JP2004146630A - 光モジュール - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、光モジュールにおいて冷却器もしくはパッケージとSi基板をはんだで接合する際等に起きる温度変化で溝の底面部に発生する各部材の熱膨張の差による応力集中を低減し、クラックの発生を防止することができる光モジュールを提供する。
【解決手段】半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するSi基板と、前記Si基板を搭載する冷却器と、前記冷却器を収容するパッケージから構成される光モジュールにおいて、前記Si基板上には前記レンズを搭載するための横断面形状がV字形状、台形形状、もしくは矩形形状のいずれか1つの形状である溝を有し、パッケージと接続されるSi基板裏面のメタライズ膜の形状は、前記溝部底面に相当する個所を回避して形成するか、さらに溝部底面相当個所の光軸方向の側面側の少なくても片方も回避して形成することにより達成できる。
【選択図】 図1
【解決手段】半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するSi基板と、前記Si基板を搭載する冷却器と、前記冷却器を収容するパッケージから構成される光モジュールにおいて、前記Si基板上には前記レンズを搭載するための横断面形状がV字形状、台形形状、もしくは矩形形状のいずれか1つの形状である溝を有し、パッケージと接続されるSi基板裏面のメタライズ膜の形状は、前記溝部底面に相当する個所を回避して形成するか、さらに溝部底面相当個所の光軸方向の側面側の少なくても片方も回避して形成することにより達成できる。
【選択図】 図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は光通信システムや光情報処理システムに適用する光モジュールに係り、特に、溝付Si基板を用いた光モジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光ファイバに半導体レーザ素子の出力光を結合させ、遠方まで情報を伝送する光通信装置においては、半導体レーザ素子の出力光をできるだけ高い利用効率で光ファイバに結合する必要がある。すなわち高精度の位置決めを行わなければならない。しかし、高精度の位置決めは、組み立てコストが高くなるという問題がある。そこで、低コストで、且つ高精度な位置決めができる構造が必要になってきている。
【0003】
その構造として、半導体レーザ素子、モニタ素子、レンズ等を搭載する基板として、溝付Si基板を用いる構造がある(例えば、特許文献1参照)。Si基板は、通常良く用いられるCuW基板に比べ熱伝導性は劣るが熱膨張性に優れており、異方性エッチング等を用いることで高精度な形状が形成できる。そのSi基板に横断面が台形形状になっている溝を形成し、Si基板上面には半導体レーザ素子とモニタ素子を搭載し台形溝にはレンズ(非球面レンズ)を搭載している。なお、同様な構成であるが、V字状の溝にレンズ(球面レンズ)を搭載する例がある(例えば、特許文献2参照)。
【0004】
また、上記2件の公知例を用いることにより、レンズをSi基板に埋没するような形状になるので、光モジュールのパッケージの高さを低く抑えることができるので薄形化が図れるという効果がある。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−295561号公報(第5頁〜第6頁、図1)
【特許文献2】
特開平2002−174756号公報(第2頁〜第3頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術の光モジュールにおいては、パッケージの高さを低く抑えるためにSi基板に横断面形状がV字形状もしくは台形形状の溝を設け、その溝部にレンズを搭載する構造になっており、より一層の薄形化を行う上でV字形状の溝の場合底辺部、台形形状の場合は底面部のSi基板の厚さが非常に薄くなる。すると、はんだを用いて冷却器やパッケージなどに組み立て搭載する際に、高温から室温に冷却されるため、各部材の熱膨張の差によりSi基板の最も薄い個所に応力が集中し、クラックが発生するという問題があった。
【0007】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、低コスト化と高精度な位置決めと薄形化が図れる光モジュールを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的を達成するために、第1の発明では、光モジュールは、半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記メタライズ膜は前記溝部底面に相当する個所を避けて形成されている。
【0009】
第2の発明では、光モジュールは、半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記溝は底部と前記底部を三方から取り囲む第1、第2及び第3の側壁とから構成され、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線、及び第2または第3の側壁の内縁に沿った線より外側に形成される。
【0010】
第2の発明において、前記メタライズ膜は前記第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な線を有するI字状に形成される。又は、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な第1の外縁と、第2または第3の側壁の内縁に沿った線に略並行は外縁を有するL字状に形成されている。
【0011】
また、第1、第2の発明において、前記基板は前記メタライズ膜によって、パッケージ底面または冷却器に搭載される。また、前記基板は、前記基板はSi基板である。また、前記溝の横断面形状はV字形状、台形形状、又は、矩形形状のいずれか1つの形状である。
【0012】
また、第1の発明において、前記基板のメタライズ膜の形状は、溝部底面相当の個所を回避し、冷却器もしくはパッケージ底面のメタライズ膜の形状は溝部底面相当の個所にも設けられる。また、前記基板のメタライズ膜の形状は、前記溝部底面相当個所と前記溝部底面相当個所の光軸方向の側面側の少なくても片方を回避して形成される。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、幾つかの実施例を用い、図を参照して説明する。
図1は本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面図である。図において、半導体レーザ素子1は、Si基板2の上面に搭載されている。Si基板2には異方性エッチングにより形成された溝3があり、その溝3上には非球面レンズ4(本発明では金属被覆も含んで非球面レンズと称している。)が搭載されている。半導体レーザ素子1と溝3と非球面レンズ4は光軸上に整列されている関係にある。Si基板2の下面にはメタライズ膜5が形成され、はんだ6を介して冷却器7側のメタライズ膜8と接続されている。なお、本実施例では、非球面レンズ4を例にとって説明したが、本発明では、必ずしも非球面レンズ4に拘泥するものではなく、通常のレンズでもよい。また、本実施例において、メタライズ膜5、8とは、はんだの濡れ広がる領域を特定する金属膜をいう。
【0014】
図2は図1に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の一実施例を示す構成図であり、図2(a)はSi基板の裏面図であり、図2(b)はSi基板の側面図である。図2(a)、(b)に示すように、Si基板2には台形の溝3が設けられている。このSi基板の裏面にメタライズ膜5を設け、このメタライズ膜5を冷却器7上のメタライズ膜8とはんだ付けをする場合、Si基板2の温度は室温からはんだ付け時の温度に急上昇され、その後室温にまで冷却される。この場合、Si基板2、はんだ6、及び冷却器7の上基板等の熱膨張の差による応力は、Si基板2の台形状溝3の底面3aに集中する。このため、溝3の底面3aにクラックが発生することがある。この熱膨張差による応力が溝3の底面3aに加わらないように、本実施例では、メタライズ膜5は溝3の底面3aを回避して形成されている。
図2に示すように、台形溝3の側壁3b、3c、3dとし、メタライズ膜5の端部5aを側壁3cの外縁3eと底面3a外縁3fの間で移動させて底面3aの最大主応力を熱応力解析すると、最大主応力に変曲点が生じることが判明した。この変曲点までメタライズ膜5の端部5aを底面3aの外縁側に延ばしても、熱膨張差による応力によって溝3の底面3aにクラックが発生しないことが分かった。この変曲点は主にSi基板2に設けられた溝3の底面3aの厚さによって変わる。通常、メタライズ膜5の端部5aを溝3の底面3aの外縁3fに至る手前まで延長しても最大主応力は小さく、溝3の底面3aにクラックを発生することはない。
【0015】
図3は本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面側面である。図3において、図1と同じ構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。図3で、パッケージ9は上蓋21、側面板22、底面板23から構成され、側面板22には光ファイバ取付リング24が保持されている。パッケージ9の内部には、図1で説明した各部材が搭載されている。更に、冷却器7上にはモニタ素子搭載基板10が設置され、モニタ素子搭載基板10には半導体レーザ素子1から出射される光をモニタして光強度の制御を行うためのモニタ素子11が搭載されている。
本実施例では、Si基板2やモニタ素子搭載基板10等の配線パターン、各種基板や素子を接続する部材(ボンディングワイヤやリボンワイヤなど)や外部基板と接続するリード等の部品の説明を省略したが、これらの配線パターン、部材又は部品は本実施例の光モジュールにおいても形成、設置されていることは言うもでもない。
【0016】
以上述べた本発明の第1の実施例では、冷却器7とSi基板2をはんだ6を介して接合する際に高温から室温に冷却されるが、溝3の底面3aにはメタライズ膜5が設けられておらず、従って、はんだ6は設けられないので、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、クラックの発生を防止することができる。
また、クラックを防止できることによりさらなる薄形化が図れるという効果がある。
【0017】
図4は本発明の第2の実施例に係る光モジュールに用いるSi基板の裏面図である。本実施例では、メタライズ膜5は溝3の底面3aを回避するようにL字状に形成されている。即ち、L字状のメタライズ膜5の外縁5aは側壁3cの外縁3eより外側に配置され、且つ側壁3cの外縁3eに沿って延びており、また、メタライズ膜5の外縁5bは側壁3bの外縁3gより外側に配置され、且つ、側壁3bの外縁3gに沿って延びている。
本実施例においては、L字状のメタライズ膜5の外縁5a、5bは溝3の側壁3c、3bまで幅が広げられていない。よって、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、したがってクラックの発生を十分に防ぐことができる。さらに、Si基板2を搭載する部材(冷却器7やパッケージ底面板23)との接着面積を増加させることができるので熱抵抗を低減することができ、Si基板2上に搭載される半導体レーザ素子の温度制御が効率良く行えるという効果もある。
【0018】
図4の実施例において、L字状メタライズ膜5の外縁5aは、図2の実施例で説明したように、側壁3cの外縁3eを越え、底面3aの外縁3f(又は、側壁3cの内縁3f)に至るまで幅を広げても溝3の底面でのクラックを防止することができる。同様に、L字状メタライズ膜5の外縁5bについても、側壁3bの外縁3gを越え、底面3aの外縁3h(又は、側壁3cの内縁3h)に至るまで幅を広げても溝3の底面3aでのクラックを防止することができる。
【0019】
図5は本発明の第3の実施例に係る光モジュール内の断面図である。Si基板2は底面にメタライズ膜5が形成され、パッケージ底板12上に形成されているメタライズ膜8とはんだ6を介して接合されている。この本発明は、主に半導体レーザ素子1の温度制御を行わなくても良い製品に多く用いられる構造である。本発明の実施例は、第1の実施例と同等の効果がある。
【0020】
図6は本発明の効果を検証するために行った応力解析に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の裏面図であり、図6(a)はSi基板の裏面全面にメタライズ膜が設けられたモデル1の裏面図、図6(b)はSi基板の裏面にI字状のメタライズ膜が設けられたモデル2の裏面図、図6(c)はSi基板の裏面にL字状のメタライズ膜が設けられたモデル3の裏面図である。
モデル1は図6(a)に示すように、Si基板の裏面全面にメタライズ膜が設けられている。モデル2は図6(b)に示すように、I字状のメタライズ膜5の外縁5aが溝3の側壁3cの外縁3eと内縁3fの間に配置されている。モデル3は図6(c)に示すように、L字状のメタライズ膜であり、メタライズ膜5の外縁5aは側壁3cの外縁3eと略同じであり、L字状のメタライズ膜5の他の外縁5bは溝3の側壁3dの外縁3jと平行で、且つ外縁3jの外側に配置されている。
【0021】
図7はモデル1〜モデル3について応力解析を行なって結果を示す特性図であり、横軸に各モデル番号を示し、縦軸に25℃から85℃に温度を上昇させたときのSi基板の溝底面の最大主応力を示す。この結果、特性線31に示すように、モデル1の場合には、Si基板2の溝底面2aに最大主応力60MPaが発生するが、モデル2、モデル3の場合にはモデル1の最大主応力の約1/2に低減できる効果があることがわかった。
【0022】
本実施例ではSi基板を例にとって説明したが、本発明では、必ずしもSi基板でなくてもよい。即ち、レンズなどを載置する溝を形成することができる基板であればどのような基板を用いても本発明を適用することができる。
【0023】
また、本発明の実施例では、Si基板2に台形形状の溝を形成する場合を例にとって説明したが、溝3としてはレンズ4を精度良く配置することができるものであればどのような溝であっても良く、例えば、V字溝、矩形形状の溝であってもよく、この場合でも前述した範囲にメタライズ膜を設けることによって、各部品の膨張係数の差に起因するクラックを防止することができる。
【0024】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、Si基板をはんだを介して接合する際に高温から室温に冷却されるが、溝の底面にははんだを設けないので、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、クラックの発生を防止することができる。
【0025】
また、クラックを防止できることによりさらなる薄形化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面図である。
【図2】図1に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の一実施例を示す構成図である。
【図3】本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面側面である。
【図4】本発明の第2の実施例に係る光モジュールに用いるSi基板の裏面図である。
【図5】本発明の第3の実施例に係る光モジュール内の断面図である。
【図6】図6は本発明の効果を検証するために行った応力解析に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の裏面図である。
【図7】モデル1〜モデル3について応力解析を行なって結果を示す特性図である。
【符号の説明】
1…半導体レーザ素子、2…Si基板、3…溝、3a…溝の底面、3b、3c、3d…溝の側壁、5…メタライズ膜、7…冷却器、8…メタライズ膜、9…パッケージ、21…上蓋、22…側面板、23…底面板。
【発明の属する技術分野】
本発明は光通信システムや光情報処理システムに適用する光モジュールに係り、特に、溝付Si基板を用いた光モジュールに関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光ファイバに半導体レーザ素子の出力光を結合させ、遠方まで情報を伝送する光通信装置においては、半導体レーザ素子の出力光をできるだけ高い利用効率で光ファイバに結合する必要がある。すなわち高精度の位置決めを行わなければならない。しかし、高精度の位置決めは、組み立てコストが高くなるという問題がある。そこで、低コストで、且つ高精度な位置決めができる構造が必要になってきている。
【0003】
その構造として、半導体レーザ素子、モニタ素子、レンズ等を搭載する基板として、溝付Si基板を用いる構造がある(例えば、特許文献1参照)。Si基板は、通常良く用いられるCuW基板に比べ熱伝導性は劣るが熱膨張性に優れており、異方性エッチング等を用いることで高精度な形状が形成できる。そのSi基板に横断面が台形形状になっている溝を形成し、Si基板上面には半導体レーザ素子とモニタ素子を搭載し台形溝にはレンズ(非球面レンズ)を搭載している。なお、同様な構成であるが、V字状の溝にレンズ(球面レンズ)を搭載する例がある(例えば、特許文献2参照)。
【0004】
また、上記2件の公知例を用いることにより、レンズをSi基板に埋没するような形状になるので、光モジュールのパッケージの高さを低く抑えることができるので薄形化が図れるという効果がある。
【0005】
【特許文献1】
特開平11−295561号公報(第5頁〜第6頁、図1)
【特許文献2】
特開平2002−174756号公報(第2頁〜第3頁、図1)
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来技術の光モジュールにおいては、パッケージの高さを低く抑えるためにSi基板に横断面形状がV字形状もしくは台形形状の溝を設け、その溝部にレンズを搭載する構造になっており、より一層の薄形化を行う上でV字形状の溝の場合底辺部、台形形状の場合は底面部のSi基板の厚さが非常に薄くなる。すると、はんだを用いて冷却器やパッケージなどに組み立て搭載する際に、高温から室温に冷却されるため、各部材の熱膨張の差によりSi基板の最も薄い個所に応力が集中し、クラックが発生するという問題があった。
【0007】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決することにあり、低コスト化と高精度な位置決めと薄形化が図れる光モジュールを提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的を達成するために、第1の発明では、光モジュールは、半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記メタライズ膜は前記溝部底面に相当する個所を避けて形成されている。
【0009】
第2の発明では、光モジュールは、半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記溝は底部と前記底部を三方から取り囲む第1、第2及び第3の側壁とから構成され、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線、及び第2または第3の側壁の内縁に沿った線より外側に形成される。
【0010】
第2の発明において、前記メタライズ膜は前記第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な線を有するI字状に形成される。又は、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な第1の外縁と、第2または第3の側壁の内縁に沿った線に略並行は外縁を有するL字状に形成されている。
【0011】
また、第1、第2の発明において、前記基板は前記メタライズ膜によって、パッケージ底面または冷却器に搭載される。また、前記基板は、前記基板はSi基板である。また、前記溝の横断面形状はV字形状、台形形状、又は、矩形形状のいずれか1つの形状である。
【0012】
また、第1の発明において、前記基板のメタライズ膜の形状は、溝部底面相当の個所を回避し、冷却器もしくはパッケージ底面のメタライズ膜の形状は溝部底面相当の個所にも設けられる。また、前記基板のメタライズ膜の形状は、前記溝部底面相当個所と前記溝部底面相当個所の光軸方向の側面側の少なくても片方を回避して形成される。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について、幾つかの実施例を用い、図を参照して説明する。
図1は本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面図である。図において、半導体レーザ素子1は、Si基板2の上面に搭載されている。Si基板2には異方性エッチングにより形成された溝3があり、その溝3上には非球面レンズ4(本発明では金属被覆も含んで非球面レンズと称している。)が搭載されている。半導体レーザ素子1と溝3と非球面レンズ4は光軸上に整列されている関係にある。Si基板2の下面にはメタライズ膜5が形成され、はんだ6を介して冷却器7側のメタライズ膜8と接続されている。なお、本実施例では、非球面レンズ4を例にとって説明したが、本発明では、必ずしも非球面レンズ4に拘泥するものではなく、通常のレンズでもよい。また、本実施例において、メタライズ膜5、8とは、はんだの濡れ広がる領域を特定する金属膜をいう。
【0014】
図2は図1に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の一実施例を示す構成図であり、図2(a)はSi基板の裏面図であり、図2(b)はSi基板の側面図である。図2(a)、(b)に示すように、Si基板2には台形の溝3が設けられている。このSi基板の裏面にメタライズ膜5を設け、このメタライズ膜5を冷却器7上のメタライズ膜8とはんだ付けをする場合、Si基板2の温度は室温からはんだ付け時の温度に急上昇され、その後室温にまで冷却される。この場合、Si基板2、はんだ6、及び冷却器7の上基板等の熱膨張の差による応力は、Si基板2の台形状溝3の底面3aに集中する。このため、溝3の底面3aにクラックが発生することがある。この熱膨張差による応力が溝3の底面3aに加わらないように、本実施例では、メタライズ膜5は溝3の底面3aを回避して形成されている。
図2に示すように、台形溝3の側壁3b、3c、3dとし、メタライズ膜5の端部5aを側壁3cの外縁3eと底面3a外縁3fの間で移動させて底面3aの最大主応力を熱応力解析すると、最大主応力に変曲点が生じることが判明した。この変曲点までメタライズ膜5の端部5aを底面3aの外縁側に延ばしても、熱膨張差による応力によって溝3の底面3aにクラックが発生しないことが分かった。この変曲点は主にSi基板2に設けられた溝3の底面3aの厚さによって変わる。通常、メタライズ膜5の端部5aを溝3の底面3aの外縁3fに至る手前まで延長しても最大主応力は小さく、溝3の底面3aにクラックを発生することはない。
【0015】
図3は本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面側面である。図3において、図1と同じ構成要素には同一の符号を付し、その説明を省略する。図3で、パッケージ9は上蓋21、側面板22、底面板23から構成され、側面板22には光ファイバ取付リング24が保持されている。パッケージ9の内部には、図1で説明した各部材が搭載されている。更に、冷却器7上にはモニタ素子搭載基板10が設置され、モニタ素子搭載基板10には半導体レーザ素子1から出射される光をモニタして光強度の制御を行うためのモニタ素子11が搭載されている。
本実施例では、Si基板2やモニタ素子搭載基板10等の配線パターン、各種基板や素子を接続する部材(ボンディングワイヤやリボンワイヤなど)や外部基板と接続するリード等の部品の説明を省略したが、これらの配線パターン、部材又は部品は本実施例の光モジュールにおいても形成、設置されていることは言うもでもない。
【0016】
以上述べた本発明の第1の実施例では、冷却器7とSi基板2をはんだ6を介して接合する際に高温から室温に冷却されるが、溝3の底面3aにはメタライズ膜5が設けられておらず、従って、はんだ6は設けられないので、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、クラックの発生を防止することができる。
また、クラックを防止できることによりさらなる薄形化が図れるという効果がある。
【0017】
図4は本発明の第2の実施例に係る光モジュールに用いるSi基板の裏面図である。本実施例では、メタライズ膜5は溝3の底面3aを回避するようにL字状に形成されている。即ち、L字状のメタライズ膜5の外縁5aは側壁3cの外縁3eより外側に配置され、且つ側壁3cの外縁3eに沿って延びており、また、メタライズ膜5の外縁5bは側壁3bの外縁3gより外側に配置され、且つ、側壁3bの外縁3gに沿って延びている。
本実施例においては、L字状のメタライズ膜5の外縁5a、5bは溝3の側壁3c、3bまで幅が広げられていない。よって、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、したがってクラックの発生を十分に防ぐことができる。さらに、Si基板2を搭載する部材(冷却器7やパッケージ底面板23)との接着面積を増加させることができるので熱抵抗を低減することができ、Si基板2上に搭載される半導体レーザ素子の温度制御が効率良く行えるという効果もある。
【0018】
図4の実施例において、L字状メタライズ膜5の外縁5aは、図2の実施例で説明したように、側壁3cの外縁3eを越え、底面3aの外縁3f(又は、側壁3cの内縁3f)に至るまで幅を広げても溝3の底面でのクラックを防止することができる。同様に、L字状メタライズ膜5の外縁5bについても、側壁3bの外縁3gを越え、底面3aの外縁3h(又は、側壁3cの内縁3h)に至るまで幅を広げても溝3の底面3aでのクラックを防止することができる。
【0019】
図5は本発明の第3の実施例に係る光モジュール内の断面図である。Si基板2は底面にメタライズ膜5が形成され、パッケージ底板12上に形成されているメタライズ膜8とはんだ6を介して接合されている。この本発明は、主に半導体レーザ素子1の温度制御を行わなくても良い製品に多く用いられる構造である。本発明の実施例は、第1の実施例と同等の効果がある。
【0020】
図6は本発明の効果を検証するために行った応力解析に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の裏面図であり、図6(a)はSi基板の裏面全面にメタライズ膜が設けられたモデル1の裏面図、図6(b)はSi基板の裏面にI字状のメタライズ膜が設けられたモデル2の裏面図、図6(c)はSi基板の裏面にL字状のメタライズ膜が設けられたモデル3の裏面図である。
モデル1は図6(a)に示すように、Si基板の裏面全面にメタライズ膜が設けられている。モデル2は図6(b)に示すように、I字状のメタライズ膜5の外縁5aが溝3の側壁3cの外縁3eと内縁3fの間に配置されている。モデル3は図6(c)に示すように、L字状のメタライズ膜であり、メタライズ膜5の外縁5aは側壁3cの外縁3eと略同じであり、L字状のメタライズ膜5の他の外縁5bは溝3の側壁3dの外縁3jと平行で、且つ外縁3jの外側に配置されている。
【0021】
図7はモデル1〜モデル3について応力解析を行なって結果を示す特性図であり、横軸に各モデル番号を示し、縦軸に25℃から85℃に温度を上昇させたときのSi基板の溝底面の最大主応力を示す。この結果、特性線31に示すように、モデル1の場合には、Si基板2の溝底面2aに最大主応力60MPaが発生するが、モデル2、モデル3の場合にはモデル1の最大主応力の約1/2に低減できる効果があることがわかった。
【0022】
本実施例ではSi基板を例にとって説明したが、本発明では、必ずしもSi基板でなくてもよい。即ち、レンズなどを載置する溝を形成することができる基板であればどのような基板を用いても本発明を適用することができる。
【0023】
また、本発明の実施例では、Si基板2に台形形状の溝を形成する場合を例にとって説明したが、溝3としてはレンズ4を精度良く配置することができるものであればどのような溝であっても良く、例えば、V字溝、矩形形状の溝であってもよく、この場合でも前述した範囲にメタライズ膜を設けることによって、各部品の膨張係数の差に起因するクラックを防止することができる。
【0024】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、Si基板をはんだを介して接合する際に高温から室温に冷却されるが、溝の底面にははんだを設けないので、各部材の熱膨張の差による応力集中を防止でき、クラックの発生を防止することができる。
【0025】
また、クラックを防止できることによりさらなる薄形化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面図である。
【図2】図1に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の一実施例を示す構成図である。
【図3】本発明による光モジュールの第1の実施例を示す一部断面側面である。
【図4】本発明の第2の実施例に係る光モジュールに用いるSi基板の裏面図である。
【図5】本発明の第3の実施例に係る光モジュール内の断面図である。
【図6】図6は本発明の効果を検証するために行った応力解析に用いたメタライズ膜が設けられたSi基板の裏面図である。
【図7】モデル1〜モデル3について応力解析を行なって結果を示す特性図である。
【符号の説明】
1…半導体レーザ素子、2…Si基板、3…溝、3a…溝の底面、3b、3c、3d…溝の側壁、5…メタライズ膜、7…冷却器、8…メタライズ膜、9…パッケージ、21…上蓋、22…側面板、23…底面板。
Claims (9)
- 半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記メタライズ膜は前記溝部底面に相当する個所を避けて形成されていることを特徴とする光モジュール。
- 半導体レーザ素子と、前記半導体レーザ素子から出射される光を変換するレンズと、それらの部品を搭載するために設けられ、前記レンズを搭載するための溝が形成された基板と、前記基板を収容するパッケージと、前記基板をパッケージ内に固定するために前記基板の裏面に形成されたメタライズ膜とを備え、前記溝は底部と前記底部を三方から取り囲む第1、第2及び第3の側壁とから構成され、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線、及び第2または第3の側壁の内縁に沿った線より外側に形成されることを特徴とする光モジュール。
- 請求項2記載の光モジュールにおいて、前記メタライズ膜は前記第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な線を有するI字状に形成されることを特徴とする光モジュール。
- 請求項2記載の光モジュールにおいて、前記メタライズ膜は、第1の側壁の内縁に沿った線に略平行な第1の外縁と、第2または第3の側壁の内縁に沿った線に略並行は外縁を有するL字状に形成されていることを特徴とする光モジュール。
- 請求項1または2記載の光モジュールにおいて、前記基板は前記メタライズ膜によって、パッケージ底面または冷却器に搭載されることを特徴とする光モジュール。
- 請求項1または2記載の光モジュールにおいて、前記基板はSi基板であることを特徴とする光モジュール。
- 請求項1または2記載の光モジュールにおいて、前記溝の横断面形状はV字形状、台形形状、又は、矩形形状のいずれか1つの形状であることを特徴とする光モジュール。
- 請求項5記載の光モジュールにおいて、前記基板のメタライズ膜の形状は、溝部底面相当の個所を回避し、冷却器もしくはパッケージ底面のメタライズ膜の形状は溝部底面相当の個所にも設けられていることを特徴とする光モジュール。
- 請求項1又は2記載の光モジュールにおいて、前記基板のメタライズ膜の形状は、前記溝部底面相当個所と前記溝部底面相当個所の光軸方向の側面側の少なくても片方を回避して形成されていることを特徴とする光モジュール。
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