JP2004079987A - Method for processing mask data and mask writing system - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for processing mask data capable of efficiently decreasing the data volume of mask data, and to provide a mask writing apparatus capable of writing a mask by taking in data which are compressed with a function description. <P>SOLUTION: A plurality of forms and arrangements of drawing written on a mask are expressed by a function definition and a function call to process data. The mask writing system comprises a data processing function part for generating pattern data by taking in the data described by those functions, and a writing function part for writing on the mask in accordance with the pattern data. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置製造のリソグラフィ工程で用いられるマスクに描画されるパターンデータ(マスクデータ)の処理方法と、リソグラフィ工程で用いられるマスクを作製するためのマスク描画装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
半導体集積回路製造のリソグラフィ工程で用いられるマスクには、マスクデータと呼ばれるパターンデータに従って、描画が行われる。マスクデータは矩形と台形を図形要素として持ち、例えば図21(a)および(b)に示すように、多角形のレイアウトパターンは矩形11および台形12の組み合わせによって表現される。なお、三角形は台形に包含されるとする。
【0003】
半導体集積回路の高集積化に伴い、マスクデータのサイズが大きくなっている。マスクデータサイズが大きいと、データの転送時間が長くなったり、データ処理の速度が遅くなったりするという問題が生じる。そこで、従来のマスクデータでは、データサイズを小さくする方法として、以下のような方法が考えられていた。
【0004】
第1の方法は、図22に示すように、X方向とY方向のそれぞれに等間隔に行列状に並ぶ図形群に適用される。このような配列の場合、図形をライブラリに登録して、登録した図形を配列の個数(NX,NY)とピッチ(DX,DY)とともに参照(reference)することにより、データを圧縮してデータ処理量を削減できる。
【0005】
図23(a)は図22の図形群についての圧縮前の表現である。図23(b)は図23(a)のデータをライブラリに登録した、圧縮後の表現である。図23(a)に示すように、マスクデータ内で6個の矩形に対してrectangleというキーワードが用いられる。下線を引いてある部分は、マスクデータのフォーマットにおいてキーワードであることを示す。キーワードのrectangleは、位置(X,Y)に幅W、高さHの矩形を配置することを示す。X、Y、W、Hは変数である。図23(b)に示すように、libraryとreferenceのキーワードを使うことにより、データ圧縮される。
【0006】
キーワードのlibraryは、図形の定義を表す。図23(b)では、ライブラリ1の定義に1つの矩形が含まれていることを示している。キーワードのreferenceは、ライブラリ1の定義を参照し、ライブラリ1で定義された図形を位置(X1,Y1)に、個数(NX,NY)、ピッチ(DX,DY)で配置することを示している。
【0007】
第2の方法は、図24に示すように、相同な図形が複数の箇所に配置された図形群に適用される。この例では、3箇所のそれぞれに2つの矩形が、同一の位置関係で配置されている。このような同一の位置関係にある図形群をライブラリに登録して、登録した図形群を参照することにより、データを圧縮してデータ処理量を削減できる。
【0008】
図25(a)は図24の図形群についての圧縮前の表現である。図25(b)は図24のデータをライブラリに登録した、圧縮後の表現である。圧縮を行わない場合、図25(a)に示すように、マスクデータ内で6個の矩形に対してキーワードのrectangleが用いられる。図25(b)に示すように、libraryとreferenceのキーワードを使うことにより、データ圧縮される。
【0009】
図25(b)では、ライブラリ2の定義に2つの矩形が含まれていることを示している。キーワードのreferenceは、ライブラリ2で定義された図形を位置(X1,Y3)、位置(X3,Y1)、位置(X5,Y2)の3箇所に配置することを示している。
【0010】
従来のマスクデータ圧縮方法は、例えば特開2000−106337号公報「データベースの作成・保持方法及び該方法を用いた電子ビーム露光システム」、特開平10−149378号公報「データ処理方法、マスクパターンのデータ処理方法、データ処理装置及びマスクパターンのデータ処理装置」に開示されている。また、特開2002−92063号公報にはセルを利用したデータの圧縮方法が開示され、特開2002−92064号公報には配列を利用したデータの圧縮方法が開示されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来のマスクデータ圧縮方法によってもデータ量は削減されているが、半導体集積回路の高集積化に対応するため、さらにデータ量を削減することが望まれる。従来の方法によれば、図形の形状に規則性があるが相似でない図形の集合や、図22に示すような行列状ではないが、規則的に配置されている図形の集合等を圧縮表現できなかった。
【0012】
また、マスクデータはCADにより作成されるレイアウトデータに補正を加えて得られ、補正されたマスクデータがマスク描画装置に転送される。データの転送や補正を行うには、データ量が少ない方が処理の高速化に有利である。上記のように、データの圧縮を行った場合、マスク描画装置へデータを転送する前にデータの解凍(復元)を行うと、マスク描画装置へのデータの転送時間が長くなる。
【0013】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、したがって本発明は、マスクデータのデータ量を効率的に削減し、データ処理やデータ転送を高速化できるマスクデータ処理方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、圧縮されたデータを短時間でマスク描画装置に転送し、マスク描画の全体的な所要時間を短縮できるマスク描画装置を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明のマスクデータ処理方法は、マスクに描画される複数の図形の形状および配置を、関数定義と関数呼び出しによって表し、データ処理を行うことを特徴とする。
これにより、従来の圧縮方法で圧縮できなかった図形群のパターンデータを圧縮することが可能となり、データ量をさらに削減して処理を高速化できる。
【0015】
上記の目的を達成するため、本発明のマスク描画装置は、マスクに描画される複数の図形の形状および配置に定義された関数であって、前記関数を呼び出して図形を特定する値を前記関数の変数に代入することにより、複数の図形を表すパターンデータが生成する前記関数を認識し、前記パターンデータの生成を行うデータ処理機能部と、前記データ処理機能部で生成する前記パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有することを特徴とする。
【0016】
これにより、関数記述によって圧縮されたデータをマスク描画装置に転送し、描画を行うことが可能となる。したがって、マスク描画装置へのデータ転送時間を短縮し、マスク描画の全体的な所要時間を短縮できる。
【0017】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のマスクデータ処理方法およびマスク描画装置の実施の形態について、図面を参照して説明する。
本実施形態のマスクデータ処理方法では、マスクデータに図形の配置や形状を関数として記述する。また、本実施形態のマスク描画装置には、このように関数記述されたマスクデータに従って描画する機能を持たせる。
【0018】
関数は、パラメータを引数として受け取り、関数内に変数を保持する。また、関数内では、条件判断や繰り返し等の処理手順の制御を行う。関数の処理結果は、図形の配置や形状である。
形状が規則的に変化している図形の集合や、配置が行列状ではないが規則的である図形の集合を関数で記述することにより、データ量を削減できる。このような関数によれば、従来の方法で圧縮の対象とならない図形に対して圧縮を図れるため、従来の方法に比較して、マスクデータのサイズをさらに小さくできる。
【0019】
[1.関数記述方法]
まず、マスクデータに記述する関数定義と関数呼び出しについて説明する。関数定義はパラメータを受け渡しする引数を含む。また、関数定義に記述する項目には変数、変数を用いた数字の代入や計算、条件判断、繰り返し、矩形・台形の生成関数等がある。
【0020】
マスクデータに記述する関数定義と関数呼び出しの構成を、図1に示す。図1に示すように、関数定義は関数識別標識(関数ID)、引数、処理部で構成される。処理部は変数、代入・計算、条件判断、繰り返し、図形生成の処理を用いて記述される。
【0021】
以下の説明において、下線を引いてある部分は、マスクデータのフォーマットにおいてキーワードであることを示す。マスクデータ内は固定のデータサイズで表現される。また、‘ ’で囲まれた部分は数字、変数、処理内容等を記述することを示す。
【0022】
図2は、図1の(1)関数定義を示す。FUNCTIONからEND−FUNCTIONは、関数の定義を示す。FUNCTIONは関数定義の開始を示す。END−FUNCTIONは関数定義の終了を示す。‘FUNCTION−ID’は関数を識別するためのIDである。IDを変えることにより、複数の異なる関数を定義できる。
【0023】
‘PARAMETER’は関数が受け取る引数を示す。( )内にP1、P2、…のような変数名のリストを指定する。( )内の変数は代入、計算、条件の記述に使用する。変数の型は整数や小数である。
‘FUNCTION−BODY’は関数の処理部を示す。処理部に関数の処理内容を記述する。
【0024】
図3は、図1の(1−1)変数を示す。‘VARIABLE’は関数の処理部で使用する変数を示す。Q1、Q2、…のような変数名を代入、計算、条件の記述に使用する。変数の型は、整数や小数等である。
【0025】
図4は、図1の(1−2)代入、計算を示す。関数の処理部では、=を使用して変数に代入を行う。演算子や括弧を使用して計算を行う。計算の結果を、=を使用して変数に代入する。
【0026】
図5は、図1の(1−3)条件判断を示す。IF(‘CONDITION’からELSEを経てEND−IFまでは、条件‘CONDITION’が成立した時に処理内容‘IF−BODY’が処理され、条件‘CONDITION’が成立しない時に、処理内容‘ELSE−BODY’が処理されることを示す。
‘CONDITION’は条件を示す。変数、定数、等号、不等号等を利用して条件が記述される。
【0027】
図6は、図1の(1−4)繰り返しのうち、(1−4a)条件を示す。WHILEからEND−WHILEは、条件‘CONDITION’が成立している間、処理内容‘WHILE−BODY’が処理されることを示す。
【0028】
図7は、図1の(1−4)繰り返しのうち、(1−4b)カウントを示す。FORからEND−FORは、変数‘I’に初期値‘START−I’を代入し、変数‘I’を1ずつ増やしながら変数‘I’が最終値‘END−I’になるまで、処理内容‘FOR−BODY’が処理されることを示す。
【0029】
図8は、図1の(1−5)図形生成関数を示す。RECTANGLEは、位置‘(X,Y)’に幅‘W’、高さ‘H’の矩形を配置することを示す。‘X’、‘Y’、‘W’、‘H’は変数である。
X−TRAPEZOIDは、4つの頂点(X1,Y1)、(X2,Y1)、(X3,Y2)、(X4,Y2)の台形を配置することを示す。‘X1’、‘Y1’、‘X2’、‘X3’、‘X4’、‘Y2’は変数である。
Y−TRAPEZOIDは、4つの頂点(X1,Y1)、(X1,Y2)、(X2,Y3)、(X2,Y4)の台形を配置することを示す。‘X1’、‘Y1’、‘Y2’、‘Y3’、‘X2’、‘Y4’は変数である。
【0030】
図9は、図1の(2)関数呼び出しを示す。FUNCTION−CALLからEND−FUNCTION−CALLは、関数ID‘FUNCTION−ID’に対応する関数定義を呼び出して実行する。
FUNCTION−CALLは、関数呼び出しを示す。END−FUNCTION−CALLは、関数呼び出しの最後、すなわちパラメータの最後を示す。
パラメータ‘PARAMETER’は、関数定義で渡す引数を示す。
【0031】
[2.関数記述例]
本発明では、関数定義が関数呼び出しの箇所で実行され、矩形や台形の図形パターンを生成する。ここでは、マスクデータに記述する関数定義と関数呼び出しの例を示す。
【0032】
(記述例1)
記述例1は、矩形の中に矩形の孔があるパターンを関数定義したものである。図10に、記述例1で記述される図形パターンを示す。図10に示すように、矩形の中に矩形があるパターンは、ドーナッツ状パターンと呼ばれる。
【0033】
マスク描画装置が描画する基本パターンは矩形または台形である。そこで、このようなドーナッツ状パターンは複数の矩形または台形に分割される。
【0034】
図10の例では、4つのドーナッツ状パターンI、II、III、IVを斜線で示す。また、各ドーナッツ状パターンを分割する線を実線で示す。ドーナッツ状パターンIはa〜dの4つの矩形に分割される。他のパターンII〜IVも同様に、それぞれ4つの矩形a〜dに分割される。
【0035】
図11は記述例1による関数定義を示し、図12は図11に記述された変数と図形との対応を示す。図11の第1行目は、関数1の変数を示す。図12に示すように、ドーナッツ状パターンの外側の矩形の位置は(X1,Y1)、幅はW1、高さはH1で示される。また、ドーナッツ状パターンの内側の矩形の位置は(X2,Y2)、幅はW2、高さはH2で示される。
【0036】
図11の第2行目は、図10の各ドーナッツ状パターンを分割したときの矩形aの位置が(X1,Y1)、幅がX2−X1、高さがH1であることを示す。図11の第3行目は、図10の各ドーナッツ状パターンを分割したときの矩形bの位置が(X2,Y1)、幅がW2、高さがY2−Y1であることを示す。
【0037】
図11の第4行目は、図10の各ドーナッツ状パターンを分割したときの矩形cの位置が(X2,Y2+H2)、幅がW2、高さがH1−H2−Y2+Y1であることを示す。図11の第5行目は、図10の各ドーナッツ状パターンを分割したときの矩形dの位置が(X2+W2,Y1)、幅がW1−W2−X2+X1、高さがH1であることを示す。
【0038】
図13は記述例1による関数呼び出しを示す。図13の第1行目により、関数1で指定される図10のドーナッツ状パターンIが呼び出される。呼び出された関数はドーナッツ状パターンが分割された4つの矩形a〜dのデータを生成する。同様に、図13の第2行目により、関数1で指定される図10のドーナッツ状パターンIIが呼び出され、呼び出された関数は4つの矩形a〜dのデータを生成する。
【0039】
また、図13の第3行目により、関数1で指定される図10のドーナッツ状パターンIIIが呼び出され、呼び出された関数は4つの矩形a〜dのデータを生成する。図13の第4行目により、関数1で指定される図10のドーナッツ状パターンIVが呼び出され、呼び出された関数は4つの矩形a〜dのデータを生成する。
【0040】
比較のため、図10の図形パターンを従来の方法で記述した例を、図14に示す。rectangle X Y W Hは、位置(X,Y)に幅W、高さHの矩形を配置することを示す。X、Y、W、Hは変数である。図10に示す4つのパターンI〜IVはすべてドーナッツ状パターンである点で共通するが、各ドーナッツ状パターンの形状および大きさ、あるいは各ドーナッツ状パターンを分割した矩形の形状および大きさは互いに異なる。したがって、図22〜図25を参照して説明した方法でデータを圧縮できない。図10に示す分割パターンをすべて記述すると、図14に示すように、16行のデータとなる。
【0041】
本発明による記述例1(図11および図13)と従来方法による記述例(図14)を比較するとわかるように、従来方法では4つの矩形として表現されるパターンが、記述例1では1回の関数呼び出しで表現されている。例えば、図14の第1行目〜第4行目で表現されるパターンデータは、図13の第1行目の関数呼び出しで表現される。
【0042】
ここで、上記の記述例1(図11および図13)と従来の記述例(図14)のデータサイズを比較する。比較を単純化するため、下線を引いたキーワード、変数、演算子および括弧が1ワード(=2バイト)で表されると仮定する。1ワードでは、変数は1〜4文字の文字列で表される。キーワード、演算子、括弧は2進数のコードで表される。また、座標や長さ等の値(整数または小数)は2ワード(=4バイト)で表されると仮定する。
【0043】
上記の仮定に基づくと、本発明による記述例1では、関数定義を示す図11の第1行目が12ワード、第2行目が9ワード、第3行目が9ワード、第4行目が17ワード、第5行目が17ワード、第6行目が1ワードである。したがって、関数定義のデータサイズは合計で65ワードと概算される。
【0044】
また、関数呼び出しを示す図13の第1行目が19ワードである。この19ワードのうち、キーワードと関数IDが各1ワードで計3ワード、座標、幅および高さの8個の値が各2ワードで計16ワードである。図13の第2行目から第4行目は、第1行目と同様に19ワードである。したがって、関数呼び出しのデータサイズは合計で76ワードと概算される。関数定義のデータサイズと関数呼び出しのデータサイズを合計すると、141ワードとなる。
【0045】
一方、従来方法による記述例を示す図14の第1行目は9ワードである。この9ワードのうち、キーワードが1ワード、座標、幅および高さの4個の値が各2ワードで計8ワードである。図14の第2行目から第16行目は、第1行目と同様に9ワードである。したがって、従来例のデータサイズは合計で144ワードと概算される。
【0046】
以上のように、矩形の中に矩形があるドーナッツ状パターンの個数をN個としたときのデータサイズは、本発明の場合、65+19×N(ワード)となる。一方、従来方法の場合、36×N(ワード)となる。したがって、Nが4以上であれば、本発明による記述例1の方がデータ量の削減に有利である。
【0047】
(記述例2)
記述例2は、斜め方向に等間隔に配置された同一形状の矩形の集合を関数記述したものである。図15に、記述例2で記述される図形パターンを示す。
図16は記述例2による関数定義を示し、図16の第1行目は、関数2の変数を示す。
【0048】
図15に示す各矩形の位置は(X,Y)、幅はW、高さはH、X方向のピッチはP1、Y方向のピッチはP2で示される。また、矩形の個数はN個で示される。図16の第2行目は、Iを0からN−1で1ずつ変化させることを示す。図16の第3行目は、矩形の位置が(X+P1*I,Y+P2*I)、幅がW、高さがHであることを示す。
図17は記述例2による関数呼び出しを示す。図17に示す1回の関数呼び出しで、図15に示す10個の矩形が呼び出される。
【0049】
比較のため、図15の図形パターンを従来の方法で記述した例を、図18に示す。図15に示すパターンは、10個の矩形が同一の形状を有するため、図形をライブラリに登録できる。図18の第1行目は、ライブラリ1が位置(0,0)に幅10、高さ10の矩形を配置することを示す。図18の第2行目から第11行目はライブラリ1に登録された図形の位置を示す。このような登録を行った場合、例えば図14に示すように、すべての矩形について位置、幅、高さを記述する場合に比較して、データは圧縮される。
【0050】
上記の記述例1と同様の仮定に基づき、記述例2(図16および図17)と対応する従来の記述例(図18)のデータサイズを比較する。本発明による記述例2では、関数定義を示す図16の第1行目が11ワード、第2行目が8ワード、第3行目が17ワード、第4行目が1ワード、第5行目が1ワードである。したがって、関数定義のデータサイズは合計で38ワードと概算される。
【0051】
また、関数呼び出しを示す図17は1行で17ワードと概算される。この17ワードのうち、キーワードと関数IDが各1ワードで計3ワード、座標、幅、高さ、ピッチおよび矩形の番号の7個の値が各2ワードで計14ワードである。関数定義のデータサイズと関数呼び出しのデータサイズを合計すると、55ワードとなる。
【0052】
一方、従来方法による記述例を示す図18の第1行目は11ワードである。この11ワードのうち、キーワードが2ワード、ライブラリのIDが1ワード、座標、幅および高さの4個の値が各2ワードで計8ワードである。図18の第2行目は6ワードである。この6ワードのうち、キーワードが1ワード、ライブラリのIDが1ワード、座標の2個の値が各2ワードで計4ワードである。図18の第3行目から第11行目は、第2行目と同様に6ワードである。したがって、従来例のデータサイズは合計で71ワードと概算される。
【0053】
以上のように、斜め方向に等間隔に配置された同一形状の矩形の個数をN個としたときのデータサイズは、本発明の場合、38+17=55(ワード)となり一定である。一方、従来方法の場合、11+6×N(ワード)となる。したがって、Nが8以上であれば、本発明による記述例2の方がデータ量の削減に有利である。
【0054】
[3.マスク描画装置]
本実施形態のマスク描画装置の内部には、マスクデータを処理するデータ処理機能部と、マスクにパターンを描画する描画機能部がある。データ処理機能部では、関数記述されたマスクデータを読み込んで、描画を制御するデータを出力する。描画機能部は、データ処理機能部の出力データに従って、パターンを描画する。描画機能部は例えば電子線をマスクに照射して、描画を行う。
【0055】
本発明の関数記述を含むマスクデータを、データ処理機能部で処理する方法として、リアルタイム処理とバッチ処理が挙げられる。リアルタイム処理に対応したマスク描画装置の構成を、図19に示す。また、バッチ処理に対応したマスク描画装置の構成を、図20に示す。
【0056】
図19に示すマスク描画装置では、データ処理機能部1でマスクデータの記述内容をリアルタイムに処理する。すなわち、マスクの描画をする時に、関数記述を含んだマスクデータがリアルタイムで実行解釈される。実行解釈された結果の描画用パターンデータが描画機能部2へ転送されて、描画機能部2の動作が制御される。リアルタイムの実行解釈には、関数記述を含んだマスクデータをバッファリングしながら実行解釈することも含む。
【0057】
図20に示すマスク描画装置では、データ処理機能部1で、マスクデータの記述内容を描画用パターンデータに一括して変換しておく。描画をする時には、変換後の描画用パターンデータが描画機能部2へ転送されて、描画機能部2の動作が制御される。
【0058】
上記の本実施形態のマスク描画装置によれば、関数記述されたマスクデータを取り込んで描画を行うことが可能なため、マスクデータをマスク描画装置に転送するための時間を短縮できる。したがって、マスク描画の全体的な所要時間を短縮できる。
【0059】
本発明のマスクデータ処理方法およびマスク描画装置の実施形態は、上記の説明に限定されない。例えば、上記の記述例では矩形を示したが、図形が台形を含む場合にも、[1.関数記述方法]に示したような方法で関数記述を行い、データを圧縮できる。また、本発明のマスクデータ処理方法は、電子線リソグラフィ用のステンシルマスクに限らず、イオンビームリソグラフィやイオン注入等、他のプロセスに使用されるマスクの作製にも適用できる。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の変更が可能である。
【0060】
【発明の効果】
本発明のマスクデータ処理方法によれば、マスクデータのデータ量を効率的に削減できる。
本発明のマスク描画装置によれば、関数記述により圧縮されたデータを取り込むことが可能となり、データの転送時間を短縮できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明のマスクデータ処理方法による関数記述の構成図である。
【図2】図2は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図3】図3は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図4】図4は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図5】図5は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図6】図6は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図7】図7は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図8】図8は、本発明のマスクデータ処理方法による関数定義の記述方法を示す。
【図9】図9は、本発明のマスクデータ処理方法による関数呼び出しの記述方法を示す。
【図10】図10は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例1で関数記述される図形パターンを示す。
【図11】図11は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例1の関数定義を示す。
【図12】図12は、図10の図形パターンと図11の変数との関係を示す図である。
【図13】図13は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例1の関数呼び出しを示す。
【図14】図14は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例1の比較例としての従来例である。
【図15】図15は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例2で関数記述される図形パターンを示す。
【図16】図16は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例2の関数定義を示す。
【図17】図17は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例2の関数定義を示す。
【図18】図18は、本発明のマスクデータ処理方法の記述例2の比較例としての従来例である。
【図19】図19は、本発明のマスク描画装置の構成図である。
【図20】図20は、本発明のマスク描画装置の構成図である。
【図21】図21(a)および(b)は、レイアウトパターンの分割例を示す。
【図22】図22は、従来のマスクデータ圧縮方法によりパターンデータを圧縮できる図形パターンの一例を示す。
【図23】図23(a)は、図22のパターンデータの圧縮前の記述を示し、図23(b)は、図22のパターンデータの圧縮後の記述を示す。
【図24】図24は、従来のマスクデータ圧縮方法によりパターンデータを圧縮できる図形パターンの他の例を示す。
【図25】図25(a)は、図24のパターンデータの圧縮前の記述を示し、図25(b)は、図24のパターンデータの圧縮後の記述を示す。
【符号の説明】
1…データ処理機能部、2…描画機能部、11…矩形、12…台形。
[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a method of processing pattern data (mask data) drawn on a mask used in a lithography process of manufacturing a semiconductor device, and a mask drawing device for manufacturing a mask used in a lithography process.
[0002]
[Prior art]
Writing is performed on a mask used in a lithography process of manufacturing a semiconductor integrated circuit according to pattern data called mask data. The mask data has a rectangle and a trapezoid as graphic elements. For example, as shown in FIGS. 21A and 21B, a polygon layout pattern is represented by a combination of a rectangle 11 and a trapezoid 12. It is assumed that a triangle is included in a trapezoid.
[0003]
2. Description of the Related Art The size of mask data has been increasing with the increase in the degree of integration of semiconductor integrated circuits. If the mask data size is large, there arise problems that the data transfer time becomes longer and the data processing speed becomes slower. Therefore, in the conventional mask data, the following method has been considered as a method of reducing the data size.
[0004]
The first method is applied to a group of figures arranged in a matrix at equal intervals in the X direction and the Y direction, as shown in FIG. In the case of such an array, graphics are registered in a library, and the registered graphics are referenced (referenced) together with the number of arrays (NX, NY) and pitches (DX, DY), thereby compressing data and performing data processing. The amount can be reduced.
[0005]
FIG. 23A is a representation of the graphic group of FIG. 22 before compression. FIG. 23B is an expression after compression in which the data of FIG. 23A is registered in a library. As shown in FIG. 23A, the keyword “rectangle” is used for six rectangles in the mask data. The underlined portion indicates a keyword in the mask data format. The keyword “rectangle” indicates that a rectangle having a width W and a height H is arranged at the position (X, Y). X, Y, W, and H are variables. As shown in FIG. 23B, data is compressed by using the keywords “library” and “reference”.
[0006]
The keyword library represents the definition of a figure. FIG. 23B shows that one rectangle is included in the definition of the library 1. The keyword “reference” indicates that the graphic defined in the library 1 is arranged at the position (X1, Y1) by the number (NX, NY) and the pitch (DX, DY) with reference to the definition of the library 1. .
[0007]
The second method is applied to a group of figures in which homologous figures are arranged at a plurality of locations, as shown in FIG. In this example, two rectangles are arranged at the same position in each of three places. By registering such a group of figures having the same positional relationship in the library and referring to the registered group of figures, data can be compressed and the amount of data processing can be reduced.
[0008]
FIG. 25A is a representation of the graphic group of FIG. 24 before compression. FIG. 25B is an expression after compression in which the data of FIG. 24 is registered in a library. When compression is not performed, as shown in FIG. 25A, the rectangle of the keyword is used for six rectangles in the mask data. As shown in FIG. 25B, the data is compressed by using the keywords “library” and “reference”.
[0009]
FIG. 25B shows that the definition of the library 2 includes two rectangles. The keyword “reference” indicates that the graphic defined in the library 2 is arranged at three positions: (X1, Y3), (X3, Y1), and (X5, Y2).
[0010]
Conventional mask data compression methods include, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-106337, “Database Creation / Maintenance Method and Electron Beam Exposure System Using the Method”, and Japanese Patent Application Laid-Open No. H10-149378, “Data Processing Method, Mask Pattern Data Processing Method, Data Processing Apparatus, and Mask Pattern Data Processing Apparatus ". JP-A-2002-92063 discloses a data compression method using cells, and JP-A-2002-92064 discloses a data compression method using an array.
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
Although the data amount is also reduced by the above-described conventional mask data compression method, it is desired to further reduce the data amount in order to cope with high integration of a semiconductor integrated circuit. According to the conventional method, a set of figures having regular shapes but not similar to each other, or a set of figures that are not arranged in a matrix as shown in FIG. Did not.
[0012]
The mask data is obtained by correcting layout data created by CAD, and the corrected mask data is transferred to a mask drawing apparatus. In order to transfer or correct data, a smaller amount of data is advantageous for speeding up processing. As described above, when data is compressed, if data is decompressed (decompressed) before data is transferred to the mask drawing apparatus, the data transfer time to the mask drawing apparatus becomes longer.
[0013]
The present invention has been made in view of the above-described problems, and accordingly, the present invention provides a mask data processing method capable of efficiently reducing the amount of mask data and speeding up data processing and data transfer. With the goal.
It is another object of the present invention to provide a mask drawing apparatus capable of transferring compressed data to a mask drawing apparatus in a short time and shortening the entire required time of mask drawing.
[0014]
[Means for Solving the Problems]
In order to achieve the above object, a mask data processing method according to the present invention is characterized in that shapes and arrangements of a plurality of figures drawn on a mask are represented by function definitions and function calls, and data processing is performed.
This makes it possible to compress pattern data of a group of figures that could not be compressed by the conventional compression method, further reducing the data amount and increasing the processing speed.
[0015]
In order to achieve the above object, the mask drawing apparatus of the present invention is a function defined in a shape and an arrangement of a plurality of figures drawn on a mask, wherein the function calls the function and specifies a value specifying the figure. By substituting into the variables of, recognizes the function generated by pattern data representing a plurality of figures, a data processing function unit that generates the pattern data, and according to the pattern data generated by the data processing function unit, A drawing function unit for drawing on a mask.
[0016]
This makes it possible to transfer the data compressed by the function description to the mask drawing apparatus and perform drawing. Therefore, the data transfer time to the mask drawing apparatus can be reduced, and the overall required time for mask drawing can be reduced.
[0017]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of a mask data processing method and a mask drawing apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings.
In the mask data processing method according to the present embodiment, the arrangement and shape of a figure are described as functions in mask data. Further, the mask drawing apparatus of the present embodiment has a function of drawing according to the mask data described as a function.
[0018]
Functions receive parameters as arguments and store variables in the function. In the function, processing procedures such as condition judgment and repetition are controlled. The processing result of the function is the arrangement and shape of the figure.
The amount of data can be reduced by describing a set of figures whose shape changes regularly or a set of figures whose arrangement is not a matrix but regular, using a function. According to such a function, it is possible to compress a figure which is not to be compressed by the conventional method, so that the size of the mask data can be further reduced as compared with the conventional method.
[0019]
[1. Function description method]
First, a function definition and a function call described in the mask data will be described. Function definitions include arguments that pass parameters. Items to be described in the function definition include variables, substitution and calculation of numbers using the variables, condition judgment, repetition, rectangular and trapezoidal generation functions, and the like.
[0020]
FIG. 1 shows the structure of the function definition and the function call described in the mask data. As shown in FIG. 1, the function definition includes a function identification indicator (function ID), an argument, and a processing unit. The processing unit is described using processing of variables, substitution / calculation, condition judgment, repetition, and figure generation.
[0021]
In the following description, an underlined portion indicates a keyword in the mask data format. The mask data is represented by a fixed data size. In addition, a portion enclosed by “” indicates that a numeral, a variable, a processing content, and the like are described.
[0022]
FIG. 2 shows the function definition (1) of FIG. FUNCTION From END-FUNCTION Indicates a function definition. FUNCTION Indicates the start of a function definition. END-FUNCTION Indicates the end of the function definition. 'FUNCTION-ID' is an ID for identifying a function. By changing the ID, a plurality of different functions can be defined.
[0023]
'PARAMETER' indicates an argument received by the function. A list of variable names such as P1, P2,... Is specified in parentheses. Variables in parentheses are used for assignment, calculation, and description of conditions. Variable types are integers and decimals.
'FUNCTION-BODY' indicates a processing part of the function. Describe the processing contents of the function in the processing unit.
[0024]
FIG. 3 shows (1-1) variables in FIG. 'VARIABLE' indicates a variable used in the processing section of the function. Variable names such as Q1, Q2,... Are used for substitution, calculation, and description of conditions. The type of the variable is an integer, a decimal number, or the like.
[0025]
FIG. 4 shows (1-2) substitution and calculation of FIG. In the processing section of the function, = is used to substitute for a variable. Perform calculations using operators and parentheses. Substitute the result of the calculation into a variable using =.
[0026]
FIG. 5 shows the (1-3) condition determination in FIG. IF ( 'CONDITION' ) From ELSE Through END-IF Until the condition 'CONDITION' is satisfied, the processing content 'IF-BODY' is processed, and when the condition 'CONDITION' is not satisfied, the processing content 'ELSE-BODY' is processed.
'CONDITION' indicates a condition. Conditions are described using variables, constants, equal signs, inequalities, and the like.
[0027]
FIG. 6 shows a condition (1-4a) in (1-4) repetition of FIG. WHILE From END-WHILE Indicates that the processing content 'WHILE-BODY' is processed while the condition 'CONDITION' is satisfied.
[0028]
FIG. 7 shows (1-4b) counts among (1-4) repetitions of FIG. The processing from FOR to END-FOR is performed by substituting the initial value 'START-I' for the variable 'I' and increasing the variable 'I' by one until the variable 'I' becomes the final value 'END-I'. Indicates that 'FOR-BODY' is to be processed.
[0029]
FIG. 8 shows the (1-5) graphic generation function of FIG. RECTANGLE Indicates that a rectangle having a width of “W” and a height of “H” is arranged at a position of “(X, Y)”. 'X', 'Y', 'W', 'H' are variables.
X-TRAPEZOID Indicates that a trapezoid of four vertices (X1, Y1), (X2, Y1), (X3, Y2), and (X4, Y2) is arranged. 'X1', 'Y1', 'X2', 'X3', 'X4', 'Y2' are variables.
Y-TRAPEZOID Indicates that a trapezoid of four vertices (X1, Y1), (X1, Y2), (X2, Y3), and (X2, Y4) is arranged. 'X1', 'Y1', 'Y2', 'Y3', 'X2', 'Y4' are variables.
[0030]
FIG. 9 shows (2) the function call of FIG. FUNCTION-CALL From END-FUNCTION-CALL Calls and executes the function definition corresponding to the function ID 'FUNCTION-ID'.
FUNCTION-CALL Indicates a function call. END-FUNCTION-CALL Indicates the end of a function call, that is, the end of a parameter.
The parameter 'PARAMETER' indicates an argument to be passed in the function definition.
[0031]
[2. Function description example]
According to the present invention, the function definition is executed at the location of the function call to generate a rectangular or trapezoidal graphic pattern. Here, an example of a function definition and a function call described in the mask data is shown.
[0032]
(Description example 1)
Description example 1 is a function definition of a pattern having a rectangular hole in a rectangle. FIG. 10 shows a graphic pattern described in the description example 1. As shown in FIG. 10, a pattern having a rectangle in a rectangle is called a donut-shaped pattern.
[0033]
The basic pattern drawn by the mask drawing apparatus is a rectangle or a trapezoid. Thus, such a donut-like pattern is divided into a plurality of rectangles or trapezoids.
[0034]
In the example of FIG. 10, four donut-like patterns I, II, III, and IV are indicated by oblique lines. The line dividing each donut-shaped pattern is shown by a solid line. The donut-shaped pattern I is divided into four rectangles a to d. The other patterns II to IV are similarly divided into four rectangles a to d, respectively.
[0035]
FIG. 11 shows the function definition according to the description example 1, and FIG. 12 shows the correspondence between the variables described in FIG. 11 and the graphics. The first line in FIG. 11 shows variables of the function 1. As shown in FIG. 12, the position of the rectangle outside the donut-shaped pattern is indicated by (X1, Y1), the width is indicated by W1, and the height is indicated by H1. The position of the rectangle inside the donut pattern is indicated by (X2, Y2), the width is indicated by W2, and the height is indicated by H2.
[0036]
The second line in FIG. 11 indicates that the position of the rectangle a when each of the donut-shaped patterns in FIG. 10 is divided is (X1, Y1), the width is X2-X1, and the height is H1. The third line in FIG. 11 indicates that the position of the rectangle b when each donut-shaped pattern in FIG. 10 is divided is (X2, Y1), the width is W2, and the height is Y2-Y1.
[0037]
The fourth line in FIG. 11 indicates that the position of the rectangle c when each donut-shaped pattern in FIG. 10 is divided is (X2, Y2 + H2), the width is W2, and the height is H1-H2-Y2 + Y1. The fifth line in FIG. 11 indicates that the position of the rectangle d when each donut-shaped pattern in FIG. 10 is divided is (X2 + W2, Y1), the width is W1-W2-X2 + X1, and the height is H1.
[0038]
FIG. 13 shows a function call according to description example 1. The first line in FIG. 13 calls the donut-shaped pattern I in FIG. The called function generates data of four rectangles a to d obtained by dividing the donut pattern. Similarly, the second row of FIG. 13 calls the donut-shaped pattern II of FIG. 10 specified by the function 1, and the called function generates data of four rectangles a to d.
[0039]
Further, the donut-shaped pattern III of FIG. 10 designated by the function 1 is called by the third line of FIG. 13, and the called function generates data of four rectangles a to d. According to the fourth line in FIG. 13, the donut-shaped pattern IV of FIG. 10 specified by the function 1 is called, and the called function generates data of four rectangles a to d.
[0040]
For comparison, FIG. 14 shows an example in which the graphic pattern of FIG. 10 is described by a conventional method. rectangle XYWH indicates that a rectangle having a width W and a height H is arranged at the position (X, Y). X, Y, W, and H are variables. The four patterns I to IV shown in FIG. 10 are common in that they are all donut-shaped patterns, but the shape and size of each donut-shaped pattern or the shape and size of a rectangle obtained by dividing each donut-shaped pattern are different from each other. . Therefore, data cannot be compressed by the method described with reference to FIGS. When all the division patterns shown in FIG. 10 are described, data of 16 rows is obtained as shown in FIG.
[0041]
As can be seen from a comparison between the description example 1 (FIGS. 11 and 13) according to the present invention and the description example (FIG. 14) according to the conventional method, the pattern represented as four rectangles in the conventional method is different from the description example 1 in FIG. Expressed as a function call. For example, the pattern data represented by the first to fourth lines in FIG. 14 is represented by a function call on the first line in FIG.
[0042]
Here, the data sizes of the above description example 1 (FIGS. 11 and 13) and the conventional description example (FIG. 14) will be compared. To simplify the comparison, assume that the underlined keywords, variables, operators and parentheses are represented by one word (= 2 bytes). In one word, a variable is represented by a character string of 1 to 4 characters. Keywords, operators, and parentheses are represented by binary codes. It is also assumed that values (integers or decimals) such as coordinates and lengths are represented by two words (= 4 bytes).
[0043]
Based on the above assumptions, in the description example 1 according to the present invention, the first line of FIG. 11 showing the function definition is 12 words, the second line is 9 words, the third line is 9 words, and the fourth line is Are 17 words, the fifth row is 17 words, and the sixth row is 1 word. Therefore, the data size of the function definition is estimated to be 65 words in total.
[0044]
The first line in FIG. 13 showing the function call has 19 words. Of these 19 words, the keyword and the function ID are 3 words each for one word, and the eight values of coordinates, width and height are 16 words for each 2 words. The second to fourth rows in FIG. 13 have 19 words, like the first row. Therefore, the data size of the function call is estimated to be 76 words in total. The sum of the data size of the function definition and the data size of the function call is 141 words.
[0045]
On the other hand, the first line in FIG. 14 showing a description example according to the conventional method has 9 words. Out of these nine words, one keyword is used, and four values of coordinates, width, and height are each two words, that is, eight words in total. The second to sixteenth rows in FIG. 14 have nine words, like the first row. Therefore, the data size of the conventional example is estimated to be 144 words in total.
[0046]
As described above, when the number of donut-shaped patterns having a rectangle in a rectangle is N, the data size is 65 + 19 × N (word) in the present invention. On the other hand, in the case of the conventional method, it becomes 36 × N (word). Therefore, if N is 4 or more, the description example 1 according to the present invention is more advantageous in reducing the data amount.
[0047]
(Description example 2)
The description example 2 is a function description of a set of rectangles having the same shape and arranged at equal intervals in an oblique direction. FIG. 15 shows a graphic pattern described in the description example 2.
FIG. 16 shows a function definition according to the description example 2, and the first line in FIG.
[0048]
The position of each rectangle shown in FIG. 15 is (X, Y), the width is W, the height is H, the pitch in the X direction is P1, and the pitch in the Y direction is P2. The number of rectangles is indicated by N. The second line in FIG. 16 shows that I is changed from 0 to N−1 by one. The third line in FIG. 16 indicates that the position of the rectangle is (X + P1 * I, Y + P2 * I), the width is W, and the height is H.
FIG. 17 shows a function call according to description example 2. In one function call shown in FIG. 17, ten rectangles shown in FIG. 15 are called.
[0049]
For comparison, FIG. 18 shows an example in which the graphic pattern of FIG. 15 is described by a conventional method. In the pattern shown in FIG. 15, since ten rectangles have the same shape, a figure can be registered in the library. The first line in FIG. 18 indicates that the library 1 arranges a rectangle having a width of 10 and a height of 10 at the position (0, 0). The second to eleventh lines in FIG. 18 indicate the positions of the graphics registered in the library 1. When such registration is performed, the data is compressed as compared to a case where the position, width, and height are described for all rectangles, as shown in FIG. 14, for example.
[0050]
Based on the same assumption as in the above description example 1, the data size of the description example 2 (FIGS. 16 and 17) and the corresponding conventional description example (FIG. 18) are compared. In the description example 2 according to the present invention, the first line of FIG. 16 showing the function definition is 11 words, the second line is 8 words, the third line is 17 words, the fourth line is 1 word, and the fifth line The eye is one word. Therefore, the data size of the function definition is estimated to be 38 words in total.
[0051]
FIG. 17 showing a function call is roughly estimated to be 17 words per line. Of these 17 words, the keyword and the function ID are 3 words in each one word, and the seven values of coordinates, width, height, pitch, and rectangle number are 14 words in total, 2 words each. The sum of the data size of the function definition and the data size of the function call is 55 words.
[0052]
On the other hand, the first line of FIG. 18 showing a description example according to the conventional method has 11 words. Of these 11 words, the keyword is 2 words, the library ID is 1 word, and the four values of coordinates, width and height are 2 words, each of which is 8 words in total. The second line in FIG. 18 has six words. Of these six words, the keyword is one word, the library ID is one word, and the two values of coordinates are two words each, for a total of four words. The third to eleventh rows in FIG. 18 have six words, similar to the second row. Therefore, the data size of the conventional example is estimated to be 71 words in total.
[0053]
As described above, the data size when the number of rectangles of the same shape arranged at equal intervals in the oblique direction is N is 38 + 17 = 55 (words) in the case of the present invention, and is constant. On the other hand, in the case of the conventional method, it is 11 + 6 × N (word). Therefore, if N is 8 or more, the description example 2 according to the present invention is more advantageous in reducing the data amount.
[0054]
[3. Mask drawing equipment]
Inside the mask drawing apparatus of the present embodiment, there are a data processing function section for processing mask data and a drawing function section for drawing a pattern on a mask. The data processing function unit reads the mask data in which the function is described, and outputs data for controlling the drawing. The drawing function unit draws a pattern according to the output data of the data processing function unit. The drawing function unit performs drawing by, for example, irradiating the mask with an electron beam.
[0055]
As a method of processing the mask data including the function description of the present invention by the data processing function unit, there are real-time processing and batch processing. FIG. 19 shows the configuration of a mask drawing apparatus compatible with real-time processing. FIG. 20 shows the configuration of a mask drawing apparatus that supports batch processing.
[0056]
In the mask drawing apparatus shown in FIG. 19, the data processing function unit 1 processes the description contents of the mask data in real time. That is, when drawing a mask, mask data including a function description is executed and interpreted in real time. The pattern data for drawing as a result of execution and interpretation is transferred to the drawing function unit 2, and the operation of the drawing function unit 2 is controlled. The real-time execution interpretation includes execution interpretation while buffering mask data including a function description.
[0057]
In the mask drawing apparatus shown in FIG. 20, the data processing function unit 1 collectively converts the description contents of the mask data into drawing pattern data. When performing drawing, the converted drawing pattern data is transferred to the drawing function unit 2, and the operation of the drawing function unit 2 is controlled.
[0058]
According to the mask drawing apparatus of the present embodiment, since it is possible to take in the mask data in which the function is described and perform drawing, the time for transferring the mask data to the mask drawing apparatus can be reduced. Therefore, the overall required time for mask drawing can be reduced.
[0059]
Embodiments of the mask data processing method and the mask drawing apparatus of the present invention are not limited to the above description. For example, in the above description example, a rectangle is shown, but when a figure includes a trapezoid, [1. Function description method], and data can be compressed by performing a function description in the manner described in [1. Further, the mask data processing method of the present invention can be applied not only to a stencil mask for electron beam lithography but also to the manufacture of a mask used in other processes such as ion beam lithography and ion implantation. In addition, various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.
[0060]
【The invention's effect】
According to the mask data processing method of the present invention, the amount of mask data can be efficiently reduced.
According to the mask drawing apparatus of the present invention, it is possible to take in data compressed by a function description, and it is possible to shorten the data transfer time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a configuration diagram of a function description according to a mask data processing method of the present invention.
FIG. 2 shows a method of describing a function definition by a mask data processing method according to the present invention.
FIG. 3 shows a method of describing a function definition according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 4 shows a method of describing a function definition by the mask data processing method of the present invention.
FIG. 5 shows a method of describing a function definition according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 6 shows a method of describing a function definition according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 7 shows a method of describing a function definition according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 8 shows a method of describing a function definition according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 9 shows a method of describing a function call according to the mask data processing method of the present invention.
FIG. 10 shows a graphic pattern described as a function in the description example 1 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 11 shows a function definition of a description example 1 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 12 is a diagram illustrating a relationship between the graphic pattern in FIG. 10 and the variables in FIG. 11;
FIG. 13 shows a function call of a description example 1 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 14 is a conventional example as a comparative example of the description example 1 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 15 shows a graphic pattern described by a function in a description example 2 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 16 shows a function definition of a description example 2 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 17 shows a function definition of a description example 2 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 18 is a conventional example as a comparative example of the description example 2 of the mask data processing method of the present invention.
FIG. 19 is a configuration diagram of a mask drawing apparatus of the present invention.
FIG. 20 is a configuration diagram of a mask drawing apparatus of the present invention.
FIGS. 21A and 21B show an example of division of a layout pattern.
FIG. 22 shows an example of a graphic pattern whose pattern data can be compressed by a conventional mask data compression method.
23 (a) shows a description of the pattern data of FIG. 22 before compression, and FIG. 23 (b) shows a description of the pattern data of FIG. 22 after compression.
FIG. 24 shows another example of a graphic pattern in which pattern data can be compressed by a conventional mask data compression method.
25 (a) shows a description of the pattern data of FIG. 24 before compression, and FIG. 25 (b) shows a description of the pattern data of FIG. 24 after compression.
[Explanation of symbols]
1 ... data processing function unit, 2 ... drawing function unit, 11 ... rectangle, 12 ... trapezoid.

Claims (5)

マスクに描画される複数の図形の形状および配置を、関数定義と関数呼び出しによって表し、データ処理を行う
マスクデータ処理方法。
A mask data processing method in which the shapes and arrangements of a plurality of figures drawn on a mask are represented by function definitions and function calls, and data processing is performed.
前記関数定義は関数識別標識と、引数と、処理部を含む
請求項1記載のマスクデータ処理方法。
2. The mask data processing method according to claim 1, wherein the function definition includes a function identification indicator, an argument, and a processing unit.
前記処理部は変数と、前記値が代入され計算処理される計算式と、前記計算処理の実行を制御する条件判断部と、前記計算処理の繰り返しを指定する繰り返し部を含む
請求項2記載のマスクデータ処理方法。
3. The processing unit according to claim 2, wherein the processing unit includes a variable, a calculation formula in which the value is substituted and calculated, a condition determination unit that controls execution of the calculation process, and a repetition unit that specifies repetition of the calculation process. Mask data processing method.
前記複数の図形は、それぞれ複数かつ同数の図形要素からなり、
前記図形要素は矩形または台形であり、
前記図形要素の配列はすべての図形間で共通であり、
前記図形要素の大きさは、各図形間で互いに異なる
請求項1記載のマスクデータ処理方法。
The plurality of figures each include a plurality and the same number of figure elements,
The graphic element is a rectangle or a trapezoid,
The arrangement of the graphic elements is common among all figures,
2. The mask data processing method according to claim 1, wherein the sizes of the graphic elements are different between the respective graphics.
マスクに描画される複数の図形の形状および配置に定義された関数であって、前記関数を呼び出して図形を特定する値を前記関数の変数に代入することにより、複数の図形を表すパターンデータが生成する前記関数を認識し、前記パターンデータの生成を行うデータ処理機能部と、
前記データ処理機能部で生成する前記パターンデータに従って、マスクに描画を行う描画機能部とを有する
マスク描画装置。
A function defined for the shape and arrangement of a plurality of figures to be drawn on a mask, wherein the pattern data representing the plurality of figures is obtained by calling the function and assigning a value specifying the figure to a variable of the function. A data processing function unit that recognizes the function to be generated and generates the pattern data;
A drawing function unit configured to draw on a mask in accordance with the pattern data generated by the data processing function unit.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018142727A (en) * 2018-05-21 2018-09-13 株式会社ニューフレアテクノロジー Method for forming drawing data

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