JP2004179430A - Semiconductor device and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体素子を樹脂材料によりモールドした半導体装置、および半導体素子の樹脂モールド方法に関し、更に詳しくは、樹脂を材料として成型される発光素子載置用パッケージ上への封止樹脂の成型において、樹脂バリの発生を防いだ高品質な樹脂成型を行い、信頼性が高く光学特性に優れた発光装置を提供する技術に関する。また、本発明は、導体配線が施された基板表面に実装される表面実装型発光装置の改良に関するものである。
【0002】
【従来技術】
従来、実装面側に導電性パターンを施した基板に直接実装可能な半導体装置として、発光素子を載置するとともに該発光素子に電力を供給するリード電極の少なくとも一部が挿入されて一体成型された樹脂製のパッケージの上に、リード電極および発光素子を被覆する樹脂モールドを成型した発光装置がある。例えば、図8に正面図が示されるような従来の発光装置は、樹脂製パッケージの側面から実装面方向に露出させたリード電極の先端部を実装基板の導電性パターンに接続することにより実装基板に固定され、外部電極とリード電極との電気的導通が図られることとなる(例えば、特許文献1参照。)。
【特許文献1】
実開平4−105561号公報
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、発光装置からの発光に所望の配光性を持たせるためモールド部材を特定の形状および大きさとしたとき、発光装置を基板に対して高密度に実装することが困難となる場合がある。例えば、図8に示されるような従来の表面実装型LED10を実装基板に複数実装する場合、樹脂部10をより近接させて実装しようとしてもベース部16同士が機械的に干渉するため、樹脂部10を密接して配置するには限界があることとなる。
【0004】
また、パッケージの上に所望の配光性が得られる樹脂モールドを成型する場合に、少なくともパッケージの表面に樹脂バリが発生する。このような樹脂バリがリード電極表面の導電性パターンとの接触部分に延在して発生した場合、実装時にリード電極と実装基板の導電性パターンとの電気的導通を妨げる要因となる。
【0005】
そこで、本発明は、実装基板に対して高密度に実装することも可能であり、リード電極表面への樹脂バリの発生を防いだ半導体装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】
以上の目的を達成するために本発明に係る発光装置は、正負一対のリード電極の一方に載置された半導体素子と、該半導体素子と前記リード電極とを接続する導電体と、前記リード電極を固定保持する支持体とを有する半導体装置であって、前記リード電極および前記支持体の少なくとも一部並びに前記半導体素子は、前記半導体装置を上面側から視認したとき前記支持体の外縁より大きい透光性部材に被覆されていることを特徴とする半導体装置である。
【0007】
このように構成すると、実装基板に高密度に実装可能な半導体装置とすることができる。
【0008】
また、本発明に係る請求項2記載の発明は、前記支持体と前記透光性部材との界面の形状は、少なくとも前記支持体の外縁部において曲面である請求項1に記載の半導体装置である。
【0009】
このように構成すると、半導体装置が熱の影響により収縮・膨張しても透光性部材への亀裂の発生を防ぐことができる。
【0010】
また、本発明に係る請求項3記載の発明は、前記支持体の側面は、前記透光性部材の一部が延在する凹部を有する請求項1乃至2に記載の半導体装置である。
【0011】
このように構成すると、リード電極の表面に樹脂バリを発生させることなく、外部電極と接続可能な信頼性の高い半導体装置とすることができる。
【0012】
また、本発明に係る請求項4記載の発明は、前記支持体は、側面に張り出し部を有する請求項1乃至3に記載に半導体装置である。
【0013】
このように構成すると、更にリード電極の表面に樹脂バリを発生させることなく、外部電極と接続可能な信頼性の高い半導体装置とすることができる。
【0014】
また、本発明に係る請求項5記載の発明は、前記張り出し部は、前記透光成部材により被覆されている請求項4に記載の半導体装置である。
【0015】
このように構成すると、張り出し部と透光性部材によるアンカー効果により、透光性部材が支持体から脱落することがなくなるため、信頼性の高い半導体装置とすることができる。
【0016】
また、本発明に係る請求項6記載の発明は、正負一対のリード電極の一方に載置された半導体素子と、該半導体素子と前記リード電極とを接続する導電体と、前記リード電極を固定保持する支持体と、少なくとも前記半導体素子を被覆する透光性部材とを有する半導体装置の製造方法であって、金属平板に打ち抜き加工を施し、分離して対向する正負一対のリード電極を形成する第一の工程と、内壁面に凸部が対向して設けられている上金型と、該上金型に嵌合可能な下金型により前記リード電極を挟持し、熱可塑性樹脂を封止空間に注入することにより前記正負一対のリード電極の一部を被覆し、対向する凹部を側面に有する支持体を一体成型する第二の工程と、前記半導体素子を前記正負一対のリード電極に載置し、前記導電体により前記半導体素子と前記リード電極とを接続する第三の工程と、
金型内に注入された熱硬化性樹脂中に、前記半導体素子が載置されたリード電極と前記支持体の一部を載置し、熱硬化性樹脂を硬化させる第四の工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法である。
【0017】
このように構成すると、実装基板に高密度に実装可能な半導体装置とすることができ、リード電極表面へ樹脂バリを発生させることなく信頼性の高い半導体装置を形成することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態を、以下に図面を参照しながら説明する。ただし、以下に示す実施の形態は、本発明の技術思想を具体化するための半導体装置を例示するものであって、本発明は半導体装置を以下に限定するものではない。また、各図面に示す部材の大きさや位置関係などは説明を明確にするために誇張しているところがある。
実施の形態1.
図1は、本実施の形態にかかる半導体装置の正面図であり、図3は上面図、図4は背面図である。また、図2は、図3のAAにおける断面図である。
【0019】
図1に示されるような本発明にかかる半導体装置100は、導電体103により正負一対のリード電極(マウント・リード105、インナー・リード106)と電気的に接続された半導体素子102と、半導体素子102が載置されたマウントリード105と該マウントリード105に分離して対向するように配置されるインナーリード106とを固定保持する支持体107と、透光性部材104とを有する。ここで、透光性部材104の大きさは、導電体103、リード電極および支持体107の少なくとも一部並びに半導体素子102を被覆することができ、半導体装置100を上面側から視認したとき支持体107の外縁より大きい。つまり、支持体107の大きさは、図3に示されるように半導体装置100を透光性部材104の上面側から見たとき、支持体107の全体が透光性部材104の外縁に収まる大きさとされる。図8に示されるような従来の表面実装型LED10においては、複数の表面実装型LED10を密集して実装する場合、パッケージに相当するベース部16がお互い機械的に干渉するため、発光装置の配光性を制御するために砲弾型に成型された樹脂部11の部分が密集する状態で半導体装置を載置するには限界があった。しかし、本発明の構成することにより、特定の配光性を得るためにモールド部材を所望の形状とした場合であっても、複数の支持体が互いに機械的に干渉することなく、複数の表面実装型発光装置を実装基板に対して高密度に実装することが可能である。このように高密度に実装することにより発光装置から出光した光の混色性を高めることができる。
【0020】
本実施の形態における支持体107は、下部107aと上部107bとからなる。上部107bは、半導体装置100の実装面方向において、支持体107全体から突出している張り出し部を有し、該張り出し部は、モールド部材104に完全に被覆されている。このような上部107bを設けると、張り出し部のアンカー効果によって透光性部材104が抜けにくくなり、信頼性の高い半導体装置とすることが可能である。また、図1に示されるように支持体の上部107bの表面形状は、透光性部材104と接する界面のうち少なくとも支持体上面の外縁部において曲面とされる。このように曲面を形成することにより、熱応力の影響を受けやすい樹脂材料により透光性部材を形成した場合に、透光性部材に対してクラック(亀裂)が入りにくくなり信頼性の高い半導体装置とすることができる。支持体の下部107aは、上部107bと連続して形成され実装面側でマウントリード105とインナーリード106の一部を被覆しており、下部107aの裏面が下部107aの側面から露出されたリード電極の先端部とほぼ同一平面上となるように配置されている。このように配置することによって、リード電極は実装基板に配された導線性パターンと接続可能となり、また、下部107aの裏面を利用して半導体装置を実装基板に固定することができる。
実施の形態2.
図6は、本発明の別の実施の形態にかかる半導体装置200の正面図であり、図7は上面図である。
【0021】
図6に示されるような本発明にかかる半導体装置200は、支持体の下部107aの側面の一部に凹部が設けられ、透光性部材の成型時に樹脂材料の一部が凹部内に流れ込むことにより、透光性部材の延在部分111が形成されている。ここで図7に示されるように、本発明にかかる半導体装置200を上面から見たとき、支持体上部107bの上面の外縁は、透光性部材104(透光性部材104を成型するキャスティングケースの凹部内壁面)の外縁である楕円(楕円a)とは異なる扁平率を有する楕円(楕円b)形状である。即ち、楕円bの長軸および短軸はともに楕円aのそれらより小さく、凹部201が形成されている支持体下部107aの側面と隣接する側面方向(図7では長軸方向)において、楕円aと楕円bの間隔rが、凹部201が形成されている側面方向における楕円aと楕円bの間隔Rより狭く(R>r)なっている。支持体の下部107aをこのような特定形状とすることにより、透光性部材104の成型時において、樹脂材料が凹部201の方に優先的に這い上がり易くなり、少なくともリード電極表面への樹脂バリの発生を抑えることができる。
【0022】
支持体の上部107bの一部は、透光性部材104に被覆され、リード電極や半導体素子102が、支持体107および透光性部材により外部環境から保護される。また、支持体上部107bの他の一部は、支持体107の側面から突出して張り出し部112を形成しており、透光性部材の成型時において、樹脂材料の下部107aへの這い上がりを防ぐことができる。従って、実装面側のリード電極上に樹脂バリを発生させることなく半導体装置を形成することができる。
【0023】
以下、本発明の実施の形態の各構成について詳述する。
(LEDチップ102)
本発明において使用される半導体素子は、発光素子、受光素子等の半導体素子が考えられるが、本実施の形態において使用される半導体素子は、発光素子として使用されるLEDチップ102である。蛍光体と発光素子とを組み合わせ、蛍光体を励起させることによって波長変換した光を出光させる発光装置とする場合、蛍光体を励起可能な波長の光を出光するLEDチップが使用される。LEDチップ102は、MOCVD法等により基板上にGaAs、InP、GaAlAs、InGaAlP、InN、AlN、GaN、InGaN、AlGaN、InGaAlN等の半導体を発光層として形成させる。半導体の構造としては、MIS接合、PIN接合やPN接合などを有するホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のものが挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって発光波長を種々選択することができる。また、半導体活性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた単一量子井戸構造や多重量子井戸構造とすることもできる。好ましくは、蛍光体を効率良く励起できる比較的短波長を効率よく発光可能な窒化物系化合物半導体(一般式IniGajAlkN、ただし、0≦i、0≦j、0≦k、i+j+k=1)である。
【0024】
窒化ガリウム系化合物半導体を使用した場合、半導体基板にはサファイヤ、スピネル、SiC、Si、ZnO、GaN等の材料が好適に用いられる。結晶性の良い窒化ガリウムを形成させるためにはサファイヤ基板を用いることがより好ましい。サファイヤ基板上に半導体膜を成長させる場合、GaN、AlN等のバッファー層を形成しその上にPN接合を有する窒化ガリウム半導体を形成させることが好ましい。また、サファイア基板上にSiO2をマスクとして選択成長させたGaN単結晶自体を基板として利用することもできる。この場合、各半導体層の形成後SiO2をエッチング除去させることによって発光素子とサファイア基板とを分離させることもできる。窒化ガリウム系化合物半導体は、不純物をドープしない状態でN型導電性を示す。発光効率を向上させるなど所望のN型窒化ガリウム半導体を形成させる場合は、N型ドーパントとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜導入することが好ましい。一方、P型窒化ガリウム半導体を形成させる場合は、P型ドーパンドであるZn、Mg、Be、Ca、Sr、Ba等をドープさせる。
【0025】
窒化ガリウム系化合物半導体は、P型ドーパントをドープしただけではP型化しにくいためP型ドーパント導入後に、炉による加熱、低速電子線照射やプラズマ照射等によりアニールすることでP型化させることが好ましい。具体的な発光素子の層構成としては、窒化ガリウム、窒化アルミニウムなどを低温で形成させたバッファ層を有するサファイア基板や炭化珪素上に、窒化ガリウム半導体であるN型コンタクト層、窒化アルミニウム・ガリウム半導体であるN型クラッド層、Zn及びSiをドープさせた窒化インジュウムガリウム半導体である活性層、窒化アルミニウム・ガリウム半導体であるP型クラッド層、窒化ガリウム半導体であるP型コンタクト層が積層されたものが好適に挙げられる。LEDチップ101を形成させるためにはサファイア基板を有するLEDチップ101の場合、エッチングなどによりP型半導体及びN型半導体の露出面を形成させた後、半導体層上にスパッタリング法や真空蒸着法などを用いて所望の形状の各電極を形成させる。SiC基板の場合、基板自体の導電性を利用して一対の電極を形成させることもできる。
【0026】
次に、形成された半導体ウエハー等をダイヤモンド製の刃先を有するブレードが回転するダイシングソーにより直接フルカットするか、又は刃先幅よりも広い幅の溝を切り込んだ後(ハーフカット)、外力によって半導体ウエハーを割る。あるいは、先端のダイヤモンド針が往復直線運動するスクライバーにより半導体ウエハーに極めて細いスクライブライン(経線)を例えば碁盤目状に引いた後、外力によってウエハーを割り半導体ウエハーからチップ状にカットする。このようにして窒化物系化合物半導体を含むLEDチップ102を形成させることができる。
【0027】
本発明に使用するLEDチップ102は、光の三原色であるR(赤色系)G(緑色系)B(青色系)の光をそれぞれ発光するように形成することができる。また、本発明の発光装置において、蛍光体を励起させて発光させる場合は、蛍光体との補色等を考慮してLEDチップ102の主発光波長は350nm以上530nm以下が好ましい。
(導電性ワイヤー103)
導電性ワイヤー103は、LEDチップ103の電極とリード電極とを電気的に接続する導電体として利用される。導電性ワイヤー103としては、LEDチップ102の電極とのオーミック性、機械的接続性、電気伝導性及び熱伝導性がよいものが求められる。熱伝導度としては0.01cal/(s)(cm2)(℃/cm)以上が好ましく、より好ましくは0.5cal/(s)(cm2)(℃/cm)以上である。また、作業性などを考慮して導電性ワイヤーの直径は、好ましくは、Φ10μm以上、Φ45μm以下である。特に、蛍光体が含有されたコーティング部と蛍光体が含有されていないモールド部材との界面で導電性ワイヤーが断線しやすい。それぞれ同一材料を用いたとしても蛍光体が入ることにより実質的な熱膨張量が異なるため断線しやすいと考えられる。そのため、導電性ワイヤーの直径は、25μm以上がより好ましく、発光面積や扱い易さの観点から35μm以下がより好ましい。
【0028】
このような導電性ワイヤーとして具体的には、金、銅、白金、アルミニウム等の金属及びそれらの合金を用いた導電性ワイヤーが挙げられる。このような導電性ワイヤーは、各LEDチップの電極と、インナー・リード及びマウント・リードなどと、をワイヤーボンディング機器によって容易に接続させることができる。
(マウント・リード105)
マウント・リード105としては、LEDチップ102を配置させるものであり、ダイボンド機器などで積載するのに十分な大きさがあれば良い。また、LEDチップを複数設置しマウント・リードをLEDチップの共通電極として利用する場合においては、十分な電気伝導性とボンディングワイヤー等との接続性が求められる。また、マウント・リード上のカップ内にLEDチップを配置すると共に蛍光体を内部に充填させる場合は、近接して配置させた別の発光ダイオードからの光により疑似点灯することを防止することができる。
【0029】
LEDチップ102とマウント・リード105のカップとの接着は熱硬化性樹脂などによって行うことができる。具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂やイミド樹脂などが挙げられる。また、フェースダウンLEDチップなどによりマウント・リードと接着させると共に電気的に接続させるためにはAgペースト、カーボンペースト、金属バンプ等を用いることができる。さらに、発光ダイオードの光利用効率を向上させるためにLEDチップが配置されるマウント・リードの表面を鏡面状とし、表面に反射機能を持たせても良い。この場合の表面粗さは、0.1S以上0.8S以下が好ましい。また、マウント・リードの具体的な電気抵抗としては300μΩ−cm以下が好ましく、より好ましくは、3μΩ−cm以下である。また、マウント・リード上に複数のLEDチップを積置する場合は、LEDチップからの発熱量が多くなるため熱伝導度がよいことが求められる。具体的には、0.01cal/(s)(cm2)(℃/cm)以上が好ましくより好ましくは 0.5cal/(s)(cm2)(℃/cm)以上である。これらの条件を満たす材料としては、鉄、銅、鉄入り銅、錫入り銅、メタライズパターン付きセラミック等が挙げられる。
(インナー・リード106)
インナー・リード106としては、マウント・リード105上に配置されたLEDチップ102と接続された導電性ワイヤー103との接続を図るものである。マウント・リード上に複数のLEDチップを設けた場合は、各導電性ワイヤー同士が接触しないよう配置できる構成とする必要がある。具体的には、マウント・リードから離れるに従って、インナー・リードのワイヤーボンディングさせる端面の面積を大きくすることなどによってマウント・リードからより離れたインナー・リードと接続させる導電性ワイヤーの接触を防ぐことができる。導電性ワイヤーとの接続端面の粗さは、密着性を考慮して1.6S以上10S以下が好ましい。インナー・リードの先端部を種々の形状に形成させるためには、あらかじめリードフレームの形状を型枠で決めて打ち抜き形成させてもよく、あるいは全てのインナー・リードを形成させた後にインナー・リード上部の一部を削ることによって形成させても良い。さらには、インナー・リードを打ち抜き形成後、端面方向から加圧することにより所望の端面の面積と端面高さを同時に形成させることもできる。
【0030】
インナー・リードは、導電性ワイヤーであるボンディングワイヤー等との接続性及び電気伝導性が良いことが求められる。具体的な電気抵抗としては、300μΩ−cm以下が好ましく、より好ましくは3μΩ−cm以下である。これらの条件を満たす材料としては、鉄、銅、鉄入り銅、錫入り銅及び銅、金、銀をメッキしたアルミニウム、鉄、銅等が挙げられる。
(コーティング部101)
本願発明に用いられるコーティング部101とは、モールド部材104とは別にマウント・リードのカップに設けられるものでありLEDチップの発光を変換する蛍光体を含有することができるものである。コーティング部の具体的材料としては、エポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコーンなどの耐候性に優れた透明樹脂や、耐光性に優れた酸化珪素、酸化アルミニウム、硝子などの透光性無機材料が好適に用いられる。ここで特に、酸化珪素や酸化アルミニウムを具体的材料とするコーティング部は、エチルシリケートやアルミニウムアルコレートのような金属アルコキシドに蛍光体を含有させた溶液をカップ内に充填後、焼結・乾燥させることにより形成される。また、蛍光体と共に拡散剤を含有させても良い。具体的な拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、二酸化珪素等が好適に用いられる。
(パッケージ107)
パッケージ107は、パッケージ上部107bとパッケージ下部107aとからなり、外部との電気的接続が可能なリード電極を固定保持する支持体として働く。図2に示されるように本実施の形態において、リード電極は、パッケージ107内に収まるように折り曲げられ、さらにリード電極の先端部がパッケージ107の裏面に方向に配置されている。本発明にかかる発光装置をディスプレイの構成部材として利用する場合、好適には遮光機能を持たせるために黒や灰色などの暗色系に着色させるか、或いはパッケージ107の発光観測表面側が暗色系に着色されている。パッケージ107は、LEDチップ102をさらに外部環境から保護するために透光性保護体であるモールド部材104を設ける。パッケージ107は、モールド部材104との接着性がよいものが好ましく、LEDチップ102と外部とを電気的に遮断させるために絶縁性を有することが望まれる。さらに、パッケージ107およびモールド部材104については、共に熱膨張率が小さく、ほぼ等しいことが好ましい。特にパッケージ107は、LEDチップ102などからの熱の影響を受ける場合を考慮して、モールド部材105より熱膨張率の小さい物が好ましい。このような構成により、主にパッケージ材料にて固定保持されているリード電極101は、モールド部材が熱応力の影響を受けて膨張あるいは収縮してもその影響を最小限に抑え、熱応力を緩和しズレ動くことが少ないため、導電性ワイヤー103の切断等の障害を発生させることなく信頼性の高い発光装置を形成させることが可能であり、また製造歩留まりを向上させることができる。
【0031】
パッケージ上部107bとモールド部材104との界面を梨地とし、接着面積を増やしたり、プラズマ処理してモールド部材104との密着性を向上させることもできる。本実施の形態においてパッケージ107は、リード電極と一体的に形成されるが、別の実施の形態ではパッケージ107が複数に分かれ、はめ込みなどにより組み合わせて構成させてもよい。なお、本明細書に添付される図面においてパッケージの形状は、透光性部材の上面側から見て楕円柱形状としたが、任意の立体的形状で構わない。
【0032】
このようなパッケージ107は、トランスファーモールド成型、射出成形などにより比較的簡単に形成することができる。パッケージの熱可塑性材料として芳香族ナイロン系樹脂、ポリフタルアミド樹脂(PPA)、サルホン系樹脂、ポリアミドイミド樹脂(PAI)、ポリケトン樹脂(PK)、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンサルファイド(PPS)、液晶ポリマー(LCP)、ABS樹脂、PBT樹脂等の熱可塑性樹脂などを用いることができる。なお、これらの熱可塑性樹脂にガラス繊維を含有させたものを熱可塑性材料として使用しても構わない。このようにガラス繊維を含有させることにより、高剛性を有し、高強度なパッケージを形成することが可能である。
【0033】
以上のような熱可塑性樹脂を使用することによって、硬化時においてパッケージ材料の熱膨張率は、モールド部材の材料の熱膨張率より小さい。そのため、発光装置を寒暖の差の激しい気象条件のもとで使用し、モールド部材が熱によって収縮あるいは膨張する場合であっても、パッケージに固定保持されているリード電極はモールド部材に発生する熱応力の影響を受けることが少ないため、リード電極にボンディングされている導電性ワイヤーの切断を防ぐことが可能である。なお、本明細書中において熱可塑性樹脂とは、加熱すると軟化さらには液状化し、冷却すると硬化する線状の高分子構造を有する物質をいう。このような熱可塑性樹脂として、たとえばスチレン系、アクリル系、セルロース系、ポリエチレン系、ビニル系、ナイロン系、フッ(弗)化炭素系の樹脂などがある。
【0034】
また、パッケージ107を暗色系に着色させる着色剤としては種々の染料や顔料が好適に用いられる。具体的には、Cr2O3、MnO2、Fe2O3やカーボンブラックなどが好適に挙げられる。
(モールド部材104)
モールド部材104は、発光ダイオードの用途に応じてLEDチップ102、導電性ワイヤー103、蛍光体が含有されたコーティング部101などを外部環境から保護するために設けることができる透光性部材である。モールド部材は、一般には透明樹脂を用いて形成させることができる。また、蛍光体を含有させることによって視野角を増やすことができるが、樹脂モールドに拡散剤を含有させることによってLEDチップ102からの指向性を緩和させ視野角をさらに増やすことができる。更にまた、モールド部材104を所望の形状にすることによってLEDチップからの発光を集束させたり拡散させたりするレンズ効果を持たせることができる。従って、モールド部材104は複数積層した構造でもよい。具体的には、凸レンズ形状、凹レンズ形状さらには、発光観測面から見て楕円形状やそれらを複数組み合わせた物である。モールド部材104の具体的材料としては、主としてエポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂などの耐候性に優れた透明樹脂や硝子などが好適に用いられる。また、拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、二酸化珪素等が好適に用いられる。さらに、拡散剤に加えてモールド部材中にも蛍光体を含有させることもできる。したがって、蛍光体はモールド部材中に含有させてもそれ以外のコーティング部などに含有させて用いてもよい。また、コーティング部を蛍光体が含有された樹脂、モールド部材を硝子などとした異なる部材を用いて形成させても良い。この場合、生産性良くより水分などの影響が少ない発光装置とすることができる。また、屈折率を考慮してモールド部材とコーティング部とを同じ部材を用いて形成させても良い。本願発明においてモールド部材に拡散剤や着色剤を含有させることは、発光観測面側から見た蛍光体の着色を隠すことができる。なお、蛍光体の着色とは、本願発明の蛍光体が強い外光からの光のうち、青色成分を吸収し発光する。そのため黄色に着色しているように見えることである。特に、凸レンズ形状などモールド部材の形状によっては、着色部が拡大されて見えることがある。このような着色は、意匠上など好ましくない場合がある。モールド部材に含有された拡散剤は、モールド部材を乳白色にするため、着色剤を所望の色に着色することで着色を見えなくさせることができる。したがって、このような発光観測面側から蛍光体の色が観測されることはない。
【0035】
また、LEDチップから放出される光の主発光波長が430nm以下では、光安定化剤である紫外線吸収剤をモールド部材中に含有させた方が耐候性上より好ましい。
(蛍光体)
本発明における発光装置において、発光素子から出光する光を波長変換して所望の発光色を得るために蛍光体を使用することも可能である。このような蛍光体は、モールド部材中に含有させたり、あるいは発光素子の表面上に透光性無機部材等の結着剤により固着される。
【0036】
本発明に用いられる蛍光体としては、少なくともLEDチップ102の半導体発光層から発光された光で励起されて発光する粒子状蛍光体をいう。LEDチップ102が発光した光と、粒子状蛍光体が発光した光が補色関係などにある場合、それぞれの光を混色させることで白色を発光することができる。具体的には、LEDチップ102からの光と、それによって励起され発光する粒子状蛍光体の光がそれぞれ光の3原色(赤色系、緑色系、青色系)に相当する場合やLEDチップ102が発光した青色の光と、それによって励起され発光する粒子状蛍光体の黄色の光が挙げられる。
【0037】
発光ダイオードの発光色は、粒子状蛍光体と粒子状蛍光体の結着剤として働く各種樹脂やガラスなどの無機部材などとの比率、粒子状蛍光体の沈降時間、粒子状蛍光体の形状などを種々調整すること及びLEDチップの発光波長を選択することにより電球色など任意の白色系の色調を提供させることができる。発光ダイオードの外部には、LEDチップからの光と蛍光体からの光がモールド部材を効率よく透過することが好ましい。
【0038】
具体的な粒子状蛍光体としては、銅で付活された硫化カドミ亜鉛や、希土類元素から選択された一種類以上の元素、例えばセリウム、Prで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット系蛍光体が挙げられる。特に、高輝度且つ長時間の使用時においては(Re1−xSmx)3(Al1−yGay)5O12:Ce(0≦x<1、0≦y≦1、但し、Reは、Y,Gd,Laからなる群より選択される少なくとも一種の元素である。)などが好ましい。粒子状蛍光体として特に(Re1−xSmx)3(Al1−yGay)5O12:Ceを用いた場合には、LEDチップと接する或いは近接して配置され放射照度として(Ee)=3W・cm−2以上10W・cm−2以下においても高効率に十分な耐光性を有する発光ダイオードとすることができる。
【0039】
(Re1−xSmx)3(Al1−yGay)5O12:Ce蛍光体は、ガーネット構造のため、熱、光及び水分に強く、励起スペクトルのピークが470nm付近などにさせることができる。また、発光ピークも530nm付近にあり720nmまで裾を引くブロードな発光スペクトルを持たせることができる。しかも、組成のAlの一部をGaで置換することで発光波長が短波長にシフトし、また組成のYの一部をGdで置換することで、発光波長が長波長へシフトする。このように組成を変化することで発光色を連続的に調節することが可能である。したがって、長波長側の強度がGdの組成比で連続的に変えられるなど窒化物半導体の青色系発光を利用して白色系発光に変換するための理想条件を備えている。
【0040】
このような蛍光体は、Y、Gd、Ce、Sm、Al、La及びGaの原料として酸化物、又は高温で容易に酸化物になる化合物を使用し、それらを化学量論比で十分に混合して原料を得る。又は、Y、Gd、Ce、Smの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸で共沈したものを焼成して得られる共沈酸化物と、酸化アルミニウム、酸化ガリウムとを混合して混合原料を得る。これにフラックスとしてフッ化アンモニウム等のフッ化物を適量混合して坩堝に詰め、空気中1350〜1450°Cの温度範囲で2〜5時間焼成して焼成品を得る。次に焼成品を水中でボールミルして、洗浄、分離、乾燥、最後に篩を通すことで所望の粒子状蛍光体を得ることができる。
【0041】
本発明の発光ダイオードにおいて、粒子状蛍光体は、2種類以上の粒子状蛍光体を混合させてもよい。即ち、Al、Ga、Y、La及びGdやSmの含有量が異なる2種類以上の(Re1−xSmx)3(Al1−yGay)5O12:Ce蛍光体を混合させてRGBの波長成分を増やすことができる。また、現在のところ半導体発光素子の発光波長には、バラツキが生ずるものがあるため2種類以上の蛍光体を混合調整させて所望の白色光などを得ることができる。具体的には、発光素子の発光波長に合わせて色度点の異なる蛍光体の量を調整し含有させることでその蛍光体間と発光素子で結ばれる色度図上の任意の点を発光させることができる。
(拡散剤)
本実施の形態におけるモールド部材には、発光装置の発光輝度を向上させるために拡散剤を含有させることも可能である。モールド部材に含有される拡散剤は、発光素子から放出される光のうち発光観測面側に放出される光の散乱吸収を少なくし、光反射層側面に向かう光を多く散乱させることで発光装置の発光輝度を向上させるものである。このような拡散剤としては、酸化バリウム、チタン酸バリウム、酸化バリウム、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム等の無機部材やメラミン樹脂、CTUグアナミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの有機部材が好適に用いられる。
【0042】
同様に、外来光や発光素子からの不要な波長をカットするフィルター効果を持たすために各種着色剤を添加させることもできる。さらに、樹脂の内部応力を緩和させる各種フィラーを含有させることもできる。
(フィラー)
更に、本発明において、モールド部材中に蛍光体に加えて、あるいは蛍光体に変えてフィラーを含有させても良い。具体的な材料は拡散剤と同様であるが、拡散剤とは中心粒径が異なり、本明細書においてフィラーとは中心粒径が5μm以上100μm以下のものをいう。このような粒径のフィラーを透光性樹脂中に含有させると、光散乱作用により発光装置の色度バラツキが改善される他、透光性樹脂の耐熱衝撃性を高めることができる。また、フィラーは蛍光体と類似の粒径及び/又は形状を有することが好ましい。ここで本明細書では、類似の粒径とは、各粒子のそれぞれの中心粒径の差が20%未満の場合をいい、類似の形状とは、各粒径の真円との近似程度を表す円形度(円形度=粒子の投影面積に等しい真円の周囲長さ/粒子の投影の周囲長さ)の値の差が20%未満の場合をいう。このようなフィラーを用いることにより、蛍光体とフィラーが互いに作用し合い、樹脂中にて蛍光体を良好に分散させることができ色ムラが抑制される。更に、蛍光体及びフィラーは、共に中心粒径が15μm〜50μm、より好ましくは20μm〜50μmであると好ましく、このように粒径を調整することにより、各粒子間に好ましい間隔を設けて配置させることができる。これにより光の取り出し経路が確保され、フィラー混入による光度低下を抑制しつつ指向特性を改善させることができる。また、このような粒径範囲の蛍光体及びフィラーを透光性樹脂に含有させ孔版印刷法にて封止部材を形成すると、封止部材硬化後のダイシング工程においてダイシングブレードの目詰まりが回復されドレッサー効果をもたらすことができ量産性が向上される。
【0043】
【実施例】
以下、本発明に係る実施例について詳述する。なお、本発明は以下に示す実施例のみに限定されないことは言うまでもない。
[実施例1]
図1は、本実施例にかかる発光装置100の模式的な上面図であり、図3は上面図である。また、図2は図3のAAにおける発光装置100の断面図であり、図4は背面図である。
【0044】
図1および図2に示されるように本実施例にかかる発光装置100は、先端部がパッケージ上部107bの上面から突出し他方の先端部が発光装置の実装面側に露出するようにパッケージ107に挿入されてなるマウント・リード105およびインナー・リード106を固定保持するパッケージ107と、マウント・リード105上面に形成された凹部の底面に載置されたLEDチップ102と、該LEDチップ102の正負両電極をリード電極(分離して対向されたマウント・リード105およびインナー・リード106)と電気的に接続するための導電性ワイヤー103と、該導電性ワイヤー103、リード電極およびLEDチップ102を外部環境から保護するためにそれらを封止するモールド部材104とを有する。モールド部材104の一部は、パッケージ上部107bの側面に設けられた張り出し部を被覆している。さらに、モールド部材104は、発光装置正面にて発光装置100から出光する光の正面輝度を向上させるために、いわゆる砲弾型に成型されている。ここで、モールド部材105は砲弾型に成型可能なキャスティングケースにより成型され、パッケージ107は射出成型法により成型されるが、前者は熱硬化性樹脂を材料とし、後者は熱可塑性樹脂を材料とすることにより形成されている。図3に示されるようにモールド部材104は、発光装置100をモールド部材の上面側から観測したとき、パッケージ107の外縁より大きい。
【0045】
本発明の発光装置100の形成方法は、金属平板に打ち抜き加工を施し、一方向において分離して対向するようにリード電極を形成する第一の工程と、上金型と嵌合可能な下金型との間にリード電極を挟持し、両金型により形成される封止空間に熱可塑性材料を注入してリード電極を含むパッケージ107を一体成型する第二の工程と、リード電極にLEDチップ102を載置し、電気的に接続する第三の工程と、モールド部材104の成型用金型内に熱硬化性樹脂を注入した後、LEDチップ102が載置されたリード電極と張り出し部を含むパッケージ上部107bとを樹脂液中に載置し、硬化させる第四の工程と、を含む。
【0046】
以下、図面を参照しながら本発明の発光装置の形成方法を順を追ってより詳細に説明する。
(工程1)
まず、LEDチップ102を載置可能な凹部を有するマウント・リード105とインナー・リード106とを形成する。銅を主成分とする金属平板に打ち抜き加工を施し、同一方向において互いに分離して対向するように、図5(b)に示されるようにリードフレーム108の一部として形成する。
(工程2)
次に、本実施例におけるパッケージ107の射出成型法による成型を説明する。本工程では、上金型と、該上金型に嵌合可能な下金型とをマウント・リード105およびインナー・リード106を挟持しながら突き合わせることにより、封止空間を形成する。このとき、上金型はパッケージ上部107bの張り出し部を成型するための凹部と、パッケージ107の側壁を成型するための部分とを有する。一方の下金型はパッケージ側面を成型するための形状を有する。上記封止空間に対して下金型の側面に設けた注入口を利用して、熱可塑性樹脂材料として液状のポリフタルアミド樹脂を注入し、冷却させる。このようにして、パッケージ107の側面から張り出す突出部と、パッケージ107に挿入されたリード電極とを有するパッケージ107を一体成型する。なお、硬化時のパッケージの熱膨張係数は、2.3×10−5〜8.6×10−5(1/℃)であった。また、本実施例において、パッケージの材料は、ポリフタルアミド樹脂に適量のガラス繊維を含有させた材料を使用した。このような材料は、ガラス繊維を含有させないものと比較して、高剛性、高強度、寸法安定性、耐熱性、耐薬品性、成形加工性、蒸着性、低吸湿性、電気特性に優れ、本発明における発光装置のパッケージ材料としての使用に適している。
【0047】
図5(a)は、リードフレーム108に複数のパッケージが形成されたときの模式的な上面図であり、図5(b)は正面図である。本実施例では、マウント・リード105とインナー・リード106は、下方に長く延長されて支持部109に一体化されており、この支持部109の各ピッチ孔110により、製造用納具(図示せず)に固定されている。さらに、パッケージ107が形成された後、押し圧加工を行うことにより、LEDチップ102を載置することが可能な凹部がマウント・リード105の先端部に設けられる。パッケージ形成後に本加工を行うことにより、リードフレームがパッケージにより固定保持されるため、加工時にリードフレームの歪みを最小限に抑えることが可能である。
(工程3)
次に、LEDチップ102とマウント・リード105に設けた凹部底面との接着を熱硬化性樹脂、透光性無機部材、金属ハンダ等によって行う。具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂やイミド樹脂、シリカゾル、Au−Snなどの共晶ハンダなどが挙げられる。また、LEDチップ102を配置固定させると共にパッケージ104内のリード電極101と電気的に接続させるためにはAgペースト、カーボンペースト、ITOペースト、金属バンプ等が好適に用いられる。
(工程4)
導電性ワイヤー103によって、LEDチップ102の電極と、リード電極をワイヤーボンディング接続させる。
(工程5)
以下、本発明におけるモールド部材105のキャスティングケースを金型として利用した成型を説明する。
【0048】
モールド部材を砲弾型に成型可能な凹部を有するキャスティングケースにエポキシ樹脂を注入し、該凹部をエポキシ樹脂で満たす。ここで、キャスティングケースの凹部の内径は、リード電極および張り出し部を有するパッケージ上部107bが完全に挿入可能な大きさとする。
【0049】
マウント・リード105とインナー・リード106および張り出し部を有するパッケージ上部107bをエポキシ樹脂内に載置し、金型の温度をエポキシ樹脂の硬化温度150℃に設定し、所定の硬化時間経過後モールド部材が成型される。なお、硬化時のエポキシ樹脂の熱膨張係数は、14.5〜18.5(1/℃)であった。
(工程6)
最後に、マウント・リード105およびインナー・リード106をリードフレームから切り離すと、本発明の発光装置100が完成する。
【0050】
本実施例にかかる発光装置は、従来技術と比較してモールド部材が密集する状態で、高密度に実装可能であり、モールド部材がパッケージから離脱することがない信頼性の高い発光装置とすることができる。また、リード電極を固定保持するパッケージの熱膨張係数はモールド部材の熱膨張係数より小さいため、発光装置が熱応力の影響を受けても、モールド部材、特にリード電極間に介在しているモールド部材がリード電極および導電性ワイヤーに与える影響を小さくすることができる。
[実施例2]
図6は、本実施例にかかる発光装置200の模式的な上面図であり、図7は上面図である。
【0051】
図6および図7に示されるように本実施例にかかる発光装置200は、実施例1と同様に、マウント・リード105およびインナー・リード106を固定保持するパッケージ107と、マウント・リード105の凹部底面に固定されたLEDチップ102の電極をリード電極と接続するための導電性ワイヤー103と、モールド部材104とを有する。ここで、モールド部材104の一部は、パッケージ下部107aの側面に設けられた凹部内に延在し、延在部111を形成している。また、モールド部材105は砲弾型に成型可能なキャスティングケースにより成型され、パッケージ107は射出成型法により成型されるが、前者は熱硬化性樹脂を材料とし、後者は熱可塑性樹脂を材料とすることにより形成されている。図7に示されるようにモールド部材104は、発光装置200をモールド部材の上面側から観測したとき、パッケージ107の外縁より大きい。また、楕円bの長軸および短軸はともに楕円aのそれらより小さく、凹部201が形成されているパッケージ下部107aの側面と隣接するパッケージ側面方向(図7では長軸方向)において、楕円aと楕円bの間隔rが、凹部201が形成されているパッケージ側面方向における楕円aと楕円bとの間隔Rより狭くなっている。パッケージ下部107aをこのような特定形状とすることにより、モールド樹脂材料がリード電極が設けられているパッケージ下部107aの側面方向に流れ込むこと無く、優先的に凹部201の方に這い上がり易くなり、少なくともリード電極表面への樹脂バリの発生を抑えることができる。
【0052】
パッケージ上部107bの一部は、モールド部材104に被覆され、リード電極やLEDチップ102が、パッケージ107およびモールド部材104により外部環境から保護される。また、パッケージ上部107bの他の一部は、パッケージ107の側面から突出して張り出し部112を形成しており、モールド部材成型時において、モールド樹脂材料が張り出し部112でせき止められ、凹部201に優先的に流入するとともに、凹部201以外のパッケージ下部107a側面への這い上がりを防ぐことができる。
【0053】
本発明の発光装置の形成方法は、金属平板に打ち抜き加工を施し、分離して対向する正負一対のリード電極を形成する第一の工程と、内壁面に凸部が対向して設けられている上金型と、該上金型に嵌合可能な下金型によりリード電極を挟持し、熱可塑性樹脂を封止空間に注入することにより正負一対のリード電極の一部を被覆し、対向する凹部を側面に有するパッケージ107を一体成型する第二の工程と、LEDチップ102をリード電極に載置し、導電性ワイヤー103によりLEDチップ102とリード電極とを接続する第三の工程と、金型内に注入された熱硬化性樹脂中に、LEDチップ102が載置されたリード電極とパッケージ107の一部を載置し、熱硬化性樹脂を硬化させる第四の工程を含む。
【0054】
以下、図面を参照しながら本発明の発光装置の形成方法を順を追ってより詳細に説明する。
(工程1)
実施例1と同様に、LEDチップ102を載置可能な凹部を有するマウント・リード105とインナー・リード106とをリードフレーム108の一部として形成する。
(工程2)
次に、本実施例におけるパッケージ107の射出成型法による成型を説明する。本工程では、上金型と、該上金型に嵌合可能な下金型とをマウント・リード105およびインナー・リード106を挟持しながら突き合わせることにより、封止空間を形成する。このとき、上金型はパッケージ上部107bの張り出し部を成型するための凹部を有する。一方の下金型にはパッケージ下部107a側面の凹部201を成型するための凸部が対向して設けられており、さらに樹脂材料の注入口を有する。このように凸部と注入口の位置をほぼ一致させることにより、パッケージ成型時に形成される樹脂バリがモールド部材形成時に形成される延在部111で被覆され、発光装置全体の樹脂バリを最小限に抑えることが可能である。
【0055】
上記封止空間に対して、熱可塑性樹脂材料として液状のポリフタルアミド樹脂を注入し、冷却させる。このようにして、パッケージ107の側面から突出する張り出し部112と、パッケージ107に挿入されたリード電極とを有するパッケージ107を一体成型する。なお、硬化時のパッケージの熱膨張係数は、2.3×10−5〜8.6×10−5(1/℃)であった。また、本実施例において、パッケージの材料は、ポリフタルアミド樹脂に適量のガラス繊維を含有させた材料を使用した。
【0056】
図5(a)は、リードフレーム108に複数のパッケージが形成されたときの模式的な上面図であり、図5(b)は正面図である。
(工程3)
実施例1と同様に、LEDチップ102とマウント・リード105に設けた凹部底面との固定を行う。
(工程4)
導電性ワイヤー103によって、LEDチップ102の電極と、リード電極をワイヤーボンディング接続させる。
(工程5)
実施例1と同様に、キャスティングケースを金型としてモールド部材を成型する。
【0057】
まず、モールド部材を砲弾型に成型可能な凹部を有するキャスティングケースにエポキシ樹脂を注入し、該凹部をエポキシ樹脂で満たす。
【0058】
次に、マウント・リード105とインナー・リード106およびパッケージ上部107bのうち張り出し部112から上の部分をエポキシ樹脂中に載置する。このとき、モールド部材104を形成するのに過剰な量のエポキシ樹脂は、張り出し部112で堰き止められ、さらに間隔Rが間隔rより大きいことから、凹部201以外のパッケージ下部107a以下に流入することなく、凹部201に優先的に流れ込む。金型の温度をエポキシ樹脂の硬化温度150℃に設定し、所定の硬化時間経過後モールド部材が成型される。凹部201に流れ込んだエポキシ樹脂は、モールド部材104の延在部111を凹部201にて形成する。なお、硬化時のエポキシ樹脂の熱膨張係数は、14.5〜18.5(1/℃)であった。
(工程6)
最後に、マウント・リード105およびインナー・リード106をリードフレーム108から切り離すと、本発明の発光装置200が完成する。
【0059】
本実施例にかかる発光装置200は、従来技術と比較してモールド部材104が密集する状態で、高密度に実装可能である。また、リード電極を固定保持するパッケージ107の熱膨張係数はモールド部材104の熱膨張係数より小さいため、発光装置200が熱応力の影響を受けても、モールド部材104、特にリード電極間に介在しているモールド部材104がリード電極および導電性ワイヤー103に与える影響を小さくすることができる。さらに、リード電極表面へ樹脂バリを発生させることなく信頼性の高い半導体装置を形成することが可能である。
[実施例3]
LEDチップ102として、赤色系、緑色系および青色系の発光が可能なLEDチップをそれぞれの発光色について形成し、それぞれの発光色について発光装置を形成する。あるいは、赤色系、緑色系および青色系の蛍光を発する蛍光体をLEDチップと組み合わせ、それぞれの発光色について発光装置を形成する。また、モールド部材104に、赤色系、緑色系および青色系の各種着色剤をそれぞれ含有させた発光装置を、発光色が赤色系、緑色系および青色系ごとに形成する他は実施例1あるいは実施例2と同様に発光装置を形成する。
【0060】
本実施例のように構成することによって、カラーLEDディスプレイ用として使用することが可能な光学特性に優れた発光装置とすることができる。即ち、本実施例の発光装置は、パッケージ107の厚みを比較的大きくし、それに応じてモールド部材104の形状も大きくすることが可能である。したがって、導電体により配線が施された実装基板の表面に本実施例にかかる発光装置をハンダ付けした後、耐候性を持たせるために発光装置間をシリコン樹脂等の充填材で満たした場合であっても、該充填材がモールド部材表面の発光装置の光学特性に影響を与える部分に懸からないようにパッケージ107の厚み、あるいはコーティング部101表面、即ち発光面の実装面からの高さを自由に設計変更することが可能である。
【0061】
【発明の効果】
本発明は、実装基板に高密度に実装可能な半導体装置とすることができ、リード電極表面へ樹脂バリを発生させることなく信頼性の高い半導体装置を形成することが可能である。
【0062】
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な正面図である。
【図2】図2は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な断面図である。
【図3】図3は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な上面図である。
【図4】図4は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な背面図である。
【図5】図5は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の製造工程を示す模式的な上面図(a)および正面図(b)である。
【図6】図6は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な正面図である。
【図7】図7は、本発明の一実施例にかかる半導体装置の模式的な上面図である。
【図8】図8は、本発明と比較のために示す従来の表面実装型半導体装置の模式的な正面図である。
【符号の説明】
100、200・・・発光装置
101・・・コーティング部
102・・・LEDチップ
103・・・導電性ワイヤー
104・・・モールド部材
105・・・マウント・リード
106・・・インナー・リード
107・・・パッケージ
107a・・・パッケージ下部
107b・・・パッケージ上部
108・・・リードフレーム
109・・・支持部
110・・・ピッチ孔
111・・・モールド部材の延在部
112・・・張り出し部
10・・・表面実装型LED
11・・・樹脂部
12、13・・・リード電極
14、15・・・リード電極の露出部
16・・・ベース部
22・・・クリームハンダ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device in which a semiconductor element is molded with a resin material, and a resin molding method for a semiconductor element, and more particularly, in molding a sealing resin on a light emitting element mounting package molded using a resin as a material. The present invention relates to a technology for providing a light-emitting device that performs high-quality resin molding that prevents generation of resin burrs and has high reliability and excellent optical characteristics. The present invention also relates to an improvement of a surface-mounted light-emitting device that is mounted on a substrate surface provided with a conductor wiring.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, as a semiconductor device that can be directly mounted on a substrate having a conductive pattern on the mounting surface side, a light emitting element is placed and at least part of a lead electrode that supplies power to the light emitting element is inserted and integrally molded. There is a light emitting device in which a resin mold for covering a lead electrode and a light emitting element is molded on a resin package. For example, a conventional light emitting device as shown in a front view in FIG. 8 is configured such that the tip of the lead electrode exposed from the side surface of the resin package in the mounting surface direction is connected to the conductive pattern of the mounting substrate. The external electrode and the lead electrode are electrically connected to each other (see, for example, Patent Document 1).
[Patent Document 1]
Japanese Utility Model Publication No. 4-105561
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, when the mold member has a specific shape and size in order to give a desired light distribution to the light emitted from the light emitting device, it may be difficult to mount the light emitting device on the substrate at a high density. For example, in the case where a plurality of conventional
[0004]
Further, when a resin mold capable of obtaining a desired light distribution is formed on the package, a resin burr is generated at least on the surface of the package. When such a resin burr is generated by extending in a contact portion with the conductive pattern on the surface of the lead electrode, it becomes a factor that hinders electrical conduction between the lead electrode and the conductive pattern of the mounting substrate during mounting.
[0005]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device that can be mounted on a mounting substrate at a high density and prevents the generation of resin burrs on the surface of the lead electrode.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a light emitting device according to the present invention includes a semiconductor element placed on one of a pair of positive and negative lead electrodes, a conductor connecting the semiconductor element and the lead electrode, and the lead electrode. The lead electrode, at least a part of the support, and the semiconductor element are larger than the outer edge of the support when the semiconductor device is viewed from the upper surface side. The semiconductor device is covered with a light-sensitive member.
[0007]
If comprised in this way, it can be set as the semiconductor device which can be mounted in a mounting substrate with high density.
[0008]
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the shape of the interface between the support and the translucent member is a curved surface at least at the outer edge of the support. is there.
[0009]
If comprised in this way, generation | occurrence | production of the crack to a translucent member can be prevented even if a semiconductor device contracts and expand | swells by the influence of a heat | fever.
[0010]
According to a third aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to the first or second aspect, wherein the side surface of the support has a recess in which a part of the translucent member extends.
[0011]
With this configuration, a highly reliable semiconductor device that can be connected to the external electrode without generating resin burrs on the surface of the lead electrode can be obtained.
[0012]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the semiconductor device according to any one of the first to third aspects, wherein the support has a protruding portion on a side surface.
[0013]
With this configuration, it is possible to obtain a highly reliable semiconductor device that can be connected to the external electrode without generating resin burrs on the surface of the lead electrode.
[0014]
The invention according to claim 5 according to the present invention is the semiconductor device according to
[0015]
With this configuration, the translucent member does not fall off from the support due to the anchor effect of the projecting portion and the translucent member, so that a highly reliable semiconductor device can be obtained.
[0016]
According to a sixth aspect of the present invention, a semiconductor element mounted on one of a pair of positive and negative lead electrodes, a conductor connecting the semiconductor element and the lead electrode, and fixing the lead electrode A method for manufacturing a semiconductor device having a supporting body to be held and a translucent member that covers at least the semiconductor element, wherein a metal flat plate is punched to form a pair of positive and negative lead electrodes facing each other. The lead electrode is sandwiched between the first step, an upper mold having a convex portion facing the inner wall surface, and a lower mold that can be fitted to the upper mold, and the thermoplastic resin is sealed. A second step in which a part of the pair of positive and negative lead electrodes is coated by injecting into a space and a support body having a concave portion on the side surface is integrally formed; and the semiconductor element is mounted on the pair of positive and negative lead electrodes. Placed by the conductor A third step of connecting the semiconductor element and the lead electrode,
A fourth step of placing the lead electrode on which the semiconductor element is placed and a part of the support in the thermosetting resin injected into the mold and curing the thermosetting resin; A method for manufacturing a semiconductor device.
[0017]
With this configuration, a semiconductor device that can be mounted on the mounting substrate with high density can be obtained, and a highly reliable semiconductor device can be formed without generating resin burrs on the surface of the lead electrode.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the embodiment described below exemplifies a semiconductor device for embodying the technical idea of the present invention, and the present invention does not limit the semiconductor device to the following. Further, the size and positional relationship of the members shown in the drawings are exaggerated for clarity of explanation.
FIG. 1 is a front view of a semiconductor device according to the present embodiment, FIG. 3 is a top view, and FIG. 4 is a rear view. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along AA in FIG.
[0019]
A semiconductor device 100 according to the present invention as shown in FIG. 1 includes a
[0020]
The
6 is a front view of a
[0021]
In the
[0022]
A part of the upper portion 107b of the support is covered with a
[0023]
Hereafter, each structure of embodiment of this invention is explained in full detail.
(LED chip 102)
The semiconductor element used in the present invention may be a semiconductor element such as a light emitting element or a light receiving element, but the semiconductor element used in the present embodiment is an
[0024]
When a gallium nitride-based compound semiconductor is used, a material such as sapphire, spinel, SiC, Si, ZnO, or GaN is preferably used for the semiconductor substrate. In order to form gallium nitride with good crystallinity, it is more preferable to use a sapphire substrate. When a semiconductor film is grown on a sapphire substrate, it is preferable to form a gallium nitride semiconductor having a PN junction formed thereon by forming a buffer layer such as GaN or AlN. In addition, SiO on the sapphire substrate 2 A GaN single crystal itself selectively grown using as a mask can also be used as a substrate. In this case, after forming each semiconductor layer, SiO 2 It is also possible to separate the light emitting element and the sapphire substrate by etching away. The gallium nitride compound semiconductor exhibits N-type conductivity without being doped with impurities. In the case of forming a desired N-type gallium nitride semiconductor such as improving luminous efficiency, it is preferable to appropriately introduce Si, Ge, Se, Te, C, etc. as an N-type dopant. On the other hand, when a P-type gallium nitride semiconductor is formed, a P-type dopant such as Zn, Mg, Be, Ca, Sr, or Ba is doped.
[0025]
Since a gallium nitride compound semiconductor is difficult to be converted into a P-type simply by doping with a P-type dopant, it is preferably converted into a P-type by annealing with a furnace, low-energy electron beam irradiation, plasma irradiation, or the like after introduction of the P-type dopant. . Specific examples of the layer structure of the light-emitting element include an N-type contact layer, which is a gallium nitride semiconductor, and an aluminum nitride / gallium semiconductor on a sapphire substrate or silicon carbide having a buffer layer in which gallium nitride, aluminum nitride, or the like is formed at a low temperature. An N-type cladding layer, an active layer that is an indium gallium nitride semiconductor doped with Zn and Si, a P-type cladding layer that is an aluminum nitride-gallium semiconductor, and a P-type contact layer that is a gallium nitride semiconductor Are preferable. In order to form the LED chip 101, in the case of the LED chip 101 having a sapphire substrate, an exposed surface of a P-type semiconductor and an N-type semiconductor is formed by etching or the like, and then a sputtering method or a vacuum evaporation method is performed on the semiconductor layer. Each electrode is formed in a desired shape. In the case of a SiC substrate, a pair of electrodes can be formed using the conductivity of the substrate itself.
[0026]
Next, the formed semiconductor wafer or the like is directly fully cut by a dicing saw with a blade having a diamond cutting edge, or a groove having a width wider than the cutting edge width is cut (half cut), and then the semiconductor is applied by an external force. Break the wafer. Alternatively, after a very thin scribe line (meridian) is drawn on the semiconductor wafer by, for example, a grid shape by a scriber in which the diamond needle at the tip moves reciprocally linearly, the wafer is divided by an external force and cut into chips. In this manner, the
[0027]
The
(Conductive wire 103)
The
[0028]
Specific examples of such conductive wires include conductive wires using metals such as gold, copper, platinum, and aluminum, and alloys thereof. Such a conductive wire can easily connect the electrode of each LED chip to the inner lead, the mount lead, and the like by a wire bonding device.
(Mount lead 105)
As the
[0029]
The
(Inner lead 106)
The
[0030]
The inner lead is required to have good connectivity and electrical conductivity with a bonding wire or the like that is a conductive wire. The specific electric resistance is preferably 300 μΩ-cm or less, more preferably 3 μΩ-cm or less. Examples of materials that satisfy these conditions include iron, copper, iron-containing copper, tin-containing copper and copper, gold, silver plated aluminum, iron, copper, and the like.
(Coating part 101)
The coating portion 101 used in the present invention is provided in the cup of the mount lead separately from the
(Package 107)
The
[0031]
The interface between the package upper portion 107b and the
[0032]
Such a
[0033]
By using the thermoplastic resin as described above, the thermal expansion coefficient of the package material at the time of curing is smaller than the thermal expansion coefficient of the material of the mold member. For this reason, even when the light emitting device is used under a weather condition where the temperature varies greatly, and the mold member shrinks or expands due to heat, the lead electrode fixed and held in the package does not generate heat generated in the mold member. Since it is less affected by stress, it is possible to prevent the conductive wire bonded to the lead electrode from being cut. In this specification, a thermoplastic resin refers to a substance having a linear polymer structure that softens or liquefies when heated and hardens when cooled. Examples of such thermoplastic resins include styrene-based, acrylic-based, cellulose-based, polyethylene-based, vinyl-based, nylon-based, and fluorocarbon-based resins.
[0034]
Various dyes and pigments are preferably used as the colorant for coloring the
(Mold member 104)
The
[0035]
Moreover, when the main light emission wavelength of the light emitted from the LED chip is 430 nm or less, it is more preferable in terms of weather resistance to contain an ultraviolet absorber as a light stabilizer in the mold member.
(Phosphor)
In the light emitting device of the present invention, it is possible to use a phosphor in order to obtain a desired emission color by converting the wavelength of light emitted from the light emitting element. Such a phosphor is contained in the mold member, or is fixed to the surface of the light emitting element with a binder such as a translucent inorganic member.
[0036]
The phosphor used in the present invention refers to a particulate phosphor that emits light when excited by light emitted from at least the semiconductor light emitting layer of the
[0037]
The light emission color of the light emitting diode is the ratio between the particulate phosphor and the inorganic material such as various resins and glass that act as a binder for the particulate phosphor, the sedimentation time of the particulate phosphor, the shape of the particulate phosphor, etc. It is possible to provide an arbitrary white color tone such as a light bulb color by variously adjusting the light emission and selecting the light emission wavelength of the LED chip. It is preferable that the light from the LED chip and the light from the phosphor efficiently pass through the mold member outside the light emitting diode.
[0038]
Specific particulate phosphors include cadmium zinc sulfide activated with copper and one or more elements selected from rare earth elements, such as yttrium, aluminum, and garnet phosphors activated with cerium and Pr. Is mentioned. In particular, (Re 1-x Sm x ) 3 (Al 1-y Ga y ) 5 O 12 : Ce (0 ≦ x <1, 0 ≦ y ≦ 1, where Re is at least one element selected from the group consisting of Y, Gd, and La). Especially as a particulate phosphor (Re 1-x Sm x ) 3 (Al 1-y Ga y ) 5 O 12 : When Ce is used, the irradiance is (Ee) = 3 W · cm arranged in contact with or close to the LED chip -2 10W ・ cm -2 Even in the following, a light-emitting diode having sufficient light resistance with high efficiency can be obtained.
[0039]
(Re 1-x Sm x ) 3 (Al 1-y Ga y ) 5 O 12 : The Ce phosphor has a garnet structure and is resistant to heat, light and moisture, and can have an excitation spectrum peak near 470 nm. In addition, the emission peak is in the vicinity of 530 nm, and a broad emission spectrum that extends to 720 nm can be provided. Moreover, the emission wavelength is shifted to a short wavelength by substituting part of Al of the composition with Ga, and the emission wavelength is shifted to a long wavelength by substituting part of Y of the composition with Gd. In this way, it is possible to continuously adjust the emission color by changing the composition. Therefore, an ideal condition for converting white light emission by using blue light emission of the nitride semiconductor is provided such that the intensity on the long wavelength side is continuously changed by the composition ratio of Gd.
[0040]
Such phosphors use oxides or compounds that easily become oxides at high temperatures as raw materials for Y, Gd, Ce, Sm, Al, La and Ga, and mix them well in a stoichiometric ratio. And get the raw materials. Alternatively, a coprecipitated oxide obtained by calcining a solution obtained by coprecipitation of oxalic acid with a solution obtained by dissolving a rare earth element of Y, Gd, Ce, and Sm in an acid at a stoichiometric ratio, and aluminum oxide and gallium oxide. Mix to obtain a mixed raw material. An appropriate amount of fluoride such as ammonium fluoride is mixed with this as a flux, packed in a crucible, and fired in air at a temperature range of 1350 to 1450 ° C. for 2 to 5 hours to obtain a fired product. Next, the fired product is ball milled in water, washed, separated, dried, and finally passed through a sieve to obtain a desired particulate phosphor.
[0041]
In the light emitting diode of the present invention, the particulate phosphor may be a mixture of two or more kinds of particulate phosphors. That is, two or more types (Re) having different contents of Al, Ga, Y, La, Gd, and Sm. 1-x Sm x ) 3 (Al 1-y Ga y ) 5 O 12 : Ce phosphors can be mixed to increase RGB wavelength components. At present, there are variations in the emission wavelength of the semiconductor light emitting device, so that it is possible to obtain desired white light by mixing and adjusting two or more kinds of phosphors. Specifically, by adjusting the amount of phosphors having different chromaticity points in accordance with the emission wavelength of the light emitting element, the arbitrary points on the chromaticity diagram connected between the phosphors and the light emitting element are caused to emit light. be able to.
(Diffusion agent)
The mold member in this embodiment can contain a diffusing agent in order to improve the light emission luminance of the light emitting device. The diffusing agent contained in the mold member reduces scattering and absorption of light emitted from the light emitting element to the light emission observation surface side, and scatters a lot of light directed to the side of the light reflection layer to thereby emit light. The light emission luminance is improved. As such a diffusing agent, inorganic members such as barium oxide, barium titanate, barium oxide, silicon oxide, titanium oxide, and aluminum oxide, and organic members such as melamine resin, CTU guanamine resin, and benzoguanamine resin are preferably used.
[0042]
Similarly, various colorants can be added in order to have a filter effect of cutting unnecessary wavelengths from extraneous light and light emitting elements. Furthermore, various fillers that relieve internal stress of the resin can be contained.
(Filler)
Furthermore, in the present invention, a filler may be contained in the mold member in addition to or in place of the phosphor. The specific material is the same as that of the diffusing agent, but the central particle size is different from that of the diffusing agent. When the filler having such a particle size is contained in the translucent resin, the chromaticity variation of the light emitting device is improved by the light scattering action, and the thermal shock resistance of the translucent resin can be enhanced. The filler preferably has a particle size and / or shape similar to that of the phosphor. Here, in this specification, the similar particle diameter means a case where the difference in the central particle diameter of each particle is less than 20%, and the similar shape means an approximate degree of each particle diameter with a perfect circle. This represents a case where the difference in the value of the degree of circularity (circularity = perimeter length of a perfect circle equal to the projected area of the particle / perimeter length of the projected particle) is less than 20%. By using such a filler, the phosphor and the filler interact with each other, the phosphor can be favorably dispersed in the resin, and color unevenness is suppressed. Furthermore, it is preferable that both the phosphor and the filler have a center particle size of 15 μm to 50 μm, more preferably 20 μm to 50 μm. Thus, by adjusting the particle size, a preferable interval is provided between the particles. be able to. As a result, a light extraction path is ensured, and the directivity can be improved while suppressing a decrease in luminous intensity due to filler mixing. Moreover, when the phosphor and filler having such a particle size range are contained in the translucent resin and the sealing member is formed by the stencil printing method, clogging of the dicing blade is recovered in the dicing process after the sealing member is cured. A dresser effect can be brought about, and mass productivity is improved.
[0043]
【Example】
Examples according to the present invention will be described in detail below. Needless to say, the present invention is not limited to the following examples.
[Example 1]
FIG. 1 is a schematic top view of a light emitting device 100 according to the present embodiment, and FIG. 3 is a top view. 2 is a cross-sectional view of the light emitting device 100 in AA of FIG. 3, and FIG. 4 is a rear view.
[0044]
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the light emitting device 100 according to the present embodiment is inserted into the
[0045]
The method of forming the light emitting device 100 of the present invention includes a first step of punching a metal flat plate and forming lead electrodes so as to be separated and face each other in one direction, and a lower mold that can be fitted to an upper mold. A second step of sandwiching a lead electrode between the molds, injecting a thermoplastic material into a sealing space formed by both molds and integrally molding the
[0046]
Hereinafter, a method for forming a light emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Process 1)
First, the
(Process 2)
Next, molding of the
[0047]
FIG. 5A is a schematic top view when a plurality of packages are formed on the lead frame 108, and FIG. 5B is a front view. In this embodiment, the
(Process 3)
Next, adhesion between the
(Process 4)
The electrode of the
(Process 5)
Hereinafter, molding using the casting case of the
[0048]
An epoxy resin is injected into a casting case having a recess capable of molding the mold member into a bullet shape, and the recess is filled with the epoxy resin. Here, the inner diameter of the recess of the casting case is set such that the package upper part 107b having the lead electrode and the overhanging part can be completely inserted.
[0049]
(Step 6)
Finally, when the
[0050]
The light-emitting device according to the present example is a highly reliable light-emitting device that can be mounted with high density in a state where the mold members are denser than the prior art, and the mold members are not detached from the package. Can do. In addition, since the thermal expansion coefficient of the package for fixing and holding the lead electrode is smaller than the thermal expansion coefficient of the mold member, even if the light emitting device is affected by thermal stress, the mold member, particularly the mold member interposed between the lead electrodes Can reduce the influence on the lead electrode and the conductive wire.
[Example 2]
FIG. 6 is a schematic top view of the
[0051]
As shown in FIGS. 6 and 7, the
[0052]
A part of the package upper portion 107 b is covered with the
[0053]
The light emitting device forming method of the present invention includes a first step of punching a metal flat plate and forming a pair of positive and negative lead electrodes that are separated and opposed to each other, and a convex portion is provided on the inner wall surface. A lead electrode is sandwiched between an upper mold and a lower mold that can be fitted to the upper mold, and a portion of the pair of positive and negative lead electrodes is covered by injecting a thermoplastic resin into the sealing space and facing each other. A second step of integrally molding a
[0054]
Hereinafter, a method for forming a light emitting device of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(Process 1)
As in the first embodiment, the
(Process 2)
Next, molding of the
[0055]
A liquid polyphthalamide resin is injected as a thermoplastic resin material into the sealing space and cooled. In this manner, the
[0056]
FIG. 5A is a schematic top view when a plurality of packages are formed on the lead frame 108, and FIG. 5B is a front view.
(Process 3)
As in the first embodiment, the
(Process 4)
The electrode of the
(Process 5)
Similar to the first embodiment, a molding member is molded using the casting case as a mold.
[0057]
First, an epoxy resin is injected into a casting case having a recess capable of molding a mold member into a bullet shape, and the recess is filled with the epoxy resin.
[0058]
Next, of the
(Step 6)
Finally, when the
[0059]
The
[Example 3]
As the
[0060]
By configuring as in this embodiment, it is possible to provide a light emitting device with excellent optical characteristics that can be used for a color LED display. That is, in the light emitting device of this embodiment, the thickness of the
[0061]
【The invention's effect】
The present invention can be a semiconductor device that can be mounted on a mounting substrate with high density, and a highly reliable semiconductor device can be formed without generating resin burrs on the surface of the lead electrode.
[0062]
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic front view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a schematic top view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a schematic rear view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 5 is a schematic top view (a) and a front view (b) showing a manufacturing process of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a schematic front view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a schematic top view of a semiconductor device according to an example of the present invention.
FIG. 8 is a schematic front view of a conventional surface-mount type semiconductor device shown for comparison with the present invention.
[Explanation of symbols]
100, 200... Light emitting device
101 ... Coating part
102 ... LED chip
103 ... Conductive wire
104 ... Mold member
105 ... Mount lead
106 ... Inner lead
107 ... Package
107a ... lower part of package
107b ・ ・ ・ Upper part of package
108 ... Lead frame
109 ... support part
110 ... Pitch hole
111 ... Extension part of mold member
112 ... Overhang part
10 ... Surface mount LED
11 ... Resin part
12, 13 ... Lead electrode
14, 15 ... Exposed portion of the lead electrode
16 ... Base part
22 ... Cream solder
Claims (6)
前記リード電極および前記支持体の少なくとも一部並びに前記半導体素子は、前記半導体装置を上面側から視認したとき前記支持体の外縁より大きい透光性部材に被覆されていることを特徴とする半導体装置。A semiconductor device having a semiconductor element placed on one of a pair of positive and negative lead electrodes, a conductor connecting the semiconductor element and the lead electrode, and a support for fixing and holding the lead electrode,
The semiconductor device, wherein the lead electrode, at least a part of the support, and the semiconductor element are covered with a light-transmissive member that is larger than an outer edge of the support when the semiconductor device is viewed from the upper surface side. .
金属平板に打ち抜き加工を施し、分離して対向する正負一対のリード電極を形成する第一の工程と、
内壁面に凸部が対向して設けられている上金型と、該上金型に嵌合可能な下金型により前記リード電極を挟持し、熱可塑性樹脂を封止空間に注入することにより前記正負一対のリード電極の一部を被覆し、対向する凹部を側面に有する支持体を一体成型する第二の工程と、
前記半導体素子を前記正負一対のリード電極に載置し、前記導電体により前記半導体素子と前記リード電極とを接続する第三の工程と、
金型内に注入された熱硬化性樹脂中に、前記半導体素子が載置されたリード電極と前記支持体の一部を載置し、熱硬化性樹脂を硬化させる第四の工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。A semiconductor element mounted on one of a pair of positive and negative lead electrodes, a conductor that connects the semiconductor element and the lead electrode, a support that fixes and holds the lead electrode, and a transparent that covers at least the semiconductor element. A method for manufacturing a semiconductor device having an optical member,
A first step of punching a metal flat plate and forming a pair of positive and negative lead electrodes facing each other separately;
By sandwiching the lead electrode between an upper mold having convex portions provided on the inner wall surface and a lower mold that can be fitted to the upper mold, and injecting a thermoplastic resin into the sealed space A second step of integrally molding a support body that covers a part of the pair of positive and negative lead electrodes and that has opposing concave portions on its side surfaces;
A third step of placing the semiconductor element on the pair of positive and negative lead electrodes and connecting the semiconductor element and the lead electrode by the conductor;
A fourth step of placing the lead electrode on which the semiconductor element is placed and a part of the support in the thermosetting resin injected into the mold and curing the thermosetting resin; A method for manufacturing a semiconductor device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002344561A JP4254214B2 (en) | 2002-11-27 | 2002-11-27 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002344561A JP4254214B2 (en) | 2002-11-27 | 2002-11-27 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004179430A true JP2004179430A (en) | 2004-06-24 |
JP4254214B2 JP4254214B2 (en) | 2009-04-15 |
Family
ID=32706010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002344561A Expired - Fee Related JP4254214B2 (en) | 2002-11-27 | 2002-11-27 | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
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JP (1) | JP4254214B2 (en) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006019677A (en) * | 2004-07-02 | 2006-01-19 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Rgb light emitting diode package having improved color mixing property |
US7619260B2 (en) | 2004-08-10 | 2009-11-17 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Light-emitting diode and method for its production |
US7678592B2 (en) | 2005-02-17 | 2010-03-16 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | LED housing and fabrication method thereof |
US7771093B2 (en) | 2006-09-08 | 2010-08-10 | Nichia Corporation | Light emitting device |
-
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US7321137B2 (en) | 2004-07-02 | 2008-01-22 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | RGB light emitting diode package with improved color mixing properties |
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US7771093B2 (en) | 2006-09-08 | 2010-08-10 | Nichia Corporation | Light emitting device |
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