の段落「00
60」)。
Further, the transparent electrode 6 of the liquid crystal deflecting element of FIG.
When the voltage applied between A and 6B is a high frequency voltage, a diffraction grating pattern in a direction orthogonal to the alignment direction appears in the liquid crystal 1 and "diffracted light in a direction orthogonal to the drawing" of FIG. 34 (a) can be obtained. it can. In this case, the diffraction angle can be changed by increasing or decreasing the “envelope voltage” of the high frequency voltage applied to the liquid crystal (paragraph “00” of [Patent Document 8]).
60 ").

【0054】以上、従来から知られた「電気信号により
光束を偏向させるタイプの液晶偏向素子」につき簡単に
説明した。本発明では、光路偏向手段の一つとして、こ
れら公知の液晶偏向素子(電気信号により駆動するもの
に限らず、上には説明しなかったが、磁気信号により駆
動するものでもよい)を利用し、光束の偏向により光ス
ポットの走査位置調整を行うものである。
The "liquid crystal deflecting element of the type in which a light beam is deflected by an electric signal" known in the related art has been briefly described above. In the present invention, as one of the optical path deflecting means, these known liquid crystal deflecting elements (not limited to those driven by electric signals but not described above, those driven by magnetic signals may be used) are used. The scanning position of the light spot is adjusted by deflecting the light beam.

【0055】(実施例1−2)次に図6は本発明の別の
実施例を示す図であって、光走査装置の偏向器より前側
の光学系のみを示す斜視図である。また、偏向器14以
降の光学系配置は図1と同じである。本実施例において
は、実施例1−1と同様に、「光源装置18」は少なく
とも「2組の半導体レーザ11a,11bとカップリン
グレンズ12a,12b」から構成されているが、この
ような構成に限定されるわけではない。また、上記半導
体レーザ11a,11bは唯一の発光点を有するシング
ルビーム半導体レーザでも良いし、複数の発光点を有す
るマルチビーム半導体レーザ(半導体レーザアレイ)で
も構わない。
(Embodiment 1-2) Next, FIG. 6 is a view showing another embodiment of the present invention, and is a perspective view showing only the optical system in front of the deflector of the optical scanning device. The optical system layout after the deflector 14 is the same as that shown in FIG. In this embodiment, the "light source device 18" is composed of at least "two sets of semiconductor lasers 11a and 11b and coupling lenses 12a and 12b" as in Embodiment 1-1. It is not limited to. The semiconductor lasers 11a and 11b may be single beam semiconductor lasers having a single light emitting point or multi-beam semiconductor lasers (semiconductor laser array) having a plurality of light emitting points.

【0056】上記半導体レーザ11a,11bを出射し
たレーザ光は、カップリングレンズ12a,12bによ
りカップリングされ、2本の光ビーム(レーザビーム)
21a,21bとなる。2本の光ビーム21a,21b
は、ビーム合成手段となるビーム合成プリズム17によ
り互いに近接されて合成される。このような構成を採用
することにより、光源配置の自由度の拡大、主走査
断面内で2本の光ビームがポリゴンミラー14の偏向反
射面付近で交差する角度θを小さくすることが可能、
2つの半導体レーザを駆動/制御するための制御基板を
一体化可能等の効果が得られる(請求項6)。
The laser light emitted from the semiconductor lasers 11a and 11b is coupled by the coupling lenses 12a and 12b, and two light beams (laser beams) are provided.
21a and 21b. Two light beams 21a and 21b
Are combined in close proximity to each other by a beam combining prism 17 serving as a beam combining means. By adopting such a configuration, it is possible to expand the degree of freedom in the arrangement of the light source and reduce the angle θ at which the two light beams intersect in the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the polygon mirror 14 in the main scanning cross section.
The effect that the control board for driving / controlling the two semiconductor lasers can be integrated can be obtained (claim 6).

【0057】また、光源を、「半導体レーザ11a,1
1bとカップリングレンズ12a,12b」により構成
することにより、以降の光学系の特性に応じた光ビーム
の特性(コリメート性及び光軸方向)を容易に得ること
が可能となる(請求項5)。例えば、図7に示すように
保持部材22に圧入により固定された半導体レーザ11
から出射され、カップリングレンズ12によりカップリ
ングされた光ビーム21のビーム特性を観察しながら、
半導体レーザ11に対してカップリングレンズ12を位
置調整後、紫外線硬化型接着剤等により保持部材22に
固定すればよい。
Further, the light source is changed to "semiconductor lasers 11a, 1
1b and the coupling lenses 12a and 12b ", it becomes possible to easily obtain the characteristics of the light beam (collimating property and optical axis direction) according to the characteristics of the optical system thereafter (claim 5). . For example, as shown in FIG. 7, the semiconductor laser 11 fixed to the holding member 22 by press fitting.
While observing the beam characteristics of the light beam 21 emitted from the laser beam and coupled by the coupling lens 12,
After adjusting the position of the coupling lens 12 with respect to the semiconductor laser 11, the coupling lens 12 may be fixed to the holding member 22 with an ultraviolet curable adhesive or the like.

【0058】あるいは図8に示すように、カップリング
レンズ12を内装し雄ねじ部を有するレンズセル23を
ホルダ部材24の雌ねじ部に螺合することでX方向(図
の左右方向;コリメート率の調整)の相対位置調整を行
い、またベース部材25に保持された半導体レーザ11
のY方向及びZ方向(図の上下方向及び紙面に垂直な方
向;光ビームの出射方向の調整)の相対位置調整を行う
ことができる。このような半導体レーザとカップリング
レンズの相対位置関係の調整を、一般に「光軸/コリメ
ート調整」と呼ぶことが多い。
Alternatively, as shown in FIG. 8, the lens cell 23 having the coupling lens 12 and having the male screw portion is screwed into the female screw portion of the holder member 24 to adjust the collimation rate in the X direction (left and right direction in the figure). ) And the semiconductor laser 11 held by the base member 25.
Relative positions in the Y direction and the Z direction (vertical direction in the drawing and a direction perpendicular to the paper surface; adjustment of the emission direction of the light beam) can be performed. Such adjustment of the relative positional relationship between the semiconductor laser and the coupling lens is generally called “optical axis / collimation adjustment” in many cases.

【0059】ところでビーム合成手段(本実施例ではビ
ーム合成プリズム17)の加工誤差、部品誤差(内部屈
折率等)の影響により、図9に示すように、2本の光ビ
ーム21a,21bの合成精度に誤差(光軸偏差:e)
を生じる恐れがある。この光軸偏差eにより、被走査面
16におけるビームスポットの間隔は所望の値に対し誤
差を発生する恐れがある。
By the way, as shown in FIG. 9, the two light beams 21a and 21b are combined due to the influence of processing errors of the beam combining means (the beam combining prism 17 in this embodiment) and component errors (internal refractive index, etc.). Accuracy error (optical axis deviation: e)
May occur. Due to this optical axis deviation e, the distance between the beam spots on the surface 16 to be scanned may have an error with respect to a desired value.

【0060】例えば、上記光軸偏差eが副走査方向に発
生するものとした場合、被走査面16におけるビームス
ポットの副走査方向の間隔:PZは、下式で示されるΔ
PZだけ誤差を生じることになる。 ΔPZ=mZ×fcol×tan(e) fcol:カップリングレンズの焦点距離 mZ:走査光学系全系(光源と被走査面との間の光学
系)の副走査横倍率 ここで、mZ=10倍、fcol=15[mm]、e=10分
=2.9[mrad]とすると、 ΔPZ=10×15×tan(2.9×10−3)=0.43
6[mm] の誤差を生じることになる。
For example, when the optical axis deviation e is generated in the sub-scanning direction, the interval between the beam spots on the surface to be scanned 16 in the sub-scanning direction: PZ is expressed by the following equation.
Only PZ will cause an error. ΔPZ = mZ × fcol × tan (e) fcol: Focal length of coupling lens mZ: Sub-scanning lateral magnification of the entire scanning optical system (optical system between the light source and the surface to be scanned) where mZ = 10 times , Fcol = 15 [mm] and e = 10 minutes = 2.9 [mrad], ΔPZ = 10 × 15 × tan (2.9 × 10−3) = 0.43
An error of 6 [mm] will occur.

【0061】このような合成精度のビーム合成手段を用
いて光ビームを合成する場合には、上記の「光軸・コリ
メート調整」をビーム合成手段込みで(ビーム合成手段
と組合せて)行うことができる(請求項7)。例えば図
10に示すように、光軸/コリメート調整時に、2つの
半導体レーザ11a,11bを出射した2本の光ビーム
21a,21bを、ビーム合成プリズム17を通過させ
た状態で、光軸(光ビームの方向)を検出するためのポ
ジションセンサ26に入射させればよい。尚、上記「光
軸/コリメート調整」時には、通常、調整誤差が発生す
るが、実施例1−1で説明した、光路内に配設された液
晶偏向素子28を用いて、光軸調整誤差を補正すること
が可能となる。
When a light beam is synthesized by using the beam synthesizing means having such synthesizing accuracy, the above-mentioned "optical axis / collimate adjustment" can be performed with the beam synthesizing means (in combination with the beam synthesizing means). Yes (Claim 7). For example, as shown in FIG. 10, when adjusting the optical axis / collimation, the two optical beams 21a and 21b emitted from the two semiconductor lasers 11a and 11b are passed through the beam combining prism 17 and the optical axis (optical The beam may be incident on the position sensor 26 for detecting the beam direction). Note that an adjustment error usually occurs at the time of the “optical axis / collimate adjustment”, but the optical axis adjustment error is corrected by using the liquid crystal deflecting element 28 arranged in the optical path described in the embodiment 1-1. It becomes possible to correct.

【0062】ところで、被走査面16において所望のビ
ームスポット径を得るために、光路の途中に絞り(開
口)を設け光ビームを整形する場合が多い。例えば、図
10,11に示すように、このような絞り(開口)を設
けたアパーチャ部材27を、光ビームの光路において、
液晶偏向素子28より上流側(光源側)に配設すること
ができる(請求項8)。これにより液晶偏向素子28の
有効エリアを狭くすることが可能(部品サイズの小型
化)となり、また、液晶偏向素子28において光学性能
を満足すべき範囲を狭くすることが可能(製造工程の簡
略化、歩留まり向上)となる。
Incidentally, in order to obtain a desired beam spot diameter on the surface 16 to be scanned, in many cases a stop (opening) is provided in the middle of the optical path to shape the light beam. For example, as shown in FIGS. 10 and 11, an aperture member 27 having such a diaphragm (opening) is provided in the optical path of the light beam as follows.
It can be arranged on the upstream side (light source side) of the liquid crystal deflecting element 28 (claim 8). As a result, the effective area of the liquid crystal deflecting element 28 can be narrowed (component size can be reduced), and the range in which the optical performance of the liquid crystal deflecting element 28 must be satisfied can be narrowed (the manufacturing process can be simplified). , Yield improvement).

【0063】また、上記光ビーム整形用の開口を、液晶
偏向素子28の入射面または出射面上に形成することに
より、別途アパーチャ部材を具備する必要がなくなる。
よって部品点数の低減、及び開口と液晶偏向素子の有効
エリアとの位置合わせ精度の向上を図ることが可能とな
る(請求項9)。尚、液晶偏向素子28の入射面または
出射面上への開口の形成は、例えばシルク印刷等の工法
を用いればよい。
Further, by forming the light beam shaping opening on the incident surface or the exit surface of the liquid crystal deflecting element 28, it is not necessary to separately provide an aperture member.
Therefore, it is possible to reduce the number of parts and improve the alignment accuracy between the opening and the effective area of the liquid crystal deflecting element (claim 9). The opening on the incident surface or the exit surface of the liquid crystal deflecting element 28 may be formed by using a method such as silk printing.

【0064】ところで、環境(温度、湿度等)の変化、
あるいは経時的な変化により、各半導体レーザ11a,
11bとカップリングレンズ12a,12bの相対位置
関係(調整値)が変動する等の影響により、被走査面1
6におけるビームスポットの配列精度が劣化することが
ある。このような場合でも、被走査面16におけるビー
ムスポット配列または走査線間隔を検出する手段(ビー
ムスポット配列検出手段)を光走査装置20に設け、そ
の検出結果に基づき液晶偏向素子28を電気信号により
駆動/制御(変調)することで、ビームスポットの間隔
の変動を補正することが可能となる(請求項10)。ビ
ームスポット配列検出手段の一例としては、図1におけ
る同期検知板19の代替として具備すればよい。
By the way, changes in environment (temperature, humidity, etc.),
Alternatively, each semiconductor laser 11a,
The surface to be scanned 1 is affected by a change in the relative positional relationship (adjustment value) between 11b and the coupling lenses 12a and 12b.
The alignment accuracy of the beam spots in 6 may deteriorate. Even in such a case, the optical scanning device 20 is provided with means (beam spot arrangement detecting means) for detecting the beam spot arrangement or the scanning line interval on the surface 16 to be scanned, and the liquid crystal deflecting element 28 is supplied with an electric signal based on the detection result. By driving / controlling (modulating), it becomes possible to correct the variation in the interval between the beam spots (claim 10). As an example of the beam spot arrangement detecting means, it may be provided as an alternative to the synchronization detecting plate 19 in FIG.

【0065】液晶偏向素子28の駆動/制御は、検出さ
れたビームスポット配列が所望の値になるように、フィ
ードバック系を構成すればよい。あるいは環境変化/経
時変化に伴うビームスポット配列の変化が事前に(設計
的または計算上)判明している場合には、その変動量に
従ったテーブルを制御系のメモリに記憶しておき、それ
に基づき液晶偏向素子28を駆動/制御する構成(オー
プンループ)でも構わない。
For driving / controlling the liquid crystal deflecting element 28, a feedback system may be constructed so that the detected beam spot arrangement has a desired value. Alternatively, if the change in the beam spot arrangement due to the environmental change / change over time is known in advance (design or calculation), a table according to the change amount is stored in the memory of the control system, and A configuration (open loop) for driving / controlling the liquid crystal deflecting element 28 based on the above may be used.

【0066】尚、ビームスポット配列検出手段19の構
成としては、例えば[特許文献9]特開平9−3252
88号公報「マルチビーム走査装置」に記載の検出手段
等を用いればよい。また、上記のビームスポット配列検
出手段19の代替として、例えばCCDのような検出手
段を利用することにより、被走査面16上のビームスポ
ット配列(各ビームスポット間の相対位置関係)だけで
はなく、各ビームスポットの絶対位置をも検出すること
が可能となるため、液晶偏向素子28の駆動/制御によ
りビームスポットの絶対位置を調整することができる。
The configuration of the beam spot arrangement detecting means 19 is, for example, [Patent Document 9] Japanese Patent Laid-Open No. 9-3252.
The detection means and the like described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 88, "Multi-beam scanning device" may be used. Further, as an alternative to the above-mentioned beam spot arrangement detecting means 19, by using a detecting means such as a CCD, not only the beam spot arrangement (relative positional relationship between the beam spots) on the surface 16 to be scanned, Since the absolute position of each beam spot can also be detected, the absolute position of the beam spot can be adjusted by driving / controlling the liquid crystal deflecting element 28.

【0067】以上、本発明に係る光走査装置(マルチビ
ーム走査装置)の一実施形態として、上記実施例1−
1,1−2では、2ビーム走査装置について説明した
が、一度に走査される光ビームの本数は1本(シングル
ビーム)でも良いし、3本以上であっても構わない。
As described above, as one embodiment of the optical scanning device (multi-beam scanning device) according to the present invention, the above-mentioned Example 1-
In 1 and 1-2, the two-beam scanning device has been described, but the number of light beams scanned at one time may be one (single beam), or may be three or more.

【0068】[実施形態2]次に本発明の第二の実施形
態として、請求項1,11〜21に係る発明の構成、動
作及び作用を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
尚、以下の実施例の説明においては、実施形態1と同様
に、X方向を光路(光軸)に沿った方向、Y方向を主走
査(対応)方向、Z方向を副走査(対応)方向とする。
また、「主走査方向」及び「副走査方向」とは、被走査
面でビームスポットが走査される方向とその直交方向を
意味するが、本実施形態では、光路の各場所で、(被走
査面の)主走査方向と副走査方向に対応する方向を(広
い意味で)各々「主走査方向」、「副走査方向」と呼ん
でいる。
[Embodiment 2] Next, as a second embodiment of the present invention, the configuration, operation and action of the invention according to claims 1, 11 to 21 will be described in detail based on the illustrated embodiment.
In the following description of the examples, as in the first embodiment, the X direction is along the optical path (optical axis), the Y direction is the main scanning (corresponding) direction, and the Z direction is the sub-scanning (corresponding) direction. And
Further, the “main scanning direction” and the “sub-scanning direction” mean the direction in which the beam spot is scanned on the surface to be scanned and the direction orthogonal thereto, but in the present embodiment, the (scanned The directions corresponding to the main scanning direction of the surface and the sub scanning direction are called (in a broad sense) the "main scanning direction" and the "sub scanning direction", respectively.

【0069】(実施例2−1)図12は本発明の一実施
例を示す図であって、光走査装置の光学的配置を示す斜
視図である。また、図13は図12に示す光走査装置の
主走査断面内での光学配置を示す要部平面図である。図
12,13において、「光源装置18」は少なくとも
「2組の半導体レーザ11a,11bとカップリングレ
ンズ12a,12b及び光路偏向手段29a,29b」
から構成されているが、このような構成に限定されるわ
けではない。また、上記半導体レーザ11a,11bは
唯一の発光点を有するシングルビーム半導体レーザでも
良いし、複数の発光点を有するマルチビーム半導体レー
ザ(半導体レーザアレイ)でも構わない。
(Embodiment 2-1) FIG. 12 is a view showing an embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of an optical scanning device. Further, FIG. 13 is a plan view of a main part showing an optical arrangement in the main scanning section of the optical scanning device shown in FIG. 12 and 13, at least "two sets of semiconductor lasers 11a and 11b, coupling lenses 12a and 12b, and optical path deflecting means 29a and 29b" are included in the "light source device 18".
However, the present invention is not limited to such a configuration. The semiconductor lasers 11a and 11b may be single beam semiconductor lasers having a single light emitting point or multi-beam semiconductor lasers (semiconductor laser array) having a plurality of light emitting points.

【0070】上記半導体レーザ11a,11bを出射し
たレーザ光は、カップリングレンズ12a,12bによ
りカップリングされ、2本の光ビーム(レーザビーム)
21a,21bとなる。そして、光源装置18を出射し
た2本の光ビーム21a,21bはシリンドリカルレン
ズ13の作用により偏向器であるポリゴンミラー14の
偏向反射面上に(副走査方向に結像し、主走査方向に長
い)線像として結像された後、2枚の走査レンズ15
a,15bと折り返しミラー15cで構成された走査光
学系15により、被走査面(例えば感光体ドラム)16
上をビームスポットとして走査される。
The laser light emitted from the semiconductor lasers 11a and 11b is coupled by the coupling lenses 12a and 12b, and two light beams (laser beams) are provided.
21a and 21b. Then, the two light beams 21a and 21b emitted from the light source device 18 are imaged in the sub-scanning direction and are long in the main scanning direction on the deflection reflection surface of the polygon mirror 14 which is a deflector by the action of the cylindrical lens 13. ) After being formed as a line image, the two scanning lenses 15
The surface to be scanned (for example, a photoconductor drum) 16 is formed by the scanning optical system 15 composed of a and 15b and the folding mirror 15c.
The upper part is scanned as a beam spot.

【0071】本実施例の光走査装置20を画像出力装置
の光書込装置として利用する場合、光ビームは出力画像
データに対応して変調されるが、その変調開始タイミン
グのための電気信号(同期信号)は、同期検知板(同期
検知センサ)19に光ビームが入射することにより得ら
れる。偏向器(ポリゴンミラー)14に入射する2本の
光ビーム21a,21bは、主走査断面内にて互いに平
行ではない構成である(請求項21)。このような構成
により、被走査面16における2つのビームスポットの
主走査方向の間隔:PYを確保することができる。従っ
て変調開始タイミングを設定するための同期検知信号
を、一つの同期検知板19を用いて両光ビームに対して
独立に検出することが可能となる。
When the optical scanning device 20 of this embodiment is used as an optical writing device of an image output device, the light beam is modulated in accordance with the output image data, but an electric signal ( The synchronization signal) is obtained when the light beam is incident on the synchronization detection plate (synchronization detection sensor) 19. The two light beams 21a and 21b incident on the deflector (polygon mirror) 14 are not parallel to each other in the main scanning cross section (claim 21). With such a configuration, it is possible to secure an interval PY between the two beam spots on the surface 16 to be scanned in the main scanning direction. Therefore, the synchronization detection signal for setting the modulation start timing can be detected independently for both light beams using one synchronization detection plate 19.

【0072】通常、主走査断面においては、ポリゴンミ
ラー14の偏向反射面で反射された後に走査光学系15
に入射する光ビームは、平行光束又は「弱い」発散光束
又は「弱い」収束光束であり、この光束(光ビーム)を
被走査面16上に結像させる(より正確には被走査面近
傍にビームウェストを形成する)機能を有している。そ
のため、ポリゴンミラー14の偏向反射面に入射する2
本の光ビームが互いに平行である場合、すなわち走査光
学系15に入射する2本の光ビームが互いに平行である
場合には、2本の光ビームは走査光学系15の作用によ
り被走査面付近で交差する(主走査方向のビームピッチ
PYが0となる)ことになり、独立に同期検知信号を得
ることが不可能となる。
Normally, in the main scanning section, the scanning optical system 15 is reflected after being reflected by the deflective reflecting surface of the polygon mirror 14.
The light beam incident on is a parallel light beam or a “weak” divergent light beam or a “weak” convergent light beam. Beam waist is formed). Therefore, it is incident on the deflecting and reflecting surface of the polygon mirror 14.
When the two light beams are parallel to each other, that is, when the two light beams incident on the scanning optical system 15 are parallel to each other, the two light beams are generated by the action of the scanning optical system 15 near the surface to be scanned. (The beam pitch PY in the main scanning direction becomes 0), it becomes impossible to independently obtain the synchronization detection signal.

【0073】図13では、2本のビームがポリゴンミラ
ー14の偏向反射面近傍にて「角度Θ(=2θ)」で交
差する構成(主走査断面にて非平行)となっている。こ
れにより、同期検知信号を独立に検出可能となるだけで
はなく、2ビーム間の光学特性(像面湾曲、倍率誤差
等)の偏差の発生を抑制することが可能となる。尚、走
査光学系15が十分な等速走査性(fθ特性)を有して
いる場合には、上記2つのビームスポット間隔(主走査
方向):PYは、 PY=FY×Θ (FY:走査光学系15の主走査方向
焦点距離) で表される。例えば、FY=220[mm]、Θ=1°=
0.01745[rad]の場合、 PY=FY×Θ=220×0.01745=3.8[mm] であるため、「低コストな」同期検知センサを用いて
も、2つの光ビームの同期検知信号を独立に検出可能と
なる。
In FIG. 13, two beams intersect each other in the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the polygon mirror 14 at “angle θ (= 2θ)” (non-parallel in the main scanning section). This makes it possible not only to independently detect the synchronization detection signal, but also to suppress the occurrence of deviations in the optical characteristics (field curvature, magnification error, etc.) between the two beams. When the scanning optical system 15 has a sufficient constant velocity scanning property (fθ characteristic), the above two beam spot intervals (main scanning direction): PY are: PY = FY × θ (FY: scanning The focal length of the optical system 15 in the main scanning direction). For example, FY = 220 [mm], Θ = 1 ° =
In the case of 0.01745 [rad], since PY = FY × Θ = 220 × 0.01745 = 3.8 [mm], the two light beams are synchronized even if the “low-cost” synchronization detection sensor is used. The detection signal can be detected independently.

【0074】前述の実施形態1でも述べているが、図3
に示すように、被走査面16上では2つのビームスポッ
ト(BS1、BS2)は、その走査密度に応じ、副走査
方向に所定の間隔(ビームピッチ:PZ)を維持するこ
とが要求される。このビームピッチを設定するには、図
4に示すような2本の光ビーム21a,21bのなす角
度φを設定すればよい。走査光学系全系の副走査倍率を
mZ、カップリングレンズの焦点距離をfcol、とする
と、 PZ=mZ×fcol×tanφ であり、角度φは非常に小さいので、tanφ≒φとする
と、 PZ=mZ×fcol×φ で表される。尚、環境(温度/湿度)変動や経時の影響
等により、上記ビームピッチ:PZは変動する恐れがあ
る。請求項11〜請求項20に係る発明は、この変動し
たビームピッチ;PZを補正する技術に関する発明であ
る。
As described in the first embodiment, FIG.
As shown in, the two beam spots (BS1, BS2) on the surface 16 to be scanned are required to maintain a predetermined interval (beam pitch: PZ) in the sub-scanning direction according to the scanning density. In order to set this beam pitch, the angle φ formed by the two light beams 21a and 21b as shown in FIG. 4 may be set. If the sub-scanning magnification of the entire scanning optical system is mZ and the focal length of the coupling lens is fcol, then PZ = mZ × fcol × tanφ, and the angle φ is very small, so if tanφ≈φ, then PZ = It is represented by mZ × fcol × φ. The beam pitch PZ may fluctuate due to environmental (temperature / humidity) fluctuations, the influence of aging, and the like. The inventions according to claims 11 to 20 are inventions relating to a technique for correcting the changed beam pitch; PZ.

【0075】ところで、図12及び図13に示すよう
に、光路偏向手段として、独立に駆動/制御可能な光路
偏向素子29a,29bを一体構造として、2本の光ビ
ーム21a,21bの光路内に配設することができる
(請求項1,11)。尚、図12,13に示す実施例で
は、光路偏向素子として後述の「くさび形プリズム」を
適用した例である。図14は透過型光学素子である「く
さび形プリズム30」から構成される光路偏向素子(く
さび形プリズムユニット)の拡大図である。この光路偏
向素子は、圧電素子で駆動される「リング超音波モータ
31」の内部にくさび形プリズム30を挿入し、これを
図中の矢印γで示される方向に回転駆動することで、矢
印φで示すように光ビームを偏向する(光ビームの副走
査方向成分を可変する)ことができる(請求項12,1
4)。このような構成の2つの「くさび形プリズムユニ
ット」からなる光路偏向素子29a,29bを、図1
2,13に示すように共通の保持部材29に保持し、光
源装置に一体化することにより、光ビームの偏向可能な
光源装置18を大型化を招くことなく実現することがで
きる。
By the way, as shown in FIG. 12 and FIG. 13, as the optical path deflecting means, the optical path deflecting elements 29a and 29b which can be independently driven / controlled are integrated into the optical paths of the two light beams 21a and 21b. It can be provided (claims 1 and 11). The examples shown in FIGS. 12 and 13 are examples in which a “wedge prism” described below is applied as the optical path deflecting element. FIG. 14 is an enlarged view of an optical path deflecting element (wedge prism unit) including a "wedge prism 30" which is a transmissive optical element. In this optical path deflecting element, a wedge-shaped prism 30 is inserted inside a "ring ultrasonic motor 31" driven by a piezoelectric element, and the wedge prism 30 is rotatably driven in a direction indicated by an arrow γ in the figure, whereby an arrow φ The light beam can be deflected (the component in the sub-scanning direction of the light beam can be varied) as shown in FIG.
4). The optical path deflecting elements 29a and 29b composed of two "wedge-shaped prism units" having such a configuration are shown in FIG.
The light source device 18 capable of deflecting the light beam can be realized without increasing the size by holding it by a common holding member 29 as shown in Nos. 2 and 13 and integrating it with the light source device.

【0076】上述のような超音波モータを利用すること
により、 nm(ナノメートル)またはμm(マイクロメート
ル)オーダの変位(調整値)を獲得可能、 電源OFF時にも大きな保持力を発生するため、調整
値の維持可能、 等の効果を得ることができる。
By using the ultrasonic motor as described above, a displacement (adjustment value) on the order of nm (nanometer) or μm (micrometer) can be obtained, and a large holding force is generated even when the power is turned off. The adjustment value can be maintained, and other effects can be obtained.

【0077】尚、光ビーム21aに対応するくさび形プ
リズムの頂角をαa、内部屈折率をna、回転角度(角
変位)γaとすると、偏向角度φaは、 φa=(na−1)×αa×sinγa となるので、この光ビーム21aに対応する被走査面上
でのビームスポットの移動量:Zaは、 Za=mZ×fcol×φa=mZ×fcol×(na−1)×α
a×sinγa となる。
When the apex angle of the wedge prism corresponding to the light beam 21a is αa, the internal refractive index is na, and the rotation angle (angular displacement) γa, the deflection angle φa is φa = (na-1) × αa. Since xsinγa, the amount of movement of the beam spot on the surface to be scanned corresponding to this light beam 21a: Za is: Za = mZ × fcol × φa = mZ × fcol × (na−1) × α
It becomes a × sinγa.

【0078】例えば、na=1.5、mZ=9.5倍、
fcol=15[mm]、αa=1°=0.01745[rad]、
の場合には、 Za=mZ×fcol×(na−1)×αa×sinγa =9.5×15×(1.5−1)×0.01745×sinγa =1.24×sinγa なので、γaを−90°から+90°まで回転させるこ
とにより、被走査面上のビームスポットを、±1.24
[mm]移動させることができる。
For example, na = 1.5, mZ = 9.5 times,
fcol = 15 [mm], αa = 1 ° = 0.01745 [rad],
In the case of, Za = mZ × fcol × (na-1) × αa × sinγa = 9.5 × 15 × (1.5-1) × 0.01745 × sinγa = 1.24 × sinγa, so rotate γa from -90 ° to + 90 °. The beam spot on the surface to be scanned is ± 1.24
[mm] Can be moved.

【0079】一方、光ビーム21bに対応する、被走査
面上でのビームスポットの移動量:Zbについても同様
に計算でき, Zb=mZ×fcol×φb=mZ×fcol×(nb−1)×α
b×sinγb とし、na=nb=n、αa=αb=αの場合には、 φ=φa−φb=(n−1)×α×(sinγa−sinγb) となるようにγaとγbを適切に設定することで、PZ
を所望の値に設定することが可能となる。当然光ビーム
の偏向は、2本の光ビームに対し行っても良いし、一方
の光ビームに対しのみ行っても構わない。
On the other hand, the amount of movement of the beam spot on the surface to be scanned: Zb corresponding to the light beam 21b can be calculated in the same manner as follows: Zb = mZ × fcol × φb = mZ × fcol × (nb-1) × α
If b = sinγb, and na = nb = n and αa = αb = α, then γa and γb are appropriately set so that φ = φa−φb = (n−1) × α × (sinγa−sinγb). By setting, PZ
Can be set to a desired value. Of course, the deflection of the light beam may be performed on two light beams, or may be performed on only one light beam.

【0080】次に光路偏向手段に透過型光学素子を用い
た変形例として、「シリンドリカルレンズ」を用いた例
を図15(a)〜(c)に示す。図15(a)に示すよ
うに、保持部材29の内側にて、弾性部材(コイルスプ
リング)34と圧電素子(ピエゾ素子)32に挟まれた
レンズホルダ35にシリンドリカルレンズ33を保持す
る。ピエゾ素子32に電圧を印加することにより変位Δ
を発生させ(図15(c))、シリンドリカルレンズ3
3を図15(b)の図中矢印Zに示す方向(副走査断面
内)に可動することにより、矢印φに示す方向にビーム
偏向することが可能となる。そして、このような構成の
2つの「シリンドリカルレンズユニット」からなる光路
偏向素子29a,29bを、図12,13に示すように
共通の保持部材29に保持し、光源装置18に一体化す
ることにより、光ビームの偏向可能な光源装置18を大
型化を招くことなく実現することができる。
Next, as a modified example using a transmission type optical element for the optical path deflecting means, an example using a "cylindrical lens" is shown in FIGS. As shown in FIG. 15A, the cylindrical lens 33 is held inside a holding member 29 by a lens holder 35 sandwiched between an elastic member (coil spring) 34 and a piezoelectric element (piezo element) 32. By applying a voltage to the piezo element 32, the displacement Δ
Is generated (FIG. 15C), and the cylindrical lens 3
By moving 3 in the direction indicated by arrow Z in FIG. 15B (in the sub-scan section), the beam can be deflected in the direction indicated by arrow φ. Then, the optical path deflecting elements 29a and 29b composed of two "cylindrical lens units" having such a configuration are held by a common holding member 29 as shown in FIGS. The light source device 18 capable of deflecting the light beam can be realized without increasing the size.

【0081】上述の2つの例(くさび形プリズム、シリ
ンドリカルレンズ)では、光路偏向素子のアクチュエー
タとして圧電素子を用いた駆動手段を利用したが、別の
手段として、入力パルス信号により所定の角度だけ回転
するパルスモータ、または入力パルス信号により所定の
距離だけ直進するパルスモータを用いた駆動手段を利用
しても構わない(請求項15)。パルスモータを用いた
場合、入力ステップ数に比例した角変位(または変位)
を得ることができるため、容易に(場合によっては、オ
ープンループ制御にて)、所望の調整値を獲得すること
が可能となる。また現状では、超音波モータ等と比較し
て、一般にはパルスモータは汎用的な駆動手段であり、
比較的低コストで入手可能であるため、光源装置の低コ
スト化を図ることができる。
In the above two examples (wedge prism, cylindrical lens), the driving means using the piezoelectric element was used as the actuator of the optical path deflecting element. It is also possible to use a driving means using a pulse motor that operates or a pulse motor that moves straight by a predetermined distance according to an input pulse signal (claim 15). When using a pulse motor, angular displacement (or displacement) proportional to the number of input steps
Therefore, the desired adjustment value can be easily obtained (in some cases, by open loop control). At present, compared to ultrasonic motors and the like, pulse motors are generally general-purpose drive means,
Since it is available at a relatively low cost, the cost of the light source device can be reduced.

【0082】(実施例2−2)次に光路偏向素子の別の
実施例として「反射型光学素子」を用いた例を、図16
(a),(b)を用いて説明する。図16(a)は図1
2,13に示す光走査装置の光路偏向素子を反射型光学
素子とした場合の偏向器14より前側の光学系を示して
おり、図16(b)は一方の光路偏向素子を拡大した図
である。この光路偏向素子は、反射型光学素子として折
返しミラー37(37a,37b)を用い、印加電圧に
比例した変位を発生する圧電素子(ピエゾ素子)32の
変位により、ミラーホルダ39に保持された折返しミラ
ー37が、コロ38を中心として矢印βの方向に回転
し、その結果、光ビームは角度φ=2×βだけ偏向され
る。このような構成の2つの「折返しミラーユニット」
を共通の保持部材29に保持し、一体構造として、光源
装置18に一体化すればよい。尚、一般に透過型光学素
子を用いた場合と比較して、反射型光学素子を用いた場
合には、ビーム偏向角度を大きくすることが可能となる
ため、調整範囲の広い(敏感な)ビームスポット位置調
整を行うことが可能となる。
(Embodiment 2-2) Next, as another embodiment of the optical path deflecting element, an example using a "reflection type optical element" is shown in FIG.
A description will be given using (a) and (b). FIG. 16A shows FIG.
2 and 13 show an optical system on the front side of the deflector 14 when the optical path deflecting element of the optical scanning device shown in FIGS. 2 and 13 is a reflection type optical element, and FIG. is there. In this optical path deflecting element, a folding mirror 37 (37a, 37b) is used as a reflection type optical element, and by the displacement of a piezoelectric element (piezo element) 32 that generates a displacement proportional to an applied voltage, the folding mirror 37 is held. The mirror 37 rotates about the roller 38 in the direction of the arrow β, so that the light beam is deflected by the angle φ = 2 × β. Two "folded mirror units" with such a configuration
May be held by a common holding member 29 and integrated with the light source device 18 as an integrated structure. In general, when a reflective optical element is used, the beam deflection angle can be increased as compared with the case where a transmissive optical element is used. Therefore, a beam spot with a wide adjustment range (sensitive) It becomes possible to adjust the position.

【0083】(実施例2−3)次に光路偏向素子のさら
に別の実施例として「液晶素子(液晶偏向素子)」を用
いた例を、図17(a),(b)を用いて説明する。図
17(a),(b)は後述する[請求項17]の「ビー
ム合成プリズム」を用いて4ビームを合成した4ビーム
光源装置の一例である。図17(a)はビーム合成プリ
ズム17より上流側(光源側)に、光路偏向素子とし
て、電気信号にて駆動される液晶素子40を光ビームの
光路に配設したものであり、この液晶素子40は光透過
部が4分割されており、各分割部(有効エリア)が独立
に駆動制御できるようになっている。また、図17
(b)では4つの独立した液晶素子40a〜40dを共
通の保持部材29に保持した構造である(請求項1
6)。
(Embodiment 2-3) Next, an example using a "liquid crystal element (liquid crystal deflecting element)" as still another embodiment of the optical path deflecting element will be described with reference to FIGS. 17 (a) and 17 (b). To do. 17A and 17B show an example of a four-beam light source device in which four beams are combined by using a "beam combining prism" of [claim 17] described later. FIG. 17A shows a liquid crystal element 40 driven by an electric signal as an optical path deflecting element, which is arranged on the upstream side (light source side) of the beam combining prism 17 in the optical path of the light beam. In 40, the light transmitting portion is divided into four, and each divided portion (effective area) can be independently drive-controlled. In addition, FIG.
The structure (b) has a structure in which four independent liquid crystal elements 40a to 40d are held by a common holding member 29 (claim 1).
6).

【0084】被走査面となる複数の感光体が異なる感度
特性(波長依存性)を示す場合には、光源を構成する半
導体レーザの発振波長を対応する感光体に応じて異なら
せる必要があり、その場合にはその発振波長に対応する
波長依存性を示す液晶素子を具備する必要が生じる。そ
こで、図17(b)の構成のように、複数の独立した液
晶素子40a〜40dを共通の保持部材29に保持した
構造とすることで、異なる波長のレーザビームを任意に
偏向することが可能となる。一方、図17(a)のよう
に、液晶素子の波長依存性が低い(広範囲にわたる波長
対応が可能である)場合には、一つの液晶素子40が各
光ビームに対応し独立に変調可能な有効エリアを複数
(4つのエリア)有する構成も可能である。
When a plurality of photoconductors serving as the surface to be scanned exhibit different sensitivity characteristics (wavelength dependence), it is necessary to make the oscillation wavelength of the semiconductor laser constituting the light source different depending on the corresponding photoconductors. In that case, it becomes necessary to provide a liquid crystal element exhibiting wavelength dependence corresponding to the oscillation wavelength. Therefore, by adopting a structure in which a plurality of independent liquid crystal elements 40a to 40d are held by a common holding member 29 as in the configuration of FIG. 17B, it is possible to arbitrarily deflect laser beams having different wavelengths. Becomes On the other hand, as shown in FIG. 17A, when the wavelength dependency of the liquid crystal element is low (a wide range of wavelengths can be supported), one liquid crystal element 40 can independently modulate each light beam. A configuration having a plurality of effective areas (four areas) is also possible.

【0085】従来は光ビームを偏向する光路偏向手段と
して、 機械的な方法(光路内に配設されたミラー、プリズム
等を可動する)、 電気光学素子を利用する方式(電気光学素子材料によ
るプリズムの屈折率変化を利用し、光路を偏向する)、 音響光学素子を利用する方式(超音波により圧電体内
に回折格子を発生させ、光路を偏向する)、 などのような光路偏向手段が提案、実用化されてきた
が、いずれの方式も装置が大型化する、振動/騒音/熱
が発生する、低電圧駆動が困難、などの理由による不具
合があった。
Conventionally, as an optical path deflecting means for deflecting a light beam, a mechanical method (moving a mirror, a prism, etc. arranged in the optical path), a method using an electro-optical element (a prism made of an electro-optical element material) The optical path is deflected by using the change in the refractive index of the optical path), the method of using the acousto-optic element (a diffraction grating is generated in the piezoelectric body by ultrasonic waves to deflect the optical path), etc. Although they have been put to practical use, all of them have problems due to the reason that the device becomes large, vibration / noise / heat is generated, and low voltage driving is difficult.

【0086】しかし、光ビームを偏向する光路偏向手段
として、本実施例に記載の液晶素子40(40a〜40
d)からなる光路偏向素子(液晶偏向素子)を使用する
ことにより、装置の小型化、振動等の発生の抑制、低電
圧駆動が可能となる。尚、液晶素子の構成及び動作の一
例としては、既に実施形態1の実施例1−1で説明した
図5(a),(b)に示した液晶素子の構成、動作や、
あるいは図32〜図34を参照して説明した公知の液晶
偏向素子の構成、動作と同様であるので、ここでは説明
を省略する。
However, as the optical path deflecting means for deflecting the light beam, the liquid crystal element 40 (40a to 40a) described in this embodiment is used.
By using the optical path deflecting element (liquid crystal deflecting element) consisting of d), it becomes possible to downsize the device, suppress the occurrence of vibration, etc., and drive at a low voltage. As an example of the configuration and operation of the liquid crystal element, the configuration and operation of the liquid crystal element shown in FIGS. 5A and 5B already described in Example 1-1 of the first embodiment,
Alternatively, since the configuration and operation of the known liquid crystal deflecting element described with reference to FIGS. 32 to 34 are the same, description thereof will be omitted here.

【0087】(実施例2−4)図18は本発明の別の実
施例を示す図であって、光走査装置の光源装置の構成例
を分解した状態で示す斜視図である。尚、光走査装置の
シリンドリカルレンズ13以降の構成は図12と同じで
ある。図18に示すように、この「光源装置」は、 ・少なくとも2組の「半導体レーザ11a,11bと、
それらに対応するカップリングレンズ12a,12b」
と、「それらを主走査方向に一列に配置し一体的に保持
するベース部材43a」から構成される「第一の光源部
41」と、 ・少なくとも2組の「半導体レーザ11c,11dと、
それらに対応するカップリングレンズ12c,12d」
と、「それらを主走査方向に一列に配置し一体的に保持
するベース部材43b」から構成される「第二の光源部
42」と、 ・上記第一の光源部41及び第二の光源部42から出射
される複数の光ビームを近接して出射するビーム合成手
段(ビーム合成プリズム)17と、 ・上記第一の光源部41及び第二の光源部42と、ビー
ム合成手段(ビーム合成プリズム)17の間に配設され
る光路偏向素子(例えば液晶素子)40と、から構成さ
れている(請求項17)。
(Embodiment 2-4) FIG. 18 is a view showing another embodiment of the present invention, and is a perspective view showing a disassembled configuration example of the light source device of the optical scanning device. The configuration of the optical scanning device after the cylindrical lens 13 is the same as that in FIG. As shown in FIG. 18, this "light source device" includes: at least two sets of "semiconductor lasers 11a and 11b;
Coupling lenses 12a and 12b corresponding to them "
And a "first light source unit 41" composed of "a base member 43a that arranges them in a line in the main scanning direction and integrally holds them", and at least two sets of "semiconductor lasers 11c and 11d
Coupling lenses 12c and 12d corresponding to them "
And a "second light source section 42" composed of "a base member 43b for arranging them in a row in the main scanning direction and integrally holding them", and the first light source section 41 and the second light source section. Beam combining means (beam combining prism) 17 for closely emitting a plurality of light beams emitted from 42, the first light source unit 41 and the second light source unit 42, and beam combining means (beam combining prism) ) 17 between them and an optical path deflecting element (for example, a liquid crystal element) 40 (claim 17).

【0088】4つの半導体レーザ11a〜11dから出
射したレーザ光は、各々対応するカップリングレンズ1
2a〜12dによりカップリングされ、4本の光ビーム
(レーザビーム)21a〜21dとなる。第一の光源部
41から出射する2ビーム21a,21bは、ビーム合
成プリズム17により、第二の光源部42から出射する
2ビーム21c,21dに近接して合成される。このよ
うな構成を採用することにより、 光源配置の自由度の拡大、 2本の光ビームがポリゴンミラー14の偏向反射面付
近で交差する角度(主走査断面)Θを小さくすることが
可能、 2つの半導体レーザを駆動/制御するための制御基板
を一体化可能、等の効果が得られる。さらに、 光源装置及び/または光走査装置の組立時に、被走査
面における副走査ビームピッチ調整を容易に行うことが
可能、といった効果も得られる。
The laser beams emitted from the four semiconductor lasers 11a to 11d are respectively coupled to the corresponding coupling lens 1.
The light beams are coupled by 2a to 12d to become four light beams (laser beams) 21a to 21d. The two beams 21a and 21b emitted from the first light source unit 41 are combined by the beam combining prism 17 in close proximity to the two beams 21c and 21d emitted from the second light source unit 42. By adopting such a configuration, it is possible to expand the degree of freedom in the arrangement of the light sources and reduce the angle (main scanning cross section) Θ at which the two light beams intersect near the deflecting reflection surface of the polygon mirror 14. The effect that the control board for driving / controlling two semiconductor lasers can be integrated can be obtained. Further, it is possible to easily adjust the sub-scanning beam pitch on the surface to be scanned when assembling the light source device and / or the optical scanning device.

【0089】第一の光源部41及び第二の光源部42の
ベース部材43a,43bは、ねじ45(及び座金4
6)によりフランジ44に固定され、光路偏向素子であ
る液晶素子40も接着等の工法により、上記フランジ4
4に固定すればよい。またビーム合成プリズム17は図
示しない別の保持部材に保持すればよい。
The base members 43a and 43b of the first light source unit 41 and the second light source unit 42 are provided with screws 45 (and washers 4).
6) is fixed to the flange 44 by means of 6).
It should be fixed to 4. The beam combining prism 17 may be held by another holding member (not shown).

【0090】4ビームの光源装置に光路偏向素子として
液晶素子を用いた例は図17(a),(b)と同様であ
り、実施例2−3で説明した通りであるが、光路偏向素
子の別の例として、図14に示した「くさび形プリズ
ム」を光路偏向素子として用いた4ビームの光源装置の
例を図19(a),(b)に示す。図19(a),
(b)に示す実施例においても、図14と同様に、複数
(4つ)の光路偏向素子(くさび形プリズム30a〜3
0d)は、リング超音波モータ31a〜31dを介して
共通の保持部材29に保持され、一体構造となってい
る。この4つのくさび形プリズム30a〜30dを、リ
ング超音波モータ31a〜31dにて独立に回転駆動す
ることで、被走査面における4つのビームスポット位置
を独立に調整することができる。
An example in which a liquid crystal element is used as an optical path deflecting element in a four-beam light source device is the same as in FIGS. 17A and 17B and is as described in Example 2-3. As another example, a four-beam light source device using the "wedge-shaped prism" shown in FIG. 14 as an optical path deflecting element is shown in FIGS. 19 (a) and 19 (b). FIG. 19 (a),
Also in the embodiment shown in FIG. 14B, similar to FIG. 14, a plurality (four) of optical path deflecting elements (wedge prisms 30a to 30a-3).
0d) is held by a common holding member 29 via ring ultrasonic motors 31a to 31d, and has an integral structure. By independently rotating and driving the four wedge prisms 30a to 30d by the ring ultrasonic motors 31a to 31d, the positions of the four beam spots on the surface to be scanned can be adjusted independently.

【0091】尚、いずれの光路偏向素子を使用した場合
でも、上述のように4つのビームスポット位置を調整せ
ず、特定の一つのビームスポットを基準として、残り3
つのビームスポット位置(相対位置)を調整する構成と
しても構わない。この場合には、特定の一つのビームス
ポットに対応するビーム偏向素子またはそれを駆動する
アクチュエータを省略することが可能となる。
It should be noted that no matter which optical path deflecting element is used, the four beam spot positions are not adjusted as described above, and the remaining three beam spots are used as a reference with respect to one specific beam spot.
The configuration may be such that one beam spot position (relative position) is adjusted. In this case, it becomes possible to omit the beam deflecting element corresponding to one specific beam spot or the actuator for driving the beam deflecting element.

【0092】図18に示した構成の光源装置を走査光学
系と組み合わせた例(ビーム合成プリズム17を省略
し、光路を展開して示した図)を図20(a)に示し、
これに対応する被走査面16上でのビームスポット配置
の例を図20(b)に示す。図13及び図3を用いて説
明したのと同様に、図20に示す構成においても、被走
査面16にて主走査方向にビームスポットBSa〜Bs
dの間隔(Q1〜Q3)を確保するためには、偏向器
(ポリゴンミラー)14の前の光学系の光路を互いに非
平行とする必要がある。例えば図20(a)に示すよう
に、光学的には4本の光ビームを偏向器14の偏向反射
面近傍で交差する構成とし、交差角:Θ1〜Θ3を設定
すればよい。このとき、 Qj=FY×Θj (j=1,2,3) の関係がある。
FIG. 20A shows an example (a diagram in which the beam combining prism 17 is omitted and the optical path is expanded) in which the light source device having the structure shown in FIG. 18 is combined with a scanning optical system.
An example of a beam spot arrangement on the surface 16 to be scanned corresponding to this is shown in FIG. Similarly to the case described with reference to FIGS. 13 and 3, in the configuration shown in FIG. 20, the beam spots BSa to Bs on the scanned surface 16 in the main scanning direction.
In order to secure the interval (Q1 to Q3) of d, it is necessary to make the optical paths of the optical system in front of the deflector (polygon mirror) 14 not parallel to each other. For example, as shown in FIG. 20A, it is possible to optically set four light beams to intersect in the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the deflector 14 and set the intersecting angles: Θ1 to Θ3. At this time, there is a relationship of Qj = FY × Θj (j = 1, 2, 3).

【0093】また、既述の通り、光源を「半導体レーザ
とカップリングレンズ」により構成することにより、以
降の光学系の特性に応じた光ビームの特性(コリメート
性及び光軸方向)を容易に得ることが可能となる(請求
項18)。例えば、前述の図7に示したように、ベース
部材22に圧入により固定された半導体レーザ11から
出射され、カップリングレンズ12によりカップリング
された光ビーム21のビーム特性を観察しながら、半導
体レーザ11に対してカップリングレンズ12を位置調
整後、紫外線硬化型接着剤等によりベース部材25に固
定すればよい。
Further, as described above, by configuring the light source with the "semiconductor laser and the coupling lens", the characteristics of the light beam (collimating property and optical axis direction) according to the characteristics of the optical system can be easily obtained. It is possible to obtain (claim 18). For example, as shown in FIG. 7 described above, while observing the beam characteristics of the light beam 21 emitted from the semiconductor laser 11 fixed by press fitting into the base member 22 and coupled by the coupling lens 12, the semiconductor laser The position of the coupling lens 12 with respect to 11 may be adjusted and then fixed to the base member 25 with an ultraviolet curable adhesive or the like.

【0094】あるいは図8に示したように、カップリン
グレンズ12を内装し雄ねじ部を有するレンズセル23
をホルダ部材24の雌ねじ部に螺合することでX方向
(図の左右方向;コリメート率の調整)の相対位置調整
を行い、またベース部材25に保持された半導体レーザ
11のY方向及びZ方向(図の上下方向及び紙面に垂直
な方向;光ビームの出射方向の調整)の相対位置調整を
行うことができる。このような半導体レーザとカップリ
ングレンズの相対位置関係の調整を、一般に「光軸/コ
リメート調整」と呼ぶことが多い。「光軸/コリメート
調整」時には、通常、調整誤差が発生するが、本実施例
では、光路内に配設された光路偏向素子を用いて、光軸
調整誤差を補正(微調整)することが可能となる。
Alternatively, as shown in FIG. 8, a lens cell 23 containing a coupling lens 12 and having a male screw portion is provided.
Is engaged with the female screw portion of the holder member 24 to adjust the relative position in the X direction (left and right direction in the figure; adjustment of the collimation rate), and the Y direction and Z direction of the semiconductor laser 11 held by the base member 25. Relative position adjustment can be performed (vertical direction in the figure and a direction perpendicular to the plane of the drawing; adjustment of emission direction of light beam). Such adjustment of the relative positional relationship between the semiconductor laser and the coupling lens is generally called “optical axis / collimation adjustment” in many cases. Normally, an adjustment error occurs at the time of "optical axis / collimate adjustment", but in the present embodiment, the optical axis adjustment error can be corrected (fine adjustment) by using the optical path deflecting element arranged in the optical path. It will be possible.

【0095】さらに、図21に示すように、カップリン
グレンズ12c(12d)の光軸(レンズ中心軸)を、
半導体レーザ11c(11d)の出射軸から距離δzだ
け変位させることにより、副走査方向に角度φの光軸方
向を設定することが可能となる。上記δzとφの関係
は、カップリングレンズ12c(12d)の焦点距離:
fcolを用いて、 δz=fcol×tanφ にて表される。尚、上記半導体レーザは単一の発光点を
有するシングルビーム半導体レーザでも良いし、複数の
発光点を有するマルチビーム半導体レーザ(半導体レー
ザアレイ)でも構わない。
Further, as shown in FIG. 21, the optical axis (lens center axis) of the coupling lens 12c (12d) is
By displacing the semiconductor laser 11c (11d) from the emission axis by the distance δz, the optical axis direction of the angle φ can be set in the sub-scanning direction. The relationship between δz and φ is the focal length of the coupling lens 12c (12d):
It is represented by δz = fcol × tanφ using fcol. The semiconductor laser may be a single beam semiconductor laser having a single light emitting point or a multi-beam semiconductor laser (semiconductor laser array) having a plurality of light emitting points.

【0096】被走査面において所望のビームスポット径
を得るために、光路の途中に絞り(開口)を設け光ビー
ムを整形する場合が多い。図22に示すように、このよ
うな絞り(開口)を設けたアパーチャ部材27を光ビー
ムの光路において光路偏向素子(例えば液晶素子40)
より上流側(光源側)に配設することができる(請求項
19)。これにより光路偏向素子の有効エリアを狭くす
ることが可能(部品サイズの小型化)となり、また、光
路偏向素子40において光学性能を満足すべき範囲を狭
くすることが可能(製造工程の簡略化、歩留まり向上)
となる。
In order to obtain a desired beam spot diameter on the surface to be scanned, a light beam is often shaped by providing a stop (opening) in the optical path. As shown in FIG. 22, an aperture member 27 provided with such a diaphragm (opening) is used as an optical path deflecting element (for example, a liquid crystal element 40) in the optical path of a light beam.
It can be arranged further upstream (light source side) (claim 19). As a result, the effective area of the optical path deflecting element can be narrowed (component size can be reduced), and the range in which the optical performance of the optical path deflecting element 40 can be satisfied can be narrowed (simplification of manufacturing process, Yield improvement)
Becomes

【0097】また、光路偏向素子が変位(平行移動、回
転)しない場合(例えば、液晶素子40である場合)に
は、上記光ビーム整形用の開口を、光路偏向素子の入射
面または出射面上に形成することにより、別途アパーチ
ャ部材を具備する必要がなくなる。よって部品点数の低
減、及び開口と光路偏向素子の有効エリアとの位置合わ
せ精度の向上を図ることが可能となる。光路偏向素子の
入射面/出射面上への開口の形成は、例えばシルク印刷
等の工法を用いればよい。
When the optical path deflecting element is not displaced (translated or rotated) (for example, the liquid crystal element 40), the light beam shaping aperture is provided on the incident surface or the exit surface of the optical path deflecting element. By forming the above-mentioned structure, it is not necessary to separately provide an aperture member. Therefore, it is possible to reduce the number of components and improve the alignment accuracy between the aperture and the effective area of the optical path deflecting element. To form the openings on the incident surface / emission surface of the optical path deflecting element, a method such as silk printing may be used.

【0098】(実施例2−5)環境(温度、湿度等)の
変化、あるいは経時的な変化により、各半導体レーザと
カップリングレンズの相対位置関係(調整値)が変動す
る等の影響により、被走査面16におけるビームスポッ
トの配列精度が劣化することがある。このような場合で
も、請求項11〜19記載の光源装置を具備した光走査
装置に、被走査面16におけるビームスポットスポット
配列または走査線間隔を検出する手段(ビームスポット
配列検出手段)を設け、その検出結果に基づきビーム偏
向素子を電気信号により駆動/制御(変調)すること
で、ビームスポットの間隔の変動を補正することが可能
となる(請求項20)。ビームスポット配列検出手段の
一例としては、図12における同期検知板19の代替と
して具備すればよい。
(Embodiment 2-5) Due to changes in the environment (temperature, humidity, etc.) or changes over time, the relative positional relationship (adjustment value) between each semiconductor laser and the coupling lens fluctuates. The array accuracy of the beam spots on the surface 16 to be scanned may deteriorate. Even in such a case, the optical scanning device including the light source device according to any one of claims 11 to 19 is provided with means (beam spot arrangement detection means) for detecting the beam spot spot arrangement or the scanning line interval on the surface 16 to be scanned, By driving / controlling (modulating) the beam deflecting element with an electric signal based on the detection result, it becomes possible to correct the variation in the interval of the beam spots. As an example of the beam spot arrangement detection means, it may be provided as an alternative to the synchronization detection plate 19 in FIG.

【0099】光路偏向素子の駆動/制御は、検出された
ビームスポット配列が所望の値になるように、フィード
バック系を構成すればよい。あるいは環境変化/経時変
化に伴うビームスポット配列の変化が事前に(設計的ま
たは計算上)判明している場合には、その変動量に従っ
たテーブルを制御系のメモリに用意し、それに基づき光
路偏向素子を駆動/制御する構成(オープンループ)で
も構わない。
For driving / controlling the optical path deflecting element, a feedback system may be constructed so that the detected beam spot arrangement has a desired value. Alternatively, if the change in the beam spot arrangement due to the environmental change / time-dependent change is known in advance (design or calculation), a table according to the change amount is prepared in the memory of the control system, and the optical path is based on the table. A configuration (open loop) for driving / controlling the deflection element may be used.

【0100】尚、ビームスポット配列検出手段19の構
成としては、例えば[特許文献9]特開平9−3252
88号公報「マルチビーム走査装置」に記載の検出手段
等を用いればよい。また、上記のビームスポット配列検
出手段19の代替として、例えばCCDのような検出手
段を利用することにより、被走査面16上のビームスポ
ット配列(各ビームスポット間の相対位置関係)だけで
はなく、各ビームスポットの絶対位置をも検出すること
が可能となるため、光路偏向素子の駆動/制御によりビ
ームスポットの絶対位置を調整することができる。
The configuration of the beam spot arrangement detecting means 19 is, for example, [Patent Document 9] Japanese Patent Laid-Open No. 9-3252.
The detection means and the like described in Japanese Unexamined Patent Publication No. 88, "Multi-beam scanning device" may be used. Further, as an alternative to the above-mentioned beam spot arrangement detecting means 19, by using a detecting means such as a CCD, not only the beam spot arrangement (relative positional relationship between the beam spots) on the surface 16 to be scanned, Since the absolute position of each beam spot can also be detected, the absolute position of the beam spot can be adjusted by driving / controlling the optical path deflecting element.

【0101】以上、本発明に係る光源装置と光走査装置
(マルチビーム走査装置)の一実施形態として、上記実
施例2−1〜2−5では、2ビーム光源装置と2ビーム
走査装置、及び4ビーム光源装置と4ビーム走査装置に
ついて説明したが、一度に走査される光ビームの本数は
何本であっても構わない。
As described above, as one embodiment of the light source device and the optical scanning device (multi-beam scanning device) according to the present invention, in the above-mentioned Examples 2-1 to 2-5, the two-beam light source device and the two-beam scanning device, and Although the four-beam light source device and the four-beam scanning device have been described, the number of light beams scanned at one time may be any number.

【0102】[実施形態3]次に本発明の第三の実施形
態として、請求項1,22〜26に係る発明の構成、動
作及び作用を図示の実施例に基づいて詳細に説明する。
尚、以下の実施例の説明においては、実施形態1,2と
同様に、X方向を光路(光軸)に沿った方向、Y方向を
主走査(対応)方向、Z方向を副走査(対応)方向とす
る。また、「主走査方向」及び「副走査方向」とは、被
走査面でビームスポットが走査される方向とその直交方
向を意味するが、本実施形態では、光路の各場所で、
(被走査面の)主走査方向と副走査方向に対応する方向
を(広い意味で)各々「主走査方向」、「副走査方向」
と呼んでいる。
[Embodiment 3] Next, as a third embodiment of the present invention, the configuration, operation and action of the invention according to claims 1, 22 to 26 will be described in detail based on the illustrated embodiment.
In the following description of the examples, as in the first and second embodiments, the X direction is the direction along the optical path (optical axis), the Y direction is the main scanning (corresponding) direction, and the Z direction is the sub scanning (corresponding). ) Direction. Further, the "main scanning direction" and "sub-scanning direction" mean the direction in which the beam spot is scanned on the surface to be scanned and the direction orthogonal thereto, but in the present embodiment, at each location of the optical path,
The directions corresponding to the main scanning direction (of the surface to be scanned) and the sub scanning direction (in a broad sense) are the "main scanning direction" and the "sub scanning direction", respectively.
I am calling.

【0103】(実施例3−1)図23(a)は本発明の
一実施例を示す図であって、光走査装置の光学的配置を
示す斜視図である。また、図23(b)は光走査装置の
光源装置の別の構成例を示す要部斜視図であり、カップ
リングレンズ12a,12bの後にビーム合成手段とし
てビーム合成プリズム17を設けた例である。図23に
おいて、「光源装置18」は少なくとも「2組の半導体
レーザ11a,11bとカップリングレンズ12a,1
2b」から構成されているが、このような構成に限定さ
れるわけではない。また、上記半導体レーザ11a,1
1bは唯一の発光点を有するシングルビーム半導体レー
ザでも良いし、複数の発光点を有するマルチビーム半導
体レーザ(半導体レーザアレイ)でも構わない。上記半
導体レーザ11a,11bを出射したレーザ光は、カッ
プリングレンズ12a,12bによりカップリングさ
れ、2本の光ビーム(レーザビーム)21a,21bと
なる。
(Embodiment 3-1) FIG. 23A is a diagram showing an embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of an optical scanning device. Further, FIG. 23B is a perspective view of a main part showing another configuration example of the light source device of the optical scanning device, and is an example in which a beam combining prism 17 is provided as a beam combining means after the coupling lenses 12a and 12b. . In FIG. 23, "light source device 18" is at least "two sets of semiconductor lasers 11a and 11b and coupling lenses 12a and 1".
2b ”, but is not limited to such a configuration. Further, the semiconductor lasers 11a, 1
1b may be a single beam semiconductor laser having a single light emitting point or a multi-beam semiconductor laser (semiconductor laser array) having a plurality of light emitting points. The laser light emitted from the semiconductor lasers 11a and 11b is coupled by the coupling lenses 12a and 12b to become two light beams (laser beams) 21a and 21b.

【0104】光源装置18を出射した2本の光ビーム2
1a,21bはシリンドリカルレンズ13の作用により
偏向器であるポリゴンミラー14の偏向反射面上に(副
走査方向に結像し、主走査方向に長い)線像として結像
された後、2枚の走査レンズ15a,15bと折り返し
ミラー15cで構成された走査光学系15により、被走
査面(例えば感光体ドラム)16上をビームスポットと
して走査される。この光走査装置20を画像形成装置の
光書込装置として利用する場合、光ビームは出力画像デ
ータに対応して変調されるが、その変調開始タイミング
のための電気信号(同期信号)は、同期検知板19に光
ビームが入射することにより得られる。
Two light beams 2 emitted from the light source device 18
1a and 21b are imaged as line images (imaged in the sub-scanning direction and long in the main scanning direction) on the deflective reflection surface of the polygon mirror 14 which is a deflector by the action of the cylindrical lens 13, and then two sheets are formed. A scanning optical system 15 including scanning lenses 15a and 15b and a folding mirror 15c scans a surface to be scanned (for example, a photosensitive drum) 16 as a beam spot. When this optical scanning device 20 is used as an optical writing device of an image forming apparatus, a light beam is modulated in accordance with output image data. It is obtained when the light beam is incident on the detection plate 19.

【0105】尚、図23(a)では図23(b)の場合
と異なり、ビーム合成プリズム17のようなビーム合成
手段が備えられていないが、2つの光ビームがポリゴン
ミラー14の偏向反射面近傍にて「角度Θ」で交差する
構成となっている。このような構成も、広い意味で「ビ
ームが合成されている(すなわちビーム合成手段を有す
る)」と考えるものとする。また、このような構成を採
用することにより、同期検知信号を独立に検出可能とな
るだけではなく、2つの光ビーム間の光学特性(像面湾
曲、倍率誤差等)の偏差の発生を抑制することが可能と
なる。
23A, unlike the case of FIG. 23B, the beam combining means such as the beam combining prism 17 is not provided, but two light beams are deflected and reflected by the polygon mirror 14. It is constructed so that it intersects at an "angle Θ" in the vicinity. Such a configuration is also considered to be “beams are combined (that is, having a beam combining unit)” in a broad sense. Further, by adopting such a configuration, not only the synchronization detection signal can be detected independently, but also the deviation of the optical characteristics (field curvature, magnification error, etc.) between the two light beams is suppressed. It becomes possible.

【0106】図23に示す光走査装置では、被走査面1
6上の光ビームの位置を制御するために、光ビームの光
路を偏向する光路偏向手段をカップリングレンズ12
a,12bの後の光路に備えている(請求項22)。こ
こでは、光路偏向手段として、電気信号にて制御可能な
液晶素子(液晶偏向素子)40(40a,40b)を用
いた例であるが、被走査面16でのビームスポット位置
を制御するためには、光路偏向手段(液晶素子)40
(40a,40b)を電気信号にて駆動することによ
り、ビーム偏向すればよい。尚、液晶素子は、図23
(a)のように分離構造であってもよいし、図23
(b)のように一体構造であっても構わない。
In the optical scanning device shown in FIG. 23, the surface to be scanned 1
In order to control the position of the light beam on 6, the optical path deflecting means for deflecting the optical path of the light beam is coupled lens 12.
It is provided in the optical path after a and 12b (claim 22). In this example, a liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) 40 (40a, 40b) that can be controlled by an electric signal is used as the optical path deflecting means. However, in order to control the beam spot position on the surface 16 to be scanned. Is an optical path deflecting means (liquid crystal element) 40
The beam may be deflected by driving (40a, 40b) with an electric signal. The liquid crystal element is shown in FIG.
It may be a separated structure as shown in FIG.
It may have an integral structure as shown in (b).

【0107】ここで、図24は液晶素子(液晶偏向素
子)40の構成例を示しており、この液晶素子40は、
透明電極40−2と配向膜40−3が形成された2枚の
透明なガラス基板40−1と、スペーサ40−4、及び
液晶40−5で構成され、2枚のガラス基板40−1
を、配向膜40−3が対向するようにスペーサ40−4
を挟んで配置し、2枚のガラス基板40−1の間の空間
に液晶40−5を充填したものである。この液晶素子の
透明電極40−2に駆動制御系40−6を接続し、駆動
電圧として矩形波または正弦波を入力することにより、
光ビームを偏向することができる。また、上記矩形波ま
たは正弦波の幅(デューティ)または振幅を可変するこ
とにより、偏向角の調整が可能となる。尚、液晶素子を
偏向素子として用いた液晶偏向素子の構成としては、上
記の例の他、実施形態1の実施例1−1で説明したよう
に、図32〜34に示すような構成、動作のものも好適
に使用することができる。
Here, FIG. 24 shows an example of the structure of the liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) 40.
Two transparent glass substrates 40-1 each having a transparent electrode 40-2 and an alignment film 40-3, a spacer 40-4, and a liquid crystal 40-5.
The spacer 40-4 so that the alignment films 40-3 face each other.
And the liquid crystal 40-5 is filled in the space between the two glass substrates 40-1. By connecting the drive control system 40-6 to the transparent electrode 40-2 of this liquid crystal element and inputting a rectangular wave or a sine wave as a drive voltage,
The light beam can be deflected. Further, the deflection angle can be adjusted by changing the width (duty) or the amplitude of the rectangular wave or the sine wave. As the configuration of the liquid crystal deflecting element using the liquid crystal element as the deflecting element, as described in Example 1-1 of the first embodiment, the configuration and operation shown in FIGS. The thing of can also be used conveniently.

【0108】光路偏向手段としての液晶素子40により
被走査面16でのビームスポット位置を制御する場合、
例えば、ビームスポット位置を副走査方向に、ΔZ変位
するには、 ΔZ=fcol×mZ×tanφZ より、 φZ=tan−1(ΔZ/fcol×mZ) となるように、ビーム偏向角の副走査方向成分:φZを
発生させればよい。また、ビームスポット位置を主走査
方向にΔy変位するには、 φY=tan−1(ΔY/fcol×mY)=tan−1(ΔY/
FY) となるように、ビーム偏向角の主走査方向成分:φYを
発生させればよい。
When controlling the beam spot position on the scanned surface 16 by the liquid crystal element 40 as the optical path deflecting means,
For example, in order to displace the beam spot position by ΔZ in the sub-scanning direction, ΔZ = fcol × mZ × tan φZ, so that φZ = tan −1 (ΔZ / fcol × mZ), the beam deflection angle in the sub-scanning direction The component: φZ should be generated. Further, to displace the beam spot position by Δy in the main scanning direction, φY = tan −1 (ΔY / fcol × mY) = tan −1 (ΔY /
Main scanning direction component of the beam deflection angle: φY.

【0109】ところで、図23に示す構成の光走査装置
は、前述の実施形態1で説明した構成の光走査装置と同
様の構成であり、光路偏向手段として液晶素子40(4
0a,40b)を用いて光路偏向することにより、被走
査面16上のビームスポット位置の調整(補正)を容易
に実現することができる。また、温度変化などによる経
時的ビームスポット位置変動も補正することが可能であ
る。さらに、光量ロスが少ない、低駆動電力可能等の利
点がある。
By the way, the optical scanning device having the structure shown in FIG. 23 has the same structure as the optical scanning device having the structure described in the first embodiment, and the liquid crystal element 40 (4) is used as the optical path deflecting means.
0a, 40b) to deflect the optical path, it is possible to easily realize the adjustment (correction) of the beam spot position on the scanned surface 16. Further, it is possible to correct a temporal change in beam spot position due to a temperature change or the like. Furthermore, there are advantages such as low loss of light quantity and low driving power.

【0110】その反面、液晶素子は一般に回折によるゴ
ースト光を発生しやすい不具合がある。ここで液晶素子
は、大きく分けて以下の2方式に大別できる。 (1)複数の電極に印加電圧を加えることにより屈折率分
布を発生させ、プリズム効果により入射光を偏向させる
方式。 (2)複数の電極に印加電圧を加えることにより回折格子
として機能する縞パターンを生成し、回折効果により入
射光を偏向させる方式。 いずれの場合も、複数の電極は、ほぼ等間隔に並んだ電
極パターンを形成するため、電極ピッチに相当する回折
光を一般に発生する。
On the other hand, the liquid crystal element generally has a problem that ghost light is likely to be generated due to diffraction. Here, the liquid crystal element can be roughly classified into the following two types. (1) A method in which an applied voltage is applied to a plurality of electrodes to generate a refractive index distribution and the incident light is deflected by a prism effect. (2) A method in which a stripe pattern that functions as a diffraction grating is generated by applying an applied voltage to a plurality of electrodes, and incident light is deflected by the diffraction effect. In any case, since the plurality of electrodes form electrode patterns arranged at substantially equal intervals, diffracted light corresponding to the electrode pitch is generally generated.

【0111】図24にしたような構成の液晶素子40で
は、液晶素子40の透明電極40−2により発生する回
折光のうち0次光が書込データとして偏向されるが、±
1次光、±2次光、・・・は不要なゴースト光である。
こうしたゴースト光が被走査面16に達した場合、画像
上にもゴースト画像が発生し、画像劣化を招く虞があ
る。そこで、このゴースト光を除去するため、図25に
示すように、液晶素子40と偏向器14の間に、ゴース
ト光を遮蔽するためのゴースト光除去手段(例えばスリ
ット開口)51を備えた構成とすることができる(請求
項24)。そして、図25に示すように、ゴースト光除
去手段としてスリット開口51を配置することにより、
液晶素子40の回折で発生する不要なゴースト光(±1
次光、±2次光、・・・)を容易に除去することができ
る。
In the liquid crystal element 40 having the structure as shown in FIG. 24, the 0th order light of the diffracted light generated by the transparent electrode 40-2 of the liquid crystal element 40 is deflected as the write data.
The primary light, ± secondary light, ... Are unnecessary ghost light.
When such ghost light reaches the surface 16 to be scanned, a ghost image is also generated on the image, which may cause image deterioration. Therefore, in order to remove the ghost light, as shown in FIG. 25, a configuration including a ghost light removing means (for example, a slit opening) 51 for blocking the ghost light is provided between the liquid crystal element 40 and the deflector 14. It is possible (claim 24). Then, as shown in FIG. 25, by arranging the slit openings 51 as ghost light removing means,
Unnecessary ghost light generated by diffraction of the liquid crystal element 40 (± 1
Second light, ± secondary light, ...) Can be easily removed.

【0112】ここで、スリット開口51とは、液晶素子
40の偏向方向にゴースト光を遮断する開口を持ってい
れば、いかなる形状をしても良く、長方形の開口、2枚
の遮光板を近づけて配置した開口(長手方向が無限開口
となっている)などが採用できる。また、スリット開口
51は、ガラス板などの透明部材に遮光フィルムや蒸着
手段により形成しても良いし、また、平板に長方形状の
穴を開けて形成しても良いし、ナイフエッジなどを用い
ても良い。さらに、ゴースト光遮蔽部材としては、光軸
方向に段違い(例えば、上ナイフエッジと下ナイフエッ
ジを光軸方向の異なる場所に設置等)の構成でも構わな
い。
Here, the slit opening 51 may have any shape as long as it has an opening for blocking ghost light in the deflection direction of the liquid crystal element 40, and a rectangular opening and two light shielding plates are brought close to each other. It is possible to adopt an opening arranged in such a manner that the longitudinal direction is an infinite opening. The slit opening 51 may be formed by forming a transparent member such as a glass plate with a light-shielding film or vapor deposition means, or by forming a rectangular hole in a flat plate, or using a knife edge or the like. May be. Further, the ghost light shielding member may have a configuration having a step difference in the optical axis direction (for example, the upper knife edge and the lower knife edge are installed at different locations in the optical axis direction).

【0113】図25に示すように、スリット開口51は
下記の関係式を満足することにより、ゴースト光を効果
的に低減することができる(請求項25)。 L>(1/2)×tanθ×(b+Δ) {b:液晶素子により偏向される光ビームの全幅(径) Δ:スリット開口の全幅 L:液晶素子とスリット開口との距離 2θ:液晶素子で発生するゴースト光の、+1次光と−
1次光の間の角度}
As shown in FIG. 25, the slit aperture 51 can effectively reduce the ghost light by satisfying the following relational expression (claim 25). L> (1/2) × tan θ × (b + Δ) {b: Total width (diameter) of light beam deflected by liquid crystal element Δ: Total width of slit opening L: Distance between liquid crystal element and slit opening 2θ: In liquid crystal element Of the ghost light generated, + 1st-order light and −
Angle between primary lights}

【0114】尚、上記スリット開口51等のゴースト光
除去手段は、ビーム合成手段より上流側(光源側)に配
設されても良いし、ビーム合成手段より下流側(被走査
面側)に配設されていても構わない。
The ghost light removing means such as the slit opening 51 may be arranged upstream of the beam synthesizing means (light source side) or downstream of the beam synthesizing means (scanned surface side). It may be installed.

【0115】(実施例3−2)次に図26(a)は本発
明の別の実施例を示す図であって、光走査装置の光学的
配置を示す斜視図である。この光走査装置の基本的な構
成は図23(a)と同様であるが、光路偏向手段として
は、透過型光学素子を偏心して備えることを特徴として
いる(請求項23)。図26(b)は透過型光学素子で
ある「くさび形プリズム30a,30b」から構成され
る光路偏向手段(くさび形プリズムユニット)の断面図
である。
(Embodiment 3-2) Next, FIG. 26A is a view showing another embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of the optical scanning device. The basic configuration of this optical scanning device is the same as that shown in FIG. 23A, but a transmission type optical element is eccentrically provided as the optical path deflecting means (claim 23). FIG. 26B is a sectional view of an optical path deflecting unit (wedge prism unit) including "wedge prisms 30a and 30b" which are transmissive optical elements.

【0116】図26に示す構成の光走査装置は、前述の
実施形態2の実施例2−1で説明した構成の光走査装置
と同様の構成であり、光路偏向手段は、圧電素子で駆動
される「リング超音波モータ31」の内部にくさび形プ
リズム30を挿入し、これを図中の矢印γで示される方
向に回転駆動することで、矢印φで示すように光ビーム
を偏向する(光ビームの副走査方向成分を可変する)こ
とができる。このような構成の2つの「くさび形プリズ
ムユニット」を共通の保持部材29に保持することによ
り、光ビームの偏向可能な光路偏向手段を大型化を招く
ことなく実現することができる。光路偏向手段として、
このような透過型光学素子(くさび形プリズム30a,
30b)を利用した場合には、上述の液晶素子を用いた
場合とは異なり、ゴースト光(回折光)を発生する虞は
なく、従ってゴースト光除去手段を備える必要はない。
The optical scanning device having the configuration shown in FIG. 26 has the same configuration as the optical scanning device having the configuration described in Example 2-1 of the second embodiment, and the optical path deflecting means is driven by a piezoelectric element. The wedge-shaped prism 30 is inserted into the "ring ultrasonic motor 31", and is driven to rotate in the direction indicated by the arrow γ in the figure, whereby the light beam is deflected as indicated by the arrow φ (light It is possible to change the sub-scanning direction component of the beam). By holding the two "wedge-shaped prism units" having such a configuration on the common holding member 29, it is possible to realize the optical path deflecting means capable of deflecting the light beam without increasing the size. As an optical path deflector,
Such a transmissive optical element (wedge prism 30a,
In the case of using 30b), unlike the case of using the above-mentioned liquid crystal element, there is no possibility of generating ghost light (diffracted light), and therefore it is not necessary to provide a ghost light removing means.

【0117】(実施例3−3)次に図27は本発明のさ
らに別の実施例を示す図であって、光学ハウジングに収
納された光走査装置の概略構成を示す平面図である。図
27において、光走査装置を収納する光学ハウジング5
3の側壁に、光ビームを出射する2つの光源モジュール
41,42を固定(保持)し、両光源モジュール41,
42から出射した光ビーム21a,21bは、ビーム合
成プリズム17により合成され、シリンドリカルレンズ
13を介してポリゴンミラーからなる偏向器14に入射
する。ビーム合成プリズム17と偏向器14の間の光路
には、光路偏向手段50(例えば、透過型光学素子や液
晶素子)が配設されているが、この光路偏向手段50と
ビーム合成プリズム17は共通の保持部52に固定(保
持)されている(請求項26)。
(Embodiment 3-3) Next, FIG. 27 is a view showing a further embodiment of the present invention and is a plan view showing a schematic structure of an optical scanning device housed in an optical housing. In FIG. 27, an optical housing 5 for housing the optical scanning device
Two light source modules 41 and 42 for emitting a light beam are fixed (held) to the side wall of the three light source modules 41,
The light beams 21 a and 21 b emitted from 42 are combined by the beam combining prism 17 and enter the deflector 14 formed of a polygon mirror through the cylindrical lens 13. An optical path deflecting means 50 (for example, a transmissive optical element or a liquid crystal element) is arranged in the optical path between the beam combining prism 17 and the deflector 14. The optical path deflecting means 50 and the beam combining prism 17 are common. It is fixed (held) to the holding portion 52 (claim 26).

【0118】尚、図27の構成の場合、第一、第二の光
源モジュール41,42自体が、光源手段(例えば半導
体レーザ)とカップリングレンズを備えた光源装置であ
る。このような光源装置の形態は、必ずしも一体構造で
ある必要はない。また、本実施例に示すように第一、第
二の光源モジュール(光源装置)41,42は光学ハウ
ジング53の側壁54に固定されている必要はなく、例
えばブラケット部材を介して保持され、光学ハウジング
内部に収納されている構成としても構わない。
In the case of the configuration of FIG. 27, the first and second light source modules 41 and 42 themselves are light source devices provided with light source means (for example, semiconductor laser) and a coupling lens. The form of such a light source device does not necessarily have to be an integral structure. Further, as shown in the present embodiment, the first and second light source modules (light source devices) 41 and 42 do not need to be fixed to the side wall 54 of the optical housing 53, and are held via, for example, a bracket member, It may be configured to be housed inside the housing.

【0119】このような構成を採用することにより、図
18に示した構成の光源装置の場合と比較して、光源
(例えば半導体レーザ)劣化時の交換作業を容易に行う
ことができ、また、交換部品点数も少なくすることが可
能となる。また、図示しないゴースト光除去手段(図2
5に示したスリット開口51等)は、通常、ビーム合成
プリズム17より下流側(偏向器側)に配設されるが、
光路偏向手段50がビーム合成プリズム17より上流側
(光源側)に配設されている場合には、レイアウト的に
可能であればゴースト光除去手段をビーム合成プリズム
17より上流側(光源側)に配設しても構わない。
By adopting such a structure, compared with the case of the light source device having the structure shown in FIG. 18, replacement work at the time of deterioration of the light source (for example, semiconductor laser) can be performed easily, and It is also possible to reduce the number of replacement parts. In addition, a ghost light removing means (not shown) (see FIG.
The slit aperture 51, etc. shown in FIG. 5) is normally arranged on the downstream side (deflector side) of the beam combining prism 17,
When the optical path deflecting means 50 is arranged on the upstream side (light source side) of the beam combining prism 17, the ghost light removing means is arranged on the upstream side (light source side) of the beam combining prism 17 if the layout allows. It may be provided.

【0120】次に請求項26を説明する実施例の別形態
を図28に示す。図28(a)は光学ハウジングに固定
(保持)された光学系の要部断面図を示しており、「光
源装置」は、少なくとも、2つの光源モジュール41,
42と、それらを保持する保持部材55とから構成され
ている。
Next, FIG. 28 shows another embodiment of the embodiment for explaining claim 26. FIG. 28A shows a cross-sectional view of an essential part of the optical system fixed (held) to the optical housing, and the “light source device” is at least two light source modules 41,
42 and a holding member 55 that holds them.

【0121】この光源モジュールとしては、例えば図2
8(b)に示すような、 少なくとも、2組の「半導体レーザ11a,11b
と、それらに対応するカップリングレンズ12a,12
b」と、「それらを主走査方向に一列に配置し一体的に
保持するベース部材43a」から構成される「第一の光
源モジュール41」と、 少なくとも、2組の「半導体レーザ11c,11d
と、それらに対応するカップリングレンズ12c,12
d」と、「それらを主走査方向に一列に配置し一体的に
保持するベース部材43b」から構成される「第二の光
源モジュール42」と、を採用することができる。
As this light source module, for example, FIG.
8 (b), at least two sets of “semiconductor lasers 11a and 11b
And coupling lenses 12a, 12 corresponding to them
b ", a" first light source module 41 "composed of" a base member 43a for arranging them in a row in the main scanning direction and integrally holding them, "and at least two sets of" semiconductor lasers 11c and 11d "
And the corresponding coupling lenses 12c, 12
d "and" the second light source module 42 "including" a base member 43b that arranges them in a row in the main scanning direction and integrally holds them "can be employed.

【0122】図28(a)の例では、4ビーム走査装置
を構成しているが、光源モジュールの個数、あるいは一
つの光源モジュールから出射するビーム本数により、よ
り多数ビームのマルチビーム走査装置を実現することが
できる。また、図28(a)の変形例として、図29に
示すように、2つの光源モジュール41,42を(保持
部材55を介さず)直接、光学ハウジング53の側壁5
4に保持する構成を採用しても構わない。
In the example of FIG. 28 (a), a 4-beam scanning device is constructed, but a multi-beam scanning device with a larger number of beams is realized by the number of light source modules or the number of beams emitted from one light source module. can do. As a modified example of FIG. 28A, as shown in FIG. 29, the two light source modules 41 and 42 are directly connected (without the holding member 55) to the side wall 5 of the optical housing 53.
4 may be used.

【0123】[実施形態4] (実施例4−1)次に、以上の実施形態1〜3で説明し
た光走査装置(マルチビーム走査装置)の適用例を以下
に示す。本発明の請求項1〜10,20〜26のうちの
何れか一つに記載の光走査装置を、周知の、少なくと
も、静電潜像が形成される感光手段(感光体)と、静電
潜像をトナーで顕像化する現像器と、顕像化されたトナ
ー像を記録紙に転写する転写装置と、記録紙に転写され
たトナー像を定着する定着装置とからなる電子写真プロ
セスを利用した画像形成装置の光書込装置として使用し
た場合には、複数ビームを同時に走査することによりプ
リント速度の高速化/高密度化を図ることが可能とな
る。また、上述のように被走査面(すなわち感光体)1
6上の光スポット配列の変動を抑制することができるた
め、本画像形成装置により高品位な出力画像を得ること
が可能となる(請求項27)。
[Fourth Embodiment] (Example 4-1) Next, an application example of the optical scanning device (multi-beam scanning device) described in the first to third embodiments will be described below. An optical scanning device according to any one of claims 1 to 10 and 20 to 26 of the present invention is provided with a known photosensitive unit (photoconductor) on which an electrostatic latent image is formed, An electrophotographic process including a developing device that visualizes a latent image with toner, a transfer device that transfers the visualized toner image onto recording paper, and a fixing device that fixes the toner image transferred onto the recording paper. When used as an optical writing device of the image forming apparatus used, it is possible to increase the printing speed and increase the density by simultaneously scanning a plurality of beams. In addition, as described above, the surface to be scanned (that is, the photoconductor) 1
Since it is possible to suppress the fluctuation of the light spot arrangement on the image forming device 6, it is possible to obtain a high-quality output image by the image forming apparatus (claim 27).

【0124】光スポット配列を検出するタイミングは、
プリントアウトするためにオペレータ(サービスマン、
ユーザ等)が画像形成装置のスタートボタンを押下した
後としても良いし、多数枚を出力する場合には数枚(〜
数十枚)毎としても構わない。またプリントアウト時
(ビーム走査時))以外の期間、液晶素子(液晶偏向素
子)に電気信号を入力しない場合には、前回の調整値を
記憶するメモリ機能を付加しておくことができる。
The timing for detecting the light spot array is
To print out, the operator (serviceman,
The user may press the start button of the image forming apparatus, or if a large number of sheets are to be output, several sheets (~
It may be done for every (tens of sheets). In addition, when an electric signal is not input to the liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) during a period other than the time of printing out (during beam scanning), a memory function for storing the previous adjustment value can be added.

【0125】このように本発明の光走査装置20を画像
形成装置の光書込装置として使用した場合には、本体の
操作パネルからオペレータ(サービスマン、ユーザ等)
が操作することにより、画像形成装置から出力画像(評
価チャート)を出力可能にすることができる。出力画像
のパターン(評価チャート)としては、例えば[特許文
献10]特開平10−62705号公報『評価チャート
及び画像記録装置』に記載のパターンを用意しておけば
よい。
As described above, when the optical scanning device 20 of the present invention is used as an optical writing device of an image forming apparatus, an operator (serviceman, user, etc.) can be operated from the operation panel of the main body.
Can be operated so that an output image (evaluation chart) can be output from the image forming apparatus. As the pattern (evaluation chart) of the output image, for example, the pattern described in [Patent Document 10] Japanese Patent Laid-Open No. 10-62705, “Evaluation chart and image recording device” may be prepared.

【0126】このようにオペレータが出力画像によりそ
の画像品質を確認する構成とすることで、光走査装置に
おけるビームスポット配列の変動が出力画像に及ぼす影
響のみならず、現像/転写/定着などの工程が出力画像
に及ぼす影響を含めて、出力画像の劣化を補正すること
が可能となる(請求項28)。さらにビームスポット配
列検出手段または制御手段の一方あるいは両方を省略す
ることも可能となり、光走査装置の低コスト化を図るこ
とができる。
In this way, the operator confirms the image quality by the output image, so that not only the influence of the variation of the beam spot arrangement in the optical scanning device on the output image but also the steps of development / transfer / fixing, etc. It is possible to correct the deterioration of the output image, including the effect of the effect on the output image (claim 28). Further, it is possible to omit one or both of the beam spot arrangement detection means and the control means, and the cost of the optical scanning device can be reduced.

【0127】尚、本発明においては、ビームスポット配
列を検出し、光ビームを偏向調整する時間間隔(インタ
ーバル)は、高々画像出力1枚毎あるいは数〜数十枚
毎、もしくは1ジョブ(バッチ)毎である。そのため光
ビームを偏向調整する時間は、数ミリ〜数百ミリ秒程度
でも問題ない。従って感光体ドラムの回転むらに起因す
る走査ピッチむらを補正するための従来技術(6):[特
許文献6]の場合(高速レスポンスが要求される)とは
異なり、液晶層を多層化する必要はない。同様に従来技
術(5):[特許文献5]の場合とは異なり、感光体の周
速を検知するための検知手段を具備する必要はない。
In the present invention, the time interval (interval) for detecting the beam spot array and adjusting the deflection of the light beam is at most every one image output or every several to several tens of sheets, or one job (batch). Every time. Therefore, the time for deflecting and adjusting the light beam does not matter even if it is about several milliseconds to several hundreds of milliseconds. Therefore, unlike the case of the prior art (6) for correcting the scanning pitch unevenness due to the rotation unevenness of the photoconductor drum: [Patent Document 6] (high-speed response is required), it is necessary to form the liquid crystal layer in multiple layers. There is no. Similarly, in the prior art (5): [Patent Document 5], unlike the case of [Patent Document 5], it is not necessary to provide a detection unit for detecting the peripheral speed of the photoconductor.

【0128】上記画像形成装置をプリンタと複写機(コ
ピー機)の機能を併有する複合機に適用した場合、プリ
ンタモード(複合機をプリンタとして使用する状態)と
コピーモード(複合機を複写機として利用する状態)
で、画素密度を切り替える場合がある。例えば「プリン
タモードでは600dpi、コピーモードでは400d
pi」のように画素密度を切り替えることにより、各モ
ードに適した画素密度を実現することができる。また、
画像形成装置に備えられた操作パネル等からオペレータ
が画素密度切替の指令を出すことにより、使用目的(求
める機能)に応じて、「高画質対応(1200dpi)
⇔高速度(多出力枚数)対応(600dpi)」のよう
に、画素密度を切り替えたい場合もある。このような場
合には、本画像形成装置に具備された光路偏向素子を駆
動/制御することで、容易に画素密度を切り替えること
が可能となる(請求項31)。
When the above-mentioned image forming apparatus is applied to a multi-function machine having both the functions of a printer and a copying machine (copy machine), a printer mode (a state in which the multi-function machine is used as a printer) and a copy mode (the multi-function machine is used as a copying machine). Condition to use)
Therefore, the pixel density may be switched. For example, "600 dpi in printer mode and 400 d in copy mode.
By switching the pixel density like "pi", the pixel density suitable for each mode can be realized. Also,
An operator issues a command to switch the pixel density from an operation panel or the like provided in the image forming apparatus, so that "high image quality compatible (1200 dpi)" is selected according to the purpose of use (function required).
There are also cases where it is desired to switch the pixel density, such as "⇔ high speed (multi-output number) correspondence (600 dpi)". In such a case, the pixel density can be easily switched by driving / controlling the optical path deflecting element provided in the image forming apparatus (claim 31).

【0129】また、デジタルカラー複写機、カラープリ
ンタ等の画像形成装置においては、各色(例えば、ブラ
ック:K、シアン:C、マゼンタ:M、イエロー:Y)
に対応する感光手段(例えば感光体ドラム5K,5C,
5M,5Y)を、画像記録媒体(例えば記録紙)の搬送
方向に直列に配列したタンデム方式が採用されることが
多い。この場合、図30(a)に示すように、各色に対
応する光走査装置を別体(10K,10C,10M,1
0Y)としても良いし、図30(b)に示すように共通
体(10A)としても構わない。あるいは図30(c)
または図30(d)に示すように、光走査装置を二体化
した構成(10A1,10A2)または(10B1,1
0B2)としても構わない。尚、図30(a)〜(d)
では感光体ドラム5K,5C,5M,5Yと光走査装置
しか図示していないが、各感光体ドラム5K,5C,5
M,5Yの周囲には、公知の帯電装置、現像装置、転写
装置、クリーニング装置、除電装置等が配設されてお
り、各感光体ドラム5K,5C,5M,5Y上には、帯
電、光書込、現像の電子写真プロセスを経てブラック、
シアン、マゼンタ、イエローの各色のトナー画像が形成
され、この各色のトナー画像が、4つの感光体ドラム間
を順次搬送される画像記録媒体(例えば記録紙)に順次
重ね合わせて転写される。そして4色のトナー画像が転
写された記録紙は図示しない定着装置に搬送され、定着
装置により画像が記録紙に定着されてカラー画像が得ら
れる。このような構成により、1感光体ドラム型の画像
出力装置の場合(4色に対応して4回の書込が必要)と
比較して、4倍の速さで出力画像を得ることが可能とな
る。
In an image forming apparatus such as a digital color copying machine or a color printer, each color (for example, black: K, cyan: C, magenta: M, yellow: Y).
Corresponding to the photosensitive means (for example, the photosensitive drum 5K, 5C,
A tandem system in which 5M and 5Y) are arranged in series in the conveyance direction of an image recording medium (for example, recording paper) is often used. In this case, as shown in FIG. 30A, the optical scanning device corresponding to each color is separately provided (10K, 10C, 10M, 1).
0Y) or a common body (10A) as shown in FIG. 30 (b). Alternatively, FIG. 30 (c)
Alternatively, as shown in FIG. 30 (d), a configuration (10A1, 10A2) or (10B1,1) in which the optical scanning device is integrated.
0B2) may be used. 30 (a) to 30 (d)
Although only the photoconductor drums 5K, 5C, 5M and 5Y and the optical scanning device are shown in the figure, the photoconductor drums 5K, 5C and 5Y are shown.
Known charging devices, developing devices, transfer devices, cleaning devices, static eliminators, etc. are arranged around M and 5Y, and charging and light charging are performed on the respective photosensitive drums 5K, 5C, 5M and 5Y. Black through the electrophotographic process of writing and developing,
Cyan, magenta, and yellow toner images are formed, and the toner images of the respective colors are sequentially superimposed and transferred onto an image recording medium (for example, recording paper) that is sequentially conveyed between the four photosensitive drums. The recording paper on which the four color toner images have been transferred is conveyed to a fixing device (not shown), and the fixing device fixes the image on the recording paper to obtain a color image. With such a configuration, it is possible to obtain an output image at a speed four times higher than that in the case of a one-photoreceptor-drum type image output device (writing is required four times for four colors). Becomes

【0130】ここで、各色に対応する光走査装置を10
K,10C,10M,10Yと呼ぶことにする。すべて
の光走査装置10K,10C,10M,10Yから出射
されるビームの本数が各々1本の場合には、この光走査
装置を適用した画像形成装置によりフルカラー(4色)
画像を得ることができる。それに対し、4つの光走査装
置の少なくとも一つ(例えばブラックに対応する光走査
装置10K)を本発明の構成の4ビーム光走査装置と
し、この光走査装置のみで光走査を行うことにより、フ
ルカラー画像時と比較して4倍の高密度化が可能とな
る。あるいは記録媒体の搬送速度(及びプロセス速度)
を4倍に変更すれば、画像出力枚数を4倍に増加するこ
とが可能となる。また、フルカラー画像時においても、
文字画像についてはブラックにて書き込むことが多く高
解像度も要求されることが多いため、上記の4ビーム光
走査装置10K(ブラック)に付加して、他の光走査装
置(10C,10M,10Y;1ビーム)も同時に書き
込むことにより、文字/写真/線画イメージ等が混在し
た画像においても、より高品位な出力画像を得ることが
可能となる(請求項29)。
Here, the optical scanning device corresponding to each color is
We call them K, 10C, 10M, and 10Y. When the number of beams emitted from each of the optical scanning devices 10K, 10C, 10M, and 10Y is one, the image forming apparatus to which the optical scanning device is applied provides full color (4 colors).
Images can be obtained. On the other hand, at least one of the four optical scanning devices (for example, the optical scanning device 10K corresponding to black) is used as the four-beam optical scanning device of the present invention, and the optical scanning is performed only by the optical scanning device to obtain a full color image. It is possible to increase the density by four times as compared with the case of image. Or recording medium transport speed (and process speed)
If is changed to 4 times, the number of output images can be increased to 4 times. Also, even in full-color images,
Since a character image is often written in black and a high resolution is often required, it is added to the above-mentioned four-beam optical scanning device 10K (black) and other optical scanning devices (10C, 10M, 10Y; By writing 1 beam) at the same time, it is possible to obtain a higher-quality output image even in an image in which characters / photographs / line drawings are mixed (claim 29).

【0131】(実施例4−2)次に図31は請求項30
の一実施例を示す画像形成装置の概略要部構成図であ
る。本実施例では図31に示すように、実施形態1〜3
で説明した構成の光走査装置(マルチビーム走査装置)
20を2つ使用し、この2つの光走査装置(マルチビー
ム走査装置)20を被走査面(感光体ドラム)16に対
して主走査方向に並列して配備し、有効書き込み幅を分
割して走査している。このように2つの光走査装置(マ
ルチビーム走査装置)20を主走査方向に並列して配備
することにより、有効書き込み幅を大きくできる。ま
た、同じ有効書き込み幅であれば、光学素子、偏向器を
小型化でき、メカ公差や温度変動によるビームウエスト
位置変動が小さくなり、波面収差が低減できる。尚、図
31では被走査面(感光体ドラム)16と2つの光走査
装置20しか図示していないが、感光体ドラム16の周
囲には、公知の帯電装置、現像装置、転写装置、クリー
ニング装置、除電装置等が配設されており、感光体ドラ
ム16上には、帯電、光書込、現像の電子写真プロセス
を経てトナー画像が形成され、このトナー画像が、感光
体ドラム16と転写装置(図示せず)の間を搬送される
画像記録媒体(例えば記録紙)に転写される。そしてト
ナー画像が転写された記録紙は図示しない定着装置に搬
送され、定着装置により画像が記録紙に定着されて画像
が得られる。
(Embodiment 4-2) Next, FIG.
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a main part of an image forming apparatus showing an embodiment. In the present example, as shown in FIG.
Optical scanning device (multi-beam scanning device) having the configuration described in 1.
Two optical scanning devices 20 are used, and the two optical scanning devices (multi-beam scanning device) 20 are arranged in parallel in the main scanning direction with respect to the surface to be scanned (photosensitive drum) 16 to divide the effective writing width. Scanning. In this way, by arranging the two optical scanning devices (multi-beam scanning devices) 20 in parallel in the main scanning direction, the effective writing width can be increased. Further, if the effective writing width is the same, the optical element and the deflector can be downsized, the beam waist position variation due to mechanical tolerance and temperature variation can be reduced, and the wavefront aberration can be reduced. Although only the surface to be scanned (photosensitive drum) 16 and the two optical scanning devices 20 are shown in FIG. 31, a known charging device, developing device, transfer device, and cleaning device are provided around the photosensitive drum 16. , A static eliminator, etc. are provided, and a toner image is formed on the photoconductor drum 16 through an electrophotographic process of charging, optical writing, and development, and the toner image is transferred to the photoconductor drum 16 and the transfer device. It is transferred onto an image recording medium (for example, recording paper) conveyed between (not shown). Then, the recording paper on which the toner image is transferred is conveyed to a fixing device (not shown), and the image is obtained by fixing the image on the recording paper by the fixing device.

【0132】[0132]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の光
走査装置においては、光ビームの光路内に配設された光
路偏向手段により、被走査面上に走査される少なくとも
一つの光ビームの位置を可変することにより、被走査面
でのビームスポット位置を調整することができる。請求
項2記載の光走査装置においては、光路偏向手段として
電気信号で制御可能な液晶素子(液晶偏向素子)を用い
て光ビームを偏向することができるため、装置の大型
化、振動/騒音/熱の発生をもたらさず、また低電圧駆
動にて、被走査面でのビームスポット配列を調整するこ
とができる。請求項3記載の光走査装置においては、請
求項2の効果に加え、光ビームを直交する2方向に対し
独立に偏向可能であるため、被走査面でのビームスポッ
ト配列を主走査/副走査方向に対し独立に調整すること
ができる。請求項4記載の光走査装置では、請求項2の
効果に加え、一つの素子上に複数の有効エリアを有して
いるため、部品点数の低減及び位置決め精度の向上を図
ることができる。請求項5記載の光走査装置において
は、請求項2の効果に加え、光源が少なくとも半導体レ
ーザとそれに対応するカップリングレンズから構成され
ているため、以降の光学系の特性に応じ、出射される光
ビームのビーム特性(コリメート性、出射光軸方向)を
容易に調整することが可能となる。請求項6記載の光走
査装置においては、請求項2または4の効果に加え、互
いに異なる複数の光源から複数の光ビームを出射する構
成であるため、光源配置の自由度の拡大、主走査断面内
で2本の光ビームが偏向器の偏向反射面付近で交差する
角度θを小さくすることが可能、2つの半導体レーザを
駆動/制御するための制御基板を一体化可能、等の効果
が得られる。請求項7記載の光走査装置においては、請
求項5の効果に加え、ビーム合成手段の合成誤差を考慮
して、半導体レーザとそれに対応するカップリングレン
ズの相対位置調整/固定(光軸・コリメート調整)が行
われるため、ビーム合成手段の合成誤差の影響を(光軸
・コリメート調整時に)効果的に吸収(補正)すること
ができる。請求項8記載の光走査装置においては、請求
項2の効果に加え、ビーム整形用の開口を液晶偏向素子
より上流側に配設したため、液晶偏向素子の有効エリア
の大きさを必要最小限とすることができる。請求項9記
載の光走査装置においては、請求項8の効果に加え、ビ
ーム整形用の開口を液晶偏向素子の入射面または出射面
に形成したため、部品点数の低減、開口と液晶偏向素子
の有効エリアの位置決め精度の向上を図ることができ
る。請求項10記載の光走査装置においては、請求項2
〜9のいずれかの効果に加え、被走査面でのビームスポ
ット配列を検出し、フィードバック制御によりその変動
を調整することができるので、温度変化/経時変化に伴
うビームスポット配列の劣化を効果的に抑制することが
できる。
As described above, in the optical scanning device according to the first aspect, at least one light beam scanned on the surface to be scanned by the optical path deflecting means arranged in the optical path of the light beam. By changing the position of, the beam spot position on the surface to be scanned can be adjusted. In the optical scanning device according to the second aspect, since the light beam can be deflected by using a liquid crystal element (liquid crystal deflecting element) which can be controlled by an electric signal as the optical path deflecting means, the apparatus becomes large and vibration / noise / The beam spot arrangement on the surface to be scanned can be adjusted without causing heat generation and by driving at a low voltage. In the optical scanning device according to claim 3, in addition to the effect of claim 2, since the light beam can be independently deflected in two orthogonal directions, the beam spot arrangement on the surface to be scanned is subjected to main scanning / sub scanning. It can be adjusted independently of the direction. In the optical scanning device according to the fourth aspect, in addition to the effect of the second aspect, since a plurality of effective areas are provided on one element, it is possible to reduce the number of parts and improve the positioning accuracy. In the optical scanning device according to a fifth aspect, in addition to the effect of the second aspect, since the light source is composed of at least a semiconductor laser and a coupling lens corresponding to the semiconductor laser, the light is emitted according to the characteristics of the subsequent optical system. It is possible to easily adjust the beam characteristics of the light beam (collimating property, emission optical axis direction). In addition to the effect of claim 2 or 4, the optical scanning device according to claim 6 is configured to emit a plurality of light beams from a plurality of light sources different from each other. The angle θ at which the two light beams intersect in the vicinity of the deflecting / reflecting surface of the deflector can be reduced, and the control substrate for driving / controlling the two semiconductor lasers can be integrated. To be In the optical scanning device according to claim 7, in addition to the effect of claim 5, relative position adjustment / fixing (optical axis / collimate) of the semiconductor laser and the corresponding coupling lens is taken into consideration in consideration of the combining error of the beam combining means. Since the adjustment is performed, the influence of the combining error of the beam combining means can be effectively absorbed (corrected) (at the time of adjusting the optical axis / collimator). In the optical scanning device according to the eighth aspect, in addition to the effect of the second aspect, since the aperture for beam shaping is arranged on the upstream side of the liquid crystal deflecting element, the size of the effective area of the liquid crystal deflecting element can be minimized. can do. In the optical scanning device according to claim 9, in addition to the effect of claim 8, since an opening for beam shaping is formed on the incident surface or the exit surface of the liquid crystal deflecting element, the number of parts is reduced and the opening and the liquid crystal deflecting element are effective. It is possible to improve the positioning accuracy of the area. In the optical scanning device according to claim 10, claim 2
In addition to any one of the effects 1 to 9, it is possible to detect the beam spot arrangement on the surface to be scanned and adjust the variation by feedback control, so that the deterioration of the beam spot arrangement due to temperature change / time change is effective. Can be suppressed.

【0133】請求項11記載の光走査装置の光源装置に
おいては、被走査面でのビームスポット位置調整を行う
ための複数の光路偏向素子を一体構造としたので、光源
装置の小型化を図ることができる。請求項12記載の光
源装置においては、請求項11の効果に加えて、光路偏
向素子を透過型光学素子にて構成したため、(調整範囲
は狭いが)高分解能(高精度)なビームスポット位置調
整が可能となる。請求項13記載の光源装置において
は、請求項11の効果に加えて、光路偏向素子を反射型
光学素子にて構成したため、調整範囲の広いビームスポ
ット位置調整が可能となる。請求項14記載の光源装置
においては、請求項12または13の効果に加えて、印
加電圧に比例する圧電素子(ピエゾ素子)の変位を利用
して光路偏向素子を駆動するため、所望の調整値を高分
解能にて達成することが可能となる。また、リング超音
波モータを利用して光路偏向素子を駆動した場合には、
上記の効果に付加して、電源OFF時にも大きな保持力
を確保することができ、画像形成装置本体や書込装置の
発生する振動/衝撃等による調整値の変動の発生を抑制
することができる。請求項15記載の光源装置において
は、請求項12または13の効果に加えて、入力パルス
数に比例した変位(または角変位)を発生するパルスモ
ータにより光路偏向素子を駆動するため、所望の調整値
を獲得することが可能となる。また、汎用的な(低コス
トな)パルスモータを利用して光源装置を構成するた
め、光源装置の低コスト化を図ることができる。請求項
16記載の光源装置においては、請求項11の効果に加
えて、電気信号にて変調される液晶素子を光路偏向素子
として用いるため、信頼性が高く(可動部なし)、環境
負荷を低減可能(低消費電力)な光源装置を提供するこ
とができる。また、異なる波長を有する複数のレーザビ
ームを任意に偏向することができる。請求項17記載の
光源装置においては、請求項11〜16の何れかの効果
に加えて、光源装置を、第一の光源部と第二の光源部に
分割し、それらからの出射ビームをビーム合成手段を用
いて合成する構成としたので、初期調整の容易化、光源
配置の自由度の拡大、LD制御/駆動基板の共通化を図
ることができる。請求項18記載の光源装置において
は、請求項11〜17の何れかの効果に加えて、光源を
半導体レーザとカップリングレンズにて構成したため、
出射ビームのビーム特性(コリメート率、光軸方向)を
任意かつ容易に設定(調整)することができる。請求項
19記載の光源装置においては、請求項11〜18の何
れかの効果に加えて、光ビーム整形用の開口を光路偏向
素子より上流側(光源側)に配設したので、ビーム偏向
素子の有効エリアを狭くすることができる。請求項20
記載の請求項1〜10の何れかの光源装置を備えた光走
査装置においては、被走査面におけるビームスポット配
列(副走査ビームピッチ)を検出し、その検出結果に基
づき光路偏向素子を駆動する(フィードバック調整す
る)ことができるので、環境変動/経時変化等によるビ
ームスポット配列変動を補正することができる。請求項
21記載の光走査装置は、請求項20の効果に加えて、
主走査断面において、偏向器の偏向反射面に入射する2
本の光ビームを互いに非平行となる構成としたので、2
ビームの主走査方向のビームピッチを確保することがで
き、独立に同期検知信号を得ることが可能となる。
In the light source device of the optical scanning device according to the eleventh aspect, since the plurality of optical path deflecting elements for adjusting the beam spot position on the surface to be scanned are integrally structured, the light source device can be downsized. You can In the light source device according to the twelfth aspect, in addition to the effect of the eleventh aspect, since the optical path deflecting element is configured by the transmission type optical element, the beam spot position adjustment with high resolution (although the adjustment range is narrow) is high. Is possible. In the light source device according to the thirteenth aspect, in addition to the effect of the eleventh aspect, since the optical path deflecting element is constituted by the reflection type optical element, it is possible to adjust the beam spot position with a wide adjustment range. In the light source device according to claim 14, in addition to the effect of claim 12 or 13, since the optical path deflecting element is driven by utilizing the displacement of the piezoelectric element (piezo element) proportional to the applied voltage, a desired adjustment value is obtained. Can be achieved with high resolution. Further, when the optical path deflecting element is driven by using the ring ultrasonic motor,
In addition to the above effects, it is possible to secure a large holding force even when the power is turned off, and it is possible to suppress the occurrence of fluctuations in adjustment values due to vibrations / impacts generated by the image forming apparatus main body or the writing apparatus. . In the light source device according to the fifteenth aspect, in addition to the effect of the twelfth or thirteenth aspect, since the optical path deflecting element is driven by a pulse motor that generates a displacement (or an angular displacement) proportional to the number of input pulses, a desired adjustment is made. It is possible to obtain a value. Further, since the light source device is configured by using a general-purpose (low cost) pulse motor, the cost of the light source device can be reduced. In the light source device according to claim 16, in addition to the effect of claim 11, since a liquid crystal element modulated by an electric signal is used as an optical path deflecting element, reliability is high (no movable part) and environmental load is reduced. A light source device capable (low power consumption) can be provided. Further, it is possible to arbitrarily deflect a plurality of laser beams having different wavelengths. In the light source device according to claim 17, in addition to the effect according to any one of claims 11 to 16, the light source device is divided into a first light source part and a second light source part, and an emission beam from them is beamed. Since the composition is made by using the composition means, the initial adjustment can be facilitated, the degree of freedom of the light source arrangement can be increased, and the LD control / driving substrate can be shared. In the light source device according to claim 18, in addition to the effect according to any one of claims 11 to 17, the light source is composed of a semiconductor laser and a coupling lens.
The beam characteristics (collimation rate, optical axis direction) of the outgoing beam can be arbitrarily (and easily) set (adjusted). In the light source device according to claim 19, in addition to the effect according to any one of claims 11 to 18, since the opening for shaping the light beam is arranged on the upstream side (light source side) of the optical path deflecting element, the beam deflecting element is provided. The effective area of can be narrowed. Claim 20
An optical scanning device comprising a light source device according to any one of claims 1 to 10 detects a beam spot arrangement (sub-scanning beam pitch) on a surface to be scanned, and drives an optical path deflecting element based on the detection result. Since (feedback adjustment) can be performed, it is possible to correct variations in the beam spot arrangement due to environmental variations, changes over time, and the like. The optical scanning device according to a twenty-first aspect has the effect of the twentieth aspect,
In the main scanning section, it is incident on the deflecting / reflecting surface of the deflector 2
Since the light beams of the book are made non-parallel to each other,
The beam pitch of the beam in the main scanning direction can be secured, and the synchronization detection signal can be obtained independently.

【0134】請求項22記載の光走査装置においては、
光路偏向手段を用いて光ビームの光路を偏向することに
より、被走査面でのビームスポット位置を調整すること
ができる。請求項23記載の光走査装置においては、請
求項22の効果に加えて、光路偏向素子を透過型光学素
子にて構成したため、(調整範囲は狭いが)高分解能
(高精度)なビームスポット位置調整が可能となる。請
求項24記載の光走査装置においては、請求項22の効
果に加えて、液晶素子にて原理的に発生するゴースト光
を、スリット開口を用いて除去することにより、不要な
光ビームが被走査面に到達することを防止することがで
きる。請求項25記載の光走査装置においては、請求項
24の効果に加えて、スリット開口の配置位置を、光ビ
ームの全幅、ゴースト光(回折光)の回折角、スリット
開口幅からなる開口関係式を満足する位置とすることに
より、効果的にゴースト光を遮蔽することができる。請
求項26記載の光走査装置においては、請求項22〜2
5の効果に加えて、光路偏向手段を光源装置から分離す
る構成とすることにより、光源劣化時の部品交換作業が
容易になり、部品交換点数を低減することができる。
In the optical scanning device according to claim 22,
By deflecting the optical path of the light beam using the optical path deflecting means, the beam spot position on the surface to be scanned can be adjusted. In the optical scanning device according to the twenty-third aspect, in addition to the effect of the twenty-second aspect, since the optical path deflecting element is composed of a transmission type optical element, a high resolution (high accuracy) beam spot position (although the adjustment range is narrow). Adjustment is possible. In the optical scanning device according to a twenty-fourth aspect, in addition to the effect of the twenty-second aspect, unnecessary light beams are scanned by removing ghost light which is generated in principle in a liquid crystal element by using a slit opening. It is possible to prevent reaching the surface. In the optical scanning device according to a twenty-fifth aspect, in addition to the effect of the twenty-fourth aspect, the arrangement position of the slit aperture is defined by an aperture relational expression including a full width of the light beam, a diffraction angle of ghost light (diffracted light), and a slit aperture width. The ghost light can be effectively shielded by setting the position that satisfies the above condition. According to the optical scanning device of claim 26,
In addition to the effect of 5, the configuration in which the optical path deflecting unit is separated from the light source device facilitates the component replacement work when the light source deteriorates, and can reduce the number of component replacement points.

【0135】請求項27記載の画像形成装置において
は、請求項1〜10,20〜26のうちの何れか一つに
記載の光走査装置を、電子写真プロセスを用いた画像形
成装置の光走査装置として使用し、複数の光ビームを同
時に走査することが可能となるため、プリント速度の高
速化/高密度化を図ることができる。また、シングルビ
ーム光源装置と同じプリント速度/走査密度を達成する
には、ポリゴンミラー等の偏向器の回転数を低減するこ
とが可能となるため、消費電力の低減や振動/騒音/熱
発生の低減に繋がり、環境に対する負荷を低減すること
ができる。請求項28記載の画像形成装置においては、
請求項27の効果に加えて、記録媒体上の出力画像に基
づきオペレータが画像品質を判断し、光路偏向素子を駆
動/制御するため、現像/転写/定着などの工程が出力
画像に及ぼす影響を含めて、出力画像の劣化を補正する
ことが可能となり、またビームスポット配列検出手段ま
たは制御手段の一方あるいは両方を省略することも可能
となり、光走査装置の低コスト化を図ることができる。
請求項29記載の画像形成装置においては、請求項27
または28の効果に加えて、本発明の光走査装置を、電
子写真プロセスを用いたタンデム式の多色画像形成装置
の光走査装置として使用したので、単色及び多色の出力
画像の高密度化/高速度化、及び出力画像の高品位化を
図ることができる。請求項30記載の画像形成装置にお
いては、請求項27または28の効果に加えて、光走査
装置を複数備え、一つの感光手段に対して、複数の光走
査装置を主走査方向に直列に配置したことにより、出力
画像の色ずれが少なく、繋ぎ目での画像劣化が少ない画
像形成装置を提供することができる。また、請求項31
記載の画像形成装置においては、請求項27〜28の何
れかの効果に加えて、画像形成装置のモード(コピーモ
ード、プリンタモード等)や使用目的(高画質対応、高
速度対応等)に応じて画素密度を切り替えることが可能
となる。
In an image forming apparatus according to a twenty-seventh aspect, the optical scanning apparatus according to any one of the first to tenth aspects and the twenty to twenty-sixth aspects is used for the optical scanning of the image forming apparatus using an electrophotographic process. Since it can be used as a device and can scan a plurality of light beams at the same time, it is possible to increase the printing speed and increase the density. Further, in order to achieve the same printing speed / scanning density as that of the single beam light source device, it is possible to reduce the number of revolutions of the deflector such as a polygon mirror, which leads to reduction of power consumption and generation of vibration / noise / heat. This leads to a reduction in the load on the environment. In the image forming apparatus according to claim 28,
In addition to the effect of claim 27, since the operator judges the image quality based on the output image on the recording medium and drives / controls the optical path deflecting element, the influence of processes such as development / transfer / fixing on the output image is affected. In addition, the deterioration of the output image can be corrected, and one or both of the beam spot arrangement detection unit and the control unit can be omitted, and the cost of the optical scanning device can be reduced.
The image forming apparatus according to claim 29,
In addition to the effect of 28, since the optical scanning device of the present invention is used as an optical scanning device of a tandem type multicolor image forming apparatus using an electrophotographic process, it is possible to increase the density of monochromatic and multicolor output images. / Higher speed and higher quality output image can be achieved. In the image forming apparatus according to claim 30, in addition to the effect according to claim 27 or 28, a plurality of optical scanning devices are provided, and the plurality of optical scanning devices are arranged in series in the main scanning direction with respect to one photosensitive unit. By doing so, it is possible to provide the image forming apparatus in which the color shift of the output image is small and the image deterioration at the joint is small. In addition, claim 31
In the image forming apparatus described in the above, in addition to the effect according to any one of claims 27 to 28, according to a mode (copy mode, printer mode, etc.) of the image forming apparatus and a purpose of use (high image quality correspondence, high speed correspondence, etc.) It is possible to switch the pixel density.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例を示す図であって、光走査装
置の光学的配置を示す斜視図である。
FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of an optical scanning device.

【図2】図1に示す光走査装置の主走査断面における光
学的配置と光路を示す要部平面図である。
2 is a main part plan view showing an optical arrangement and an optical path in a main scanning section of the optical scanning device shown in FIG.

【図3】2つの光ビームによる被走査面上でのビームス
ポット配列の一例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a beam spot arrangement on a surface to be scanned by two light beams.

【図4】光源から出射した2本の光ビームのなす角度
(副走査断面へ射影した2本の光ビームの出射角度)を
示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing an angle formed by two light beams emitted from a light source (an emission angle of two light beams projected onto a sub-scan section).

【図5】液晶偏向素子の構成及び動作の一例を示す説明
図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an example of the configuration and operation of a liquid crystal deflecting element.

【図6】本発明の別の実施例を示す図であって、光走査
装置の偏向器より前側の光学系のみを示す斜視図であ
る。
FIG. 6 is a view showing another embodiment of the present invention, and is a perspective view showing only an optical system in front of the deflector of the optical scanning device.

【図7】本発明の光走査装置に用いられる光源の構成例
を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a configuration example of a light source used in the optical scanning device of the present invention.

【図8】本発明の光走査装置に用いられる光源の別の構
成例を示す断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view showing another configuration example of a light source used in the optical scanning device of the present invention.

【図9】ビーム合成プリズにおける合成誤差の説明図で
ある。
FIG. 9 is an explanatory diagram of a combining error in the beam combining prism.

【図10】光軸・コリメート調整時にビーム合成プリズ
ムの合成誤差を補正する方法の説明図である。
FIG. 10 is an explanatory diagram of a method of correcting a combining error of a beam combining prism when adjusting an optical axis and a collimator.

【図11】光ビームを整形するアパーチャ部材の配置位
置の説明図である。
FIG. 11 is an explanatory diagram of an arrangement position of an aperture member that shapes a light beam.

【図12】本発明の別の実施例を示す図であって、光走
査装置の光学的配置を示す斜視図である。
FIG. 12 is a view showing another embodiment of the present invention and is a perspective view showing an optical arrangement of an optical scanning device.

【図13】図12に示す光走査装置の主走査断面内での
光学配置を示す要部平面図である。
13 is a plan view of relevant parts showing an optical arrangement in a main scanning section of the optical scanning device shown in FIG.

【図14】図12に示す光走査装置に用いられる光路偏
向素子の一例を示す図であって、透過型光学素子である
くさび形プリズムで構成される光路偏向素子の概略断面
図である。
14 is a diagram showing an example of an optical path deflecting element used in the optical scanning device shown in FIG. 12, and is a schematic cross-sectional view of the optical path deflecting element formed of a wedge prism that is a transmissive optical element.

【図15】図12に示す光走査装置に用いられる光路偏
向素子の別の例を示す図であって、透過型光学素子であ
るシリンドリカルレンズで構成される光路偏向素子の構
成説明図である。
15 is a diagram showing another example of the optical path deflecting element used in the optical scanning device shown in FIG. 12, and is a structural explanatory view of the optical path deflecting element configured by a cylindrical lens which is a transmissive optical element.

【図16】図12に示す光走査装置に用いられる光路偏
向素子の別の例を示す図であって、反射型光学素子を用
いた光路偏向素子の構成説明図である。
16 is a diagram showing another example of the optical path deflecting element used in the optical scanning device shown in FIG. 12, and is a configuration explanatory view of the optical path deflecting element using a reflective optical element.

【図17】図12に示す光走査装置に用いられる光路偏
向素子の別の例を示す図であって、液晶素子を用いた光
路偏向素子の構成説明図である。
17 is a diagram showing another example of the optical path deflecting element used in the optical scanning device shown in FIG. 12, and is a configuration explanatory diagram of the optical path deflecting element using a liquid crystal element.

【図18】第一、第二の光源部と光路偏向素子及びビー
ム合成手段を一体化した構成の光源装置の構成例を分解
した状態で示す斜視図である。
FIG. 18 is a perspective view showing an exploded configuration example of a light source device having a configuration in which first and second light source sections, an optical path deflecting element, and beam combining means are integrated.

【図19】くさび形プリズムを光路偏向素子として用い
た4ビームの光源装置の例を示す構成説明図である。
FIG. 19 is a structural explanatory view showing an example of a four-beam light source device using a wedge prism as an optical path deflecting element.

【図20】図18に示す光源装置を走査光学系と組み合
わせたときの光学系配置と、被走査面でのビームスポッ
ト配列を示す図である。
20 is a diagram showing an optical system arrangement and a beam spot arrangement on a surface to be scanned when the light source device shown in FIG. 18 is combined with a scanning optical system.

【図21】光源部と光路偏向素子及びビーム合成手段を
一体化した構成の光源装置の光軸方向設定方法の説明図
である。
FIG. 21 is an explanatory diagram of an optical axis direction setting method of a light source device having a configuration in which a light source unit, an optical path deflecting element, and a beam combining unit are integrated.

【図22】光源装置に光ビームを整形するアパーチャ部
材を設ける場合の配置位置の説明図である。
FIG. 22 is an explanatory diagram of an arrangement position when an aperture member that shapes a light beam is provided in the light source device.

【図23】本発明の別の実施例を示す図であって、
(a)は光走査装置の光学的配置を示す斜視図、(b)
は光走査装置の光源装置の別の構成例を示す斜視図であ
る。
FIG. 23 is a diagram showing another embodiment of the present invention,
FIG. 3A is a perspective view showing the optical arrangement of the optical scanning device, and FIG.
FIG. 6 is a perspective view showing another configuration example of the light source device of the optical scanning device.

【図24】液晶素子におけるゴースト光(回折光)の発
生例を示す図である。
FIG. 24 is a diagram showing an example of generation of ghost light (diffracted light) in a liquid crystal element.

【図25】ゴースト光除去手段によるゴースト光(回折
光)の遮蔽例を示す図である。
FIG. 25 is a diagram showing an example of shielding ghost light (diffracted light) by ghost light removing means.

【図26】本発明の別の実施例を示す図であり、(a)
は光走査装置の光学的配置を示す斜視図、(b)は光走
査装置の光路偏向手段の構成例を示す要部断面図であ
る。
FIG. 26 is a view showing another embodiment of the present invention, (a)
FIG. 3 is a perspective view showing an optical arrangement of the optical scanning device, and FIG. 6B is a cross-sectional view of essential parts showing a configuration example of an optical path deflecting means of the optical scanning device.

【図27】本発明のさらに別の実施例を示す図であり、
光学ハウジングに収納された光走査装置の概略構成を示
す平面図である。
FIG. 27 is a view showing still another embodiment of the present invention,
FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of an optical scanning device housed in an optical housing.

【図28】本発明のさらに別の実施例を示す図であり、
光学ハウジングに収納された光走査装置の光源部の構成
の説明図である。
FIG. 28 is a view showing still another embodiment of the present invention,
It is explanatory drawing of a structure of the light source part of the optical scanning device accommodated in the optical housing.

【図29】本発明のさらに別の実施例を示す図であり、
光学ハウジングに収納された光走査装置の光源部の構成
の説明図である。
FIG. 29 is a view showing still another embodiment of the present invention,
It is explanatory drawing of a structure of the light source part of the optical scanning device accommodated in the optical housing.

【図30】本発明に係る画像形成装置の概略構成の説明
図である。
FIG. 30 is an explanatory diagram of a schematic configuration of an image forming apparatus according to the present invention.

【図31】本発明に係る画像形成装置の概略要部構成図
である。
FIG. 31 is a schematic configuration diagram of an essential part of an image forming apparatus according to the present invention.

【図32】液晶偏向素子の構成、動作の一例を説明する
ための図である。
FIG. 32 is a diagram for explaining an example of the configuration and operation of a liquid crystal deflecting element.

【図33】液晶偏向素子の構成、動作の別の例を説明す
るための図である。
FIG. 33 is a diagram for explaining another example of the configuration and operation of the liquid crystal deflecting element.

【図34】液晶偏向素子の構成、動作のさらに別の例を
説明するための図である。
FIG. 34 is a diagram for explaining still another example of the configuration and operation of the liquid crystal deflecting element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11a,11b,11:半導体レーザ(または半導体レ
ーザアレイ) 12a,12b,12:カップリングレンズ 13:シリンドリカルレンズ 14:ポリゴンミラー(偏向器) 15:走査光学系 16:感光体ドラム(被走査面) 17:ビーム合成プリズム(ビーム合成手段) 18:光源装置 19:同期信号を検出する手段(同期検知板)(または
ビームスポット配列検出手段) 20:光走査装置(マルチビーム走査装置) 21a,21b,21:光ビーム 22:保持部材 23:レンズセル 24:ホルダ部材 25:ベース部材 26:ポジションセンサ 27:アパーチャ部材(絞り、開口) 28a,28b,28:液晶偏向素子(光路偏向手段) 29a,29b:光路偏向素子(光路偏向手段) 29:保持部材 30,30a,30b,30c,30d:くさび形プリ
ズム(透過型光学素子) 31:リング超音波モータ 32:ピエゾ素子(圧電素子) 33:シリンドリカルレンズ(透過型光学素子) 34:弾性部材(コイルスプリング) 35:レンズホルダ 36:支持部材 37a,37b:折返しミラー(反射型光学素子) 38:コロ 39:ミラーホルダ 40,40a,40b,40c,40d:液晶素子(光
路偏向手段) 41:第一の光源部 42:第二の光源部 43:ベース部材 44:フランジ 45:ねじ 46:座金 50:光路偏向手段 52:保持部 53:光学ハウジング 54:側壁 55:保持部材
11a, 11b, 11: Semiconductor laser (or semiconductor laser array) 12a, 12b, 12: Coupling lens 13: Cylindrical lens 14: Polygon mirror (deflector) 15: Scanning optical system 16: Photosensitive drum (scanned surface) 17: Beam synthesizing prism (beam synthesizing means) 18: Light source device 19: Synchronous signal detecting means (synchronous detection plate) (or beam spot array detecting means) 20: Optical scanning device (multi-beam scanning device) 21a, 21b, 21: light beam 22: holding member 23: lens cell 24: holder member 25: base member 26: position sensor 27: aperture member (aperture, aperture) 28a, 28b, 28: liquid crystal deflecting element (optical path deflecting means) 29a, 29b : Optical path deflecting element (optical path deflecting means) 29: Holding members 30, 30a, 30b, 30 , 30d: Wedge prism (transmissive optical element) 31: Ring ultrasonic motor 32: Piezo element (piezoelectric element) 33: Cylindrical lens (transmissive optical element) 34: Elastic member (coil spring) 35: Lens holder 36: Support members 37a, 37b: Folding mirror (reflection type optical element) 38: Roller 39: Mirror holders 40, 40a, 40b, 40c, 40d: Liquid crystal element (optical path deflecting means) 41: First light source unit 42: Second Light source part 43: Base member 44: Flange 45: Screw 46: Washer 50: Optical path deflecting means 52: Holding part 53: Optical housing 54: Side wall 55: Holding member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 悟 東京都大田区中馬込1丁目3番6号・株式 会社リコー内 (72)発明者 中島 智宏 東京都大田区中馬込1丁目3番6号・株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2C362 AA03 AA10 AA13 AA26 AA34 AA40 AA42 AA43 BA58 BA68 BA71 BA83 BA86 BA90 BB28 BB46 DA03 2H045 AA01 BA02 BA22 BA33 CB65 DA02 5C051 AA02 CA07 DB30 DC04 DE24 5C072 AA03 DA21 HA06 HA11 XA05   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Satoru Ito             1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo, stock             Company Ricoh (72) Inventor Tomohiro Nakajima             1-3-3 Nakamagome, Ota-ku, Tokyo, stock             Company Ricoh F-term (reference) 2C362 AA03 AA10 AA13 AA26 AA34                       AA40 AA42 AA43 BA58 BA68                       BA71 BA83 BA86 BA90 BB28                       BB46 DA03                 2H045 AA01 BA02 BA22 BA33 CB65                       DA02                 5C051 AA02 CA07 DB30 DC04 DE24                 5C072 AA03 DA21 HA06 HA11 XA05

Claims (31)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光源から出射された複数の光ビームで被走
査面上を主走査方向に同時に走査する光走査装置におい
て、 光ビームの光路内に配設された光路偏向手段により、被
走査面上に走査される少なくとも一つの光ビームの位置
を可変することを特徴とする光走査装置。
1. An optical scanning device which simultaneously scans a surface to be scanned with a plurality of light beams emitted from a light source in a main scanning direction by an optical path deflecting means arranged in an optical path of the light beam. An optical scanning device, wherein the position of at least one light beam scanned above is variable.
【請求項2】請求項1記載の光走査装置において、 前記光路偏向手段として、電気信号で制御可能な液晶素
子からなる液晶偏向素子を用い、該液晶偏向素子によ
り、被走査面上に走査される少なくとも一つの光ビーム
の位置を可変することを特徴とする光走査装置。
2. The optical scanning device according to claim 1, wherein a liquid crystal deflecting element including a liquid crystal element controllable by an electric signal is used as the optical path deflecting means, and the surface to be scanned is scanned by the liquid crystal deflecting element. An optical scanning device characterized by varying the position of at least one light beam.
【請求項3】請求項2記載の光走査装置において、 前記液晶偏向素子は、光ビームを互いに直交する2方向
に独立に偏向可能であることを特徴とする光走査装置。
3. The optical scanning device according to claim 2, wherein the liquid crystal deflecting element is capable of independently deflecting a light beam in two directions orthogonal to each other.
【請求項4】請求項2記載の光走査装置において、 前記液晶偏向素子は、一つの素子上に互いに独立に変調
可能な有効エリアを複数有することを特徴とする光走査
装置。
4. The optical scanning device according to claim 2, wherein the liquid crystal deflecting element has a plurality of effective areas which can be independently modulated on one element.
【請求項5】請求項2記載の光走査装置において、 前記光源は、少なくとも、発光点となる半導体レーザ
と、該半導体レーザから出射されるレーザ光をカップリ
ングするためのカップリングレンズとからなることを特
徴とする光走査装置。
5. The optical scanning device according to claim 2, wherein the light source includes at least a semiconductor laser serving as a light emitting point and a coupling lens for coupling laser light emitted from the semiconductor laser. An optical scanning device characterized by the above.
【請求項6】請求項2または4記載の光走査装置におい
て、 互いに異なる複数の光源から出射された光ビームを、ビ
ーム合成手段を用いて合成することを特徴とする光走査
装置。
6. The optical scanning device according to claim 2, wherein light beams emitted from a plurality of different light sources are combined by a beam combining means.
【請求項7】請求項6記載の光走査装置において、 前記光源は、少なくとも、発光点となる半導体レーザ
と、該半導体レーザから出射されるレーザ光をカップリ
ングするためのカップリングレンズとからなり、前記半
導体レーザと、それに対応するカップリングレンズの組
み付け(位置調整/固定)に際し、ビーム合成手段の合
成誤差を補正して組み付けられることを特徴とする光走
査装置。
7. The optical scanning device according to claim 6, wherein the light source comprises at least a semiconductor laser serving as a light emitting point and a coupling lens for coupling laser light emitted from the semiconductor laser. An optical scanning device, characterized in that, when the semiconductor laser and a coupling lens corresponding thereto are assembled (position adjustment / fixation), a composition error of a beam composition means is corrected.
【請求項8】請求項2記載の光走査装置において、 ビーム整形用の開口部をもつアパーチャ部材を、光ビー
ムの光路において液晶偏向素子より上流側(光源側)に
配設したことを特徴とする光走査装置。
8. The optical scanning device according to claim 2, wherein an aperture member having an opening for beam shaping is arranged upstream of the liquid crystal deflecting element (light source side) in the optical path of the light beam. Optical scanning device.
【請求項9】請求項8記載の光走査装置において、 ビーム整形用の開口を、液晶偏向素子の入射面または出
射面に形成したことを特徴とする光走査装置。
9. The optical scanning device according to claim 8, wherein an opening for beam shaping is formed on an incident surface or an emission surface of the liquid crystal deflecting element.
【請求項10】請求項2〜9のうちの何れか一つに記載
の光走査装置であって、光源から出射された複数の光ビ
ームを、被走査面上に同時に光スポットとして走査する
光走査装置において、 被走査面上を同時に走査される複数の光スポットの位置
を検知する検知手段と、その検知結果に基づき液晶偏向
素子を駆動/制御するための駆動手段とを有し、少なく
とも一つの光スポットの位置を可変することを特徴とす
る光走査装置。
10. The optical scanning device according to claim 2, wherein a plurality of light beams emitted from a light source are simultaneously scanned as light spots on a surface to be scanned. The scanning device has a detection unit that detects the positions of a plurality of light spots that are simultaneously scanned on the surface to be scanned, and a drive unit that drives / controls the liquid crystal deflection element based on the detection result. An optical scanning device characterized by changing the positions of two light spots.
【請求項11】請求項1記載の光走査装置に用いられ、
複数の光ビームを出射する光源装置であって、 複数の光源から出射される光ビームに対応して、各光ビ
ームを独立に偏向するための複数の光路偏向手段を具備
し、前記複数の光路偏向手段は一体構造となっているこ
とを特徴とする光源装置。
11. The optical scanning device according to claim 1,
A light source device for emitting a plurality of light beams, comprising: a plurality of optical path deflecting means for independently deflecting each of the light beams corresponding to the light beams emitted from the plurality of light sources. The light source device is characterized in that the deflecting means has an integral structure.
【請求項12】請求項11記載の光源装置において、 前記光路偏向手段は、光路中に配設された透過型光学素
子であることを特徴とする光源装置。
12. The light source device according to claim 11, wherein the optical path deflecting means is a transmissive optical element disposed in the optical path.
【請求項13】請求項11記載の光源装置において、 前記光路偏向手段は、光路中に配設された反射型光学素
子であることを特徴とする光源装置。
13. The light source device according to claim 11, wherein the optical path deflecting means is a reflective optical element disposed in the optical path.
【請求項14】請求項12または13記載の光源装置に
おいて、 前記透過型光学素子または反射型光学素子は、圧電素子
を用いた駆動手段により駆動されることを特徴とする光
源装置。
14. The light source device according to claim 12, wherein the transmissive optical element or the reflective optical element is driven by a driving unit using a piezoelectric element.
【請求項15】請求項12または13記載の光源装置に
おいて、 前記透過型光学素子または反射型光学素子は、入力パル
ス信号により所定の角度だけ回転するパルスモータ、ま
たは入力パルス信号により所定の距離だけ直進するパル
スモータを用いた駆動手段により、駆動されることを特
徴とする光源装置。
15. The light source device according to claim 12, wherein the transmissive optical element or the reflective optical element is a pulse motor that rotates a predetermined angle according to an input pulse signal, or a predetermined distance according to an input pulse signal. A light source device characterized by being driven by a driving means using a pulse motor that travels straight.
【請求項16】請求項11記載の光源装置において、 前記光路偏向手段は電気信号にて駆動される液晶素子で
あることを特徴とする光源装置。
16. The light source device according to claim 11, wherein the optical path deflecting means is a liquid crystal element driven by an electric signal.
【請求項17】請求項11〜16のうちの何れか一つに
記載の光源装置において、 複数の光源を主走査方向に一列に配列し、これらを一体
的に保持する第一の光源部と、前記第一の光源部と同様
に構成した第二の光源部と、前記第一の光源部と第二の
光源部から出射される光ビームを近接して出射するビー
ム合成手段と、から構成されることを特徴とする光源装
置。
17. The light source device according to claim 11, wherein a plurality of light sources are arranged in a line in the main scanning direction, and a first light source unit integrally holding them is provided. A second light source unit configured in the same manner as the first light source unit, and beam combining means for closely emitting the light beams emitted from the first light source unit and the second light source unit. A light source device characterized by the following.
【請求項18】請求項11〜17のうちの何れか一つに
記載の光源装置において、 前記複数の光源は、複数の半導体レーザとそれに対応す
るカップリングレンズとから構成されることを特徴とす
る光源装置。
18. The light source device according to claim 11, wherein the plurality of light sources are composed of a plurality of semiconductor lasers and a coupling lens corresponding thereto. Light source device.
【請求項19】請求項11〜18のうちの何れか一つに
記載の光源装置において、 光ビーム整形用の開口をもつアパーチャ部材を、前記光
路偏向手段より上流側(光源側)に具備したことを特徴
とする光源装置。
19. The light source device according to claim 11, wherein an aperture member having an opening for shaping a light beam is provided on the upstream side (light source side) of the optical path deflecting means. A light source device characterized by the above.
【請求項20】請求項11〜19のうちの何れか一つに
記載の光源装置を具備し、光源から出射された複数の光
ビームを被走査面上に光スポットとして走査する光走査
装置において、 前記被走査面上における複数の光スポットの配列を検知
する検知手段と、その検知結果に基づき光路偏向手段を
駆動/制御するための駆動手段とを有することを特徴と
する光走査装置。
20. An optical scanning device comprising the light source device according to claim 11 and scanning a plurality of light beams emitted from a light source as a light spot on a surface to be scanned. An optical scanning device comprising: a detection unit that detects the arrangement of a plurality of light spots on the surface to be scanned and a drive unit that drives / controls the optical path deflecting unit based on the detection result.
【請求項21】請求項20記載の光走査装置であって、
光源から出射された複数の光ビームを、偏向器により偏
向反射し、走査結像光学系により被走査面上に光スポッ
トとして走査する光走査装置において、 前記偏向器に入射する複数の光ビーム(の主光線)は、
主走査断面にて互いに平行ではないことを特徴とする光
走査装置。
21. An optical scanning device according to claim 20, wherein:
In a light scanning device in which a plurality of light beams emitted from a light source are deflected and reflected by a deflector and scanned as a light spot on a surface to be scanned by a scanning imaging optical system, a plurality of light beams incident on the deflector ( Is the chief ray of
An optical scanning device, which is not parallel to each other in a main scanning section.
【請求項22】請求項1記載の光走査装置であって、複
数の光源手段からなる光源装置と、前記光源装置から出
射された複数の光ビームを合成するビーム合成手段と、
前記ビーム合成手段にて合成された複数の光ビームを偏
向する偏向器と、前記偏向器により偏向された複数の光
ビームを被走査面上に導く走査手段とからなる光走査装
置において、 前記被走査面上の光ビームの位置を制御するために、該
光ビームの光路を偏向する光路偏向手段を、光源手段と
ビーム合成手段の間に備えたことを特徴とする光走査装
置。
22. The optical scanning device according to claim 1, further comprising a light source device including a plurality of light source means, and a beam combining means for combining a plurality of light beams emitted from the light source device.
An optical scanning device comprising: a deflector for deflecting a plurality of light beams combined by the beam combining means; and a scanning means for guiding the plurality of light beams deflected by the deflector onto a surface to be scanned. An optical scanning device comprising an optical path deflecting means for deflecting an optical path of the light beam between the light source means and the beam combining means in order to control the position of the light beam on the scanning surface.
【請求項23】請求項22記載の光走査装置において、 前記光路偏向手段は、透過型光学素子を偏心させて備え
ることを特徴とする光走査装置。
23. The optical scanning device according to claim 22, wherein the optical path deflecting means includes a transmissive optical element in a decentered manner.
【請求項24】請求項22記載の光走査装置において、 前記光路偏向手段は、電気信号にて制御可能な液晶素子
であり、該液晶素子にて発生するゴースト光を除去する
ゴースト光除去手段(スリット開口)を、液晶素子と偏
向器の間に備えたことを特徴とする光走査装置。
24. The optical scanning device according to claim 22, wherein the optical path deflecting unit is a liquid crystal element controllable by an electric signal, and a ghost light removing unit for removing ghost light generated in the liquid crystal element ( An optical scanning device comprising a slit opening) between the liquid crystal element and the deflector.
【請求項25】請求項24記載の光走査装置において、 前記光路偏向手段より上流側(光源手段側)の光路内に
光ビーム整形用の開口絞り(アパーチャ)を備え、下記
の関係式を満足することを特徴とする光走査装置。 L>(1/2)×tanθ×(b+Δ) {b:液晶素子により偏向される光ビームの全幅(径) Δ:スリット開口の全幅 L:液晶素子とスリット開口との距離 2θ:液晶素子で発生するゴースト光の、+1次光と−
1次光の間の角度}
25. An optical scanning device according to claim 24, wherein an aperture stop (aperture) for shaping a light beam is provided in an optical path upstream of the optical path deflecting means (light source means side), and the following relational expression is satisfied. An optical scanning device characterized by: L> (1/2) × tan θ × (b + Δ) {b: Total width (diameter) of light beam deflected by liquid crystal element Δ: Total width of slit opening L: Distance between liquid crystal element and slit opening 2θ: In liquid crystal element Of the ghost light generated, + 1st-order light and −
Angle between primary lights}
【請求項26】請求項22〜25のうちの何れか一つに
記載の光走査装置を光学ハウジングに収納した構成の光
走査装置であって、 前記光源装置は光学ハウジングの側壁に固定または保持
され、前記光路偏向手段及びビーム合成手段は光学ハウ
ジング内部の共通の保持部に固定または保持されること
を特徴とする光走査装置。
26. An optical scanning device having a structure in which the optical scanning device according to claim 22 is housed in an optical housing, wherein the light source device is fixed or held on a side wall of the optical housing. The optical scanning device is characterized in that the optical path deflecting means and the beam synthesizing means are fixed or held by a common holding portion inside the optical housing.
【請求項27】請求項1〜10,20〜26のうちの何
れか一つに記載の光走査装置を具備し、該光走査装置に
よって静電潜像が形成される感光手段と、静電潜像をト
ナーで顕像化する現像手段と、顕像化されたトナー像を
記録媒体に転写する転写手段とを有することを特徴とす
る画像形成装置。
27. An optical scanning device according to any one of claims 1 to 10 and 20 to 26, comprising: a photosensitive means for forming an electrostatic latent image by the optical scanning device; An image forming apparatus comprising: a developing unit that visualizes a latent image with toner; and a transfer unit that transfers the visualized toner image to a recording medium.
【請求項28】請求項27記載の画像形成装置におい
て、 前記記録媒体上の出力画像に基づきオペレータが光路偏
向素子を駆動/制御することを特徴とする画像形成装
置。
28. The image forming apparatus according to claim 27, wherein an operator drives / controls the optical path deflecting element based on an output image on the recording medium.
【請求項29】請求項27または28記載の画像形成装
置において、 被走査面となる感光手段を複数有することを特徴とする
画像形成装置。
29. The image forming apparatus according to claim 27 or 28, wherein the image forming apparatus has a plurality of photosensitive means serving as a surface to be scanned.
【請求項30】請求項27または28記載の画像形成装
置において、 前記光走査装置を複数備え、一つの感光手段に対して、
複数の光走査装置を主走査方向に直列に配置したことを
特徴とする画像形成装置。
30. The image forming apparatus according to claim 27, further comprising a plurality of the optical scanning devices, wherein one photosensitive unit is provided.
An image forming apparatus comprising a plurality of optical scanning devices arranged in series in a main scanning direction.
【請求項31】請求項27〜30のうちの何れか一つに
記載の画像形成装置において、 画素密度を切り替え可能であることを特徴とする画像形
成装置。
31. The image forming apparatus according to claim 27, wherein the pixel density is switchable.
JP2002256704A 2002-03-15 2002-09-02 Optical scanner and light source device and image forming apparatus Pending JP2003337293A (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002256704A JP2003337293A (en) 2002-03-15 2002-09-02 Optical scanner and light source device and image forming apparatus
US10/386,654 US7333254B2 (en) 2002-03-15 2003-03-13 Optical scanning apparatus, illuminant apparatus and image forming apparatus
US11/971,227 US7706040B2 (en) 2002-03-15 2008-01-09 Optical scanning apparatus, illuminant apparatus and image forming apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002072656 2002-03-15
JP2002-72656 2002-03-15
JP2002256704A JP2003337293A (en) 2002-03-15 2002-09-02 Optical scanner and light source device and image forming apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003337293A true JP2003337293A (en) 2003-11-28

Family

ID=29714236

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002256704A Pending JP2003337293A (en) 2002-03-15 2002-09-02 Optical scanner and light source device and image forming apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003337293A (en)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005241850A (en) * 2004-02-25 2005-09-08 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
JP2005250319A (en) * 2004-03-08 2005-09-15 Ricoh Co Ltd Light source apparatus, optical scanner, image forming apparatus and color image forming apparatus
JP2005292349A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Ricoh Co Ltd Optical scanning device, image forming apparatus and method for driving liquid crystal element
US7403316B2 (en) 2004-01-14 2008-07-22 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device, image forming apparatus and liquid crystal device driving method
US7471306B2 (en) 2004-08-06 2008-12-30 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning unit and image forming apparatus
US7505060B2 (en) 2002-07-12 2009-03-17 Ricoh Company, Ltd. Light scanning apparatus having a liquid crystal deflector and image forming apparatus using the same
US8031362B2 (en) 2005-10-07 2011-10-04 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device, image forming apparatus, and liquid crystal element
US8217978B2 (en) 2006-02-27 2012-07-10 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning apparatus, an image formation apparatus, and a phase modulation method
CN109164464A (en) * 2018-10-12 2019-01-08 北醒(北京)光子科技有限公司 A kind of scanning means and laser radar

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7505060B2 (en) 2002-07-12 2009-03-17 Ricoh Company, Ltd. Light scanning apparatus having a liquid crystal deflector and image forming apparatus using the same
US7403316B2 (en) 2004-01-14 2008-07-22 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device, image forming apparatus and liquid crystal device driving method
US7719737B2 (en) 2004-01-14 2010-05-18 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device, image forming apparatus and liquid crystal device driving method
JP2005241850A (en) * 2004-02-25 2005-09-08 Ricoh Co Ltd Optical scanner and image forming apparatus
JP4494825B2 (en) * 2004-02-25 2010-06-30 株式会社リコー Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP2005250319A (en) * 2004-03-08 2005-09-15 Ricoh Co Ltd Light source apparatus, optical scanner, image forming apparatus and color image forming apparatus
JP2005292349A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Ricoh Co Ltd Optical scanning device, image forming apparatus and method for driving liquid crystal element
US7471306B2 (en) 2004-08-06 2008-12-30 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning unit and image forming apparatus
US8031362B2 (en) 2005-10-07 2011-10-04 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning device, image forming apparatus, and liquid crystal element
US8217978B2 (en) 2006-02-27 2012-07-10 Ricoh Company, Ltd. Optical scanning apparatus, an image formation apparatus, and a phase modulation method
CN109164464A (en) * 2018-10-12 2019-01-08 北醒(北京)光子科技有限公司 A kind of scanning means and laser radar

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7333254B2 (en) Optical scanning apparatus, illuminant apparatus and image forming apparatus
US7719737B2 (en) Optical scanning device, image forming apparatus and liquid crystal device driving method
US7450274B2 (en) Optical scanning apparatus, image forming apparatus, and beam positioning method
JP3600228B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus
US8223418B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus
US7505060B2 (en) Light scanning apparatus having a liquid crystal deflector and image forming apparatus using the same
JP4922118B2 (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP4634881B2 (en) Optical scanning device and image forming device
US8031362B2 (en) Optical scanning device, image forming apparatus, and liquid crystal element
KR101599887B1 (en) Light scanning unit and electrophotograpohic image forming apparatus using the same
EP2602669B1 (en) Laser scanning unit and colour image forming apparatus including the same
JP2003337293A (en) Optical scanner and light source device and image forming apparatus
JP4146177B2 (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP5447783B2 (en) Optical scanning device and image forming apparatus provided with the optical scanning device
JP2003215484A (en) Liquid crystal deflecting element array device, optical scanner, and device and method for image formation
JP4425505B2 (en) Image forming apparatus
JP4197431B2 (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP2004102133A (en) Optical scanner and image forming apparatus
JP2004184527A (en) Optical scanning device and image forming device
JP5273559B2 (en) Optical scanning apparatus and image forming apparatus
JP2008282021A (en) Optical scanner and image forming apparatus
JP2004054019A (en) Scanning optical device and image forming apparatus
JP2008257158A (en) Light beam scanning position detection module, method of detecting light beam scanning position, optical scanner and image forming apparatus
JP2005202038A (en) Optical scanner and image forming device
JP2005181714A (en) Deflective scanner

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050629

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20080708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080722

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080922

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20081104

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081226

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20090310