JP2004212110A

JP2004212110A - 分光装置

Info

Publication number: JP2004212110A
Application number: JP2002379687A
Authority: JP
Inventors: Hiromichi Akahori; 洋道赤堀; Toshiyuki Iwamoto; 敏志岩本
Original assignee: Tochigi Nikon Corp; Nikon Corp
Current assignee: Tochigi Nikon Corp; Nikon Corp
Priority date: 2002-12-27
Filing date: 2002-12-27
Publication date: 2004-07-29

Abstract

【課題】測定開始前や測定最中に残り測定時間を表示するようにした分光装置の提供。
【解決手段】テラヘルツ時間領域分光装置では、移動鏡９によりプローブ光Ｌ３の光路長を変えて検出することにより、すなわち、光路長に応じた遅延時間でテラヘルツパルス光Ｌ５を検出することにより、テラヘルツパルス光Ｌ５の時系列波形を測定する。この一連の測定データを取得するのに要する測定時間を、予め設定された測定条件に基づいて算出し、表示部２５に表示する。また、データ取得毎に、残り測定時間を表示部２５に表示する。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射ミラーや試料ステージを移動させて順に複数の測定データを取得する分光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の分光装置では、例えば、波長情報を表示する表示器と、試料の吸収情報を表示する表示器とを備えたものがある。通常の測定時にはこれらの量が表示されるが、波長領域によってグレーティング、プリズムなどの分散子や検出器、フィルタ、光源などを切り換えている最中には、波長情報および吸収情報が途切れてしまうため、表示器に表示すべき本来のデータが確立していない。そのため、従来の装置では表示を凍結して前の状態のままに保ったり、全表示器点灯や０表示などの処置がとられていた。そこで、このようなデータが確立しない期間中には、確立しない理由やデータが確立するまでの残り状態を表示するものが提案されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００３】
【特許文献１】
特開昭５５−１１６２１７号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
分光装置を使用して様々な試料を測定する場合、オペレーターは、試料の種類や状態、自分が要求する測定精度や測定値の再現性などを考慮して測定条件を決定する。従来の分光装置を用いた場合は、実際に測定を行って初めて残り時間を知ることができる。
【０００５】
しかしながら、測定を開始した後で残り時間を知ることは次のような欠点がある。現在設定されている測定条件では、得られる測定データに比して時間がかかり過ぎるとオペレーターが認識するのは、ある程度測定が進んだ後になる。この場合は測定条件を変更して再び最初から測定をやり直すことになる。結局、途中まで測定した時間が無駄になってしまう。
【０００６】
また、従来の分光装置には、オペレーターが測定条件を設定したとしても、測定を開始する前には、総測定時間がどのくらいかかるか算出するものはなかった。従って、オペレーターは、設定した測定条件で測定にどのくらいの時間がかかるか知ることはできなかった。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、測定開始前や測定最中に残り測定時間を表示するようにした分光装置を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１の分光装置は、試料に検査光を照射して、分析処理に必要な複数の測定データを取得する分光装置に適用され、測定条件である波数の分解および測定周波数を入力する入力部と、複数の測定データを所定遅延時間毎に得られるように、測定条件に応じて、試料からの試料情報を持った光を検出するタイミングを制御する制御手段と、一連の複数の測定データに基づき分析処理を行う処理手段と、測定条件から処理手段が一連の複数の測定データを取得する総時間を演算する演算手段と、演算手段で演算された総時間を表示する表示手段とを備えたことを特徴とする。
請求項２の分光装置は、検査光としてテラヘルツパルス光を発生するテラヘルツ光発生素子と、試料からの試料情報を持ったテラヘルツパルス光を検出するテラヘルツ光検出素子と、テラヘルツ光発生素子にテラヘルツパルス光を発生させる励起パルス光および、テラヘルツ光検出素子が試料からの試料情報を持ったテラヘルツパルス光を検出するタイミングを決めるプローブパルス光を照射するレーザ光源と、プローブパルス光がテラヘルツ光検出素子に照射されるタイミングを制御するために、プローブパルス光の通る光路長を可変にする制御手段である移動鏡とを備え、演算手段は、測定条件から移動鏡の移動ステップ数と移動ステップ間隔とから総移動時間を演算して、分析処理に必要な複数の測定データを取得する総時間を求めるようにした。
また、いずれの分光装置の場合も、複数の測定データを取得する間に測定作業終了までの残り測定時間を演算手段で算出し、算出された残り測定時間を表示手段に表示するようにしても良い。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照して本発明の実施の形態を説明する。
（第１の実施の形態）
第１の実施の形態に係る分光装置は、テラヘルツ時間領域分光法（ＴＨｚ−ＴＤＳ）を用いるテラヘルツ時間領域分光装置である。テラヘルツ時間領域分光装置では、試料を反射または透過したテラヘルツパルス光の電場の時間変化を測定し、この検出信号をフーリエ変換することにより、試料の分光特性を測定するものである。得られた測定データは液晶ディスプレイやＣＲＴ等の表示部に表示する。
【００１０】
以下、本発明の時間領域分光装置について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明の実施の形態に係る時間領域分光装置を模式的に示す概略構成図である。図１において、レーザー光源１から放射されたパルス光Ｌ１が、ビームスプリッター２で２つのパルス光Ｌ２，Ｌ３に分割される。レーザー光源１としては、例えば、フェムト秒パルスレーザーが用いられる。パルス光Ｌ１は、中心波長が近赤外領域のうちの７８０〜８００ｎｍ程度、繰り返し周期が数ｋＨｚから１００ＭＨｚのオーダー、パルス幅が１０〜１５０ｆｓ程度の直線偏光のパルス光である。
【００１１】
ビームスプリッター２で分割された一方のパルス光Ｌ２は、テラヘルツ光発生素子７を励起してテラヘルツパルス光を発生させるためのポンプ光（励起パルス光）となる。このポンプ光Ｌ２は、チョッパー３、平面反射鏡４，５，６を経て、テラヘルツ光発生素子７へ導かれる。その結果、テラヘルツ光発生素子７が励起されてテラヘルツパルス光Ｌ４を放射する。テラヘルツパルス光Ｌ４は、概ね０．０１×１０¹²から１００×１０¹²ヘルツまでの周波数領域の光である。このテラヘルツパルス光Ｌ４は、曲面鏡１３、１４を経て試料１７の一点に入射する。
【００１２】
ビームスプリッター２で分割された他方のパルス光Ｌ３は、テラヘルツパルス光Ｌ５を検出するためのプローブ光となる。パルス光Ｌ３（プローブパルス光Ｌ３）は、平面反射鏡８、移動可能な移動鏡９、平面反射鏡１０を経てテラヘルツ光検出素子１１に入射する。移動鏡９は、駆動装置１２によって矢印Ｘ方向に駆動され、その移動量に応じてプローブ光Ｌ３の光路長を変化させる。この結果、プローブ光Ｌ３がテラヘルツ光検出素子１１へ到達する時間が変化する。このように移動鏡９によりプローブ光Ｌ３の光路長を変えて検出することにより、すなわち、光路長に応じた遅延時間でテラヘルツパルス光Ｌ５を検出することにより、テラヘルツパルス光Ｌ５の時系列波形を測定することができる。
【００１３】
試料１７は、ステージ１８に保持されている。試料１７の測定面１７ａは、曲面鏡１４から試料１７に入射するテラヘルツパルス光Ｌ４の光軸に略垂直である。測定面１７ａ上における複数の位置に関して測定を行う場合には、ステージ１８は測定面１７ａと平行な平面上をステッピング動作で移動し、テラヘルツパルス光Ｌ４の照射位置を変更する。通常、分光装置では試料１７上の一点のみを測定する。しかし、２次元マッピングシステムのように複数箇所を測定する場合もあるので、ここでは、測定面１７ａ上の複数箇所を測定する場合を例に説明する。なお、測定位置を変える際には、ステージ１８により試料を１７を移動させテラヘルツパルス光Ｌ４の入射位置を変更する。
【００１４】
試料１７を透過したテラヘルツパルス光Ｌ５は、曲面鏡１５、１６を経てテラヘルツ光検出素子１１へ集光して入射する。試料１７の測定面１７ａは、試料１７から曲面鏡１５へ向かうテラヘルツパルス光Ｌ５の光軸に略垂直である。テラヘルツパルス光Ｌ５は、試料１７の特性に関する情報を含む光である。テラヘルツ光検出素子１１は、プローブ光であるパルス光Ｌ３が照射された瞬間に入射しているテラヘルツパルス光Ｌ５の電場強度を検出する。テラヘルツ光検出素子１１からは、検出された電場強度に応じた電気信号が出力される。この電気信号を測定することにより、半導体試料の場合、電気的特性や不純物濃度等が得られる。
【００１５】
テラヘルツ光検出素子１１にて検出された電場強度に関わる電気信号は、増幅器２１で増幅され、Ａ／Ｄ変換器２２でデジタル信号に変換され、制御・演算処理部２３で信号処理され、画像処理部２４で二次元画像化され、最終的に表示部２５で表示される。制御・演算処理部２３は、駆動装置１２およびステージ１８へ駆動信号を出力する。この駆動信号により、駆動装置１２には移動鏡９に関するステップ間隔（１回の移動距離）やスキャン距離（累積移動距離）が指示され、多数の点を測定する場合には、ステージ１８には測定位置変更のための移動指示が出される。
【００１６】
以下、本実施の形態に係る分光装置において、総測定時間と測定残り時間の算出方法を説明する。
図２〜４は、テラヘルツ時間領域分光装置における測定処理動作の手順を示すフローチャートである。図２はメインフローを示しており、図３，４はそれぞれ図２のステップＳ６，Ｓ７における測定手順の詳細を示すサブフローである。まず、図２のステップＳ１〜ステップＳ７までの手順を説明する。
【００１７】
Ｓ１：波数の分解ａ（ｃｍ^-1）、最大測定周波数ｂ（THz）および測定個所の数Ｎが入力部２０から入力される。これらは測定条件であり、ユーザーの望む条件が入力される。
Ｓ２：ステップＳ１で入力されたデータａ，ｂに基づいて、波数分解がａ以下で最大測定周波数がｂ以上となるようにデータ取得条件を算出する。ここで、データ取得条件とは測定時における移動鏡９の駆動条件のことであり、サンプル上の１測定ポイントに関するデータを得る際の、移動鏡９を移動する際のステップ間隔ｄ（μｍ）、およびそのステップ数ｎである。データ取得条件の設定方法については後述する。
【００１８】
Ｓ３：１測定ポイントに関する時系列データを取得するのに要する時間Ｔ_pを次式（１）により算出する。
【数１】
Ｔ_p＝（ｎ−１）×ｔ_m＋ｎ×ｔ_d＋ｔ_i＋ｔ_e …（１）
ここで、ｔ_mは移動鏡９の１ステップ当たりの移動時間、ｔ_dはデータ取得時間、ｔ_iは初期化処理時間（移動鏡９の初期位置への移動時間Δｔを含む）、ｔ_eは後処理時間（データ変換等の演算時間を含む）である。ｔ_m，ｔ_d，ｔ_iおよびｔ_eはそれぞれ装置固有の値であって、例えば、予めこれらの値を測定しておき、データとしてインプットしておけばよい。
【００１９】
Ｓ４：サンプル測定総時間Ｔを次式（２）により算出する。テラヘルツ時間領域分光測定では、サンプル測定値とは別に、反射測定の場合は試料１７のかわりに参照用のミラーを置き、また、透過測定の場合は試料１７を装着しないで、テラヘルツパルス光Ｌ５を測定して得られるリファレンス測定値を必要とする。ここでは、リファレンス測定の場合、試料１７上の測定ポイント数Ｎに関係なく一回だけ測定する。そのため、リファレンス測定時間は、１測定ポイントに要する時間Ｔ_pと同一値となる。測定ポイント数はＮなので、ステージ１８の移動による測定個所の変更に必要な時間をｔ_Sとすると、リファレンス測定を含むサンプル測定総時間Ｔは式（２）のように表される。
【数２】
Ｔ＝（Ｎ＋１）×Ｔ_p＋Ｎ×ｔ_S
＝（Ｎ＋１）×｛（ｎ−１）×ｔ_m＋ｎ×ｔ_d＋ｔ_i＋ｔ_e｝＋Ｎ×ｔ_S…（２）
【００２０】
なお、上述した例では１つの試料で多数点を測定する場合にリファレンス測定を一回だけ行っているが、測定位置を変更する度にリファレンス測定をするようにしても良い。その場合には、リファレンス測定の回数が増加する分だけサンプル測定総時間Ｔは長くなる。リファレンス測定をどのように行うかは装置の安定性に依存しており、安定していれば一回の測定で良い。逆に、装置の設置条件が悪い等の理由により安定性が良くない場合には、例えば、一測定毎にリファレンス測定を行う必要がある。上述した式（２）では、リファレンス測定とサンプル測定との切り換えに要する時間を省略して示しているが、実際上は時間Ｔには切換時間が含まれている。このように、リファレンス測定と試料測定とを含めた時間Ｔの算出は、自動的に切り換えができるシステムに適用できるものである。
【００２１】
Ｓ５：総測定時間として、式（２）で算出される時間Ｔを図１の表示部２５に表示する。なお、総測定時間Ｔとは別に一測定毎Ｔ_pの時間も表示するようにしても良い。
Ｓ６：オペレーターにより測定開始の指示が入力されたか否かを判定し、測定開始の指示が入力されるとステップＳ７に進む。なお、図２のフローチャートでは省略したが、ステップＳ６の段階までに入力値変更のための再入力があった場合にはステップＳ１に戻り、ステップＳ１以下の手順を再び行う。
Ｓ７：リファレンス測定を行う。後述するように、この測定期間中には測定に要する残り時間（サンプル測定も含む残り時間）が表示部２５に表示される。
Ｓ８：サンプル測定を行う。後述するように、この測定期間中には測定に要する残り時間が表示部２５に表示される。
ステップＳ８のサンプル測定処理を終了すると、一連の測定処理動作が終了する。
【００２２】
次に、ステップＳ７のリファレンス測定における測定処理の詳細を図３のフローチャートを参照して説明する。
Ｓ１０１：移動鏡９が初期位置にリセットされる。この処理が終了した時点では、残り時間はＴ_r＝Ｎ×（Ｔ_p＋ｔ_S）＋｛（ｎ−１）×ｔ_m＋ｎ×ｔ_d＋ｔ_e｝＋（ｔ_i−Δｔ）で算出される。
Ｓ１０２：移動鏡９のステップ数を表す変数ｊを１だけ増加させる。変数ｊの初期値は０に設定されている。
【００２３】
Ｓ１０３：移動鏡９をｊステップ目の位置まで１ステップ間隔だけ移動し、試料位置を通過したテラヘルツパルス光Ｌ５を検出して検出データを取得する。なお、ｊ＝１の場合には移動鏡９を初期位置に設定して検出を行い、ｊが２〜ｎの場合に１ステップ間隔だけ移動して測定を行う。
Ｓ１０４：残り時間Ｔ_rを算出する。この時点での残り時間Ｔ_rは次式（３）で算出される。なお、一測定毎の残り時間、すなわち、Ｔ_pに関する残り時間もあわせて表示するようにしても良い。
【数３】
Ｔ_r＝Ｎ×（Ｔ_p＋ｔ_S）＋｛（ｎ−ｊ）×（ｔ_m＋ｔ_d）＋ｔ_e｝ …（３）
【００２４】
Ｓ１０５：ステップＳ１０４で算出された残り時間Ｔ_rを表示部２５に表示する。
Ｓ１０６：変数ｊがステップ数ｎと等しいか否か、すなわち、リファレンス測定に関するｎ個の時系列データが得られたか否かを判定する。そして、ｊ＜ｎの場合にはステップＳ１０２へ戻り、ｊ＝ｎとなるまで、すなわちｎ個の時系列データが得られるまでステップＳ１０２からステップＳ１０６までの処理を繰り返し実行する。ｊ＝ｎとなったならば、リファレンス測定に関する一連の処理を終了して図２のステップＳ８へ進む。
【００２５】
図１のステップＳ７の処理が終了した時点での残り時間は、Ｔ_r＝Ｎ×（Ｔ_p＋ｔ_S）で算出される。次いで、図４を参照してステップＳ８のサンプル測定の処理について説明する。なお、図４では図３に示した各ステップの処理と同一処理には同一符号を付し、以下では異なる処理を中心に説明する。
【００２６】
Ｓ２０１：後述する変数ｊの値を０とするとともに、測定ポイント数を表す変数ｉを１だけ増加させる。なお、変数ｉの初期値は０に設定されている。最初はｉ＝１とされ、１番目の測定ポイントに関する時系列波形の測定が行われる。以下、一つの測定ポイントに関する時系列データを取得する処理は、上述したリファレンス測定の場合と全く同じであり、ステップＳ１０２，Ｓ１０３の処理の説明は省略する。
Ｓ１０４：次式（４）により残り時間Ｔ_rを算出する。
【数４】
Ｔ_r＝（Ｎ−ｉ）×（Ｔ_p＋ｔ_S）＋｛（ｎ−ｊ）×（ｔ_m＋ｔ_d）＋ｔ_e｝…（４）
【００２７】
Ｓ２０２：変数ｉが測定ポイント数Ｎと等しいか否か、すなわち、サンプル測定に関するＮ個の測定ポイントに対してそれぞれ時系列データが得られたか否かを判定する。そして、ｉ＜Ｎの場合にはステップＳ２０１へ戻り、ｉ＝Ｎとなるまで、すなわちＮ個の測定ポイントに対する時系列データが得られるまでステップＳ２０１からステップＳ２０２までの処理を繰り返し実行する。ｉ＝Ｎとなったならば、サンプル測定に関する一連の処理を終了して図２へ戻る。
【００２８】
《データ取得条件について》
次いで、データ取得条件の設定方法について説明する。データ取得条件を求める際には、まず、入力されたａ（cm^-1），ｂ（THz）に対して、移動鏡９のスキャン距離ｒ（cm）と、移動鏡９の位置を変更して時系列波形を取得する際のデータ間隔ｔ（ps）を、それぞれｒ＝１／ａ、ｔ＝１／２ｂにより算出する。すなわち、データ取得条件は、スキャン距離がｒ（cm）以上で、データ間隔がｔ（ps）以下となるように設定される。
【００２９】
具体的には、次式（５）〜（７）の３式を満足するようにｎおよびｄを決定する。ただし、ｃ(m/s)は光速、ｍは正の整数であり、ｄは移動鏡９の駆動装置１２の仕様に応じて選択可能な値に制限される。
【数５】
ｄ×１０^-6≦ｃ×ｔ×１０^-12／２ …（５）
ｎ＝２^m …（６）
ｄ×１０^-6×ｎ×２≧ｒ×１０^-2 …（７）
【００３０】
ただし、これはデータ取得条件の算出方法の一例を示すものであって、本実施の形態に限るものではない。例えば、最大測定周波数ｂは装置の最大周波数を超えるように設定さなければならなかったり、Ｓ／Ｎが悪い場合には、例えば、ステップ間隔ｄ／２にし、ステップ数を２ｎに増やして２測定点ずつの平均を取るような工夫が施される。
【００３１】
以下に、測定条件からデータ取得条件ｄ、ｎを算出するまでの手順を具体的な数値を用いて説明する。
（測定条件）
(a1) 波数の分解ａ＝４（ｃｍ^-1）
(a2) 最大測定周波数ｂ＝２（THz）
(a3) 移動鏡９の最小ステップ間隔＝１（μｍ）
(a4) 利用可能な最大周波数＝６（THz）
【００３２】
移動鏡９の移動条件（データ取得条件）は以下の手順で求められる。
(b1) 条件(a2)と(a4)とから最大測定周波数ｂを６（THz）とする。
(b2) データ間隔ｔは、ｔ＝１／（２ｂ）≒０．０８３（ps）以下とする。
(b3) スキャン距離ｒ＝１／ａ＝０．２５（cm）
(b4) ステップ間隔ｄは、式（５）からｄ≦ｃ×ｔ×１０^-6／２≒１２．５（μｍ）となる。
(b5) ｄ＝１２．５（μｍ）として、式（７）から移動鏡９の総ステップ数ｎを計算する。その結果、ｎ≧ｒ×１０⁴／２ｄ＝１００となる。
(b6) ｎ≧１００と式（６）の条件ｎ＝２^mとから、ｎ＝２⁷＝１２８とする。
(b7) ｎ＝１２８のとき、ステップ間隔ｄは、式（７）からｄ≧ｒ×１０⁴／（２ｎ）≒９．７５（μｍ）となる。
(b8) 条件(a3)より最小ステップ間隔＝１（μｍ）であるから、ここではステップ間隔を１０（μｍ）に設定する。
(b9) 最終的なデータ取得条件は、ｄ＝１０（μｍ）、ｎ＝１２８となる。
【００３３】
上述した第１の実施の形態では、測定処理を開始する前に、入力した設定値に対する総測定時間Ｔが表示されるので、予め総測定時間Ｔを知ることができるとともに、所定の総測定時間Ｔに応じた入力値で測定を行うという操作も可能となる。さらに、測定の最中においても残り時間Ｔｒが表示されるため、測定作業を効率的に行うことができる。
【００３４】
上述した実施の形態では、一つの試料に関する分光測定を行う場合について説明したが、例えば、複数の試料を装置に装着できるようにし、各試料を順に測定する場合についても本発明は適用可能である。その場合、図７（ａ）に示すように、複数個のサンプルに関するサンプル測定に先立ってリファレンス測定を１回行っても良いし、図７（ｂ）のように、サンプル測定毎にリファレンス測定を行っても良い。
【００３５】
（第２の実施の形態）
第２の実施の形態に係る分光装置は、フーリエ変換赤外分光装置（ＦＴＩＲ）に関するものである。図５はＦＴＩＲ装置の概念図である。赤外光源３０から出射された赤外光３１は干渉計３２に入射する。干渉計３２としては、例えばマイケルソン干渉計が使用され、赤外光３１はビームスプリッタ３３により透過赤外光３４と反射赤外光３５とに分割される。
【００３６】
透過赤外光３４は移動鏡３６で反射された後に、その一部はビームスプリッタ３３により試料３９方向に反射される。また、反射赤外光３５は固定鏡３７で反射された後に、その一部がビームスプリッタ３３を透過して試料３９に入射する。すなわち、移動鏡３６および固定鏡３７でそれぞれ反射された赤外光３４，３５はビームスプリッタ３３により再び合成され、赤外光３４，３５の位相差に応じた干渉波（インターフェログラム）３８となる。この干渉波３８は測定光として試料３９に入射し、試料３９を透過した透過光４０が検出器４１により検出される。
【００３７】
干渉波３８の位相差は移動鏡３６の位置によって異なり、干渉によって強めあう光の波長が異なる。すなわち、移動鏡３６を連続的に移動させると強め合う波長が次々と変化し、そのような干渉波３８が試料３９に入射する。制御・演算処理部４２では、透過光強度と移動鏡位置とが関連付けて記憶され、それらのデータに基づいて種々の分析処理が行われる。分析中の残り時間や分析結果は表示部４３に表示される。通常、移動鏡３６を１回スキャンして得られる測定結果ではＳ／Ｎ比が良くないので、複数回測定してそれらを積算したものが測定データとして用いられる。
【００３８】
図６は測定手順を説明するフローチャートである。なお、本実施の形態では試料３９上の１測定ポイントに関して分光測定を行うものとするが、上述した第１の実施の形態と同様に、測定ポイントが複数であっても適用することができる。また、積算時間表示更新のタイミングは積算回数が１だけ変化する毎に行うものについて説明するが、これに限らない。
Ｓ３０１：波数の分解ｄσ、高周波側の測定周波数領域ｅσ、移動鏡３６の移動速度ｖおよび上述した積算の回数ｎが入力される。これらは測定条件である。Ｓ３０２：移動鏡３６を１回スキャンするときのストローク長Ｌおよび１スキャンに要する時間ｄｔを、Ｌ＝２／ｄσ、ｄｔ＝Ｌ／ｖにより算出する。ｖは移動鏡３６の移動速度である。
【００３９】
Ｓ３０３：総測定時間Ｔを次式（８）により算出する。式（８）において、αは後処理時間（データ変換等の演算時間を含む）である。時間ｄｔ₀は、移動鏡３６を初期位置にリセットするのに要する時間である。
【数６】
Ｔ＝ｎ×（ｄｔ＋ｄｔ₀）＋α …（８）
Ｓ３０４：総測定時間Ｔを表示部４３に表示する。
Ｓ３０５：オペレータにより測定開始の指示が入力されたか否かを判定し、測定開始の指示が入力されるとステップＳ３０６に進む。なお、図６のフローチャートでは省略したが、ステップＳ３０５の段階までに入力値変更のための再入力があった場合にはステップＳ３０１に戻り、ステップＳ３０１以下の手順を再び行う。
Ｓ３０６：移動鏡３６を初期位置にリセットし、積算回数を表す変数ｉを１だけ増加させる。ｉの初期値は０である。
Ｓ３０７：移動鏡３６をスキャンして、積算回数がｉ回目の分光測定を行う。
【００４０】
Ｓ３０８：測定がｉ回目まで終了した時点での残り時間Ｔｒを次式（９）により算出する。
【数７】
Ｔｒ＝（ｎ−ｉ）×（ｄｔ＋ｄｔ₀）＋α …（９）
Ｓ３０９：算出された残り時間Ｔｒを表示部４３に表示する。
Ｓ３１０：積算回数ｉが設定された所定回数ｎとなったか否かを判定する。積算回数ｉがｎよりも小さいと判定されるとステップＳ３０６へ戻り、ｉ＝ｎと判定されるとステップＳ３１１へ進む。
Ｓ３１１：ｎ回の測定データを積算し、その積算結果に基づいて種々の分析処理演算を行う。
【００４１】
上述した第２の実施の形態では、測定処理を開始する前に、入力した設定値に対する総測定時間Ｔが表示されるので、予め総測定時間Ｔを知ることができるとともに、所定の総測定時間Ｔに応じた入力値で測定を行うという操作も可能となる。さらに、測定の最中においても、積算回数が１変化する度に残り時間Ｔｒが表示されるため、測定作業を効率的に行うことができる。
【００４２】
以上説明した実施の形態では、総測定時間Ｔとして分析処理時間も含んだが、分析処理時間を除いた時間を総測定時間Ｔとしても良い。さらに、上述した分光装置に限らず、複数の測定データを取得して分析処理を行う装置であれば本発明を適用することができる。また、本発明の特徴を損なわない限り、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではない。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、設定された測定条件に対する総測定時間が表示部に表示されるので、測定を開始する前に総測定時間を知ることができる。さらに、測定の最中においても残り時間が表示されるため、測定作業を効率的に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態におけるテラヘルツ時間領域分光装置を模式的に示す図である。
【図２】テラヘルツ時間領域分光装置における測定処理動作の手順を示すフローチャートである。
【図３】図２のステップＳ６の詳細処理を示すフローチャートである。
【図４】図２のステップＳ７の詳細処理を示すフローチャートである。
【図５】第２の実施の形態におけるＦＴＩＲ装置の概念図である。
【図６】第２の実施の形態における測定手順を説明するフローチャートである。
【図７】試料が複数ある場合の測定手順を示す図であり、（ａ）はリファレンス測定を１回行うもの、（ｂ）はサンプル測定毎にリファレンス測定を行うもの。
【符号の説明】
７テラヘルツ光発生素子
９，３６移動鏡
１１テラヘルツ光検出素子
１２駆動装置
１７，３９試料
１８ステージ
２０入力部
２３，４２制御・演算処理部
２５，４３表示部
３２干渉計
４１検出器

Claims

試料に検査光を照射して、分析処理に必要な複数の測定データを取得する分光装置において、
測定条件である波数の分解および測定周波数を入力する入力部と、
前記複数の測定データを所定遅延時間毎に得られるように、前記測定条件に応じて、前記試料からの試料情報を持った光を検出するタイミングを制御する制御手段と、
一連の前記複数の測定データに基づき前記分析処理を行う処理手段と、
前記測定条件から前記処理手段が前記一連の複数の測定データを取得する総時間を演算する演算手段と、
前記演算手段で演算された前記総時間を表示する表示手段とを備えたことを特徴とする分光装置。
請求項１に記載の分光装置において、
前記検査光としてテラヘルツパルス光を発生するテラヘルツ光発生素子と、
前記試料からの試料情報を持ったテラヘルツパルス光を検出するテラヘルツ光検出素子と、
前記テラヘルツ光発生素子にテラヘルツパルス光を発生させる励起パルス光および、前記テラヘルツ光検出素子が前記試料からの試料情報を持ったテラヘルツパルス光を検出するタイミングを決めるプローブパルス光を照射するレーザ光源と、
前記プローブパルス光が前記テラヘルツ光検出素子に照射されるタイミングを制御するために、前記プローブパルス光の通る光路長を可変にする前記制御手段である移動鏡とを備え、
前記演算手段は、前記測定条件から前記移動鏡の移動ステップ数と移動ステップ間隔とから総移動時間を演算して、前記分析処理に必要な前記複数の測定データを取得する総時間を求めることを特徴とする分光装置。
請求項１または２に記載の分光装置において、
前記演算手段は、前記複数の測定データを取得する間に測定作業終了までの残り測定時間を算出し、
前記残り測定時間を前記表示手段に表示することを特徴とする分光装置。