JP2004198230A - 光学式エンコーダ及びこれを用いた駆動システム - Google Patents

光学式エンコーダ及びこれを用いた駆動システム Download PDF

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Abstract

【課題】簡易なシステム構成で高精度の2次元方向相対変位を検出できる光学式エンコーダを得る。
【解決手段】本発明の光学式エンコーダは、一方の物体に対して一定の間隙を保ち他方の物体と相対変位する2つの物体の相対変位量を測定するもので、一方の物体に設けられ、周期的なパターンを有する第1のスリット103とこれと交叉するように配置された第2のスリット104と、他方の物体に設けられ、第1の投射光を出射する第1の発光手段111と、第1の集光手段112と、第1の光分離手段113と、第1の受光手段114と、第2の発光手段121と、第2の集光手段122と、第2の光分離手段123と、第2の受光手段124とを備えたものである。
【選択図】 図1

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、2次元方向に相対変位する2つの物体の相対変位を検出する光学式エンコーダおよびこのエンコーダを用いた駆動システムに関する。
【0002】
【従来の技術】
相対変位する2つの物体の相対変位を検出する装置としては、リニアエンコーダが知られている(例えば、特許文献1参照)。
【0003】
【特許文献1】特表2001−518606号公報(第2図)
【0004】
しかし、リニアエンコーダで測定できるのは1次元の直線変位のみである。2次元方向に相対変位する2つの物体の相対変位を検出するためには、図12のように2つのリニアエンコーダを組み合わせる必要があった。図12において、201は固定側物体、202はX軸測定用リニアスリット、203 は可動ロッド、204はX軸測定用読みとりヘッド、205はY軸測定用リニアスリット、206はY軸測定用読みとりヘッド、207は移動側物体である。
第1のリニアエンコーダは、固定側物体201の上面に敷設されたX軸測定用のリニアスリット202と、可動ロッド203の端部に一体装着されてリニアスリット202上をX軸方向に走査する案内機構付き読みとりヘッド204からなる。第2のリニアエンコーダは、リニアスリット202の上方に配置されて可動ロッド203の上面に取り付けられたY軸測定用のリニアスリット205と、リニアスリット205上を可動してY方向に走査する案内機構付き読みとりヘッド206からなる。読みとりヘッド206は固体物体201に対して相対変位する移動側物体207に固定されている。
移動側物体207と固定側物体201のX軸方向の相対変位は、第1のリニアエンコーダのX軸リニアスリット202を読みとりヘッド204でより読みとることにより検出し、第2の軸方向の相対変位は、第2のリニアエンコーダのY軸リニアスリット205を読みとりヘッド206によって読みとることにより検出する。これら2つのリニアエンコーダの検出出力によって、2つの物体間の相対変位を測定していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来は2次元方向に相対変位する2つの物体の相対変位を検出するために2つのリニアエンコーダを組み合わせる必要があり、リニアエンコーダの取り付けのためにシステム構成が複雑になるという問題があった。さらに、測定を要する点から読み取りヘッドの間が離れているので、アッベの誤差により測定の誤差が生じるという問題があった。
そこで、本発明はこのような問題点に鑑みてなされたものであり、簡易なシステム構成で2次元方向に相対変位する2つの物体の相対変位を検出することができる高精度の光学式エンコーダを提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
上記問題を解決するため、本発明は、次のように構成したものである。
請求項1に記載の発明は、一方の物体と、これに対して一定の間隙をもって相対する他方の物体との相対変位量を測定する光学式エンコーダにおいて、前記一方の物体に設けられ、周期的なパターンを有する第1のスリットと、これと交叉するように配置された第2のスリットと、前記他方の物体に設けられ、前記第1のスリットに対して第1の投射光を出射する第1の発光手段と、前記第1の投射光を前記第1のスリット上に集光させる第1の集光手段と、前記第1のスリット上で反射した前記第1の反射光を前記第1の投射光と分離する第1の光分離手段と、前記第1の反射光を検出する第1の受光手段と、前記第2のスリットに対して第2の投射光を出射する第2の発光手段と、前記第2の投射光を前記第2のスリット上に集光させる第2の集光手段と、前記第2のスリット上で発射した第2の反射光を前記第2の投射光と分離する第2の光分離手段と、前記第2の反射光を検出する第2の受光手段とを備えたものである。
このようになっているため、1つの光学式エンコーダで2次元の相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0007】
また、請求項2に記載の発明は、前記第1の集光手段により前記第1のスリット上に集光された第1の投射光スポットに対して位相差を有するスリット位置に第3の投射光を出射する第3の発光手段と、前記第3の投射光を集光させる第3の集光手段と、前記第1のスリット上で反射した第3の反射光と前記第3の投射光を分離する第3の光分離手段と、前記第3の反射光を検出する第3の受光手段と、前記第2の集光手段により前記第2のスリット上に集光された第2の投射光スポットに対して位相差を有するスリット位置に第4の投射光を出射する第4の発光手段と、前記第4の投射光を集光させる第4の集光手段と、前記第2のスリット上で反射した第4の反射光と前記第4の投射光を分離する第4の光分離手段と、前記第4の反射光を検出する第4の受光手段とを備えたものである。
このようになっているため、1つの光学式エンコーダで2次元の進行方向と相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0008】
また、請求項3記載の発明は、前記第1の発光手段または前記第3の発光手段と、前記第2の発光手段または前記第4の発光手段は異なる波長の光を出射し、前記第1のスリットの反射部は前記第3の投射光に対しては反射し、前記第4の投射光に対しては透過する波長依存性を有するものである。
このようになっているため、前記第4の投射光の光が前記第1のスリットで反射されることがないので、第4の受光手段での検出精度をよくすることができ、1つの光学式エンコーダで2次元の進行方向と相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0009】
また、請求項4の発明は、前記第1の発光手段と前記第2の発光手段は異なる波長の光を出射し、前記第1のスリットの反射部は前記第1の投射光に対しては反射し、前記第2の投射光に対しては透過する波長依存性を有するものである。このようになっているため、前記第2の投射光の光が前記第1のスリットで反射されることがないので、第2の受光手段での検出精度をよくすることができ、1つの光学式エンコーダで2次元の相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0010】
また、請求項5記載の発明は、一方の物体と、これに対して一定の間隙をもって相対する他方の物体との相対変位量を測定する光学式エンコーダにおいて、前記一方の物体に設けられ、周期的なパターンを有する第1のスリットとこれと交叉するように配置された第2のスリットと、 前記他方の物体に設けられ、前記第1のスリットに対して第1の投射光を出射する第1の発光手段と、前記第1の投射光を前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上に選択的に集光できる第1の多焦点集光手段と、前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上で反射した第1の反射光を前記第1の投射光と分離する第1の光分離手段と、前記反射光を検出する第1の受光手段とを備えたものである。
このようになっているため、1つの光学式エンコーダで2次元の相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0011】
また、請求項6に記載の発明は、第1のスリットまたは第2のスリットに対して第2の投射光を出射する第2の発光手段と、前記第1の多焦点集光手段により前記第1のスリット上に集光された第1の投射光スポットに対して第1の軸方向に位相差を有し、かつ前記第1の多焦点集光手段により前記第2のスリット上に集光された前記第1の投射光スポットに対して第2の軸方向に位相差を有するスリット位置に前記第2の投射光を集光させる第2の多焦点集光手段と、前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上で反射した第2の反射光と前記第2の投射光を分離する第2の光分離手段と、前記第2の反射光を検出する第2の受光手段とを備えたものである。
このようになっているため、1つの光学式エンコーダで2次元の進行方向と相対変位が測定でき、システム構成を簡易にすることができる。
【0012】
また、請求項7記載の発明は、前記多焦点集光手段が、可動集光手段からなるものである。
このようになっているため、1つの投射光を第1のスリットと第2のスリットに交互に照射できるため、投光手段、集光手段、受講手段等の構成要素を共通化でき、より少ないシステム構成にすることができる。
【0013】
また、請求項8記載の発明は、前記第1の受光手段及び前記第2の受光手段は、それぞれ少なくとも2個の受光部からなるものである。
このようになっているため、スリット上の2カ所からの反射光を1つの受光手段で検出することができるので、より簡易な構成で2次元の進行方向と相対変位が測定できる。
【0014】
また、請求項9記載の発明は、前記第1のスリットおよび前記第2のスリットの反射部が基板上に形成した薄膜である。
【0015】
また、請求項10記載の発明は、前記第1のスリットの反射部が半透過性としたものである。
このようになっているため、前記第2の投射光の光が前記第1のスリットで反射されることがないので、第2の受光手段での検出精度をよくすることができる。
また、請求項11記載の発明は、前記第1のスリットおよび前記第2のスリットを樹脂基板上に作製したことを特徴とするものである。
また、請求項12記載の発明は、前記第1のスリットおよび前記第2のスリットをガラス基板上に作製したものである。
このようになっているため、基板材としてガラスや樹脂などの多種の材料を用いることができる。
【0016】
また、請求項13記載の発明は、前記第1のスリットと前記第2のスリットを異なる基板上に作製したものである。
このようになっているため、容易に2次元方向のスリットを作製することができる。
【0017】
また、請求項14記載の発明は、前記第1のスリットと前記第2のスリットを同一基板の表面と裏面にそれぞれ作製したものである。
このようになっているため、薄い2次元方向のスリットを作製することができる。
【0018】
また、請求項15記載の発明は、2つの物体を相対変位させる駆動手段と、
前記2つの物体の相対変位量を測定する前記1乃至17記載の光学式エンコーダと、前記光学式エンコーダの出力に基づいて駆動手段を制御する制御手段と、を備えたものである。
このようになっているため、1つの光学式エンコーダを用いて2次元の相対変位が測定できる、簡易なシステム構成にすることができる。
【0019】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の具体的実施例を図に基づいて説明する。
(第1の実施例)
図1は、本発明の光学式エンコ−ダの第1の実施例を示す構成図である。図1において、101は相対変位する2つの物体の固定側物体、102は移動側物体である。
固定側物体101には、間隙を保ち互いに直交するように配置された第1のスリット103と第2のスリット104が敷設されている。第1のスリット103にはX軸方向へ光反射部103Aと光透過部103Bが周期的に配列されており、第2のスリット104にはY軸方向へ光反射部104Aと光透過部104Bが周期的に配列されている。
移動側物体102には、第1の発光手段111、第1の集光手段112、第1の光分離手段113、第1の受光手段114、第2の発光手段121、第2の集光手段122、第2の光分離手段123、第2の受光手段124が設けられている。
【0020】
つぎに、動作について説明する。第1の発光手段111から出射した第1の投射光は、第1の光分離手段113を通過し、第1の集光手段112によって第1のスリット103上の第1の投射光スポット105に集光される。この第1の投射光スポット105の内、第1のスリット103の光反射部103A上にある光が、第1のスリット103と垂直に正反射する。この第1の反射光を第1の光分離手段113により第1の投射光と分離し、第1の受光手段114で検出する。同様に、第2の発光手段121から出射した第2の投射光は、第2の光分離手段123を通過し、第2の集光手段122によって第2のスリット104上の第2の投射光スポット106に集光される。この第2の投射光スポット106の内、第2のスリット104の光反射部104A上に照射された光が、第2のスリット104と垂直に正反射する。この第2の反射光を第2の光分離手段123により第2の投射光と分離し、第2の受光手段124で検出する。
第1の投射光スポット105が第1のスリット103の光反射部103A上にある時に、第1の受光手段114で検出する第1の反射光は最大になり、第1の投射光スポット105が光透過部103B上にある時に、第1の受光手段114で検出する第1の反射光は最小になる。したがって、移動側物体102がX軸の一方向に変位すると、X軸の変位量に応じた回数で第1の受光手段114の検出出力V114に変化が生じる。この検出出力V114が所定のしきい値電圧を超える回数を積算することにより、移動側物体102のX軸方向の変位量を検出することができる。
【0021】
一方、第2の投射光スポット106が第2のスリット104の光反射部104A上にある時に、第2の受光手段131で検出する第2の反射光は最大になり、第2の投射光スポット106が光透過部104B上にある時に、第2の受光手段114で検出する第1の反射光は最小になる。しかし、移動側物体102のX軸変位によっては、第2の投射光が第1のスリット103の光反射部103Bにより遮光され、第2の受光手段124で検出する第2の反射光が低下してしまう。つまり移動側物体102のX軸方向の変位に依存して、第2の受光手段124で検出する第2の反射光の光量の極大値が変化することになる。そのため、第2の反射光の変化の回数を正確に積算することは難しい。
【0022】
この対策として、第1のスリット103の光反射部103Aを半透過性とする方法や、図2(b)のように第2の投射光スポット106の大きさを光反射部103Aの幅よりも大きくする方法、図3(b)のように第1のスリット103の光反射部103Aの幅を光透過部103Bより細くする方法等が有効である。さらに、異なる波長の光を出射する第1の発光手段111と第2の発光手段121を選定し、発光手段111から出射した第1の投射光に対しては反射、第2の発光手段121から出射した第2の投射光に対しては透過する波長依存性を有するように第1のスリット103の光反射部103Aを形成すれば、より効果的である。また、X軸受光手段114から得られたX軸変位量をもとに、第2の反射光の変化の回数を積算するためのY軸受光手段の検出信号のしきい値を補正することも可能である。
上記のように、第1の受光手段114の検出出力V114と第2の受光手段124の検出出力V124が所定のしきし、値電圧を超える積算回数から、移動側物体の2次元方向の相対変位を測定することができる。
図1において、第1の発光手段111と第2の発光手段121は、半導体レーザ、LED等の発光デバイスや、光ファイバなどの導光素子を用いることができる。第1の集光手段112と第2の集光手段122は、図1では一ヵ所にしか入れていないが、集光およびコリメートを目的に、光路中の任意の場所に複数挿入してもかまわない。第1の光分離手段113と第2の光分離手段123として、ハーフミラー、プリズム、光アイソレータなどが使用できる。光路長に偏光板を挿入し、偏光を用いた光分離を行うことも可能である。
【0023】
(第2の実施例)
図4は、本発明の光学式エンコーダの第2の実施例の構成を示す図である。図4において、第1の実施例と異なる点は、移動側物体102に、第3発光手段131、第3集光手段132、第3光分離手段133、第3受光手段134、第4発光手段141、第4集光手段142、第4光分離手段143、第4受光手段144が付加されている点である。
第1のスリット103上または第2のスリット104上に集光される投射光スポットの位置関係を図5に示す。図5において、105は第1の発光手段111から出射した第1の投射光が第1のスリット面上に集光した第1の投射光スポット、106は第2の発光手段121から出射した第2の投射光が第2のスリット面上に集光した第2の投射光スポット、107は第3発光手段131から出射した第3投射光が第1のスリット面上に集光した第3投射光スポット、l08は第4発光手段141から出射した第4投射光が第2のスリット面上に集光した第4投射光スポットである。
第3投射光スポット107が、第1の投射光スポット105に対して1/4周期分の位相差を有するスリット位置になるように、第3発光手段131、第3集光手段132、第3光分離手段133、第3受光手段134は配置されている。同様に、第4投射光スポット108が、第2の投射光スポット106に対して1/4周期分の位相差を有するスリット位置になるように、第4発光手段141、第3集光手段142、第3光分離手段143、第3受光手段144は配置されている。
つぎに、動作について説明する。移動側物体102が変位すると、第3受光手段134には、X軸の進行方向に応じて第1の受光手段114よりも1/4ピッチ分位相が進むか、遅れて光量の変化が生じる。この第1の受光手段114と第3受光手段134との検出信号を用いることにより、移動側物体102のX軸方向の相対変位と供に進行方向を検出することが可能である。Y軸についても同様に、第2の受光手段124と第4受光手段144の検出信号を用いることにより、
移動側物体102のY軸方向の相対変位と供に進行方向を検出することが可能である。
【0024】
(第3実施例)
図6は、本発明の光学式エンコーダの第3実施例の構成を示す図である。図6において第1の実施例と異なる点は、X軸受光手段114、第2の受光手段124が、それぞれ2つの受光部114Aと114B、124Aと124Bに分かれている点である。
動作について説明する。第1の投射光スポット105が、第1のスリット103の光反射部103Aの中心にあるときには、受光部114Aと114Bに同量の反射光が入射し、その検出出力V114AとV114Bは等しくなる。この状態から移動側物体102が移動すると、第1の投射光スポット105が、第1のスリット103の光反射部103Aからずれることにより、受光部114Aと114Bに入射する反射光がアンバランスになる。例えばX軸の+方向に移動した場合、受光部114Bに入射する反射光が受光部114Aに比べて小さくなれば、検出出力V114AがV114Bよりも大きくなる。逆に、X軸の一方向に移動した場合、受光部114Aに入射する反射光が受光部114Bに比べて小さくなり、検出出力V114AがV114Bよりも小さくなる。
したがって、受光部114Aと114Bの検出信号の和V114A+V114Bと差V114A−V114Bを用いることにより、移動側物体102のX軸方向の相対変位と供に進行方向を検出できる。Y軸についても同様に、受光部124Aと124Bの検出信号の和V124A+V124Bと差V124A−V124Bを用いることにより、移動側物体102の第2の軸方向の相対変位と供に進行方向を検出することが可能である。
【0025】
(第4実施例)
図7は、本発明の光学式エンコーダの第4実施例を示す構成図である。図7において、移動側物体102には、発光手段151、可変集光手段152、光分離手段154、受光手段155が設けられている。可変集光手段152には、可変機構153が設けられていて、発光手段151から出射された投射光の集光位置を第1のスリット上か第2のスリット上に選択的に切り替えることが可能になっている。
図8に基づき動作を説明する。例えば、移動側物体102がX軸方向のみに移動する場合には、図8(a)のように発光手段151から出射した投射光が第1のスリット103上に集光するように可変集光手段152を調整すればよい。受光手段114で検出する反射光量は、X軸の変位量に応じた回数で変化するので、受光手段114で検出V114が所定のしきい値電圧を越えた回数を積算することにより、移動側物体102のX軸方向の変位量を検出することができる。
一方、移動側物体102がY軸方向のみに移動する場合には、図8(b)のように発光手段151から出射した投射光が第2のスリット104上に集光するように可変集光手段152を調整すればよい。受光手段114で検出する反射光量は、Y軸の変位量に応じた回教で変化するので、受光手段114で検出V114が所定のしきい値電圧を越えた回数を積算することにより、移動側物体102の第2の軸方向の変位量を検出することができる。
しかし、移動側物体102がX軸方向と第2の軸方向に同時に移動する場合には、上記の方法では両軸の変位を測定することはできない。その場合は、高速で可変集光手段152の集光点切り替え、図8(a)の状態にあるときの検出出力V114の変化の積算回数からX軸方向の変位量を、図8(b)の状態にあるときの検出出力V114の変化の積算回数からX軸方向の変位量を検出することができる。
例えば、第1のスリット103および第2のスリット104のスリットピッチが1μmで、移動側物体102の移動速度が10mm/sの場合、10KHz以上の周期で可動集光手段を動かして図8(a)と(b)の状態を切り替えて、それぞれの状態での受光手段155の検出信号の変化の回数を積算すれば、両軸の変位を測定することが可能である。
【0026】
(第5実施例)
図9は、本発明の光学式エンコーダの第5実施例の構成を示す図である。図9において第4実施例と異なる点は、移動側物体102に、位相差用発光手段161、位相差用の多点集光手段162、位相差用可変機構163、位相差用光分離手段164、位相差用受光手段165が付加されている点である。
第1のスリット103上または第2のスリット104上に集光される投射光スポットの位置関係を図10に示す。図10において、109は発光手段151から出射した投射光が第1のスリット面上または第2のスリット上に集光した投射光スポット、110は位相差用発光手段161から出射した位相差用投射光が第1のスリット面上または第2のスリット面上に集光した位相差用投射光スポットである。
位相差用投射光スポット110が、投射光スポット109に対してX軸方向にも第2の軸方向にも1/4周期分の位相差を有するように、位相差用発光手段161、位相差用の多点集光手段162、位相差用可変機構163、位相差用光分離手段164、位相差用受光手段165は配置されている。
動作について説明する。投射光および位相差用投射光の集光位置が、第1のスリット103上と第2のスリット104上を高速に繰り返すように、可動集光手段152と位相差用可動集光手段162を同期させて駆動させる。この状態で、移動側物体102が移動すると、第3受光手段134には、X軸の進行方向に応じて第1の受光手段114よりも1/4ピッチ分位相が進むか、遅れて光量の変化が生じる。この第1の受光手段114と第3受光手段134との検出信号を用いることにより、移動側物体102のX軸方向の相対変位と供に進行方向を検出することが可能である。Y軸についても同様に、第2の受光手段124と第4受光手段144の検出信号を用いることにより、移動側物体102のY軸方向の相対変位と供に進行方向を検出することが可能である。
【0027】
(第6実施例)
図11は、本発明の光学式エンコーダの第3実施例の構成を示す図である。図11において第3実施例と異なる点は、受光手段155が、4つの受光部155、155B、155Cと155Dに分かれている点である。
動作について説明する。投射光が第1のスリット103上に集光されていて、投射光スポット109の光反射部103Aの中心にあるときには、受光部155Aと155B、および155Cと155Dに同量の反射光が入射し、その検出出力は等しくなる。この状態から移動側物体102がX軸方向に移動すると、投射光スポット109が、第1のスリット103の光反射部103Aからずれることにより、受光部155Aと155B、および155Cと155Dに入射する反射光がアンバランスになる。例えばX軸の+方向に移動した場合、受光部155Bに入射する反射光が受光部155Aに比べて小さく、受光部155Dに入射する反射光が受光部155Cに比べて小さくなれば、受光部155Aの検出出力V155Aが受光部155Bの検出出力V155Bよりも大きく、受光部155Cの検出出力V155cが受光部155Dの検出出力V155Dよりも大きくなる。逆に、X軸の−方向に移動した場合、受光部114Aに入射する反射光が受光部114Bに比べて小さくなり、受光部155Aの検出出力V155Aが受光部155Bの検出出力V15 5Bよりも小さく、受光部155Cの検出出力V155cが受光部155Dの検出出力V155Dよりも小さくなる。
したがって、受光部155Aと155Bの検出出力の和V155A+V155B、または受光部155Cと155Dの検出出力の和V155C+V155Dと、受光部155Aと155Bの検出出力の差V155A−V155B、または受光部155Cと155Dの検出出力の差V155C−V155Dを用いることにより、移動側物体102のX軸方向の相対変位と供に進行方向を検出できる。
Y軸についても同様に、受光部155Aと155Cの検出出力の和V155A+V155c、または受光部155B155Dの検出出力の和V155B+V155Dと、受光部155Aと155Cの検出出力の差V155A−V155c、または受光部155Bと155Dの検出出力の差V155B−V155Dを用いることにより、移動側物体102の第2の軸方向の相対変位と供に進行方向を検出できる。
【0028】
なお、以上の各実施例では直交した第1のスリットと第2のスリットを例にしたが、必要に応じて他の角度で交叉するように配置したものであっても本発明の趣旨を逸脱するものではない。
また、以上の各実施例の第1のスリットと第2のスリットは、樹脂基板やガラス基板上に作製することが可館である。第1のスリットと第2のスリットの製造には、射出成形法、レプリカ製法、フォトマスク露光や電子ビーム露光を用いたエッチング、レーザ加工等の方法が利用できる。特に、樹脂基板上に作成する場合は、安価に製造できる射出成形法が有効な製造方法である。また、ガラス基板を用いれば、温度によるスリット精度の変動が少なく、移動側物体の変位量を精度良く測定できるという特徴がある。
さらに、各実施例の第1のスリットと前記第2のスリットは、異なる基板上に作製後、重ね合わせてもよいし、同一基板の表面と裏面にそれぞれのスリットを作成してもよい。スリット基板を薄くする必要がある場合には、同一基板の表面と裏面に作成する方が好ましい。
【0029】
2つの物体を相対変位させる駆動手段に、上記構成の光学式エンコーダを取り付けて、この光学式エンコーダの出力に基づいて、駆動手段を制御する制御手段を加えると、1つの光学式エンコーダで2次元の相対変位が測定でき、簡易なシステムの駆動システムを構成することができる。
【0030】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、一方の物体に周期的なパターンを有する第1のスリットとこれと交叉するように配置された第2のスリットを設け、他方の物体に、第1の投射光を出射する第1の発光手段と、第1の集光手段と、第1の光分離手段と、第1の受光手段と、第2の発光手段と、第2の集光手段と、第2の光分離手段と、第2の受光手段とを設けので、簡易で高精度の2次元方向の相対変位を検出できる光学式エンコーダを得る効果がある。
また、2つの物体を相対変位させる駆動手段と、上記のエンコーダと、光学式エンコーダの出力に基づいて駆動手段を制御する制御手段とを備えたので、簡易な構成で高精度の駆動システムが構築できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図2】本発明の第1の実施例の投射光スポット部を示す拡大平面図
【図3】本発明の第1の実施例のスリット部を示す拡大平面図
【図4】本発明の第2の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図5】本発明の第2の実施例の投射光スポット位置を示す平面図
【図6】本発明の第3の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図7】本発明の第4の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図8】本発明の第4の実施例の投射光スポット位置を示す側断面図
【図9】本発明の第5の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図10】本発明の第5の実施例の投射光スポット位置を示す平面図
【図11】本発明の第6の実施例を示す光学式エンコーダの斜視図
【図12】従来の光学式コーダの斜視図
【符号の説明】
101、201 固定側物体
102、207 移動側物体
103 第1のスリット
103A、104A 光反射部
103B、104B 光透過部
104 第2のスリット
105 第1の投射光スポット
106 第2の投射光スポット
109 投射光スポット
111 第1の発光手段
112 第1の集光手段
113 第1の光分離手段
114 第1の受光手段
114A、114B、124A、124B、155、155A、155B、155C、155D 受光部
121 第2の発光手段
122 第2の集光手段
123 第2の光分離手段
124 第2の受光手段
131 第3発光手段
132 第3集光手段
133 第3光分離手段
134 第3受光手段
141 第4発光手段
142 簾4集光手段
143 第4光分離手段
144 第4受光手段
151 発光手段
152 可変集光手段
153 可変機構
154 光分離手段
161 位相差用発光手段
162 位相差用の多点集光手段
163 位相差用可変機構
164 位相差用光分離手段
165 位相差用受光手段
202 X軸測定用リニアスリット
203 可動ロッド
204 X軸測定用読みとりヘッド
205 Y軸測定用リニアスリット
206 Y軸測定用読みとりヘッド

Claims (15)

  1. 一方の物体と、これに対して一定の間隙をもって相対する他方の物体との相対変位量を測定する光学式エンコーダにおいて、
    前記一方の物体に設けられ、周期的なパターンを有する第1のスリットと、これと交叉するように配置された第2のスリットと、前記他方の物体に設けられ、前記第1のスリットに対して第1の投射光を出射する第1の発光手段と、前記第1の投射光を前記第1のスリット上に集光させる第1の集光手段と、前記第1のスリット上で反射した前記第1の反射光を前記第1の投射光と分離する第1の光分離手段と、前記第1の反射光を検出する第1の受光手段と、前記第2のスリットに対して第2の投射光を出射する第2の発光手段と、前記第2の投射光を前記第2のスリット上に集光させる第2の集光手段と、前記第2のスリット上で発射した第2の反射光を前記第2の投射光と分離する第2の光分離手段と、前記第2の反射光を検出する第2の受光手段とを備えたことを特徴とする光学式エンコーダ。
  2. 前記第1の集光手段により前記第1のスリット上に集光された第1の投射光スポットに対して位相差を有するスリット位置に第3の投射光を出射する第3の発光手段と、前記第3の投射光を集光させる第3の集光手段と、前記第1のスリット上で反射した第3の反射光と前記第3の投射光を分離する第3の光分離手段と、前記第3の反射光を検出する第3の受光手段と、前記第2の集光手段により前記第2のスリット上に集光された第2の投射光スポットに対して位相差を有するスリット位置に第4の投射光を出射する第4の発光手段と、前記第4の投射光を集光させる第4の集光手段と、前記第2のスリット上で反射した第4の反射光と前記第4の投射光を分離する第4の光分離手段と、前記第4の反射光を検出する第4の受光手段とを備えたことを特徴とする請求項1記載の光学式エンコーダ。
  3. 前記第1の発光手段または前記第3の発光手段と、前記第2の発光手段または前記第4の発光手段は異なる波長の光を出射し、前記第1のスリットの反射部は前記第3の投射光に対しては反射し、前記第4の投射光に対しては透過する波長依存性を有することを特徴とする請求項1または2記載の光学式エンコーダ。
  4. 前記第1の発光手段と前記第2の発光手段は異なる波長の光を出射し、前記第1のスリットの反射部は前記第1の投射光に対しては反射し、前記第2の投射光に対しては透過する波長依存性を有することを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の光学式エンコーダ。
  5. 一方の物体と、これに対して一定の間隙をもって相対する他方の物体との相対変位量を測定する光学式エンコーダにおいて、
    前記一方の物体に設けられ、周期的なパターンを有する第1のスリットとこれと交叉するように配置された第2のスリットと、 前記他方の物体に設けられ、前記第1のスリットに対して第1の投射光を出射する第1の発光手段と、前記第1の投射光を前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上に選択的に集光できる第1の多焦点集光手段と、前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上で反射した第1の反射光を前記第1の投射光と分離する第1の光分離手段と、前記反射光を検出する第1の受光手段とを備えたことを特徴とする光学式エンコーダ。
  6. 前記第1のスリットまたは前記第2のスリットに対して第2の投射光を出射する第2の発光手段と、前記第1の多焦点集光手段により前記第1のスリット上に集光された第1の投射光スポットに対して第1の軸方向に位相差を有し、かつ前記第1の多焦点集光手段により前記第2のスリット上に集光された前記第1の投射光スポットに対して第2の軸方向に位相差を有するスリット位置に前記第2の投射光を集光させる第2の多焦点集光手段と、前記第1のスリットまたは前記第2のスリット上で反射した第2の反射光と前記第2の投射光を分離する第2の光分離手段と、前記第2の反射光を検出する第2の受光手段と、を備えたことを特徴とする請求項5記載の光学式エンコーダ。
  7. 前記多焦点集光手段が、可動集光手段からなることを特徴とする請求項5または6記載の光学式エンコーダ。
  8. 前記第1の受光手段及び前記第2の受光手段は、それぞれ少なくとも2個の受光部からなることを特徴とする請求項1、2、7のいずれか1項に記載の光学式エンコーダ。
  9. 前記第1のスリットおよび前記第2のスリットの反射部が基板上に形成した薄膜であることを特徴とする請求項1乃至8記載の光学式エンコーダ。
  10. 前記第1のスリットの反射部が半透過性であることを特徴とする請求項9記載の光学式エンコーダ。
  11. 前記第1のスリットおよび前記第2のスリットを樹脂基板上に作製したことを特徴とする請求項1乃至10記載の光学式エンコーダ。
  12. 前記第1のスリットおよび前記第2のスリットをガラス基板上に作製したことを特徴とする請求項1乃至10記載の光学式エンコーダ。
  13. 前記第1のスリットと前記第2のスリットを異なる基板上に作製したことを特徴とする請求項1乃至12記載の光学式エンコーダ。
  14. 前記第1のスリットと前記第2のスリットを同一基板の表面と裏面にそれぞれ作製したことを特徴とする請求項1乃至12記載の光学式エンコーダ。
  15. 2つの物体を相対変位させる駆動手段と、前記2つの物体の相対変位量を測定する前記1乃至14記載の光学式エンコーダと、前記光学式エンコーダの出力に基づいて駆動手段を制御する制御手段とを備えた駆動システム。
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