JP2004211703A - 改良された高温スプラッシュプレート - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 高温反射体の薄い層(516)が、スプラッシュプレート(604)の表面に付着される。この構成部品は、典型的には高温金属構成部品を覆う断熱皮膜(514)を含み、この断熱皮膜により構成部品が高温度で作動することが可能になる。放射熱をガス流路内に適切に反射することができる表面(515)を形成するために、断熱皮膜は、研磨されなくてはならない。次に高温反射体の薄い層は、表面(515)の粗さを増大させることなく研磨された表面に反射体(516)を適切に密着させることができる方法により、研磨された断熱皮膜(514)上に付着される。この表面は、放射熱をタービンの方向に高温ガス流路内へ反射して戻す。
【選択図】 図8
Description
512 ボンドコート
514 セラミック皮膜
515 セラミック皮膜の研磨された表面
516 鏡面反射皮膜
517 反射表面
Claims (18)
- ガスタービンエンジンの燃焼器に使用するための、鏡面反射表面を有するスプラッシュプレートであって、
高温燃焼ガス状流体からの熱に曝される基体材料(502)と、
前記燃焼流体からの放射熱に曝される前記基体の表面を覆う所定の厚さを有する鏡面反射皮膜(516)と、を含み、
前記鏡面反射皮膜(516)は、約2.54マイクロメータ(100マイクロインチ)
よりも大きくない付着粗さを有し、かつ該鏡面反射皮膜(516)の表面が入射する放射熱線の少なくとも約80%をその表面から遠のくように高温流路内のガスに反射するような高温性能を有する、
ことを特徴とするスプラッシュプレート。 - 前記鏡面反射皮膜が、1.27マイクロメータ(50マイクロインチ)又はそれより滑らかな付着粗さを有することを特徴とする、請求項1に記載のスプラッシュプレート。
- 前記基体材料(502)と前記鏡面反射皮膜(516)との間にセラミック材料(514)を更に含み、前記セラミック材料(514)が、前記基体材料(502)を覆う断熱層を形成し、前記基体(502)と反対側に位置しかつ前記鏡面反射皮膜(516)に隣接する、前記セラミック材料(514)の表面(515)が、約2.54マイクロメータ(100マイクロインチ)又はそれより滑らかな表面粗さを有することを特徴とする、請求項1に記載のスプラッシュプレート。
- 前記基体(502)と反対側に位置しかつ前記鏡面反射皮膜(516)に隣接する、前記セラミック材料(514)の表面(515)が、約0.81マイクロメータ(32マイクロインチ)又はそれより滑らかな表面粗さを有することを特徴とする、請求項3に記載のスプラッシュプレート。
- 前記鏡面反射皮膜(516)が、白金、酸化タンタル(Ta2O3)、シリカ(SiO2)、二酸化チタン(TiO2)、パラジウム、及びこれらの組合せから成る材料の群から選ばれることを特徴とする、請求項3に記載のスプラッシュプレート。
- 前記皮膜(516)が、約1ミクロンよりも大きくない所定の厚さに付着されることを特徴とする、請求項3に記載のスプラッシュプレート。
- 前記燃焼流体の温度が約1260°C(2300°F)である場合に、温度性能が約38°C(100°F)改善されることを特徴とする、請求項3に記載のスプラッシュプレート。
- 前記基体材料(502)が、ニッケル基超合金、鉄基超合金、コバルト基超合金、及びこれらの組合せから成る群から選ばれた高温超合金であることを特徴とする、請求項3に記載のスプラッシュプレート。
- ガスタービンエンジンの燃焼器に使用するための、鏡面反射表面を有するスプラッシュプレートを製造する方法であって、
高温燃焼ガス状流体に隣接して配置された、基体材料(502)を含むスプラッシュプレート(604)を準備する段階と、
前記基体の表面上にセラミック断熱皮膜システムを付着させる段階と、
前記基体表面を覆う前記セラミック皮膜(514)の、該基体表面と反対側に位置する表面(515)を機械的に加工して、約1.27マイクロメータ(50マイクロインチ)又はそれより滑らかな表面仕上げを得る段階と、
前記セラミック皮膜(514)の表面(515)上に鏡面反射皮膜(516)を付着させる段階と、を含み、
皮膜(516)を付着させる前記段階が、約1.27マイクロメータ(50マイクロインチ)又はそれより滑らかな皮膜表面仕上げ(517)を形成し、前記セラミック皮膜(514)と反対側に位置する、前記鏡面反射皮膜(516)の外表面が、エンジン(10)内の高温燃焼ガス状流体に曝される、
ことを特徴とする方法。 - 前記セラミック皮膜(514)の表面(515)を機械的に加工する前記段階が、約0.81マイクロメータ(32マイクロインチ)又はそれより滑らかな表面仕上げを得る段階を更に含むことを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記セラミック皮膜(514)の表面(515)を機械的に加工する前記段階が、該表面(515)を研磨する段階を更に含むことを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記研磨する段階が、手作業により研磨する段階を更に含むことを特徴とする、請求項11に記載の方法。
- 前記研磨する段階が、ラッピングする段階を含むことを特徴とする、請求項12に記載の方法。
- 前記機械的に加工する段階が、タンブリングする段階を含むことを特徴とする、請求項13に記載の方法。
- 前記セラミック皮膜(514)の表面(515)上に所定の厚さに前記鏡面反射皮膜(516)を付着させる前記段階が、該皮膜(516)を約1ミクロンよりも大きくない厚さに付着させる段階を含むことを特徴とする、請求項9に記載の方法。
- 前記鏡面反射皮膜(516)を約1ミクロンよりも大きくない厚さに付着させる前記段階が、白金、酸化タンタル(Ta2O3)、シリカ(SiO2)、二酸化チタン(TiO2)、パラジウム、及びこれらの組合せから成る材料の群から選ばれた該皮膜(516)を付着させる段階を含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
- 前記鏡面反射皮膜(516)が、化学蒸着法、物理蒸着法、液相浸潤法又はスパッタリングのいずれか一つにより付着されることを特徴とする、請求項16に記載の方法。
- 前記鏡面反射皮膜(516)を研磨して、約0.81マイクロメータ(32マイクロインチ)又はそれより滑らかな表面仕上げ(517)を達成する段階を更に含むことを特徴とする、請求項15に記載の方法。
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