JP2004085874A - Reflecting plate and reflective polarizing plate - Google Patents

Reflecting plate and reflective polarizing plate Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflecting plate which has a high degree of freedom of the selection of a base material, which can be made thinner and can considerably reduce manufacturing costs, and to provide a reflective polarizing plate which has a reflective layer formed directly on a polarizer. <P>SOLUTION: A reflecting plate 1 is provided with a base material 11 and a reflective layer 12 formed on the base material 11. The reflective layer 12 is formed on the base material 11 by heating and sintering a coating layer where metal nanoparticles are dispersed and coated. A reflective polarizing plate 10 is provided with the reflecting plate 1 and the polarizing plate 2 stacked on the reflector 1, and a member constituting the polarizing plate 2 is the base material of the reflector 1. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置等に好適に用いられる反射板及び反射型偏光板に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来より、液晶セルと、当該液晶セルに対して視認側に配置された偏光板と、前記液晶セルに対して視認側と反対側に配置された偏光板とを備えた液晶表示装置であって、前記反対側に配置された偏光板に対して視認側と反対側に反射板を配置した反射型液晶表示装置が知られている。斯かる液晶表示装置は、太陽光等の外光によって表示画面(液晶セルの内容)を視認することができ、バックライトを必要とせず、消費電力が小さいという利点を有することから、携帯電話等の表示装置として種々適用されている。
【0003】
ここで、反射板としては、基材と、当該基材上に形成された金属膜からなる反射層とを備えるものが一般的である。金属膜は、通常、蒸着やスパッタ等の手法によって基材上に形成されるが、この際、基材には温度負荷がかかると共に、金属膜の付着力を高めるには、ある程度基材を昇温する必要があるため、ガラスなどの耐熱性基材が用いられることが多い。従って、良好な金属膜質が得られるプラスチック製の基材は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等の樹脂フィルムなど、耐熱性を有するプラスチックから形成されたものに制限されてしまうという問題がある。
【0004】
また、反射板を形成する基材は、熱応力や金属薄膜内部の残留応力の影響を回避するべく、ある程度厚みを大きくする必要があった。その結果、反射板の総厚みが大きくなってしまい、近年の液晶表示装置の薄型化要求に適合しないという問題があった。さらに、蒸着による成膜は、真空環境が必要であるため、製造コストの上昇を招く要因ともなっていた。
【0005】
一方、液晶表示装置に用いられる反射型偏光板は、前記基材付き反射板と偏光板とをそれぞれ独立別個に作成し、両者を貼着して形成されるのが一般的である。しかし、反射型偏光板として使用する形態では、反射板を構成する基材は、反射層の支持体として必ずしも必要ではなく、前述のように薄型化を図る観点からは、むしろ省略することが望まれている。しかし、基材を省略するべく、偏光板に直接金属膜を蒸着するのでは、前述した温度条件や真空条件に起因して、良質の金属膜を形成できなかったり、偏光板の劣化を招くなどの問題があり、実用化できていないのが現状である。
【0006】
より具体的に説明すれば、プラスチック製の偏光板の耐熱上限は、負荷する時間にも依存するが、上限は200℃程度(実用的には150℃程度)である。これ以上昇温すれば、偏光板の光学機能が変化する他、カールやシワ等が発生し、使用は困難である。従って、偏光板に直接金属膜を形成する場合には、200℃以下で、可能な限り低温(好ましくは150℃以下、より好ましくは100℃以下)で成膜できることが必要である。また、偏光板を構成するフィルム類は、水分や可塑剤を含み、真空蒸着の被着体としては適当でない場合が多いため、大気圧中で成膜することが望ましい。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、斯かる従来技術の問題を解決するべくなされたものであり、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となる反射板、及び、反射層が偏光板上に直接形成された反射型偏光板を提供することを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】
金属ナノ粒子、つまり、ナノメータオーダーの寸法を有する超微粒子金属は、通常の金属とは挙動が異なることが知られている。これは、金属の単位重量に対する表面積の割合が大きくなり、表面近傍の活性層の影響が大きくなるためである。例えば、銀のナノ粒子は特異的な挙動を示し、通常の銀の融点が961℃であるにも関わらず、銀ナノ粒子は200℃以下、特に粒子寸法を調整すれば100℃以下で溶融固着し、ナノ粒子界面が完全に金属結合する。
【0009】
本発明の発明者は、斯かる金属ナノ粒子の特異的な挙動に着目し、鋭意研究した結果、金属結合したナノ粒子界面を反射板の反射層として利用可能であることを見出し、本発明を完成させたものである。すなわち、本発明は、請求項1に記載の如く、基材と、当該基材上に形成された反射層とを備えた反射板であって、前記反射層は、前記基材上に金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結した加熱焼結層とされていることを特徴とする反射板を提供するものである。
【0010】
請求項1に係る発明によれば、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層、つまり金属ナノ粒子を分散した分散液を塗布した塗布層を加熱焼結するため、低温で、且つ、蒸着と異なり大気圧下で反射層を形成可能である。従って、反射板を形成する基材の化学的制約や物理的制約が緩和され、基材の選択肢が広がるため、反射板としての用途が格段に拡大する(後述するように、反射層を偏光板上に直接形成することも可能である)と共に、比較的安価な製造コストで反射板を形成することも可能である。また、低温で反射層を形成するため、熱応力や残留応力の影響も少なく、基材の厚みを低減でき、反射板の薄型化を図ることも可能である。以上のように、請求項1に係る発明によれば、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となるという優れた利点を有する反射板が提供される。なお、前記塗布層は、好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは100℃以下で加熱焼結される。
【0011】
好ましくは、請求項2に記載の如く、前記基材は、前記反射層側の表面が粗面化される。
【0012】
請求項2に係る発明によれば、基材の表面が粗面化されるため、反射板に拡散反射機能を付与することができ、当該反射板を液晶表示装置に適用した場合、良好な視野角特性を得ることができる。
【0013】
また、反射板に拡散反射機能を付与するには、請求項3に記載の如く、前記基材は、前記反射層側の表面が平滑化されており、前記反射層の前記基材側と反対側の表面に、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材を積層してもよい。
【0014】
本発明に係る反射板を液晶表示装置に適用する場合、前述のように、薄型化される方が好ましい。従って、好ましくは、請求項4に記載の如く、前記基材は、厚みが100μm以下とされる。なお、前記基材の厚みは、より好ましくは80μm以下、さらに好ましくは50μm以下とされる。
【0015】
前記金属ナノ粒子としては、ナノ粒子化することができる限りにおいて、種々の金属を適用することができるが、反射率が高く、耐腐食性も良いという観点より、請求項5に記載の如く、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか1つ又はいずれかの混合体とするのが好ましい。
【0016】
ただし、前記金属は、一部を除いて、腐食(酸化)を完全に防ぐことはできないため、耐腐食性をより一層高めるべく、請求項6に記載の如く、前記反射層の少なくとも一方の表面に、酸化防止用の保護層を形成し、反射層が酸素や水分に接触するのを防止することが好ましい。
【0017】
好ましくは、請求項7に記載の如く、前記保護層の表面は、H以上の鉛筆硬度を有するものとされる。ここで、鉛筆硬度とは、JIS−K−5400で規格化されており、鉛筆の芯で一定荷重により表面を引っ掻くことにより測定される値である。
【0018】
請求項7に係る発明によれば、保護層の表面が硬質化されているため、反射板をハンドリングする際、反射層に擦り傷や打痕などの損傷が生じるのを防止し、当該反射板を液晶表示装置に適用した場合の表示品位への影響を抑止することができる。後述するように、偏光板に直接反射層を形成する場合、つまり、偏光板を構成する部材が反射板の基材とされている場合に、本発明は特に有効である。換言すれば、偏光板に直接反射層を形成する場合、反射層が保護層を介して外界に直接触れる(偏光板と基材とで挟持される構成ではない)ため、前述したような機械的化学的な損傷を受け易く、損傷を防止するために保護層表面を硬質化することは極めて有効である。なお、より好ましくは、前記鉛筆硬度は2H以上とされる。
【0019】
好ましくは、請求項8に記載の如く、前記保護層の表面には、抵抗値1010Ω以下の帯電防止処理が施される。
【0020】
前記保護層として用いられる材料の多くは絶縁体であるので、反射層は絶縁体に挟持されたコンデンサー構造となる。従って、反射板のハンドリングの際に静電気を帯び易く、静電吸着や放電による不快感が生じたり、周囲の電子材料に悪影響を及ぼすおそれがある。請求項8に係る発明によれば、保護層表面に帯電防止処理が施されるため、前述した不快感や悪影響を低減することができる。
【0021】
また、本発明は、請求項9に記載の如く、前記反射板と、当該反射板に積層された偏光板とを備え、前記偏光板を構成する部材が、前記反射板の基材とされていることを特徴とする反射型偏光板としても提供される。
【0022】
請求項9に係る発明によれば、反射層が偏光板上に直接形成されている、つまり、偏光板を構成する部材(例えば、偏光子保護フィルム)が反射板の基材とされているため、当該部材と別個に反射板の基材(支持体)を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚み分だけ、反射型偏光板の薄型化を図ることができるという優れた利点を有する。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照しつつ、本発明の実施形態について説明する。
【0024】
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態に係る反射板の概略構成を示す縦断面図である。図1に示すように、本実施形態に係る反射板1は、基材11と、基材11上に形成された反射層12とを備えている。反射層12は、基材11上に金属ナノ粒子を分散した分散液を塗布した塗布層を、好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは100℃以下で加熱焼結することにより形成されている。
【0025】
基材11の材質は、200℃程度の耐熱性を有する限りにおいて、特に限定されるものではなく、例えば、カーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂等を使用することが可能である。基材11の厚みは、特に反射板1を液晶表示装置に適用する場合など薄型化が要求される用途では、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、さらに好ましくは50μm以下とされる。
【0026】
本実施形態に係る反射層12は、前記金属ナノ粒子として、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか1つ又はいずれかの混合体を用いて形成される。金属ナノ粒子の粒径は、一般に、1〜100nm程度であるが、特に限定されるものではない。一次粒子の粒径は、好ましくは100nm以下、より好ましくは50nm以下、さらに好ましくは20nm以下とされる。斯かる金属ナノ粒子を0.01μm以上、好ましくは0.02μm以上の厚みで分散塗布した塗布層は、200℃以下の加熱で焼結が生じ、粒子界面が金属結合して一体化し、反射層12として機能する。特に、銀又はその合金からなるナノ粒子や、銀ナノ粒子と他の金属ナノ粒子との混合体は、100℃程度で焼結が開始するため好適に使用することができる。
【0027】
以上に説明した反射板1を反射型液晶表示装置に適用する場合には、液晶セルに対して視認側と反対側に配置された偏光板に、反射層12側を対向させて貼着すればよい。本実施形態に係る反射板1は、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結するため、低温で、且つ、蒸着と異なり大気圧下で反射層12を形成可能である。従って、基材11の化学的制約や物理的制約が緩和され、基材11の選択肢が広がるため、反射板1としての用途が格段に拡大すると共に、比較的安価な製造コストで反射板1を形成することも可能である。また、低温で反射層12を形成するため、熱応力や残留応力の影響も少なく、基材11の厚みを低減でき、反射板1の薄型化を図ることも可能である。
【0028】
なお、反射板1を液晶表示装置に適用して良好な視野角特性を得るには、反射板1に拡散反射機能を付与することが好ましい。斯かる拡散反射機能は、基材11の反射層12側の表面を粗面化することにより容易に付与することができる。より具体的に説明すれば、基材11の表面にサンドブラスト処理や溶媒処理等を施すことによって微細な表面凹凸を直接形成する手法や、樹脂中にフィラーを分散した溶液を基材11の表面に塗工することによって表面凹凸を有する薄層を形成する手法の他、エンボス加工したり、UV重合樹脂を塗工した後に金型形状を転写する等、基材11の表面に設計された形状を転写する手法など、種々の手法によって基材11の表面を粗面化することが可能である。
【0029】
また、基材11の反射層12側の表面が平滑化され鏡面状であったとしても、反射層12の基材11側と反対側の表面に光拡散部材を積層することによって拡散反射機能を付与することが可能である。より具体的に説明すれば、光拡散部材として光拡散機能を有するフィルムを用い、当該フィルムを反射層12に貼着する手法や、光拡散部材としての光拡散樹脂塗工物を反射層12上に成膜する手法の他、光拡散部材としての光拡散粘着剤を貼着する手法などを適用し、拡散反射機能を付与することが可能である。なお、光拡散部材としては、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しないものを使用するのが好ましい。これは、後方散乱を有し、偏光状態を解消する光拡散部材を使用すれば、偏光板と組み合わせたとき当該偏光板による吸収損失が増大するためである。実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材としては、例えば、等方性樹脂中に、複屈折性を有さず、前記等方性樹脂(包埋樹脂)と異なる屈折率を有するガラスや等方性樹脂微粒子などの微粒子を包埋することによって形成可能である。例えば、前記微粒子として屈折率が1.44程度で、粒径が4μm程度のシリカ粒子を使用し、これを屈折率が1.47のアクリル系粘着剤中に分散包埋することにより、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散粘着剤を形成することが可能である。また、前記微粒子として屈折率が1.59程度で、粒径が6μm程度のスチレン粒子を使用し、これを屈折率が1.51のアクリル系樹脂中に分散包埋することにより、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散板を形成することが可能である。さらに、ホログラムなどの屈折率の異なる微小領域において、位相差を有さない構造を作成することによっても形成することができる。
【0030】
ここで、反射層12は、金属ナノ粒子を加熱焼結することにより形成された金属薄膜であるため、反射層12単体では、酸素や水分に接触することによって酸化反応が進行し、反射機能を失っていく場合が多い。従って、長期の信頼性を必要とする場合には、反射層12の表面に、水分や酸素を透過しにくい材質からなる酸化防止用の保護層を形成するのが好ましい。斯かる保護層としては、架橋密度の高い樹脂層や、ゾルゲル法によって形成した無機質薄膜などを適用することが可能である。また、別途保護層を形成しなくても、金属ナノ粒子として、酸化し難い合金化金属材料を選択することも可能である。この場合には、銀、金、バラジウム等の合金や、クロム、ニッケルからなるステンレス合金などが好適に使用される。
【0031】
また、反射板1をハンドリングする際、反射層12に擦り傷や打墾などの損傷が生じるのを防止し、ひいては、反射板1を液晶表示装置に適用した場合の表示品位への影響を抑止するには、前記保護層の表面を、鉛筆硬度表記でH以上(より好ましくは2H以上)とするのが好ましい。なお、このように、保護層の表面を硬質化するには、例えば、アクリル樹脂やエポキシ樹脂等によるハードコート処理層を保護層の表面に塗布形成すればよい他、保護層全体を斯かるハードコート処理層で形成することも可能である。
【0032】
さらに、前記保護層の表面には、抵抗値1010Ω以下の帯電防止処理を施すのが好ましい。斯かる処理を施すことにより、静電吸着による塵の付着に起因した欠陥、他の部材との間に生じる強い吸着による擦り傷の他、反射層12に蓄積された電荷の放電による反射層12の破壊等の問題を解決することが可能である。
【0033】
(第2の実施形態)
図2は、本発明の第2の実施形態に係る反射型偏光板の概略構成を示す縦断面図である。図2に示すように、本実施形態に係る反射型偏光板10は、反射板1aと、反射板1aに積層された偏光板2とを備えている。偏光板2は、1対の偏光子保護フィルム11aに偏光子21が挟持された構成を有する。
【0034】
反射板1aは、基材(偏光子保護フィルム)11aと、反射層12とを備えている。本実施形態に係る反射板1aは、偏光板2を構成する部材である偏光子保護フィルム11aがその基材とされている点に特徴を有する。換言すれば、本実施形態に係る反射板1aは、反射層12が偏光板2上に直接形成された構成を有する。これは、反射板1aの反射層12が、前述した第1の実施形態と同様の構成を有し、金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を200℃以下の低温で加熱焼結するため、基材の化学的制約や物理的制約が緩和され、偏光子保護フィルム11aも基材として利用可能となるからである。なお、偏光子保護フィルム11aとしては、一般的に用いられているTAC(トリアセチルセルロース)フィルムの他、アクリル系樹脂フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリオレフィン系樹脂フィルムなどが適用可能である。
【0035】
なお、本実施形態に係る反射板1aは、偏光子保護フィルム11aを基材とする点のみが第1の実施形態と異なり、反射層12の表面に保護層を形成したり、反射板1aに拡散反射機能を付与することが可能である点は、第1の実施形態と同様であるので、その詳細な説明は省略する。
【0036】
以上に説明した反射型偏光板10を反射型液晶表示装置に適用する場合には、液晶セルの視認側と反対側に偏光板2側を対向させて貼着すればよい。本実施形態に係る反射型偏光板10は、反射層12が偏光板2上に直接形成された構成を有するため、偏光板2が具備する偏光子保護フィルム11aとは別個に反射板1aの基材(支持体)を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚み分だけ、反射型偏光板10の薄型化を図ることができるという利点を有する。
【0037】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示すことにより、本発明の特徴をより一層明らかにする。
【0038】
(実施例1)
銀ナノ粒子の1次粒子(粒径φ5nm)を水に1重量%分散した分散液を、ケン化処理を施した東レ製ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み12μm)上にワイヤーバーコーターによって塗布し、乾燥させた。これにより形成された塗布層(ナノ粒子皮膜)は、厚みが約0.03μmであった。
【0039】
次に、前記塗布層を80℃で10分間加熱処理したところ、焼結が進行し、反射板として機能することが分かった。このようにして形成された反射板を偏光板に貼着したところ、熱皺などの影響もなく、良好な外観特性を有することが分かった。
【0040】
(実施例2)
銀ナノ粒子の1次粒子(粒径φ5nm)を水に1重量%分散した分散液を、ケン化処理を施した日東電工製偏光板TEG1465AGS1フィルム(厚み約140μm)上にワイヤーバーコーターによって塗布し、乾燥させた。これにより形成された塗布層(ナノ粒子皮膜)は、厚みが約0.05μmであった。なお、TEG1465AGS1フィルムの表面は、ヘイズ値25程度の拡散機能を有すると共に、当該表面が、塗布層への水分や酸素の到達を阻止する保護層としても機能した。
【0041】
次に、前記塗布層を80℃で10分間加熱処理したところ、焼結が進行し、反射型偏光板として機能することが分かった。このようにして形成された反射型偏光板の拡散反射率は60%であった。また、熱皺や劣化なども生じず、良好な外観特性を有することが分かった。
【0042】
次に、形成された反射型偏光板の反射層側に、表面硬度2H、厚み5μmのアクリル樹脂系ハードコート処理層を塗布形成し、反射層を機械的化学的に保護することにより、良好なハンドリング性を有する反射型偏光板を得ることができた。斯かる反射型偏光板は、全体厚みが約150μmに過ぎず、一般的な反射型偏光板である日東電工製EGW3206GTの約235μmよりも薄い厚みとなった。
【0043】
次に、前記反射型偏光板のハードコート処理層表面に、帯電防止剤(ファインケミカルジャパン株式会社EP−8)で帯電防止処理を施した。これにより、表面の抵抗値は5×10Ω以下となり、ハンドリングする際の反射層への静電気の帯電が抑制され、急激な放電によるハンドリング性の悪化などの問題を抑制可能であった。
【0044】
(実施例3)
実施例1の反射板の反射層側(塗布層側)に、80重量%のアクリル系粘着剤(日東電工製NO.7、屈折率1.47)と、20重量%の等方性真球中実粒子(位相差が無く真球状の中実粒子)として直径が約4μmのシリカ粒子(屈折率1.44)とからなる、厚み25μmの光拡散粘着剤を貼着した。なお、前記光拡散粘着剤の偏光解消度は0.5%以下であり、後方散乱率は5%以下であった。
【0045】
以上のようにして形成した光拡散粘着剤付き反射板は、拡散反射率が約50%であった。
【0046】
さらに、前記光拡散粘着剤付き反射板に、日東電工製偏光板EGW1206DUを積層することにより、反射型偏光板を形成することができた。形成された反射型偏光板は、良好な外観特性を有することが分かった。
【0047】
(比較例1)
日東電工製偏光板SEG1425DUに、銀を厚み0.1μmで真空蒸着し、反射型偏光板を形成した。
【0048】
本比較例の反射型偏光板における反射層(蒸着膜)は、黄色度b値が7.0と極めて劣悪であり、液晶表示装置には使用できなかった。また、蒸着の熱衝撃によって偏光板に強いカールが生じると共に、偏光板を構成するTAC(トリアセチルセルロース)フィルム中の可塑剤が表面析出し、これにより反射層の剥離脱落が発生することが分かった。
【0049】
(比較例2)
東レ製ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚み12μm)に、銀を厚み0.1μmで真空蒸着し、反射板を形成した。次に、反射板上に保護層を形成することにより得られた高耐久銀反射板は、厚みが13μm程度であった。この高耐久銀反射板を、拡散粘着剤(厚み25μm)を介して日東電工製偏光板EGW1205に貼着し、反射型偏光板を形成した。
【0050】
以上のようにして形成された本比較例の反射型偏光板は、全体の厚みが約190μmであり、外感上、熱皺に起因すると考えられるムラが観察された。
【0051】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明に係る反射板によれば、基材の選択自由度が高く薄型化も可能である他、製造コストも比較的安価となるという優れた利点を有する。また、本発明に係る反射型偏光板によれば、偏光板を構成する部材(例えば、偏光子保護フィルム)が反射板の基材とされているため、当該部材と別個に反射板の基材(支持体)を設ける必要が無く、当該省略した支持体の厚みの他、支持体と偏光板との間の粘着剤・接着剤の厚み分だけ、反射型偏光板の薄型化を図ることができるという優れた利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明の第1の実施形態に係る反射板の概略構成を示す縦断面図である。
【図2】図2は、本発明の第2の実施形態に係る反射型偏光板の概略構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1…反射板 2…偏光板 10…反射型偏光板 11…基材 12…反射層
[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a reflective plate and a reflective polarizing plate that are suitably used in a reflective liquid crystal display device or the like.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a liquid crystal display device comprising a liquid crystal cell, a polarizing plate disposed on the viewing side with respect to the liquid crystal cell, and a polarizing plate disposed on the side opposite to the viewing side with respect to the liquid crystal cell. A reflective liquid crystal display device is known in which a reflective plate is disposed on the opposite side to the viewing side with respect to the polarizing plate disposed on the opposite side. Such a liquid crystal display device has the advantage that the display screen (contents of the liquid crystal cell) can be visually recognized by external light such as sunlight, does not require a backlight, and has low power consumption. Various display devices are applied.
[0003]
Here, as a reflecting plate, what is provided with a base material and the reflective layer which consists of a metal film formed on the said base material is common. The metal film is usually formed on the substrate by a technique such as vapor deposition or sputtering. At this time, the substrate is subjected to a temperature load, and in order to increase the adhesion of the metal film, the substrate is raised to some extent. Since it is necessary to warm, a heat-resistant substrate such as glass is often used. Therefore, there is a problem that the base material made of plastic from which good metal film quality is obtained is limited to those formed from heat-resistant plastics such as resin films such as polyimide, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polycarbonate. is there.
[0004]
In addition, the base material forming the reflecting plate has to be thickened to some extent in order to avoid the influence of thermal stress and residual stress inside the metal thin film. As a result, the total thickness of the reflecting plate is increased, and there is a problem that it does not meet the recent demand for thinning of liquid crystal display devices. Furthermore, since the film formation by vapor deposition requires a vacuum environment, it has been a factor in increasing the manufacturing cost.
[0005]
On the other hand, a reflective polarizing plate used in a liquid crystal display device is generally formed by separately preparing the reflecting plate with a base material and the polarizing plate, and sticking them together. However, in the form used as the reflective polarizing plate, the base material constituting the reflective plate is not necessarily required as a support for the reflective layer, and is desirably omitted from the viewpoint of reducing the thickness as described above. It is rare. However, if the metal film is directly deposited on the polarizing plate so as to omit the base material, a high-quality metal film cannot be formed or the polarizing plate is deteriorated due to the temperature condition or vacuum condition described above. The current situation is that it has not been put into practical use.
[0006]
More specifically, the upper limit of heat resistance of the plastic polarizing plate depends on the loading time, but the upper limit is about 200 ° C. (practically about 150 ° C.). If the temperature is raised beyond this, the optical function of the polarizing plate changes, and curling and wrinkling occur, making it difficult to use. Therefore, when forming a metal film directly on the polarizing plate, it is necessary that the film can be formed at 200 ° C. or lower and at the lowest possible temperature (preferably 150 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower). In addition, since the films constituting the polarizing plate contain moisture and a plasticizer and are often not suitable as adherends for vacuum deposition, it is desirable to form the film at atmospheric pressure.
[0007]
[Problems to be solved by the invention]
The present invention has been made to solve such problems of the prior art, has a high degree of freedom in selecting a base material, can be thinned, and can be manufactured at a relatively low manufacturing cost. It is an object of the present invention to provide a reflective polarizing plate in which a layer is directly formed on a polarizing plate.
[0008]
[Means for Solving the Problems]
It is known that metal nanoparticles, that is, ultrafine metal particles having dimensions on the order of nanometers, behave differently from ordinary metals. This is because the ratio of the surface area to the unit weight of the metal increases, and the influence of the active layer near the surface increases. For example, silver nanoparticles exhibit a specific behavior, and although silver melting point is 961 ° C., silver nanoparticles are 200 ° C. or less, and particularly when the particle size is adjusted, it is melt-fixed at 100 ° C. or less. In addition, the nanoparticle interface is completely metal-bonded.
[0009]
The inventor of the present invention pays attention to the specific behavior of such metal nanoparticles, and as a result of intensive research, found that the metal-bonded nanoparticle interface can be used as a reflective layer of a reflector, and the present invention It has been completed. That is, the present invention provides a reflector comprising a base material and a reflective layer formed on the base material, as described in claim 1, wherein the reflective layer is formed of metal nano-particles on the base material. The present invention provides a reflecting plate characterized in that a coating layer in which particles are dispersed and applied is a heat-sintered layer obtained by heat-sintering.
[0010]
According to the first aspect of the present invention, since the coating layer coated with metal nanoparticles, that is, the coating layer coated with a dispersion containing metal nanoparticles, is heated and sintered, it is large at low temperature and unlike evaporation. A reflective layer can be formed under atmospheric pressure. Therefore, the chemical and physical constraints of the base material forming the reflector are alleviated and the choice of base materials is widened, so the use as a reflector is greatly expanded (as will be described later, the reflective layer is made of a polarizing plate). It is also possible to form the reflecting plate at a relatively low manufacturing cost. In addition, since the reflective layer is formed at a low temperature, there is little influence of thermal stress and residual stress, the thickness of the substrate can be reduced, and the reflective plate can be made thinner. As described above, according to the first aspect of the invention, there is provided a reflector having an excellent advantage that the degree of freedom of selection of the base material is high and the thickness can be reduced, and the manufacturing cost is relatively low. The The coating layer is preferably heated and sintered at 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, and even more preferably 100 ° C. or lower.
[0011]
Preferably, as described in claim 2, the base material has a roughened surface on the reflective layer side.
[0012]
According to the invention of claim 2, since the surface of the base material is roughened, a diffuse reflection function can be imparted to the reflector, and when the reflector is applied to a liquid crystal display device, a good visual field is obtained. Angular characteristics can be obtained.
[0013]
In addition, in order to impart a diffuse reflection function to the reflecting plate, as described in claim 3, the base material has a smooth surface on the reflective layer side, and is opposite to the base material side of the reflective layer. You may laminate | stack the light-diffusion member which does not have back scattering substantially on the surface of the side, and does not cancel a polarization state substantially.
[0014]
When the reflecting plate according to the present invention is applied to a liquid crystal display device, it is preferable to reduce the thickness as described above. Therefore, preferably, as described in claim 4, the base material has a thickness of 100 μm or less. In addition, the thickness of the base material is more preferably 80 μm or less, and further preferably 50 μm or less.
[0015]
As the metal nanoparticles, various metals can be applied as long as they can be made into nanoparticles, but from the viewpoint of high reflectance and good corrosion resistance, as described in claim 5, Silver, gold, copper, nickel, chromium, platinum, palladium, and an alloy thereof are preferably used.
[0016]
However, since the metal cannot completely prevent corrosion (oxidation) except for a part thereof, at least one surface of the reflective layer according to claim 6 in order to further enhance corrosion resistance. Further, it is preferable to form a protective layer for preventing oxidation to prevent the reflective layer from coming into contact with oxygen or moisture.
[0017]
Preferably, the surface of the protective layer has a pencil hardness of H or higher. Here, the pencil hardness is a value that is standardized by JIS-K-5400 and measured by scratching the surface with a constant load with a pencil core.
[0018]
According to the invention of claim 7, since the surface of the protective layer is hardened, when handling the reflector, the reflector is prevented from being damaged such as scratches or dents. The effect on display quality when applied to a liquid crystal display device can be suppressed. As will be described later, the present invention is particularly effective when the reflective layer is directly formed on the polarizing plate, that is, when the member constituting the polarizing plate is the base material of the reflective plate. In other words, when the reflective layer is directly formed on the polarizing plate, the reflective layer is in direct contact with the outside through the protective layer (it is not configured to be sandwiched between the polarizing plate and the base material). It is extremely effective to harden the surface of the protective layer in order to easily receive chemical damage and prevent damage. More preferably, the pencil hardness is 2H or more.
[0019]
Preferably, as described in claim 8, the surface of the protective layer is subjected to an antistatic treatment having a resistance value of 10 10 Ω or less.
[0020]
Since many of the materials used for the protective layer are insulators, the reflective layer has a capacitor structure sandwiched between insulators. Therefore, it is easy to be charged with static electricity during the handling of the reflector, and there is a risk of discomfort due to electrostatic adsorption or discharge, or adversely affecting surrounding electronic materials. According to the invention of claim 8, since the antistatic treatment is performed on the surface of the protective layer, the above-mentioned discomfort and adverse effects can be reduced.
[0021]
Further, according to the present invention, as described in claim 9, the reflection plate and a polarizing plate laminated on the reflection plate are provided, and a member constituting the polarizing plate is a base material of the reflection plate. It is also provided as a reflective polarizing plate characterized by
[0022]
According to the ninth aspect of the invention, the reflective layer is formed directly on the polarizing plate, that is, the member constituting the polarizing plate (for example, a polarizer protective film) is used as the base material of the reflective plate. There is no need to provide a substrate (support) for the reflector separately from the member, and the reflective polarizing plate can be made thinner by the thickness of the omitted support.
[0023]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
[0024]
(First embodiment)
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a reflector according to a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the reflector 1 according to this embodiment includes a base material 11 and a reflective layer 12 formed on the base material 11. The reflective layer 12 is obtained by heating and sintering a coating layer obtained by applying a dispersion liquid in which metal nanoparticles are dispersed on the substrate 11 at 200 ° C. or less, more preferably 150 ° C. or less, and even more preferably 100 ° C. or less. It is formed by.
[0025]
The material of the base material 11 is not particularly limited as long as it has a heat resistance of about 200 ° C. For example, carbonate resin, polyethylene terephthalate resin, epoxy resin, polyethylene naphthalate resin, polyimide resin Etc. can be used. The thickness of the substrate 11 is preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and even more preferably 50 μm or less, particularly in applications that require thinning, such as when the reflector 1 is applied to a liquid crystal display device.
[0026]
The reflective layer 12 according to the present embodiment is formed using any one or a mixture of silver, gold, copper, nickel, chromium, platinum, palladium, and alloys thereof as the metal nanoparticles. Is done. The particle size of the metal nanoparticles is generally about 1 to 100 nm, but is not particularly limited. The particle size of the primary particles is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less, and even more preferably 20 nm or less. A coating layer in which such metal nanoparticles are dispersed and coated in a thickness of 0.01 μm or more, preferably 0.02 μm or more, is sintered by heating at 200 ° C. or less, and the particle interface is metal-bonded and integrated to form a reflective layer. 12 functions. In particular, nanoparticles made of silver or an alloy thereof or a mixture of silver nanoparticles and other metal nanoparticles can be suitably used because sintering starts at about 100 ° C.
[0027]
When the reflection plate 1 described above is applied to a reflection type liquid crystal display device, the reflection layer 12 side is attached to a polarizing plate disposed on the opposite side to the viewing side with respect to the liquid crystal cell. Good. Since the reflection plate 1 according to the present embodiment heats and sinters the coating layer on which the metal nanoparticles are dispersedly applied, the reflection layer 12 can be formed at a low temperature and under atmospheric pressure unlike vapor deposition. Therefore, the chemical restrictions and physical restrictions of the base material 11 are relaxed, and the choices of the base material 11 are widened. Therefore, the use as the reflective plate 1 is greatly expanded, and the reflective plate 1 is manufactured at a relatively low manufacturing cost. It is also possible to form. Moreover, since the reflective layer 12 is formed at a low temperature, the influence of thermal stress and residual stress is small, the thickness of the substrate 11 can be reduced, and the reflective plate 1 can be thinned.
[0028]
In addition, in order to obtain a favorable viewing angle characteristic by applying the reflecting plate 1 to a liquid crystal display device, it is preferable to give the reflecting plate 1 a diffuse reflection function. Such a diffuse reflection function can be easily imparted by roughening the surface of the substrate 11 on the reflective layer 12 side. More specifically, a method of directly forming fine surface irregularities by performing sandblasting or solvent treatment on the surface of the substrate 11, or a solution in which a filler is dispersed in a resin is applied to the surface of the substrate 11. In addition to the technique of forming a thin layer with surface irregularities by coating, the shape designed on the surface of the substrate 11 such as embossing or transferring the mold shape after coating with UV polymerization resin The surface of the substrate 11 can be roughened by various methods such as a transfer method.
[0029]
Further, even if the surface of the base material 11 on the reflective layer 12 side is smooth and mirror-like, the diffuse reflection function can be achieved by laminating a light diffusion member on the surface of the reflective layer 12 opposite to the base material 11 side. It is possible to grant. More specifically, a film having a light diffusing function is used as the light diffusing member, and a method of sticking the film to the reflecting layer 12 or a light diffusing resin coated material as the light diffusing member on the reflecting layer 12 is used. In addition to the method of forming a film, a method of sticking a light diffusing adhesive as a light diffusing member can be applied to impart a diffuse reflection function. In addition, as a light-diffusion member, it is preferable to use what does not have back scattering substantially and does not cancel a polarization state substantially. This is because if a light diffusing member that has backscattering and cancels the polarization state is used, the absorption loss due to the polarizing plate increases when combined with the polarizing plate. As the light diffusing member that does not substantially have backscattering and does not substantially cancel the polarization state, for example, the isotropic resin (packaging) has no birefringence in the isotropic resin. It can be formed by embedding fine particles such as glass or isotropic resin fine particles having a refractive index different from that of (embedded resin). For example, silica particles having a refractive index of about 1.44 and a particle size of about 4 μm are used as the fine particles, which are substantially embedded by being dispersed and embedded in an acrylic adhesive having a refractive index of 1.47. It is possible to form a light diffusion adhesive that does not have backscattering and does not substantially eliminate the polarization state. Further, styrene particles having a refractive index of about 1.59 and a particle size of about 6 μm are used as the fine particles, and this is substantially dispersed and embedded in an acrylic resin having a refractive index of 1.51. It is possible to form a light diffusing plate that does not have backscattering and does not substantially eliminate the polarization state. Furthermore, it can be formed by creating a structure having no phase difference in a minute region having a different refractive index, such as a hologram.
[0030]
Here, since the reflective layer 12 is a metal thin film formed by heat-sintering metal nanoparticles, the reflective layer 12 alone undergoes an oxidation reaction by contact with oxygen or moisture, and has a reflective function. Often lost. Accordingly, when long-term reliability is required, it is preferable to form an anti-oxidation protective layer made of a material that hardly transmits moisture and oxygen on the surface of the reflective layer 12. As such a protective layer, it is possible to apply a resin layer having a high crosslinking density, an inorganic thin film formed by a sol-gel method, or the like. Moreover, it is also possible to select an alloyed metal material that is difficult to oxidize as the metal nanoparticles without forming a separate protective layer. In this case, an alloy such as silver, gold, or palladium, or a stainless alloy composed of chromium or nickel is preferably used.
[0031]
Further, when the reflector 1 is handled, it is possible to prevent the reflector layer 12 from being damaged such as scratches or bruises, and to suppress the influence on the display quality when the reflector 1 is applied to a liquid crystal display device. The surface of the protective layer is preferably H or higher (more preferably 2H or higher) in pencil hardness notation. In addition, in order to harden the surface of the protective layer in this way, for example, a hard coat treatment layer made of acrylic resin, epoxy resin, or the like may be applied and formed on the surface of the protective layer, and the entire protective layer may be hardened. It is also possible to form the coating layer.
[0032]
Furthermore, it is preferable that the surface of the protective layer is subjected to an antistatic treatment having a resistance value of 10 10 Ω or less. By performing such treatment, in addition to defects caused by the adhesion of dust due to electrostatic adsorption, scratches caused by strong adsorption generated between other members, the reflection layer 12 is discharged due to discharge of charges accumulated in the reflection layer 12. It is possible to solve problems such as destruction.
[0033]
(Second Embodiment)
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a reflective polarizing plate according to the second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the reflective polarizing plate 10 according to the present embodiment includes a reflective plate 1a and a polarizing plate 2 laminated on the reflective plate 1a. The polarizing plate 2 has a configuration in which a polarizer 21 is sandwiched between a pair of polarizer protective films 11a.
[0034]
The reflection plate 1 a includes a base material (polarizer protective film) 11 a and a reflection layer 12. The reflector 1a according to the present embodiment is characterized in that a polarizer protective film 11a that is a member constituting the polarizing plate 2 is used as a base material. In other words, the reflecting plate 1a according to this embodiment has a configuration in which the reflecting layer 12 is directly formed on the polarizing plate 2. This is because the reflection layer 12 of the reflection plate 1a has the same configuration as that of the first embodiment described above, and the coating layer on which the metal nanoparticles are dispersedly applied is heated and sintered at a low temperature of 200 ° C. or lower. This is because the chemical restrictions and physical restrictions of the material are alleviated, and the polarizer protective film 11a can also be used as a base material. In addition, as the polarizer protective film 11a, an acrylic resin film, a norbornene resin film, a polyolefin resin film, or the like can be applied in addition to a commonly used TAC (triacetyl cellulose) film.
[0035]
The reflector 1a according to the present embodiment is different from the first embodiment only in that the polarizer protective film 11a is used as a base material, and a protective layer is formed on the surface of the reflective layer 12 or the reflector 1a. The point that the diffuse reflection function can be added is the same as that of the first embodiment, and thus detailed description thereof is omitted.
[0036]
When the reflective polarizing plate 10 described above is applied to a reflective liquid crystal display device, the polarizing plate 2 may be attached to the opposite side to the viewing side of the liquid crystal cell. Since the reflective polarizing plate 10 according to the present embodiment has a configuration in which the reflective layer 12 is directly formed on the polarizing plate 2, the base of the reflective plate 1a is separated from the polarizer protective film 11a included in the polarizing plate 2. There is no need to provide a material (support), and the reflective polarizing plate 10 can be reduced in thickness by the thickness of the omitted support.
[0037]
【Example】
Hereinafter, the features of the present invention will be further clarified by showing examples and comparative examples.
[0038]
(Example 1)
A dispersion in which primary particles of silver nanoparticles (particle diameter φ5 nm) are dispersed in water by 1% by weight is applied onto a saponified Toray polyethylene terephthalate film (thickness 12 μm) with a wire bar coater and dried. It was. The coating layer (nanoparticle film) thus formed had a thickness of about 0.03 μm.
[0039]
Next, when the said application layer was heat-processed at 80 degreeC for 10 minute (s), sintering advanced and it turned out that it functions as a reflecting plate. When the reflection plate formed in this manner was attached to the polarizing plate, it was found that the reflection plate had good appearance characteristics without being affected by hot water.
[0040]
(Example 2)
A dispersion obtained by dispersing 1% by weight of silver nanoparticle primary particles (particle diameter φ5 nm) in water was applied to a saponified Nitto Denko polarizing plate TEG1465AGS1 film (thickness: about 140 μm) with a wire bar coater. , Dried. The coating layer (nanoparticle film) thus formed had a thickness of about 0.05 μm. In addition, the surface of the TEG1465AGS1 film had a diffusion function with a haze value of about 25, and the surface also functioned as a protective layer for preventing moisture and oxygen from reaching the coating layer.
[0041]
Next, when the said coating layer was heat-processed at 80 degreeC for 10 minute (s), sintering advanced and it turned out that it functions as a reflection type polarizing plate. The diffused reflectance of the reflective polarizing plate thus formed was 60%. In addition, it was found that there was no hot-bath or deterioration, and that it had good appearance characteristics.
[0042]
Next, an acrylic resin hard coat treatment layer having a surface hardness of 2H and a thickness of 5 μm is applied and formed on the reflective layer side of the formed reflective polarizing plate, and the reflective layer is mechanically and chemically protected. A reflective polarizing plate having handleability could be obtained. Such a reflection-type polarizing plate has an overall thickness of only about 150 μm, and is thinner than about 235 μm of EGW3206GT manufactured by Nitto Denko, which is a general reflection-type polarizing plate.
[0043]
Next, the surface of the hard coat layer of the reflective polarizing plate was subjected to an antistatic treatment with an antistatic agent (Fine Chemical Japan Co., Ltd. EP-8). As a result, the resistance value of the surface becomes 5 × 10 8 Ω or less, and electrostatic charging of the reflective layer during handling is suppressed, and problems such as deterioration in handling properties due to rapid discharge can be suppressed.
[0044]
Example 3
80% by weight of acrylic pressure-sensitive adhesive (Nitto Denko NO.7, refractive index 1.47) and 20% by weight of isotropic spherical solid on the reflecting layer side (coating layer side) of the reflecting plate of Example 1 A light diffusion adhesive having a thickness of 25 μm composed of silica particles having a diameter of about 4 μm (refractive index of 1.44) as particles (true spherical solid particles having no phase difference) was attached. The degree of depolarization of the light diffusion adhesive was 0.5% or less, and the backscattering rate was 5% or less.
[0045]
The reflection plate with a light diffusing adhesive formed as described above had a diffuse reflectance of about 50%.
[0046]
Furthermore, a reflective polarizing plate could be formed by laminating a polarizing plate EGW1206DU made by Nitto Denko on the reflective plate with the light diffusion adhesive. The formed reflective polarizing plate was found to have good appearance characteristics.
[0047]
(Comparative Example 1)
Silver was vacuum-deposited with a thickness of 0.1 μm on a Nitto Denko polarizing plate SEG1425DU to form a reflective polarizing plate.
[0048]
The reflective layer (deposited film) in the reflective polarizing plate of this comparative example had an extremely low yellowness b value of 7.0 and could not be used for a liquid crystal display device. In addition, it was found that strong curling occurs on the polarizing plate due to thermal shock of vapor deposition, and the plasticizer in the TAC (triacetyl cellulose) film constituting the polarizing plate is deposited on the surface, which causes peeling off of the reflective layer. It was.
[0049]
(Comparative Example 2)
Silver was vacuum-deposited with a thickness of 0.1 μm on a Toray polyethylene terephthalate film (thickness 12 μm) to form a reflector. Next, the highly durable silver reflecting plate obtained by forming a protective layer on the reflecting plate had a thickness of about 13 μm. This highly durable silver reflecting plate was attached to a polarizing plate EGW1205 made by Nitto Denko through a diffusion adhesive (thickness 25 μm) to form a reflective polarizing plate.
[0050]
The reflective polarizing plate of this comparative example formed as described above had an overall thickness of about 190 μm, and on the external appearance, unevenness that was considered to be caused by hot water was observed.
[0051]
【The invention's effect】
As described above, according to the reflector according to the present invention, the substrate can be selected with a high degree of freedom and can be thinned, and the manufacturing cost is relatively low. Moreover, according to the reflective polarizing plate according to the present invention, since the member (for example, a polarizer protective film) constituting the polarizing plate is the base material of the reflective plate, the base material of the reflective plate is separated from the member. There is no need to provide a (support), and in addition to the thickness of the omitted support, the thickness of the reflective polarizing plate can be reduced by the thickness of the adhesive / adhesive between the support and the polarizing plate. It has the excellent advantage of being able to.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a reflector according to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing a schematic configuration of a reflective polarizing plate according to a second embodiment of the present invention.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reflecting plate 2 ... Polarizing plate 10 ... Reflective polarizing plate 11 ... Base material 12 ... Reflecting layer

Claims (9)

基材と、当該基材上に形成された反射層とを備えた反射板であって、
前記反射層は、前記基材上に金属ナノ粒子を分散塗布した塗布層を加熱焼結した加熱焼結層とされていることを特徴とする反射板。
A reflector comprising a substrate and a reflective layer formed on the substrate,
The reflection layer, wherein the reflection layer is a heat-sintered layer obtained by heat-sintering a coating layer obtained by dispersing and applying metal nanoparticles on the substrate.
前記基材は、前記反射層側の表面が粗面化されていることを特徴とする請求項1に記載の反射板。The reflector according to claim 1, wherein the substrate has a roughened surface on the reflective layer side. 前記基材は、前記反射層側の表面が平滑化されており、
前記反射層の前記基材側と反対側の表面に、実質的に後方散乱を有さず、且つ、実質的に偏光状態を解消しない光拡散部材が積層されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射板。
The base material has a smooth surface on the reflective layer side,
The light diffusing member that does not substantially have backscattering and does not substantially cancel the polarization state is laminated on a surface of the reflective layer opposite to the substrate side. The reflector according to 1 or 2.
前記基材は、厚みが100μm以下とされていることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の反射板。The reflector according to claim 1, wherein the substrate has a thickness of 100 μm or less. 前記金属ナノ粒子は、銀、金、銅、ニッケル、クロム、白金、パラジウム及びこれらの合金の内のいずれか1つ又はいずれかの混合体であることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の反射板。The metal nanoparticles are any one of or a mixture of silver, gold, copper, nickel, chromium, platinum, palladium, and alloys thereof. Reflector according to any one of the above. 前記反射層の少なくとも一方の表面に、酸化防止用の保護層が形成されていることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の反射板。The reflection plate according to claim 1, wherein a protective layer for preventing oxidation is formed on at least one surface of the reflection layer. 前記保護層の表面は、H以上の鉛筆硬度を有することを特徴とする請求項6に記載の反射板。The reflective plate according to claim 6, wherein the surface of the protective layer has a pencil hardness of H or higher. 前記保護層の表面には、抵抗値1010Ω以下の帯電防止処理が施されていることを特徴とする請求項6に記載の反射板。The reflection plate according to claim 6, wherein the surface of the protective layer is subjected to an antistatic treatment having a resistance value of 10 10 Ω or less. 請求項1から8のいずれかに記載の反射板と、当該反射板に積層された偏光板とを備え、
前記偏光板を構成する部材が、前記反射板の基材とされていることを特徴とする反射型偏光板。
A reflector according to any one of claims 1 to 8 and a polarizing plate laminated on the reflector,
A reflection type polarizing plate, wherein a member constituting the polarizing plate is a base material of the reflection plate.
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