JP2004177593A

JP2004177593A - Substrate for electro-optical device, method for manufacturing same, electro-optical device, and electronic apparatus

Info

Publication number: JP2004177593A
Application number: JP2002342495A
Authority: JP
Inventors: Keiji Takizawa; 圭二瀧澤; Toshinori Uehara; 利範上原
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-11-26
Filing date: 2002-11-26
Publication date: 2004-06-24
Anticipated expiration: 2022-11-26
Also published as: JP4284977B2

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent display characteristics from deteriorating due to a recess, in an electro-optical device constituted to use a substrate having a layer with the recess. <P>SOLUTION: A color filter substrate 11, i.e. the substrate for the electro-optical device has an over-coat layer 22 with the recess 28. The side of the recess 28 is a slope 47 of which a part slopes gradually, the residual part is at least any one from among which slopes sharply, which is a substantially at right angles or which slopes outwardly from the edge of the recess. Disconnection of an electrode 23a can be prevented, by having the gentle slope 47. In addition, if the side except therefor is formed at a steep slope or at right angles, the layer thickness of a liquid crystal layer 14 can be prevented from becoming unfinished between a thick part E and a thin part F. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶装置等といった電気光学装置に用いられる基板、その基板の製造方法、その電気光学装置、その電気光学装置を用いて形成される電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、携帯電話機、携帯情報端末機等といった電子機器に、液晶装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各種情報を視覚的に表示するために電気光学装置が用いられている。
【０００３】
電気光学装置の一例である液晶装置を見ると、この液晶装置は、一般に、一対の基板と、それらの基板間に形成される間隙、いわゆるセルギャップ内に封入された液晶とを有する。この液晶装置として、従来、室内光、太陽光等といった外部光を液晶パネル内で反射させて表示に利用する方式の、いわゆる反射型液晶装置と、照明装置から出て液晶パネルを透過する光を表示に利用する方式の、いわゆる透過型液晶装置と、さらには、反射型表示及び透過型表示の両方を希望に応じて選択的に行うことができる、いわゆる半透過反射型の液晶装置等といった各種の液晶装置が知られている。
【０００４】
上記半透過反射型の液晶装置として次の構成、すなわち、液晶パネルの内部に反射層を設け、さらにその反射層の一部に開口を形成することにより、反射層によって外部光を反射して液晶層に供給し、開口を通して透過光を液晶層に供給するという構成の液晶装置が知られている。また、上記の開口を形成することに代えて、反射層の層厚を薄くして透過部を形成するという構成も知られている。
【０００５】
このような半透過反射のための構成に関しては、外部光を反射層で反射させて液晶層に供給する反射型表示時には外部光が液晶層を往復の２回通過する一方で、透過型表示時に透過部を通って液晶層へ供給された光は液晶層を１回だけしか通過しない。このため、何等の措置も施しておかないと、反射型表示及び透過型表示の一方を明るく表示するように設定したとき他方が暗くなってしまい、両方を揃って良好な表示条件に設定することが難しいという問題があった。
【０００６】
この問題を解消するため、従来、液晶装置を構成する一方の基板の表面に、窪みを備えた層を形成するという技術が提案されている。この技術によれば、例えば透過部に対応して窪みを位置させることにより、透過部に対応する液晶層の層厚と、反射部に対応する液晶層の層厚とに変化を持たせることができ、これにより、透過部と反射部との間で表示品質を均一にできる（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
【特許文献１】
特開２００１−２２１９９５号公報（第５頁、図１）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような窪みを備えた層を基材上に設けるという従来の基板においては、フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を実行して窪みを形成する際に、その窪みを形成する壁、すなわち窪みの側面に傾斜すなわちテーパが形成されていた。このようなテーパは、製造手法の関係上、必然的に形成されてしまうという事情もあるし、あるいは、窪みを備えた層の上に電極が形成される場合等においてその電極が窪みの所で断線しないようにするという事情も考えられる。
【０００９】
しかしながら、テーパが形成されている部分は、液晶層の厚みに関して言うと、液晶層が薄い部分でもないし、液晶装置が厚い部分でもないし、光学的には中途半端な部分であり、このため、表示特性が悪くなるおそれがある。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、窪みを備えた層を有する基板を用いて構成された電気光学装置において、その窪みがあるために表示特性が悪くなることを防止することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
（１）上記の目的を達成するため、本発明に係る電気光学装置用基板は、窪みを備えた層を有する電気光学装置用基板において、前記窪みの側面は、その一部が緩く傾斜する勾配を有し、前記側面の残りの部分は、前記勾配よりも急に傾斜するか、略直角か、前記窪みの縁よりも外側へ傾斜するかの少なくともいずれか１つであることを特徴とする。
【００１２】
この基板によれば、窪みの側面の一部、すなわち窪みを形成する壁の一部には必ず緩い傾斜部分が設けられるので、窪みが形成されている層の上に電極等が形成されるような場合でも、その電極が窪みの所で断線するという不都合がほとんど発生しない。さらに、緩い傾斜部分が設けられるのは窪みの一部分だけであるので、液晶層等といった電気光学物質の層の層厚が中途半端になる領域は非常に限られた領域だけになり、このため、表示品質が悪くなるという不都合もほとんど発生しない。
【００１３】
なお、上記構成において、「急に傾斜する」とは、電気光学物質の層の層厚が光学的に見て中途半端にならないように、層の薄い領域から層の厚い領域へと急激に変化する範囲内で傾斜しているということである。「急な傾斜」であるか「緩い傾斜」であるかの境界は、上記の機能に基づいて判断されるものであって、具体的な数値で特定することは難しいが、例えば、角度４５°以上は急であると考えられる。
【００１４】
なお、窪みの側面に関して、緩く傾斜する部分以外の残り部分に、窪みの外側へ傾斜する傾斜部分、すなわち逆テーパ部分を形成すれば、この窪みを備えた層の上に電極を形成した場合、この電極を平面的に見たとき、窪みの側面の所で電極の間に空間部分が発生することがなくなるので、光漏れが発生することを防止できる。
【００１５】
（２）上記構成の基板は、着色層と、電極とを有することができる。そしてその場合、前記窪みを備えた層はその着色層とその電極との間に設けられるオーバーコート層であるとすることができる。オーバーコート層は、絶縁や平坦化等が主な機能であり、これに窪みを形成したり、傾斜部を形成することは比較的簡単であるので、好都合である。
【００１６】
（３）上記構成の基板は、反射層によって形成された反射部と、該反射層に開口を形成すること又は該反射層を薄くすることによって形成された透過部とを有することができる。そしてその場合、前記窪みは前記透過部に対応して設けることが望ましく、さらに、前記緩く傾斜する部分は、前記反射部か、前記透過部か、又は前記反射部と前記透過部の両方にわたって設けることが望ましい。
【００１７】
緩く傾斜する部分を前記反射部に対応して設ければ、透過部に対応する液晶層の層厚は中途半端になることが無いので、透過型表示を重視する表示に好都合である。他方、緩く傾斜する部分を前記透過部に対応して設ければ、反射部に対応する液晶層の層厚は中途半端になることが無いので、反射型表示を重視する表示に好都合である。
【００１８】
（４）以上の構成において、前記窪みは、表示の最小単位である表示ドットに対応して設けられることが望ましい。これにより、個々の表示ドット単位で反射型表示と透過型表示とを切換えることができる。
【００１９】
（５）上記構成において、前記窪みの平面形状は長方形状とすることができる。そしてその場合には、前記緩く傾斜する部分は当該長方形状の短辺部分に形成されることが望ましい。こうすれば、緩く傾斜する壁部分は、必要以上に大きな領域となることが無くなり、さらに、傾斜の角度も必要に応じて大きくとることもできる。
【００２０】
（６）上記構成において、前記緩く傾斜する側面が形成される部分は前記壁の全体の５０％以下、望ましくは２５％以下であることが望ましい。こうすれば、窪みを備えた層の上に形成される電極等の断線を確実に防止できると共に、傾斜部分を設けることによって発生する不都合、例えば液晶層の厚さが中途半端になることに起因する表示品質の低下を最小限に抑えることができる。
【００２１】
（７）次に、本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法は、窪みを備えた層の材料である感光性材料を一様な厚さに形成する工程と、該一様な厚さの層を前記窪みの形状に対応したパターンを有するマスクを通して露光する工程と、露光された前記一様な厚さの層を現像して前記窪みを顕在化する工程とを有し、前記マスク内に設けたハーフトーン領域によって前記窪みの側面の一部分に緩く傾斜する勾配を有する部分を形成することを特徴とする。
【００２２】
この製造方法によれば、緩く傾斜する勾配を有する部分を窪みの一部分に非常に簡単に且つ非常に安価に形成できる。
【００２３】
（８）次に、本発明に係る電気光学装置は、以上に記載した構成の電気光学装置用基板と、該電気光学装置用基板に対向する対向基板と、それらの基板の間に配置される電気光学物質層とを有することを特徴とする。この電気光学装置において、前記電気光学物質は液晶とすることができる。このような電気光学装置は液晶装置である。
【００２４】
（９）次に、本発明に係る電子機器は、上記構成の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする。このような電子機器としては、例えば、携帯電話機、携帯情報端末機、その他種々の電子機器が考えられる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
（電気光学装置用基板及び電気光学装置の実施形態）
以下、２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置に本発明を適用した場合の実施形態について説明する。なお、この実施形態は本発明の一例であって、本発明を限定するものではない。また、これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重要な構成要素を分かり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示している。
【００２６】
図１は、本発明に係る電気光学装置用基板及び電気光学装置のそれぞれの一実施形態を示している。より具体的には、電気光学装置としての液晶装置の一実施形態及びその液晶装置に用いられる基板の一実施形態を示している。また、ここに挙げられた液晶装置は、２端子型のスイッチング素子であるＴＦＤ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＤｉｏｄｅ）を用いたアクティブマトリクス方式であって、電気光学装置用基板としてカラーフィルタ基板を用いた、半透過反射型の液晶装置である。
【００２７】
図１において、液晶装置１は、液晶パネル２と、この液晶パネル２に実装された駆動用ＩＣ３と、照明装置４とを有する。照明装置４は、観察側（すなわち、図の上側）から見て液晶パネル２の背面側に配設されてバックライトとして機能する。照明装置４は、液晶パネル４の観察側に配設してフロントライトとして機能させても良い。
【００２８】
照明装置４は、ＬＥＤ（ＬｉｇｈｔＥｍｉｔｔｉｎｇＤｉｏｄｅ）等といった点状光源や、冷陰極管等といった線状光源等によって構成された光源６と、透光性の樹脂によって形成された導光体７とを有する。観察側から見て導光体７の背面側には、必要に応じて、反射層８が設けられる。また、導光体７の観察側には、必要に応じて、拡散層９が設けられる。
【００２９】
液晶パネル２は、電気光学装置用基板としてのカラーフィルタ基板１１と、対向基板としての素子基板１２と、それらの基板を貼り合わせている矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形の環状のシール材１３とを有する。基板１１と、基板１２と、シール材１３とによって囲まれる間隙、いわゆるセルギャップ内に液晶１４が封入されて液晶層を構成している。
【００３０】
カラーフィルタ基板１１は、矢印Ａ方向から見て長方形又は正方形の第１基材１６ａを有し、その第１基材１６ａの内側表面には、樹脂散乱層１７が形成され、その上に反射層１８が形成され、その上に着色層１９及び遮光層２１が形成され、その上にオーバーコート層２２が形成され、その上に紙面垂直方向へ直線的に延びる電極２３ａが形成され、さらに、その上に配向膜２４ａが形成される。配向膜２４ａには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第１基材１６ａの近傍の液晶分子の配向が決められる。また、第１基材１６ａの外側表面には、位相差板２６ａ及び偏光板２７ａが貼着等によって装着される。
【００３１】
第１基材１６ａは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。樹脂散乱層１７の表面には、図２に示すように、細かい凹凸が形成されている。反射層１８は、例えば、Ａｌ（アルミニウム）、Ａｌ合金等によって形成される。この反射層１８の表面は、その下地層である樹脂散乱層１７に着けられた凹凸に対応して凹凸形状となっている。この凹凸形状により、反射層１８で反射する光は拡散する。
【００３２】
着色層１９は、例えば図４に示すように、１つ１つが長方形のドット状に形成され、１つの着色層１９は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色のいずれか１つを呈する。これら各色の着色層１９は、ストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列、その他適宜の配列となるように並べられている。図４では、ストライプ配列が例示されている。なお、着色層１９は、Ｃ（シアン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３原色によって形成することもできる。
【００３３】
図１において遮光層２１は、例えばＣｒ（クロム）等といった遮光性の材料によって、複数の着色層１９の間を埋める状態に形成される。この遮光層２１は、ブラックマトリクスとして機能して着色層１９を透過した光によって表示される像のコントラストを向上させる。なお、遮光層２１は、Ｃｒ等といった特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層１９を構成するＲ，Ｇ，Ｂの各着色層を重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００３４】
オーバーコート層２２は、例えば、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等といった感光性の樹脂によって形成される。また、このオーバーコート層２２の適所には、図２に示すように、着色層１９の表面に達する貫通穴２８が形成されて窪みが形成されている。この窪み２８は、貫通穴に限られず、着色層１９の表面に達することなくオーバーコート層２２の途中までの深さの有底穴すなわち凹部によって形成することもできる。
【００３５】
図２の紙面垂直方向に線状に延びる電極２３ａは、例えばＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉｄｅ）等といった金属酸化物によって形成され、その中央の一部が窪み２８の中へ落ち込んでいる。また、その上に形成された配向膜２４ａは、例えばポリイミド等によって形成され、この配向膜２４ａに関しても、窪み２８に対応する部分が、その窪み２８の中に落ち込んでいる。つまり、矢印Ａ方向から平面的に見ると、電極２３ａ及び配向膜２４ａには複数の窪みが形成されている。
【００３６】
図１において、カラーフィルタ基板１１に対向する素子基板１２は第２基材１６ｂを有する。この第２基材１６ｂは、張出し部２９が形成される１辺が第１基材１６ａの外側へ張り出している。この第２基材１６ｂの内側表面には、スイッチング素子としての複数のＴＦＤ３１が形成され、それらのＴＦＤ３１に接続するように複数のドット電極２３ｂが形成され、それらの上に配向膜２４ｂが形成される。配向膜２４ｂには配向処理、例えばラビング処理が施され、これにより、第２基材１６ｂの近傍の液晶分子の配向が決められる。第２基材１６ｂの外側表面には、位相差板２６ｂ及び偏光板２７ｂが貼着等によって装着される。
【００３７】
第２基材１６ｂは、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成される。また、ドット電極２３ｂはＩＴＯ等といった金属酸化物によって形成される。また、配向膜２４ｂは、例えばポリイミド等によって形成される。
個々のＴＦＤ３１は、図５に示すように、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとを直列に接続することによって形成されている。このＴＦＤ素子３１は、例えば、次のようにして形成される。すなわち、まず、ＴａＷ（タンタルタングステン）によってライン配線３３の第１層３４ａ及びＴＦＤ素子３１の第１金属３６を形成する。次に、陽極酸化処理によってライン配線３３の第２層３４ｂ及びＴＦＤ素子３１の絶縁膜３７を形成する。次に、例えばＣｒ（クロム）によってライン配線３３の第３層３４ｃ及びＴＦＤ素子３１の第２金属３８を形成する。
【００３８】
第１ＴＦＤ要素３２ａの第２金属３８はライン配線３３の第３層３４ｃから延びている。また、第２ＴＦＤ要素３２ｂの第２金属３８の先端に重なるように、ドット電極２３ｂが形成される。ライン配線３３からドット電極２３ｂへ向けて電気信号が流れることを考えれば、その電流方向に従って、第１ＴＦＤ要素３２ａでは第２電極３８→絶縁膜３７→第１金属３６の順に電気信号が流れ、一方、第２ＴＦＤ要素３２ｂでは第１金属３６→絶縁膜３７→第２金属３８の順に電気信号が流れる。
【００３９】
つまり、第１ＴＦＤ要素３２ａと第２ＴＦＤ要素３２ｂとの間では電気的に逆向きの一対のＴＦＤ要素が互いに直列に接続されている。このような構造は、一般に、バック・ツー・バック（Ｂａｃｋ−ｔｏ−Ｂａｃｋ）構造と呼ばれており、この構造のＴＦＤ素子は、ＴＦＤ素子を１個のＴＦＤ要素だけによって構成する場合に比べて、安定した特性を得られることが知られている。なお、第１金属３６等の第２基材１６ｂからの剥れを防止したり、第２基材１６ｂから第１金属３６等へ不純物が拡散しないようにする等のために、ＴＦＤ３１と基材１６ｂとの間及びライン配線３３と基材１６ｂとの間に下地層（図示せず）を設けることもできる。
【００４０】
図１において、第２基材１６ｂの張出し部２９上に配線３９が、例えばＴＦＤ３１やドット電極２３ｂの形成の際に同時に形成される。また、第１基材１６ａ上に配線４１が、例えば反射層１８や線状電極２３ａの形成の際に同時に形成される。シール材１３の内部には、球形又は円筒形の導電材４２が分散状態で含まれている。第１基材１６上の配線４１と第２基材１６ｂ上の配線３９は、その導電材４２によって互いに導通しており、これにより、カラーフィルタ基板１１側の線状電極２３ａが素子基板１２側の配線３９に導通されている。
【００４１】
素子基板１２の基板張出し部２９上には、ＡＣＦ（ＡｎｉｓｏｔｒｏｐｉｃＣｏｎｄｕｃｔｉｖｅＦｉｌｍ：異方性導電膜）４３によって駆動用ＩＣ３が実装されている。詳しくは、ＡＣＦ４３を構成する樹脂によって駆動用ＩＣ３が張出し部２９上に固着され、さらに、ＡＣＦ４３に含まれる導電粒子によって駆動用ＩＣ３のバンプすなわち端子と配線３９とが導電接続される。
【００４２】
また、張出し部２９の辺縁には外部接続用端子４４が形成され、この外部接続端子４４がＡＣＦ４３によって駆動用ＩＣ３のバンプに導電接続されている。外部接続端子４４には、図示しない配線基板、例えば可撓性配線基板が、ハンダ付け、ＡＣＦ、ヒートシール等といった導電接続手法によって接続される。この配線基板を介して、電子機器、例えば携帯電話機、携帯情報端末機から液晶装置１へ信号、電力等が供給される。
【００４３】
図１において、カラーフィルタ基板１１側の線状電極２３ａと素子基板１２側のドット電極２３ｂは、矢印Ａ方向から見て平面的に互いに重なり合っている。この重なり領域が、表示の最小単位である表示ドットＤを構成する。この表示ドットＤは、図４に示すように、ほぼ、ドット電極２３ｂと同じ大きさの面積となっている。なお、図４では、鎖線で示すドット電極２３ｂが実線で示す着色層１９よりも少し大きく描いてあるが、これは構造を分かり易く示すためであり、それらの平面形状は、実際には、ほとんど同じ形状で、互いに重なり合っている。
また、図４において、ドット状の個々の着色層１９は、個々の表示ドットＤに対応して形成される。また、図２において、反射層１８には個々の表示ドットＤに対応して開口４６が設けられる。これらの開口４６は、図４に示すように、平面的に見て長方形状に形成されている。なお、図４では破線で示す開口４６が、実線で示すオーバーコート層２２の窪み２８よりも少し大きく描いてあるが、平面的に見たときの両者の周縁は、窪み２８の１辺に形成した緩い傾斜部４７の部分を除いて、ほぼ一致する。
【００４４】
本実施形態のように、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色から成る着色層１９を用いてカラー表示を行う場合は、Ｒ，Ｇ，Ｂの３色に対応する３つの着色層１９に対応する３つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。他方、着色層を用いないで白黒等といったモノカラー表示を行う場合は、１つの表示ドットＤによって１つの画素が形成される。
【００４５】
図２において、個々の表示ドットＤの中で反射層１８が設けられた部分Ｒが反射部であり、開口４６が形成された部分Ｔが透過部である。観察側から入射した外部光、すなわち素子基板１２側から入射した外部光Ｌ０は、反射部Ｒで反射する。一方、図１の照明装置４の導光体７から出射した光Ｌ１は、図２において、透過部Ｔを透過する。
【００４６】
以上の構成から成る本実施形態によれば、太陽光、室内光等といった外部光が強い場合は、外部光Ｌ０が反射部Ｒで反射して液晶層１４へ供給される。一方、図１の照明装置４が点灯した場合は、導光体７から出射する平面状の光が、図２の透過部Ｔを通して液晶層１４へ供給される。
【００４７】
液晶層１４を挟持する線状電極２３ａ及びドット電極２３ｂの一方には走査電圧が印加され、他方にはデータ電圧が印加される。走査電圧とデータ電圧が印加された表示ドットＤに付属するＴＦＤ３１はＯＮ状態となり、当該表示ドットＤにおける液晶分子の配向状態が該表示ドットＤを通過する光を変調するように維持される。そして、この変調された光が図１の偏光板２７ｂを通過するか、しないかによって、素子基板１２の外側に、文字、数字、図形等といった希望の像が表示される。外部光Ｌ０を用いて表示が行われる場合が反射型表示であり、透過光Ｌ１を用いて表示が行われる場合が透過型表示である。
【００４８】
反射型表示が行われるとき、反射光Ｌ０は液晶層１４を２回通過する。また、透過型表示が行われるとき、透過光Ｌ１は液晶層１４を１回だけ通過する。このため、仮に、液晶層１４の層厚が反射部Ｒと透過部Ｔとにわたって均一であると、反射光Ｌ０を用いた反射型表示と透過光Ｌ１を用いた透過型表示との間で、液晶層１４を通過する距離に違いが生じ、反射型表示と透過型表示との間で表示品質が異なるという問題が生じるおそれがある。
【００４９】
このことに関し、本実施形態では、オーバーコート層２２に窪み２８を設けることにより、透過部Ｔでの液晶層１４の層厚Ｅを厚く、反射部Ｒでの層厚Ｆを薄くしているので、反射型表示と透過型表示との間で均一な表示品質を得られるようになっている。
【００５０】
さて、図２に示す断面構造は、図４におけるＸ−Ｘ線に従った断面構造である。図２において、オーバーコート層２２に形成された窪み２８の側面は、オーバーコート層２２の表面に対してほぼ直角か、又は急に傾斜するように形成されている。他方、図４のＹ−Ｙ線に従った断面構造は、図３に示す通りである。図３に示すように、窪み２８の右側の側面はオーバーコート層２２の表面に対してほぼ直角か、又は急に傾斜するように形成されている。しかしながら、左側の側面４７はオーバーコート層２２の表面に対して緩く傾斜している。
【００５１】
ここで、急な傾斜とは、液晶層１４の層厚が厚い部分Ｅと薄い部分Ｆとの違いが表示に関して中途半端な液晶層厚とならない程度の傾斜を意味する。一方、緩い傾斜とは、オーバーコート層２２の上に形成される層、例えば、電極２３ａや配向膜２４ａが切断されることが無い程度に緩い傾斜を意味する。図４から明らかなように、窪み２８の側面のうち緩い傾斜部４７は、平面的に長方形状の４辺のうちの２つの短辺のうちの１辺に形成されている。つまり、緩い傾斜部４７は、側面全体の５０％以下、より具体的には壁全体の２５％以下の割合で設けられている。
【００５２】
窪み２８の側面の全部を急な傾斜又はほぼ直角な側面とすれば、透過部Ｔと反射部Ｒとの間で液晶層１４の層厚を厚い部分Ｅと薄い部分Ｆとの間で急に変化させることができ、それ故、良好な表示品質を得ることができると考えられる。しかしながらこの場合には、窪み２８の所で電極２３ａや配向膜２４ａが切断されて別な理由から表示品質が低下するおそれがある。
【００５３】
これに対し、本実施形態では、窪み２８の一部分に緩い傾斜部４７を設けたので、その部分では電極２３ａや配向膜２４ａが切断することを防止でき、よって、表示品質が低下することを防止できる。また、窪み２８に緩い傾斜部４７を設けると、液晶層１４の層厚の厚い部分Ｅと薄い部分Ｆとの間に層厚の中途半端な部分が広い面積で発生して、表示品質が悪くなることが考えられる。しかしながら本実施形態では、緩い傾斜部４７を設ける領域を、長方形状の短辺側の１辺、すなわち全体の５０％以下、望ましくは全体の２５％以下の領域に限っているので、表示品質の低下は実用上ほとんど見られない。
【００５４】
（変形例）
（１）上記の実施形態では、図２及び図３に示すように、オーバーコート層２２に形成した窪み２８に関して、緩い傾斜部４７以外の側面は、ほぼ直角か、急な傾斜部とした。急な傾斜部を形成する場合には、その傾斜部は窪み２８の内側へ向かう傾斜部である。しかしながら、これに代えて、図６及び図７に示すように、オーバーコート層２２に窪み２８の外側へ向かって傾斜する傾斜部５７、いわゆる逆テーパの傾斜部を形成することもできる。
【００５５】
このような逆テーパの傾斜部５７によって窪み２８を形成すれば、電極２３ａを観察側、すなわち矢印Ａ側から見た場合、オーバーコート層２２の上の電極２３ａと窪み２８の底部の電極２３ａとの間に平面的に見て隙間が発生することが無くなり、よって、光漏れ等の発生によって表示品質が低下することを防止できる。
【００５６】
（２）また、上記実施形態では、液晶層１４の層厚を反射部Ｒと透過部Ｔとの間で変化させるための窪み２８をオーバーコート層２２に形成したが、このような窪みはその他任意の層に形成することができる。
【００５７】
（３）また、上記実施形態では、ＴＦＤを用いた液晶装置に本発明を適用したが、本発明は、ＴＦＤ以外の２端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）等といった３端子型スイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置にも適用できる。また、本発明は、液晶装置以外の電気光学装置にも適用できる。
【００５８】
（４）また、上記実施形態では、本発明に係る電気光学装置用基板、すなわち窪み２８を形成する基板をカラーフィルタ基板１１としたが、カラー表示ではないモノクロ表示を行う場合には、窪み２８を形成する基板に着色層１９を形成する必要はない。また、着色層１９を形成する場合であっても、窪み２８は、着色層１９が形成されない方の基板、図１の実施形態では素子基板１２側に設けることもできる。
【００５９】
（５）また、以上の実施形態では、図３に示すように、窪み２８の緩い傾斜部４７が反射部Ｒと透過部Ｔの境界線Ｐをまたいで形成されている。すなわち、緩い傾斜部４７は反射部Ｒと透過部Ｔの両方にわたって設けられている。しかしながらこれに代えて、緩い傾斜部４７は反射部Ｒだけに対応させて設けることもできるし、あるいは、緩い傾斜部４７は透過部Ｔだけに対応させて設けることもできる。
【００６０】
緩い傾斜部４７は、液晶層１４の層厚の観点から見れば、厚い部分Ｅでもないし薄い部分Ｆでもない中途半端な部分である。従って、この緩い傾斜部４７が在る部分は表示品質を低下させるおそれがある部分とも考えられる。従って、透過型表示を重視したい場合には、緩い傾斜部４７は反射部Ｒだけに対応させて設けることが望ましい。一方、反射型表示を重視したい場合には、緩い傾斜部４７は透過部Ｔだけに対応させて設けることが望ましい。
【００６１】
（電気光学装置用基板の製造方法）
以下、本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法を、図１に示した電気光学装置を製造する場合を例に挙げて説明する。図８は、電気光学装置用基板の製造方法を含んだ電気光学装置の製造方法の一例を工程図として示している。
【００６２】
図８の製造方法では、工程Ｐ１において図１のカラーフィルタ基板１１を製造する。また、工程Ｐ２において、図１の素子基板１２を形成する。なお、これらの工程においては、カラーフィルタ基板１１や素子基板１２を１つずつ形成するのではなく、それらの基板の複数個分を形成できる大面積の基材、いわゆるマザーボード上に複数のカラーフィルタ基板１１や複数の素子基板１２を同時に形成する。
【００６３】
複数のカラーフィルタ基板１１及び複数の素子基板１２が、それぞれ、マザーボード上に形成されると、工程Ｐ３において、それらのマザーボードがアライメント、すなわち、位置決めされた上で互いに貼り合わされ、それらのマザーボードのいずれかに形成したシール材１３（図１参照）によってそれらのマザーボードが接着される。これにより、複数の液晶パネルを内蔵した大きなパネル構造体が形成される。
【００６４】
次に、工程Ｐ４において、パネル構造体に対して１回目の切断作業、すなわちブレイク作業を施して、複数の液晶パネルを１列に内蔵した、いわゆる短冊状のパネル構造体が形成される。このパネル構造体においては、１列に並べられた複数の液晶パネルに関して、それらのシール材（図１参照）の適所に形成された開口、すなわち液晶注入口が外部に露出する。
【００６５】
次に、工程Ｐ５において、上記の液晶注入口から液晶パネルの内部へ液晶を注入し、その注入の完了後、液晶注入口を樹脂によって封止する。これにより、図１に示すような液晶層１４を複数個有する短冊状のパネル構造体が形成される。
次に、工程Ｐ６において、短冊状のパネル構造体に対して２回目の切断作業、すなわちブレイク作業を施して、図１に示す液晶パネル２を１個ずつ切り出す。次に、個々の液晶パネル２に図１の位相差板２６ａ，２６ｂ及び偏光板２７ａ、２７ｂを貼着する。次に、工程Ｐ８において、図１の駆動用ＩＣ３を素子基板１２の張出し部２９の表面に実装し、さらに工程Ｐ９において、張出し部２９上の外部接続端子４４に配線基板（図示せず）を導電接続し、さらに工程Ｐ１０において、図１の照明装置４を装着し、これにより、図１の液晶装置１が完成する。
工程Ｐ１のカラーフィルタ基板の製造工程においては、図９に示すように、工程Ｐ１１において、カラーフィルタ基板１１を構成する第１基材１６ａ上に、樹脂散乱層１７を形成する。具体的には、樹脂材料を例えばスピンコートによって均一な厚さに形成し、さらにレジストを塗布し、図２に示すような樹脂散乱層１７の表面の凹凸形状に合致したパターンを有するマスクを通して上記レジストを露光し、さらに該レジストを現像する。
【００６６】
さらに、現像されたレジストをマスクとして樹脂材料をエッチングして該樹脂材慮に凹凸形状、すなわち山部又は谷部、を形成し、さらに樹脂材料の表面を適宜の温度に加熱して凹凸形状の表面を滑らかにする。さらに、同じ材質の樹脂材料を薄く塗布することにより、凹凸形状を希望の光散乱機能を達成できるようによりに一層滑らかにする。
【００６７】
つまり、樹脂散乱層１７は、フォトエッチングによってその表面が粗い凹凸形状に形成された下層と、その下層の上に積層された上層から成る２重構造となっている。
【００６８】
次に、図９の工程Ｐ１２において、図２の反射層１８をＡｌやＡｌ合金等といった光反射性金属を材料として適宜の成膜法によって形成する。より具体的には、まず、反射材料を均一な厚さで形成し、フォトエッチングによって表示ドットＤごとに開口４６を形成する。
【００６９】
次に、図９の工程Ｐ１３において、図２の表示ドットＤの間の領域にＣｒ等といった遮光性材料によって遮光層２１を形成する。次に、図９の工程Ｐ１４において、図２の着色層１９をＲ，Ｇ，Ｂの各色ごとに遮光層２１の間の領域に所定のパターン、例えば、ストライプ配列となるように形成する。これらの着色層１９は、例えば、フォトポリマすなわちフォトレジストに１色の顔料を分散させて着色材料を形成し、この着色材料をスピンコート等によって塗布し、さらに上記所定パターンで露光し、さらに現像することにより、１色の着色層１９を形成する。そして、この処理をＲ，Ｇ，Ｂの各色に対して繰り返すことにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色が所定の配列で並べられて成るカラーフィルタが形成される。
【００７０】
次に、図９の工程Ｐ１５において、図２のオーバーコート層２２を形成する。具体的には、図１１（ｂ）に示すように、感光性のオーバーコート材料２２’を一様な厚さで形成し、さらに、複数の窪み２８に合致したパターンを有するマスク４９を通してオーバーコート材料２２’を露光し、さらに現像して、図１１（ｃ）に示すように窪み２８を形成する。なお、この実施形態ではオーバーコート材料２２’としてネガ材料を用いるものとし、従って、窪み２８に相当するマスク部分には遮光部５１が形成される。
【００７１】
なお、本実施形態では、図３に示すように、オーバーコート層２２の窪み２８の一部に緩い傾斜部４７を形成するので、図１１において、その緩い傾斜部４７に対応するマスク４９の部分は完全な遮光部ではなく、ハーフトーン部５２によって形成する。マスク４９に関して、露光部５３では露光光が１００％通過し、遮光部５１では露光光が遮光され、そして、ハーフトーン部５２では０〜１００％内の適当な割合、例えば５０％の割合で露光光が通過する。このようにして光量が減少された露光光を適宜の時間だけ照射することにより、緩い傾斜部４７を形成することができる。
【００７２】
次に、図９の工程Ｐ１６において、図２のオーバーコート層２２の上に電極２３ａを、例えばＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィー法及びフォトエッチング法により、１本ずつ直線状に、従って全体として矢印Ａ方向から見てストライプ状に形成する。
【００７３】
次に、図９の工程Ｐ１７において、図２の電極２３ａの上に、例えばポリイミドを一様な厚さに塗布して配向膜２４ａを形成し、さらにラビング処理を施す。以上により、図１のカラーフィルタ基板１１が形成される。
【００７４】
なお、図８の工程Ｐ２で行われる対向基板、すなわち素子基板の製造工程は、例えば図１０のようにして行われる。まず、工程Ｐ２１において、図５に示すようにＴＦＤ３１及びライン配線３３を形成する。次に、図１０の工程Ｐ２２において、図３のドット電極２３ｂをＩＴＯを材料としてフォトリソグラフィー法及びフォトエッチング法によって所定のドット形状に形成する。次に、図１０の工程Ｐ２３において、図３のドット電極２３ｂの上にポリイミドを一様な厚さで塗布し、さらにラビング処理を施す。以上により、図１の素子基板１２が形成される。
【００７５】
（電子機器の実施形態）
次に、本発明に係る電子機器の実施形態を図面を用いて説明する。図１２は、電子機器の一実施形態のブロック図を示している。ここに示す電子機器は、液晶装置１と、これを制御する制御手段６０とを有する。液晶装置１は、液晶パネル６１と、半導体ＩＣ等で構成される駆動回路６２とを有する。また、制御手段６０は、表示情報出力源６３と、表示情報処理回路６４と、電源回路６６と、タイミングジェネレータ６７とを有する。
【００７６】
表示情報出力源６３は、ＲＯＭ（ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（ＲａｎｄｏｍＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒｙ）等から成るメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等から成るストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを有する。タイミングジェネレータ６７によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路６４に供給するように構成されている。
【００７７】
表示情報処理回路６４は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等といった周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路６２へ供給する。駆動回路６２は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路６６は、上記の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【００７８】
図１３は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示している。ここに示す携帯電話機７０は、本体部７１と、これに開閉可能に設けられた表示体部７２とを有する。表示装置７３は、表示体部７２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部７２にて表示画面７４によって視認できる。本体部７１の前面には操作ボタン７６が配列して設けられる。また、表示体部７２の一端部からアンテナ７７が出没自在に取付けられている。受話部７８の内部にはスピーカが配置され、送話部７９の内部にはマイクが内蔵されている。
【００７９】
図１４は、電子機器の一例である携帯情報機器に本発明を適用した場合の実施形態を示している。ここに示す携帯情報機器９０は、タッチパネルを備えた情報機器であり、液晶装置９１を搭載している。この情報機器９０は、液晶装置９１の表示面によって構成される表示領域Ｖと、その表示領域Ｖの下方に位置する第１入力領域Ｗ１とを有する。第１入力領域Ｗ１には入力用シート９２が配置されている。
【００８０】
液晶装置９１は、長方形状又は正方形状の液晶パネルと、同じく長方形状又は正方形状のタッチパネルとが平面的に重なり合う構造を有する。タッチパネルは入力用パネルとして機能する。タッチパネルは、液晶パネルよりも大きく、この液晶パネルの一端部から突き出した形状となっている。
【００８１】
表示領域Ｖ及び第１入力領域Ｗ１にはタッチパネルが配置されており、表示領域Ｖに対応する領域も、第１入力領域Ｗ１と同様に入力操作可能な第２入力領域Ｗ２として機能する。タッチパネルは、液晶パネル側に位置する第２面とこれと対向する第１面とを有しており、第１面の第１入力領域Ｗ１に相当する位置に入力用シート９２が貼られている。
【００８２】
入力用シート９２にはアイコン９３及び手書き文字認識領域Ｗ３を識別するための枠が印刷されている。第１入力領域Ｗ１においては、入力用シート９２を介してタッチパネルの第１面に指やペン等といった入力手段で荷重をかけることにより、アイコン９３の選択や文字認識領域Ｗ３での文字入力等といったデータ入力を行うことができる。
【００８３】
一方、第２入力領域Ｗ２においては、液晶パネルの像を観察することができるほか、液晶パネルに例えば入力モード画面を表示させ、タッチパネルの第１面に指やペンで荷重をかけることにより、その入力モード画面内の適宜の位置を指定することができ、これにより、データ入力等を行うことができる。
【００８４】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
【００８５】
例えば、本発明に係る電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や携帯情報機器の他にも、液晶テレビ、デジタルスチルカメラ、腕時計、その他各種の電子機器が考えられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る電気光学装置の一実施形態及び電気光学装置用基板の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図１の要部を拡大して示す断面図である。
【図３】図２に示す構造の断面である。
【図４】図１に示す構造の主要部の平面構造を示す平面図である。
【図５】図１の装置で用いられるスイッチング素子の一例を示す斜視図である。
【図６】本発明に係る電気光学装置用基板の他の実施形態の主要部を示す断面図である。
【図７】図６に示す構造の断面図である。
【図８】図１の電気光学装置の製造方法の一例を示す工程図である。
【図９】本発明に係る電気光学装置用基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。
【図１０】図８の製造方法における要部工程を示す工程図である。
【図１１】図９に示す製造方法の主要工程を示す図である。
【図１２】本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。
【図１３】本発明に係る電子機器の他の実施形態を示す斜視図である。
【図１４】本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態を示す斜視図である。
【符号の説明】
１：液晶装置（電気光学装置）、２：液晶パネル、３：駆動用ＩＣ、４：照明装置、１１：カラーフィルタ基板（電気光学装置用基板）、１２：素子基板（対向基板）、１３：シール材、１４：液晶層、１６ａ，１６ｂ：基材、１７：樹脂散乱層、１８：反射層、１９：着色層、２１：遮光層、２２：オーバーコート層（くぼみを備えた層）、２３ａ，２３ｂ：電極、２４ａ，２４ｂ：配向膜、２８：窪み、３１：ＴＦＤ、４６：反射層の開口、４７：緩い傾斜部、４９：マスク、５１：遮光部、５２：ハーフトーン部、５３：露光部、５７：逆テーパ傾斜部、７０：携帯電話機（電子機器）、９０：携帯情報機器（電子機器）、Ｄ：表示ドット、Ｅ：液晶層の厚い部分、Ｆ：液晶装置の薄い部分、Ｌ０：外部光、Ｌ１：照明光、Ｒ：反射部、Ｔ：透過部、Ｖ：表示領域[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate used for an electro-optical device such as a liquid crystal device, a method of manufacturing the substrate, the electro-optical device, and an electronic device formed using the electro-optical device.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art In recent years, electro-optical devices such as liquid crystal devices have been widely used for electronic devices such as mobile phones and personal digital assistants. For example, an electro-optical device is used to visually display various types of information on electronic devices.
[0003]
Looking at a liquid crystal device as an example of an electro-optical device, the liquid crystal device generally has a pair of substrates and a liquid crystal sealed in a gap formed between the substrates, that is, a so-called cell gap. Conventionally, as this liquid crystal device, a so-called reflection type liquid crystal device in which external light such as room light or sunlight is reflected in the liquid crystal panel and used for display, and light transmitted from the illumination device and transmitted through the liquid crystal panel is used. A so-called transmissive liquid crystal device of a type used for display, and a so-called transflective liquid crystal device capable of selectively performing both reflective display and transmissive display as desired. Is known.
[0004]
The following configuration of the transflective liquid crystal device is as follows: a reflective layer is provided inside a liquid crystal panel, and an opening is formed in a part of the reflective layer. 2. Description of the Related Art There is known a liquid crystal device having a configuration in which light is supplied to a liquid crystal layer and transmitted light is supplied to a liquid crystal layer through an opening. In addition, instead of forming the opening, a configuration is known in which the thickness of the reflection layer is reduced to form the transmission portion.
[0005]
Regarding such a configuration for transflective reflection, external light passes through the liquid crystal layer twice in a reciprocating manner during reflective display when external light is reflected by the reflective layer and supplied to the liquid crystal layer, while during transmissive display. Light supplied to the liquid crystal layer through the transmission portion passes through the liquid crystal layer only once. For this reason, unless any measures are taken, when one of the reflective display and the transmissive display is set to be bright, the other will be dark, and both should be set to good display conditions. There was a problem that was difficult.
[0006]
In order to solve this problem, conventionally, a technique has been proposed in which a layer having a depression is formed on the surface of one substrate constituting a liquid crystal device. According to this technique, for example, by locating the depression corresponding to the transmission part, it is possible to change the layer thickness of the liquid crystal layer corresponding to the transmission part and the layer thickness of the liquid crystal layer corresponding to the reflection part. Thus, the display quality can be made uniform between the transmissive portion and the reflective portion (for example, see Patent Document 1).
[0007]
[Patent Document 1]
JP 2001-221995 (Page 5, FIG. 1)
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
In a conventional substrate in which a layer having a depression as described above is provided on a base material, when a depression is formed by performing a patterning method such as a photolithography method, a wall that forms the depression, that is, a depression is formed. The slope, that is, the taper, was formed on the side surface. Such a taper is inevitably formed due to a manufacturing technique, or when an electrode is formed on a layer having a depression, the electrode is formed at the position of the depression. It is also possible to avoid disconnection.
[0009]
However, in terms of the thickness of the liquid crystal layer, the portion where the taper is formed is not a thin portion of the liquid crystal layer, a thick portion of the liquid crystal device, or an optically half-finished portion. Characteristics may be degraded.
[0010]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and in an electro-optical device configured using a substrate having a layer having a depression, display characteristics deteriorate due to the depression. The purpose is to prevent.
[0011]
[Means for Solving the Problems]
(1) In order to achieve the above object, an electro-optical device substrate according to the present invention is a substrate for an electro-optical device having a layer having a depression, wherein a side surface of the depression has a slope in which a part thereof is gently inclined. Wherein the remaining portion of the side surface is at least one of a steeper slope than the slope, a substantially right angle, and a slope outside the edge of the depression. .
[0012]
According to this substrate, a part of the side surface of the depression, that is, a part of the wall forming the depression is always provided with a gentle slope, so that the electrodes and the like are formed on the layer in which the depression is formed. Even in such a case, there is almost no inconvenience that the electrode is disconnected at the depression. Furthermore, since only a part of the depression is provided with the gentle slope, the region where the layer thickness of the electro-optical material layer such as the liquid crystal layer is halfway is only a very limited region, and therefore, There is almost no inconvenience that the display quality is deteriorated.
[0013]
In the above configuration, “steeply tilting” means that the thickness of the layer of the electro-optical material changes suddenly from a thin region to a thick region so that the thickness of the layer does not become halfway optically. That is, it is inclined within the range of The boundary between “steep slope” and “slow slope” is determined based on the above function, and it is difficult to specify a specific numerical value. The above is considered steep.
[0014]
Incidentally, with respect to the side surface of the dent, in the remaining portion other than the portion that is gently inclined, if an inclined portion inclined to the outside of the dent, that is, if a reverse tapered portion is formed, if an electrode is formed on a layer having this dent, When this electrode is viewed in plan, no space is formed between the electrodes at the side surface of the depression, so that light leakage can be prevented.
[0015]
(2) The substrate having the above structure can include a coloring layer and an electrode. In this case, the layer provided with the depression may be an overcoat layer provided between the colored layer and the electrode. The overcoat layer has a main function of insulation, flattening, and the like, and it is convenient to form a depression or an inclined portion in the overcoat layer because it is relatively easy.
[0016]
(3) The substrate having the above configuration can have a reflective portion formed by the reflective layer and a transmissive portion formed by forming an opening in the reflective layer or making the reflective layer thinner. In that case, it is desirable that the depression is provided corresponding to the transmission portion, and furthermore, the gentlely inclined portion is provided over the reflection portion, the transmission portion, or both the reflection portion and the transmission portion. It is desirable.
[0017]
If a portion that is gently inclined is provided corresponding to the reflective portion, the thickness of the liquid crystal layer corresponding to the transmissive portion does not become halfway, which is convenient for a display that emphasizes transmissive display. On the other hand, if a portion that is gently inclined is provided corresponding to the transmissive portion, the thickness of the liquid crystal layer corresponding to the reflective portion does not become halfway, which is convenient for a display that emphasizes reflective display.
[0018]
(4) In the above configuration, it is preferable that the depression is provided corresponding to a display dot which is a minimum unit of display. Thereby, it is possible to switch between the reflective display and the transmissive display for each display dot.
[0019]
(5) In the configuration described above, the planar shape of the depression may be rectangular. In this case, it is desirable that the portion that is gently inclined is formed on the short side of the rectangular shape. In this way, the wall portion that is gently inclined does not become an unnecessarily large area, and the inclination angle can be increased as necessary.
[0020]
(6) In the above configuration, it is desirable that a portion where the side surface that is gently inclined is formed is 50% or less of the entire wall, and desirably 25% or less. In this case, disconnection of the electrodes and the like formed on the layer having the depressions can be reliably prevented, and inconvenience caused by providing the inclined portion, for example, because the thickness of the liquid crystal layer becomes halfway Display quality can be minimized.
[0021]
(7) Next, in the method of manufacturing a substrate for an electro-optical device according to the present invention, a step of forming a photosensitive material, which is a material of a layer having a depression, to a uniform thickness; Exposing the layer through a mask having a pattern corresponding to the shape of the depression, and developing the exposed layer of uniform thickness to reveal the depression, wherein the mask A part having a gentle slope is formed in a part of the side surface of the depression by the halftone region provided in the first and second pits.
[0022]
According to this manufacturing method, a portion having a gentle slope can be formed very simply and inexpensively at a portion of the depression.
[0023]
(8) Next, the electro-optical device according to the present invention is disposed between the electro-optical device substrate having the above-described configuration, the opposing substrate facing the electro-optical device substrate, and the substrates. And an electro-optical material layer. In this electro-optical device, the electro-optical material may be a liquid crystal. Such an electro-optical device is a liquid crystal device.
[0024]
(9) An electronic apparatus according to an aspect of the invention includes the electro-optical device having the above-described configuration, and a control unit that controls an operation of the electro-optical device. As such an electronic device, for example, a mobile phone, a personal digital assistant, and various other electronic devices can be considered.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
(Embodiments of electro-optical device substrate and electro-optical device)
Hereinafter, an embodiment in which the present invention is applied to an active matrix type liquid crystal device using a two-terminal switching element will be described. This embodiment is an example of the present invention and does not limit the present invention. In the following description, reference will be made to the drawings as necessary, but in the drawings, in order to clearly show important components of a structure including a plurality of components, relative components different from actual ones will be described. The dimensions are shown.
[0026]
FIG. 1 shows an embodiment of an electro-optical device substrate and an electro-optical device according to the present invention. More specifically, an embodiment of a liquid crystal device as an electro-optical device and an embodiment of a substrate used in the liquid crystal device are shown. The liquid crystal device described here is of an active matrix type using a TFD (Thin Film Diode) which is a two-terminal switching element, and uses a color filter substrate as a substrate for an electro-optical device. This is a reflection type liquid crystal device.
[0027]
In FIG. 1, a liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel 2, a driving IC 3 mounted on the liquid crystal panel 2, and a lighting device 4. The illumination device 4 is provided on the back side of the liquid crystal panel 2 when viewed from the observation side (that is, the upper side in the figure), and functions as a backlight. The illumination device 4 may be provided on the observation side of the liquid crystal panel 4 and function as a front light.
[0028]
The illumination device 4 includes a light source 6 configured by a point light source such as an LED (Light Emitting Diode) or a linear light source such as a cold cathode tube, and a light guide 7 formed of a translucent resin. Have. On the back side of the light guide 7 as viewed from the observation side, a reflection layer 8 is provided as necessary. On the observation side of the light guide 7, a diffusion layer 9 is provided as necessary.
[0029]
The liquid crystal panel 2 includes a color filter substrate 11 as an electro-optical device substrate, an element substrate 12 as a counter substrate, and a square or rectangular ring-shaped sealing material 13 viewed from the direction of arrow A where the substrates are bonded. And The liquid crystal 14 is sealed in a gap surrounded by the substrate 11, the substrate 12, and the sealing material 13, that is, a so-called cell gap, to form a liquid crystal layer.
[0030]
The color filter substrate 11 has a rectangular or square first base material 16a viewed from the direction of arrow A, and a resin scattering layer 17 is formed on the inner surface of the first base material 16a, and a reflective layer is formed thereon. 18, a colored layer 19 and a light-shielding layer 21 are formed thereon, an overcoat layer 22 is formed thereon, and an electrode 23a extending linearly in a direction perpendicular to the paper is formed thereon. An alignment film 24a is formed thereon. The alignment film 24a is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process, whereby the alignment of the liquid crystal molecules near the first base material 16a is determined. Further, a retardation plate 26a and a polarizing plate 27a are attached to the outer surface of the first base material 16a by bonding or the like.
[0031]
The first base material 16a is formed of, for example, translucent glass, translucent plastic, or the like. Fine irregularities are formed on the surface of the resin scattering layer 17 as shown in FIG. The reflection layer 18 is formed of, for example, Al (aluminum), an Al alloy, or the like. The surface of the reflective layer 18 has an uneven shape corresponding to the unevenness formed on the resin scattering layer 17 which is the underlying layer. The light reflected by the reflective layer 18 is diffused by the uneven shape.
[0032]
For example, as shown in FIG. 4, each of the coloring layers 19 is formed in a rectangular dot shape, and one coloring layer 19 has three primary colors of R (red), G (green), and B (blue). Either one is presented. The colored layers 19 of these colors are arranged in a stripe arrangement, a delta arrangement, a mosaic arrangement, or any other appropriate arrangement. FIG. 4 illustrates a stripe arrangement. Note that the coloring layer 19 can also be formed with three primary colors of C (cyan), M (magenta), and Y (yellow).
[0033]
In FIG. 1, the light-shielding layer 21 is formed of a light-shielding material such as Cr (chrome) so as to fill the gap between the plurality of colored layers 19. The light shielding layer 21 functions as a black matrix and improves the contrast of an image displayed by light transmitted through the coloring layer 19. The light-shielding layer 21 is not limited to being formed of a specific material such as Cr, but may be formed by, for example, stacking, that is, stacking, each of the R, G, and B coloring layers constituting the coloring layer 19. can do.
[0034]
The overcoat layer 22 is formed of, for example, a photosensitive resin such as an acrylic resin or a polyimide resin. In addition, a through-hole 28 reaching the surface of the colored layer 19 is formed in a proper place of the overcoat layer 22 to form a depression, as shown in FIG. The depression 28 is not limited to the through hole, and may be formed by a bottomed hole, that is, a concave portion having a depth halfway in the overcoat layer 22 without reaching the surface of the coloring layer 19.
[0035]
The electrode 23a extending linearly in the direction perpendicular to the paper of FIG. 2 is formed of, for example, a metal oxide such as ITO (Indium Tin Oxide), and a part of the center thereof falls into the depression 28. Further, the alignment film 24a formed thereon is formed of, for example, polyimide or the like, and a portion corresponding to the depression 28 also falls into the depression 28 with respect to the alignment film 24a. That is, when viewed two-dimensionally from the direction of arrow A, a plurality of depressions are formed in the electrode 23a and the alignment film 24a.
[0036]
In FIG. 1, the element substrate 12 facing the color filter substrate 11 has a second base material 16b. One side of the second base material 16b, on which the overhang portion 29 is formed, protrudes outside the first base material 16a. A plurality of TFDs 31 as switching elements are formed on the inner surface of the second base material 16b, a plurality of dot electrodes 23b are formed so as to connect to the TFDs 31, and an alignment film 24b is formed thereon. You. The alignment film 24b is subjected to an alignment process, for example, a rubbing process, whereby the alignment of the liquid crystal molecules near the second base material 16b is determined. A retardation plate 26b and a polarizing plate 27b are attached to the outer surface of the second base material 16b by bonding or the like.
[0037]
The second base material 16b is formed of, for example, translucent glass, translucent plastic, or the like. The dot electrode 23b is formed of a metal oxide such as ITO. The alignment film 24b is formed of, for example, polyimide or the like.
As shown in FIG. 5, each TFD 31 is formed by connecting a first TFD element 32a and a second TFD element 32b in series. The TFD element 31 is formed, for example, as follows. That is, first, the first layer 34a of the line wiring 33 and the first metal 36 of the TFD element 31 are formed by TaW (tantalum tungsten). Next, the second layer 34b of the line wiring 33 and the insulating film 37 of the TFD element 31 are formed by anodizing. Next, the third layer 34c of the line wiring 33 and the second metal 38 of the TFD element 31 are formed by, for example, Cr (chromium).
[0038]
The second metal 38 of the first TFD element 32a extends from the third layer 34c of the line wiring 33. Further, the dot electrode 23b is formed so as to overlap the tip of the second metal 38 of the second TFD element 32b. Considering that an electric signal flows from the line wiring 33 to the dot electrode 23b, in the first TFD element 32a, the electric signal flows in the order of the second electrode 38, the insulating film 37, and the first metal 36 according to the current direction. In the second TFD element 32b, an electric signal flows in the order of the first metal 36 → the insulating film 37 → the second metal 38.
[0039]
That is, a pair of electrically opposite TFD elements are connected in series between the first TFD element 32a and the second TFD element 32b. Such a structure is generally called a back-to-back structure, and the TFD element having this structure is compared with a case where the TFD element is configured by only one TFD element. It is known that stable characteristics can be obtained. In order to prevent the first metal 36 or the like from peeling off from the second base material 16b or to prevent impurities from diffusing from the second base material 16b to the first metal 36 or the like, the TFD 31 and the base material An underlayer (not shown) may be provided between the base wiring 16b and the line wiring 33 and the base 16b.
[0040]
In FIG. 1, a wiring 39 is formed on the overhanging portion 29 of the second base material 16b at the same time when, for example, the TFD 31 and the dot electrode 23b are formed. In addition, the wiring 41 is formed on the first base material 16a at the same time when the reflective layer 18 and the linear electrode 23a are formed, for example. Inside the sealing material 13, a spherical or cylindrical conductive material 42 is contained in a dispersed state. The wiring 41 on the first base 16 and the wiring 39 on the second base 16 b are electrically connected to each other by the conductive material 42, so that the linear electrode 23 a on the color filter substrate 11 side is connected to the element substrate 12 side. Is electrically connected to the wiring 39.
[0041]
The driving IC 3 is mounted on the substrate overhang portion 29 of the element substrate 12 by an ACF (Anisotropic Conductive Film) 43. More specifically, the driving IC 3 is fixed on the overhang portion 29 by the resin constituting the ACF 43, and the bumps or terminals of the driving IC 3 and the wiring 39 are conductively connected by conductive particles included in the ACF 43.
[0042]
An external connection terminal 44 is formed on the edge of the overhang portion 29, and the external connection terminal 44 is conductively connected to the bump of the driving IC 3 by the ACF 43. A wiring board (not shown), for example, a flexible wiring board, is connected to the external connection terminal 44 by a conductive connection method such as soldering, ACF, or heat sealing. Signals, power, and the like are supplied to the liquid crystal device 1 from an electronic device, for example, a mobile phone or a portable information terminal, via the wiring board.
[0043]
In FIG. 1, the linear electrodes 23a on the color filter substrate 11 side and the dot electrodes 23b on the element substrate 12 side overlap each other in a plan view as viewed in the direction of arrow A. The overlapping area forms a display dot D which is the minimum unit of display. As shown in FIG. 4, the display dot D has an area of substantially the same size as the dot electrode 23b. In FIG. 4, the dot electrode 23b indicated by the dashed line is drawn slightly larger than the colored layer 19 indicated by the solid line, but this is for the sake of easy understanding of the structure. They have the same shape and overlap each other.
In FIG. 4, each dot-shaped coloring layer 19 is formed corresponding to each display dot D. In FIG. 2, the reflective layer 18 has openings 46 corresponding to the individual display dots D. As shown in FIG. 4, these openings 46 are formed in a rectangular shape in plan view. In FIG. 4, the opening 46 shown by a broken line is drawn slightly larger than the recess 28 of the overcoat layer 22 shown by a solid line, but when viewed in plan, both edges are formed on one side of the recess 28. Except for the gently inclined portion 47, they almost coincide with each other.
[0044]
When color display is performed using the colored layers 19 of three colors R, G, and B as in the present embodiment, three colors corresponding to the three colored layers 19 corresponding to the three colors of R, G, and B are used. One display dot D forms one pixel. On the other hand, when a monochrome display such as black and white is performed without using a colored layer, one pixel is formed by one display dot D.
[0045]
In FIG. 2, a portion R where the reflection layer 18 is provided in each display dot D is a reflection portion, and a portion T where the opening 46 is formed is a transmission portion. External light incident from the observation side, that is, external light L0 incident from the element substrate 12 side, is reflected by the reflector R. On the other hand, the light L1 emitted from the light guide 7 of the illumination device 4 in FIG. 1 passes through the transmission portion T in FIG.
[0046]
According to the present embodiment having the above configuration, when external light such as sunlight or indoor light is strong, the external light L0 is reflected by the reflecting portion R and supplied to the liquid crystal layer 14. On the other hand, when the illumination device 4 in FIG. 1 is turned on, the planar light emitted from the light guide 7 is supplied to the liquid crystal layer 14 through the transmission part T in FIG.
[0047]
A scanning voltage is applied to one of the linear electrodes 23a and the dot electrodes 23b sandwiching the liquid crystal layer 14, and a data voltage is applied to the other. The TFD 31 attached to the display dot D to which the scanning voltage and the data voltage are applied is turned on, and the alignment state of the liquid crystal molecules in the display dot D is maintained so as to modulate the light passing through the display dot D. Depending on whether or not the modulated light passes through the polarizing plate 27b in FIG. 1, a desired image such as a character, a numeral, a graphic, or the like is displayed on the outside of the element substrate 12. A case where display is performed using the external light L0 is a reflective display, and a case where display is performed using the transmitted light L1 is a transmissive display.
[0048]
When a reflective display is performed, the reflected light L0 passes through the liquid crystal layer 14 twice. Further, when the transmissive display is performed, the transmitted light L1 passes through the liquid crystal layer 14 only once. For this reason, if the layer thickness of the liquid crystal layer 14 is uniform over the reflective portion R and the transmissive portion T, between the reflective display using the reflected light L0 and the transmissive display using the transmitted light L1, There is a possibility that a difference occurs in a distance passing through the liquid crystal layer 14, and a problem that display quality differs between the reflective display and the transmissive display may occur.
[0049]
In this regard, in the present embodiment, by providing the depression 28 in the overcoat layer 22, the layer thickness E of the liquid crystal layer 14 in the transmission part T is increased and the layer thickness F in the reflection part R is reduced. In addition, uniform display quality can be obtained between the reflective display and the transmissive display.
[0050]
The cross-sectional structure shown in FIG. 2 is a cross-sectional structure along line XX in FIG. 2, the side surface of the depression 28 formed in the overcoat layer 22 is formed so as to be substantially perpendicular to the surface of the overcoat layer 22 or to be steeply inclined. On the other hand, the cross-sectional structure along the line YY in FIG. 4 is as shown in FIG. As shown in FIG. 3, the right side surface of the depression 28 is formed so as to be substantially perpendicular to the surface of the overcoat layer 22 or to be steeply inclined. However, the left side surface 47 is slightly inclined with respect to the surface of the overcoat layer 22.
[0051]
Here, the steep inclination means such an inclination that the difference between the thick portion E and the thin portion F of the liquid crystal layer 14 does not become a halfway liquid crystal layer thickness in display. On the other hand, the gentle inclination means a gentle inclination such that a layer formed on the overcoat layer 22, for example, the electrode 23a or the alignment film 24a is not cut. As is clear from FIG. 4, the gentle inclined portion 47 of the side surface of the depression 28 is formed on one of two short sides of the four sides of the rectangular shape in plan view. That is, the gentle inclined portion 47 is provided at a ratio of 50% or less of the entire side surface, more specifically, at a ratio of 25% or less of the entire wall.
[0052]
If all the side surfaces of the depression 28 are steeply inclined or substantially perpendicular, the thickness of the liquid crystal layer 14 between the thick portion E and the thin portion F between the transmission portion T and the reflection portion R is suddenly increased. It can be varied, and therefore it is considered that good display quality can be obtained. However, in this case, the electrode 23a and the alignment film 24a are cut off at the depression 28, and the display quality may be deteriorated for another reason.
[0053]
On the other hand, in the present embodiment, since the gentle inclined portion 47 is provided in a part of the depression 28, it is possible to prevent the electrode 23a and the alignment film 24a from being cut in that part, thereby preventing the display quality from deteriorating. it can. Further, if the depression 28 is provided with a gentle inclined portion 47, a halfway portion of the liquid crystal layer 14 having a halfway thickness between the thick portion E and the thin portion F of the liquid crystal layer 14 occurs in a wide area, and the display quality is deteriorated. It is possible to become. However, in the present embodiment, the area in which the gentle inclined portion 47 is provided is limited to one side on the short side of the rectangular shape, that is, an area of 50% or less, preferably 25% or less of the whole. The drop is practically negligible.
[0054]
(Modification)
(1) In the above embodiment, as shown in FIGS. 2 and 3, the side surface of the depression 28 formed in the overcoat layer 22 other than the gentle inclined portion 47 is substantially a right angle or a steep inclined portion. When forming a steep slope, the slope is the slope toward the inside of the depression 28. However, instead of this, as shown in FIGS. 6 and 7, an inclined portion 57 inclined toward the outside of the depression 28, that is, a so-called reverse tapered inclined portion can be formed in the overcoat layer 22.
[0055]
If the depression 28 is formed by such an inclined portion 57 having a reverse taper, when the electrode 23a is viewed from the observation side, that is, from the arrow A side, the electrode 23a on the overcoat layer 22 and the electrode 23a on the bottom of the depression 28 are separated. Thus, no gap is generated when viewed in a plan view, so that it is possible to prevent the display quality from deteriorating due to the occurrence of light leakage or the like.
[0056]
(2) In the above embodiment, the depression 28 for changing the layer thickness of the liquid crystal layer 14 between the reflection portion R and the transmission portion T is formed in the overcoat layer 22. It can be formed in any layer.
[0057]
(3) In the above embodiment, the present invention is applied to a liquid crystal device using a TFD, but the present invention can be applied to an active matrix type liquid crystal device using a two-terminal switching element other than the TFD. The present invention is also applicable to an active matrix type liquid crystal device using a three-terminal switching element such as a TFT (Thin Film Transistor). Further, the present invention can be applied to a simple matrix type liquid crystal device which does not use a switching element. Further, the present invention can be applied to an electro-optical device other than the liquid crystal device.
[0058]
(4) In the above embodiment, the substrate for the electro-optical device according to the present invention, that is, the substrate on which the depression 28 is formed is the color filter substrate 11, but when performing monochrome display other than color display, the depression 28 is used. It is not necessary to form the colored layer 19 on the substrate on which is formed. Further, even when the colored layer 19 is formed, the depression 28 may be provided on the substrate on which the colored layer 19 is not formed, in the embodiment of FIG.
[0059]
(5) In the above embodiment, as shown in FIG. 3, the gentle inclined portion 47 of the depression 28 is formed across the boundary P between the reflection portion R and the transmission portion T. That is, the gentle slope 47 is provided over both the reflection part R and the transmission part T. However, instead of this, the gentle inclined portion 47 can be provided corresponding only to the reflecting portion R, or the gentle inclined portion 47 can be provided corresponding only to the transmitting portion T.
[0060]
From the viewpoint of the thickness of the liquid crystal layer 14, the gentle slope 47 is a halfway part that is neither the thick part E nor the thin part F. Therefore, it is considered that the portion having the gentle inclined portion 47 is a portion that may deteriorate the display quality. Therefore, when importance is placed on transmissive display, it is desirable that the gentle inclined portion 47 be provided only in correspondence with the reflecting portion R. On the other hand, when importance is placed on the reflection type display, it is desirable that the gentle inclined portion 47 is provided only in correspondence with the transmission portion T.
[0061]
(Method of manufacturing substrate for electro-optical device)
Hereinafter, a method for manufacturing an electro-optical device substrate according to the present invention will be described with reference to an example of manufacturing the electro-optical device shown in FIG. FIG. 8 shows an example of a method of manufacturing an electro-optical device including a method of manufacturing a substrate for an electro-optical device as a process chart.
[0062]
In the manufacturing method of FIG. 8, in the process P1, the color filter substrate 11 of FIG. 1 is manufactured. In step P2, the element substrate 12 of FIG. 1 is formed. In these steps, the color filter substrate 11 and the element substrate 12 are not formed one by one, but a plurality of color filters are provided on a large-area base material, that is, a so-called mother board, on which a plurality of the substrates can be formed. The substrate 11 and the plurality of element substrates 12 are formed simultaneously.
[0063]
When the plurality of color filter substrates 11 and the plurality of element substrates 12 are respectively formed on the motherboard, in a process P3, the motherboards are aligned, that is, positioned and bonded to each other. The motherboards are adhered by the sealing material 13 (see FIG. 1) formed on the crab. Thus, a large panel structure including a plurality of liquid crystal panels is formed.
[0064]
Next, in step P4, a first cutting operation, that is, a breaking operation, is performed on the panel structure to form a so-called strip-shaped panel structure in which a plurality of liquid crystal panels are built in one row. In this panel structure, with respect to a plurality of liquid crystal panels arranged in a line, openings formed at appropriate places of the sealing material (see FIG. 1), that is, liquid crystal injection ports are exposed to the outside.
[0065]
Next, in step P5, liquid crystal is injected into the inside of the liquid crystal panel from the liquid crystal injection port, and after the injection is completed, the liquid crystal injection port is sealed with a resin. Thus, a strip-shaped panel structure having a plurality of liquid crystal layers 14 as shown in FIG. 1 is formed.
Next, in step P6, a second cutting operation, that is, a breaking operation, is performed on the strip-shaped panel structure to cut out the liquid crystal panels 2 shown in FIG. 1 one by one. Next, the retardation plates 26a and 26b and the polarizing plates 27a and 27b of FIG. Next, in step P8, the driving IC 3 of FIG. 1 is mounted on the surface of the overhang portion 29 of the element substrate 12, and in step P9, a wiring board (not shown) is attached to the external connection terminals 44 on the overhang portion 29. Conductive connection is made, and in step P10, the lighting device 4 of FIG. 1 is mounted, whereby the liquid crystal device 1 of FIG. 1 is completed.
In the manufacturing process of the color filter substrate in the process P1, as shown in FIG. 9, in a process P11, the resin scattering layer 17 is formed on the first base material 16a constituting the color filter substrate 11. Specifically, a resin material is formed into a uniform thickness by, for example, spin coating, a resist is further applied, and the above-mentioned resin is passed through a mask having a pattern matching the uneven shape of the surface of the resin scattering layer 17 as shown in FIG. The resist is exposed, and the resist is developed.
[0066]
Further, the resin material is etched using the developed resist as a mask to form a concavo-convex shape, that is, a peak or a valley, in consideration of the resin material, and the surface of the resin material is further heated to an appropriate temperature to form the concavo-convex shape. Smooth the surface. Furthermore, by applying a thin resin material of the same material, the uneven shape is further smoothed so that a desired light scattering function can be achieved.
[0067]
In other words, the resin scattering layer 17 has a double structure including a lower layer whose surface is formed in a rough uneven shape by photoetching, and an upper layer laminated on the lower layer.
[0068]
Next, in step P12 of FIG. 9, the reflective layer 18 of FIG. 2 is formed by using a light-reflective metal such as Al or an Al alloy as a material by an appropriate film forming method. More specifically, first, a reflective material is formed with a uniform thickness, and an opening 46 is formed for each display dot D by photoetching.
[0069]
Next, in step P13 in FIG. 9, a light-shielding layer 21 is formed of a light-shielding material such as Cr in a region between the display dots D in FIG. Next, in a process P14 of FIG. 9, the colored layer 19 of FIG. 2 is formed in a region between the light shielding layers 21 for each of R, G, and B in a predetermined pattern, for example, a stripe arrangement. These colored layers 19 are formed, for example, by dispersing a one-color pigment in a photopolymer or photoresist to form a colored material, applying the colored material by spin coating or the like, further exposing it in the above-mentioned predetermined pattern, and further developing it. Thereby, a one-colored layer 19 is formed. By repeating this process for each of the colors R, G, and B, a color filter is formed in which the colors R, G, and B are arranged in a predetermined array.
[0070]
Next, in step P15 of FIG. 9, the overcoat layer 22 of FIG. 2 is formed. Specifically, as shown in FIG. 11B, a photosensitive overcoat material 22 ′ is formed with a uniform thickness, and the overcoat material 22 ′ is formed through a mask 49 having a pattern corresponding to the plurality of depressions 28. The material 22 'is exposed and further developed to form a depression 28 as shown in FIG. In this embodiment, a negative material is used as the overcoat material 22 ′. Therefore, a light-shielding portion 51 is formed in a mask portion corresponding to the depression 28.
[0071]
In the present embodiment, as shown in FIG. 3, since a gentle slope 47 is formed in a part of the depression 28 of the overcoat layer 22, a portion of the mask 49 corresponding to the gentle slope 47 in FIG. Is formed not by a complete light-shielding part but by a halftone part 52. With respect to the mask 49, the exposure portion 53 allows 100% of the exposure light to pass therethrough, the light shielding portion 51 blocks the exposure light, and the halftone portion 52 exposes the light at an appropriate ratio of 0 to 100%, for example, 50%. Light passes through. By irradiating the exposure light whose light amount has been reduced in this manner for an appropriate period of time, a gentle inclined portion 47 can be formed.
[0072]
Next, in step P16 in FIG. 9, the electrodes 23a are linearly formed one by one on the overcoat layer 22 in FIG. 2 by, for example, photolithography and photo-etching using ITO as a material. It is formed in a stripe shape when viewed from the direction.
[0073]
Next, in a process P17 in FIG. 9, for example, polyimide is applied to a uniform thickness on the electrode 23a in FIG. 2 to form an alignment film 24a, and a rubbing process is performed. Thus, the color filter substrate 11 of FIG. 1 is formed.
[0074]
The manufacturing process of the counter substrate, that is, the element substrate, performed in the process P2 of FIG. 8 is performed, for example, as illustrated in FIG. First, in step P21, the TFD 31 and the line wiring 33 are formed as shown in FIG. Next, in a process P22 of FIG. 10, the dot electrode 23b of FIG. 3 is formed into a predetermined dot shape by a photolithography method and a photo etching method using ITO as a material. Next, in step P23 of FIG. 10, polyimide is applied on the dot electrode 23b of FIG. 3 with a uniform thickness, and a rubbing process is further performed. Thus, the element substrate 12 of FIG. 1 is formed.
[0075]
(Embodiment of electronic device)
Next, an embodiment of an electronic device according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 12 illustrates a block diagram of an embodiment of an electronic device. The electronic device shown here includes the liquid crystal device 1 and a control unit 60 that controls the liquid crystal device 1. The liquid crystal device 1 has a liquid crystal panel 61 and a drive circuit 62 composed of a semiconductor IC or the like. The control means 60 includes a display information output source 63, a display information processing circuit 64, a power supply circuit 66, and a timing generator 67.
[0076]
The display information output source 63 includes a memory such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), a storage unit such as a magnetic recording disk or an optical recording disk, and a tuning circuit for synchronizing and outputting a digital image signal. Having. Based on various clock signals generated by the timing generator 67, the display information is supplied to the display information processing circuit 64 in the form of an image signal in a predetermined format or the like.
[0077]
The display information processing circuit 64 includes various known circuits such as a serial-parallel conversion circuit, an amplification / inversion circuit, a rotation circuit, a gamma correction circuit, and a clamp circuit. Is supplied to the drive circuit 62 together with the clock signal CLK. The driving circuit 62 includes a scanning line driving circuit, a data line driving circuit, and an inspection circuit. The power supply circuit 66 supplies a predetermined voltage to each of the above components.
[0078]
FIG. 13 shows an embodiment in which the present invention is applied to a mobile phone as an example of an electronic device. The mobile phone 70 shown here has a main body 71 and a display body 72 provided to be openable and closable on the main body. The display device 73 is arranged inside the display unit 72, and various displays related to telephone communication can be visually recognized on the display screen 74 on the display unit 72. Operation buttons 76 are arranged on the front surface of the main body 71. Further, an antenna 77 is mounted to be able to protrude and retract from one end of the display body 72. A speaker is arranged inside the receiving section 78, and a microphone is built inside the transmitting section 79.
[0079]
FIG. 14 illustrates an embodiment in which the present invention is applied to a portable information device that is an example of an electronic device. The portable information device 90 shown here is an information device provided with a touch panel, and has a liquid crystal device 91 mounted thereon. The information device 90 has a display area V formed by the display surface of the liquid crystal device 91, and a first input area W1 located below the display area V. An input sheet 92 is arranged in the first input area W1.
[0080]
The liquid crystal device 91 has a structure in which a rectangular or square liquid crystal panel and a rectangular or square touch panel are also planarly overlapped. The touch panel functions as an input panel. The touch panel is larger than the liquid crystal panel and has a shape protruding from one end of the liquid crystal panel.
[0081]
A touch panel is arranged in the display area V and the first input area W1, and an area corresponding to the display area V also functions as a second input area W2 in which an input operation can be performed similarly to the first input area W1. The touch panel has a second surface located on the liquid crystal panel side and a first surface facing the second surface, and an input sheet 92 is affixed to a position corresponding to the first input area W1 on the first surface. .
[0082]
A frame for identifying the icon 93 and the handwritten character recognition area W3 is printed on the input sheet 92. In the first input area W1, a load is applied to the first surface of the touch panel through an input sheet 92 by an input means such as a finger or a pen to select an icon 93 or input a character in the character recognition area W3. Data entry can be performed.
[0083]
On the other hand, in the second input area W2, in addition to being able to observe the image of the liquid crystal panel, the input mode screen is displayed on the liquid crystal panel, for example, and a load is applied to the first surface of the touch panel with a finger or a pen. An appropriate position in the input mode screen can be specified, and thereby data input and the like can be performed.
[0084]
(Other embodiments)
As described above, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and can be variously modified within the scope of the invention described in the claims.
[0085]
For example, as the electronic device according to the present invention, a liquid crystal television, a digital still camera, a wristwatch, and other various electronic devices can be considered in addition to the above-described mobile phone and portable information device.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of an electro-optical device according to the present invention and an embodiment of a substrate for an electro-optical device.
FIG. 2 is an enlarged sectional view showing a main part of FIG.
FIG. 3 is a cross section of the structure shown in FIG. 2;
FIG. 4 is a plan view showing a planar structure of a main part of the structure shown in FIG. 1;
FIG. 5 is a perspective view showing an example of a switching element used in the device of FIG.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a main part of another embodiment of the substrate for an electro-optical device according to the present invention.
FIG. 7 is a sectional view of the structure shown in FIG. 6;
8 is a process chart showing an example of a method for manufacturing the electro-optical device of FIG.
FIG. 9 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing an electro-optical device substrate according to the present invention.
FIG. 10 is a process chart showing a main step in the manufacturing method of FIG. 8;
FIG. 11 is a view showing main steps of the manufacturing method shown in FIG. 9;
FIG. 12 is a block diagram illustrating an embodiment of an electronic device according to the invention.
FIG. 13 is a perspective view illustrating another embodiment of the electronic apparatus according to the invention.
FIG. 14 is a perspective view showing still another embodiment of the electronic apparatus according to the invention.
[Explanation of symbols]
1: liquid crystal device (electro-optical device), 2: liquid crystal panel, 3: driving IC, 4: illumination device, 11: color filter substrate (electro-optical device substrate), 12: element substrate (counter substrate), 13: Sealing material, 14: liquid crystal layer, 16a, 16b: base material, 17: resin scattering layer, 18: reflection layer, 19: coloring layer, 21: light shielding layer, 22: overcoat layer (layer with depression), 23a , 23b: electrode, 24a, 24b: alignment film, 28: depression, 31: TFD, 46: opening of reflective layer, 47: gentle slope, 49: mask, 51: light shielding part, 52: halftone part, 53: Exposure part, 57: reverse taper inclined part, 70: portable telephone (electronic equipment), 90: portable information equipment (electronic equipment), D: display dot, E: thick part of liquid crystal layer, F: thin part of liquid crystal device, L0: external light, L1: illumination light, R: reflection section T: transmission portion, V: display area

Claims

In an electro-optical device substrate having a layer with a depression,
The side surface of the depression has a slope in which a part thereof is gently inclined,
The remaining portion of the side surface is at least one of a steeper slope than the slope, a substantially right angle, and a slope outside the edge of the depression. substrate.

The substrate for an electro-optical device according to claim 1,
A substrate for an electro-optical device, comprising: a coloring layer; and an electrode, wherein the layer provided with the depression is an overcoat layer provided between the coloring layer and the electrode.

The substrate for an electro-optical device according to claim 1 or 2,
A reflection portion formed by the reflection layer,
Having a transmission portion formed by forming an opening in the reflection layer or making the reflection layer thinner,
The depression is provided corresponding to the transmission part,
The substrate for an electro-optical device, wherein a portion of the side surface that is gently inclined is provided over the reflection portion, the transmission portion, or both the reflection portion and the transmission portion.

The substrate for an electro-optical device according to at least one of claims 1 to 3,
The substrate for an electro-optical device, wherein the depression is provided corresponding to a display dot which is a minimum unit of display.

The substrate for an electro-optical device according to at least one of claims 1 to 4,
The substrate for an electro-optical device, wherein the planar shape of the depression is rectangular, and the gently inclined portion is formed on a short side of the rectangle.

The electro-optical device substrate according to at least one of claims 1 to 5,
The substrate for an electro-optical device, wherein a portion where the side surface that is gently inclined is formed is 50% or less of the entire side surface.

Forming a photosensitive material, which is a material of a layer having a depression, to a uniform thickness;
Exposing the layer of uniform thickness through a mask having a pattern corresponding to the shape of the depression;
Developing the exposed layer of uniform thickness to reveal the depressions,
A method for manufacturing a substrate for an electro-optical device, wherein a part having a gentle slope is formed in a part of a side surface of the depression by a halftone region provided in the mask.

An electro-optical device substrate according to at least one of claims 1 to 6, an opposing substrate facing the electro-optical device substrate, and an electro-optical material layer disposed between the substrates. An electro-optical device comprising:

9. The electro-optical device according to claim 8, wherein the electro-optical material is a liquid crystal.

An electronic apparatus comprising: the electro-optical device according to claim 8 or 9; and control means for controlling an operation of the electro-optical device.