JP2004185169A - レイノズル数を用いた圧力式流量制御方法及びCd−Re関係測定方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明に係るレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法は、レイノルズ数(Re)と流出係数(Cd)の関係を求めておき、コントロールバルブを開度Vに調節したときに流体圧力Pと流体温度Tを検出し、この流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reと理論流量Qthを演算し、このレイノズル数Reから前記Cd−Re関係を用いて流出係数Cdを導出し、この流出係数Cdと前記理論流量Qthから演算流量QcをQc=Cd×Qthとして算出し、この演算流量Qcと前記設定流量Qsとの差をゼロに接近させるようにコントロールバルブの開度Vを調節して絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御する方法である。コンピュータ制御によりほぼ瞬時に流量を設定流量Qsに制御できる。
【選択図】 図4
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は主として半導体製造設備や化学プラント等で使用される圧力式流量制御方法に関し、更に詳細には、オリフィスやノズル等の絞り部材形状と流体条件(流体の種類・圧力・温度など)に依存するレイノズル数Reと流出係数Cdの関係を利用して、絞り部材を通過する流体流量を所望の設定流量に制御する圧力式流量制御方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体製造設備や化学プラントなどでは、原料となる複数のガスを所定の流量で供給し、これらの原料ガスを反応室の中で化学反応させて目的ガスを生成する場合が多い。このような場合に、原料ガスの供給流量が正確でないと化学反応に過不足が生じ、目的ガスの中に原料ガスが残留する事態が生じる。特に、残留ガスが引火性の場合には爆発の危険性がある。
【0003】
従来、ガス流量を正確に制御するために、配管内に絞り部材を配置し、この絞り部材を通過する理論流量として出来るだけ精度の良い流量式が選択されてきた。特に、流量制御の容易性から、絞り部材を通過するガス流の流速を音速領域に設定する音速条件での流量制御方法が利用されている。
【0004】
この音速条件とは、絞り部材の上流側圧力Pと下流側圧力Pdの圧力比Pd/Pを約0.5の臨界値より小さくしたとき、絞り部材を通過するガスの流速が音速に到達することである。音速条件下では、絞り部材を通過する流体の理論流量Qは上流側の流体条件にのみ依存し、下流側の流体条件に依存しないことが分かっている。そこで、流体を音速条件に設定して、上流側の流体条件だけを操作して流体を流量制御する方法が開発されつつある。
【0005】
特許第2837112号では、流体の絞り部材としてノズルを用いて、流体を音速条件下で流量制御する方法が開示されている。この意味で、この特許公報では、このノズルを音速ノズルと称している。
【0006】
音速ノズルから流出する流体の流速は音速cであり、流体密度をρ、音速ノズルのスロート部(最小部)の断面積をSとすると、理論流量QthはQth=ρ・c・Sで与えられる。音速条件が成立しているから、流体密度ρと音速cは上流側の流体圧力P、流体温度Tにのみ依存し、また断面積Sは音速ノズルの形状にのみ依存する。
【0007】
流体密度ρ及び音速cはρ=ρ(P,T)及びc=c(P,T)として書くことができ、これらの関数形が分かっているから、流体圧力Pと流体温度Tを測定できれば、理論流量QthはQth=ρ・c・Sにより演算して求めることができる。
【0008】
しかし、実際の流量Qは理論流量Qthから多少ずれることが知られている。音速ノズルを通過するときに流体は縮流するから、流体流の断面積Aは音速ノズルの最小断面積Sより小さくなる。そこで、実際の流量Qと理論流量Qthの比をCdで表すと、Q/Qth=Cdとなり、このCdを流出係数と呼んでいる。
【0009】
一般に、流体の流れはレイノズル数Reによって評価され、レイノズル数Reが同じであれば流体は相似状態にあると考えられる。このことはレイノズル数Reが同じ流体では、その流出係数Cdも同じであると考えられる。そこで、レイノズル数Reと流出係数Cdの関係、即ちCd=Cd(Re)の関係曲線を実験によって求めることが、前述した特許第2837112号によって行われた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】
音速ノズルの上流側における流体圧力Pと流体温度Tを測定し、そのときの下流側の実際の流量Qを同時に測定する。流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reを算出し、理論流量Qthと実流量Qの比率から流出係数Cdを算出し、この操作を次々に行ってCd−Re関係が実験的に測定された。
【0011】
このCd−Re関係が測定されると、実際の流体流に対し、流量制御が次のように行われると前記特許公報には記載されている。実際の流量制御において、上流側における流体圧力Pと流体温度Tを測定し、これらの値P、Tを用いて理論流量QthをQth=ρ・c・Sによって計算する。そしてレイノズル数Reを算出し、Cd−Re関係から対応する流出係数Cdを求める。このとき、実際の流量QはQ=Cd・Qthによって測定されるというものである。
【0012】
しかし、この方法では、音速ノズルを通過している実際の流量Qが導出されるだけで、流体の流量を目的とする設定流量Qsにどのように制御するかということには全く触れていない。言い換えれば、この特許公報のどの部分にも、音速ノズルを通過する流量Qをどのような操作で外部から設定入力された目的値である設定流量Qsに制御するかということは全く記載されていないのである。
【0013】
半導体製造プロセスや化学物質合成プロセスでは、原料ガスを目的とする流量Qsに制御し、この流量制御された原料ガスを後段の反応装置に供給して、過不足無く目的物質を製造することが必須の課題となっている。
【0014】
しかしながら、この特許公報に示される方法では、上流側の流体圧力Pと流体温度Tを測定することにより、現在、音速ノズルを通過している流量Qはこのような値になっているということを主張できるだけである。このままでは、有意義なCd−Re関係を求めた実質的な意味が無くなってしまうと考えられる。
【0015】
従って、本発明は、音速ノズルなどの絞り部材を利用した流量制御方法において、Cd−Re関係を用いて流体流量を目的値である設定流量に制御する具体的方法を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために為されたものであり、第1の発明は、流量制御用の絞り部材と、絞り部材の上流側配管に設けられたコントロールバルブと、絞り部材とコントロールバルブの間に設けられて上流側の流体圧力Pを検出する圧力センサと流体温度Tを検出する温度センサを有して、コントロールバルブにより流体圧力Pを調節して絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御する音速条件を利用した圧力式流量制御方法において、絞り孔の形状及び流体条件に基づくレイノルズ数(Re)と流出係数(Cd)の関係を求めておき、コントロールバルブを開度Vに調節したときに流体圧力Pと流体温度Tを検出し、この流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reと理論流量Qthを演算し、このレイノズル数Reから前記Cd−Re関係を用いて流出係数Cdを導出し、この流出係数Cdと前記理論流量Qthから演算流量QcをQc=Cd×Qthとして算出し、この演算流量Qcと前記設定流量Qsとの差をゼロに接近させるようにコントロールバルブの開度Vを調節することにより絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御するレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法である。この方法では、コントロールバルブをある開度Vに開放してその状態での演算流量Qcを導出し、この演算流量Qcと設定流量Qsとの差を算出し、この流量差をゼロにする方向にコントロールバルブの開度Vを大小調節して、再び同じ演算を繰り返しながら演算流量Qcを設定流量Qsに一致するまで制御する方式である。従って、コンピュータ制御によりほぼ瞬時に絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御することができ、設定流量Qsが変化した場合にも直ちに追随して流量制御することが可能となる。
【0017】
第2の発明は、コントロールバルブの開度調節により、演算流量Qcと設定流量Qsの差が微小流量ΔQより小さくなったときに絞り部材通過流量は設定流量Qsに制御されたと判断するレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法である。コンピュータ制御する場合には、演算流量Qcが設定流量Qsと数値的に完全に一致することは無いから、演算流量Qcと設定流量Qsとの差、即ち、Qc−Qs又はQs−Qcの値が微小流量値ΔQより小さければ実質上一致したと判断することを主張している。このΔQの値は制御精度によって自在に決めることができ、粗制御ではΔQは大きく設定され、また精密制御ではΔQは極めて小さく設定される。このように、この方法を用いれば粗から精密に至る流量制御を自在に行うことが可能となる。
【0018】
第3の発明は、コントロールバルブの開度Vが微小開度ΔVを単位として調節されるレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法である。演算流量Qcと設定流量Qsが不一致であると、コントロールバルブの開度を大小制御して演算流量Qcを設定流量Qsに接近させる。この演算過程はコンピュータにより高速演算できるから、微小開度ΔVを任意の値に置いても、反復制御により直ちに設定流量Qsに流量制御することができる。しかも、微小開度ΔVを小さくすると、演算流量Qcを細かく制御できるから、流量の高精度制御が可能となる。
【0019】
第4の発明は、流量制御用の絞り部材と、絞り部材の上流側配管に設けられたコントロールバルブと、絞り部材とコントロールバルブの間に設けられて上流側の流体圧力Pを検出する圧力センサと流体温度Tを検出する温度センサと、下流側配管に設けられて絞り部材通過流量を計測する流量計を有して、音速条件において流量を計測する流量測定装置を使用し、コントロールバルブを開度Vに調節した状態で、流体圧力P、流体温度T及び絞り部材通過流量Qを測定し、流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reと理論流量Qthを演算し、絞り部材通過流量Qと理論流量Qthから流出係数CdをCd=Q/Qthにより導出してCd−Re関係を出力し、前記コントロールバルブの開度Vを微小開度ΔVだけ変化させながらレイノズル数Reと流出係数Cdの対応関係を次々と導出するCd−Re関係の測定方法である。前記した特許公報2837112号には、連続的にCd−Re関係を導出する方法が全く記載されていない。そこで、本発明で使用されるCd−Re関係を細かく導出するために、この第4の発明が提案されている。コントロールバルブの開度Vを大きくすると、上流側の流体圧力Pは増大し、その結果レイノズル数Reを可変することができる。コンピュータ制御により、コントロールバルブを微小開度ΔVだけ変化させながらレイノズル数Reを微小変化させてCd−Re関係を次々に導出し、広範囲のレイノズル数に対し流出係数Cdを測定することができる方法を与える。このCd−Re関係をコンピュータに記憶させると、第1から第3までの発明をコンピュータ制御により実現することが可能となる。
【0020】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明に係るレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法及びCd−Re関係測定方法の実施形態を添付する図面に従って詳細に説明する。
【0021】
本発明に用いられる絞り部材とは内部に絞り孔を形成された部材で、流体の流れを絞りながらその流量を制御して流体流を下流側に供給する部材である。この絞り部材には、平板にオリフィス孔を形成したオリフィス、ノズル孔を内部に形成したノズル、ベンチュリ管などの流体素子が含まれる。
【0022】
図1は本発明に用いられる絞り部材14の概略説明図である。この絞り部材14には内部に絞り孔14aが穿設されており、この絞り孔14aの最小断面直径Dを絞り孔断面直径と呼び、その最小断面積Sを絞り孔断面積と云う。絞り孔14aは流出方向に向かって拡径して形成されている。しかし、絞り孔14aの形状は任意形状であってよく、絞り孔断面直径Dと絞り孔断面積Sが重要な因子となる。
【0023】
上流側の流体圧力Pと下流側の流体圧力Pdが与えられたとき、その圧力比Pd/Pが臨界値(通常ガスの場合は約0.5)より小さい場合に、絞り孔14aを流れる流体の流速は音速cになることが知られている。本発明では、この条件を音速条件と呼んでいる。
【0024】
一般に、音速cはc=(gnRT)1/2で与えられ、T1/2に比例することが知られている。従って、音速cの値は流体の種類や温度などの流体条件に依存している。
【0025】
流体が絞り孔14aの中を点線矢印a方向に進入すると、流体は管路の内面から次第に剥離しながら進行する。この剥離部分を境界層と呼び、この境界層は次第に発達するから、絞り孔14aを出た段階で、流体流の流通断面積Aは絞り孔断面積Sより小さくなるのが通常である。
【0026】
音速条件下において下流側に供給される理論流量Qthは、流体密度ρ、音速c及び絞り孔断面積Sを用いて、Qth=ρ・c・Sで表される。このQthは密度ρと音速cは流体の種類が決まれば、圧力Pと温度Tに依存する量であるから、ρ=ρ(P,T)及びc=c(P,T)が成立し、理論流量QthはQth=Qth(P,T)と表すことができる。
【0027】
しかし、実際の流量QはQ=ρ・c・Aであるから、実流量Qは理論流量Qthより小さいのが通常である。つまり、Q<Qthが成立している。この主たる原因は境界層の発達による縮流現象であり、A<Sが成立しているからである。
【0028】
従って、圧力Pと温度Tを測定すれば理論流量Qthは演算により計算でき、他方、実流量Qを実測すれば、その比率CdはCd=Q/Qthによって導出することができる。この比率Cdを流出係数と称している。
【0029】
一般に、流体力学では、レイノズル数Reが同一である複数の流体は流体力学的に相似であると云う。つまり、レイノズル数Reが同一の流体では流出係数Cdも同一であると考えられる。つまり、流出係数Cdとレイノズル数Reは一対一の対応関係にある。
【0030】
図2は流出係数Cdとレイノズル数Reの関係曲線図である。前述した特許第2837112号公報により、このCd−Re対応関係が測定された。レイノズル数Reが小さい領域では流出係数CdはReにかなり依存して変化するが、レイノズル数Reが大きくなると、流出係数Cdはほぼ一定値に到達する。
【0031】
音速条件では、レイノズル数ReはRe=c・D/νで与えられる。cは音速、Dは絞り孔断面直径、νは動粘性係数である。動粘性係数νは粘性係数μと密度ρを用いてν=μ/ρで与えられる。従って、絞り部材14と流体の種類が決まれば、c=c(T)及びν=ν(P,T)より、Re=Re(P,T)と表記できる。つまり、圧力Pと温度Tが決まれば、レイノズル数Reは算出することができる。このレイノズル数Reを別の観点から考えると、Re∝慣性力/粘性力と考えてもよい。
【0032】
従って、Cd−Re関係の挙動は次のように考えられる。レイノズル数Reが小さい場合には、流体の粘性力が慣性力よりも大きく作用して境界層の発達が著しいが、レイノズル数Reが大きくなると、粘性力よりも慣性力が強く作用するため、境界層の発達が途中で停止して、ほぼ一定値になると考えられる。これは推論に過ぎないことを付記しておく。
【0033】
図3は本発明に用いられる圧力式流量制御装置2の構成図である。この圧力式流量制御装置2は、供給側連結部5を介して供給側配管6と流体供給源4に接続され、また流出側連結部7を介して流出側配管8に接続されている。
【0034】
流出側配管8には反応室10と真空ポンプ12が接続されている。真空ポンプ12により下流側の流体圧力Pdが小さく設定され、その結果、Pd/P<約0.5の音速条件が達成されている。
【0035】
流体供給源4からH2やO2等の原料ガスが供給され、圧力式流量制御装置2により下流側に設定流量Qsに制御された原料ガスが供給される。この原料ガスは反応室10に供給され、例えばH2やO2から高純度のH2Oが生成され、真空ポンプ12により後段の装置に生成ガスが矢印b方向へと供給される。
【0036】
圧力式流量制御装置2は原料ガス流体を設定流量Qsに自動制御する装置である。絞り部材14の上流側配管16にはコントロールバルブ20が配置され、絞り部材14の下流側配管18は流出側配管8に接続されている。コントロールバルブ20は駆動部22に連結され、駆動部22によりコントロールバルブ20の開度が自動制御される。
【0037】
上流側配管16には圧力センサ24と温度センサ26が配置され、上流側における流体の圧力Pと温度Tを測定する。圧力信号と温度信号はA/Dコンバータ28、30を介して入出力ポート30に入力される。また、制御回路32により演算された開度信号は入出力ポート34から駆動部22に出力され、コントロールバルブ20を開度制御して下流側に設定流量Qsの原料ガス流体を供給する。
【0038】
制御回路32は入出力ポート34、RAM36、CPU38及びROM40から構成され、ROM40の中にCd−Reメモリ部42が含まれている。このCd−Reメモリ部42には前述したCd−Re関係データが記憶されている。
【0039】
外部からは反応室10に送られる原料ガスの設定流量Qsが入出力ポート34に入力される。他方、上流側流体の圧力Pと温度Tが計測され、これらのデータから制御回路32により実流量に相当する演算流量Qcが演算され、この演算流量Qcを設定流量Qsに一致させるように開度信号が駆動部22に出力される。この開度信号によりコントロールバルブ20の開度が調節され、絞り部材14から下流側に設定流量Qsの原料ガスを供給する。
【0040】
図4は本発明に係るレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法の実施形態を示す具体的フロー図である。ステップn1では、設定流量Qsが入力され、ステップn2ではコントロールバルブ20の開度Vとして初期開度V0が入力される。
【0041】
同時に、ステップn2では、コンピュータ演算に必要な微小開度ΔVと微小流量ΔQが入力される。微小開度ΔVはコントロールバルブ20の開度Vを開閉制御する最小単位を意味し、また微小流量ΔQは絞り部材14から流出する流量Qを制御する最小単位を意味している。
【0042】
ステップn3では、上流側の流体圧力Pと流体温度Tが測定される。ステップn4では、これらの流体圧力Pと流体温度Tを用いて、レイノズル数Reと理論流量Qthが前述した計算式、Re=Re(P,T)及びQth=Qth(P,T)を用いて計算される。
【0043】
ステップn5では、計算されたレイノズル数Reに対応する流出係数CdがCd−Reメモリ部42からピックアップされる。Cd−Reメモリ部42に格納されるCd−Re関係データは連続データではないから、演算されたレイノズル数Reに一致しないこともある。この場合には公知の外挿法や内挿法を用いて対応する流出係数Cdを算出することもできる。
【0044】
ステップn6では、流出係数Cdと理論流量Qthから、演算流量QcがQc=Cd×Qthから導出される。この演算流量Qcは実際に下流側に供給されている実流量Qに等しいと推定される。
【0045】
ステップn7では、演算流量Qcが設定流量Qsに微小流量ΔQの範囲内で一致しているかどうかが判断される。即ち、演算流量Qcと設定流量Qsの流量差Qc−Qsの絶対値がΔQ以下であれば、ステップn11において演算流量Qcが流量制御されたと判断し、流量制御を終了する。
【0046】
もし、流量差Qc−Qsの絶対値がΔQより大きければ流量制御を続行するため、ステップn8に進行する。Qc−Qs<0であれば、Qc<Qsであるから、流量を増加するため流体圧力Pを大きくする必要がある。従って、ステップn10により、開度VをΔVだけ増加して再びステップn3にフィードバックされる。
【0047】
Qc−Qs>0であれば、Qc>Qsであるから、流量を減少するため流体圧力Pを小さくする必要がある。従って、ステップn9により、開度VをΔVだけ減少して再びステップn3にフィードバックされる。
【0048】
この制御フローでは、演算流量Qcが設定流量QsにΔQの誤差内で一致するまで演算が繰り返し行われる。コンピュータ制御によって行われるから、演算流量Qcが設定流量Qsに収束するのはほぼ瞬時である。
【0049】
微小開度ΔVと微小流量ΔQを大きく初期設定すれば粗制御になり、また微小開度ΔVと微小流量ΔQを小さく初期設定すれば精密制御が可能である。この微小開度ΔVと微小流量ΔQを初めは大きく設定して粗制御を行い、かなり接近した段階で精密制御に切り換えるフローにしてもよい。この切り換えを多段階で行うことによって効率的な制御を実現できる。
【0050】
図5は本発明に用いられるCd−Re関係曲線を計測するためのCd−Re測定装置1の構成図である。前述した特許公報にはCd−Re関係曲線を連続的に精密測定する方法が記載されていないため、本発明者によって新たに開発された方法がこのによって実現される。
【0051】
このCd−Re測定装置1は、前述した圧力式流量制御装置2に、下流側圧力センサ27とそのA/Dコンバータ31、及び流量計11とそのA/Dコンバータ33を付加して構成されており、設定流量Qsの入力装置は不要であるため取り外されている。
【0052】
下流側圧力Pdは下流側圧力センサ27により計測され、A/Dコンバータ31を介して下流側圧力信号が入出力ポート34に入力される。また、下流側に供給された流体の実流量Qは流量計11により計測され、A/Dコンバータ33を介して実流量信号が入出力ポート34に入力される。他の部材の作用効果は既に図3の説明で述べたから、その詳細は省略する。
【0053】
図6は本発明に用いられるCd−Re関係曲線を測定する具体的フロー図である。このフローにおいて使用される物理量は前記Cd−Re測定装置1により計測されるものである。
【0054】
ステップm1では、音速条件(Sonic Flow Condition)が設定されている。下流側圧力Pdと上流側圧力Pの比率が臨界値である約0.5より小さいこと、即ちPd/P<約0.5がこの実験の前提条件となる。この音速条件は、下流側に真空ポンプ12が配置され、この真空ポンプ12により下流側ガスを強制的に吸引することによって実現される。
【0055】
ステップm2では、コントロールバルブ20の開度Vが初期開度V0に設定され、開度の刻み幅ΔVと最大開度Vmaxが初期設定される。刻み幅ΔVを小さくすると精密測定が可能になり、初期開度V0を小さくし、且つ最大開度Vmaxを大きくすると広範囲のCd−Re測定が可能になる。
【0056】
ステップm3では、流体温度T、上流側圧力P、下流側圧力Pd及び実流量Qが測定される。下流側圧力Pdが測定される理由は、Pd/P<約0.5が保持されているかどうか、即ち音速条件が満足されているかどうかを常時観察するためである。もし音速条件が満足されていない場合には強力な真空ポンプ12に交換する必要がある。
【0057】
ステップm4では、レイノズル数Reと理論流量Qthが流体温度Tと上流側の流体圧力Pを用いて計算される。レイノズル数Reの表式はRe=c・D/νであり、Re=Re(P,T)として計算される。また、理論流量Qthの表式はQth=ρ・c・Sであるが、Qth=Qth(P,T)として計算される。
【0058】
ステップm5では、実流量Qと理論流量Qthを用いて、流出係数CdがCd=Q/Qthにより計算される。この段階で、レイノズル数Reと流出係数Cdの一組が導出されたことになる。
【0059】
ステップm6では、得られたレイノズル数Reと流出係数Cdが(Cd,Re)としてCd−Reメモリ部42に格納される。
【0060】
ステップm7では、コントロールバルブ20の開度Vが最大開度Vmaxに達したかどうかが判定される。もし最大開度に達しておればこのフローは終了する。最大開度Vmaxに達していなければ、ステップm8に進行し、開度Vを微小開度ΔVだけ増加させてステップm3にフィードバックされ、再び同じフローを繰り返す。
【0061】
以上のフローを反復することによって、開度VがV0〜Vmaxに対応する広範囲のレイノルズ数Reに対してCd−Re関係曲線が得られる。しかも、これらのCd−Re関係データが自動的にCd−Reメモリ部42に格納されてゆく。
【0062】
しかし、レイノルズ数Reは流体圧力Pに依存するだけでなく、流体温度Tや流体の種類、絞り孔断面直径Dにも依存する。より広範囲の(Cd,Re)データが必要な場合には、流体の種類を変更したり、絞り孔断面直径Dを変えたり、流体温度Tを可変することも必要になる。これらの変更毎に、このフローを適用すれば、広範囲のCd−Re関係曲線が得られる。
【0063】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲における種々の変形例・設計変更などをその技術的範囲内に包含することは云うまでもない。
【0064】
【発明の効果】
第1の発明によれば、コントロールバルブをある開度Vに開放してその状態での演算流量Qcを導出し、この演算流量Qcと設定流量Qsとの差を算出し、この流量差をゼロにする方向にコントロールバルブの開度Vを大小調節して、再び同じ演算を繰り返しながら演算流量Qcを設定流量Qsに一致するまで制御することができる。しかも、この連続操作を電子回路制御やコンピュータ制御により行えば、ほぼ瞬時に絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御することができ、途中で設定流量Qsが変化した場合にも、電子制御によって直ちに追随して流量制御できる利点がある。
【0065】
第2の発明によれば、電子回路制御やコンピュータ制御において、演算流量Qcが設定流量Qsと数値的に完全に一致することは無いから、演算流量Qcと設定流量Qsとの差、即ち、Qc−Qs又はQs−Qcの値が微小流量値ΔQより小さければ実質上一致したと判断することによって流量制御を容易にすることができる。このΔQの値は制御精度によって自在に決めることができ、粗制御ではΔQは大きく設定すればよく、また精密制御はΔQを極めて小さく設定するだけで達成できる。このように、この方法を用いれば粗制御から精密制御に至る流量制御を自在に行うことが可能となる。
【0066】
第3の発明によれば、演算流量Qcと設定流量Qsが不一致である場合に、コントロールバルブの開度を大小制御して演算流量Qcを設定流量Qsに漸近的に一致させることができる。この演算過程は電子回路やコンピュータにより高速演算できるから、精密制御を実行するために微小開度ΔVを微小値に設定した場合でも、プログラムにより反復制御すれば直ちに設定流量Qsに流量制御することが可能になる。しかも、微小開度ΔVを更に小さくすれば、演算流量Qcを細かく制御できるから、流量の高精度制御を実現できる。
【0067】
第4の発明によれば、本発明で使用されるCd−Re関係を更に精度よく高速導出することができる。コントロールバルブの開度Vを大きくすると、上流側の流体圧力Pを増大でき、その結果レイノズル数Reを自在に可変することができる。コンピュータ制御により、コントロールバルブを微小開度ΔVだけ変化させながらレイノズル数Reを微小変化させてCd−Re関係を次々に導出でき、広範囲のレイノズル数に対し流出係数Cdを測定することができる。また、流体の種類を変更したり、絞り孔断面直径を変更したり、流体温度を可変することにより、本発明方法を実施すれば、更に広範囲のCd−Re関係を導出できる。このCd−Re関係をコンピュータに記憶させると、第1から第3までの発明をコンピュータ制御により実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いられる絞り部材14の概略説明図である。
【図2】流出係数Cdとレイノズル数Reの関係曲線図である。
【図3】本発明に用いられる圧力式流量制御装置2の構成図である。
【図4】本発明に係るレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法の実施形態を示す具体的フロー図である。
【図5】本発明に用いられるCd−Re関係曲線を計測するためのCd−Re測定装置1の構成図である。
【図6】本発明に用いられるCd−Re関係曲線を測定する具体的フロー図である。
【符号の説明】
2は圧力式流量制御装置、4は流体供給源、5は供給側連結部、6は供給側配管、7は流出側連結部、8は流出側配管、10は反応室、11は流量計、12は真空ポンプ、14は絞り部材、14aは絞り孔、16は上流側配管、18は下流側配管、20はコントロールバルブ、22は駆動部、24は上流側圧力センサ、26は温度センサ、27は下流側圧力センサ、28・30・31・33はA/Dコンバーター、32は制御回路、34は入出力ポート、36はRAM、38はCPU、40はROM、42はCd−Reメモリ部、Aは流通断面積、Cdは流出係数、Dは絞り孔断面直径、ΔQは微小流量、ΔVは微小開度、Pは上流側の流体圧力、Pdは下流側の流体圧力、Qは実流量、Qsは設定流量、Qthは理論流量、Qcは演算流量、Reはレイノズル数、Sは絞り孔断面積、Tは流体温度、Vは開度、V0は初期開度、Vmaxは最大開度、cは音速、ρは密度。
Claims (4)
- 流量制御用の絞り部材と、絞り部材の上流側配管に設けられたコントロールバルブと、絞り部材とコントロールバルブの間に設けられて上流側の流体圧力Pを検出する圧力センサと流体温度Tを検出する温度センサを有して、コントロールバルブにより流体圧力Pを調節して絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御する音速条件を利用した圧力式流量制御方法において、絞り孔の形状及び流体条件に基づくレイノルズ数(Re)と流出係数(Cd)の関係を求めておき、コントロールバルブを開度Vに調節したときに流体圧力Pと流体温度Tを検出し、この流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reと理論流量Qthを演算し、このレイノズル数Reから前記Cd−Re関係を用いて流出係数Cdを導出し、この流出係数Cdと前記理論流量Qthから演算流量QcをQc=Cd×Qthとして算出し、この演算流量Qcと前記設定流量Qsとの差をゼロに接近させるようにコントロールバルブの開度Vを調節することにより絞り部材通過流量を設定流量Qsに制御することを特徴とするレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法。
- 前記コントロールバルブの開度調節により、演算流量Qcと設定流量Qsの差が微小流量ΔQより小さくなったときに絞り部材通過流量は設定流量Qsに制御されたと判断する請求項1に記載のレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法。
- 前記コントロールバルブの開度Vは微小開度ΔVを単位として調節される請求項2に記載のレイノズル数を用いた圧力式流量制御方法。
- 流量制御用の絞り部材と、絞り部材の上流側配管に設けられたコントロールバルブと、絞り部材とコントロールバルブの間に設けられて上流側の流体圧力Pを検出する圧力センサと流体温度Tを検出する温度センサと、下流側配管に設けられて絞り部材通過流量を計測する流量計を有して、音速条件において流量を計測する流量測定装置を使用し、コントロールバルブを開度Vに調節した状態で、流体圧力P、流体温度T及び絞り部材通過流量Qを測定し、流体圧力Pと流体温度Tからレイノズル数Reと理論流量Qthを演算し、絞り部材通過流量Qと理論流量Qthから流出係数CdをCd=Q/Qthにより導出してCd−Re関係を出力し、前記コントロールバルブの開度Vを微小開度ΔVだけ変化させながらレイノズル数Reと流出係数Cdの対応関係を次々と導出することを特徴とするCd−Re関係の測定方法。
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