JP2004195974A - Laminated film for optical parts, rolled film layer product, optical parts, and optical disk - Google Patents

Laminated film for optical parts, rolled film layer product, optical parts, and optical disk Download PDF

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Tetsuo Yamanaka
哲郎 山中
Yukihiko Yamashita
幸彦 山下
Kenji Kanamaru
健二 金丸
Koichi Saito
晃一 斉藤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a laminated film for optical parts which has good optical characteristics and improved mold releasability, and to obtain a rolled film layer product, optical parts, and an optical disk. <P>SOLUTION: The laminated film, rolled film product, optical parts, and optical disk are characterized by having at least a light transmissive layer and a resin substrate layer, and the light transmissive layer, containing a silicone resin, is mainly composed of a thermoplastic resin, has a birefringence of ≤20 nm, and has a haze of <1%, and the resin substrate layer is laminated with the light transmissive layer and peeled and removed at the time of use. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

本発明は、DVD、有機EL、フレキシブルディスプレイ又は電子ペーパー等の光学用部品の部材として適用可能な光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクに関する。   The present invention relates to a laminated film for an optical component, a film wound body, an optical component, and an optical disc that can be used as a member of an optical component such as a DVD, an organic EL, a flexible display, and electronic paper.

家電製品、カメラ、携帯電話、OA機器及び電子機器等の部品、CDやDVD等の光学用部品として各種の高分子材料が使用されている。   2. Description of the Related Art Various polymer materials are used as components for home appliances, cameras, mobile phones, OA devices, electronic devices, and the like, and optical components such as CDs and DVDs.

代表的な高分子材料として、例えば、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、液晶性ポリマ、ポリイミド樹脂、ポリマーアロイ材、熱硬化性樹脂などが挙げられる。   Representative polymer materials include, for example, acrylic resins, styrene resins, aromatic polyamide resins, liquid crystalline polymers, polyimide resins, polymer alloy materials, thermosetting resins, and the like.

アクリル樹脂またはスチレン系樹脂は、透明性が高く、ゴム状物からガラス状ポリマまで多様な特徴を有するポリマを比較的容易に製造することができ、変性が容易である等の特性を有し、比較的安価であるが、フィルム形状にするには強度、耐熱性と靱性の両立向上に大きな課題を残している。靱性の不足はアクリル樹脂全般に共通した課題であり、靭性の不足を解決する方法は幾つか報告されており、例えば、樹脂中にゴム粒子を添加することが知られている(特許文献1及び特許文献2参照)。しかし、これらの方法では、樹脂から薄膜フィルムを形成すると樹脂を折り曲げた時に白化現象が発生してしまい、良好な折り曲げ加工性を得られない。このため、現在、室温以上のガラス転移点を有し、かつ、靱性及び折り曲げ加工性が優れたアクリル樹脂は見出されておらず、薄膜フィルムを形成することが困難であった。   Acrylic resin or styrene-based resin has high transparency, and can easily produce polymers having various characteristics from rubbery materials to glassy polymers, and has properties such as easy modification. Although relatively inexpensive, there remains a major challenge in improving strength, heat resistance and toughness in film form. Lack of toughness is a problem common to all acrylic resins, and several methods for solving the lack of toughness have been reported. For example, it is known to add rubber particles to a resin (Patent Documents 1 and 2). Patent Document 2). However, in these methods, when a thin film is formed from a resin, a whitening phenomenon occurs when the resin is bent, and good bending workability cannot be obtained. For this reason, an acrylic resin having a glass transition point equal to or higher than room temperature and excellent in toughness and bending workability has not been found, and it has been difficult to form a thin film.

また、芳香族ポリアミド樹脂として、ポリパラフェニレンテレフタルアミドが最も代表的な樹脂として挙げられる。ポリパラフェニレンテレフタルアミドは、特に、高融点、結晶性が高く、難燃性、剛直な分子構造であるため、優れた機械的強度を有しており、低い線膨張係数等を有する。しかし、ポリパラフェニレンテレフタルアミド等の芳香族ポリアミド樹脂は、有機溶媒に難溶であり、溶媒として濃硫酸等の無機の強酸を用いる必要があった。濃硫酸等の濃厚溶液から紡糸された繊維は高い強度と弾性率を示すことが知られており、工業的に実施されるに至っているがフィルムへの応用例は少ない。例えば、膨潤状態で延伸してフィルムとして成形できる技術が開示されているが(特許文献3参照)、本方法では製造工程が極めて煩雑であり、生産性が低下し、製品価格が上昇してしまうという問題を有していた。有機溶媒への溶解性を向上させる方法としては、芳香核にハロゲン基を導入した単位または屈曲性の高い単位を共重合して有機溶媒への溶解性を向上させる方法が知られている(特許文献4参照)。しかし、モノマーが高価であるため製品価格が高くなり、耐熱性や難燃性を損なうことが懸念される上に、ハロゲン原子の金属腐食性が問題となっている。   As the aromatic polyamide resin, polyparaphenylene terephthalamide is mentioned as the most typical resin. Polyparaphenylene terephthalamide has excellent mechanical strength, low linear expansion coefficient, and the like, particularly because it has a high melting point, high crystallinity, flame retardancy, and a rigid molecular structure. However, aromatic polyamide resins such as polyparaphenylene terephthalamide are hardly soluble in organic solvents, and it is necessary to use an inorganic strong acid such as concentrated sulfuric acid as a solvent. Fiber spun from a concentrated solution such as concentrated sulfuric acid is known to exhibit high strength and elastic modulus, and has been industrially practiced, but has few applications to films. For example, a technique that can be formed into a film by stretching in a swollen state has been disclosed (see Patent Document 3). However, in this method, a manufacturing process is extremely complicated, productivity is reduced, and a product price is increased. Had the problem that As a method for improving the solubility in an organic solvent, a method of improving the solubility in an organic solvent by copolymerizing a unit having a halogen group introduced into an aromatic nucleus or a unit having high flexibility is known (Patent Reference 4). However, since the monomer is expensive, the product price increases, and there is a concern that heat resistance and flame retardancy may be impaired, and metal corrosion of halogen atoms is a problem.

ポリイミド樹脂は、極めて高い耐熱性と強靱性とを有し、フィルム性能が優れているため工業的に極めて有用な材料である。ポリイミドをフィルム状に加工するため、一般的にはポリイミド溶液を塗工した後、高温加熱してイミド環を形成している。イミド環を形成すると優れた耐熱性及び強靭性を得られるが、一旦イミド環を形成すると溶媒に対する溶解性が著しく低下し、ポリイミドをリサイクルする際には極めて重大な欠点となっていた。そこで、溶媒に対する溶解性および耐熱性の両特性を兼ね備えた材料の開発が要求されており、例えば、芳香核にアルキル等の置換基を導入した単位を共重合して有機溶媒への溶解性を向上させる方法が知られている。しかし、本方法ではガラス転移温度が320℃以上となる材料は得られず、また、モノマーが高価であり製品価格が高騰してしまうという問題があった。   Polyimide resins are extremely useful industrially because they have extremely high heat resistance and toughness and have excellent film performance. In order to process the polyimide into a film, generally, a polyimide solution is applied and then heated to a high temperature to form an imide ring. When an imide ring is formed, excellent heat resistance and toughness can be obtained. However, once an imide ring is formed, the solubility in a solvent is remarkably reduced, which has been a very serious drawback when recycling polyimide. Therefore, development of a material having both properties of solubility in a solvent and heat resistance is required.For example, a unit in which a substituent such as an alkyl is introduced into an aromatic nucleus is copolymerized to improve the solubility in an organic solvent. Methods for improving are known. However, this method has problems that a material having a glass transition temperature of 320 ° C. or higher cannot be obtained, and that the monomer is expensive and the product price rises.

ポリマーアロイ材は、異種の高分子材料を混合することにより新たな性能の発現を目的とするものであるが、相溶化剤を用いることにより親和性の異なる高分子を混合することが行われてきた。この方法では、相溶化剤により表面エネルギーを減少させることを狙った技術であるため海島構造を形成する分散状態を制御することはできるが、完全に相溶化することはできない。異種高分子を完全相溶化した報告は現在のところない。また、相溶化剤は比較的高価であるため、製品価格が高くなることと、ポリマーアロイ材を長期に亘り使用した場合には、相溶化剤が表面へブリードアウトしてしまう等により汚染の原因となり、また、ポリマーアロイ材の分散状態が変化してしまう等の問題点を有していた。   Polymer alloy materials are intended to exhibit new performance by mixing different types of polymer materials, but polymers having different affinities have been mixed by using compatibilizers. Was. According to this method, the dispersion state forming the sea-island structure can be controlled because the technique aims at reducing the surface energy with a compatibilizing agent, but it cannot be completely compatibilized. There is no report of complete compatibilization of different polymers at present. In addition, since the compatibilizer is relatively expensive, the product price becomes high, and when the polymer alloy material is used for a long period of time, the compatibilizer bleeds out to the surface and causes contamination. And the dispersion state of the polymer alloy material changes.

熱硬化性樹脂に関しては、一般に不溶不融の硬化物であるために、耐溶剤性又は高温下での強度保持率等の耐久性に非常に優れる特徴を有する。しかし、架橋反応が共有結合により形成されているため、再加工できないという欠点があり、この欠点は、近年のリサイクル性の確保に関して致命的となっていた。リサイクル可能な熱硬化性樹脂に最も近いものとしては、アイオノマー樹脂を挙げることができる。アイオノマー樹脂は、側鎖にカルボキシル基を有するポリマに、酸化マグネシウム、又は水酸化カルシウム等の金属酸化物又は金属水酸化物を添加したものであり、金属とカルボキシル基との間にイオン結合を形成し、疑似的架橋点を形成したものである。本方法によれば、ある程度の耐熱性及び強靱性の向上は認められるものの、金属化合物とカルボキシル基の結合力が弱いこと、及び金属化合物の樹脂に対する溶解性が低く少量しか添加できない等の理由により、大幅な特性向上は認められない。   Since thermosetting resins are generally insoluble and infusible cured products, they have characteristics of being extremely excellent in durability such as solvent resistance or strength retention at high temperatures. However, since the cross-linking reaction is formed by a covalent bond, there is a drawback that it cannot be reprocessed, and this drawback has been fatal in securing recyclability in recent years. The closest to the recyclable thermosetting resin is an ionomer resin. An ionomer resin is a polymer having a carboxyl group in a side chain, and a metal oxide or metal hydroxide such as magnesium oxide or calcium hydroxide added thereto, and forms an ionic bond between the metal and the carboxyl group. Thus, a pseudo crosslinking point was formed. According to this method, although some improvement in heat resistance and toughness is observed, the bonding strength between the metal compound and the carboxyl group is weak, and the solubility of the metal compound in the resin is low and only a small amount can be added. No significant improvement in characteristics is observed.

そこで、1種又は2種以上の合成高分子を混合して分子間に水素結合を形成することにより擬似的な架橋構造を持たせて、従来の材料では実現できなかった新たな特性を導入した樹脂組成物が開発されている(特許文献5参照)。さらに、ガラス転移温度が低い重合体としてプロトン供与性原子団である水酸基を含んだアクリル重合体(ビニル系重合体A)と、ガラス転移温度が高い重合体としてプロトン受容性原子団であるアミン基を含んだアクリル重合体(ビニル系重合体B)をブレンドし、分子間に水素結合を形成して擬似的な架橋構造を持たせた疑似架橋型樹脂組成物からフィルムを形成することにより、新たな特性を導入し、耐熱性及び靱性の相反する特性を両立したフィルムを得られることが報告されている(特許文献6参照)。
特公昭58−167605号公報 特開平3−52910号公報 特開平4−6738号公報 特公昭56−45421号公報 特開2000−273319号公報 特開2002−38036号公報
Therefore, by mixing one or more kinds of synthetic polymers to form hydrogen bonds between the molecules, a pseudo-crosslinking structure is provided to introduce new characteristics that cannot be realized with conventional materials. A resin composition has been developed (see Patent Document 5). Further, an acrylic polymer (vinyl polymer A) containing a hydroxyl group which is a proton donating group as a polymer having a low glass transition temperature, and an amine group which is a proton accepting group as a polymer having a high glass transition temperature. Is formed by blending an acrylic polymer (vinyl polymer B) containing, and forming a hydrogen bond between the molecules to form a pseudo-crosslinked resin composition having a pseudo crosslinked structure. It has been reported that a film having excellent properties and a contradictory property of heat resistance and toughness can be obtained (see Patent Document 6).
JP-B-58-167605 JP-A-3-52910 JP-A-4-6738 JP-B-56-45421 JP 2000-273319 A JP 2002-38036 A

しかしながら、上記疑似架橋型樹脂組成物から形成されるフィルムは、単独で巻き取るとフィルム同士が貼り付いてしまい、再繰り出しが困難であるという問題を有していた。   However, the film formed from the pseudo-crosslinked resin composition has a problem in that if the film is wound alone, the films adhere to each other and it is difficult to re-extend the film.

そこで、フィルム同士の貼り付きを防止するために、フィルムにプロテクトフィルムを張り合わせる方法や合紙等を挟む方法が検討されている。しかし、プロテクトフィルムを張り合わせる方法ではプロテクトフィルムの面を転写する、また、フィルムに合紙等を挟む方法では張り合わす際に、気泡等を巻き込んでしまい、この結果、気泡部分がフィルムに転写され、フィルムの表面平滑性が悪化してしまうという問題を有していた。従って、現状では、フィルムにプロテクトフィルムを張り合わせる方法や合紙等を挟む方法は実用化に至らず、フィルムを巻き取り形状とすることが困難であり、この問題は未解決のままであった。   Therefore, in order to prevent sticking of the films, a method of attaching a protect film to the film or a method of sandwiching an interleaf paper or the like are being studied. However, in the method of bonding the protection film, the surface of the protection film is transferred, and in the method of sandwiching the interleaf paper or the like, bubbles and the like are involved when the bonding is performed. As a result, the bubble portion is transferred to the film. However, there is a problem that the surface smoothness of the film is deteriorated. Therefore, at present, the method of laminating the protected film to the film or the method of sandwiching the interleaf paper or the like has not been put to practical use, and it is difficult to form the film into a wound shape, and this problem has not been solved. .

また、他の方法として、フィルムを原反から剥がすこと無く、フィルムを原反と共にそのまま巻き取る方法が提案されている。本方法によれば、フィルムにプロテクトフィルムの張り合わせ等の作業が不要となり、気泡等の巻き込みによる表面平滑性の低下を防止し、表面平滑性を維持してフィルムを巻き取ることが可能である。しかし、フィルムの反りを低減するために、疑似架橋型樹脂組成物中のビニル系重合体A及びビニル系重合体Bのブレンド量を調整し、かつ、弾性率を制御する等により疑似架橋型樹脂組成物を改良したが、改良に伴いフィルムが原反に貼り付き易くなり、原反からフィルムを剥離することが困難になってしまうという新たな問題を有していた。   As another method, a method has been proposed in which the film is wound up together with the raw material without peeling the film from the raw material. According to this method, work such as laminating a protected film to the film becomes unnecessary, and it is possible to prevent a decrease in surface smoothness due to entrapment of air bubbles and the like and to wind up the film while maintaining surface smoothness. However, in order to reduce the warpage of the film, the amount of the blend of the vinyl polymer A and the vinyl polymer B in the pseudo-crosslinked resin composition is adjusted, and the pseudo-crosslinked resin is controlled by controlling the elastic modulus. Although the composition was improved, there was a new problem that the film was liable to stick to the raw material with the improvement, and it was difficult to peel off the film from the raw material.

近年、CDやDVD等の光ディスクは大容量化しており、DVD用表面保護フィルム等の光学部材は高記録密度化が進んでいる。高記録高密度化に伴いフィルム表面に数μm程度の凹凸が生じると、読み取り時にエラーが発生して記録情報を正確に読み取ることが困難となるため、表面平滑性が良好であるフィルムが要求されている。光学部品として適用されるフィルムは、例えば、基材となる原反PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム上にフィルムの形成材料を塗布した後、乾燥して作製される。しかし、基材からフィルムを剥離し易くするために、基材に離型処理等を施すとフィルムの表面平滑性が損なわれてしまう。そこで、基材に離型処理等を施すこと無く、表面平滑性が良好な基材上にフィルム材料を塗布及び乾燥させてフィルムを作製する必要がある。しかし、逆に表面平滑性の良い基材を適用すると、フィルムが基材にハリツキを起こしてしまい離型性が悪化し、その結果、作業性が悪く、収率が低下する等の問題を有していた。   In recent years, optical disks such as CDs and DVDs have increased in capacity, and optical members such as DVD surface protection films have been increasing in recording density. When irregularities of about several μm occur on the film surface due to high recording density, errors occur during reading and it becomes difficult to read recorded information accurately, so a film with good surface smoothness is required. ing. A film applied as an optical component is produced, for example, by applying a film forming material on a raw PET (polyethylene terephthalate) film serving as a base material and then drying it. However, if the substrate is subjected to a release treatment or the like in order to easily peel the film from the substrate, the surface smoothness of the film is impaired. Therefore, it is necessary to apply a film material to a substrate having good surface smoothness and dry it without producing a release treatment or the like on the substrate to produce a film. However, when a substrate having good surface smoothness is applied, on the other hand, the film causes the substrate to stiffen and the releasability is deteriorated. As a result, there are problems such as poor workability and reduced yield. Was.

また、実使用時においては、光透過層となるフィルムが直接種々の物体と接触するため表面に傷が付いてしまうことがある。この場合、傷が付いた部分は光の透過率が著しく低下するため、信号を読みとることが困難となり、記録容量が低下するという問題がある。   Further, during actual use, the film serving as the light transmitting layer comes into direct contact with various objects, so that the surface may be damaged. In this case, since the light transmittance of the damaged portion is significantly reduced, it becomes difficult to read the signal, and there is a problem that the recording capacity is reduced.

本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、光学特性が良好であり、かつ、離型性を向上させた光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems, and provides a laminated film for an optical component, a film wound body, an optical component, and an optical disc having good optical characteristics and improved releasability. The purpose is to:

さらに、本発明は、上記に加え、実用時の表面耐擦傷性が優れた光学部品用積層フィルム、フィルム巻層体、光学部品及び光ディスクを得ることを目的とする。   A further object of the present invention is to obtain, in addition to the above, a laminated film for an optical component, a film wound body, an optical component, and an optical disc having excellent surface scratch resistance in practical use.

上記目的を達成すべく本発明者らは種々研究した結果、フィルムを形成する熱可塑性樹脂溶液中に、例えば、透明性を阻害しないシリコーン樹脂を離型剤として最適量添加することにより、フィルムの透明性を損なうこと無く、原反からの離型性が良好なフィルムを得られることに着目し、本発明を完成させたものである。   The present inventors have conducted various studies to achieve the above object, and as a result, in a thermoplastic resin solution forming a film, for example, by adding an optimal amount of a silicone resin that does not inhibit transparency as a mold release agent, The present invention has been accomplished by focusing on obtaining a film having good releasability from a raw material without impairing transparency.

すなわち、本発明の光学部品用積層フィルムは、シリコーン樹脂が含有され主として熱可塑性樹脂から成り、複屈折が20nm以下でありかつヘイズが1%未満である光透過層と、当該光透過層と積層され使用時に剥離除去される樹脂基材層と、を少なくとも有することを特徴とする。   That is, the laminated film for an optical component of the present invention contains a silicone resin, is mainly composed of a thermoplastic resin, has a birefringence of 20 nm or less, and has a haze of less than 1%. And a resin substrate layer that is peeled and removed at the time of use.

上記発明において、前記光透過層上に鉛筆硬度が3H以上であるハードコート層が形成され、該ハードコート層上または該ハードコート層と反対側の前記光透過層上に前記樹脂基材層が積層されていてもよい。   In the above invention, a hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more is formed on the light transmission layer, and the resin base material layer is formed on the hard coat layer or on the light transmission layer opposite to the hard coat layer. They may be stacked.

このハードコート層の膜厚は0.5〜8.0μmであることが好ましく、その膜厚精度は±1.0μm以内であることが好ましい。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。さらに、ハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を0.2〜10.0重量%含有することが好ましい。   The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 8.0 μm, and the thickness accuracy is preferably within ± 1.0 μm. The hard coat layer is not particularly limited, but preferably has a crosslinked structure, more preferably a silicone crosslinked structure or an acrylic crosslinked structure. Further, the hard coat layer preferably contains 0.2 to 10.0% by weight of a silicone-based thermoplastic resin.

上記発明において、記録層の読み取り精度を良好とするため、光透過層の複屈折が10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることがさらに好ましく、特に20GBを超えるような高密度DVDの場合には、2nm以下であることが特に好ましい。   In the above invention, in order to improve the reading accuracy of the recording layer, the birefringence of the light transmitting layer is more preferably 10 nm or less, still more preferably 5 nm or less, and particularly high density DVD having a birefringence of more than 20 GB. In this case, it is particularly preferable that the thickness be 2 nm or less.

さらに、上記発明において、光透過層の膜厚が15〜250μmであることが好ましく、より好ましくは25〜200μm、さらに好ましくは35〜150μmの範囲であり、膜厚精度は±2.0μm以内であることが好ましい。一方、樹脂基材層の膜厚は20〜250μmであることが好ましく、25〜200μmであることがより好ましく、25〜150μmであることが特に好ましく、その膜厚精度は±1.0μm以内であることが好ましい。なお、膜厚の測定は、レーザーフォーカス変位計(キーエンス製、LT−8010)を用いて、任意の大きさ(例えば1cm〜10000cmの面内)について、全体から適切に(例えば25〜1000点)測定点を選択して測定し、その平均値を膜厚とすることができる。 Further, in the above invention, the thickness of the light transmitting layer is preferably 15 to 250 μm, more preferably 25 to 200 μm, and still more preferably 35 to 150 μm, and the thickness accuracy is within ± 2.0 μm. Preferably, there is. On the other hand, the thickness of the resin base material layer is preferably from 20 to 250 μm, more preferably from 25 to 200 μm, particularly preferably from 25 to 150 μm, and the thickness accuracy is within ± 1.0 μm. Preferably, there is. The measurement of the film thickness, a laser focus displacement meter (manufactured by Keyence Corporation, LT-8010) with, any size for (e.g. 1cm 2 ~10000cm 2 in the plane), suitably from the entire (e.g., 25 to 1000 Point) A measurement point is selected and measured, and the average value can be used as the film thickness.

また、上記発明において、光透過層の405nmにおける光透過率が87%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上である。   In the above invention, the light transmittance of the light transmitting layer at 405 nm is preferably 87% or more, more preferably 90% or more.

さらに、上記発明において、光透過層側における樹脂基材層の表面平滑性が20nm以下であることが好ましく、より好ましくは15nm以下、さらに好ましくは12nm以下である。本発明によれば、フィルム形成時に、塗工面の表面平滑性が良好な基材(原反)を使用した場合であっても、熱可塑性樹脂中にシリコーン樹脂を添加して離型性が向上したため、樹脂基材層と光透過層とのハリツキを防止できる。また、塗工面の表面平滑性が良い基材(原反)を使用したため、表面平滑性の良いフィルムを得ることができる。   Further, in the above invention, the surface smoothness of the resin substrate layer on the light transmission layer side is preferably 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, and further preferably 12 nm or less. According to the present invention, even when a base material (raw material) having a good surface smoothness of a coated surface is used at the time of film formation, the release property is improved by adding a silicone resin to the thermoplastic resin. As a result, it is possible to prevent the resin substrate layer and the light transmitting layer from being hardened. In addition, since a substrate (raw material) having a good surface smoothness of the coated surface is used, a film having a good surface smoothness can be obtained.

また、上記発明において、25℃、離型速度100mm/秒の条件下において、樹脂基材層から光透過層を剥離した際のハリツキによるはがし残りが1m当たり3ヶ所以下であることが望ましい。ハリツキによるはがし残りが1m当たり3ヶ所を超えると、作業性が悪くなり、収率低下の原因となるためである。 Further, in the above invention, it is desirable that the peeling residue due to the stiffness when the light transmitting layer is peeled off from the resin base material layer at 25 ° C. and a mold release speed of 100 mm / sec is 3 or less per 1 m 2 . When the remaining peel by sticking exceeds 3 places per 1 m 2, workability is deteriorated, because the cause of yield loss.

また、上記発明において、光透過層の25℃におけるPETに対する静摩擦係数が0.42以下であり、より好ましくは0.40以下である。本発明によれば、熱可塑性樹脂中にシリコーン樹脂を添加していたため、静摩擦係数の低いフィルムを得ることができる。   In the above invention, the coefficient of static friction of the light transmitting layer with respect to PET at 25 ° C. is 0.42 or less, more preferably 0.40 or less. According to the present invention, since the silicone resin is added to the thermoplastic resin, a film having a low static friction coefficient can be obtained.

さらに、上記発明において、樹脂基材層の膜厚は20〜250μmであることが好ましく、より好ましくは25〜200μmであり、さらに好ましくは25〜150μmの範囲である。また、膜厚精度は±1.0μm以内であることが好ましい。なお、膜厚の測定は、レーザーフォーカス変位計(キーエンス製、LT−8010)を用いて、任意の大きさ(例えば1cm〜10000cmの面内)について、全体から適切に(例えば25〜1000点)測定点を選択して測定し、その平均値を厚さとすることができる。 Furthermore, in the above invention, the thickness of the resin base material layer is preferably from 20 to 250 μm, more preferably from 25 to 200 μm, and still more preferably from 25 to 150 μm. Further, the film thickness accuracy is preferably within ± 1.0 μm. The measurement of the film thickness, a laser focus displacement meter (manufactured by Keyence Corporation, LT-8010) with, any size for (e.g. 1cm 2 ~10000cm 2 in the plane), suitably from the entire (e.g., 25 to 1000 Point) A measurement point is selected and measured, and the average value can be used as the thickness.

さらに、上記発明において、熱可塑性樹脂は、ビニル系重合体であることことが好ましく、このビニル系重合体は、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bとを含み、プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されていることがより好ましい。本発明において、光透過層は、特性の異なる2種以上のビニル系重合体を混合し、分子内の相互間に擬似的な架橋構造を形成したビニル系重合体から形成したものであり、擬似的な架橋構造という表現を使用したが、これは、本発明のビニル系重合体の架橋構造が、熱分解温度以下の熱や溶剤等により切断され、温度を下げるか、或いは溶剤を除去すると架橋構造が再形成されるためである。上記ビニル系重合体を使用してフィルムを形成することにより、1種のビニル系重合体からフィルムとした場合には得ることができない複数の特性を待たせることが可能となる。例えば、2種のビニル系重合体を混合する場合に、耐熱性が良好であり正複屈折である一方のビニル系重合体と、柔軟性を有し負複屈折である他方のビニル系重合体とを使用して、両者のビニル系重合体を混合して擬似架橋を形成する。擬似架橋を形成することにより、耐熱性及び柔軟性の特性を両立すると共に、正負複屈折を相殺しゼロ複屈折化して低複屈折とし、フィルムに相反する特性を持たせたものである。   Further, in the above invention, the thermoplastic resin is preferably a vinyl-based polymer, and the vinyl-based polymer is a vinyl-based polymer A containing at least one proton-donating atomic group in a molecule, A vinyl-based polymer B containing at least one proton-accepting group in the molecule, wherein pseudo-crosslinks are formed between the proton-donating group and the proton-accepting group by intermolecular hydrogen bonding. Is more preferable. In the present invention, the light transmission layer is formed from a vinyl polymer in which two or more kinds of vinyl polymers having different properties are mixed and a pseudo crosslinked structure is formed between molecules. The crosslinked structure of the vinyl polymer of the present invention is cut by heat or a solvent at a temperature lower than the thermal decomposition temperature, and when the temperature is lowered or the solvent is removed, the crosslinked structure is used. This is because the structure is reformed. By forming a film using the vinyl polymer, it becomes possible to wait for a plurality of properties that cannot be obtained when a film is formed from one kind of vinyl polymer. For example, when two kinds of vinyl polymers are mixed, one vinyl polymer having good heat resistance and positive birefringence and the other vinyl polymer having flexibility and negative birefringence are used. Are used to mix the two vinyl polymers to form pseudocrosslinks. By forming pseudo-crosslinking, the film has both heat resistance and flexibility characteristics, and cancels out positive and negative birefringence and makes it zero birefringent to have low birefringence, giving the film contradictory characteristics.

さらに、本発明においてシリコーン樹脂を含有したため、2種以上のビニル系重合体を混合することにより相反する特性を導入できるだけでなく、強度向上及び離型性を良くすることができる。   Further, since the present invention contains a silicone resin, it is possible not only to introduce contradictory properties by mixing two or more vinyl polymers, but also to improve strength and improve releasability.

上記発明において、プロトン供与性原子団及びプロトン受容性原子団の具体例を以下に例示する。   In the above invention, specific examples of the proton donating atomic group and the proton accepting atomic group are exemplified below.

プロトン供与性原子団は、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、水酸基、フェノール性水酸基、メルカプト基、チオフェノール性メルカプト基、1級アミノ基、2級アミノ基などの官能基を含む群から選択された物とすることが好ましく、また、プロトン受容性原子団は、カルボニル基、スルホニル基、ホスホリル基、シアノ基、2級アミノ基、3級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選択された物とすることが好ましい。   The proton donating group is a group including a functional group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, a phosphoric acid group, a hydroxyl group, a phenolic hydroxyl group, a mercapto group, a thiophenolic mercapto group, a primary amino group, and a secondary amino group. It is preferable that the proton accepting atomic group is a selected one, and the proton accepting atomic group is a functional group such as a carbonyl group, a sulfonyl group, a phosphoryl group, a cyano group, a secondary amino group, a tertiary amino group, and a nitrogen-containing heterocyclic group. Is preferably selected from the group containing

また、さらに好ましくは、プロトン供与性原子団は、カルボキシル基、水酸基、フェノール性水酸基などの官能基を含む群から選択された物とすることが好ましく、プロトン受容性原子団は、2級アミノ基、3級アミノ基、含窒素複素環基などの官能基を含む群から選択された物とすることが好ましい。   More preferably, the proton donating group is preferably selected from the group containing a functional group such as a carboxyl group, a hydroxyl group, and a phenolic hydroxyl group. The proton accepting group is a secondary amino group. It is preferably selected from the group containing a functional group such as a tertiary amino group and a nitrogen-containing heterocyclic group.

そして、上記発明において、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aは、分子内にカルボキシル基、水酸基又はフェノール性水酸基の中から選択される1種以上の官能基を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、分子内に少なくとも1種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bは、分子内に窒素原子を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、かつ、ビニル系重合体A及びビニル系重合体Bのいずれか一方のガラス転移温度が25℃以上であり、他方のガラス転移温度が25℃未満であることが好ましい。本発明によれば、ビニル系重合体A及びビニル系重合体Bを混合して得られたビニル系重合体に柔軟性を付与することができる。さらに、後述するように、得られるビニル系重合体の分子量を調整することにより、光透過層であるフィルムと原反である樹脂基材層とのハリツキを防止することができる。   In the above invention, the vinyl polymer A containing at least one kind of proton-donating atomic group in the molecule may have one or more functional groups selected from a carboxyl group, a hydroxyl group or a phenolic hydroxyl group in the molecule. Is a polymer obtained by polymerizing a monomer mixture containing a vinyl monomer having the following formula, and the vinyl polymer B containing at least one proton-accepting atom group in the molecule is a nitrogen-containing polymer in the molecule. A polymer obtained by polymerizing a monomer mixture containing a vinyl monomer having an atom, and one of the vinyl polymer A and the vinyl polymer B has a glass transition temperature of 25 ° C. It is preferable that the other has a glass transition temperature of less than 25 ° C. According to the present invention, flexibility can be imparted to the vinyl polymer obtained by mixing the vinyl polymer A and the vinyl polymer B. Further, as will be described later, by adjusting the molecular weight of the obtained vinyl polymer, it is possible to prevent the film between the light transmitting layer and the resin base material layer from being hardened.

また、上記発明において、ビニル系重合体は、(メタ)アクリル酸系樹脂であることが好ましく、ビニル系重合体A又はビニル系重合体Bの少なくとも一方が、アクリル系重合体であることが好ましい。   In the above invention, the vinyl polymer is preferably a (meth) acrylic resin, and at least one of the vinyl polymer A and the vinyl polymer B is preferably an acrylic polymer. .

また、上記発明において、樹脂基材層は、特に限定されないが、ポリエステル樹脂から主として成ることが好ましい。   In the above invention, the resin substrate layer is not particularly limited, but is preferably mainly composed of a polyester resin.

また、本発明の光学部品用積層フィルムは、上記光学部品用積層フィルムの光透過層を光ディスクの光透過層用とすることが好ましい。この場合、光透過層であるフィルムを張り付ける面は、樹脂機材層と接していた面を記録層が形成されている光ディスク側に張り合わせることが、記録層との平坦性を保ち、読み取り誤差が少なくなる点で好ましい。   Further, in the laminated film for optical parts of the present invention, it is preferable that the light transmitting layer of the laminated film for optical parts is used for the light transmitting layer of an optical disk. In this case, the surface on which the film, which is the light transmitting layer, is adhered, the surface in contact with the resin material layer is adhered to the optical disk side on which the recording layer is formed, so that the flatness with the recording layer is maintained, and the reading error is reduced. Is preferred in that the amount of

さらに、本発明は、上記光学部品用積層フィルムを、例えば円筒形状の芯材の外周面に巻き取り、ロール状に形成されたことを特徴とするフィルム巻層体である。本発明によれば、フィルムである光透過層を樹脂基材層である原反から剥がすこと無く巻き取り可能であるため、表面平滑性が損なわれることが無い。   Further, the present invention is a film wound layered body characterized in that the above-mentioned laminated film for optical parts is wound around, for example, an outer peripheral surface of a cylindrical core material and formed into a roll shape. According to the present invention, the light-transmitting layer, which is a film, can be wound without being peeled off from the raw material, which is a resin base material layer, so that surface smoothness is not impaired.

また、本発明の光学部品は、上記光学部品用積層フィルムの樹脂基材層から剥離された光透過層を貼付して形成されたことを特徴とするものであり、光学部品は光ディスクであることが好ましい。   Further, the optical component of the present invention is characterized in that the optical component is formed by attaching a light transmitting layer peeled from the resin base material layer of the laminated film for optical component, and the optical component is an optical disc. Is preferred.

さらに、具体的な本発明の光ディスクは、支持基盤上に記録層、接着層及び光透過層が順次形成されたものであって、光透過層は、本発明の光学部品用積層フィルムの樹脂基材層を剥離除去し、記録層に貼付して形成されたものであり、シリコーン樹脂を含有した熱可塑性樹脂から主として成り、複屈折が20nm以下かつヘイズが1%未満であることを特徴としている。また、光透過層上にさらに鉛筆硬度が3H以上であるハードコート層が形成されていてもよい。   Further, a specific optical disc of the present invention is one in which a recording layer, an adhesive layer and a light transmitting layer are sequentially formed on a support base, and the light transmitting layer is a resin base of the laminated film for an optical component of the present invention. It is formed by peeling off the material layer and attaching it to the recording layer, which is mainly made of a thermoplastic resin containing a silicone resin, and has a birefringence of 20 nm or less and a haze of less than 1%. . Further, a hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more may be further formed on the light transmitting layer.

本発明の光学部品用積層フィルム及びフィルム巻層体によれば、光透過層の透明性が高いだけでなく、樹脂基材層からの離型性が良く、かつ表面平滑性が良好であるため、機械強度及び光学特性に優れた高品質な光ディスク等の光学部品を提供することができる。さらに、ハードコート層が表面上に形成された積層フィルムであれば、実使用時の耐擦傷性にも優れるため、さらに高品質の光ディスク等の光学部品を提供することができ、映像情報や動画情報等の発展に伴い光ディスク等に要求される記録容量の大容量化を実現することができる。   According to the laminated film for optical components and the film roll of the present invention, not only the transparency of the light transmitting layer is high, but also the releasability from the resin substrate layer is good, and the surface smoothness is good. Thus, it is possible to provide a high-quality optical component such as an optical disk having excellent mechanical strength and optical characteristics. Furthermore, a laminated film having a hard coat layer formed on the surface is excellent in scratch resistance in actual use, so that it is possible to provide optical components such as optical disks of higher quality, With the development of information and the like, it is possible to realize a large recording capacity required for an optical disk or the like.

以下、本発明の光学部品用積層フィルムから樹脂基材層を剥離した光透過層を適用した光ディスクとして、20GBを超える大容量の高密度DVDを例に挙げて説明する。   Hereinafter, a high-density DVD having a large capacity exceeding 20 GB will be described as an example of an optical disk to which a light transmission layer obtained by peeling a resin base layer from a laminated film for an optical component of the present invention is applied.

図1は、高密度DVDの一部の構造を示す斜視図であり、図2はその断面図である。図1及び図2に示すように、高密度DVD1は、支持基盤2上に記録層3を備え、記録層3上に接着層4を介して光透過層5が形成される。   FIG. 1 is a perspective view showing a partial structure of a high-density DVD, and FIG. 2 is a sectional view thereof. As shown in FIGS. 1 and 2, the high-density DVD 1 includes a recording layer 3 on a support base 2, and a light transmitting layer 5 is formed on the recording layer 3 via an adhesive layer 4.

DVDは、405nmの短波長レーザー光6を光透過層5側から照射し、光透過層5を介して記録層3の信号情報を再生及び記録するものであるが、高密度DVD1は、光透過層5を薄肉化して、本発明の光学部品用積層フィルムを適用したものである。   The DVD irradiates a short wavelength laser beam 6 of 405 nm from the light transmitting layer 5 side to reproduce and record signal information of the recording layer 3 through the light transmitting layer 5. The layer 5 is made thinner and the laminated film for optical parts of the present invention is applied.

DVDの構成材料としては、光透過層5に光学部品用積層フィルムを使用すること以外は特に制限はなく、支持基盤2及び記録層3は、従来と同様の材料から成るものを適用することができる。例えば、支持基盤2は、ポリカーボネート等のプラスチック基板から構成され、接着層4は、透明性を損なわない限り特に材料は制限されず、例えば、紫外線硬化型樹脂、感圧型粘着フィルム等を適用することができる。   The constituent material of the DVD is not particularly limited except that a laminated film for an optical component is used for the light transmitting layer 5, and the support base 2 and the recording layer 3 may be made of the same material as in the related art. it can. For example, the support base 2 is formed of a plastic substrate such as polycarbonate, and the material of the adhesive layer 4 is not particularly limited as long as the transparency is not impaired. For example, an ultraviolet curable resin, a pressure-sensitive adhesive film, or the like may be used. Can be.

支持基盤2の厚さは、0.4mm〜1.2mm の範囲とし、記録層3及び接着層4の厚さは、30μm〜250μmの範囲とすることができ、より好ましい記録層3及び接着層4の厚さは30μm〜150μmである。   The thickness of the support base 2 can be in the range of 0.4 mm to 1.2 mm, and the thickness of the recording layer 3 and the adhesive layer 4 can be in the range of 30 μm to 250 μm. 4 has a thickness of 30 μm to 150 μm.

なお、上述した支持基盤2、記録層3、接着層4、光透過層5の各層の積層方法としては、いかなる方法を使用しても良い。   In addition, as a method of laminating each of the above-described support base 2, recording layer 3, adhesive layer 4, and light transmission layer 5, any method may be used.

本発明の光学部品用積層フィルムは、シリコーン樹脂を含有した熱可塑性樹脂から主として成り、複屈折が20nm以下かつヘイズが1%未満である光透過層と、この光透過層と積層された樹脂基材層とを少なくとも備え、樹脂基材層は、使用時に剥離除去される。   The laminated film for an optical component of the present invention is mainly composed of a thermoplastic resin containing a silicone resin, and has a birefringence of 20 nm or less and a haze of less than 1%, and a resin base laminated with the light transmission layer. And a material layer, and the resin substrate layer is peeled and removed at the time of use.

シリコーン樹脂を含有した熱可塑性樹脂は、フィルム成形した特に、複屈折が20nm以下、かつ、ヘイズが1%以下となるものであれば特に制限されない。熱可塑性樹脂に添加するシリコーン樹脂としては、例えば、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン等の一般的なシリコーン、これらを変性した、アルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビーノ変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン等が挙げられる。   The thermoplastic resin containing the silicone resin is not particularly limited as long as it has a birefringence of 20 nm or less and a haze of 1% or less, particularly in the form of a film. Examples of the silicone resin to be added to the thermoplastic resin include, for example, common silicones such as dimethyl silicone and methyl phenyl silicone; alkyl-modified silicones, fluorosilicone, polyether-modified silicone, fatty acid ester-modified silicone, and amino-modified silicone obtained by modifying these. Examples include silicone, carboxylic acid-modified silicone, carbino-modified silicone, epoxy-modified silicone, and mercapto-modified silicone.

これらの中で、離型性や透明性の点から、アルキル変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーンが好ましいものとして挙げられる。   Among these, alkyl-modified silicone and polyether-modified silicone are preferred from the viewpoint of mold release and transparency.

アルキル変性シリコーン及びポリエーテル変性シリコーンとしては、例えば、以下の式1で示される構造を有するものを用いることができる。

Figure 2004195974
As the alkyl-modified silicone and the polyether-modified silicone, for example, those having a structure represented by the following formula 1 can be used.
Figure 2004195974

(但し、Rはアルキル基又はポリオキシアルキレン構造を有する基であり、n及びmは重合度を示す整数である) (Where R is an alkyl group or a group having a polyoxyalkylene structure, and n and m are integers indicating the degree of polymerization)

上記の式1に記載される構造を有するもののなかでも、エトキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、メトキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、n−プロポキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、iso−プロポキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、n−ブトキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、iso−ブトキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、t−ブトキシ基変性ジメチルシリコーン樹脂、Rが、末端がメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基であり、かつポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖等のポリオキシアルキレン構造を有する基である変性ジメチルシリコーン樹脂等を用いることができる。   Among those having the structure represented by the above formula 1, ethoxy-modified dimethyl silicone resin, methoxy-modified dimethyl silicone resin, n-propoxy-modified dimethyl silicone resin, iso-propoxy-modified dimethyl silicone resin, n-butoxy Group-modified dimethylsilicone resin, iso-butoxy group-modified dimethylsilicone resin, t-butoxy group-modified dimethylsilicone resin, wherein R is an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and A modified dimethyl silicone resin which is a group having a polyoxyalkylene structure such as an ethylene chain or a polyoxypropylene chain can be used.

式1においてn及びmは重合度を示す整数であり、シリコーン樹脂の好ましい重合度(n+m)は、20〜100,000である。より好ましくは、40〜50,000であり、さらに好ましくは、100〜10,000である。重合度が20未満であると、フィルム表面の耐擦傷性及び平滑性が低下し重合度が100,000を越えると透明性が低下する傾向がある。   In Formula 1, n and m are integers indicating the degree of polymerization, and the preferable degree of polymerization (n + m) of the silicone resin is 20 to 100,000. More preferably, it is 40 to 50,000, and still more preferably 100 to 10,000. If the degree of polymerization is less than 20, the abrasion resistance and smoothness of the film surface decrease, and if the degree of polymerization exceeds 100,000, the transparency tends to decrease.

変性部分であるRの構造を有するセグメントの重合度(m)は、フィルム表面の平滑性、透明性等の点から、好ましくは5〜100,000であり、より好ましくは、10〜50,000であり、さらに好ましくは、20〜1,000である。   The degree of polymerization (m) of the segment having the structure of R as the modified portion is preferably from 5 to 100,000, more preferably from 10 to 50,000 from the viewpoint of smoothness and transparency of the film surface. And more preferably 20 to 1,000.

また、シリコーン樹脂は、熱可塑性樹脂に対して0.01重量%〜0.5重量%の範囲で添加することが好ましく、より好ましくは0.02重量%〜0.3重量%の範囲である。シリコーン樹脂の添加量が0.01%未満になると離型性に対し改良効果が見られず、添加量が0.5%を超えるとフィルムにしたときに透明性を損ない、また、表面にシリコーンがブリードアウトしてしまい、表面平滑性に問題が生じてしまう等の可能性があるからである。   Further, the silicone resin is preferably added in a range of 0.01% by weight to 0.5% by weight based on the thermoplastic resin, and more preferably in a range of 0.02% by weight to 0.3% by weight. . If the addition amount of the silicone resin is less than 0.01%, no effect of improving the releasability can be seen, and if the addition amount exceeds 0.5%, the transparency is impaired when the film is formed, and the surface of the silicone resin is damaged. Bleed out, which may cause a problem in surface smoothness.

さらに、シリコーン樹脂を含有した熱可塑性樹脂は、膜厚が15〜250μmの範囲であるフィルムを作製したとき、膜厚精度が±2.0μm以内、405nmの光透過率が87%以上、複屈折が20nm以下の条件を満たすものであることが好ましい。この時の膜厚精度が±2.0μmを超え、あるいは複屈折が20nmを超えると、光透過層として用いた場合、光透過層を通過したレーザー光が正しい位置に当たらなくなり、読み取りエラーが生じる等の不都合が生じ易くなり、また、405nmの光透過率が87%未満になると、レーザー光が吸収及び散乱されて弱くなり、読み取りエラーが生じる恐れがあるため、上記の範囲に入るように樹脂を選択することが好ましい。   Further, the thermoplastic resin containing a silicone resin has a thickness accuracy within ± 2.0 μm, a light transmittance at 405 nm of 87% or more, and a birefringence when a film having a thickness of 15 to 250 μm is produced. Satisfies the condition of 20 nm or less. If the film thickness accuracy at this time exceeds ± 2.0 μm or the birefringence exceeds 20 nm, when used as a light transmitting layer, laser light passing through the light transmitting layer will not hit a correct position, and a reading error will occur. When the light transmittance at 405 nm is less than 87%, the laser light is weakened by absorption and scattering, and a reading error may occur. It is preferable to select

本発明の光学部品用積層フィルムは、上記熱可塑性樹脂から主として成る光透過層と樹脂基材層とが少なくとも積層されたフィルムであり、樹脂基材層は使用時に剥離除去される。樹脂基材層から光透過層であるフィルムを剥離する際の基準として、25℃、離型速度が100mm/秒で剥離した際の、ハリツキによるはがし残りが1m当たり3ヶ所以下とすることが好ましい。1m当たりのはがし残りが3ヶ所を超えると得られるフィルムの収率が低下するためである。 The laminated film for an optical component of the present invention is a film in which a light transmission layer mainly composed of the thermoplastic resin and a resin substrate layer are laminated at least, and the resin substrate layer is peeled off when used. As a criterion for peeling the film which is the light transmitting layer from the resin base material layer, when peeling at 25 ° C. and a mold release speed of 100 mm / sec, the peeling residue due to the hardness should be 3 places or less per 1 m 2. preferable. This is because the yield of the obtained film decreases when the peeling residue per 1 m 2 exceeds 3 places.

本発明において、光透過層を形成する熱可塑性樹脂中にシリコーン樹脂を添加することにより、フィルムの静摩擦係数が小さくなり、樹脂基材層からの離型性及び光透過層であるフィルムの対擦傷性向上等の効果が期待できる。具体的には、PETに対する静摩擦係数を0.42以下とすることが好ましく、より好ましくは0.40以下である。静摩擦係数が0.42を超えると、樹脂基材層から離型する際に張り付く等し、光学部品用保護フィルムとして適用すると傷つき易い等の問題が生じるためである。   In the present invention, by adding a silicone resin to the thermoplastic resin forming the light transmitting layer, the coefficient of static friction of the film is reduced, the releasability from the resin base material layer and the abrasion of the film as the light transmitting layer are reduced. An effect such as improvement of the property can be expected. Specifically, the coefficient of static friction with respect to PET is preferably 0.42 or less, more preferably 0.40 or less. If the coefficient of static friction exceeds 0.42, sticking occurs at the time of release from the resin base material layer, and when applied as a protective film for an optical component, there is a problem that the film is easily damaged.

本発明において、光透過層となるフィルムの作成時は、キャスト基板の選択が重要である。具体的には、厚さが20〜250μm、膜厚精度が±1.0μm以内、表面平滑性が20nm以下の樹脂基材層上に塗工することが好ましい。樹脂基材層の厚さが20μm未満になると塗工時にたわみが生じ、面精度が低下する可能性があり、厚さが250μmを超えると、経済性及びロール巻き取り性が悪化するためである。また、得られるフィルムの表面平滑性を維持するためにも、樹脂基材層の膜圧精度が±1.0μm以内、表面平滑性が20nm以下とすることが好ましい。   In the present invention, it is important to select a cast substrate when preparing a film to be a light transmitting layer. Specifically, it is preferable to apply on a resin base material layer having a thickness of 20 to 250 μm, a film thickness accuracy within ± 1.0 μm, and a surface smoothness of 20 nm or less. If the thickness of the resin base material layer is less than 20 μm, deflection occurs during coating, and surface accuracy may be reduced. If the thickness exceeds 250 μm, economy and roll take-up properties are deteriorated. . Further, in order to maintain the surface smoothness of the obtained film, it is preferable that the film pressure accuracy of the resin substrate layer is within ± 1.0 μm and the surface smoothness is 20 nm or less.

また、本発明における熱可塑性樹脂は、主としてビニル系重合体から成ることが好ましく、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bとを有機溶剤中で混合して作製した擬似架橋型樹脂組成物であることがより好ましく、これはプロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間の分子間水素結合による擬似的に架橋したものである。   Further, the thermoplastic resin in the present invention is preferably mainly composed of a vinyl polymer, and a vinyl polymer A containing at least one kind of proton-donating atomic group in a molecule and at least one kind or more in a molecule. It is more preferable that the pseudo-crosslinked resin composition prepared by mixing a vinyl polymer B containing a proton-accepting group with an organic solvent in an organic solvent, which comprises a proton-donating atom group and a proton-accepting atom group Are pseudo-crosslinked by intermolecular hydrogen bonds between the two.

上記分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、アクリル酸、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−アクリロイロキシエチルコハク酸、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−アクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−アクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシ−3−アクリロイロキシプロピルアクリレート、メタクリル酸、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、2−メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−メタクリロイロキシエチル−2−ヒドロキシプロピルフタレート、2−メタクリロイロキシエチルアシッドホスフェート、2−ヒドロキシ−3−メタクリロイロキシプロピルアクリレート、ビニル安息香酸、安息香酸ビニル及びその誘導体等が挙げられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。本成分と他のビニル単量体とを共重合する場合、共重合比率は溶解性の点から、本成分を好ましくは2mol%、更に好ましくは5mol%以上共重合することが好ましく、上限は特に制限はないが、40mol%以下が好ましい。   Examples of the vinyl-based monomer for producing the vinyl-based polymer A containing at least one proton-donating atomic group in the molecule include acrylic acid, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and the like. 2-hydroxybutyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-acryloyloxyethyl acid phosphate, 2- Hydroxy-3-acryloyloxypropyl acrylate, methacrylic acid, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, 2-methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyl Siethyl hexahydrophthalic acid, 2-methacryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate, 2-methacryloyloxyethyl acid phosphate, 2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl acrylate, vinyl benzoic acid, vinyl benzoate and the like Derivatives and the like. However, the compounds shown here are examples, and the present invention is not limited to these compounds. When this component is copolymerized with another vinyl monomer, the copolymerization ratio is preferably 2 mol%, more preferably 5 mol% or more, and the upper limit is particularly preferably from the viewpoint of solubility. Although there is no limitation, 40 mol% or less is preferable.

上記分子内に少なくとも1種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bを作製するためのビニル系単量体としては、例えば、アミノエチルアクリレート、アミノエチルメタクリレート、メチルアミノエチルアクリレート、メチルアミノエチルメタクリレート等のアミノ(メタ)アクリレート類、アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチルアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−メチルメタクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド類、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルメタクリレート、2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジルアクリレート、1,2,2,6,6,−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート、1,2,2,6,6,−ペンタメチル−4−ピペリジルアクリレート、N−(2‘、2’、6‘、6’−テトラメチル−4−ピペリジル)−メタクリルアミド、N−(2‘、2’、6‘、6’−テトラメチル−4−ピペリジル)−アクリルアミド、N−(1‘、2‘、2’、6‘、6’−ペンタメチル−4−ピペリジル)−メタクリルアミド、N−(1‘、2‘、2’、6‘、6’−ペンタメチル−4−ピペリジル)−アクリルアミドなどがあげられる。但し、ここに示した化合物は一例であり、これらに制限されるものではない。本成分と他のビニル単量体とを共重合する場合、先ほどと同様に共重合比率は溶解性の点から、本成分を好ましくは1mol%、更に好ましくは2mol%以上共重合することが好ましい。上限は特に制限はないが、30mol%以下が好ましい。   Examples of the vinyl-based monomer for producing the vinyl-based polymer B containing at least one proton-accepting atomic group in the molecule include aminoethyl acrylate, aminoethyl methacrylate, methylaminoethyl acrylate, methylamino Amino (meth) acrylates such as ethyl methacrylate, (meth) acrylamides such as acrylamide, methacrylamide, N-methylacrylamide, N-ethylacrylamide, N-methylmethacrylamide and N-ethylmethacrylamide; , 6-Tetramethyl-4-piperidyl methacrylate, 2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl acrylate, 1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate, 1,2,2 , 6,6-pentamethyl-4-pi Lysyl acrylate, N- (2 ′, 2 ′, 6 ′, 6′-tetramethyl-4-piperidyl) -methacrylamide, N- (2 ′, 2 ′, 6 ′, 6′-tetramethyl-4-piperidyl) ) -Acrylamide, N- (1 ′, 2 ′, 2 ′, 6 ′, 6′-pentamethyl-4-piperidyl) -methacrylamide, N- (1 ′, 2 ′, 2 ′, 6 ′, 6′- Pentamethyl-4-piperidyl) -acrylamide and the like. However, the compounds shown here are examples, and the present invention is not limited to these compounds. When this component is copolymerized with another vinyl monomer, the copolymerization ratio is preferably 1 mol%, more preferably 2 mol% or more, from the viewpoint of solubility, as described above. . The upper limit is not particularly limited, but is preferably 30 mol% or less.

また、上記ビニル系重合体について、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体と、分子内に少なくとも1種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体のうちの、どちらか一方のガラス転移温度が25℃未満であり、かつ、もう一方のガラス転移温度が25℃以上であると、得られた重合体に耐熱性及び柔軟性を付与することができる。本温度条件からはずれた場合、室温において柔軟性が付与できない、熱変形するという問題が生じるため、ガラス転移温度は前記の条件を満たす範囲であれば特に問題はないが、好ましくは一方が+10℃未満、もう一方が+50℃以上、さらに好ましくは一方が0℃未満、もう一方が+100℃以上あることが好ましい。なお、ガラス転移温度は、DVA(動的粘弾性測定)、TMA,DSC法等により測定することができるが、DVA(動的粘弾性測定)を基準とすることが好ましく、後述する実施例でもDVAで測定している。   Further, regarding the vinyl polymer, a vinyl polymer containing at least one kind of proton donating atom group in a molecule and a vinyl polymer containing at least one kind of proton accepting atom group in a molecule. When either one has a glass transition temperature of less than 25 ° C. and the other has a glass transition temperature of 25 ° C. or more, heat resistance and flexibility can be imparted to the obtained polymer. If the temperature deviates from this temperature condition, there is a problem that flexibility cannot be imparted at room temperature and thermal deformation occurs. Therefore, there is no particular problem as long as the glass transition temperature is within a range satisfying the above conditions. It is preferred that the temperature is less than + 50 ° C., more preferably less than 0 ° C., and the other is + 100 ° C. The glass transition temperature can be measured by DVA (dynamic viscoelasticity measurement), TMA, DSC method or the like, and is preferably based on DVA (dynamic viscoelasticity measurement). Measured by DVA.

前述した温度条件を満たすために、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bとの、各々に対して他のビニル系単量体と共重合することができる。使用できる単量体としては、得られる重合体の透明性を損なわない物であれば特に限定されず、具体例としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸n−ブチル、アクリル酸i−ブチル、アクリル酸t−ブチル、アクリル酸ペンチル、アクリル酸n−ヘキシル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸n−オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクタデシル、アクリル酸ブトキシエチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸ナフチル、アクリル酸グリシジル、アクリル酸2−ヒドロキシエチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸メチルシクロヘキシル、アクリル酸トリメチルシクロヘキシル、アクリル酸ノルボルニル、アクリル酸ノルボルニルメチル、アクリル酸シアノノルボルニル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸ボルニル、アクリル酸メンチル、アクリル酸フェンチル、アクリル酸アダマンチル、アクリル酸ジメチルアダマンチル、アクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−8−イル、アクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−4−メチル、アクリル酸シクロデシル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸n−ブチル、メタクリル酸i−ブチル、メタクリル酸t−ブチル、メタクリル酸ペンチル、メタクリル酸n−ヘキシル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、メタクリル酸n−オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸オクタデシル、メタクリル酸ブトキシエチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ナフチル、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリメチルシクロヘキシル、メタクリル酸ノルボルニル、メタクリル酸ノルボルニルメチル、メタクリル酸シアノノルボルニル、メタクリル酸フェニルノルボルニル、メタクリル酸イソボルニル、メタクリル酸ボルニル、メタクリル酸メンチル、メタクリル酸フェンチル、メタクリル酸アダマンチル、メタクリル酸ジメチルアダマンチル、メタクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−8−イル、メタクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−4−メチル、メタクリル酸シクロデシル等のメタクリル酸エステル類、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−フルオロスチレン、α−クロルスチレン、α−ブロモスチレン、フルオロスチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン、メチルスチレン、メトキシスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリル酸カルシウム、アクリル酸バリウム、アクリル酸鉛、アクリル酸すず、アクリル酸亜鉛、メタクリル酸カルシウム、メタクリル酸バリウム、メタクリル酸鉛、メタクリル酸すず、メタクリル酸亜鉛等の(メタ)アクリル酸金属塩、アクリル酸、メタクリル酸等の不飽和脂肪酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のシアン化ビニル化合物、N−メチルマレイミド、N−エチルマレイミド、N−プロピルマレイミド、N−i−プロピルマレイミド、N−ブチルマレイミド、N−i−ブチルマレイミド、N−t−ブチルマレイミド、 N−ラウリルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−フェニルマレイミド、N−(2−クロロフェニル)マレイミド、N−(4−クロロフェニル)マレイミド、N−(4−ブロモフェニル)フェニルマレイミド、N−(2−メチルフェニル)マレイミド、N−(2−エチルフェニル)マレイミド、N−(2−メトキシフェニル)マレイミド、N−(2,4,6−トリメチルフェニル)マレイミド、N−(4−ベンジルフェニル)マレイミド、N−(2,4,6−トリブロモフェニル)マレイミド等が挙げられる。また、これらは1種又は2種以上で使用しても良い。 In order to satisfy the above-mentioned temperature conditions, a vinyl-based polymer A containing at least one proton-donating atomic group in a molecule and a vinyl-based polymer B containing at least one or more proton-accepting atomic group in a molecule Can be copolymerized with other vinyl monomers. The monomer that can be used is not particularly limited as long as it does not impair the transparency of the obtained polymer, and specific examples include methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, n-butyl acrylate, I-butyl acrylate, t-butyl acrylate, pentyl acrylate, n-hexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, n-octyl acrylate, dodecyl acrylate, octadecyl acrylate, butoxyethyl acrylate, phenyl acrylate , Benzyl acrylate, naphthyl acrylate, glycidyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, methylcyclohexyl acrylate, trimethylcyclohexyl acrylate, norbornyl acrylate, norbornylmethyl acrylate, silicon acrylate Nonoruboruniru, isobornyl acrylate, bornyl acrylate, menthyl acrylate, fenchyl acrylate, adamantyl acrylate, dimethyl adamantyl, acrylic acid tricyclo [5.2.1.0 2,6] dec-8-yl, acrylic acid Acrylic esters such as tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-4-methyl, cyclodecyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, i-butyl methacrylate, methacryl T-butyl acrylate, pentyl methacrylate, n-hexyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-octyl methacrylate, dodecyl methacrylate, octadecyl methacrylate, butoxyethyl methacrylate, phenyl methacrylate, phenyl methacrylate, naphthyl methacrylate, Glycidyl acrylate, cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, methylcyclohexyl methacrylate, trimethylcyclohexyl methacrylate, norbornyl methacrylate, norbornyl methacrylate, cyanonorbornyl methacrylate, phenylnorbornyl methacrylate, isobornyl methacrylate Bornyl methacrylate, Menthyl methacrylate, Fentyl methacrylate, Adamantyl methacrylate, Dimethyl adamantyl methacrylate, Tricyclo [5.2.1.0 2,6 ] dec-8-yl, Tricyclomethacrylate [5.2 .1.0 2,6] dec-4-methyl, methacrylic acid esters such as methacrylic acid cyclodecyl, alpha-methyl styrene, alpha-ethylstyrene, alpha-fluoro styrene, alpha-click Aromatic vinyl compounds such as styrene, α-bromostyrene, fluorostyrene, chlorostyrene, bromostyrene, methylstyrene and methoxystyrene, calcium acrylate, barium acrylate, lead acrylate, tin acrylate, zinc acrylate, methacrylic acid Metal salts of (meth) acrylates such as calcium, barium methacrylate, lead methacrylate, tin methacrylate, zinc methacrylate, unsaturated fatty acids such as acrylic acid and methacrylic acid, vinyl cyanide compounds such as acrylonitrile and methacrylonitrile, N-methylmaleimide, N-ethylmaleimide, N-propylmaleimide, Ni-propylmaleimide, N-butylmaleimide, Ni-butylmaleimide, Nt-butylmaleimide, N-laurylmaleimide, N-cyclohexyl Lumaleimide, N-benzylmaleimide, N-phenylmaleimide, N- (2-chlorophenyl) maleimide, N- (4-chlorophenyl) maleimide, N- (4-bromophenyl) phenylmaleimide, N- (2-methylphenyl) maleimide N- (2-ethylphenyl) maleimide, N- (2-methoxyphenyl) maleimide, N- (2,4,6-trimethylphenyl) maleimide, N- (4-benzylphenyl) maleimide, N- (2 4,6-tribromophenyl) maleimide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

また、重合体の分子量について、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bのうち、ガラス転移温度が25℃未満の重合体に関しては限定するものではないが、強度及び成形性の点から重量平均分子量(ポリスチレン換算)を10,000〜1,000,000の範囲とすることが好ましく、ガラス転移温度が25℃以上の重合体に関しては、重量平均分子量(ポリスチレン換算)を50,000以上とすることが好ましく、70,000〜1000,000の範囲とすることがより好ましい。重合平均分子量が50,000未満になると、得られるフィルムの強度低下及び離型性に問題が生じ、重合平均分子量が1000,000を超えると、フィルム塗工前の樹脂溶液の粘度が高くなりすぎ、取り扱いが困難になるためである。   Further, regarding the molecular weight of the polymer, a vinyl-based polymer A containing at least one proton-donating atomic group in the molecule and a vinyl-based polymer B containing at least one or more proton-accepting atomic group in the molecule. Among them, the polymer having a glass transition temperature of less than 25 ° C. is not limited, but the weight average molecular weight (in terms of polystyrene) is in the range of 10,000 to 1,000,000 from the viewpoint of strength and moldability. For polymers having a glass transition temperature of 25 ° C. or higher, the weight average molecular weight (in terms of polystyrene) is preferably 50,000 or higher, and more preferably 70,000 to 1,000,000. When the polymerization average molecular weight is less than 50,000, there is a problem in strength reduction and releasability of the obtained film, and when the polymerization average molecular weight exceeds 1,000,000, the viscosity of the resin solution before film coating becomes too high. This is because handling becomes difficult.

本発明において、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種以上のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bとを混合する方法は、溶融混練法、ワニスブレンド法など特に方法は問わない。   In the present invention, a method of mixing a vinyl polymer A containing at least one kind of proton donating atom group in a molecule and a vinyl polymer B containing at least one kind of proton accepting atom group in a molecule Is not particularly limited, such as a melt kneading method and a varnish blending method.

重合体を製造するための重合方法としては塊状重合、懸濁重合、乳化重合、溶液重合等の既存の方法を適用することができる。   As a polymerization method for producing the polymer, existing methods such as bulk polymerization, suspension polymerization, emulsion polymerization, and solution polymerization can be applied.

重合を行う際には、重合開始剤を用いることができる。重合開始剤としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、ジ−t−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、1,1−t−ブチルパーオキシ−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等の有機過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビス−4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル、アゾビスシクロヘキサノン−1−カルボニトリル、アゾジベンゾイル等のアゾ化合物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等の水溶性触媒及び過酸化物あるいは過硫酸塩と還元剤の組み合わせによるレドックス触媒等、通常のラジカル重合に使用できるものはいずれも使用することができる。重合開始剤は、単量体の総量に対し0.01〜10重量%の範囲で使用することが好ましい。   When performing polymerization, a polymerization initiator can be used. Examples of the polymerization initiator include benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, 1,1-t-butylperoxy-3, Organic peroxides such as 3,5-trimethylcyclohexane, azo compounds such as azobisisobutyronitrile, azobis-4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile, azobiscyclohexanone-1-carbonitrile, and azodibenzoyl Any of those that can be used for ordinary radical polymerization, such as water-soluble catalysts such as potassium persulfate and ammonium persulfate, and redox catalysts using a combination of a peroxide or a persulfate and a reducing agent can be used. The polymerization initiator is preferably used in a range of 0.01 to 10% by weight based on the total amount of the monomers.

さらに、分子量調整剤として、メルカプタン系化合物、チオグリコール、四塩化炭素及びα−メチルスチレンダイマー等を必要に応じて添加することができる。   Further, as a molecular weight modifier, a mercaptan compound, thioglycol, carbon tetrachloride, α-methylstyrene dimer, or the like can be added as needed.

熱重合による場合、重合温度は、0〜200℃の間で適宜選択することができ、50〜120℃の範囲とすることが好ましい。   In the case of thermal polymerization, the polymerization temperature can be appropriately selected from 0 to 200 ° C, and is preferably in the range of 50 to 120 ° C.

本発明における熱可塑性樹脂は、その使用にあたって、劣化防止、熱的安定性、成形性及び加工性等の観点から、フェノール系、ホスファイト系、チオエーテル系などの抗酸化剤、脂肪族アルコール、脂肪酸エステル、フタル酸エステル、トリグリセライド類、フッ素系界面活性剤、高級脂肪酸金属塩などの離型剤、その他滑剤、可塑剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤、重金属不活性化剤などを添加して使用しても良い。   The thermoplastic resin in the present invention, when used, from the viewpoint of deterioration prevention, thermal stability, moldability and processability, etc., phenol-based, phosphite-based, thioether-based antioxidants, aliphatic alcohols, fatty acids Adds release agents such as esters, phthalates, triglycerides, fluorine-based surfactants, metal salts of higher fatty acids, other lubricants, plasticizers, antistatic agents, ultraviolet absorbers, flame retardants, heavy metal deactivators, etc. You may use it.

本発明において、樹脂基材層の材質は、特に制限はなく、PETフィルム、PENフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリアミドイミドフィルム、ポリイミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリル樹脂フィルム、エポキシ樹脂フィルム、ノルボルネン系高分子フィルム等が挙げられるが、中でも、PETフィルムから主として成るものが、耐熱性、表面平坦性、経済性の点で好ましい。   In the present invention, the material of the resin substrate layer is not particularly limited, PET film, PEN film, polysulfone film, polyethersulfone film, polyetherketone film, polyether film, polyamideimide film, polyimide film, polycarbonate film, An acrylic resin film, an epoxy resin film, a norbornene-based polymer film and the like can be mentioned. Among them, a film mainly composed of a PET film is preferable in terms of heat resistance, surface flatness, and economy.

また、本発明の光学部品用積層フィルムは、光透過層上にさらに鉛筆硬度が3H以上であるハードコート層が形成され、該ハードコート層上または該ハードコート層と反対側の前記光透過層上に前記樹脂基材層が積層されているものであってもよい。なお、実使用時には、光透過層が樹脂基材層と接していた面を記録層が形成されている光ディスク側に張り合わせることが、記録層との平坦性を保ち、読み取り誤差が少なくなる点で好ましいので、上記3層から成る積層フィルムの樹脂基材層は、ハードコート層と反対側の光透過層上に形成されることが好ましい。   Further, in the laminated film for an optical component of the present invention, a hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more is further formed on the light transmissive layer, and the light transmissive layer on the hard coat layer or on the side opposite to the hard coat layer is further formed. The resin base material layer may be laminated thereon. In actual use, bonding the surface where the light transmitting layer is in contact with the resin base material layer to the optical disk side on which the recording layer is formed maintains flatness with the recording layer and reduces reading errors. Therefore, it is preferable that the resin base material layer of the three-layer laminated film is formed on the light transmitting layer on the side opposite to the hard coat layer.

上記ハードコート層の鉛筆硬度が3H未満であると耐擦傷性が不十分である。また、ハードコート層は、特に限定されないが、架橋体構造であることが好ましく、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることがより好ましい。また、ハードコート層の膜厚は0.5〜8.0μmであることが好ましく、その膜厚精度は±1.0μm以内であることが好ましい。ハードコート層の膜厚が0.5μm未満であると耐擦傷性の向上効果が低く、8.0μmを越えると環境性試験時にクラックが生じる。   If the pencil hardness of the hard coat layer is less than 3H, the scratch resistance is insufficient. The hard coat layer is not particularly limited, but preferably has a crosslinked structure, more preferably a silicone crosslinked structure or an acrylic crosslinked structure. Further, the thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 8.0 μm, and the thickness accuracy is preferably within ± 1.0 μm. If the thickness of the hard coat layer is less than 0.5 μm, the effect of improving the scratch resistance is low, and if it exceeds 8.0 μm, cracks occur during an environmental test.

このようなハードコート層を光透過層上に形成する方法としては、特に制限されないが、例えば、予め作製した光透過層フィルム上に硬化触媒を添加したハードコート前駆体を均一な厚みに塗布し、その後、これを加熱もしくは紫外線照射することにより硬化させ、形成することができる。   The method for forming such a hard coat layer on the light transmission layer is not particularly limited, but, for example, a hard coat precursor to which a curing catalyst is added is applied to a previously prepared light transmission layer film to a uniform thickness. After that, it can be cured by heating or irradiating with ultraviolet rays to form.

上記シリコーン系架橋構造体となるハードコート前駆体としては、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、C1〜C12のアルキルトリメトキシシラン、C1〜C12のアルキルトリエトキシシラン、ジ(C1〜C12のアルキル)トリメトキシシラン、ジ(C1〜C12のアルキル)トリエトキシシラン、トリ(C1〜C12のアルキル)メトキシシラン、トリ(C1〜C12のアルキル)エトキシシラン等の加水分解縮合物を用いることができる。尚、これらのシラン化合物は単独で用いても良いし、2種類以上を併用しても良い。   Examples of the hard coat precursor that forms the silicone-based crosslinked structure include tetraethoxysilane, tetramethoxysilane, C1 to C12 alkyltrimethoxysilane, C1 to C12 alkyltriethoxysilane, and di (C1 to C12 alkyl) trialkylsilane. Hydrolysis condensates such as methoxysilane, di (C1 to C12 alkyl) triethoxysilane, tri (C1 to C12 alkyl) methoxysilane, and tri (C1 to C12 alkyl) ethoxysilane can be used. These silane compounds may be used alone or in combination of two or more.

上記ハードコート前駆体に添加される硬化触媒としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化バリウム、水酸化ストロンチウム、水酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属水酸化物、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ(C3〜C8アルキル)アミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ(C3〜C8アルキル)アミン、メチルアミン、エチルアミン、(C3〜C8アルキル)アミン、シクロヘキシアミン、モルホリン、トリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、トリエチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジメチルハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルジエチルハイドロオキサイド等のアミン化合物を用いることができ、中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等が好適である。中でも水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド、ヒドロキシエチルトリエチルアンモニウムハイドロオキサイド等がより好適である。但し、これらは一例でありここに示したものに限定されるものではない。また、これらは単独で用いても良いし、2種類以上を併用することもできる。添加する硬化触媒量は、特に制限されないが、ハードコート前駆体の固形分に対して0.05重量%〜10重量%の範囲で適宜選択することができる。   Examples of the curing catalyst added to the hard coat precursor include, for example, alkali metal hydroxides such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, barium hydroxide, strontium hydroxide, lithium hydroxide, magnesium hydroxide, and calcium hydroxide. , Trimethylamine, triethylamine, tri (C3-C8 alkyl) amine, dimethylamine, diethylamine, di (C3-C8 alkyl) amine, methylamine, ethylamine, (C3-C8 alkyl) amine, cyclohexamine, morpholine, trimethylammonium hydro Amine compounds such as oxide, triethylammonium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, hydroxyethyldimethylhydroxide, hydroxyethyldiethylhydroxide You can to have, among others potassium hydroxide, sodium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, hydroxyethyl trimethylammonium hydroxide, hydroxyethyl triethylammonium hydroxide and the like. Among them, potassium hydroxide, sodium hydroxide, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, hydroxyethyltrimethylammonium hydroxide, hydroxyethyltriethylammonium hydroxide and the like are more preferable. However, these are merely examples, and the present invention is not limited to those shown here. These may be used alone or in combination of two or more. The amount of the curing catalyst to be added is not particularly limited, but can be appropriately selected in the range of 0.05% by weight to 10% by weight based on the solid content of the hard coat precursor.

加熱による硬化温度は、ハードコート前駆体が硬化できる温度であれば特に制限はないが、一般に60℃〜180℃程度が好適である。最も好ましい温度は120℃〜160℃程度である。   The curing temperature by heating is not particularly limited as long as it is a temperature at which the hard coat precursor can be cured, but generally, about 60 ° C. to 180 ° C. is suitable. The most preferred temperature is about 120C to 160C.

また、上記ハードコート前駆体を製造する際には触媒を用いるが、その触媒としては、例えば、上記の硬化触媒と同様のアルカリ水酸化物、アミン化合物、さらには、塩酸、硫酸、硝酸、パラトルエンスルフォン酸、燐酸、フェノールスルフォン酸、ポリリン酸等の酸を用いることができる。これらは単独で用いることもできるし、2種類以上を併用することもできる。尚、ここに示したものは一例であり、これらに制限されるものではない。   A catalyst is used when producing the hard coat precursor. Examples of the catalyst include alkali hydroxides and amine compounds similar to the above-described curing catalysts, and further include hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, Acids such as toluenesulfonic acid, phosphoric acid, phenolsulfonic acid and polyphosphoric acid can be used. These can be used alone or in combination of two or more. Note that what is shown here is merely an example, and the present invention is not limited to these.

本発明におけるハードコート前駆体を製造する際の反応温度には特に制限はないが、20℃〜100℃程度の温度が好適である。20℃を下回ると、反応速度が低下し生産性が低下する。100℃を越えると、加水分解又は縮合により生成するアルコール又は水が沸騰するため危険を伴う。また、反応は、溶液中でおかなうことが好適である。用いることのできる溶媒は、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノール、オクタノール等のアルコールを挙げることができる。ここに示したものは1例であり、これらに制限されるものではない。   The reaction temperature for producing the hard coat precursor in the present invention is not particularly limited, but a temperature of about 20C to 100C is preferable. When the temperature is lower than 20 ° C., the reaction rate decreases and productivity decreases. If the temperature exceeds 100 ° C., there is a danger because alcohol or water produced by hydrolysis or condensation boils. The reaction is preferably performed in a solution. Examples of the solvent that can be used include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, butanol, pentanol, hexanol, heptanol, and octanol. What is shown here is one example, and the present invention is not limited to these.

本発明におけるハードコート層となる、アクリル系架橋構造体としては、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する重合性化合物を含む重合性材料(ハードコート材料)を用いて形成することができる。   The acrylic crosslinked structure serving as the hard coat layer in the present invention can be formed using a polymerizable material (hard coat material) containing a polymerizable compound having an acryloyl group or a methacryloyl group.

このハードコート材料で用いることができる、重合性化合物としては、例えば、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー、エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマー、オリゴエステル(メタ)アクリレートなどの2以上の(メタ)アクリロイル基を有するオリゴマー;エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレートなどのアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレートなどの(ポリ)オキシアルキレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAにアルキレンオキサイド(エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド)が付加した付加体のジ(メタ)アクリレート[例えば、2,2−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)フェニル]プロパンなど]などの2官能性(メタ)アクリレート;トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ホスファゾ基−P=N−と(メタ)アクリロイル基とを有する(メタ)アクリレートなどの多官能性(メタ)アクリレートが含まれる。   Examples of the polymerizable compound that can be used in the hard coat material include two or more (meth) acryloyl groups such as a urethane (meth) acrylate oligomer, an epoxy (meth) acrylate oligomer, and an oligoester (meth) acrylate. Oligomer: ethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate Such as alkylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and dipropylene glycol di (meth) acrylate. Dialkylene di (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of an adduct of alkylene oxide (ethylene oxide or propylene oxide) added to bisphenol A [for example, 2,2-bis [4- Bifunctional (meth) acrylates such as (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (2- (meth) acryloyloxypropoxy) phenyl] propane, etc .; trimethylolpropane Tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, having a phosphazo group -P = N- and a (meth) acryloyl group ( Data) include multifunctional (meth) acrylates such as acrylates.

また、硬化塗膜の特性を調整するため、単官能性(メタ)アクリレート、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのC1−20アルキル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、N,N−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどの塩基性窒素原子含有(メタ)アクリレート、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレートなどのハロゲン含有(メタ)アクリレートなどを併用してもよい。 Further, in order to adjust the properties of the cured coating film, a monofunctional (meth) acrylate such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( C1-20 alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate , 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxyl group-containing (meth) acrylates such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate A halogen-containing (meth) acrylate such as a basic nitrogen atom-containing (meth) acrylate such as a lylate, trifluoroethyl (meth) acrylate, or tetrafluoropropyl (meth) acrylate may be used in combination.

このような重合性ハードコート材料は、熱重合開始剤(ベンゾイルパーオサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジクミルパーオキサイドなどの有機過酸化物など)を含む熱硬化性のものでもよいが、生産性を向上させるため、光重合開始剤を含む光硬化型のものが好ましく、特に紫外線硬化型のものが好ましい。   Such a polymerizable hard coat material may be a thermosetting material containing a thermal polymerization initiator (organic peroxide such as benzoylperoxide, cumene hydroperoxide, dicumyl peroxide, etc.). In order to improve the viscosity, a photocurable type containing a photopolymerization initiator is preferable, and an ultraviolet curable type is particularly preferable.

光重合を開始するために使用する化合物としては、例えば、ベンゾイン又はその誘導体(ベンゾイン,ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなど)、ケトン類(1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノンやその誘導体(アルコキシアセトフェノンなど)、プロピオフェノン又はその誘導体(2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノンなど)、ベンゾフェノン又はその誘導体(4,4′−ジメトキシベンゾフェノン、4,4′−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)ケトンなど)、ベンジル又はその誘導体(ベンジルおよびベンジルメチルケタールなど)、チオキサントン又はその誘導体(2,4−ジエチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントンなど)などの慣用の光重合開始剤や増感剤を使用することができ、これらは単独で使用してもよく、二種以上組み合わせて使用してもよい。   Examples of the compound used to initiate photopolymerization include benzoin or its derivatives (benzoin, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, etc.), ketones (1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, acetophenone and its derivatives (alkoxyacetophenone, etc.) ), Propiophenone or its derivatives (such as 2-hydroxy-2-methylpropiophenone), benzophenone or its derivatives (such as 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-bis (4-diethylaminophenyl) ketone) , Benzyl or a derivative thereof (such as benzyl and benzyl methyl ketal), thioxanthone or a derivative thereof (2,4-diethylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone Chlorothioxanthone, etc.) can be used conventional photopolymerization initiator or a sensitizer such as these may be used alone or may be used in combination of two or more.

熱重合開始剤や光重合開始剤の量は、前記重合性化合物100重量部に対して、0.1〜10重量部程度用いることが好ましい。   The amount of the thermal polymerization initiator or the photopolymerization initiator is preferably about 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the polymerizable compound.

またハードコート材料は、必要に応じて、炭化水素類、アルコール類、エステル類、ケトン類、エーテル類などの有機溶媒を含む有機溶媒含有塗布剤であってもよい。   The hard coat material may be an organic solvent-containing coating material containing an organic solvent such as hydrocarbons, alcohols, esters, ketones, and ethers, if necessary.

また、本発明におけるハードコート層は、シリコーン系熱可塑性樹脂を0.2〜10.0重量%含有することが好ましい。シリコーン系熱可塑性樹脂を含有することにより、ハードコート層表面の滑り性が向上し、耐擦傷性をより向上させることができる。   Further, the hard coat layer in the present invention preferably contains a silicone-based thermoplastic resin in an amount of 0.2 to 10.0% by weight. By containing the silicone-based thermoplastic resin, the slip property of the surface of the hard coat layer is improved, and the scratch resistance can be further improved.

また、光透過層上にハードコート層を形成して本発明の光学部品用フィルムとする場合、光透過層とハードコート層をあわせた2層の複屈折は、光透過層単独での好ましい値の範囲と同様、20nm以下であることが好ましく、10nm以下であることがより好ましく、5nm以下であることがさらに好ましく、特に20GBを超えるような高密度DVDの場合、2nm以下であることが特に好ましい。   When the hard coat layer is formed on the light transmission layer to form the optical component film of the present invention, the birefringence of the two layers including the light transmission layer and the hard coat layer is a preferable value of the light transmission layer alone. Is preferably 20 nm or less, more preferably 10 nm or less, still more preferably 5 nm or less, and especially 2 nm or less in the case of a high-density DVD exceeding 20 GB. preferable.

また、本発明の光学部品用積層フィルムにおいて、光透過層上にさらに接着層が形成されていてもよく、この場合、基材層は、光透過層上または接着層上に積層されことになる。また、光透過層上にハードコート層が形成されている場合には、接着層はハードコート層と反対側の光透過層上に形成され、基材層は、ハードコート層上または接着層上に積層されことになる。さらに、接着層が最外層に位置する場合には、これを保護し、使用時には剥離除去される保護層をさらに形成してもよい。このように、本発明の積層フィルムは、光透過層と基材層の他、接着層、ハードコート層および保護層が積層され、2〜5層構造の積層フィルムとなりうるものである。なお、上記「接着層」とは、接着剤や粘着剤等を塗布、またはそれらのフィルムをラミネートして形成される層を指すものであり、積層フィルムと記録層を貼り合わせることができるものであれば公知のものを使用することができ、種類や形成方法は特に限定されない。   In the laminated film for optical parts of the present invention, an adhesive layer may be further formed on the light transmitting layer, and in this case, the base material layer is laminated on the light transmitting layer or the adhesive layer. . When a hard coat layer is formed on the light transmitting layer, the adhesive layer is formed on the light transmitting layer on the side opposite to the hard coat layer, and the base material layer is formed on the hard coat layer or the adhesive layer. Will be laminated. Further, when the adhesive layer is located on the outermost layer, it may be protected, and a protective layer which is peeled off when used may be further formed. As described above, the laminated film of the present invention can be a laminated film having a two- to five-layer structure in which the adhesive layer, the hard coat layer, and the protective layer are laminated in addition to the light transmitting layer and the base layer. The “adhesive layer” refers to a layer formed by applying an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, or laminating those films, and is capable of bonding a laminated film and a recording layer. If so, known materials can be used, and the type and forming method are not particularly limited.

本発明の光学部品用積層フィルムの製造方法としては、特に制限はないが、多層押出法や、溶融キャスト法等の方法が挙げられ、中でも溶融キャスト法により有機溶媒を揮発させてフィルムを得る方法が表面平滑性の良いフィルムが得られる点で好ましい。キャストの条件は特に限定されないが、例えば空気中や不活性ガス中で50℃〜160℃の温度下で行える。   The method for producing the laminated film for an optical component of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a multi-layer extrusion method and a method such as a melt casting method, among which a method of obtaining a film by volatilizing an organic solvent by a melt casting method. Is preferred in that a film having good surface smoothness can be obtained. The conditions for the casting are not particularly limited. For example, the casting can be performed in air or an inert gas at a temperature of 50 ° C to 160 ° C.

また、本発明の光学部品用積層フィルムは、これをロール形状に巻き取り、巻層体とすることもできる。   Moreover, the laminated film for optical parts of the present invention can be wound into a roll shape to form a wound layer body.

次に、以下の実施例1〜実施例6及び比較例1〜比較例2を用いて、本発明の光学部品用積層フィルムについて特性評価を行った。   Next, the following Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2 were used to evaluate characteristics of the laminated film for optical parts of the present invention.

[実施例1]
(ポリマA)
耐圧2.3kg/cmGの4リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン1252gを投入し、アクリル酸ブチル(BA、和光純薬(株)製)1035g、アクリル酸(AA、和光純薬(株)製)46gを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約1時間通し、溶存酸素を置換した後、オートクレーブ内を加圧・密閉し、60℃まで昇温した。さらに、重合開始剤としてラウロイルパーオキシド(LPO、日本油脂(株)製)3.1g、t−ブチルパーオキシ2−エチルヘキサネート(PBO、日本油脂(株)製)1.1g、α−メチルスチレンダイマー(AMSD、五井化成(株)製)0.03gをアセトン40gに溶解し、室温にて窒素ガスを約10分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、同温度を約14時間保持した。さらに、90℃まで昇温して同温度で約6時間保持した後、高分子溶液を得た。このときの重合率は98%以上であり、重量平均分子量は250,000であった。
[Example 1]
(Polymer A)
1252 g of acetone was charged as a polymerization solvent into a 4 liter stainless steel autoclave having a pressure resistance of 2.3 kg / cm 2 G, 1035 g of butyl acrylate (BA, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and acrylic acid (AA, Wako Pure Chemical) 46 g (manufactured by K.K.). Thereafter, nitrogen gas was passed at room temperature for about 1 hour to replace dissolved oxygen, and then the autoclave was pressurized and sealed, and the temperature was raised to 60 ° C. Further, as a polymerization initiator, 3.1 g of lauroyl peroxide (LPO, manufactured by NOF Corporation), 1.1 g of t-butylperoxy 2-ethylhexanate (PBO, manufactured by NOF Corporation), α-methyl 0.03 g of styrene dimer (AMSD, manufactured by Goi Chemical Co., Ltd.) was dissolved in 40 g of acetone, and nitrogen gas was passed through at room temperature for about 10 minutes, and a mixed solution in which dissolved oxygen had been replaced was added. Thereafter, the same temperature was maintained for about 14 hours. Further, after the temperature was raised to 90 ° C. and maintained at the same temperature for about 6 hours, a polymer solution was obtained. At this time, the conversion was 98% or more, and the weight average molecular weight was 250,000.

(ポリマB)
耐圧2.3kg/cmGの4リットルのステンレス鋼製オートクレーブに重合溶媒としてアセトン1500gを投入し、メタクリル酸メチル(MMA、和光純薬(株)製)749g、メタクリル酸トリシクロ〔5.2.1.02,6〕デカ−8−イル(TCDMA、日立化成(株)製)103g、アクリル酸ブチル(BA)69g、2,2,6,6,−ペンタメチル−4−ピペリジルメタクリレート(LA−87、日立化成(株)製)79gを秤取した。その後、室温にて窒素ガスを約1時間通し、溶存酸素を置換し、オートクレーブ内を加圧・密閉にして、65℃まで昇温した後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(AIBN、和光純薬(株)製)3.0g、アゾビスシクロヘキサノン−1−カルボニトリル(ACHN、和光純薬(株)製)1.0gをアセトン40gに溶解して、室温にて窒素ガスを約10分間通し、溶存酸素を置換した混合溶液を添加した。その後、同温度を約18時間保持した。その後、90℃まで昇温して同温度で約6時間保持して高分子溶液を得た。このときの重合率は98%以上であり、重量平均分子量は65,000であった。
(Polymer B)
1500 g of acetone as a polymerization solvent was charged into a 4 liter stainless steel autoclave having a pressure resistance of 2.3 kg / cm 2 G, 749 g of methyl methacrylate (MMA, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.), and tricyclomethacrylate [5.2. 1.0 2,6 ] dec-8-yl (TCDMA, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) 103 g, butyl acrylate (BA) 69 g, 2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl methacrylate (LA- 79 g (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) was weighed. Thereafter, nitrogen gas was passed at room temperature for about 1 hour to dissolve dissolved oxygen, pressurize and seal the inside of the autoclave, and raised the temperature to 65 ° C. Then, azobisisobutyronitrile (AIBN, AIBN, 3.0 g of Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) and 1.0 g of azobiscyclohexanone-1-carbonitrile (ACHN, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) are dissolved in 40 g of acetone, and nitrogen gas is added at room temperature to about 10 g. After passing through for a minute, a mixed solution in which dissolved oxygen was replaced was added. Thereafter, the same temperature was maintained for about 18 hours. Thereafter, the temperature was raised to 90 ° C. and maintained at the same temperature for about 6 hours to obtain a polymer solution. At this time, the polymerization rate was 98% or more, and the weight average molecular weight was 65,000.

(積層フィルムの作製)
得られたポリマAワニスとポリマBワニスとを4:6の固形分の比率として樹脂とすると共に、離型剤としてSH28PA(ポリオキシエチレン構造を有する側鎖で変性されたジメチルポリシロキサン共重合体)(東レ・ダウコーニング(株)製、下式の構造を有する)

Figure 2004195974
(Preparation of laminated film)
The obtained polymer A varnish and polymer B varnish were used as a resin at a solid content ratio of 4: 6, and SH28PA (dimethylpolysiloxane copolymer modified with a side chain having a polyoxyethylene structure) was used as a release agent. ) (Toray Dow Corning Co., Ltd., having the following structure)
Figure 2004195974

(式中、nは約1000、mは約400、Rはアルキル基又は水素である)
を樹脂に対して0.05%添加した。その溶液を、ヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、原反PET(コスモシャインA−4150、東洋紡績(株))に3m/min速度で塗工し、連続して50℃の乾燥路を3分、140℃の乾燥路を3分通して評価用積層フィルムとした。なお、使用した原反PETの膜厚は125μmであり、膜厚精度は1.5μmであり、塗工面の表面平滑性は5nmである。
Wherein n is about 1000, m is about 400, and R is an alkyl group or hydrogen.
Was added to the resin at 0.05%. The solution was applied to a raw PET (Cosmo Shine A-4150, Toyobo Co., Ltd.) at a speed of 3 m / min using a Hirano Techseed comma coater head coating machine, and continuously dried at 50 ° C. For 3 minutes and a drying path at 140 ° C. for 3 minutes to obtain a laminated film for evaluation. The film thickness of the used raw PET was 125 μm, the film thickness accuracy was 1.5 μm, and the surface smoothness of the coated surface was 5 nm.

[実施例2]
本実施例では、樹脂に対して離型剤であるSH28PA(東レ・ダウコーニング(株)製)の添加量を0.20%とした以外は、実施例1と同様の手順を用いた。
[Example 2]
In this example, the same procedure as in Example 1 was used except that the amount of SH28PA (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) as a release agent was 0.20% with respect to the resin.

[実施例3]
本実施例では、光透過層の膜厚を100μmとした以外は、実施例1と同様の手順を用いた。
[Example 3]
In this example, the same procedure as in Example 1 was used except that the thickness of the light transmission layer was set to 100 μm.

[実施例4]
本実施例では、光透過層の膜厚を50μmとした以外は、実施例1と同様の手順を用いた。
[Example 4]
In this example, the same procedure as in Example 1 was used except that the thickness of the light transmitting layer was set to 50 μm.

[実施例5]
本実施例では、基材層にコスモシャインA−4100、(東洋紡績(株))を用いた以外は、実施例1と同様の手順を用いた。使用したの原反PETの膜厚は100μm、膜厚精度は1.5μmであり、表面平滑性は12nmである。
[Example 5]
In this example, the same procedure as in Example 1 was used except that Cosmoshine A-4100 (Toyobo Co., Ltd.) was used for the base material layer. The film thickness of the used raw PET is 100 μm, the film thickness accuracy is 1.5 μm, and the surface smoothness is 12 nm.

[実施例6]
本実施例では、実施例1で作製した積層フィルムの光透過層上に下記ハードコート前駆体を塗工積層し、加熱硬化することでハードコート層を形成し、これを評価用積層フィルムとした。
[Example 6]
In this example, the following hard coat precursor was applied and laminated on the light transmitting layer of the laminated film produced in Example 1, and then cured by heating to form a hard coat layer, which was used as a laminated film for evaluation. .

(ハードコート前駆体)
耐圧2.3kg/cmGの4リットルのステンレス鋼製オートクレーブに溶媒としてブタノール(和光純薬(株)製)1200gを投入し、テトラエトキシシラン(信越化学(株)製)32g、メチルトリエトキシシラン(信越化学(株)製)187.6g、ジメチルジエトキシシラン(信越化学(株)製)180.4gを秤取し、撹拌しながら蒸留水80gを添加した。その後、10%水酸化カリウム溶液0.04gを添加し、撹拌しながら60℃に昇温した。同温度を2時間保持し、ハードコート前駆体を得た。このときの固形分量は20%であった。
(Hard coat precursor)
1,200 g of butanol (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was charged as a solvent into a 4-liter stainless steel autoclave having a pressure resistance of 2.3 kg / cm 2 G, and 32 g of tetraethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and methyltriethoxy were added. 187.6 g of silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 180.4 g of dimethyldiethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were weighed, and 80 g of distilled water was added with stirring. Thereafter, 0.04 g of a 10% potassium hydroxide solution was added, and the temperature was raised to 60 ° C. while stirring. The same temperature was maintained for 2 hours to obtain a hard coat precursor. The solid content at this time was 20%.

(ハードコート層の形成)
得られたハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの15%水溶液(和光純薬(株)製)を3.3重量%添加してハードコート前駆体溶液を調整した。この溶液をヒラノテクシード製コンマコータヘッドの塗工機を用い、上記実施例1で作製したフィルム上に塗工し、連続して50℃の乾燥路を3分、150℃の乾燥路を3分通して積層フィルムを形成した。このときの積層フィルムの膜厚は82.9μmであったので、光透過層の膜厚を差し引きすると、ハードコート層の膜厚は3.0μmとなる。
(Formation of hard coat layer)
3.3% by weight of a 15% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to the solid content of the obtained hard coat precursor to prepare a hard coat precursor solution. This solution was applied on the film prepared in Example 1 above using a Hirano Techseed comma coater head coating machine, and continuously passed through a drying path at 50 ° C. for 3 minutes and a drying path at 150 ° C. for 3 minutes. To form a laminated film. Since the thickness of the laminated film at this time was 82.9 μm, the thickness of the hard coat layer becomes 3.0 μm by subtracting the thickness of the light transmitting layer.

[比較例1]
本比較例では、離型剤であるSH28PA(東レ・ダウコーニング(株)製)を添加しなかったこと以外は、実施例1と同様の手順を用いた。
[Comparative Example 1]
In this comparative example, the same procedure as in Example 1 was used, except that SH28PA (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) as a release agent was not added.

[比較例2]
本比較例では、樹脂に対して離型剤であるSH28PA(東レ・ダウコーニング(株)製)の添加量を1.00%とした以外は、実施例1と同様の手順で行った。
[Comparative Example 2]
In this comparative example, the same procedure as in Example 1 was performed except that the amount of SH28PA (manufactured by Dow Corning Toray Co., Ltd.) as a release agent was 1.00% with respect to the resin.

上記実施例1〜実施例6及び比較例1〜比較例2により作製された各評価用フィルムについて、以下に示す測定方法を使用して各特性の評価を行った。
[ガラス転移温度(Tg)]
DVAで測定した。測定装置として、(株)ユービーエム製 レオスペクトラーDVE−V4を使用した。測定条件は、昇温速度3.0℃/min、周波数10.0hzで、引張り弾性率を測定し、得られたデータのうちtanδのピークトップをTgとした。
With respect to each of the films for evaluation produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 and 2, each characteristic was evaluated using the measurement methods described below.
[Glass transition temperature (Tg)]
Measured by DVA. As a measuring device, a rheospectra DVE-V4 manufactured by UBM was used. The measurement conditions were as follows: the tensile modulus was measured at a temperature rising rate of 3.0 ° C./min and a frequency of 10.0 hz, and the peak top of tan δ in the obtained data was defined as Tg.

[ヘイズ(%)]
ヘイズ(曇価)は、ヘーズメータ(スガ試験器(株)製、HGM−2)を用いて、室温(25℃)にて測定した。
[Haze (%)]
The haze (cloudiness value) was measured at room temperature (25 ° C.) using a haze meter (HGM-2, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).

[光透過率(%)]
フィルムの光透過率は、分光光度計を用い、室温(25℃)で波長405nmの領域において測定した。なお、測定器はJASCO社製V−570を用いた。
[Light transmittance (%)]
The light transmittance of the film was measured using a spectrophotometer at room temperature (25 ° C.) in a wavelength region of 405 nm. The measuring instrument used was V-570 manufactured by JASCO.

[色相(イエローネスインデックス)(%)]
フィルムの色相(黄色度)は、イエローネスインデックスについて、色差計(日本電色工業製COH−300A)を用いて測定した。
[Hue (Yellowness Index) (%)]
The hue (yellowness) of the film was measured for a yellowness index using a color difference meter (COH-300A manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.).

[複屈折(nm)]
複屈折の測定は、厚さ50μmのフィルムについて、島津製作所(株)製エリプソメータAEP−100を用いて測定した。
[Birefringence (nm)]
The birefringence was measured using a 50 μm thick film using an ellipsometer AEP-100 manufactured by Shimadzu Corporation.

[静摩擦係数]
静摩擦係数は、20cm×20cmのガラス基板上にフィルムをラミネートし、その上に底面が直径3cm、高さ2cm、重量75gの円柱体の底面にPETフィルム(コスモシャインA4150)を張り付けたものを乗せ、フィルムを傾けて円柱体が動き始めた角度をθとし、角度θから静摩擦係数μ=tanθ (θ:円柱体が動き始めた角度)を算出し、静摩擦係数μとした。
[Static friction coefficient]
The coefficient of static friction is such that a film is laminated on a glass substrate of 20 cm × 20 cm, and a PET film (Cosmo Shine A4150) is attached on the bottom of a cylindrical body having a bottom surface of 3 cm in diameter, a height of 2 cm and a weight of 75 g. The angle at which the cylindrical body began to move when the film was tilted was defined as θ, and the static friction coefficient μ = tan θ (θ: the angle at which the cylindrical body began to move) was calculated from the angle θ to obtain the static friction coefficient μ.

[折曲げ加工性]
フィルムを折り曲げた際の亀裂の有無及び白化現象の程度を目視により観察した。亀裂及び白化現象が観察されなかったときにその評価を○とし、観察されたときにその評価を×とした。
[Bendability]
The presence or absence of cracks and the degree of whitening when the film was bent were visually observed. When no crack or whitening phenomenon was observed, the evaluation was evaluated as ○, and when observed, the evaluation was evaluated as ×.

[膜厚(μm)、膜厚誤差(μm)]
フィルムの膜厚は、レーザーフォーカス変位計(キーエンス製、LT−8100)を使用し、サイズ12cm×12cmの正方形フィルムについて測定した。
[Film thickness (μm), film thickness error (μm)]
The film thickness of the film was measured for a square film having a size of 12 cm × 12 cm using a laser focus displacement meter (manufactured by Keyence, LT-8100).

正方形フィルムの4つの辺を、それぞれ直線A、直線B、直線C、直線Dとし、直線Aに対向する辺を直線Cとし、直線Bに対向する辺を直線Dとした。直線Aから直線Cに向かって3cmの間隔を空けた3本の平行直線を各々直線A1、直線A2、直線A3とし、これら3本の平行直線(A1、直線A2、直線A3)と、直線Aと、直線Cとの合計5本について、以下の手順により直線上の各点におけるフィルムの膜厚を測定した。まず、直線Aの一端部から正方形内側の1cmの点を基準点とし、基準点から直線Aの他端部に向かい1mmの間隔を空けた各点について、他端部から正方形内側1cmの点までの長さ10cmに亘る合計101個の各点についてフィルムの膜厚を測定した。次に、直線Aと同様の方法を用いて、直線A1、直線A2、直線A3及び直線Cについての各点の膜厚を測定し、5本の直線について合計505個の各点の膜厚を測定した。さらに、前述した直線Aから直線Cまでの各直線と同様に、直線Bから直線Dに向かう5本の直線(直線B、直線B1、直線B2、直線B3、直線D)の合計505個の各点について膜厚を測定した。最後に、前述した方法により測定された正方形フィルム内の総計1010個についての膜厚の平均値をフィルムの膜厚とした。   The four sides of the square film were designated as straight line A, straight line B, straight line C, and straight line D, respectively, the side facing straight line A was taken as straight line C, and the side facing straight line B was taken as straight line D. Three parallel straight lines spaced 3 cm from the straight line A to the straight line C are referred to as a straight line A1, a straight line A2, and a straight line A3, respectively. These three parallel straight lines (A1, straight line A2, straight line A3) and straight line A And a total of five straight lines C, the thickness of the film at each point on the straight line was measured by the following procedure. First, a point 1 cm inside the square from one end of the straight line A is used as a reference point. For each point spaced 1 mm from the reference point toward the other end of the straight line A, from the other end to a point 1 cm inside the square. The film thickness of the film was measured at a total of 101 points over a length of 10 cm. Next, using the same method as that for the straight line A, the film thickness at each point of the straight line A1, the straight line A2, the straight line A3, and the straight line C was measured. It was measured. Further, similarly to the above-described straight lines from the straight line A to the straight line C, a total of 505 straight lines (straight line B, straight line B1, straight line B2, straight line B3, and straight line D) from the straight line B to the straight line D are obtained. The film thickness was measured for the points. Finally, the average value of the film thickness of a total of 1010 pieces in the square film measured by the method described above was defined as the film thickness.

また、膜厚の最大値から平均膜厚を差し引いた値、及び平均膜厚から膜厚の最小値を差し引いた値を各々算出し、算出した値のうち大きい値を膜厚誤差とした。   Further, a value obtained by subtracting the average film thickness from the maximum value of the film thickness and a value obtained by subtracting the minimum value of the film thickness from the average film thickness were calculated, and a larger value among the calculated values was regarded as a film thickness error.

[表面平滑性(nm)]
表面平滑性は、幅15μmにおける凹凸を測定した。なお、測定には、SEIKO INSTRUMENT社製、AFMを使用した。幅15μmにおける凹凸を求めた点は、12cm×12cmの正方形であるフィルムの中央部の点と、四辺の各中央部から1cm内側の点とについて合計5点を測定し、最も大きい凹凸の大きさを表面平滑性とした。
[Surface smoothness (nm)]
As for the surface smoothness, irregularities at a width of 15 μm were measured. In the measurement, AFM manufactured by SEIKO INSTRUMENT was used. The points at which the irregularities at a width of 15 μm were obtained were measured at a total of 5 points: a point at the center of the film, which is a square of 12 cm × 12 cm, and a point 1 cm inside from the center of each of the four sides. Was defined as surface smoothness.

[ハリツキ性]
原反PETに塗工したフィルムを、サイズ15cm×1mに切り出した。切り出したフィルムについて光透過層フィルム面側を下にして、フィルムを平らにした状態で、室温(25℃)、離型速度100mm/secの範囲で、長方形の短辺を上底とし、上底左側から上底右側方向へ、剥がれた量が長辺と短辺を比べ常に短辺側の方が多くなるように上底を全て剥がし、次いで長辺左右が同程度の位置になるよう剥がし、下底に向けて原反PETを剥がした。この時、剥がしたPETフィルムは高さ30cm以下になるように剥がした。ハリツキの値は原反PETとのはがし残り個数を測定した。測定枚数は、各々5枚とし、値は合計数を測定し、1m当たりの個数に換算して表記した。
[Hardness]
The film applied to the raw PET was cut into a size of 15 cm × 1 m. With the light-transmitting layer film side down and the film flat, the cut side of the film is set at room temperature (25 ° C.) and at a mold release speed of 100 mm / sec, with the short side of the rectangle as the upper base. From the left side to the right side of the upper base, peel off all the upper base so that the amount of peeling always increases on the short side compared to the long side and the short side, and then peel off so that the left and right sides are at the same position, The raw PET was peeled toward the lower bottom. At this time, the peeled PET film was peeled so as to have a height of 30 cm or less. The value of the hardness was determined by measuring the number of remaining pieces peeled off from the raw PET. Measurements number are each a five, the value measures the total number was expressed in terms of number per 1 m 2.

[ハードコート層の鉛筆硬度]
ハードコート前駆体の固形分に対してテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの15%水溶液(和光純薬(株)製)を3.3重量%添加したものをガラス板状に塗布した後、50℃/3分の後直ちに150℃/3分加熱し、ハードコート層を作製し、その鉛筆硬度をJIS K5400に準拠して測定した。
[Pencil hardness of hard coat layer]
After adding 3.3% by weight of a 15% aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) to the solid content of the hard coat precursor, the mixture was coated on a glass plate and then heated at 50 ° C./3. Immediately after the minute, the mixture was heated at 150 ° C. for 3 minutes to form a hard coat layer, and its pencil hardness was measured according to JIS K5400.

[積層フィルムの耐擦傷性]
積層フィルムの耐擦傷性は、摩耗試験器を用いて、荷重250g、摩耗輪CSF−1、回転数100回転で行い、試験後のヘイズを耐擦傷性の尺度とした。
[Scratch resistance of laminated film]
The abrasion resistance of the laminated film was measured using a wear tester at a load of 250 g, a worn wheel CSF-1, and the number of rotations was 100. The haze after the test was used as a measure of the abrasion resistance.

上記の測定方法により測定された結果を表1に示す。

Figure 2004195974
Table 1 shows the results measured by the above measurement method.
Figure 2004195974

表1に示すように、所定量のシリコーン樹脂を添加した実施例1乃至実施例5の各フィルムは、光透過率が高く、ヘイズが低く、複屈折が所定値より低いことから光学特性が良好であり、また、1m当たりのはがし残り個数が3個以下であり離型性が良好であったが、比較例1の各フィルムは、ハリツキ性の値が大となり、また、シリコーンを過剰に添加した比較例2のフィルムは、ハリツキは皆無であり、白濁してヘイズが高く、透過率とも基準値を下回り光学特性が低下した。また、実施例6のようにハードコート層を光透過層上に形成することにより、積層フィルムの耐擦傷性を向上させることができる。 As shown in Table 1, each of the films of Examples 1 to 5 to which a predetermined amount of silicone resin was added had high optical transmittance, low haze, and low birefringence, and thus had good optical characteristics. In addition, the number of peeling remaining pieces per 1 m 3 was 3 or less, and the releasability was good. However, each of the films of Comparative Example 1 had a large value of the resilience, and an excessive amount of silicone. The film of Comparative Example 2 to which the film was added had no sharpness, became cloudy and had a high haze, and the transmittance was lower than the reference value and the optical characteristics were deteriorated. Also, by forming the hard coat layer on the light transmitting layer as in Example 6, the scratch resistance of the laminated film can be improved.

従って、本実施形態によれば、2種以上のビニル系重合体を混合することにより、1種のビニル系重合体では得られない新たな特性を得ることができるだけでなく、離型性の良い光学部品用積層フィルムを得ることができ、本光学部品用積層フィルムを光ディスク等の光学部品に適用することにより、光学部品の高密度化及び高精度化を図ることができる。この結果、映像情報や動画情報等の発展に伴い光ディスク等に要求される記録容量の大容量化を実現することができる。   Therefore, according to the present embodiment, by mixing two or more kinds of vinyl polymers, it is possible not only to obtain new characteristics that cannot be obtained with one kind of vinyl polymer, but also to have good releasability. A laminated film for an optical component can be obtained, and by applying the laminated film for an optical component to an optical component such as an optical disk, the density and precision of the optical component can be increased. As a result, it is possible to increase the recording capacity required for an optical disk or the like with the development of video information, moving image information, and the like.

また、本発明の光学部品用積層フィルムは、表面平滑性を維持してフィルムをロール形状に巻き取りフィルム巻層体に形成可能であるため、作業性の向上を図ることができる。   Moreover, since the laminated film for optical parts of the present invention can be formed into a rolled film by winding the film into a roll while maintaining the surface smoothness, the workability can be improved.

なお、本実施形態において、本発明の光学部品用積層フィルムの具体的な用途として大容量化したDVDを例として挙げたが、光学部品はこれに限定されるものではなく、DVD用の他に、液晶タッチパネル用基材フィルム、フレキシブルディスプレイ用基材フィルム、液晶パネル用位相差フィルム等としても使用することができる。   In the present embodiment, as a specific application of the laminated film for an optical component of the present invention, a DVD having a large capacity is given as an example. However, the optical component is not limited to this. It can also be used as a substrate film for liquid crystal touch panels, a substrate film for flexible displays, a retardation film for liquid crystal panels, and the like.

本発明の実施形態における、高密度DVDの一部の構造を示す斜視図。FIG. 1 is a perspective view showing a partial structure of a high-density DVD according to an embodiment of the present invention. 図1に示した高密度DVDの一部の構造を示す断面図。FIG. 2 is an exemplary sectional view showing the structure of a part of the high-density DVD shown in FIG. 1;

符号の説明Explanation of reference numerals

1 高密度DVD
2 支持基盤
3 記録層
4 接着層
5 光透過層
6 レーザー光
1 High density DVD
2 support base 3 recording layer 4 adhesive layer 5 light transmitting layer 6 laser beam

Claims (24)

シリコーン樹脂が含有され主として熱可塑性樹脂から成り、複屈折が20nm以下でありかつヘイズが1%未満である光透過層と、当該光透過層と積層され使用時に剥離除去される樹脂基材層と、を少なくとも有することを特徴とする光学部品用積層フィルム。   A light-transmitting layer containing a silicone resin and mainly composed of a thermoplastic resin and having a birefringence of 20 nm or less and a haze of less than 1%; a resin base layer laminated with the light-transmitting layer and peeled off during use; And a laminated film for an optical component. 前記光透過層上に鉛筆硬度が3H以上であるハードコート層が形成されており、該ハードコート層上または該ハードコート層と反対側の前記光透過層上に前記樹脂基材層が積層されていることを特徴とする請求項1に記載の光学部品用積層フィルム。   A hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more is formed on the light transmitting layer, and the resin base material layer is laminated on the hard coat layer or on the light transmitting layer opposite to the hard coat layer. The laminated film for an optical component according to claim 1, wherein: 前記ハードコート層の膜厚が0.5〜8μmであり、膜厚精度が±1.0μm以内であることを特徴とする請求項2に記載の光学部品用積層フィルム。   3. The laminated film for an optical component according to claim 2, wherein the thickness of the hard coat layer is 0.5 to 8 [mu] m, and the thickness accuracy is within ± 1.0 [mu] m. 前記ハードコート層が、架橋構造体であることを特徴とする請求項2または3に記載の光学部品用積層フィルム。   4. The laminated film for an optical component according to claim 2, wherein the hard coat layer is a crosslinked structure. 前記ハードコート層が、シリコーン系架橋構造体またはアクリル系架橋構造体であることを特徴とする請求項2乃至4のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 2 to 4, wherein the hard coat layer is a silicone-based crosslinked structure or an acrylic-based crosslinked structure. 前記ハードコート層が、シリコーン系熱可塑性樹脂を0.2〜10.0重量%含むことを特徴とする請求項2乃至5のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 2 to 5, wherein the hard coat layer contains 0.2 to 10.0% by weight of a silicone-based thermoplastic resin. 前記光透過層の膜厚が15〜250μmであり、膜厚精度が±2.0μm以内であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 6, wherein the light transmitting layer has a thickness of 15 to 250 µm, and the thickness accuracy is within ± 2.0 µm. 前記光透過層の405nmにおける光透過率が87%以上であることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の光学部品用積層フィルム。   The optical component laminated film according to any one of claims 1 to 7, wherein the light transmission layer has a light transmittance at 405 nm of 87% or more. 前記光透過層側における前記樹脂基材層の表面平滑性が20nm以下であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 8, wherein a surface smoothness of the resin base material layer on the light transmission layer side is 20 nm or less. 25℃、離型速度100mm/秒の条件下において、前記樹脂基材層から前記光透過層を剥離した際のハリツキによるはがし残りが1m当たり3ヶ所以下であることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。 2. The method according to claim 1, wherein, under conditions of 25 ° C. and a mold release speed of 100 mm / sec, the peeling residue due to the stiffness when the light transmitting layer is separated from the resin base material layer is 3 or less per 1 m 2. 10. The laminated film for optical parts according to any one of claims 9 to 9. 前記光透過層の25℃におけるPETに対する静摩擦係数が0.42以下であることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 10, wherein the light transmission layer has a coefficient of static friction against PET at 25 ° C of 0.42 or less. 前記樹脂基材層の膜厚が20〜250μmであり、膜厚精度が±1.0μm以内であることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   12. The laminated film for an optical component according to claim 1, wherein the resin base material layer has a thickness of 20 to 250 μm, and the thickness accuracy is within ± 1.0 μm. 13. 前記熱可塑性樹脂は、ビニル系重合体であることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   13. The laminated film for an optical component according to claim 1, wherein the thermoplastic resin is a vinyl polymer. 前記ビニル系重合体は、分子内に少なくとも1種のプロトン供与性原子団を含むビニル系重合体Aと、分子内に少なくとも1種のプロトン受容性原子団を含むビニル系重合体Bとを含み、前記プロトン供与性原子団とプロトン受容性原子団との間に分子間水素結合による擬似的な架橋が形成されていることを特徴とする請求項13に記載の光学部品用積層フィルム。   The vinyl-based polymer includes a vinyl-based polymer A containing at least one proton-donating atomic group in a molecule and a vinyl-based polymer B containing at least one proton-accepting atomic group in a molecule. 14. The laminated film for an optical component according to claim 13, wherein a pseudo cross-link is formed between the proton-donating atomic group and the proton-accepting atomic group by an intermolecular hydrogen bond. 前記ビニル系重合体Aは、分子内にカルボキシル基、水酸基又はフェノール性水酸基の中から選択される1種以上の官能基を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、前記ビニル系重合体Bは、分子内に窒素原子を有するビニル系単量体を含む単量体混合物を重合させて得られた重合体であり、かつ、前記ビニル系重合体A及び前記ビニル系重合体Bのいずれか一方のガラス転移温度が25℃以上であり、他方のガラス転移温度が25℃未満であることを特徴とする請求項14に記載の光学部品用積層フィルム。   The vinyl polymer A is obtained by polymerizing a monomer mixture containing a vinyl monomer having one or more functional groups selected from carboxyl groups, hydroxyl groups or phenolic hydroxyl groups in the molecule. The vinyl polymer B is a polymer obtained by polymerizing a monomer mixture containing a vinyl monomer having a nitrogen atom in the molecule, and the vinyl polymer The glass transition temperature of either one of the coalesced A and the vinyl polymer B is 25 ° C. or more, and the other glass transition temperature is less than 25 ° C., The optical component laminate according to claim 14, wherein the film. 前記ビニル系重合体は、アクリル系樹脂であることを特徴とする請求項13乃至15のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 13 to 15, wherein the vinyl polymer is an acrylic resin. 前記シリコーン樹脂が、前記熱可塑性樹脂に対して0.01〜0.5重量%含まれることを特徴とする請求項1〜16のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 16, wherein the silicone resin is contained in an amount of 0.01 to 0.5% by weight based on the thermoplastic resin. 前記樹脂基材層は、ポリエステル樹脂から主として成ることを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   The laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 17, wherein the resin base material layer is mainly made of a polyester resin. 前記光透過層を光ディスクの光透過層用としたことを特徴とする請求項1乃至18のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルム。   19. The laminated film for an optical component according to claim 1, wherein the light transmitting layer is used for a light transmitting layer of an optical disk. 請求項1乃至19のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルムを、ロール形状に巻き取り形成されたことを特徴とするフィルム巻層体。   20. A film wound layered product formed by winding the laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 19 into a roll shape. 請求項1乃至19のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルムの樹脂基材層から剥離された光透過層を貼付して形成されたことを特徴とする光学部品。   An optical component formed by attaching a light transmitting layer peeled from a resin substrate layer of the laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 19. 光ディスクであることを特徴とする請求項21に記載の光学部品。   The optical component according to claim 21, which is an optical disk. 支持基盤上に記録層、接着層及び光透過層が順次形成された光ディスクであって、前記光透過層は、請求項1乃至19のいずれか1項に記載の光学部品用積層フィルムから樹脂基材層を剥離したものであり、シリコーン樹脂が含有され主として熱可塑性樹脂から成るフィルムであり、複屈折が20nm以下でありかつヘイズが1%未満であることを特徴とする光ディスク。   20. An optical disc in which a recording layer, an adhesive layer, and a light transmitting layer are sequentially formed on a support base, wherein the light transmitting layer is formed of the laminated film for an optical component according to any one of claims 1 to 19. An optical disc, which is obtained by peeling a material layer, is a film mainly containing a thermoplastic resin and containing a silicone resin, and has a birefringence of 20 nm or less and a haze of less than 1%. 前記光透過層上にさらに鉛筆硬度が3H以上であるハードコート層が形成されていることを特徴とする請求項23に記載の光ディスク。   24. The optical disc according to claim 23, wherein a hard coat layer having a pencil hardness of 3H or more is further formed on the light transmitting layer.
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JP2016132187A (en) * 2015-01-20 2016-07-25 大日本印刷株式会社 Optical laminate

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