JP2004179320A - Semiconductor device - Google Patents

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Tetsumasa Meguro
哲正 目黒
Masakatsu Nakai
將勝 中井
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Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device with its power consumption efficiently reduced by constantly setting optimum data for each LSI. <P>SOLUTION: The semiconductor device has a replica control circuit 15 having a decoder circuit 151 for reading data to be determined by the state of fuse in the fuse circuit 152, and for generating a control signal SADJ for a replica circuit 12 by decoding the read data. The device further has a replica circuit 12 capable of selecting the number of stages in the line of elements according to the control signal SADJ indicating structural data set in the replica control circuit 15, and capable of adjusting the delay characteristics to be the same as the critical path characteristics of a target circuit 11. In this way, dispersion in characteristics due to the manufacturing process is properly dealt with after the manufacturing of LSIs. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するためのモニタ回路を有する半導体装置に係り、特に、ターゲット回路であるLSIに供給する電源電圧を適応的に制御して低消費電力化を図る技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体回路では、低電力化のために、電源電圧を下げる方法が一般的に取られている。これは半導体回路( LSI) の消費電力のAC成分が電源電圧の2乗に比例するためで、LSIの低消費電力化には電源電圧の低減が最も効果的であるからである。
【0003】
このような観点から、近年、LSIの動作周波数やプロセスばらつき、温度変化に対して、電源電圧を動的に制御し、LSIが動作可能な最低電圧を適応的に供給する方法が報告されている。
【0004】
このような適応的電源電圧制御を実現する例として、LSIのクリティカルパス相当の遅延を生成する遅延回路を搭載し、電源電圧制御の対象となるターゲット回路の動作クロック周波数と、この遅延回路の遅延値を比較して、遅延回路の遅延値が動作クロックサイクル以内に収まるように電源電圧を制御している(たとえば、特許文献1、特許文献2、特許文献3参照)。
【0005】
これらの半導体装置は、制御回路の制御信号により遅延値を調整可能な遅延素子を構成要素とし、所定周期の基準信号を入力とし、信号を伝播させるレプリカ回路を有している。
レプリカ回路に供給される制御信号は、レジスタに格納されたデータをデコーダにてデコードすることにより生成される。そして、レジスタに格納するデータを書き換えることにより、レプリカ回路の遅延特性を調整することができる。
このように、レプリカ回路の遅延特性をレジスタに格納するデータで調整可能なため、LSI製造後その遅延特性を測定してから、レジスタに格納するデータを決定することができる。
【0006】
【特許文献1】
特開2000−216338号公報
【特許文献2】
特開2000−295084号公報
【特許文献3】
特開2002−100967号公報
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
従来、LSIを製造後、その遅延特性を測定してから、レジスタに格納するデータを決定するが、そのLSIを構成要素とした電気製品を製造出荷する時点においては、既にデータを決定しておく必要がある。
したがって、製造初期の時点での限られた数量のサンプルの遅延特性からデータを決定する必要があり、その後大量にLSIおよびそれを構成要素とした電気製品を製造し、出荷していく時点においては、データの更新、すなわち、レジスタに値を設定するソフトウェアの更新ができなくなる。
このため、ある程度のマージンを考慮して設定データを決定しておく必要がある。
【0008】
この場合、データ決定後に製造に起因する特性のばらつきや製造プロセス変更等、LSI製造上の理由によりLSIの遅延特性に変化が生じても、それに対応することができない。
LSIの遅延特性が向上しマージンが大きくなった場合には、更なる低電力化が可能になるが、それを実現することができない。
また、LSIの遅延特性が悪化し、マージンが小さくなった場合には、LSIを誤動作させる可能性も発生するという不利益もある。
【0009】
本発明は、かかる事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、個々のLSIに対して常に最適なデータを設定することにより、効率良く低電力化を実現することができる半導体装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第1の観点は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有する半導体装置であって、上記遅延モニタ手段は、上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、さらに、上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する設定手段を有する。
【0011】
好適には、上記設定手段は、データを決定するためのフューズ回路を含み、上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って上記制御信号を生成する。
【0012】
また、好適には、上記設定手段は、外部からデータの書き込みが可能な不揮発性メモリを含み、上記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し、読み出しデータに従って上記制御信号を生成する。
【0013】
本発明の第2の観点は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有する半導体装置であって、上記遅延モニタ手段は、上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、さらに、上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する設定手段を有し、上記設定手段は、上記構成情報が設定されるレジスタと、レジスタの設定データの補正値を設定可能な補正値設定手段と、を含む。
【0014】
好適には、上記設定手段の補正値設定手段は、補正値を決定するためのフューズ回路を含み、上記設定手段は、上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って上記レジスタの設定データを補正し、補正後のデータの基づいて上記制御信号を生成する。
【0015】
また、好適には、上記設定手段の補正値設定手段は、補正値を外部から書き込み可能な不揮発性メモリを含み、上記設定手段は、上記不揮発性メモリに書き込まれた補正値を読み出し、読み出しデータに従って上記レジスタの設定データを補正し、補正後のデータの基づいて上記制御信号を生成する。
【0016】
本発明の第3の観点は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な設定手段を有する。
【0017】
好適には、上記設定手段は、データを決定するためのフューズ回路を含み、上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って無効化信号を生成する。
【0018】
また、好適には、上記設定手段は、外部からデータの書き込みが可能な不揮発性メモリを含み、上記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し、読み出しデータに従って無効化信号を生成する。
請求項7記載の半導体装置。
【0019】
本発明の第4の観点は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、上記遅延モニタ手段は、上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、さらに、上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する第1の設定手段と、上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な第2の設定手段とを有する。
【0020】
本発明の第5の観点は、ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、上記遅延モニタ手段は、上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、さらに、上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する第1の設定手段と、上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な第2の設定手段と、を有し、上記第1の設定手段は、上記構成情報が設定されるレジスタと、レジスタの設定データの補正値を設定可能な補正値設定手段と、を含む。
【0021】
本発明によれば、たとえばLSI製造後のLSI出荷試験の一部として、以下の処理が行われる。
まず、遅延モニタ手段およびターゲット回路の電源電圧遅延特性を取得する。次に、取得した電源電圧遅延特性をもとに、遅延モニタ手段がターゲット回路と同等の電源電圧遅延特性を実現する設定値を算出する。
そして、算出した設定値をフューズ回路に設定する。
すなわち、必要に応じて所望のビットに対応のフューズをレーザにより溶断して、算出した値を設定する。
設定手段においては、フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータがデコードされ、これにより、制御信号が生成されて遅延モニタ手段に出力される。
遅延モニタ手段では、設定手段に設定された構成情報を示す制御信号に従って素子列の段数を切り替えられる。これにより、遅延モニタ手段の特性がターゲット回路のクリティカルパスの特性と略同じ特性に調整される。
【0022】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の好適な実施形態を添付図面に関連付けて説明する。
【0023】
第1実施形態
図1は、本発明に係る半導体装置の第1の実施形態を示すブロック図である。
【0024】
本半導体装置10は、図1に示すように、ターゲット回路(TGT)11、遅延モニタ手段としてのレプリカ回路(RPLC)12、遅延検出回路(DLDET)13、電源電圧制御回路(PWRCTL)14、および設定手段としてのレプリカ制御回路(PRLCTL)15により構成されている。
【0025】
ターゲット回路11は、電源電圧電制御回路14により電源電圧VDDが供給され、伝送パスを有する、たとえばDSPあるいはCPU、その他の論理回路を含む半導体回路(LSI)により構成される。
【0026】
レプリカ回路12は、ターゲット回路11内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を有する複数の遅延素子を有し、電源電圧制御回路14により電源電圧VDDが供給される。
レプリカ回路12は、レプリカ制御回路15に設定された構成情報CNFを含む制御信号SADJに基づいて遅延素子列の構成を切り替え、切り替えた遅延素子列に、所定周期の基準信号SINを入力して構成した遅延素子列を伝播させ、伝播後の基準信号を信号S12として遅延検出回路13に出力する。
【0027】
図2は、本実施形態に係るレプリカ回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【0028】
このレプリカ回路12は、図2に示すように、構成を調整可能(切り替え可能)なゲート素子列121と配線遅延列1422により構成されている。
【0029】
ゲート素子列121は、基準信号SINの入力に対して直列に接続された複数のゲート素子1211−1,1211−2,1211−3,…,1211−nとセレクタ1212を有する。
セレクタ1212には、各ゲート素子1211−1〜14211−nの各出力端子が接続されており、レプリカ制御回路15による制御信号SADJに基づいて、ゲート素子1211−1〜1211−nの出力のいずれか、または、基準信号SINを選択して出力する。
【0030】
このように、レプリカ回路12は、レプリカ制御回路15に設定された構成情報を示す制御信号SADJに従って素子列の段数を切り替えることができ、レプリカ回路12の特性をターゲット回路11のクリティカルパスの特性と同じ特性に調整することが可能である。
【0031】
ここで、レプリカ回路12を構成する遅延素子としてゲート素子を例にあげたが、これに限定するものではなく、ゲート素子列と配線素子列を組み合わせた構成、その他LSI内部の信号遅延の要因となる遅延素子を加えても良い。
【0032】
遅延検出回路13は、基準信号SINに基づき、レプリカ回路12を伝播してきた信号S12の遅延時間を検出し、検出信号(指示信号)S13を電源電圧制御回路14に出力する。
遅延検出信号13は、たとえば基準信号SINとレプリカ回路12の遅延信号S12との位相を比較し、遅延信号S12が基準信号SINより1周期以上遅れている場合には、電源電圧VDDを高くするように指示する検出信号S13を生成し、1周期以上進んでいる場合には電源電圧VDDを低くするように指示する検出信号S13を生成する。
【0033】
電源電圧電制御回路14は、遅延検出回路13による検出信号S13が指示するように電源電圧VDDを調整して、ターゲット回路11およびレプリカ回路12に供給する。
【0034】
レプリカ制御回路15は、レプリカ回路12に所望の遅延素子列を構成するための構成情報CNFGが設定され、設定された構成情報をデコードし制御信号SADJとしてレプリカ回路12に供給する。
【0035】
図3は、本第1の実施形態に係るレプリカ制御回路15の構成例を示すブロック図であ。
【0036】
本レプリカ制御回路15は、図3に示すように、デコーダ回路151およびフューズ回路152により構成されている。
【0037】
デコーダ回路151は、フューズ回路152のフューズの状態により決定されるデータを読み出す機能を有し、読み出したデータをデコードすることによりレプリカ回路12への制御信号SADJを生成する。
製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性が測定され、その遅延特性に適応したレプリカ回路12の設定データをフューズ回路152に設定することが可能となる。
したがって、個々のLSIの遅延特性に応じた設定を製造後に設定することができる。
【0038】
図4は、本実施形態に係るフューズ回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【0039】
このフューズ回路152は、図4に示すように、nビットの値を設定できる回路であって、フューズF1521−1,F1521−2,…,F1521−n、nチャネルMOS(NMOS)トランジスタNT1521−1,NT1521−2,…,NT1521−n、およびラッチL1521−1,L1521−2,…,L1521−nを有している。
なお、本実施形態においては、NMOSトランジスタNT1521−1〜NT1521−nはフューズF1521−1〜F15231−nより高抵抗となるように設計されている。
【0040】
フューズF1521−1〜F1521−nの一端は電源電圧VSの供給ラインに接続され、他端はぞれぞれNMOSトランジスタNT1521−1〜NT1521−nのドレインに接続され、各NMOSトランジスタNT1521−1〜NT1521−nのソースは接地されている。そして、各NMOSトランジスタNT1521−1〜NT1521−nのゲートは、デコーダ回路151によるリードイネーブル信号RENの供給ラインに接続されている。
ラッチL1521−1〜L1521−nの端子Gがリードイネーブル信号RENの供給ラインに接続され、入力DがそれぞれフューズフューズF1521−1〜F1521−nの他端とNMOSトランジスタNT1521−1〜NT1521−nのドレインとの接続ノードND1521−1〜ND1521−nに接続されている。
ラッチL1521−1〜L1521−nは、たとえば端子Gへのリードイネーブル信号RENの立ち上がりのタイミングで入力Dから電源電圧VSのレベルのデータ「1」または接地レベルのデータ「0」をラッチし、立ち下がりのタイミングでタッチデータを反転させて端子XQから出力する。
【0041】
このような構成を有するレプリカ制御回路15において、デコーダ回路151よりフューズ回路152に対してリードイネーブル信号RENが供給され、イネーブル信号RENがハイレベルの期間に読み出し動作が行われる。
リードイネーブル信号RENがハイレベルののとき、NMOSトランジスタNT1521−m(1≦m≦n)がオンなる。
このとき、フューズF1521−mがレーザにより溶断されている場合には、NMOSトランジスタNT1521−mによりノードND1521−mは接地レベルとなる。一方、フューズF1521−mが溶断されていない場合には、フューズF1521−mがNMOSトランジスタNT1521−mより低抵抗であるためノードND1521−mが電源電圧VSレベルとなる。
ラッチL1521−mでは、リードイネーブル信号RENがハイレベルのときにノードND1521−mの値がラッチされ、その反転信号が出力される。
【0042】
図4の例では、1ビット目はフューズF1521−1が溶断されていないため、ノードND1521−1は電源電圧VSレベルとなり、ラッチL1521−1は「0」を出力する。
また、2ビット目はフューズF1521−2が溶断されているため、ノードND1521−2は接地レベルとなり、ラッチL1521−2は「1」を出力する。
3ビット目はフューズF1521−3が溶断されていないため、ノードND1521−3は電源電圧VSレベルとなり、ラッチL1521−3は「0」を出力する。
また、nビット目はフューズF1521−nが溶断されているため、ノードND1521−nは接地レベルとなり、ラッチL1521−nは「1」を出力する。
【0043】
次に、上記構成による動作を、図5のフローチャートに関連付けて説明する。図5は、本実施形態に係るレプリカ制御回路15に構成情報としての値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【0044】
図5の処理は、LSI製造後のLSI出荷試験の一部として、以下の処理が行われる。
まず、ステップST1において、レプリカ回路12およびターゲット回路11の電源電圧遅延特性を取得する。
次に、ステップST2において、ステップST1にて取得した電源電圧遅延特性をもとに、レプリカ回路12がターゲット回路11と同等の電源電圧遅延特性を実現する設定値を算出する。
そして、ステップST3において、ステップST12にて算出した設定値をフューズ回路152に設定する。
すなわち、必要に応じて所望のビットに対応のフューズをレーザにより溶断して、算出した値を設定する。
【0045】
レプリカ制御回路15においては、デコーダ回路151よりフューズ回路152に対してリードイネーブル信号RENが供給され、イネーブル信号RENがハイレベルの期間に読み出し動作が行われる。
デコーダ回路151では、フューズ回路152のフューズの状態により決定されるデータがデコードされ、これにより、制御信号SADJが生成されてレプリカ回路12に出力される。
【0046】
レプリカ回路12では、レプリカ制御回路15に設定された構成情報を示す制御信号SADJに従って素子列の段数を切り替えられる。これにより、レプリカ回路12の特性がターゲット回路11のクリティカルパスの特性と略同じ特性に調整される。
レプリカ回路12においては、切り替えた遅延素子列に、所定周期の基準信号SINが伝播され、伝播後の基準信号が遅延信号S12として遅延検出回路13に出力される。
【0047】
遅延検出回路13において、基準信号SINとレプリカ回路12の遅延信号S12との位相が比較される。比較の結果、遅延信号S12が基準信号SINより1周期以上遅れている場合には、電源電圧VDDを高くするように指示する検出信号S13が生成され、1周期以上進んでいる場合には電源電圧VDDを低くするように指示する検出信号S13が生成されて、電源電圧制御回路14に出力される。
【0048】
そして、電源電圧電制御回路14では、遅延検出回路13による検出信号S13が指示するように電源電圧VDDが調整されて、ターゲット回路11およびレプリカ回路12に供給される。
【0049】
以上説明したように、本第1の実施形態によれば、フューズ回路152のフューズの状態により決定されるデータを読み出す機能を有し、読み出したデータをデコードすることによりレプリカ回路12への制御信号SADJを生成するデコーダ151を有するレプリカ制御回路15と、レプリカ制御回路15に設定された構成情報を示す制御信号SADJに従って素子列の段数を切り替えることができ、遅延特性をターゲット回路11のクリティカルパスの特性と同じ特性に調整することが可能なレプリカ回路12を設けたので、LSI製造後に、製造に起因する特性のばらつきの変化に対応することができる。
また、LSI製造後に、製造に起因する製造プロセス変更による特性の変化に対応することができ、LSIチップを製造した後に、遅延素子の遅延値を変更することができる。
さらに、値を設定するソフトウェアを変更する必要がなく、同一のソフトウェアを利用できる。
また、過大なマージン設定を防ぐことができ、予想よりマージンが小さい場合に、設定を増やすことで誤動作を防ぐことができる。
さらにまた、トラッキングがとれなくなった場合に機能を無効化できる。
【0050】
第2実施形態
図6は、本発明に係る半導体装置の第2の実施形態を説明するための図である。
【0051】
本第2の実施形態が上述した第1の実施形態と異なる点は、レプリカ制御回路15Aにおいて、フューズ回路を設ける代わりに、不揮発性メモリ153を設けたことにある。
【0052】
本第2の実施形態においても、製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性を測定し、その遅延特性に適応したレプリカ回路の設定データを不揮発性メモリ153に書き込むことが可能となる。
したがって、個々のLSIの遅延特性に応じた設定を製造後に設定することができる。
【0053】
レプリカ制御回路15Aにおいて、デコーダ回路151は、不揮発性メモリ153からデータを読み出す機能を有し、読み出したデータをデコードすることによりレプリカ回路12への制御信号SADJを生成する。
第2の実施形態における値設定手順は、第1の実施形態で説明した図5のフローチャートと同様の手順となる。ただし、ステップST2にて算出した設定値をステップST3にて不揮発性メモリ153に書き込む。
【0054】
第2の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
【0055】
第3実施形態
図7は、本発明に係る半導体装置の第3の実施形態を説明するための図である。
【0056】
本第3の実施形態が上述した第1の実施形態と異なる点は、レプリカ制御回路15Bが、デコーダ回路151B、フューズ回路152に加えてレジスタ154を有することにある。この場合、フューズ回路152により補正値設定手段が構成される。
【0057】
本第3の実施形態に係るレプリカ制御回路15Bにおいて、デコーダ回路151Bは、フューズ回路152の状態により決定されるデータを読み出す機能を有し、フューズ回路152から読み出したデータに従って、レジスタ154に格納されたデータに補正を施してデコードすることによりレプリカ回路12への制御信号SADJを生成する。
【0058】
本第3の実施形態においては、出荷開始当初にある数量のサンプルの遅延特性を測定し、その時点で適当と判断されるデータをレジスタ154に格納するようにしておく。
その後、製造出荷の時点において製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性を測定し、その遅延特性が当初想定した遅延特性と異なる場合には、補正値をフューズ152に設定する。
したがって、個々のLSIの遅延特性に応じた設定を製造後に設定することができる。
【0059】
図8は、本第3実施形態に係るレプリカ制御回路15Bに構成情報としての値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【0060】
図8の処理は、LSI製造後のLSI出荷試験の一部として以下の処理が行われる。
まず、ステップST11において、ソフトウェアから書き込まれる値をレジスタ154に書き込む。
次に、ステップST12において、レプリカ回路12およびターゲット回路12の電源電圧遅延特性を取得する。
ステップST13において、ステップST12にて取得した電源電圧遅延特性をもとに、レプリカ回路12がターゲット回路11と同等の電源電圧遅延特性を実現しているか否かを判断し、ステップST11にてレジスタ154に書き込まれた設定値が妥当であるか否かを判断する。
そして、設定値が妥当である場合には、これにて処理は終了する。
ステップST13において、設定値が妥当ではなく補正が必要と判断された場合には、ステップST14にて取得したレプリカ回路12とターゲット回路11の電源電圧遅延特性をもとに、適当な補正値を算出する。
そして、ステップST15において、ステップST14て算出した設定値をフューズ回路152に設定する。
すなわち、必要に応じて所望のビットに対応のフューズをレーザにより溶断して、算出した値を設定する。
【0061】
レプリカ制御回路15Bにおいては、デコーダ回路151Bよりフューズ回路152に対してリードイネーブル信号RENが供給され、イネーブル信号RENがハイレベルの期間に読み出し動作が行われる。
デコーダ回路151Bでは、フューズ回路152のフューズの状態により決定されるデータがデコードされ、これに基づきレジスタ154に格納されたデータが補正されて、補正データがデコードされてレプリカ回路12への制御信号SADJが生成される。
【0062】
第3の実施形態によれば、上述した第1の実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
すなわち、LSI製造後に、製造に起因する特性のばらつきの変化に対応することができる。
また、LSI製造後に、製造に起因する製造プロセス変更による特性の変化に対応することができ、LSIチップを製造した後に、遅延素子の遅延値を変更することができる。
さらに、レジスタに値を設定するソフトウェアを変更する必要がなく、同一のソフトウェアを利用できる。
また、過大なマージン設定を防ぐことができ、予想よりマージンが小さい場合に、設定を増やすことで誤動作を防ぐことができる。
さらにまた、トラッキングがとれなくなった場合に機能を無効化できる。
【0063】
第4実施形態
図9は、本発明に係る半導体装置の第4の実施形態を説明するための図である。
【0064】
本第4の実施形態が上述した第3の実施形態と異なる点は、レプリカ制御回路15Cにおいて、フューズ回路を設ける代わりに、不揮発性メモリ153Cを設けたことにある。
【0065】
本第4の実施形態においても、出荷開始当初にある数量のサンプルの遅延特性を測定し、その時点で適当と判断されるデータをレジスタに格納するようにしておく。
その後、製造出荷の時点において製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性を測定し、その遅延特性が当初想定した遅延特性と異なる場合には、補正値を不揮発性メモリ153Cに書き込む。
したがって、個々のLSI の遅延特性に応じた設定を製造後に設定することができる。
【0066】
レプリカ制御回路15Cにおいて、デコーダ回路151Bは、不揮発性メモリ153Cからデータを読み出す機能を有し、不揮発性メモリ153Cから読み出したデータに従って、レジスタ154に格納されたデータに補正を施してデコードすることによりレプリカ回路12への制御信号SADJを生成する。
第4の実施形態における値設定手順は、第3の実施形態で説明した図8のフローチャートと同様の手順となる。ただし、ステップST14にて算出した設定値をステップST15にて不揮発性メモリ153Cに書き込む。
【0067】
第4の実施形態によれば、上述した第3の実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
【0068】
第5実施形態
図10は、本発明の係る半導体装置の第5の実施形態を示すブロック図である。
【0069】
本第5の実施形態が上述した第1〜第4の実施形態と異なる点は、遅延検出回路13Dに、固定の電源電圧VDDの生成指示を行うためのデータ(無効化データ)を設定可能な第2の設定手段としてのフューズ回路16を設け、遅延検出回路13Dは、レプリカ回路12を伝播してきた信号S12の遅延時間を検出し、電源電圧の指示信号S13を生成する機能に加えて、フューズ回路16の状態により決定されるデータ(無効化信号)を読み出す機能を有し、フューズ回路16から読み出したデータに従って、LSIが動作可能な電源電圧の指示信号S13を生成する機能も有することにある。
第5の実施形態においては、無効化信号に応じた指示信号S13を受けた電源電圧制御回路14は、電源電圧VDDの値をモニタ結果に基づいて調整する機能を停止し、固定値の電源電圧VDDの供給を行う。
第5の実施形態においては、レプリカ回路12により第1の設定手段が構成され、遅延検出回路13Dおよび電源電圧制御回路14により電源電圧制御機能が構成される。
【0070】
図11は、本第5実施形態に係るレプリカ制御回路およびフューズ回路に構成情報および電源電圧設定用の値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【0071】
図11の処理は、LSI製造後のLSI 出荷試験の一部として行われる。
まず、ステップST21において、レプリカ回路12およびターゲット回路11の電源電圧遅延特性を取得する。
ここでたとえば、レプリカ制御回路15が第3の実施形態あるいは第4の実施形態の場合には、ソフトウェアから書き込まれる値をレジスタに書き込んだ後、電源電圧遅延特性を取得する。
次に、ステップST22において、取得したレプリカ回路12およびターゲット回路11の電源電圧遅延特性から、設定値およびLSIの動作を確認することによりLSIの動作を保証できるか否かを判断する。
レプリカ制御回路が第3の実施形態あるいは第4の実施形態の場合には、補正値を算出し、設定可能な補正値の範囲内にてLSIの動作を保証できるか否かを判断する。
動作保証不可能と判断された場合には、ステップST23にて、このことを意味する無効化データをフューズ回路16に設定する。
【0072】
本第5の実施形態においては、製造出荷の時点において製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性を測定し、その遅延特性が当初想定した遅延特性と異なり、レプリカ回路12の設定を更新するだけでは、LSIの動作を保証できない場合には、このことを意味するデータをフューズ回路16に設定することにより、LSIの動作を保証することができる。
【0073】
第6実施形態
図12は、本発明の係る半導体装置の第6の実施形態を示すブロック図である。
【0074】
本第6の実施形態が上述した第5の実施形態と異なる点は、フューズ回路16を設ける代わりに、不揮発性メモリ17を設けたことにある。
【0075】
本第6の実施形態において、遅延検出回路13Eは、レプリカ回路12を伝播してきた信号S12の遅延時間を検出し、可変の電源電圧VDD生成を指示する指示信号S13を生成する。
加えて、遅延検出回路13Eは、不揮発性メモリ17からデータを読み出す機能を有し、不揮発性メモリ17から読み出したデータに従って、LSIが動作可能な固定の電源電圧VDD生成を指示する指示信号S13を生成する機能も有する。
製造出荷の時点において製造されたLSIはそのテスト工程において、遅延特性を測定し、その遅延特性が当初想定した遅延特性と異なり、レプリカ回路12の設定を更新するだけでは、LSIの動作を保証できない場合には、このことを意味するデータを不揮発性メモリ17に書き込むことにより、LSIの動作を保証することができる。
【0076】
第6の実施形態における値設定手順は、第5の実施形態で説明した図11のフローチャートと同様の手順となる。ただし、ステップST22にて判断した結果、LSIの動作を保証不可能であることを意味するデータをステップST23にて不揮発性メモリ17に書き込む。
【0077】
第6の実施形態によれば、上述した第5の実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
【0078】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、LSI製造後に、製造に起因する特性のばらつきの変化に対応することができる。
また、LSI製造後に、製造に起因する製造プロセス変更による特性の変化に対応することができ、LSIチップを製造した後に、遅延素子の遅延値を変更することができる。
さらに、レジスタに値を設定するソフトウェアを変更する必要がなく、同一のソフトウェアを利用できる。
また、過大なマージン設定を防ぐことができ、予想よりマージンが小さい場合に、設定を増やすことで誤動作を防ぐことができる。
さらにまた、トラッキングがとれなくなった場合に機能を無効化できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置の第1の実施形態を示すブロック図である。
【図2】本実施形態に係るレプリカ回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【図3】第1の実施形態に係るレプリカ制御回路の構成例を示すブロック図である。
【図4】本実施形態に係るフューズ回路の具体的な構成例を示す回路図である。
【図5】本第1の実施形態に係るレプリカ制御回路に構成情報としての値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【図6】本発明に係る半導体装置の第2の実施形態を説明するための図である。
【図7】本発明に係る半導体装置の第3の実施形態を説明するための図である。
【図8】本第3実施形態に係るレプリカ制御回路に構成情報としての値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【図9】本発明に係る半導体装置の第4の実施形態を説明するための図である。
【図10】本発明の係る半導体装置の第5の実施形態を示すブロック図である。
【図11】本第5実施形態に係るレプリカ制御回路およびフューズ回路に構成情報および電源電圧設定用の値を設定する処理を説明するためのフローチャートである。
【図12】本発明の係る半導体装置の第6の実施形態を示すブロック図である。
【符号の説明】
10,10A〜10E…半導体装置、11…ターゲット回路(TGT)、12…レプリカ回路(RPLC)、13,13D,13E…遅延検出回路(DLDET)、14…電源電圧制御回路(PWRCTL)、15,15A〜15D…レプリカ制御回路(ROCTL)、16…フューズ回路、17…不揮発性メモリ、1121…ゲート素子列、1211−1〜1211−n…ゲート素子、1212…セレクタ、151,151B…デコーダ回路、152…フューズ回路、153,153C…不揮発性メモリ、154…レジスタ。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a semiconductor device having a monitor circuit for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and in particular, to reduce power consumption by adaptively controlling a power supply voltage supplied to an LSI which is a target circuit. It is about technology.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, in a semiconductor circuit, a method of lowering a power supply voltage has been generally adopted to reduce power consumption. This is because the AC component of the power consumption of the semiconductor circuit (LSI) is proportional to the square of the power supply voltage, and the reduction of the power supply voltage is most effective in reducing the power consumption of the LSI.
[0003]
From such a viewpoint, in recent years, there has been reported a method of dynamically controlling a power supply voltage with respect to an operating frequency, a process variation, and a temperature change of an LSI, and adaptively supplying a minimum voltage at which the LSI can operate. .
[0004]
As an example of realizing such adaptive power supply voltage control, a delay circuit for generating a delay equivalent to a critical path of an LSI is mounted, an operation clock frequency of a target circuit to be controlled by the power supply voltage, and a delay of the delay circuit. By comparing the values, the power supply voltage is controlled so that the delay value of the delay circuit falls within the operation clock cycle (for example, see Patent Document 1, Patent Document 2, and Patent Document 3).
[0005]
These semiconductor devices include a delay element whose delay value can be adjusted by a control signal of a control circuit as a component, and a replica circuit that receives a reference signal of a predetermined cycle as input and propagates the signal.
The control signal supplied to the replica circuit is generated by decoding data stored in the register by a decoder. Then, the delay characteristics of the replica circuit can be adjusted by rewriting the data stored in the register.
As described above, since the delay characteristic of the replica circuit can be adjusted by the data stored in the register, the data to be stored in the register can be determined after measuring the delay characteristic after manufacturing the LSI.
[0006]
[Patent Document 1]
JP 2000-216338 A
[Patent Document 2]
JP 2000-295084 A
[Patent Document 3]
JP-A-2002-100967
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
Conventionally, after manufacturing an LSI, data to be stored in a register is determined after measuring a delay characteristic thereof. However, data is already determined at the time of manufacturing and shipping an electric product including the LSI as a component. There is a need.
Therefore, it is necessary to determine the data from the delay characteristics of a limited number of samples at the early stage of manufacturing, and thereafter, when manufacturing and shipping a large amount of LSIs and electrical products using the same as components, In other words, data cannot be updated, that is, software for setting a value in a register cannot be updated.
Therefore, it is necessary to determine the setting data in consideration of a certain margin.
[0008]
In this case, even if a change occurs in the delay characteristic of the LSI due to reasons for manufacturing the LSI, such as a variation in characteristics due to manufacturing or a change in the manufacturing process after the data is determined, it cannot be accommodated.
When the delay characteristic of the LSI is improved and the margin is increased, further reduction in power becomes possible, but it cannot be realized.
Further, when the delay characteristic of the LSI is deteriorated and the margin is reduced, there is a disadvantage that the LSI may malfunction.
[0009]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of efficiently realizing low power consumption by always setting optimal data for each LSI. It is to be.
[0010]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a first aspect of the present invention is a semiconductor device having delay monitoring means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, wherein the delay monitoring means is provided inside the target circuit. Including a delay component that causes a signal propagation delay, the semiconductor device includes a plurality of delay elements that form a delay element array according to a supplied control signal, and further includes desired configuration information for forming the delay element array. There is a setting means which can be set after the semiconductor device is manufactured and which generates the control signal based on the set data and outputs the control signal to the delay monitoring means.
[0011]
Preferably, the setting means includes a fuse circuit for determining data, reads data determined by a fuse state of the fuse circuit, and generates the control signal according to the read data.
[0012]
Preferably, the setting means includes a non-volatile memory to which data can be written from the outside, reads the data written in the non-volatile memory, and generates the control signal according to the read data.
[0013]
According to a second aspect of the present invention, there is provided a semiconductor device having delay monitoring means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, wherein the delay monitoring means causes a signal propagation delay inside the target circuit. A plurality of delay elements including a delay component and forming a delay element array according to a supplied control signal are provided, and desired configuration information for forming the delay element array can be set after manufacturing the semiconductor device. And setting means for generating the control signal based on the set data and outputting the control signal to the delay monitor means, the setting means comprising: a register in which the configuration information is set; and a correction value of the register setting data. Correction value setting means that can set
[0014]
Preferably, the correction value setting means of the setting means includes a fuse circuit for determining a correction value, wherein the setting means reads data determined by a fuse state of the fuse circuit, and reads the data according to the read data. The register setting data is corrected, and the control signal is generated based on the corrected data.
[0015]
Preferably, the correction value setting means of the setting means includes a non-volatile memory capable of externally writing the correction value, and the setting means reads the correction value written in the non-volatile memory, and reads the read data. , The setting data of the register is corrected according to the above formula, and the control signal is generated based on the corrected data.
[0016]
According to a third aspect of the present invention, there is provided delay monitoring means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a value of a power supply voltage supplied to the target circuit is determined based on a result of delay monitoring by the delay monitoring means. A semiconductor device including a power supply voltage control function for controlling, comprising setting means capable of setting data for invalidating the power supply voltage control function and supplying a fixed power supply voltage to the target circuit after manufacturing the semiconductor device.
[0017]
Preferably, the setting means includes a fuse circuit for determining data, reads data determined by a fuse state of the fuse circuit, and generates an invalidation signal according to the read data.
[0018]
Preferably, the setting means includes a non-volatile memory to which data can be written from the outside, reads the data written in the non-volatile memory, and generates an invalidation signal according to the read data.
The semiconductor device according to claim 7.
[0019]
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a delay monitor for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a value of a power supply voltage supplied to the target circuit is determined based on a result of the delay monitor by the delay monitor. A semiconductor device including a power supply voltage control function for controlling, wherein the delay monitoring means includes a delay component which causes a signal propagation delay inside the target circuit, and forms a delay element row according to a supplied control signal. A plurality of delay elements, the desired configuration information for forming the delay element array can be set after the semiconductor device is manufactured, and the control signal is generated based on the set data to generate the control signal. First setting means for outputting to the means, data for causing the target circuit to supply a fixed power supply voltage by disabling the power supply voltage control function. And a second setting means settable to post-production.
[0020]
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a delay monitor for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a value of a power supply voltage supplied to the target circuit is determined based on a result of the delay monitor by the delay monitor. A semiconductor device including a power supply voltage control function for controlling, wherein the delay monitoring means includes a delay component which causes a signal propagation delay inside the target circuit, and forms a delay element row according to a supplied control signal. A plurality of delay elements, the desired configuration information for forming the delay element array can be set after the semiconductor device is manufactured, and the control signal is generated based on the set data to generate the control signal. First setting means for outputting to the means, data for causing the target circuit to supply a fixed power supply voltage by disabling the power supply voltage control function. Second setting means that can be set after the device is manufactured. The first setting means is a register in which the configuration information is set, and a correction value setting means that can set a correction value of the setting data of the register. And
[0021]
According to the present invention, the following processing is performed, for example, as part of an LSI shipping test after LSI manufacture.
First, the power supply voltage delay characteristics of the delay monitor and the target circuit are obtained. Next, based on the obtained power supply voltage delay characteristics, the delay monitor calculates a set value for realizing the same power supply voltage delay characteristics as that of the target circuit.
Then, the calculated set value is set in the fuse circuit.
That is, if necessary, the fuse corresponding to the desired bit is blown by a laser, and the calculated value is set.
The setting means decodes data determined by the fuse state of the fuse circuit, thereby generating a control signal and outputting the control signal to the delay monitoring means.
In the delay monitoring means, the number of stages of the element row can be switched according to a control signal indicating the configuration information set in the setting means. As a result, the characteristic of the delay monitor is adjusted to be substantially the same as the characteristic of the critical path of the target circuit.
[0022]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
[0023]
First embodiment
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention.
[0024]
As shown in FIG. 1, the semiconductor device 10 includes a target circuit (TGT) 11, a replica circuit (RPLC) 12 as delay monitoring means, a delay detection circuit (DLDET) 13, a power supply voltage control circuit (PWRCTL) 14, and A replica control circuit (PRLCTL) 15 as setting means is configured.
[0025]
The target circuit 11 controls the power supply voltage VDDAnd a semiconductor circuit (LSI) having a transmission path, for example, including a DSP or CPU, and other logic circuits.
[0026]
The replica circuit 12 has a plurality of delay elements having a delay component that causes a signal propagation delay inside the target circuit 11, and the power supply voltage control circuit 14 controls the power supply voltage VDDIs supplied.
The replica circuit 12 switches the configuration of the delay element array based on the control signal SADJ including the configuration information CNF set in the replica control circuit 15, and inputs the reference signal SIN having a predetermined cycle to the switched delay element array. The reference signal after propagation is output to the delay detection circuit 13 as a signal S12.
[0027]
FIG. 2 is a circuit diagram illustrating a specific configuration example of the replica circuit according to the present embodiment.
[0028]
As shown in FIG. 2, the replica circuit 12 includes a gate element column 121 whose configuration can be adjusted (switchable) and a wiring delay column 1422.
[0029]
The gate element row 121 has a plurality of gate elements 1211-1, 1211-2, 1211-3,..., 1211-n and a selector 1212 connected in series to the input of the reference signal SIN.
Each output terminal of each of the gate elements 1211-1 to 14211-n is connected to the selector 1212, and based on a control signal SADJ from the replica control circuit 15, any one of the outputs of the gate elements 1211-1 to 1211-n is output. Alternatively, the reference signal SIN is selected and output.
[0030]
As described above, the replica circuit 12 can switch the number of stages of the element row according to the control signal SADJ indicating the configuration information set in the replica control circuit 15, and the characteristics of the replica circuit 12 are different from those of the critical path of the target circuit 11. It is possible to adjust to the same characteristics.
[0031]
Here, a gate element has been described as an example of a delay element constituting the replica circuit 12. However, the present invention is not limited to this. For example, a configuration in which a gate element row and a wiring element row are combined and other factors of signal delay inside the LSI Further delay elements may be added.
[0032]
The delay detection circuit 13 detects a delay time of the signal S12 transmitted through the replica circuit 12 based on the reference signal SIN, and outputs a detection signal (instruction signal) S13 to the power supply voltage control circuit 14.
The delay detection signal 13 compares, for example, the phase of the reference signal SIN with the phase of the delay signal S12 of the replica circuit 12. When the delay signal S12 lags behind the reference signal SIN by one cycle or more, the power supply voltage VDDIs generated, and a detection signal S13 for instructing the power supply voltage to be higher is generated.DDThe detection signal S13 instructing to lower the threshold value is generated.
[0033]
The power supply voltage control circuit 14 controls the power supply voltage V so that the detection signal S13 from the delay detection circuit 13 indicates.DDIs adjusted and supplied to the target circuit 11 and the replica circuit 12.
[0034]
The replica control circuit 15 sets configuration information CNFG for configuring a desired delay element array in the replica circuit 12, decodes the set configuration information, and supplies the decoded configuration information to the replica circuit 12 as a control signal SADJ.
[0035]
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration example of the replica control circuit 15 according to the first embodiment.
[0036]
The replica control circuit 15 includes a decoder circuit 151 and a fuse circuit 152, as shown in FIG.
[0037]
The decoder circuit 151 has a function of reading data determined by the state of the fuse of the fuse circuit 152, and generates a control signal SADJ to the replica circuit 12 by decoding the read data.
The delay characteristics of the manufactured LSI are measured in the test process, and the setting data of the replica circuit 12 adapted to the delay characteristics can be set in the fuse circuit 152.
Therefore, the setting according to the delay characteristic of each LSI can be set after manufacturing.
[0038]
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration example of the fuse circuit according to the present embodiment.
[0039]
As shown in FIG. 4, this fuse circuit 152 is a circuit that can set an n-bit value, and includes fuses F1521-1, F1521-2,..., F1521-n, and an n-channel MOS (NMOS) transistor NT1521-1. , NT1521-2, ..., NT152-n, and latches L1521-1, L1521-2, ..., L1521-n.
In the present embodiment, the NMOS transistors NT1521-1 to NT1521-n are designed to have higher resistance than the fuses F1521-1 to F15231-n.
[0040]
One end of each of the fuses F1521-1 to F1521-n is connected to a supply line for the power supply voltage VS, and the other end is connected to the drain of each of the NMOS transistors NT1521-1 to NT1521-n. The source of NT1521-n is grounded. The gate of each of the NMOS transistors NT1521-1 to NT1521-n is connected to a supply line of a read enable signal REN by the decoder circuit 151.
The terminals G of the latches L1521-1 to L1521-n are connected to the supply line of the read enable signal REN, and the input D is connected to the other ends of the fuses F1521-1 to F1521-n and the NMOS transistors NT152-1 to NT152-n, respectively. The drains are connected to connection nodes ND1521-1 to ND1521-n.
The latches L1521-1 to L1521-n latch the data "1" of the power supply voltage VS or the data "0" of the ground level from the input D at the rising timing of the read enable signal REN to the terminal G, for example. The touch data is inverted at the falling timing and output from the terminal XQ.
[0041]
In the replica control circuit 15 having such a configuration, the read enable signal REN is supplied from the decoder circuit 151 to the fuse circuit 152, and the read operation is performed while the enable signal REN is at a high level.
When the read enable signal REN is at a high level, the NMOS transistor NT1521-m (1 ≦ m ≦ n) turns on.
At this time, when the fuse F1521-m is blown by the laser, the node ND1521-m is set to the ground level by the NMOS transistor NT1521-m. On the other hand, when the fuse F1521-m is not blown, the node ND1521-m is at the power supply voltage VS level because the fuse F1521-m has a lower resistance than the NMOS transistor NT1521-m.
In the latch L1521-m, the value of the node ND1521-m is latched when the read enable signal REN is at a high level, and the inverted signal is output.
[0042]
In the example of FIG. 4, since the fuse F1521-1 is not blown in the first bit, the node ND1521-1 is at the power supply voltage VS level, and the latch L1521-1 outputs "0".
In the second bit, since the fuse F1521-2 is blown, the node ND1521-2 is at the ground level, and the latch L1521-2 outputs "1".
In the third bit, since the fuse F1521-3 is not blown, the node ND1521-3 is at the power supply voltage VS level, and the latch L1521-3 outputs "0".
Since the fuse F1521-n is blown at the n-th bit, the node ND1521-n is at the ground level, and the latch L1521-n outputs "1".
[0043]
Next, the operation of the above configuration will be described with reference to the flowchart of FIG. FIG. 5 is a flowchart illustrating a process of setting a value as configuration information in the replica control circuit 15 according to the present embodiment.
[0044]
In the processing of FIG. 5, the following processing is performed as a part of an LSI shipping test after manufacturing the LSI.
First, in step ST1, the power supply voltage delay characteristics of the replica circuit 12 and the target circuit 11 are obtained.
Next, in step ST2, based on the power supply voltage delay characteristics acquired in step ST1, a set value at which the replica circuit 12 realizes a power supply voltage delay characteristic equivalent to that of the target circuit 11 is calculated.
Then, in step ST3, the set value calculated in step ST12 is set in the fuse circuit 152.
That is, if necessary, the fuse corresponding to the desired bit is blown by a laser, and the calculated value is set.
[0045]
In the replica control circuit 15, the read enable signal REN is supplied from the decoder circuit 151 to the fuse circuit 152, and the read operation is performed while the enable signal REN is at a high level.
The decoder circuit 151 decodes data determined by the state of the fuse in the fuse circuit 152, thereby generating a control signal SADJ and outputting it to the replica circuit 12.
[0046]
In the replica circuit 12, the number of stages in the element row can be switched according to the control signal SADJ indicating the configuration information set in the replica control circuit 15. Thereby, the characteristics of the replica circuit 12 are adjusted to substantially the same characteristics as the characteristics of the critical path of the target circuit 11.
In the replica circuit 12, the reference signal SIN having a predetermined period is propagated to the switched delay element array, and the propagated reference signal is output to the delay detection circuit 13 as the delay signal S12.
[0047]
In the delay detection circuit 13, the phases of the reference signal SIN and the delay signal S12 of the replica circuit 12 are compared. As a result of the comparison, when the delay signal S12 is delayed by one cycle or more from the reference signal SIN, the power supply voltage VDDIs generated, and a detection signal S13 for instructing the power supply voltage to be higher is generated.DDIs generated and output to the power supply voltage control circuit 14.
[0048]
Then, in the power supply voltage control circuit 14, the power supply voltage VDDIs adjusted and supplied to the target circuit 11 and the replica circuit 12.
[0049]
As described above, according to the first embodiment, the function of reading data determined by the state of the fuse of the fuse circuit 152 is provided, and the control signal to the replica circuit 12 is provided by decoding the read data. A replica control circuit 15 having a decoder 151 for generating SADJ and a control signal SADJ indicating configuration information set in the replica control circuit 15 can switch the number of stages of the element row, and can set the delay characteristic of the critical path of the target circuit 11 Since the replica circuit 12 that can be adjusted to the same characteristics as the characteristics is provided, it is possible to cope with a change in variation in characteristics due to manufacturing after manufacturing the LSI.
Further, it is possible to cope with a change in characteristics due to a change in a manufacturing process due to manufacturing after the LSI is manufactured, and it is possible to change a delay value of a delay element after manufacturing an LSI chip.
Further, there is no need to change the software for setting the value, and the same software can be used.
Further, an excessive margin setting can be prevented, and when the margin is smaller than expected, a malfunction can be prevented by increasing the setting.
Furthermore, the function can be disabled when tracking can no longer be obtained.
[0050]
Second embodiment
FIG. 6 is a diagram for explaining a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[0051]
The second embodiment is different from the first embodiment in that a nonvolatile memory 153 is provided in the replica control circuit 15A instead of providing a fuse circuit.
[0052]
Also in the second embodiment, the manufactured LSI can measure the delay characteristics in the test process, and write the setting data of the replica circuit adapted to the delay characteristics to the nonvolatile memory 153.
Therefore, the setting according to the delay characteristic of each LSI can be set after manufacturing.
[0053]
In the replica control circuit 15A, the decoder circuit 151 has a function of reading data from the nonvolatile memory 153, and generates a control signal SADJ to the replica circuit 12 by decoding the read data.
The value setting procedure in the second embodiment is similar to the procedure of the flowchart in FIG. 5 described in the first embodiment. However, the set value calculated in step ST2 is written to the nonvolatile memory 153 in step ST3.
[0054]
According to the second embodiment, the same effects as those of the above-described first embodiment can be obtained.
[0055]
Third embodiment
FIG. 7 is a diagram for explaining a third embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[0056]
The difference of the third embodiment from the first embodiment is that the replica control circuit 15B has a register 154 in addition to the decoder circuit 151B and the fuse circuit 152. In this case, the fuse circuit 152 forms a correction value setting unit.
[0057]
In the replica control circuit 15B according to the third embodiment, the decoder circuit 151B has a function of reading data determined by the state of the fuse circuit 152, and stores the data in the register 154 according to the data read from the fuse circuit 152. The control signal SADJ to the replica circuit 12 is generated by correcting the decoded data and decoding.
[0058]
In the third embodiment, the delay characteristics of a certain number of samples are measured at the beginning of shipment, and data determined to be appropriate at that time is stored in the register 154.
Thereafter, in the test process, the LSI manufactured at the time of manufacture and shipment measures delay characteristics, and if the delay characteristics differ from the initially assumed delay characteristics, a correction value is set in the fuse 152.
Therefore, the setting according to the delay characteristic of each LSI can be set after manufacturing.
[0059]
FIG. 8 is a flowchart for explaining a process of setting a value as configuration information in the replica control circuit 15B according to the third embodiment.
[0060]
In the processing of FIG. 8, the following processing is performed as a part of an LSI shipping test after manufacturing the LSI.
First, in step ST11, a value written from software is written into the register 154.
Next, in step ST12, the power supply voltage delay characteristics of the replica circuit 12 and the target circuit 12 are obtained.
In step ST13, based on the power supply voltage delay characteristics obtained in step ST12, it is determined whether or not the replica circuit 12 has realized the same power supply voltage delay characteristics as the target circuit 11, and in step ST11, the register 154 is determined. It is determined whether the set value written in is valid.
Then, if the set value is appropriate, the process ends here.
If it is determined in step ST13 that the set value is not appropriate and correction is necessary, an appropriate correction value is calculated based on the power supply voltage delay characteristics of the replica circuit 12 and the target circuit 11 acquired in step ST14. I do.
Then, in step ST15, the set value calculated in step ST14 is set in the fuse circuit 152.
That is, if necessary, the fuse corresponding to the desired bit is blown by a laser, and the calculated value is set.
[0061]
In the replica control circuit 15B, the read enable signal REN is supplied from the decoder circuit 151B to the fuse circuit 152, and the read operation is performed while the enable signal REN is at a high level.
The decoder circuit 151B decodes the data determined by the fuse state of the fuse circuit 152, corrects the data stored in the register 154 based on the decoded data, decodes the corrected data, and outputs a control signal SADJ to the replica circuit 12. Is generated.
[0062]
According to the third embodiment, the same effects as those of the above-described first embodiment can be obtained.
That is, it is possible to cope with a change in variation in characteristics due to manufacturing after manufacturing the LSI.
Further, it is possible to cope with a change in characteristics due to a change in a manufacturing process due to manufacturing after the LSI is manufactured, and it is possible to change a delay value of a delay element after manufacturing an LSI chip.
Further, there is no need to change software for setting a value in a register, and the same software can be used.
Further, an excessive margin setting can be prevented, and when the margin is smaller than expected, a malfunction can be prevented by increasing the setting.
Furthermore, the function can be disabled when tracking can no longer be obtained.
[0063]
Fourth embodiment
FIG. 9 is a diagram for explaining a fourth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[0064]
The fourth embodiment is different from the third embodiment in that a nonvolatile memory 153C is provided in the replica control circuit 15C instead of providing a fuse circuit.
[0065]
Also in the fourth embodiment, the delay characteristics of a certain number of samples are measured at the beginning of shipping, and data determined to be appropriate at that time is stored in a register.
Thereafter, in the test process, the LSI manufactured at the time of manufacture and shipment measures the delay characteristics, and if the delay characteristics differ from the initially assumed delay characteristics, writes the correction value into the nonvolatile memory 153C.
Therefore, the setting according to the delay characteristics of each LSI can be set after manufacturing.
[0066]
In the replica control circuit 15C, the decoder circuit 151B has a function of reading data from the nonvolatile memory 153C, and corrects and decodes the data stored in the register 154 according to the data read from the nonvolatile memory 153C. A control signal SADJ for the replica circuit 12 is generated.
The value setting procedure in the fourth embodiment is similar to the procedure in the flowchart of FIG. 8 described in the third embodiment. However, the set value calculated in step ST14 is written to the nonvolatile memory 153C in step ST15.
[0067]
According to the fourth embodiment, it is possible to obtain the same effect as that of the third embodiment described above.
[0068]
Fifth embodiment
FIG. 10 is a block diagram showing a fifth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[0069]
The fifth embodiment is different from the first to fourth embodiments in that a fixed power supply voltage VDDA fuse circuit 16 is provided as second setting means capable of setting data (invalidation data) for instructing the generation of the signal S12, and the delay detection circuit 13D detects the delay time of the signal S12 transmitted through the replica circuit 12. In addition to the function of generating the power supply voltage instruction signal S13, the LSI has a function of reading data (invalidation signal) determined by the state of the fuse circuit 16, and the LSI operates according to the data read from the fuse circuit 16. It also has a function of generating an instruction signal S13 of a possible power supply voltage.
In the fifth embodiment, the power supply voltage control circuit 14 receiving the instruction signal S13 corresponding to the invalidation signalDDIs stopped based on the result of monitoring, and the fixed value of the power supply voltage VDDSupply.
In the fifth embodiment, the replica circuit 12 configures a first setting unit, and the delay detection circuit 13D and the power supply voltage control circuit 14 configure a power supply voltage control function.
[0070]
FIG. 11 is a flowchart illustrating a process of setting configuration information and a value for setting a power supply voltage in the replica control circuit and the fuse circuit according to the fifth embodiment.
[0071]
The process of FIG. 11 is performed as a part of an LSI shipping test after manufacturing the LSI.
First, in step ST21, the power supply voltage delay characteristics of the replica circuit 12 and the target circuit 11 are obtained.
Here, for example, in the case where the replica control circuit 15 is the third embodiment or the fourth embodiment, a value written from software is written into a register, and then a power supply voltage delay characteristic is obtained.
Next, in step ST22, it is determined from the obtained power supply voltage delay characteristics of the replica circuit 12 and the target circuit 11 whether the operation of the LSI can be guaranteed by checking the set value and the operation of the LSI.
In the case where the replica control circuit is the third embodiment or the fourth embodiment, a correction value is calculated, and it is determined whether or not the operation of the LSI can be guaranteed within a settable correction value range.
If it is determined that the operation cannot be guaranteed, invalidation data indicating this is set in the fuse circuit 16 in step ST23.
[0072]
In the fifth embodiment, in the LSI manufactured at the time of manufacture and shipment, the delay characteristic is measured in the test process, and the delay characteristic differs from the initially assumed delay characteristic, and the setting of the replica circuit 12 is updated. If the operation of the LSI alone cannot be guaranteed, the operation of the LSI can be guaranteed by setting data indicating this to the fuse circuit 16.
[0073]
Sixth embodiment
FIG. 12 is a block diagram showing a sixth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[0074]
The sixth embodiment is different from the fifth embodiment in that a nonvolatile memory 17 is provided instead of the fuse circuit 16.
[0075]
In the sixth embodiment, the delay detection circuit 13E detects the delay time of the signal S12 propagated through the replica circuit 12, and detects the variable power supply voltage VDDAn instruction signal S13 for instructing generation is generated.
In addition, the delay detection circuit 13E has a function of reading data from the nonvolatile memory 17, and according to the data read from the nonvolatile memory 17, a fixed power supply voltage V at which the LSI can operate.DDIt also has a function of generating an instruction signal S13 for instructing generation.
In an LSI manufactured at the time of manufacture and shipment, the delay characteristic is measured in the test process, and the delay characteristic is different from the delay characteristic assumed at the beginning, and the operation of the LSI cannot be guaranteed only by updating the setting of the replica circuit 12. In such a case, the operation of the LSI can be guaranteed by writing data indicating this to the nonvolatile memory 17.
[0076]
The value setting procedure in the sixth embodiment is similar to the procedure of the flowchart in FIG. 11 described in the fifth embodiment. However, as a result of the determination in step ST22, data indicating that the operation of the LSI cannot be guaranteed is written to the nonvolatile memory 17 in step ST23.
[0077]
According to the sixth embodiment, it is possible to obtain the same effects as those of the fifth embodiment described above.
[0078]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, it is possible to respond to a change in variation in characteristics due to manufacturing after manufacturing LSI.
Further, it is possible to cope with a change in characteristics due to a change in a manufacturing process due to manufacturing after the LSI is manufactured, and it is possible to change a delay value of a delay element after manufacturing an LSI chip.
Further, there is no need to change software for setting a value in a register, and the same software can be used.
Further, an excessive margin setting can be prevented, and when the margin is smaller than expected, a malfunction can be prevented by increasing the setting.
Furthermore, the function can be disabled when tracking can no longer be obtained.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment of a semiconductor device according to the present invention.
FIG. 2 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a replica circuit according to the embodiment.
FIG. 3 is a block diagram illustrating a configuration example of a replica control circuit according to the first embodiment.
FIG. 4 is a circuit diagram showing a specific configuration example of a fuse circuit according to the embodiment.
FIG. 5 is a flowchart illustrating a process of setting a value as configuration information in the replica control circuit according to the first embodiment.
FIG. 6 is a diagram for explaining a second embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
FIG. 7 is a diagram for explaining a third embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
FIG. 8 is a flowchart illustrating a process of setting a value as configuration information in a replica control circuit according to the third embodiment.
FIG. 9 is a view for explaining a fourth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
FIG. 10 is a block diagram showing a fifth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
FIG. 11 is a flowchart illustrating a process of setting configuration information and a value for setting a power supply voltage in a replica control circuit and a fuse circuit according to a fifth embodiment;
FIG. 12 is a block diagram showing a sixth embodiment of the semiconductor device according to the present invention.
[Explanation of symbols]
10, 10A to 10E: semiconductor device, 11: target circuit (TGT), 12: replica circuit (RPLC), 13, 13D, 13E: delay detection circuit (DLDET), 14: power supply voltage control circuit (PWRCTL), 15, 15A to 15D: replica control circuit (ROCTL), 16: fuse circuit, 17: nonvolatile memory, 1211: gate element row, 1211-1 to 1211-n: gate element, 1212: selector, 151, 151B: decoder circuit, 152: fuse circuit; 153, 153C: nonvolatile memory; 154: register.

Claims (11)

ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有する半導体装置であって、
上記遅延モニタ手段は、
上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、
さらに、
上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する設定手段
を有する半導体装置。
A semiconductor device having delay monitoring means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit,
The delay monitoring means includes:
Including a delay component causing a signal propagation delay inside the target circuit, having a plurality of delay elements forming a delay element row according to the supplied control signal,
further,
Desirable configuration information for forming the delay element array can be set after manufacturing the semiconductor device, and the setting device generates the control signal based on the set data and outputs the control signal to the delay monitoring device.
上記設定手段は、データを決定するためのフューズ回路を含み、上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って上記制御信号を生成する
請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said setting means includes a fuse circuit for determining data, reads data determined by a fuse state of said fuse circuit, and generates said control signal according to the read data.
上記設定手段は、外部からデータの書き込みが可能な不揮発性メモリを含み、上記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し、読み出しデータに従って上記制御信号を生成する
を有する請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein said setting means includes a non-volatile memory to which data can be written from the outside, reads the data written in said non-volatile memory, and generates said control signal according to the read data.
ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有する半導体装置であって、
上記遅延モニタ手段は、
上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、
さらに、
上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する設定手段を有し、
上記設定手段は、
上記構成情報が設定されるレジスタと、
レジスタの設定データの補正値を設定可能な補正値設定手段と、を含む
半導体装置。
A semiconductor device having delay monitoring means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit,
The delay monitoring means includes:
Including a delay component causing a signal propagation delay inside the target circuit, having a plurality of delay elements forming a delay element row according to the supplied control signal,
further,
Desired configuration information for forming the delay element array can be set after the semiconductor device is manufactured, and has setting means for generating the control signal based on the set data and outputting the control signal to the delay monitoring means,
The setting means,
A register in which the configuration information is set;
A correction value setting unit that can set a correction value of setting data of a register.
上記設定手段の補正値設定手段は、補正値を決定するためのフューズ回路を含み、
上記設定手段は、
上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って上記レジスタの設定データを補正し、補正後のデータの基づいて上記制御信号を生成する
請求項4記載の半導体装置。
The correction value setting means of the setting means includes a fuse circuit for determining a correction value,
The setting means,
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein data determined by a fuse state of the fuse circuit is read, setting data of the register is corrected according to the read data, and the control signal is generated based on the corrected data.
上記設定手段の補正値設定手段は、補正値を外部から書き込み可能な不揮発性メモリを含み、
上記設定手段は、
上記不揮発性メモリに書き込まれた補正値を読み出し、読み出しデータに従って上記レジスタの設定データを補正し、補正後のデータの基づいて上記制御信号を生成する
請求項4記載の半導体装置。
The correction value setting means of the setting means includes a nonvolatile memory capable of externally writing a correction value,
The setting means,
5. The semiconductor device according to claim 4, wherein a correction value written in said non-volatile memory is read out, the setting data of said register is corrected according to the read data, and said control signal is generated based on the corrected data.
ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、
上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な設定手段
を有する半導体装置。
Semiconductor having delay monitor means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a power supply voltage control function for controlling a value of a power supply voltage supplied to the target circuit based on a delay monitor result of the delay monitor means A device,
A semiconductor device having setting means for disabling the power supply voltage control function and setting data for supplying a fixed power supply voltage to the target circuit after manufacturing the semiconductor device.
上記設定手段は、データを決定するためのフューズ回路を含み、上記フューズ回路のフューズの状態により決定されるデータを読み出し、読み出しデータに従って無効化信号を生成する
請求項7記載の半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein said setting means includes a fuse circuit for determining data, reads data determined by a fuse state of said fuse circuit, and generates an invalidation signal according to the read data.
上記設定手段は、外部からデータの書き込みが可能な不揮発性メモリを含み、上記不揮発性メモリに書き込まれたデータを読み出し、読み出しデータに従って無効化信号を生成する
請求項7記載の半導体装置。
8. The semiconductor device according to claim 7, wherein said setting means includes a non-volatile memory to which data can be externally written, reads the data written in said non-volatile memory, and generates an invalidation signal according to the read data.
ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、
上記遅延モニタ手段は、
上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、
さらに、
上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する第1の設定手段と、
上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な第2の設定手段と
を有する半導体装置。
Semiconductor having delay monitor means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a power supply voltage control function for controlling a value of a power supply voltage supplied to the target circuit based on a delay monitor result of the delay monitor means A device,
The delay monitoring means includes:
Including a delay component causing a signal propagation delay inside the target circuit, having a plurality of delay elements forming a delay element row according to the supplied control signal,
further,
First setting means for setting desired configuration information for forming the delay element array after manufacturing the semiconductor device, generating the control signal based on the set data, and outputting the control signal to the delay monitoring means;
And a second setting unit that can set data for disabling the power supply voltage control function and supplying a fixed power supply voltage to the target circuit after manufacturing the semiconductor device.
ターゲット回路のクリティカルパス遅延特性を把握するための遅延モニタ手段を有し、上記遅延モニタ手段の遅延モニタ結果に基づいて上記ターゲット回路に供給する電源電圧の値を制御する電源電圧制御機能を含む半導体装置であって、
上記遅延モニタ手段は、
上記ターゲット回路内部の信号伝播遅延の要因となる遅延成分を含み、供給される制御信号に応じた遅延素子列を形成する複数の遅延素子を有し、
さらに、
上記遅延素子列を形成するための所望の構成情報が当該半導体装置製造後に設定可能で、設定されたデータに基づく上記制御信号を生成して上記遅延モニタ手段に出力する第1の設定手段と、
上記電源電圧制御機能を無効化し固定した電源電圧を上記ターゲット回路に供給させるデータを当該半導体装置製造後に設定可能な第2の設定手段と、を有し、
上記第1の設定手段は、
上記構成情報が設定されるレジスタと、
レジスタの設定データの補正値を設定可能な補正値設定手段と、を含む
半導体装置。
Semiconductor having delay monitor means for grasping a critical path delay characteristic of a target circuit, and a power supply voltage control function for controlling a value of a power supply voltage supplied to the target circuit based on a delay monitor result of the delay monitor means A device,
The delay monitoring means includes:
Including a delay component causing a signal propagation delay inside the target circuit, having a plurality of delay elements forming a delay element row according to the supplied control signal,
further,
First setting means for setting desired configuration information for forming the delay element array after manufacturing the semiconductor device, generating the control signal based on the set data, and outputting the control signal to the delay monitoring means;
A second setting unit that can set data for disabling the power supply voltage control function and supplying a fixed power supply voltage to the target circuit after manufacturing the semiconductor device;
The first setting means includes:
A register in which the configuration information is set;
A correction value setting unit that can set a correction value of setting data of a register.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US20190229732A1 (en) * 2012-12-12 2019-07-25 Texas Instruments Incorporated Adaptive voltage scaling using temperature and performance sensors

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