JP2004191755A - Device and method for rubbing substrate - Google Patents

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JP2004191755A JP2002360981A JP2002360981A JP2004191755A JP 2004191755 A JP2004191755 A JP 2004191755A JP 2002360981 A JP2002360981 A JP 2002360981A JP 2002360981 A JP2002360981 A JP 2002360981A JP 2004191755 A JP2004191755 A JP 2004191755A
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rubbing
substrate
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roller
cloth
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Shigeki Kobayashi
重樹 小林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a device and a method for rubbing a substrate by which a raising part of a rubbing cloth forming the peripheral surface of a rubbing roller is uniformly shaped without being damaged during a rubbing treatment. <P>SOLUTION: In the device 1 for rubbing the substrate in an opto-electronic device for which a rubbing treatment is performed by bringing the rubbing roller 2 whose surface is formed with the rubbing cloth into pressure contact with an alignment layer formed on the substrate 3, a raising shaping means 8 for uniformly shaping the raising part 2f of the rubbing cloth during the rubbing treatment is disposed near the peripheral surface 2b of the rubbing roller. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板のラビング装置及びラビング方法に関し、特に、周面がラビングクロスで構成されたラビングローラを有するラビング装置及びラビング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造され、この両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００４】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製作工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板の液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。次いで、ＴＦＴ基板と対向基板とを対向させ、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部を設け、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。
【０００５】
ここで、ラビング処理とは、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、例えば５００〜２０００ｒｐｍで回転させながら基板表面に形成された配向膜上に接触させ直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものであり、このように配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００６】
ところで、このように上記ラビングローラが基板表面に形成された配向膜上を回転しながら接触するラビング処理においては、前記基板表面の凹凸が前記ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部に転写してしまう、または、ラビング処理中に発生する静電気によって前記起毛部に乱れが発生する、あるいは、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃が上記ラビングクロスへ付着する等の原因により、ラビング処理後の基板に、ラビングローラの接触圧の異なる部分が発生し、配向むらが発生してしまう、または基板表面の配向膜に塵埃によるラビングスジが転写されてしまうといった問題があった。
【０００７】
上記配向むらは、上記ラビングクロスの一部に、例えば毛割れ及び前記基板の凹凸形状の転写等の起毛部の乱れが存在すると、この乱れの部分の基板との接触圧が、他のラビングクロスの起毛部分の接触圧と異なってしまい、その結果、基板表面に局所的にラビング強度が異なる部位が生じるために発生する。
【０００８】
上記問題点に鑑みて、特許文献１に記載のラビング装置では、ラビング処理中にラビンクロスの起毛部に接触する、面または硬質の凹凸形状を有する導電性のラビング布調整部材をラビング装置に配設することにより、ラビング処理中に上記ラビングクロスの起毛部に発生する乱れ及び静電気、並びに付着した塵埃の除去を可能としている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平１１−７０１９号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献１に開示されている基板のラビング装置では、ラビング処理中に、面または硬質の凹凸形状を有する導電性のラビング布調整部材がラビンクロスの起毛部に接触すると、上記ラビングクロスの起毛部に、前記面または硬質の凹凸形状が転写してしまう虞がある。
【００１１】
本発明は上記事情に着目してなされたものであり、その目的は、ラビング処理中、ラビングローラ周面を形成するラビングクロスの起毛部に、ダメージを与えることなく、その起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることのできる基板のラビング装置、及びラビング方法を提供するにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明に係る基板のラビング装置の一つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す基板のラビング装置において、上記ラビングローラ周面に近接して、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことを特徴とする。
【００１３】
本発明のラビング装置によれば、ラビングローラ周面に近接して、ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことにより、上記ラビングローラは、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００１４】
また、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００１５】
この構成によれば、起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、及び起毛方向等の毛並みを均一に整えるので、ラビング処理時に、上記ラビングクロスの起毛部の乱れによる基板のラビングむらを防止することができるという効果を有する。
【００１６】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスに付着した塵埃を除去することを特徴とする。
【００１７】
この構成によれば、起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスに付着した塵埃を除去するので、ラビング処理時に、上記ラビングローラ周面に付着した塵埃による基板のラビングスジを防止することができるという効果を有する。
【００１８】
また、本発明の基板のラビング装置における上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００１９】
この構成によれば、上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設したので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００２０】
本発明の基板のラビング装置の１つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段とを配設したことを特徴とする本発明のラビング装置によれば、ラビング処理中に、ラビングローラ周面に接触し、ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段とを配設したことにより、上記ラビングローラは、２段階で起毛部が整備され、従って、起毛精度の高いローラで、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００２１】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されており、上記ラビングクロス起毛部の静電気及び塵埃の除去、並びに前記起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００２２】
この構成によれば、第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されていることにより、ラビングローラ周面に付着した塵埃及びクロス起毛部の静電気を、ラビング処理中に静電作用により上記導電性部材に付着及び除電させることができるとともに、上記ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向を均一に整えることができるという効果を有する。
【００２３】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されていることを特徴とする。
【００２４】
この構成によれば、第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されているので、ラビングローラ周面に付着した塵埃をラビング処理中に接触除去することができるとともに、上記ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整えることができるという効果を有する。
【００２５】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第１の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００２６】
この構成によれば、第１の起毛整備手段は、ラビングローラの基板接触面以外の位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設したので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００２７】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする。
【００２８】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部の起毛高さ、起毛方向等の毛並みを均一に整えるので、ラビング処理時に、上記ラビングクロスの起毛部の乱れによる基板のラビングむらを防止することができるという効果を有する。
【００２９】
さらに、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面に付着した塵埃を除去することを特徴とする。
【００３０】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、真空吸引によりラビングローラ周面のラビングクロスに付着した塵埃を除去するので、ラビング処理時に、上記ラビングローラ周面に付着した塵埃による基板のラビングスジを防止することができるという効果を有する。
【００３１】
また、本発明の基板のラビング装置における上記第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする。
【００３２】
この構成によれば、第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置であって、ローラに対向する位置に着脱自在に配設されているので、必要に応じて、確実に、ラビングローラ周面のラビングクロスの起毛部を整えることができ、また、ラビングローラ周面の塵埃を除去することができるという効果を有する。
【００３３】
本発明の基板のラビング方法の１つの態様としては、ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング方法において、ラビング処理中に、第１の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に接触することにより、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、ラビング処理中に、第２の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に対向する位置から真空吸引により、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程とを具備したことを特徴とする。
【００３４】
本発明の基板のラビング方法によれば、上記ラビングローラは、基板を均一の接触圧でラビング処理することができるという効果を有する。
【００３５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は、本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図２は、ラビングローラに起毛整備手段を配設した斜視図、図３は、図２の要部拡大断面図である。
【００３６】
図１に示すように、ラビング装置１は、基台４の上面（以下、基準平面と称す）に固定されたラビングローラ２と、ラビング処理時に基板３を載置して上記基準平面上を移動するステージ５と、このステージ５に載置した基板３がラビングローラ２に圧接するよう、ステージ５を基準平面４上で移動するガイド６と、起毛整備手段８とで、その主要部が構成されている。
【００３７】
上記ラビングローラ２は、ラビングクロスの起毛部２ｆで形成されたローラ周面２ｂを有するローラ部２ａと、ローラ軸２ｃとで構成されており、ローラ軸２ｃは、一対の軸受け２ｄにより上記基準平面４に平行な平面上に回転自在に軸支されている。この一対の軸受け２ｄは、上記基準平面に対し図示しない高さ調節機構を有していて、ローラ軸２ｃを基準平面に対して任意の高さに調節し得るようになっている。また、ローラ軸２ｃは、モータ等の駆動源７によって回転駆動されるようになっている。
【００３８】
このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｄで支持されたローラ軸２ｃを中心に一方向に、例えば５００〜２０００ｒｐｍで回転しながら基板３の表面に形成された配向膜に接触し、基板３の配向膜表面に細かい溝を形成して前記配向膜を配向異方性の膜にする。
【００３９】
上記起毛整備手段８は、真空吸引装置で構成されていて、その真空吸引器８は、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置、即ち、図２に示すように、ラビングローラ周面２ｂに近接する位置、例えば上方で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように配設されている。この真空吸引器８は、例えば、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄに対して着脱自在に取り付けられるようになっている。即ち、この吸引器８は、下面に吸引孔８ａを有する、断面形状がチャンネル状をなす細長い棒状に形成されていて、その一端部２ｅは、上記一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに揺動自在にラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するように取り付けられている。
【００４０】
そして、吸引器８の他端部を他方の軸受けに装着固定したときには、吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、真空吸引孔８ａが起毛部２ｆに近接して配設されるようになっており、起動時には、真空吸引ポンプ９により、図３に示すように、真空吸引孔８ａを介してラビング処理中の回転するラビングローラ周面２ｂの起毛部２ｆを常時例えば−２０ｋＰａ以下で真空吸引する。
【００４１】
このように構成された本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置１では、ラビング装置１に配設された真空吸引器８が真空吸引孔８ａを介してラビング処理中に常時真空吸引を行うので、上記起毛部２ｆの起毛は、真空吸引孔８ａの方向に一様に吸引されるため、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂが基板３をラビングすることにより発生するラビングクロスの起毛部２ｆの起毛高さや起毛方向等の毛並みの乱れ、または、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃のラビングローラ周面２ｂへの付着を、防止することができる。
【００４２】
詳しくは、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆに転写された基板３の表面の凹凸、または毛先の割れ、起毛高さ、起毛方向等の毛並みを、真空吸引により均一に整えることで、ラビングクロスの起毛部２ｆの乱れによるラビング処理後の基板のラビングむらを防止することができる。
【００４３】
また、真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに付着した塵埃を真空吸引により除去するので、ラビング処理後、基板表面の配向膜に転写される塵埃によるラビングスジを防ぐことができる。
【００４４】
さらに、真空吸引器８は、ラビングローラの起毛部２ｆに接触していないため、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆにダメージを与えることがない。
【００４５】
尚、本実施の形態においては、起毛整備手段である真空吸引器８を、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに、その一端部２ｅを揺動自在に取り付け、他端部を他方の軸受けに着脱自在に装着するようにして、吸引器８をラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するように配設したが、これに限らず、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、どのような配設手段をとっても良いことは云うまでもない。
【００４６】
また、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触しない位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、固定されていても良い。
【００４７】
さらに、起毛整備手段である真空吸引器８は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、真空吸引孔８ａがラビングローラの回転軸２ｃに沿う直線状に配置されるようにしたが、この真空吸引孔８ａは、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置であれば、どの位置、またはどのような形状に穿設されていても良いことは勿論である。
【００４８】
また、ラビングクロスの起毛部２ｆの吸引は、例えば−２０ｋＰａ以下の条件で真空吸引するとしたが、これに限らず、−２０ｋＰａ以下の条件で起毛部２ｆを吸引できる手段であれば、公知の他の吸引手段を用いても構わない。
【００４９】
さらに、真空吸引器８は、ラビング処理中、常時真空吸引しているようにしたが、これに限らず、所定の間隔で吸引しても良いことは云うまでもない。
【００５０】
また、真空吸引器８は、本実施の形態では、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿う１本の直線状のものを配設するようにしたが、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置であれば、何本配設しても良い。
【００５１】
図４は、本発明の第２実施形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、図５は、ラビングローラに起毛整備手段を配設したことを示す斜視図、図６は、図５の要部拡大断面図である。
【００５２】
この第２実施形態の基板のラビング装置の構成は、前記図１乃至図３に示した第１実施形態の基板のラビング装置の構成と殆ど同じであるが、この第２実施形態においては、真空吸引による起毛整備手段（第２の起毛整備手段）の他に、ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に常時接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛を均一に整える起毛整備手段をさらに配設した点のみが異なる。よって、この相違点のみを説明し、第１実施形態の基板のラビング装置と同様の構成部材には、同じ符号を付し、その説明は省略する。
【００５３】
図４に示すように、ラビング装置１００には、上述した起毛整備手段である真空吸引器８の他に、例えば導電性部材のブラシで構成された第１の起毛整備手段２０が配設されている。この第１の起毛整備手段２０は、図５に示すように、第２の起毛整備手段である吸引器８よりもラビングローラ２の回転方向に対して手前側に並設して配設されている。つまり、ラビングローラ２の基板接触面以外の位置、例えば、図４に示すように、ラビングローラ周面２ｂ近傍の上方で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されている。
【００５４】
この第１の起毛整備手段２０は、第２の起毛整備手段８と同様に、例えば、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに、その一端部２０ｅを揺動自在に取り付け、他端部を他方の軸受けに着脱自在に装着固定するようにしてラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するようになっている。
【００５５】
この第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ周面２ｂに対向する位置に、複数のブラシ２０ａがラビングローラの回転軸２ｃに沿って直線状に配設されていて、図６に示すように、複数のブラシ２０ａがラビング処理中に回転するラビングローラ周面２ｂの起毛部２ｆに常時接触するようになっている。
【００５６】
このように構成された本発明の第２実施の形態である基板のラビング装置１００においては、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂが基板３をラビングすることにより発生するラビングクロスの起毛部２ｆの乱れ、及びラビング処理中に発生する静電気による前記起毛部２ｆの乱れ、または、ラビング処理中に発生する配向膜等の塵埃のラビングローラ周面２ｂへの付着を、ラビング装置１００に配設された第１の起毛調整手段２０が、ラビング処理中に常時接触することにより、防止することができる。
【００５７】
さらに、本実施形態における基板のラビング装置１００は、第１の起毛整備手段２０とともに、上述した真空吸引による第２の起毛整備手段８が配設されているため、第１の起毛整備手段２０が整備しきれなかった起毛部２ｆの乱れを第２の起毛整備手段で防止することができるので、より効果的にラビングクロスの起毛部２ｆの乱れを防止することができる。
【００５８】
また、第１の起毛整備手段２０によって、ラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆに乱れを発生させてしまったとしても、第２の起毛整備手段８が、この起毛部２ｆの乱れを均一に整えることができるので、起毛部２ｆに接触する第１の起毛整備手段２０を用いてもラビングローラ周面２ｂを形成するラビングクロスの起毛部２ｆにダメージを与えることがない。
【００５９】
尚、本実施の形態においては、第１の起毛整備手段２０は、ブラシ２０ａを用いたが、これに限らず、図７に示すように、棒状部材３０を用いても同様の効果が得られることは勿論である。
【００６０】
また、図８に示すように、第１の起毛整備手段２０は、線部材４０であっても同様の作用効果が得られる。
【００６１】
さらに、第１の起毛整備手段２０及び第２の起毛整備手段８は、本実施の形態では、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように各１本づつ配設するようにしたが、これはラビングローラ２の基板接触面以外の位置であれば、何本配設しても良い。
【００６２】
尚、本実施の形態でも、第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ２の一対の軸受け２ｄの一方の軸受けに対して揺動自在に配設し、ラビングローラ周面２ｂの上方に移動、離間するようにしたが、これに限らず、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、ラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、どのような配設手段をとっても良い。
【００６３】
また、第１の起毛整備手段２０は、ラビングローラ２のラビングローラ周面２ｂの近傍で、ラビングクロスの起毛部２ｆに接触する位置に、このラビングローラ周面２ｂの回転軸方向に沿うように直線状に配設されるものであれば、固定されていても良い。
【００６４】
さらに、第１の起毛整備手段２０は、ラビングクロスの起毛部２ｆに常に接触するようにしたが、これは、所定の間隔を持って接触させるようにしても良い。
【００６５】
また、ラビングされる基板は、ＴＦＴアレイ基板やその対向基板だけでなく、ＴＦＤを用いた液晶パネルやパッシブの液晶パネル等に用いられる基板に適用できることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図２】ラビングローラに起毛整備手段を配設した斜視図、
【図３】図２の要部拡大断面図、
【図４】本発明の第２実施形態である基板のラビング装置の要部の構成を示した概略斜視図、
【図５】ラビングローラに起毛整備手段を２つ配設した斜視図、
【図６】図５の要部拡大断面図、
【図７】起毛整備手段の他の構成を示した断面図、
【図８】起毛整備手段の更に他の構成を示した断面図。
【符号の説明】
１，１００…ラビング装置、２…ラビングローラ、２ｂ…ラビングローラ周面、２ｆ…ラビングクロスの起毛部、８…起毛整備手段、２０…ブラシ（第１の起毛整備手段）、３０…棒状部材（第１の起毛整備手段）、４０…線部材（第１の起毛整備手段）[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a rubbing device and a rubbing method for a substrate, and more particularly, to a rubbing device and a rubbing method having a rubbing roller whose peripheral surface is formed of a rubbing cloth.
[0002]
[Prior art]
As is well known, a liquid crystal device is configured by sealing liquid crystal between two substrates such as a glass substrate and a quartz substrate. One of the substrates has, for example, a thin film transistor (hereinafter, referred to as a TFT). ) Are arranged in a matrix, and a counter electrode is arranged on the other substrate, and the optical characteristics of the liquid crystal layer sealed between the two substrates are changed according to an image signal, thereby enabling image display.
[0003]
In addition, a TFT substrate on which a TFT is disposed and a counter substrate disposed opposite to the TFT substrate are manufactured separately, and both substrates are bonded with high precision in a panel assembling process and then filled with liquid crystal. It is supposed to be.
[0004]
In the panel assembling step, first, an alignment film for aligning liquid crystal molecules along the substrate surface is formed on the surface of the TFT substrate and the counter substrate, which are manufactured in each substrate manufacturing step, in contact with the liquid crystal layer. This alignment film is formed, for example, by printing polyimide with a thickness of about several tens of nanometers. After that, baking is performed, and further, a rubbing treatment is performed to determine the arrangement of the liquid crystal molecules when no voltage is applied. Next, the TFT substrate and the opposing substrate are opposed to each other, and a seal portion serving as an adhesive is provided on the periphery of one of the substrates. The TFT substrate and the opposing substrate are attached to each other using this seal portion, and pressure-bonded and cured while performing alignment. Then, a method of sealing the liquid crystal through a notch provided in a part of the seal portion is used.
[0005]
Here, the rubbing treatment means that a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on a substrate surface while being rotated at, for example, 500 to 2,000 rpm, and is linearly moved. By forming fine grooves on the film surface to make the alignment film anisotropically oriented, the rubbing process that forms grooves in a certain direction on the alignment film regulates the alignment of liquid crystal molecules. can do.
[0006]
By the way, in the rubbing treatment in which the rubbing roller contacts the alignment film formed on the substrate surface while rotating, the unevenness of the substrate surface is transferred to the raised portion of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface. The rubbing process may be performed due to static electricity generated during the rubbing process, or the raised portion may be disturbed, or dust such as an alignment film generated during the rubbing process may adhere to the rubbing cloth. There is a problem that a portion having a different contact pressure of the rubbing roller is generated on a subsequent substrate, causing uneven alignment, or a rubbing streak due to dust is transferred to an alignment film on the substrate surface.
[0007]
If the unevenness in the orientation is present in a part of the rubbing cloth, for example, when the raised part is disturbed, such as a crack in the hair and the transfer of the uneven shape of the substrate, the contact pressure of the disturbed part with the substrate is increased by another rubbing cloth. Is different from the contact pressure of the raised portion of the substrate, and as a result, a portion having a locally different rubbing strength is generated on the substrate surface.
[0008]
In view of the above problem, in the rubbing device described in Patent Document 1, a conductive rubbing cloth adjusting member having a surface or a hard irregularity, which comes into contact with a raised portion of a rabin cloth during a rubbing process, is provided in the rubbing device. With this arrangement, it is possible to remove turbulence and static electricity generated in the raised portion of the rubbing cloth during the rubbing process, and to remove attached dust.
[0009]
[Patent Document 1]
JP-A-11-7019 [0010]
[Problems to be solved by the invention]
However, in the substrate rubbing device disclosed in Patent Document 1, when a conductive rubbing cloth adjusting member having a surface or hard irregularities comes into contact with the raised portion of the rubbing cloth, the rubbing cloth is not rubbed. There is a possibility that the surface or the hard irregularities may be transferred to the raised portion.
[0011]
The present invention has been made by paying attention to the above circumstances, and its object is to raise the height, direction, and the like of the raised portion of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface without damaging the rubbed cloth during the rubbing process. It is an object of the present invention to provide a rubbing apparatus and a rubbing method for a substrate, which can make the fur of the substrate uniform.
[0012]
Means and Action for Solving the Problems
As one aspect of the substrate rubbing device according to the present invention, a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate, and a rubbing process is performed on the substrate. In addition, a brush raising means is provided near the rubbing roller peripheral surface for uniformly adjusting the brush height, direction, and the like of the raised portion of the rubbing cloth during the rubbing process.
[0013]
According to the rubbing device of the present invention, by providing the raised brush maintenance means for uniformly adjusting the height of the raised portion of the raised portion of the rubbing cloth, the raised direction such as the raised direction uniformly during the rubbing process, in the vicinity of the rubbing roller peripheral surface. The rubbing roller has an effect that the substrate can be rubbed with a uniform contact pressure.
[0014]
Further, the brush raising means in the substrate rubbing device of the present invention is characterized in that the brush height of the raised portion and the direction of the raised portion of the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface is uniformly adjusted by vacuum suction.
[0015]
According to this configuration, the raising brush maintenance unit uniformly adjusts the raising height of the raising portion of the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface and the raising direction such as the raising direction by vacuum suction. This has the effect of preventing uneven rubbing of the substrate due to disturbance of the raised portion.
[0016]
Further, the brush raising means in the substrate rubbing device of the present invention is characterized in that dust adhered to the rubbing cloth on the peripheral surface of the rubbing roller is removed by vacuum suction.
[0017]
According to this configuration, the brush raising maintenance means removes dust adhering to the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface by vacuum suction, and thus prevents rubbing streaks of the substrate due to dust adhering to the rubbing roller peripheral surface during the rubbing process. It has the effect of being able to.
[0018]
In the rubbing device for a substrate according to the present invention, the brush raising means is detachably provided at a position facing a substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller.
[0019]
According to this configuration, the brush raising means is detachably disposed at a position facing the substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller and facing the roller. In addition, the raised portion of the rubbing cloth on the peripheral surface of the rubbing roller can be surely adjusted, and the dust on the peripheral surface of the rubbing roller can be removed.
[0020]
As one mode of the substrate rubbing device of the present invention, a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate to perform a rubbing process. In the rubbing device, during the rubbing process, the first napping maintenance means for contacting the peripheral surface of the rubbing roller and uniformly arranging the brush height, direction and the like of the raised portion of the rubbing cloth, The rubbing device according to the present invention, further comprising: a second raised brush maintenance means that faces the rubbing roller peripheral surface and uniformly adjusts the brush height, direction, and the like of the raised portion of the rubbing cloth. According to the first napping maintenance means for contacting the peripheral surface of the rubbing roller during the rubbing treatment and uniformly adjusting the height of the napping portion of the rubbing cloth, the direction of the napping, and the like. The rubbing is performed by providing a second raised brush maintenance means which faces the rubbing roller peripheral surface and uniformly adjusts the brush height of the raised portion of the rubbing cloth and the direction of the raised brush during the rubbing process. The roller is provided with a raised portion in two stages, and therefore has the effect that the substrate can be rubbed at a uniform contact pressure with a roller having a high raised accuracy.
[0021]
Further, the first raised brush maintenance means in the substrate rubbing device of the present invention is formed of a conductive member, and removes static electricity and dust from the rubbing cloth raised portion, as well as the raised height and direction of the raised portion. It is characterized in that the fur of the hair is uniformly arranged.
[0022]
According to this configuration, since the first raising device is made of a conductive member, the first raising device can remove the dust and the static of the cross raised portion by the electrostatic action during the rubbing process. In addition to being able to adhere to and eliminate static electricity from the conductive member, there is an effect that the raised height and raised direction of the raised portion of the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface can be uniformly adjusted.
[0023]
Furthermore, in the substrate rubbing device of the present invention, the first raising means is configured by a wire member, a rod-shaped member, or a brush.
[0024]
According to this configuration, since the first raising device is constituted by the wire member, the rod-shaped member, or the brush, the dust attached to the peripheral surface of the rubbing roller can be contacted and removed during the rubbing process. There is an effect that the height of the raised portion of the rubbing cloth on the peripheral surface of the rubbing roller, the raised level of the raised portion, and the like can be uniformly adjusted.
[0025]
Further, in the substrate rubbing device of the present invention, the first brush raising maintenance means is detachably provided at a position other than the substrate contact surface of the rubbing roller.
[0026]
According to this configuration, the first brush raising maintenance means is detachably disposed at a position other than the substrate contact surface of the rubbing roller and at a position facing the roller. The raised portion of the rubbing cloth on the peripheral surface of the roller can be adjusted, and the dust on the peripheral surface of the rubbing roller can be removed.
[0027]
Further, the second brush raising maintenance means in the substrate rubbing device of the present invention is characterized in that the brush height of the raised portion and the direction of the raised portion on the peripheral surface of the rubbing roller are uniformly adjusted by vacuum suction.
[0028]
According to this configuration, the second brush raising maintenance means uniformly adjusts the brush height of the raised portion and the brush direction of the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface by vacuum suction. This has the effect of preventing uneven rubbing of the substrate due to disturbance of the raised portion.
[0029]
Further, in the substrate rubbing apparatus according to the present invention, the second raising means removes dust adhered to the peripheral surface of the rubbing roller by vacuum suction.
[0030]
According to this structure, the second brush raising maintenance means removes the dust adhered to the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface by vacuum suction, so that the rubbing stripe of the substrate due to the dust adhered to the rubbing roller peripheral surface during the rubbing process. Can be prevented.
[0031]
In the substrate rubbing device according to the present invention, the second raising means is detachably provided at a position facing a substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller.
[0032]
According to this configuration, the second raised brush maintenance means is detachably disposed at a position facing the substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller and facing the roller. If necessary, the raised portion of the rubbing cloth on the peripheral surface of the rubbing roller can be reliably prepared, and the dust on the peripheral surface of the rubbing roller can be removed.
[0033]
As one aspect of the substrate rubbing method of the present invention, a rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate to perform a rubbing process. In the rubbing method, during the rubbing process, the first brush maintenance means comes into contact with the peripheral surface of the rubbing roller, thereby uniformly adjusting the brush height and direction of the raised portion of the rubbing cloth, and rubbing. During the treatment, the second brush raising maintenance means uniformly adjusts the brush height, direction and the like of the raised portion of the rubbing cloth by vacuum suction from a position facing the peripheral surface of the rubbing roller. It is characterized by.
[0034]
According to the method of rubbing a substrate of the present invention, the rubbing roller has an effect that a rubbing process can be performed on the substrate with a uniform contact pressure.
[0035]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of a substrate rubbing device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a perspective view in which a rubbing roller is provided with a brush raising maintenance means, and FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part of FIG.
[0036]
As shown in FIG. 1, a rubbing device 1 includes a rubbing roller 2 fixed to an upper surface of a base 4 (hereinafter, referred to as a reference plane), and a substrate 3 placed on the rubbing process and moved on the reference plane. The main part is composed of a stage 5 to be moved, a guide 6 for moving the stage 5 on a reference plane 4 so that the substrate 3 placed on the stage 5 is pressed against the rubbing roller 2, and a brush raising means 8. ing.
[0037]
The rubbing roller 2 includes a roller portion 2a having a roller peripheral surface 2b formed by a raised portion 2f of a rubbing cloth, and a roller shaft 2c. The roller shaft 2c is formed by a pair of bearings 2d on the reference plane. 4 is rotatably supported on a plane parallel to 4. The pair of bearings 2d have a height adjusting mechanism (not shown) with respect to the reference plane, and can adjust the roller shaft 2c to an arbitrary height with respect to the reference plane. The roller shaft 2c is driven to rotate by a drive source 7 such as a motor.
[0038]
The rubbing roller 2 configured as described above contacts the alignment film formed on the surface of the substrate 3 while rotating in one direction around the roller shaft 2c supported by the bearing 2d, for example, at 500 to 2000 rpm. In step 3, fine grooves are formed on the surface of the alignment film to make the alignment film anisotropic.
[0039]
The brush raising means 8 is constituted by a vacuum suction device, and the vacuum suction device 8 is located at a position other than the substrate contact surface of the rubbing roller 2, that is, as shown in FIG. The rubbing roller peripheral surface 2b is disposed along a rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b at a position where the rubbing cloth does not contact the raised portion 2f of the rubbing cloth. The vacuum suction device 8 is detachably attached to, for example, a pair of bearings 2d of the rubbing roller 2. That is, the suction device 8 is formed in an elongated rod shape having a suction hole 8a on the lower surface and having a channel-shaped cross section, and one end 2e of the suction device 8 is swingable by one of the pair of bearings 2d. The rubbing roller is mounted so as to move above and separate from the rubbing roller peripheral surface 2b.
[0040]
When the other end of the suction device 8 is mounted and fixed to the other bearing, the suction device 8 is provided with a vacuum suction hole 8a at a position facing the rubbing roller peripheral surface 2b, close to the raised portion 2f. As shown in FIG. 3, at the time of startup, the raised portion 2f of the rotating rubbing roller peripheral surface 2b during the rubbing process is constantly, for example, -20 kPa by the vacuum suction pump 9 through the vacuum suction hole 8a. Vacuum suction is performed below.
[0041]
In the substrate rubbing device 1 according to the first embodiment of the present invention having the above-described configuration, the vacuum suction device 8 provided in the rubbing device 1 constantly sucks vacuum during the rubbing process through the vacuum suction hole 8a. The raised portion 2f is uniformly sucked in the direction of the vacuum suction hole 8a, so that the rubbing cloth raised by the rubbing roller peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 rubbing the substrate 3. It is possible to prevent irregularities in the fur level such as the raised height and the raised direction of the portion 2f, and to prevent dust such as an alignment film generated during the rubbing process from adhering to the rubbing roller peripheral surface 2b.
[0042]
More specifically, the vacuum suction device 8 serving as a brush raising maintenance means is provided with irregularities on the surface of the substrate 3 transferred to the raised portion 2f of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface 2b, or cracks at the bristle tip, brush height, brush raising. By arranging the fur in the direction and the like uniformly by vacuum suction, it is possible to prevent uneven rubbing of the substrate after the rubbing treatment due to disorder of the raised portion 2f of the rubbing cloth.
[0043]
Further, since the vacuum suction device 8 removes dust adhered to the rubbing roller peripheral surface 2b by vacuum suction, it is possible to prevent rubbing stripes due to dust transferred to the alignment film on the substrate surface after the rubbing process.
[0044]
Furthermore, since the vacuum suction device 8 does not contact the raised portion 2f of the rubbing roller, it does not damage the raised portion 2f of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface 2b.
[0045]
In the present embodiment, one end 2e of the vacuum suction device 8 as a brush raising maintenance means is swingably attached to one of a pair of bearings 2d of the rubbing roller 2, and the other end is connected to the other. The suction device 8 is disposed above the rubbing roller peripheral surface 2b so as to move and separate from the rubbing roller peripheral surface 2b, but is not limited thereto. Any arranging means may be used as long as the rubbing roller is linearly arranged in the vicinity of the rubbing cloth at a position not in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. Needless to say.
[0046]
Further, the vacuum suction device 8 serving as a brush raising maintenance means is disposed near the rubbing roller peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 at a position not in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth so as to be along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. May be fixed as long as they are arranged in a straight line.
[0047]
Further, the vacuum suction device 8 as a brush raising maintenance means is arranged such that the vacuum suction holes 8a are linearly arranged along the rotation axis 2c of the rubbing roller at a position facing the rubbing roller peripheral surface 2b. Needless to say, the suction hole 8a may be formed at any position or in any shape as long as the suction hole 8a faces the rubbing roller peripheral surface 2b.
[0048]
In addition, suction of the raised portion 2f of the rubbing cloth is performed, for example, by vacuum suction under a condition of −20 kPa or less, but is not limited thereto. May be used.
[0049]
Further, the vacuum suction device 8 is configured to always perform vacuum suction during the rubbing process. However, it is needless to say that the vacuum suction device 8 may perform suction at predetermined intervals.
[0050]
Further, in the present embodiment, the vacuum suction device 8 is provided with one linear device along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. Any number may be provided as long as they are located.
[0051]
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of a substrate rubbing device according to a second embodiment of the present invention. FIG. 5 is a perspective view showing that napping maintenance means is provided on a rubbing roller. FIG. 6 is an enlarged sectional view of a main part of FIG.
[0052]
The configuration of the substrate rubbing device of the second embodiment is almost the same as the configuration of the substrate rubbing device of the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3, but in the second embodiment, In addition to the brush raising maintenance means by suction (second brush raising maintenance means), a brush raising maintenance means which constantly comes into contact with the peripheral surface of the rubbing roller during the rubbing treatment to uniformly adjust the brush raising of the rubbing cloth is further provided. The only difference is the setting. Therefore, only this difference will be described, and the same components as those of the substrate rubbing device of the first embodiment will be denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.
[0053]
As shown in FIG. 4, in the rubbing device 100, in addition to the above-described vacuum suction device 8 as the brush raising maintenance means, a first brush raising maintenance means 20 formed of, for example, a brush of a conductive member is provided. I have. As shown in FIG. 5, the first raised brush maintenance means 20 is arranged side by side with respect to the rotation direction of the rubbing roller 2 with respect to the rotation direction of the rubbing roller 2 with respect to the suction device 8 as the second raised brush maintenance means. I have. That is, the rubbing roller peripheral surface 2b is located at a position other than the substrate contact surface of the rubbing roller 2, for example, as shown in FIG. 4, above the vicinity of the rubbing roller peripheral surface 2b and in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth. They are arranged linearly along the direction of the rotation axis.
[0054]
Like the second raised brush maintenance means 8, the first raised brush maintenance means 20 has, for example, one end portion 20e swingably attached to one bearing of a pair of bearings 2d of the rubbing roller 2, and the other end. The portion is removably mounted and fixed to the other bearing, and is moved above and separated from the rubbing roller peripheral surface 2b.
[0055]
In the first raising brush maintenance means 20, a plurality of brushes 20a are linearly arranged along the rotation shaft 2c of the rubbing roller at a position facing the rubbing roller peripheral surface 2b, as shown in FIG. The plurality of brushes 20a are always in contact with the raised portion 2f of the rubbing roller peripheral surface 2b which rotates during the rubbing process.
[0056]
In the rubbing device 100 for a substrate according to the second embodiment of the present invention configured as described above, the rubbing roller peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 has a raised portion 2f of the rubbing cloth generated by rubbing the substrate 3. The rubbing device 100 is provided with turbulence and the turbulence of the raised portion 2f due to static electricity generated during the rubbing process, or adhesion of dust such as an alignment film generated during the rubbing process to the rubbing roller peripheral surface 2b. This can be prevented by the first raising control means 20 being constantly in contact during the rubbing process.
[0057]
Further, in the substrate rubbing device 100 of the present embodiment, the first brushed maintenance means 20 is provided together with the first brushed maintenance means 20, and the second brushed maintenance means 8 by vacuum suction is provided. Since the flared portion 2f that has not been completely repaired can be prevented from being disturbed by the second raised brush maintenance means, the flared portion 2f of the rubbing cloth can be more effectively prevented from being disturbed.
[0058]
Further, even if the first raised maintenance means 20 causes the raised portion 2f of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface 2b to be disturbed, the second raised maintenance means 8 will Since the turbulence can be adjusted evenly, even if the first raised brush maintenance means 20 in contact with the raised portion 2f is used, the raised portion 2f of the rubbing cloth forming the rubbing roller peripheral surface 2b will not be damaged.
[0059]
Note that, in the present embodiment, the brush raising 20a is used as the first raising maintenance means 20, but the present invention is not limited to this, and the same effect can be obtained by using the rod 30 as shown in FIG. Of course.
[0060]
Also, as shown in FIG. 8, the first brushing maintenance means 20 can obtain the same operation and effect even when the first brushing maintenance means 20 is the wire member 40.
[0061]
Further, in the present embodiment, the first raised brush maintenance means 20 and the second raised brush maintenance means 8 are arranged one by one so as to be along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. Any number of the rubbing rollers 2 may be provided at positions other than the substrate contact surface.
[0062]
Also in the present embodiment, the first raised brush maintenance means 20 is disposed so as to be swingable with respect to one of the pair of bearings 2d of the rubbing roller 2, and moves above the rubbing roller peripheral surface 2b. The rubbing roller 2 is separated from the rubbing roller 2 at a position near the rubbing roller peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 so as to be in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. Any arrangement means may be used as long as they are arranged in a straight line.
[0063]
Further, the first raising brush maintenance means 20 is provided near the rubbing roller peripheral surface 2b of the rubbing roller 2 at a position in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth so as to be along the rotation axis direction of the rubbing roller peripheral surface 2b. If they are arranged in a straight line, they may be fixed.
[0064]
Further, the first raised brush maintenance means 20 is always in contact with the raised portion 2f of the rubbing cloth. However, the first raised maintenance means 20 may be in contact with a predetermined interval.
[0065]
The substrate to be rubbed can be applied not only to a TFT array substrate and its counter substrate but also to a substrate used for a liquid crystal panel using TFD, a passive liquid crystal panel, or the like.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of a substrate rubbing apparatus according to a first embodiment of the present invention;
FIG. 2 is a perspective view of a rubbing roller provided with brush raising maintenance means.
FIG. 3 is an enlarged sectional view of a main part of FIG. 2;
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a configuration of a main part of a substrate rubbing apparatus according to a second embodiment of the present invention;
FIG. 5 is a perspective view of two rubbing rollers provided on a rubbing roller.
FIG. 6 is an enlarged sectional view of a main part of FIG. 5;
FIG. 7 is a cross-sectional view showing another configuration of the raised brush maintenance means;
FIG. 8 is a cross-sectional view showing still another configuration of the brush raising maintenance means.
[Explanation of symbols]
1, 100 rubbing device, 2 rubbing roller, 2b rubbing roller peripheral surface, 2f rubbing cloth raised portion, 8 brushed maintenance means, 20 brush (first brushed maintenance means), 30 rod-shaped member ( First brushing maintenance means), 40 ... wire member (first brushing maintenance means)

Claims (12)

ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す基板のラビング装置において、
上記ラビングローラ周面に近接して、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みをラビング処理中に均一に整える起毛整備手段を配設したことを特徴とする基板のラビング装置。A rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate, and in a substrate rubbing device for performing a rubbing process,
A rubbing apparatus for a substrate, further comprising a raising maintenance means for uniformly adjusting the height of hair, the direction, and the like of the raised portion of the rubbing cloth during the rubbing process, in the vicinity of the peripheral surface of the rubbing roller. 上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。2. The substrate rubbing device according to claim 1, wherein the brush raising maintenance means uniformly adjusts the height and direction of the raised portion of the raised portion of the rubbing cloth on the rubbing roller peripheral surface by vacuum suction. 上記起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の上記ラビングクロスに付着した塵埃を除去することを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。2. The substrate rubbing apparatus according to claim 1, wherein the brush raising means removes dust attached to the rubbing cloth on the peripheral surface of the rubbing roller by vacuum suction. 上記起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項１に記載の基板のラビング装置。2. The substrate rubbing device according to claim 1, wherein the brush raising means is detachably provided at a position facing a substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller. ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング装置において、
ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に接触し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第１の起毛整備手段と、
ラビング処理中に、上記ラビングローラ周面に対向し、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える第２の起毛整備手段と、
を配設したことを特徴とする基板のラビング装置。A rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate, and a rubbing device for a substrate in an electro-optical device that performs a rubbing process.
During the rubbing treatment, the first napping maintenance means for making uniform contact with the rubbing roller peripheral surface and uniformly arranging the napping height, direction and the like of the napping portion of the rubbing cloth,
During the rubbing process, facing the rubbing roller peripheral surface, the second napping maintenance means for uniformly arranging the napping height, direction and the like of the napping portion of the rubbing cloth,
A rubbing device for a substrate, comprising: 上記第１の起毛整備手段は、導電性部材で構成されており、上記ラビングクロス起毛部の静電気及び塵埃の除去、並びに前記起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。The first raised brush maintenance means is made of a conductive member, and removes static electricity and dust from the rubbing cloth raised portion, and uniformly adjusts the raised hair height and direction of the raised portion. The substrate rubbing device according to claim 5, wherein 上記第１起毛整備手段は、線部材、または棒状部材、あるいはブラシで構成されていることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。6. The rubbing device for a substrate according to claim 5, wherein the first raising device is constituted by a wire member, a rod-shaped member, or a brush. 上記第１の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。6. The rubbing device for a substrate according to claim 5, wherein the first raising device is detachably disposed at a position other than the substrate contact surface of the rubbing roller. 上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面の起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整えることを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。The substrate rubbing device according to claim 5, wherein the second brush raising maintenance means uniformly adjusts the brush height, direction, and the like of the raised portion of the rubbing roller peripheral surface by vacuum suction. 上記第２の起毛整備手段は、真空吸引により上記ラビングローラ周面に付着した塵埃を除去することを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。6. The substrate rubbing device according to claim 5, wherein the second raising device removes dust adhered to a peripheral surface of the rubbing roller by vacuum suction. 上記第２の起毛整備手段は、上記ラビングローラの基板接触面以外の基板接触面に対向する位置に着脱自在に配設したことを特徴とする請求項５に記載の基板のラビング装置。6. The rubbing device for a substrate according to claim 5, wherein the second raising device is detachably provided at a position facing a substrate contact surface other than the substrate contact surface of the rubbing roller. ラビングクロスで周面が形成されたラビングローラを、基板上に形成された配向膜に接触させて、ラビング処理を施す電気光学装置における基板のラビング方法において、
ラビング処理中に、第１の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に接触することにより、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、
ラビング処理中に、第２の起毛整備手段が上記ラビングローラ周面に対向する位置から真空吸引により、上記ラビングクロスの起毛部の起毛高さ、方向等の毛並みを均一に整える工程と、
を具備したことを特徴とする基板のラビング方法。A rubbing roller having a peripheral surface formed by a rubbing cloth is brought into contact with an alignment film formed on the substrate, and a rubbing method for a substrate in an electro-optical device that performs a rubbing process.
During the rubbing process, the first raising device is brought into contact with the peripheral surface of the rubbing roller, so that the height of the raised portion of the rubbing cloth, the level of the raised portion, and the like are uniformly adjusted.
During the rubbing process, the second brushing maintenance means uniformly adjusts the bristle height, direction, etc. of the raised portion of the rubbed cloth by vacuum suction from a position facing the rubbing roller peripheral surface,
A rubbing method for a substrate, comprising:
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010507837A (en) * 2008-01-30 2010-03-11 ネックスコム グローバル カンパニー リミテッド Rubbing cloth defect removal device
KR101154543B1 (en) * 2010-01-20 2012-06-13 주식회사 영도벨벳 Brushing device for rubbing cloth
JP5250161B1 (en) * 2013-03-08 2013-07-31 妙中パイル織物株式会社 Cleaning device for rubbing cloth

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