JP2004171023A - 反射防止用多孔質光学材料 - Google Patents

反射防止用多孔質光学材料 Download PDF

Info

Publication number
JP2004171023A
JP2004171023A JP2004031037A JP2004031037A JP2004171023A JP 2004171023 A JP2004171023 A JP 2004171023A JP 2004031037 A JP2004031037 A JP 2004031037A JP 2004031037 A JP2004031037 A JP 2004031037A JP 2004171023 A JP2004171023 A JP 2004171023A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
refractive index
porous optical
optical material
antireflection
reflection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004031037A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3649407B2 (ja
Inventor
Megumi Ishihara
恵 石原
Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=32709495&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2004171023(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2004031037A priority Critical patent/JP3649407B2/ja
Publication of JP2004171023A publication Critical patent/JP2004171023A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3649407B2 publication Critical patent/JP3649407B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

【目的】 従来にない低屈折率を可能にする反射防止用光学材料。
【構成】 透明材料中に独立した泡状の微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にする。したがって、反射防止処理において、処理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近づけることができるため、大きな反射防止効果が得られる。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に利用し得る。

Description

本発明は、反射防止用多孔質光学材料に関し、特に、透明材料の屈折率を低下させてなる反射防止用多孔質光学材料に関する。
屈折率の低い光学材料の適用分野には、反射防止膜、光導波路、レンズ、プリズム等があり、ディスプレイ表面からの反射を抑える防眩処理、光導波路のクラッド等に用いられる。
ところで、従来、屈折率の低い材料としては、サイトップ(旭化成(株)製)等のフッ素化合物(屈折率:1.34)やフッ化マグネシウム(屈折率:1.38)等の化合物、及び、それらの超微粒子を樹脂等に分散させて形成したもの等がある。
しかしながら、フッ素化合物、フッ化マグネシウム等の屈折率は高々1.3程度であり、これより低いものを得ることはできなかった。
また、超微粒子分散系材料では、その屈折率は、マトリクス材料の屈折率と超微粒子の屈折率との中間の値しかとることができず、フッ化マグネシウムの超微粒子を用いても、1.38以下の値をとることはできない。
ところで、反射防止処理については、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層する多層膜による方法と、屈折率の高いガラスあるいはプラスチック等の表面に屈折率の低い材料の単層を設ける方法等がある。後者の場合、屈折率をガラスあるいはプラスチック表面から徐々に低くし、空気の屈折率(=1)に近づけるほどその効果は大きい。そのためには、従来にない低い屈折率を持つ材料が必要である。
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、従来にない低屈折率を可能にする反射防止用光学材料を提供することである。
上記目的を達成すべく研究の結果、マトリクス材料中に上記超微粒子の代わりに、真空、空気あるいは窒素等のガスからなる微小な空孔を分散させることにより、マトリクス材料より低い屈折率の光学材料が得られることを見出して本発明を完成したものである。この場合、この多孔質体の空孔は、連続して繋がっている場合とそれぞれが独立した泡状の場合とがある。
このような多孔質光学材料を作製する方法としては、多くの方法が考えられるが、以下にいくつかの例を示す。ただし、これらに限定されるものではない。
(1)加熱、光あるいは電子線の照射により分解して窒素等のガスを発生する物質をマトリクスとなる樹脂のワニスに分散あるいは溶解させ、乾燥後、加熱、光あるいは電子線照射により気泡を発生させ、多孔質体を得る。マトリクス樹脂としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂等、及び、それらの混合物、共重合体等があり、発泡物質としては、ジアゾ化合物、過酸化物等、及び、それらの混合物がある。
(2)樹脂モノマーに発泡物質を分散あるいは溶解させ、重合後あるいはその前又は同時に、加熱、光照射、電子線照射により発泡させて多孔質体を作る。
(3)重合による体積収縮率の大きい樹脂モノマーの重合により空孔を作り、多孔質体を得る。
(4)重合する際に体積の膨張率が極端に異なる2種以上のモノマーからの共重合体を合成する際に発生する局部的な体積の収縮から微小な空孔を発生させて多孔質体を得る。
(5)樹脂モノマーと相分離状態を示す材料とシリコンオイル、液晶等とを混合して樹脂モノマーを重合させた後、シリコンオイル、液晶等を取り除き多孔質体を作る。
(6)空気等のガスを含むマイクロカプセル(マイクロバルーン)を(1)のワニスに分散させ、乾燥して多孔質体を作る。
(7)金属アルコキサイドと有機高分子との共加水分解、共重縮合(いわゆるゾル−ゲル法)により、分子レベルの有機−無機複合体を作成し、加熱による有機成分を分解させることによって、分子オーダーでの細孔を有する多孔質体を合成する。
このようにして得られる多孔質体は、反射防止膜等の光学薄膜材料として用いることもできるし、バルク状に形成して、レンズ、プリズム等に構成して用いることもできる。これらにおいて、グラジエントな屈折率分布を持たせることもできる。屈折率分布を持たせるには、微小空孔の密度を変化させればよい。
すなわち、本発明の反射防止用多孔質光学材料は、透明材料中に独立した泡状の微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にしたことを特徴とするものである。
この場合、微小空孔は真空あるいは気体からなり、また、微小空孔の大きさは10Åから使用波長程度であることが望ましい。透明材料としては、高分子材料、無機材料、無機高分子複合材料何れであってもよい。そして、本発明の反射防止用多孔質光学材料には屈折率に分布を持たせることもできる。なお、本発明の多孔質光学材料は、光学薄膜材料として用いることもでき、光学バルク材料として用いることもできる。
本発明によると、透明材料中に独立した泡状の微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にすることができるので、反射防止処理において、処理表面層の屈折率を従来に比べてより空気の屈折率に近づけることができるため、大きな反射防止効果が得られる。それ以外にも、低屈折率材料として各方面で有効に利用し得る。
以下、本発明の反射防止用多孔質光学材料のいくつかの実施例について説明する。
実施例1
モノマーとして東亜合成(株)製のアクリル酸誘導体(M−5600)を用い、この中に重合開始部材であり窒素ガスを発生するα、α′−アゾイソブチロニトリルを3.0重量%溶解し、基板上に塗布して電子線照射により表面をゆるやかに硬化させた後、基板を110℃で加熱することにより、樹脂を硬化させると同時に、樹脂中に微小な気泡を内在させた。次いで、アッベ法による屈折率測定を行ったところ、気泡を内在させない樹脂と比べて0.1%以下の屈折率低下が見られた。
比較例1
ガスを発生しない重合開始部材としてテトラメチルチウラムジスルフィドを用いた以外は、実施例1と全く同様にして樹脂を合成した。次いで、実施例1と同様の方法で屈折率を測定したが、屈折率に変化は見られなかった。
実施例2
モノマーの表面硬化の際に紫外線を用いた以外は、実施例1と全く同様にして樹脂中に気泡を内在させた。次いで、アッベ法による屈折率測定を行ったところ、気泡を内在させない樹脂と比べて0.1%以下の屈折率低下が見られた。
実施例3
樹脂として東洋紡績(株)製のポリエステル(バイロン−200)中に発泡部材として1.0重量%の2、2´−アゾビス(2、4−ジメチルバレロニトリル)を溶解し、基板上に塗布後、紫外線照射により発泡部材を分解し、樹脂中に微小な気泡が内在させた。次いで、実施例1と同様の方法で屈折率測定を行ったところ、気泡を内在させない樹脂と比べて0.1%以下の屈折率の低下が見られた。
実施例4
金属アルコキサイドのテトラエトキシシラン50gと有機高分子としてアミド基を繰り返し単位とするポリオキサゾリン5gとをエタノール30mlに溶かし、次いで、この溶液に濃塩酸1.2gを45gの純水で希釈した溶液を添加し、基板上に広げて反応させた。生成したゲルを600℃で焼成し、有機高分子を分解させ、細孔を生じさせた。有機高分子の分解温度以下で焼成した生成物に比べて0.1%以下の屈折率低下が見られた。

Claims (9)

  1. 透明材料中に独立した泡状の微小空孔を分散させてその透明材料自身の屈折率より低い屈折率にしたことを特徴とする反射防止用多孔質光学材料。
  2. 前記微小空孔が真空あるいは気体からなることを特徴とする請求項1記載の反射防止用多孔質光学材料。
  3. 前記微小空孔の大きさが10Åから使用波長程度であることを特徴とする請求項1又は2記載の反射防止用多孔質光学材料。
  4. 前記透明材料が高分子材料からなることを特徴とする請求項1から3の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
  5. 前記透明材料が無機材料からなることを特徴とする請求項1から3の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
  6. 前記透明材料が無機高分子複合材料からなることを特徴とする請求項1から3の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
  7. 屈折率に分布を持たせたことを特徴とする請求項1から6の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
  8. 光学薄膜材料として用いたことを特徴とする請求項1から7の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
  9. 光学バルク材料として用いたことを特徴とする請求項1から7の何れか1項記載の反射防止用多孔質光学材料。
JP2004031037A 2004-02-06 2004-02-06 反射防止用多孔質光学材料 Expired - Lifetime JP3649407B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004031037A JP3649407B2 (ja) 2004-02-06 2004-02-06 反射防止用多孔質光学材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004031037A JP3649407B2 (ja) 2004-02-06 2004-02-06 反射防止用多孔質光学材料

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002036645A Division JP3549108B2 (ja) 2002-02-14 2002-02-14 反射防止用多孔質光学材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004171023A true JP2004171023A (ja) 2004-06-17
JP3649407B2 JP3649407B2 (ja) 2005-05-18

Family

ID=32709495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004031037A Expired - Lifetime JP3649407B2 (ja) 2004-02-06 2004-02-06 反射防止用多孔質光学材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3649407B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006030695A1 (ja) * 2004-09-13 2006-03-23 Nitto Denko Corporation 多孔質体の製造方法、多孔質体、反射防止膜、反射防止シートの製造方法及び反射防止シート

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006030695A1 (ja) * 2004-09-13 2006-03-23 Nitto Denko Corporation 多孔質体の製造方法、多孔質体、反射防止膜、反射防止シートの製造方法及び反射防止シート

Also Published As

Publication number Publication date
JP3649407B2 (ja) 2005-05-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2321390T3 (es) Proceso de revestimiento de superficie nano-estructurada, revestimientos nano-estructurados y articulos que comprenden el revestimiento.
CN102822701B (zh) 防眩性膜、防眩性膜的制造方法、偏振片和图像显示装置
JP2009271536A (ja) 防幻フィルムとその製造方法
JPH063501A (ja) 多孔質光学材料
JP6856540B2 (ja) 核生成剤の使用による微孔性pmma発泡体の製造
WO2005061595A1 (ja) 延伸セルロースエステルフィルム、ハードコートフィルム、反射防止フィルム及び光学補償フィルム、並びにそれらを用いた偏光板及び表示装置
CN103069307A (zh) 光学层叠体、偏振片和图像显示装置
WO2019003905A1 (ja) 反射防止フィルム、偏光板、及び画像表示装置
JP2008088309A (ja) 硬化皮膜、それを用いた反射防止ハードコートフィルム、偏光板および画像表示装置
JP2010090302A (ja) 硬化型フッ素系アクリル樹脂の微粒子、及びそれを利用した光学材料
JPWO2020204148A1 (ja) 光拡散フィルム、光拡散フィルムの製造方法、光学部材、画像表示装置用表示パネルおよび画像表示装置
US20130148205A1 (en) Method of producing antireflection film
JP2015045718A (ja) ハードコートフィルム、偏光板及び透過型液晶ディスプレイ
JP3549108B2 (ja) 反射防止用多孔質光学材料
JP2011037978A (ja) 低屈折率接着剤
JP2004171023A (ja) 反射防止用多孔質光学材料
JP2006116533A (ja) 表面凹凸シートの製造方法、表面凹凸シート及び防眩性シート
JP2011186326A (ja) 光拡散フィルムの製造方法
JP2007279459A (ja) 屈折率制御薄膜
KR20070113822A (ko) 실리카 미세 중공구를 포함하는 방현 코팅제, 및 이로부터제조되는 방현 필름
JPS59151112A (ja) 偏光板
KR20110034237A (ko) 저비중 다층 대구경 폴리머 분체 및 그의 제조방법
JP2016118616A (ja) 光学用透明樹脂組成物およびそれを用いた反射防止膜
JP2008102516A (ja) (高分子/液晶)複合膜表示装置の製造方法
JP2007328124A (ja) 光学異方性材料及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041110

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20050209

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20050210

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RVTR Cancellation of determination of trial for invalidation
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080225

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080225

Year of fee payment: 3