JP2004148812A - Thin film forming article and its manufacture method - Google Patents

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Toru Tatebayashi
徹 館林
Takeyuki Yamaki
健之 山木
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a thin film forming article which can decrease the occurrence of appearance irregularities such as an interference unevenness, streak and the like on a silicone resin thin film whose thickness is uneven at dually coated sections. <P>SOLUTION: The thin film forming article is obtained, by uniformly dispersing the fine particles having a refractive index of n or higher in the transparent silicone resin having a refractive index of n or lower, on the surface of a transparent layer having a refractive of n which is provided on the surface of a transparent substrate or the substrate having a refractive index of n. The article is manufactured so that the thin film whose refractive index has been prepared to be substantially equivalent to n can be formed. Thereby, even if the uneven thickness of the thin film exists, the occurrence of the interference unevenness can be decreased. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

本発明は、透明基材の表面、あるいは基材の表面に設けた透明層の表面に薄膜を形成した薄膜形成品及びその製造方法に関するものである。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a thin film-formed product in which a thin film is formed on a surface of a transparent substrate or a surface of a transparent layer provided on the surface of the substrate, and a method for producing the same.

ガラス基材等の透明基材の表面や、透明層を表面に設けた基材の表面に、オルガノシロキサンを主成分として含有するコーティング材を塗布し、硬化させることによってシリコーン樹脂被膜を形成することが従来から行なわれている(例えば、特許文献1等参照)。このシリコーン樹脂被膜の表面はガラス質のような性状を示すため、基材の表面に付着した水をはじく有機物等(シリコーン樹脂被膜の表面に付着したものやシリコーン樹脂薄膜の表面に含まれるもの)が雨水によって洗浄除去され易くなり、また表面が水に濡れ(馴染み)易くなるという親水性(水濡れ性)の向上もあり、低汚染表面を実現する効果等が期待できるのである。   Forming a silicone resin film by applying and curing a coating material containing organosiloxane as a main component on the surface of a transparent substrate such as a glass substrate or the surface of a substrate provided with a transparent layer on the surface. Has been conventionally performed (for example, see Patent Document 1). Since the surface of this silicone resin film shows a glassy property, organic substances repelling water attached to the surface of the base material (thing attached to the surface of the silicone resin film or contained in the surface of the silicone resin thin film) It is easy to wash and remove by rainwater, and there is also an improvement in hydrophilicity (water wettability) such that the surface is easily wetted (familiar) with water, and an effect of realizing a low-contamination surface can be expected.

しかし、このシリコーン樹脂薄膜は、一般に、下地の透明基材や、透明層の屈折率に比べて小さな屈折率を有する透明な塗膜形成要素であり、数十nm〜数百nmの膜厚領域では、可視光領域の波長を有する電磁波を吸収し、膜厚にむらのある塗膜においては、その膜厚に応じてシリコーン樹脂薄膜との間で干渉むらが発生する恐れがあるという問題があった。特に、刷毛塗りやバーコート塗装で発生する重ね塗り部などは、膜厚にむらが生じ易いので、この部分に筋むらが発生し易いという問題を有するものであった。
特開平10−146251号公報
However, this silicone resin thin film is generally a transparent base material or a transparent coating film forming element having a smaller refractive index than the transparent layer, and has a thickness range of several tens nm to several hundred nm. However, there is a problem in that a coating film that absorbs electromagnetic waves having a wavelength in the visible light range and has an uneven thickness may cause uneven interference with the silicone resin thin film according to the thickness. Was. In particular, a layered portion or the like generated by brush coating or bar coating has a problem in that the film thickness tends to be uneven, and streak unevenness is likely to occur in this portion.
JP-A-10-146251

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、重ね塗り塗装部など膜厚にむらのあるシリコーン樹脂薄膜に干渉むら・筋等の外観異常が発生することを低減することができる薄膜形成品及びその製造方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and has a thin film formation capable of reducing appearance irregularities such as interference unevenness and streaks in a silicone resin thin film having an uneven film thickness such as an overcoated portion. It is an object of the present invention to provide a product and a method for manufacturing the same.

本発明の請求項1に係る薄膜形成品は、屈折率がnの透明基材の表面又は基材に設けた屈折率がnの透明層の表面に、nより小さい屈折率を有する透明なシリコーン樹脂中にnより大きい屈折率を有する微粒子を均一に分散して得られる、膜としての屈折率が実質的にnと同等になるように調整した薄膜を形成して成ることを特徴とするものである。   The thin film-formed product according to claim 1 of the present invention is a transparent silicone having a refractive index smaller than n on the surface of a transparent substrate having a refractive index of n or on the surface of a transparent layer having a refractive index of n provided on the substrate. Characterized in that a thin film obtained by uniformly dispersing fine particles having a refractive index larger than n in a resin and having a refractive index adjusted as a film substantially equal to n is formed. It is.

また請求項2の発明は、請求項1において、nより大きい屈折率を有する上記微粒子が、金属酸化物ゾルであることを特徴とするものである。   According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, the fine particles having a refractive index larger than n are a metal oxide sol.

また請求項3の発明は、請求項1又は2において、屈折率が実質的にnと同等になるように調整した上記薄膜の膜厚が、20nm〜1000nmであることを特徴とするものである。   According to a third aspect of the present invention, in the first or second aspect, the thickness of the thin film adjusted to have a refractive index substantially equal to n is 20 nm to 1000 nm. .

また請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかにおいて、nより大きい屈折率を有する上記微粒子の粒子径が、5nm〜200nmの範囲であることを特徴とするものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the fine particles having a refractive index larger than n have a particle diameter in a range of 5 nm to 200 nm.

本発明の請求項5に係る薄膜形成品の製造方法は、屈折率がnの透明基材の表面又は基材に設けた屈折率がnの透明層の表面に、nより小さい屈折率を有する透明なシリコーン樹脂中にnより大きい屈折率を有する微粒子を均一に分散して得られるコーティング材を塗布し、膜としての屈折率が実質的にnと同等になるように調整した薄膜を形成することを特徴とするものである。   The method for producing a thin film-formed product according to claim 5 of the present invention has a refractive index smaller than n on the surface of a transparent substrate having a refractive index of n or on the surface of a transparent layer having a refractive index of n provided on the substrate. A coating material obtained by uniformly dispersing fine particles having a refractive index larger than n in a transparent silicone resin is applied to form a thin film adjusted so that the refractive index of the film is substantially equal to n. It is characterized by the following.

薄膜形成品に係る請求項1の発明によれば、薄膜に膜厚のむらがあっても干渉むらが発生することを低減することができるものであり、特に刷毛塗りやバーコート塗装で発生する重ね塗り部などに大きな膜厚むらが生じても、この部分に干渉による筋むらが発生することを低減することができるものである。   According to the invention of claim 1 relating to a thin film formed product, it is possible to reduce the occurrence of interference unevenness even if the thin film has uneven film thickness, and in particular, it is possible to reduce the overlap generated by brush coating or bar coating. Even if a large unevenness in film thickness occurs in a painted portion or the like, it is possible to reduce occurrence of unevenness in stripes due to interference in this portion.

また請求項2の発明によれば、金属酸化物ゾルはシリコーン樹脂と相溶性が良く分散安定性を有するものであり、微粒子を均一に分散させて薄膜の屈折率を向上させる作用を高く得ることができるものである。   According to the second aspect of the present invention, the metal oxide sol has good compatibility with the silicone resin and dispersion stability, and has a high effect of uniformly dispersing the fine particles and improving the refractive index of the thin film. Can be done.

また請求項3の発明によれば、薄膜の屈折率を調整して干渉むらを低減する効果を有効に得ることができるものである。   According to the third aspect of the invention, the effect of reducing the interference unevenness by adjusting the refractive index of the thin film can be effectively obtained.

また請求項4の発明によれば、微粒子の均一分散の安定性を良好に得ることができると共に、粒子径が薄膜の膜厚以上になって膜強度を劣化させることを防ぐことができるものである。   According to the invention of claim 4, it is possible to obtain good stability of the uniform dispersion of the fine particles and to prevent the particle diameter from becoming larger than the thickness of the thin film and deteriorating the film strength. is there.

薄膜形成品の製造方法に係る請求項5の発明によれば、薄膜に膜厚のむらがあっても干渉むらが発生することを低減することができるものであり、特に刷毛塗りやバーコート塗装で発生する重ね塗り部などに大きな膜厚むらが生じても、この部分に干渉による筋むらが発生することを低減することができるものである。   According to the invention of claim 5, which relates to a method of manufacturing a thin film-formed product, it is possible to reduce the occurrence of uneven interference even if the thin film has uneven film thickness. Even if a large unevenness in film thickness occurs in the overcoated portion or the like, it is possible to reduce the occurrence of line unevenness due to interference in this portion.

以下、本発明を実施するための最良の形態を説明する。   Hereinafter, the best mode for carrying out the present invention will be described.

本発明において透明基材の表面あるいは透明層の表面に薄膜を形成するために用いられるシリコーン樹脂系の無機塗料は、
(A)成分:一般式Si(OR)…(1)(但しRは1価の炭化水素基)
で表される有機ケイ素アルコキシドの加水分解物及び/又は部分加水分解物を含有するものが好ましい。
In the present invention, a silicone resin-based inorganic paint used to form a thin film on the surface of the transparent substrate or the surface of the transparent layer,
Component (A): General formula Si (OR) 4 (1) (where R is a monovalent hydrocarbon group)
Those containing a hydrolyzate and / or a partial hydrolyzate of an organosilicon alkoxide represented by the following formula (1) are preferable.

上記の(A)成分のアルコキシドの加水分解物及び部分加水分解物は、バインダー樹脂及び造膜成分として用いられるとともに、コーティング薄膜に表面親水性(水濡れ性)を付加することによって、薄膜に防曇性、雨水洗浄による防汚性等をもたらす成分である。有機ケイ素アルコキシドが上記の(1)式のように4官能のものは親水性が高いので好ましいが、勿論これに限定されるものではなく、3官能のものや2官能のものを含有してもよい。上記、アルコキシドの加水分解物及び部分加水分解物は、その形態を特に限定されず、例えば、溶液状のものでも分散液状のもの等でも構わない。   The hydrolyzate and partial hydrolyzate of the alkoxide of the above-mentioned component (A) are used as a binder resin and a film-forming component, and are added to the coating thin film to impart surface hydrophilicity (water wettability) to prevent the thin film. It is a component that provides cloudiness, antifouling properties by rainwater washing, and the like. It is preferable that the organosilicon alkoxide is tetrafunctional as in the above formula (1) because of its high hydrophilicity, but it is not limited to this, and it is not limited thereto, and it may be trifunctional or bifunctional. Good. The form of the hydrolyzate and partial hydrolyzate of the alkoxide is not particularly limited, and may be, for example, a solution or a dispersion.

(A)成分の式中のRは、1価の炭化水素基であれば特に限定されないが、炭素数1〜8の1価の炭化水素基が好適であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などのアルキル基等を例示することができる。アルコキシ基中に含有されるアルキル基のうち、炭素数が3以上のものについては、n−プロピル基、n−ブチル基等のように直鎖状のものであってもよいし、イソプロピル基、イソブチル基、t−ブチル基等のように分岐を有するものであってもよい。アルコキシドの(部分)加水分解時に存在する水の量は、特に限定されない。また、アルコキシドを部分加水分解する際に必要に応じて用いられる触媒としては、特に限定されないが製造工程にかかる時間を短縮する点から、酸性触媒が好ましい。酸性触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸などの有機酸;塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸;酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー等が挙げられ、これらを1種または2種以上使用することができる。アルコキシドの(部分)加水分解は、必要に応じて、例えば40〜100℃の加熱温度で加温して行なってもよい。   R in the formula of the component (A) is not particularly limited as long as it is a monovalent hydrocarbon group, and is preferably a monovalent hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, for example, a methyl group, an ethyl group, Examples thereof include alkyl groups such as a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group and an octyl group. Among the alkyl groups contained in the alkoxy group, those having 3 or more carbon atoms may be linear such as an n-propyl group, an n-butyl group, or an isopropyl group, It may have a branch such as an isobutyl group or a t-butyl group. The amount of water present during the (partial) hydrolysis of the alkoxide is not particularly limited. In addition, the catalyst used as required when the alkoxide is partially hydrolyzed is not particularly limited, but an acidic catalyst is preferable from the viewpoint of shortening the time required for the production process. Examples of the acidic catalyst include, but are not limited to, acetic acid, chloroacetic acid, citric acid, benzoic acid, dimethylmalonic acid, formic acid, propionic acid, glutaric acid, glycolic acid, maleic acid, malonic acid, toluenesulfonic acid, and oxalic acid. Organic acids; inorganic acids such as hydrochloric acid, nitric acid, and halogenated silane; acidic sol-like fillers such as acidic colloidal silica and titania sol; and the like, and one or more of these can be used. The (partial) hydrolysis of the alkoxide may be performed, if necessary, by heating at a heating temperature of, for example, 40 to 100 ° C.

アルコキシドの(部分)加水分解は、必要に応じ、適当な溶媒で希釈して行なってもよい。このような希釈溶媒としては、特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;およびジアセトンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上のものを使用することができる。これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種もしくは2種以上のものを使用することができる。   The (partial) hydrolysis of the alkoxide may be carried out, if necessary, by diluting with an appropriate solvent. Such a diluting solvent is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether such as acetate And ethylene glycol derivatives; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; and diacetone alcohol. One or more selected from the group consisting of these can be used. In combination with these hydrophilic organic solvents, one or more of toluene, xylene, hexane, heptane, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime and the like can be used.

本発明で用いるアルコキシドの部分加水分解物の重量平均分子量は特に限定されるものではないが、500〜8000の範囲が好ましい。これは、500未満の場合は、加水分解物が不安定になり、8000を超える場合は、コーティング薄膜が十分な硬度を保てない等の不都合があるからである。   The weight average molecular weight of the partial hydrolyzate of the alkoxide used in the present invention is not particularly limited, but is preferably in the range of 500 to 8000. This is because if it is less than 500, the hydrolyzate becomes unstable, and if it exceeds 8000, there are disadvantages such as the coating thin film not being able to maintain sufficient hardness.

また、本発明で用いるシリコーン樹脂成分に1種類以上のシリカ成分((B)成分)を必要に応じて加えることが、シリコーン樹脂薄膜の硬度向上、安定性向上、造膜性向上の面で好ましい。この(B)成分としては、特に限定はされず、公知のものを使用できる。シリカの形態としては、特に制限されず、例えば粉体の形でもゾル状の形(コロイダルシリカ)でもよい。コロイダルシリカとしては、特に限定はされないが、例えば水分散性あるいはアルコール等の非水系の有機溶剤分散性コロイダルシリカが使用できる。一般にこのようなコロイダルシリカは、固形分としてのシリカを20〜50質量%含有しており、この値からシリカ配合量を決定できる。尚、水分散性コロイダルシリカを使用する場合には、このコロイダルシリカ中に固形分以外として存在する水は、アルコキシドの(部分)加水分解に使用できるものであり、(部分)加水分解の際の水の使用量に加算される。水分散性コロイダルシリカは、通常、水ガラスから作られるが、市販品として容易に入手することができる。   Further, it is preferable to add one or more silica components (component (B)) to the silicone resin component used in the present invention, if necessary, from the viewpoint of improving the hardness, the stability, and the film forming property of the silicone resin thin film. . The component (B) is not particularly limited, and a known component can be used. The form of the silica is not particularly limited, and may be, for example, a powder form or a sol form (colloidal silica). The colloidal silica is not particularly limited, but for example, water-dispersible or non-aqueous organic solvent-dispersible colloidal silica such as alcohol can be used. Generally, such colloidal silica contains 20 to 50% by mass of silica as a solid content, and the amount of silica can be determined from this value. When water-dispersible colloidal silica is used, water present in the colloidal silica as a substance other than solids can be used for the (partial) hydrolysis of the alkoxide. Added to water usage. The water-dispersible colloidal silica is usually made of water glass, but can be easily obtained as a commercial product.

また、有機溶媒分散性コロイダルシリカは、前記水分散性コロイダルシリカの水を有機溶媒と置換することで容易に調製することができる。このような有機溶媒分散性コロイダルシリカも水分散性コロイダルシリカと同様に市販品として容易に入手できる。有機溶媒分散性コロイダルシリカにおいて、コロイダルシリカが分散している有機溶媒の種類は、特に限定はされないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;およびジアセトンアルコール等を挙げることができ、これらからなる群より選ばれた1種もしくは2種以上のものを使用することができる。これらの親水性有機溶媒と併用して、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の1種もしくは2種以上のものを使用することができる。   The organic solvent-dispersible colloidal silica can be easily prepared by replacing water of the water-dispersible colloidal silica with an organic solvent. Such an organic solvent-dispersible colloidal silica can be easily obtained as a commercial product similarly to the water-dispersible colloidal silica. In the organic solvent dispersible colloidal silica, the type of the organic solvent in which the colloidal silica is dispersed is not particularly limited. For example, lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene Ethylene glycol derivatives such as glycol, ethylene glycol monobutyl ether, and ethylene glycol monoethyl ether acetate; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; and diacetone alcohol; and one selected from the group consisting of these. Alternatively, two or more kinds can be used. In combination with these hydrophilic organic solvents, one or more of toluene, xylene, hexane, heptane, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketoxime and the like can be used.

(B)成分のシリカの配合量としては、特に限定はされないが、例えば、固形分換算で(A)成分と(B)成分の合計質量に対し、その質量比(B/(A+B))が固形分換算で0.60〜0.95の範囲が好ましく、より好ましくは0.65〜0.9の割合である。0.6未満であると添加したシリカフィラーの効果が十分得られにくい傾向があり、初期親水性を得られ難くなる。また、0.95以上であると塗膜の造膜性が悪くなり、耐摩耗性の悪化又は、塗膜の白化の原因となる。このシリカフィラーを分散媒中に均一に分散させる方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、ホモジナイザ、ディスパー、ペイントシェイカー、ビーズミル等を用いた通常の各種分散方法を用いることができる。   The blending amount of the silica as the component (B) is not particularly limited. For example, the mass ratio (B / (A + B)) of the total mass of the components (A) and (B) in terms of solid content is The ratio is preferably 0.60 to 0.95 in terms of solid content, more preferably 0.65 to 0.9. If it is less than 0.6, the effect of the added silica filler tends to be hardly obtained, and it becomes difficult to obtain initial hydrophilicity. On the other hand, when the ratio is 0.95 or more, the film-forming property of the coating film is deteriorated, and the abrasion resistance is deteriorated or the coating film is whitened. The method for uniformly dispersing the silica filler in the dispersion medium is not particularly limited, and for example, various ordinary dispersion methods using a homogenizer, a disper, a paint shaker, a bead mill, or the like can be used.

上記シリカは、粉末、微粒子粉末、溶液分散ゾル粒子等、分散可能なものであれば、いかなる形態のものでも構わないが、ゾル状、特にpH7以下のゾル状であれば、硬化がよリ短時間で進み、使用する上で利便性に優れる。使用される分散媒としては、微粒子を均一に分散させる事ができるものであれば特に限定されず、水系、非水系のいずれの溶剤も用いることができる。水系溶剤としては、特に限定はされないが、例えば、水単独の他、親水性有機溶剤、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪酸アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール等の少なくとも1種と水との混合溶剤を用いる事ができる。上記の水系溶剤の中でも、水−メタノール混合溶剤が、微粒子の分散安定性と、塗布後の分散溶媒の乾燥の点で好ましい。さらに、水系のゾルを用いることにより、ゾルにアルコキシドの加水分解時の酸性触媒の機能をも兼ねさせることもできる。非水系溶剤としては、特に限定されないが、例えば上記親水性有機溶剤と、トルエン、キシレン等の疎水性有機溶剤とからなる群の中から選ばれた少なくとも1種を用いることができる。これらの非水系溶剤の中でも、メタノールが、分散安定性と塗布後の分散媒の乾燥性の点で好ましい。   The silica may be in any form as long as it is dispersible, such as powder, fine particle powder, and solution-dispersed sol particles. Proceeds in time and is very convenient to use. The dispersion medium to be used is not particularly limited as long as the fine particles can be uniformly dispersed, and any of an aqueous solvent and a non-aqueous solvent can be used. The aqueous solvent is not particularly limited. For example, in addition to water alone, hydrophilic organic solvents such as lower fatty acid alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monoethylene A mixed solvent of at least one of ethylene glycol derivatives such as butyl ether and ethylene glycol monobutyl ether acetate; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; and diacetone alcohol can be used. Among the above aqueous solvents, a water-methanol mixed solvent is preferable in terms of dispersion stability of the fine particles and drying of the dispersion solvent after coating. Furthermore, by using an aqueous sol, the sol can also function as an acidic catalyst at the time of hydrolysis of the alkoxide. The non-aqueous solvent is not particularly limited, and for example, at least one selected from the group consisting of the above-mentioned hydrophilic organic solvents and hydrophobic organic solvents such as toluene and xylene can be used. Among these non-aqueous solvents, methanol is preferable in terms of dispersion stability and drying property of the dispersion medium after coating.

ガラス等の透明基材や透明膜の屈折率をnとすると、上記のシリコーン樹脂の屈折率は一般に、ガラス等の透明基材や透明膜の屈折率nより小さい。そして本発明ではこの透明な薄膜形成要素であるシリコーン樹脂に、屈折率nより大きい屈折率を有する微粒子((C)成分)を均一に分散して配合するものである。   Assuming that the refractive index of a transparent substrate or a transparent film such as glass is n, the refractive index of the above silicone resin is generally smaller than the refractive index n of a transparent substrate or a transparent film such as glass. In the present invention, fine particles (component (C)) having a refractive index larger than the refractive index n are uniformly dispersed and mixed in the silicone resin as the transparent thin film forming element.

この(C)成分の微粒子としては、特に限定されず、公知のものを使用することができるが、例えば、ZrO,SnO,PZT,Y,TiO、In,ITO,α−Al、HAP,Fe,Fe,ZnO,BaTiO,MgF,TiN,Sb,CaF,CeO,CeF,NaAlF,La,LaF,PbF,NdF,Pr11,SiO,ThO、ThF,ZnS等を挙げることができ、これらを1種または2種以上使用することができる。これらの中でも、シリコーン樹脂と相溶性が良く分散安定性を有する点から、特に金属酸化物ゾルが好ましい。 The fine particles of the component (C) are not particularly limited, and known particles can be used. For example, ZrO 2 , SnO 2 , PZT, Y 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 , and ITO , Α-Al 2 O 3 , HAP, Fe 2 O 3 , Fe 3 O 4 , ZnO, BaTiO 3 , MgF 2 , TiN, Sb 2 O 3 , CaF 2 , CeO 2 , CeF 3 , Na 3 AlF 6 , La 2 O 3 , LaF 3 , PbF 2 , NdF 3 , Pr 5 O 11 , SiO, ThO 2 , ThF 4 , ZnS and the like can be mentioned, and one or more of these can be used. Among these, a metal oxide sol is particularly preferred from the viewpoint of good compatibility with the silicone resin and dispersion stability.

(C)成分の微粒子は、粉末、微粒子粉末、溶液分散ゾル粒子等、分散可能なものであれば、いかなる形態のものでも構わないが、ゾル状、特にpH7以下のゾル状であれば、硬化がより短時間で進み、使用する上で利便性に優れる。微粒子の分散に使用される分散媒としては、(C)成分の微粒子を均一に分散させる事ができるものであれば特に限定されず、水系、非水系のいずれの溶剤も用いることができる。水系溶剤としては、特に限定されないが、例えば、水単独の他、親水性有機溶剤、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類;エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル等のエチレングリコール誘導体;ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体;ジアセトンアルコール等の少なくとも1種と水との混合溶剤を用いる事ができる。上記の水系溶剤の中でも、水−エタノール混合溶剤が、微粒子の分散安定性と、塗布後の分散溶媒の乾燥の点で好ましい。さらに、水系のゾルを用いることにより、アルコキシドの加水分解時の酸性触媒の機能をも兼ねさせることもできる。非水系溶剤としては、特に限定されないが、例えば上記親水性有機溶剤と、トルエン、キシレン、ヘキサン、ヘプタン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトオキシム等の疎水性有機溶剤とからなる群の中から選ばれた少なくとも1種を用いることができる。これらの非水系溶剤の中でも、メタノールが、分散安定性と塗布後の分散媒の乾燥性の点で好ましい。   The fine particles of the component (C) may be in any form as long as they can be dispersed, such as powder, fine particle powder, and solution-dispersed sol particles. Progresses in a shorter time and is more convenient in use. The dispersion medium used for dispersing the fine particles is not particularly limited as long as it can uniformly disperse the fine particles of the component (C), and any aqueous or non-aqueous solvent can be used. The aqueous solvent is not particularly limited. For example, in addition to water alone, hydrophilic organic solvents such as lower aliphatic alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, n-butanol and isobutanol; ethylene glycol, ethylene glycol monoethylene A mixed solvent of at least one of ethylene glycol derivatives such as butyl ether and ethylene glycol monobutyl ether acetate; diethylene glycol derivatives such as diethylene glycol and diethylene glycol monobutyl ether; and diacetone alcohol can be used. Among the above aqueous solvents, a mixed solvent of water and ethanol is preferred in terms of dispersion stability of the fine particles and drying of the dispersion solvent after coating. Furthermore, by using an aqueous sol, it can also serve as an acidic catalyst at the time of hydrolysis of an alkoxide. The non-aqueous solvent is not particularly limited, and includes, for example, the hydrophilic organic solvent and a hydrophobic organic solvent such as toluene, xylene, hexane, heptane, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and methyl ethyl ketoxime. At least one selected from the group can be used. Among these non-aqueous solvents, methanol is preferred in terms of dispersion stability and drying property of the dispersion medium after coating.

(C)成分の微粒子の配合量は、透明基材の表面や透明層の表面に形成した薄膜としての屈折率が実質的に透明基材や透明層の屈折率nと同等の屈折率になるよう調整することができればよく、特に限定はされないが、例えば、固形分換算で(A)成分と(B)成分と(C)成分の合計質量に対する質量比(C/(A+B+C))が0.01〜0.9の範囲になるように設定するのが好ましく、より好ましくは0.1〜0.5の範囲である。微粒子の配合比率が0.01未満であると、微粒子の添加による屈折率向上の効果を十分に得ることができない傾向がある。また微粒子の配合比率が0.9以上であると、塗膜の造膜性が悪くなり、耐摩耗性の悪化又は、塗膜の白化の原因となる。この微粒子を分散媒中に分散させる方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ホモジナイザ、デイスパー、ペイントシェイカー、ビーズミル等を用いた通常の各種方法を用いることができる。   The amount of the fine particles of the component (C) is such that the refractive index of the thin film formed on the surface of the transparent substrate or the surface of the transparent layer is substantially equal to the refractive index n of the transparent substrate or the transparent layer. There is no particular limitation as long as it can be adjusted so that, for example, the mass ratio (C / (A + B + C)) to the total mass of the components (A), (B) and (C) in terms of solid content is 0.1. It is preferably set to be in the range of 01 to 0.9, more preferably in the range of 0.1 to 0.5. If the mixing ratio of the fine particles is less than 0.01, the effect of improving the refractive index by adding the fine particles tends to be insufficient. Further, when the mixing ratio of the fine particles is 0.9 or more, the film-forming property of the coating film is deteriorated, and the abrasion resistance is deteriorated or the coating film is whitened. The method for dispersing the fine particles in the dispersion medium is not particularly limited, and for example, various ordinary methods using a homogenizer, a disper, a paint shaker, a bead mill, or the like can be used.

上記のように屈折率がnより小さい薄膜形成要素であるシリコーン樹脂に、屈折率がnより大きい微粒子を配合して調製されるコーティング材を、屈折率nの透明基材の表面に塗布し、あるいは基材に設けた屈折率nの透明層の表面に塗布し、乾燥硬化させて薄膜を形成することによって、薄膜形成品を得ることができるものである。そしてシリコーン樹脂に微粒子が均一に分散して形成される薄膜は、屈折率が実質的に透明基材あるいは透明層の屈折率nと同等に形成されているものであり、膜厚にむらがあっても干渉むらが発生することを低減することができるものであり、特に刷毛塗りやバーコート塗装で発生する重ね塗り部などに大きな膜厚むらが生じても、この部分に干渉による筋むらが発生することを低減することができるものである。ここで本発明において、薄膜の屈折率が実質的にnと同等であるとは、特に限定されるものではないが、薄膜の屈折率がn±0.1の範囲であることが好ましく、n±0.05の範囲であることがより好ましい。薄膜の屈折率がn±0.05の範囲であれば、干渉模様が人間の目において確認できない程度のものになり、薄膜の屈折率がn±0.1の範囲であれば、干渉模様を確認できるが気にならない程度のものになる。   As described above, a coating material prepared by blending fine particles having a refractive index greater than n with a silicone resin that is a thin film forming element having a refractive index smaller than n is applied to the surface of a transparent substrate having a refractive index n. Alternatively, a thin film-formed product can be obtained by applying the composition on the surface of a transparent layer having a refractive index of n provided on a base material, and drying and curing to form a thin film. The thin film formed by uniformly dispersing the fine particles in the silicone resin has a refractive index substantially equal to the refractive index n of the transparent substrate or the transparent layer, and has a nonuniform thickness. This can reduce the occurrence of interference unevenness, even if there is a large unevenness in film thickness, especially in the overcoating area that occurs during brush coating or bar coating. The occurrence can be reduced. Here, in the present invention, it is not particularly limited that the refractive index of the thin film is substantially equal to n, but it is preferable that the refractive index of the thin film is in a range of n ± 0.1. More preferably, the range is ± 0.05. When the refractive index of the thin film is in the range of n ± 0.05, the interference pattern is of a degree that cannot be confirmed by human eyes, and when the refractive index of the thin film is in the range of n ± 0.1, the interference pattern is reduced. You can check it, but you won't be bothered.

ここで、透明基材あるいは透明層の表面に形成される上記の薄膜の膜厚は、干渉の強度に関係するものであって、膜厚が20nm未満であると、可視光領域での干渉の影響が弱くなり、また膜厚が1000nmを超えると、干渉むらが発生しにくくなる。従って本発明は、薄膜の膜厚が20nm〜1000nmの範囲の場合に適用して、特に大きな効果を得ることができるものである。   Here, the thickness of the thin film formed on the surface of the transparent substrate or the transparent layer is related to the intensity of the interference. If the thickness is less than 20 nm, the thickness of the interference in the visible light region is reduced. When the influence is weakened, and when the film thickness exceeds 1000 nm, uneven interference hardly occurs. Therefore, the present invention can be applied to the case where the thickness of the thin film is in the range of 20 nm to 1000 nm, and a particularly large effect can be obtained.

また、(C)成分の微粒子の粒子径は、5nm以下では薄膜を形成する際の微粒子の均一分散の安定性が悪く、凝集を起こし易くなる可能性がある。また粒子径が200nm以上では、粒子径が薄膜の膜厚以上になってしまうことがあり、薄膜の膜強度を劣化させるおそれがある。このために微粒子の粒子径は5nm〜200nmの範囲であることが望ましい。   When the particle diameter of the fine particles of the component (C) is 5 nm or less, the stability of uniform dispersion of the fine particles in forming a thin film is poor, and aggregation may easily occur. When the particle diameter is 200 nm or more, the particle diameter may be larger than the thickness of the thin film, and the film strength of the thin film may be deteriorated. For this reason, the particle diameter of the fine particles is preferably in the range of 5 nm to 200 nm.

上記のコーティング材を塗布する方法は特に限定されるものではなく、例えば、刷毛塗り、スプレーコート、浸漬(ディッピング、ディップコートともいう)、ロールコー卜、フローコート、カーテンコート、ナイフコート、スピンコート、バーコート等の通常に使用される各種塗布方法を選択することができる。また、硬化方法については、公知の方法を用いればよく、特に限定はされない。また硬化の際の温度も特に限定はされず、所望される硬化薄膜性能や硬化触媒の使用の有無に応じて常温から加熱までの広い温度範囲をとることができる。   The method of applying the above coating material is not particularly limited, and examples thereof include brush coating, spray coating, dipping (also called dipping and dip coating), roll coating, flow coating, curtain coating, knife coating, spin coating, and the like. Various commonly used coating methods such as bar coating can be selected. The curing method may be a known method, and is not particularly limited. The temperature at the time of curing is not particularly limited, either, and a wide temperature range from room temperature to heating can be taken according to the desired performance of the cured thin film and the use of a curing catalyst.

以下本発明を実施例によって具体的に説明する。実施例中、特に断らない限り、「部」はすべて「質量部」を、「%」はすべて「質量%」を表す。なお、本発明は、下記の実施例に限定されない。   Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to examples. In Examples, unless otherwise specified, all “parts” represent “parts by mass” and all “%” represent “% by mass”. In addition, this invention is not limited to a following example.

(実施例1)
テトラエトキシシラン208部にイソプロピルアルコール356部を加え、さらに水180部及び0.01Nの塩酸18部を混合し、ディスパーを用いてよく混合することにより、4官能シリコーンレジンコーティング溶液を得た。この4官能シリコーンレジンの重合硬化物の屈折率は1.43である。次に、この4官能シリコーンレジンコーティング溶液に酸化アンチモンゾル(日産化学工業社製商品名「AMT−130S」:Sb;屈折率1.66、粒子径約30nm)を、薄膜形成した際に薄膜の屈折率が1.54となるように調節して添加し、60℃で10時間重合反応させた後に、全固形分が1%になるようにIPA(イソプロピルアルコール)で希釈することによって、無機コーティング材を調製した。
(Example 1)
356 parts of isopropyl alcohol was added to 208 parts of tetraethoxysilane, and 180 parts of water and 18 parts of 0.01 N hydrochloric acid were further mixed and mixed well using a disper to obtain a 4-functional silicone resin coating solution. The refractive index of the polymerized and cured product of this tetrafunctional silicone resin is 1.43. Next, an antimony oxide sol (trade name “AMT-130S”, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd .: Sb 2 O 5 ; refractive index: 1.66, particle diameter: about 30 nm) was formed into a thin film on the tetrafunctional silicone resin coating solution. Is added to the mixture so that the refractive index of the thin film becomes 1.54, and after a polymerization reaction at 60 ° C. for 10 hours, the mixture is diluted with IPA (isopropyl alcohol) so that the total solid content becomes 1%. And an inorganic coating material was prepared.

そしてこの無機コーティング材をガラス基材(屈折率1.54)の表面に滴下した後、乾燥後の膜厚が約100nmの膜厚になるように回転数を調節しながらスピンコート塗装をし、さらに100℃で10分間焼成することによって薄膜を得た。   Then, after the inorganic coating material is dropped on the surface of the glass substrate (refractive index 1.54), spin coating is performed while adjusting the rotation speed so that the film thickness after drying becomes about 100 nm, Further, by baking at 100 ° C. for 10 minutes, a thin film was obtained.

(実施例2)
実施例1において、薄膜を形成した際の薄膜の屈折率が1.49となるように無機コーティング材を調製し、また乾燥後の膜厚が60nmとなるように無機コーティング材の塗装をした以外は、実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 2)
In Example 1, except that the inorganic coating material was prepared so that the refractive index of the thin film when the thin film was formed was 1.49, and the inorganic coating material was applied so that the film thickness after drying became 60 nm. In the same manner as in Example 1, a thin film was obtained.

(実施例3)
実施例1において、乾燥後の膜厚が800nmとなるように無機コーティング材の塗装をした以外は、実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 3)
A thin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the inorganic coating material was applied so that the film thickness after drying was 800 nm.

(実施例4)
実施例1において、酸化アンチモンとして粒子径が60nmのものを用い、乾燥後の膜厚が120nmとなるように無機コーティング材の塗装をした以外は、実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 4)
A thin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that antimony oxide having a particle diameter of 60 nm was used and an inorganic coating material was applied so that the film thickness after drying became 120 nm.

(実施例5)
実施例1において、乾燥後の膜厚が1200nmとなるように無機コーティング材の塗装をした以外は、実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 5)
A thin film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the inorganic coating material was applied so that the film thickness after drying became 1200 nm.

(実施例6)
実施例1において、酸化アンチモンとして粒子径が80nmのものを用い、乾燥後の膜厚が30nmとなるように無機コーティング材の塗装をした以外は、実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 6)
A thin film was obtained in the same manner as in Example 1 except that antimony oxide having a particle diameter of 80 nm was used and an inorganic coating material was applied so that the film thickness after drying was 30 nm.

(実施例7)
実施例1において、酸化アンチモンゾルの代りに、酸化ニオブゾル(触媒化成工業社製「オプトレイク17」:Nb;屈折率2.1、粒子径約10nm)を用い、薄膜の屈折率が1.54となるように4官能シリコーンレジンコーティング液にこの硫化亜鉛ゾルを添加するようにした他は、実施例1と同様にして無機コーティング材を調製し、さらにこの無機コーティング材を用いて実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Example 7)
In Example 1, instead of the antimony oxide sol, niobium oxide sol (“Optreak 17” manufactured by Catalysts & Chemicals, Inc .: Nb 2 O 5 ; refractive index: 2.1, particle diameter: about 10 nm) was used. An inorganic coating material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the zinc sulfide sol was added to the tetrafunctional silicone resin coating solution so as to obtain 1.54. A thin film was obtained in the same manner as in Example 1.

(比較例1)
実施例1において、酸化アンチモンゾルを添加せずに、薄膜を形成した際の薄膜の屈折率が1.43となるように無機コーティング材を調製し、さらにこの無機コーティング材を用いて実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, an inorganic coating material was prepared without adding antimony oxide sol so that the thin film had a refractive index of 1.43 when the thin film was formed. A thin film was obtained in the same manner as described above.

(比較例2)
実施例1において、酸化アンチモンゾルの代りに、酸化チタンゾル(触媒化成工業社製「クインタイタニック」:TiO;屈折率2.27、粒子径約10nm)を用い、薄膜の屈折率が1.68となるように4官能シリコーンレジンコーティング液にこの酸化チタンゾルを添加するようにした他は、実施例1と同様にして無機コーティング材を調製し、さらにこの無機コーティング材を用いて実施例1と同様にして薄膜を得た。
(Comparative Example 2)
In Example 1, in place of the antimony oxide sol, titanium oxide sol (Catalysts & Chemicals Industries Co., Ltd. "Quinn Titanic": TiO 2; refractive index 2.27, particle size about 10 nm) using a thin film refractive index of 1.68 An inorganic coating material was prepared in the same manner as in Example 1 except that this titanium oxide sol was added to the tetrafunctional silicone resin coating solution so that To obtain a thin film.

[塗膜性能の評価]
(干渉の有無)
製膜直後の薄膜を、白色光にかざして特に虹色の干渉色が発生しているかに注目して目視で評価した。
[Evaluation of coating film performance]
(With or without interference)
The thin film immediately after the film formation was visually evaluated by holding it over white light and paying particular attention to whether an iridescent interference color was generated.

(外観評価)
製膜直後の薄膜を、特に白華の有無、塗装液のはじき、より、ツヤビケに注目して目視で評価した。
(Appearance evaluation)
The thin film immediately after film formation was visually evaluated, particularly focusing on the presence or absence of efflorescence, the repellency of the coating liquid, and the gloss.

(薄膜初期の水の接触角)
製膜直後に、薄膜の表面に0.2ccの蒸留水を滴下した後に、拡大カメラで観察することにより測定した。
(Contact angle of water at the beginning of thin film)
Immediately after film formation, 0.2 cc of distilled water was dropped on the surface of the thin film, and the measurement was performed by observing with a magnifying camera.

Figure 2004148812
Figure 2004148812

表1にみられるように、実施例1〜4,7はいずれも、干渉模様が発生せず、外観は白華、より、はじき、ツヤビケ、クラックが無く、透明を保ち良好であった。さらに製膜初期から水の接触角が10度以下と良好であった。また、実施例5,6は比較例1に比べて干渉を抑えられ良好であったが、膜厚が1200nmと厚膜にした実施例5は薄膜形成時にクラックが入り、膜厚よりも十分大きな粒子径の微粒子を入れた実施例6は、薄膜形成した際に表面がツヤビケが発生してしまった。一方、薄膜の屈折率が低い比較例1は、外観はクラック、ツヤビケがなく透明な塗膜に形成できたが、白色光の反射光をみると、膜厚のむらに応じて赤や黄色の干渉縞ができていた。また薄膜の屈折率が高い比較例2では、膜厚のむらに応じて赤や白の干渉縞ができていた。   As can be seen from Table 1, in Examples 1 to 4 and 7, no interference pattern was generated, and the appearance was good without whitening, repelling, gloss, cracks, and maintaining transparency. Further, the contact angle of water was as good as 10 degrees or less from the initial stage of film formation. In Examples 5 and 6, interference was suppressed as compared with Comparative Example 1, and the results were good. However, in Example 5, in which the film thickness was as thick as 1200 nm, cracks occurred when the thin film was formed, and the film thickness was sufficiently larger than the film thickness. In Example 6 in which fine particles having a particle diameter were added, the surface was shiny when a thin film was formed. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the refractive index of the thin film was low, the appearance could be formed into a transparent coating film without cracks and gloss, but when looking at the reflected light of white light, the interference of red and yellow depending on the unevenness of the film thickness was observed. There were stripes. Further, in Comparative Example 2 in which the refractive index of the thin film was high, red and white interference fringes were formed according to the unevenness of the film thickness.

以上のことにより基材の屈折率と同程度の屈折率に調節された薄膜は、白色光の反射光を観察したとしても、虹色模様が見られず、低干渉色塗膜を形成することができることが確認される。   By the above, the thin film adjusted to the same refractive index as the refractive index of the substrate, even when the reflected light of white light is observed, no rainbow pattern is seen, and a low interference color coating film is formed. It is confirmed that can be done.

Claims (5)

屈折率がnの透明基材の表面又は基材に設けた屈折率がnの透明層の表面に、nより小さい屈折率を有する透明なシリコーン樹脂中にnより大きい屈折率を有する微粒子を均一に分散して得られる、膜としての屈折率が実質的にnと同等になるように調整した薄膜を形成して成ることを特徴とする薄膜形成品。   Fine particles having a refractive index greater than n are uniformly dispersed in a transparent silicone resin having a refractive index smaller than n on the surface of a transparent substrate having a refractive index of n or the surface of a transparent layer having a refractive index of n provided on the substrate. A thin film formed by forming a thin film adjusted so that the refractive index as a film is substantially equal to n, which is obtained by dispersing the thin film. nより大きい屈折率を有する上記微粒子が、金属酸化物ゾルであることを特徴とする請求項1に記載の薄膜形成品。   2. The thin film-formed article according to claim 1, wherein the fine particles having a refractive index larger than n are a metal oxide sol. 屈折率が実質的にnと同等になるように調整した上記薄膜の膜厚が、20nm〜1000nmであることを特徴とする請求項1又は2に記載の薄膜形成品。   The thin film-formed product according to claim 1, wherein a thickness of the thin film adjusted so that a refractive index is substantially equal to n is 20 nm to 1000 nm. nより大きい屈折率を有する上記微粒子の粒子径が、5nm〜200nmの範囲であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の薄膜形成品。   The thin film-formed article according to any one of claims 1 to 3, wherein the fine particles having a refractive index larger than n have a particle diameter in a range of 5 nm to 200 nm. 屈折率がnの透明基材の表面又は基材に設けた屈折率がnの透明層の表面に、nより小さい屈折率を有する透明なシリコーン樹脂中にnより大きい屈折率を有する微粒子を均一に分散して得られるコーティング材を塗布し、膜としての屈折率が実質的にnと同等になるように調整した薄膜を形成することを特徴とする薄膜形成品の製造方法。   Fine particles having a refractive index greater than n are uniformly dispersed in a transparent silicone resin having a refractive index smaller than n on the surface of a transparent substrate having a refractive index of n or the surface of a transparent layer having a refractive index of n provided on the substrate. A method for producing a thin film-formed product, comprising: applying a coating material obtained by dispersing a thin film to form a thin film adjusted so that the refractive index of the film is substantially equal to n.
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