【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示用またはプラズマ表示用のガラス基板や半導体ウェーハ等の基板を薬液等で処理する回転式基板処理装置に関し、さらに詳しくは、基板を１枚ずつ処理する枚葉タイプに適用され、基板処理部の遮蔽性が確保できる回転式基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示用またはプラズマ表示用の基板として使用するガラス基板や、半導体デバイスとして用いられる半導体ウェーハは、その製造工程において、種々の処理が施され、所定の機能が付与されて最終的に電子機器類に組み込まれる。
【０００３】
例えば、液晶表示用として用いられるガラス基板は、成膜処理と洗浄処理とが繰返し行われ、現像液やレジスト膜の塗布、その剥離用の薬液、または洗浄液等の各種の処理液がガラス基板に対して塗布される。このような基板の洗浄処理や洗浄後の乾燥処理には、枚葉タイプの回転式基板処理装置が用いられる。
【０００４】
この回転式基板処理装置は、基板処理部で基板をロータ上に水平に載せ、このロータを所定速度で回転させながら、基板の上面に液体を散布することにより、その上面を湿式処理する。基板の上面に散布された液体は遠心力により周囲に飛散する。また、液体の散布後に基板上に溜まる液体を除去するためにロータを高速で回転させるが、このときも基板から周囲に液体が飛散する。これらの飛散液体を回収するために、回転機構を囲繞して回収用のカップが設けられている。
【０００５】
図１および図２は、枚葉タイプの回転式基板処理装置の全体構成を説明する平面図である。そして、図１は基板搬送時または待機時の構成を示す図であり、図２は洗浄処理時または乾燥処理時の構成を示している。
【０００６】
回転式基板処理装置は、処理すべき基板１を水平に支持して回転させる回転機構２と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体を回収するべく回転機構２を囲繞して設けられたカップ３、４とを備えている。これらは、基板処理装置の外観を構成するハウジング７の内部に設けられている。
【０００７】
回転機構２は、基板１を水平に支持するロータ２ａとその駆動部２ｂとからなり、ロータ２ａはハウジング上方の基板処理部５に配置され、駆動部２ｂはハウジング７の下方に設置される。
【０００８】
上記カップは、円筒形状をして昇降可能な可動式カップ３と、この可動式カップ３を収容する固定式カップ４とに分割されている。固定式カップ３は、断面がＵ字形状の環状容器であり、回転機構２と共にハウジング７の内部に固定されている。図１は基板搬送時または待機時の構成を示す図であるから、同図では、可動式カップ３が固定式カップ４に収容された降下位置で待機している状態を示している。
【０００９】
図１、図２に示すように、固定式カップ４の上端部の外周には、これを囲繞するように環状の凹溝６が形成されており、この凹溝内に水を貯留させている。一方、固定式カップ４上端の周縁部に下方に垂下する垂下部４ａが形成されており、この垂下部４ａの下端部を凹溝６内の水中に浸漬させることによって、水シール構造を構成している。この水シール構造によって、固定式カップ４の上端部と基板処理部４との遮蔽性を確保するようにしている。
【００１０】
可動式カップ３は昇降用のシリンダー（図示せず）に取り付けられ、シリンダーとの同期動作により上下方向に移動可能である。また、可動式カップ３の上部は、基板１から液体を回収するために、内側に所定角度で傾斜している。
【００１１】
図２に示すように、基板の洗浄処理時には可動式カップ３の上端が、ロータ２ａに載置された基板１より上方に位置するように上昇操作される。さらに、基板１の乾燥処理時においても、基板上に溜まる液体を除去するために、窒素ガス等の噴射と同時にロータ２ａを高速で回転させて、基板から周囲に窒素ガス等を含む液体（以下、「液体等」という）が飛散するため、可動式カップ３はほぼ同じ位置に昇降操作される。
【００１２】
この状態でロータ２ａを回転させると、基板１上から飛散した液体等は可動式カップ３の内側で回収されて固定カップ４に導かれる。固定カップ４の下部には薬液用の気液分離装置が設けられており、固定カップ４に導かれた液体等は適切に気体と分離されて系外に排出される。
【００１３】
図３は、前記図２のＡ部の詳細を示す図であり、洗浄処理時および乾燥処理時に基板から飛散した液体等を可動式カップおよび固定式カップで回収する状況を示している。可動式カップ３の下部は、固定カップ４の内周部と僅かの隙間をあけて内嵌するスカートであり、固定カップ４の内周部と共同して可動シール構造を構成している。この可動シール構造によって、回収用のカップ３、４と基板処理部５との遮蔽性を確保するようにしている。
【００１４】
ところが、可動式カップ３の下部と固定カップ４の内周部とが構成する可動シールは、僅かの隙間をあけて内嵌する構造であるから、飛散した液体等の回収状況に応じて、その一部が基板処理部５に逆流し、凹溝６に貯留されていた水がこぼれたり、飛び散ったりする事態が発生する。
【００１５】
一方、基板処理装置の基板処理部５では、基板の洗浄効率を高めるとともに、洗浄用薬液の汚染を防止するため、特に清浄な洗浄雰囲気を保持する必要がある。このため、回収された液体等の一部が基板処理部５に逆流したり、凹溝６の水がこぼれたり、飛び散ったりすることによって、基板処理部５内に水滴等が残留するのを回避する必要がある。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した回転式基板処理装置が包含する問題点に鑑みてなされたものであり、基板の洗浄処理時および乾燥処理時における液体等の回収に際して、回収された液体等の一部が基板処理部に逆流することを確実に防止し、基板処理部でのシール水のこぼれ、飛び散りが発生することがない回転式基板処理装置を提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、下記（１）および（２）の回転式基板処理装置を要旨としている。
【００１８】
（１） 処理すべき基板を水平に支持して回転させる回転機構と、基板の回転によって基板から飛散する液体を回収するべく回転機構を囲繞するカップとを具備する回転式基板処理装置において、前記カップが昇降可能な可動式カップと固定式カップとに分割されており、前記固定式カップの上端部外周に環状の凹溝を形成し、この凹溝内に水を貯留させ、前記固定式カップの周縁部に下方に垂下する垂下部を形成し、この垂下部の下端部を前記凹溝内の液体中に浸漬させるとともに、前記可動式カップの周縁部にその昇降にともなって上下方向に移動する環状板を配し、その環状板に下方に垂下する垂下部を形成させ、前記固定式カップの周縁部に形成した垂下部を覆って、その環状板に形成された垂下部の下端部を前記凹溝内の水中に浸漬させたことを特徴とする回転式基板処理装置である。
【００１９】
（２） 上記（１）の回転式基板処理装置では、凹溝内に水を連続的に供給するとともに、凹溝内の水を連続的に排出して、凹溝内における水の貯留量を確保しつつ、定期的に凹溝内の水を置換させるのが望ましい。さらに、環状板に形成された垂下部より内側に、この垂下部に沿って環状板に第２垂下部を形成し、この第２垂下部を前記可動式カップの昇降にともなって、上記固定式カップの内周面に沿って上下方向に移動させることが望ましい。
【００２０】
本発明の回転式基板処理装置では、従来の固定式カップの周縁部が構成する水シール構造に併せ、可動式カップの周縁部にその昇降にともなって上下方向に移動する環状板を配し、その環状板に下方に垂下する垂下部を形成させ、前記固定式カップの周縁部に形成した垂下部を覆って、その環状板に形成された垂下部の下端部を前記凹溝内の水中に浸漬させたことを特徴としている。
【００２１】
このような構成を採用することによって、基板の洗浄処理時および乾燥処理時に基板から液体等は、新たに可動式カップの周縁部に配された環状板の垂下部によって遮蔽され、回収された液体等が基板処理部に逆流することがない。これにより、基板処理部における基板の洗浄効率を向上させることができる。
【００２２】
上述の通り、本発明の回転式基板処理装置では、回収された液体等が環状板の垂下部によって遮蔽されて基板処理部に逆流することがないが、この液体等が凹溝に貯留された水と接触するようになる。そのため、回収された液体等に薬液の気化性ガスやミストが含有される場合に、この薬液が水に対し可溶であれば、凹溝に貯留された水と反応して溶解する。
【００２３】
このような事態をそのまま放置すると、凹溝内の水に溶融する薬液成分の濃度が増加することになる。そこで、凹溝内の水を連続的に供給するとともに、凹溝内の水を連続的に排出して、凹溝内における水の貯留量を確保しつつ、定期的に凹溝内の水を置換させるのが望ましい。これにより、凹溝内の水に含有される気化性ガスやミスト成分の濃度が増加するのを防止することができる。
【００２４】
さらに、本発明の回転式基板処理装置では、では、回収された液体等が凹溝に貯留された水と接触するのを防止するため、環状板に形成された垂下部より内側に、この垂下部に沿って環状板に、新たに２垂下部を形成し、この第２垂下部を前記可動式カップの昇降にともなって、上記固定式カップの内周面に沿って上下方向に移動させることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の回転式基板処理装置について、図面に基づき詳細に説明する。
【００２６】
本発明の実施形態に係る回転式基板処理装置は、前記図１および図２に示すように、ガラス基板に洗浄処理を施す装置であって、基板１を水平に支持して回転させる回転機構２と、基板１の回転によって基板１から飛散する液体等を回収する可動式カップ３および固定式カップ４とを備えている。
【００２７】
そのうち可動式カップ３は、基板の搬送時または待機時には、固定式カップ４に収容された降下位置で待機しているが、基板の洗浄処理時または乾燥処理時には、可動式カップ３の上端がロータ２ａに載置された基板１より上方に位置するように上昇操作される。その後、ロータ２ａを回転させて、基板１から飛散する液体等を可動式カップ３の内側で回収し、固定カップ４から系外に排出される。
【００２８】
図４は、可動式カップを固定式カップに収容させた降下位置で待機させている状態における本発明の回転式基板処理装置の構成を説明する図である。固定式カップ４の上端部の外周には水を貯留した凹溝６が形成されている。これに対し、固定式カップ４の周縁部に垂下部４ａを設けて、この垂下部４ａの下端部を凹溝６内の水中に浸漬させて、水シール構造を構成している。
【００２９】
一方、可動式カップ３は、その下部のスカート下端の周縁部に鍔部３ａを設けている。その上方には、昇降ガイド８を通して、可動式カップ３の周縁部に環状板３ｂが配されていている。この環状板３ｂは、可動式カップ３の上昇にともなって、前記鍔部３ａに支持されて上昇する。
【００３０】
その環状板３ｂには下方に垂下する垂下部３ｃが形成されており、上記の固定式カップ４の周縁部に形成した垂下部４ａを覆って、環状板３ｂに形成された垂下部３ｃの下端部が凹溝６内の水中に浸漬さするようにしている。
【００３１】
図５は、可動式カップを上昇操作した状態における本発明の回転式基板処理装置の構成を説明する図である。前述の通り、基板の洗浄処理時または乾燥処理時には、可動式カップ３の上端が、ロータに載置された基板高さより上方に位置するように上昇操作される。可動式カップ３の上昇操作にともなって、環状板３ｂも昇降ガイド８を通して上昇するが、その環状板３ｂに形成された垂下部３ｃの下端部を凹溝６内の水中に浸漬する状態は維持される。
【００３２】
このため、基板の洗浄処理時および乾燥処理時における液体等の回収に際して、基板処理部５への流れは可動式カップ３の鍔部３ａとこれに支持される環状板３ｂによって遮蔽される。このため、回収された液体等の一部が基板処理部５に逆流することは確実に防止され、基板処理部５でのシール水のこぼれ、飛び散りが発生することがない。
【００３３】
ところが、回収された液体等は、基板処理部５に逆流することがないが、可動式カップ３の鍔部３ａ、環状板３ｂおよびその垂下部３ｃに沿って凹溝６に貯留された水と接触するようになる。そのため、回収された液体等に水に可溶な薬液の気化性ガスやミストを含有する場合には、凹溝６内の水を連続的に供給するとともに、凹溝６内の水を連続的に排出して、凹溝６内における水の貯留量を確保しつつ、定期的に凹溝６内の水を置換させることが望ましい。
【００３４】
さらに、本発明の回転式基板処理装置では、図６に示すように、回収された液体等が凹溝６に貯留された水と接触するのを防止するため、環状板３ｂに形成された垂下部３ｃより内側に、新たに垂下部３ｄを設ける。この垂下部３ｄは、垂下部３ｃに沿って環状板３ｂの内側に形成されているので、可動式カップ３の昇降にともなって、固定式カップ４の内周面に沿って上下方向に移動する。
【００３５】
このように環状板３ｂを構成することによって、回収された液体等が凹溝６内の水と直接接触するのを防止することができ、液体等に水に可溶な薬液の気化性ガスやミストを含有する場合であっても、定期的に水置換を行う必要がなく、水置換を行う場合であっても、供給量を低減することができる。
【００３６】
【発明の効果】
本発明の回転式基板処理装置であれば、基板の洗浄処理時および乾燥処理時における液体等の回収に際して、回収された液体等の一部が基板処理部に逆流することを確実に防止でき、基板処理部での遮蔽性を確保でき、シール水のこぼれ、飛び散り等の問題を解消することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】基板搬送時または待機時における枚葉タイプの回転式基板処理装置の全体構成を説明する平面図である。
【図２】基板洗浄処理時または乾燥処理時における枚葉タイプの回転式基板処理装置の全体構成を説明する平面図である。
【図３】基板洗浄処理時および乾燥処理時に基板から飛散した液体等を可動式カップおよび固定式カップで回収する状況を示す図である（前記図２のＡ部詳細図）。
【図４】可動式カップを固定式カップに収容させた降下位置で待機させている状態における本発明の回転式基板処理装置の構成を説明する図である。
【図５】可動式カップを上昇操作した状態における本発明の回転式基板処理装置の構成を説明する図である。
【図６】回収された液体等がシール水と接触するのを防止する本発明の回転式基板処理装置の構成を説明する図である。
【符号の説明】
１：基板、 ２、２ａ、２ｂ：回転機構
３：可動式カップ、 ３ａ：鍔部
３ｂ：環状板、 ３ｃ、３ｄ、４ａ：垂下部
４：固定式カップ、 ５：基板処理部
６：凹溝、 ７：ハウジング
８：昇降ガイド[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a rotary substrate processing apparatus for processing a substrate such as a glass substrate for liquid crystal display or plasma display or a semiconductor wafer with a chemical solution or the like, and more particularly, to a single wafer type in which substrates are processed one by one. More particularly, the present invention relates to a rotary substrate processing apparatus capable of securing a shielding property of a substrate processing unit.
[0002]
[Prior art]
A glass substrate used as a substrate for liquid crystal display or plasma display, and a semiconductor wafer used as a semiconductor device are subjected to various processes in a manufacturing process, are given predetermined functions, and are finally provided with electronic devices. Incorporated in
[0003]
For example, for a glass substrate used for liquid crystal display, a film forming process and a cleaning process are repeatedly performed, and various processing solutions such as a developing solution or a coating solution for resist film, a chemical solution for removing the same, or a cleaning solution are applied to the glass substrate. It is applied to. For such a substrate cleaning process and a drying process after the cleaning, a single wafer type rotary substrate processing apparatus is used.
[0004]
In this rotary substrate processing apparatus, a substrate is placed horizontally on a rotor in a substrate processing section, and while the rotor is rotated at a predetermined speed, a liquid is sprayed on the upper surface of the substrate to wet-process the upper surface. The liquid sprayed on the upper surface of the substrate scatters around due to centrifugal force. In addition, the rotor is rotated at a high speed in order to remove the liquid remaining on the substrate after the liquid has been sprayed, and at this time also, the liquid scatters from the substrate to the surroundings. In order to collect these scattered liquids, a collecting cup is provided surrounding the rotating mechanism.
[0005]
1 and 2 are plan views illustrating the overall configuration of a single wafer type rotary substrate processing apparatus. FIG. 1 is a diagram showing a configuration at the time of substrate transfer or standby, and FIG. 2 shows a configuration at the time of cleaning processing or drying processing.
[0006]
The rotary substrate processing apparatus is provided so as to surround a rotary mechanism 2 for horizontally supporting and rotating a substrate 1 to be processed and to surround a rotary mechanism 2 for collecting liquid scattered from the substrate 1 by rotation of the substrate 1. Cups 3 and 4 are provided. These are provided inside a housing 7 constituting the appearance of the substrate processing apparatus.
[0007]
The rotation mechanism 2 includes a rotor 2a that horizontally supports the substrate 1 and a driving unit 2b thereof. The rotor 2a is disposed in the substrate processing unit 5 above the housing, and the driving unit 2b is installed below the housing 7.
[0008]
The cup is divided into a movable cup 3 having a cylindrical shape and capable of moving up and down, and a fixed cup 4 for accommodating the movable cup 3. The fixed cup 3 is an annular container having a U-shaped cross section, and is fixed inside the housing 7 together with the rotating mechanism 2. FIG. 1 is a diagram showing a configuration during a substrate transfer or a standby state. FIG. 1 shows a state in which the movable cup 3 stands by at a lowered position accommodated in the fixed cup 4.
[0009]
As shown in FIGS. 1 and 2, an annular concave groove 6 is formed on the outer periphery of the upper end of the fixed cup 4 so as to surround the upper end, and water is stored in the concave groove. . On the other hand, a hanging portion 4a that hangs downward is formed at the peripheral edge of the upper end of the fixed cup 4, and the lower end of the hanging portion 4a is immersed in the water in the concave groove 6 to constitute a water seal structure. ing. With this water seal structure, the shielding property between the upper end portion of the fixed cup 4 and the substrate processing section 4 is ensured.
[0010]
The movable cup 3 is attached to an elevating cylinder (not shown), and is movable up and down by a synchronous operation with the cylinder. The upper part of the movable cup 3 is inclined inward at a predetermined angle in order to collect the liquid from the substrate 1.
[0011]
As shown in FIG. 2, during the cleaning process of the substrate, the upper end of the movable cup 3 is raised so as to be located above the substrate 1 placed on the rotor 2a. Further, even during the drying process of the substrate 1, in order to remove the liquid accumulated on the substrate, the rotor 2a is rotated at a high speed at the same time as the injection of the nitrogen gas or the like, and the liquid containing the nitrogen gas or the like (hereinafter, referred to as the liquid) from the substrate. , "Liquid and the like" are scattered, and the movable cup 3 is moved up and down to almost the same position.
[0012]
When the rotor 2 a is rotated in this state, liquid and the like scattered from the substrate 1 are collected inside the movable cup 3 and guided to the fixed cup 4. A gas-liquid separator for a chemical solution is provided below the fixed cup 4, and the liquid and the like guided to the fixed cup 4 are appropriately separated from gas and discharged out of the system.
[0013]
FIG. 3 is a diagram showing the details of the portion A in FIG. 2 and shows a state in which liquid and the like scattered from the substrate during the cleaning process and the drying process are collected by the movable cup and the fixed cup. The lower portion of the movable cup 3 is a skirt that is fitted inside the fixed cup 4 with a slight gap therebetween, and forms a movable seal structure in cooperation with the inner periphery of the fixed cup 4. With this movable seal structure, shielding properties between the collecting cups 3 and 4 and the substrate processing unit 5 are ensured.
[0014]
However, the movable seal formed by the lower portion of the movable cup 3 and the inner peripheral portion of the fixed cup 4 has a structure in which the movable seal is fitted with a slight gap therebetween. A part of the water flows backward to the substrate processing unit 5, and the water stored in the concave groove 6 may spill or scatter.
[0015]
On the other hand, in the substrate processing section 5 of the substrate processing apparatus, it is necessary to maintain a particularly clean cleaning atmosphere in order to increase the cleaning efficiency of the substrate and prevent contamination of the cleaning chemical. For this reason, it is possible to avoid that a part of the collected liquid or the like flows backward to the substrate processing unit 5 or that water in the concave groove 6 spills or scatters, so that water droplets or the like remain in the substrate processing unit 5. There is a need to.
[0016]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made in view of the problems embraced by the above-described rotary substrate processing apparatus, and when recovering a liquid or the like during a substrate cleaning process and a drying process, a part of the recovered liquid or the like is used. An object of the present invention is to provide a rotary substrate processing apparatus that reliably prevents backflow to a substrate processing unit and does not cause spilling or scattering of seal water in the substrate processing unit.
[0017]
[Means for Solving the Problems]
The gist of the present invention is the following rotary substrate processing apparatus (1) and (2).
[0018]
(1) A rotary substrate processing apparatus comprising: a rotation mechanism that horizontally supports and rotates a substrate to be processed and a cup that surrounds the rotation mechanism to collect liquid scattered from the substrate by rotation of the substrate. The cup is divided into a movable cup that can be raised and lowered and a fixed cup. An annular groove is formed around the upper end of the fixed cup, and water is stored in the groove. A hanging portion is formed at the periphery of the movable cup, and the lower end of the hanging portion is immersed in the liquid in the groove, and moves vertically along the periphery of the movable cup as it moves up and down. An annular plate is provided, and the annular plate is formed with a hanging portion that hangs downward.The hanging portion formed on the peripheral edge of the fixed cup is covered, and the lower end of the hanging portion formed on the annular plate is closed. Immerse in water in the groove This is a rotary type substrate processing apparatus characterized in that the above-mentioned processing is performed.
[0019]
(2) In the rotary substrate processing apparatus of the above (1), water is continuously supplied into the concave groove, and the water in the concave groove is continuously discharged to reduce the amount of stored water in the concave groove. It is desirable to periodically replace the water in the groove while securing the water. Further, a second hanging portion is formed on the annular plate along the hanging portion inside the hanging portion formed on the annular plate, and the second hanging portion is moved upward and downward by the movable cup, and the second hanging portion is moved to the fixed type. It is desirable to move the cup vertically along the inner peripheral surface of the cup.
[0020]
In the rotary substrate processing apparatus of the present invention, in addition to the water seal structure formed by the peripheral portion of the conventional fixed cup, an annular plate that moves in the vertical direction with the ascending and descending thereof is arranged on the peripheral portion of the movable cup, The annular plate is formed with a hanging portion that hangs downward, and covers the hanging portion formed on the peripheral portion of the fixed cup, and the lower end of the hanging portion formed on the annular plate is placed in water in the groove. It is characterized by being immersed.
[0021]
By adopting such a configuration, liquids and the like from the substrate are newly shielded by the hanging portion of the annular plate disposed on the peripheral portion of the movable cup during the cleaning processing and the drying processing of the substrate, and the collected liquid is recovered. Does not flow back to the substrate processing section. Thereby, the cleaning efficiency of the substrate in the substrate processing section can be improved.
[0022]
As described above, in the rotary substrate processing apparatus of the present invention, the recovered liquid and the like are shielded by the hanging portion of the annular plate and do not flow back to the substrate processing section, but the liquid and the like are stored in the groove. Becomes in contact with water. Therefore, when the collected liquid or the like contains a gaseous gas or mist of a chemical solution, if the chemical solution is soluble in water, it reacts with the water stored in the groove to be dissolved.
[0023]
If such a situation is left as it is, the concentration of the chemical component dissolved in the water in the groove increases. Therefore, while continuously supplying the water in the groove, the water in the groove is continuously discharged, and the water in the groove is periodically removed while securing the amount of water stored in the groove. It is desirable to make substitution. Thereby, it is possible to prevent the concentration of the vaporizable gas and the mist component contained in the water in the groove from increasing.
[0024]
Further, in the rotary substrate processing apparatus of the present invention, in order to prevent the collected liquid or the like from coming into contact with the water stored in the concave groove, in order to prevent the suspended liquid formed inside the annular plate, Forming two new hanging portions on the annular plate along the portion, and moving the second hanging portion in the vertical direction along the inner peripheral surface of the fixed cup as the movable cup moves up and down. Can be.
[0025]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, a rotary substrate processing apparatus of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0026]
As shown in FIGS. 1 and 2, the rotary substrate processing apparatus according to the embodiment of the present invention is an apparatus for performing a cleaning process on a glass substrate, and a rotating mechanism 2 for horizontally supporting and rotating the substrate 1. And a movable cup 3 and a fixed cup 4 for collecting a liquid or the like scattered from the substrate 1 by rotation of the substrate 1.
[0027]
Among them, the movable cup 3 is waiting at the lowered position accommodated in the fixed cup 4 when the substrate is transported or in a standby state, but the upper end of the movable cup 3 is rotated when the substrate is washed or dried. The ascending operation is performed so as to be located above the substrate 1 placed on 2a. Thereafter, the rotor 2a is rotated to collect liquid and the like scattered from the substrate 1 inside the movable cup 3, and is discharged from the fixed cup 4 to the outside of the system.
[0028]
FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of the rotary substrate processing apparatus of the present invention in a state where the movable cup is waiting at a lowered position where the movable cup is accommodated in the fixed cup. A groove 6 for storing water is formed on the outer periphery of the upper end of the fixed cup 4. On the other hand, a hanging portion 4a is provided on the peripheral edge of the fixed cup 4, and the lower end of the hanging portion 4a is immersed in the water in the concave groove 6 to form a water seal structure.
[0029]
On the other hand, the movable cup 3 is provided with a flange 3a at a peripheral edge of a lower end of a skirt at a lower portion thereof. Above it, an annular plate 3b is arranged around the periphery of the movable cup 3 through a lifting guide 8. The annular plate 3b is supported by the flange 3a and rises as the movable cup 3 rises.
[0030]
The annular plate 3b is formed with a hanging portion 3c which hangs downward. The hanging portion 3c formed on the peripheral portion of the fixed cup 4 covers the hanging portion 4a, and the lower end of the hanging portion 3c formed on the annular plate 3b. The part is immersed in the water in the groove 6.
[0031]
FIG. 5 is a diagram illustrating the configuration of the rotary substrate processing apparatus of the present invention in a state where the movable cup is raised. As described above, during the cleaning process or the drying process of the substrate, the upper end of the movable cup 3 is operated to rise so as to be located above the height of the substrate placed on the rotor. As the movable cup 3 is raised, the annular plate 3b also rises through the elevating guide 8, but the lower end of the hanging portion 3c formed on the annular plate 3b is kept immersed in the water in the groove 6. Is done.
[0032]
For this reason, at the time of collecting the liquid and the like at the time of the cleaning process and the drying process of the substrate, the flow to the substrate processing unit 5 is blocked by the flange 3a of the movable cup 3 and the annular plate 3b supported by the flange. For this reason, a part of the collected liquid or the like is prevented from flowing back to the substrate processing unit 5, and the seal water in the substrate processing unit 5 does not spill or scatter.
[0033]
However, the collected liquid and the like do not flow back to the substrate processing unit 5, but the water and the like stored in the groove 6 along the flange 3a, the annular plate 3b and the hanging part 3c of the movable cup 3 Come into contact. Therefore, when the collected liquid or the like contains a vaporizable gas or mist of a water-soluble chemical solution, the water in the groove 6 is continuously supplied, and the water in the groove 6 is continuously supplied. It is desirable that the water in the groove 6 is periodically replaced while the water is discharged in the groove 6 while ensuring the amount of water stored in the groove 6.
[0034]
Further, in the rotary substrate processing apparatus according to the present invention, as shown in FIG. 6, a droop formed on the annular plate 3b to prevent the collected liquid or the like from contacting the water stored in the concave groove 6. A hanging part 3d is newly provided inside the part 3c. Since the hanging portion 3d is formed inside the annular plate 3b along the hanging portion 3c, it moves vertically along the inner peripheral surface of the fixed cup 4 as the movable cup 3 moves up and down. .
[0035]
By configuring the annular plate 3b in this manner, it is possible to prevent the collected liquid or the like from directly contacting the water in the concave groove 6, and to provide a vaporizable gas of a chemical solution soluble in water in the liquid or the like. Even when mist is contained, there is no need to periodically perform water replacement, and even when water replacement is performed, the supply amount can be reduced.
[0036]
【The invention's effect】
With the rotary substrate processing apparatus of the present invention, at the time of collecting the liquid and the like at the time of cleaning processing and drying processing of the substrate, it is possible to reliably prevent a part of the collected liquid and the like from flowing back to the substrate processing unit, The shielding property in the substrate processing section can be secured, and problems such as spilling and splashing of seal water can be solved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a plan view illustrating the overall configuration of a single wafer type rotary substrate processing apparatus during substrate transfer or standby.
FIG. 2 is a plan view illustrating an overall configuration of a single wafer type rotary substrate processing apparatus during a substrate cleaning process or a drying process.
FIG. 3 is a view showing a state in which liquid or the like scattered from a substrate is collected by a movable cup and a fixed cup during a substrate cleaning process and a drying process (a detailed view of a portion A in FIG. 2).
FIG. 4 is a diagram illustrating the configuration of the rotary substrate processing apparatus of the present invention in a state where the movable cup is waiting at a lowered position where the movable cup is accommodated in a fixed cup.
FIG. 5 is a diagram illustrating a configuration of a rotary substrate processing apparatus of the present invention in a state where a movable cup is raised.
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of a rotary substrate processing apparatus of the present invention that prevents collected liquid and the like from contacting seal water.
[Explanation of symbols]
1: substrate, 2, 2a, 2b: rotating mechanism 3: movable cup, 3a: flange 3b: annular plate, 3c, 3d, 4a: hanging part 4: fixed cup, 5: substrate processing section 6, concave groove 7: Housing 8: Elevating guide
