JP2004042670A - Method and semiconductor device for driving ink jet head - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、インクジェットヘッドの駆動方法、シリコン振動子の静電駆動方法、シリコン振動子の静電駆動用半導体装置等に関する。 The present invention relates to a method for driving an inkjet head, a method for electrostatically driving a silicon vibrator, a semiconductor device for electrostatically driving a silicon vibrator, and the like.
従来、キャパシタのような容量性手段である振動板に電気的エネルギを印加し、機械的エネルギに変換してインク室の圧力を高め、ノズルからインクを吐出するインクジェットヘッドとしては、(1)ピエゾ(PZT)等の圧電振動子である容量性手段を振動板とし、振動板を圧力板に接合し圧力板をたわませるもの(例えば特許文献1:特開平6−340075号公報)や、(2)インク室を兼用するシリコン基板とガラス基板との間の容量性手段に静電エネルギを印加し、シリコン基板の薄膜部を振動板としてたわませるもの(例えば特許文献2;特開平7−40535号公報、特許文献3;特開平7−81088号公報)がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, an inkjet head that applies electric energy to a diaphragm, which is a capacitive means such as a capacitor, converts the energy into mechanical energy, increases the pressure in an ink chamber, and discharges ink from nozzles includes (1) a piezoelectric element. (PZT) or the like, a capacitive means that is a piezoelectric vibrator is used as a vibrating plate, and the vibrating plate is joined to a pressure plate to bend the pressure plate (for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-340075); 2) A method in which electrostatic energy is applied to a capacitive means between a silicon substrate and a glass substrate also serving as an ink chamber, and a thin film portion of the silicon substrate is bent as a diaphragm (for example,
ここで、(1)の圧電振動子を駆動する回路は、特許文献1(特開平6−340075号公報)の図5に示すようなものであり、(2)のシリコン振動子を静電力で駆動する回路は、特許文献3(特開平7−81088号公報)の図22に示すような回路である。(1)の圧電振動子は、それ自身の容量が、約10nF(10-8ファラッド)あり、インク室に連通するノズルからインクを吐出させないとき圧電振動子をオープンしても、浮遊容量の影響を受けることがない。しかしながら、(2)のシリコン振動子を静電力で駆動する場合、シリコン振動子とガラス基板上のITO(Indium−Tin−Oxide,スズ添加−酸化インジウム;透明導電膜)との間の容量が、シリコンとガラスとの間は空気であり(ε=1)、低電圧(40V)で振動させるためギャップが0.23μm、面積0.65mm2より約25pFであるため、浮遊容量の影響を受けてしまうという課題がある。 Here, the circuit for driving the piezoelectric vibrator of (1) is as shown in FIG. 5 of Patent Document 1 (JP-A-6-340075), and the silicon vibrator of (2) is operated by electrostatic force. The driving circuit is a circuit as shown in FIG. 22 of Patent Document 3 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-81088). The piezoelectric vibrator of (1) has its own capacitance of about 10 nF (10 -8 farads). Even if the piezoelectric vibrator is opened when ink is not ejected from the nozzle communicating with the ink chamber, the effect of the stray capacitance I do not receive. However, when the silicon oscillator of (2) is driven by electrostatic force, the capacitance between the silicon oscillator and ITO (Indium-Tin-Oxide, tin-added-indium oxide; transparent conductive film) on the glass substrate becomes The space between silicon and glass is air (ε = 1), and the gap is 0.23 μm to vibrate at a low voltage (40 V) and the area is about 25 pF from the area of 0.65 mm 2. There is a problem of getting it.
以下、(2)のシリコン振動子の駆動回路について図15を用いて説明する。
まず、図15の駆動回路で、共通トランジスタTr0のオン抵抗及び各振動子までの共有する共通インピーダンスをR0、個別トランジスタTr1、Tr2、Tr3、、、のオン抵抗をR1、R2、R3、、、とする。個別トランジスタTr1のオン抵抗は、解像度を高くするためにノズル数を多くすると、集積化のため抵抗値が高くなってしまう(約3kΩ)。また、共通電極側は、シリコン基板にボロン(ホウ素)をドープしており、抵抗値が低い(数十Ω)が、個別電極側は、ガラス基板にITOにより高密度に配線されているため、ITOの配線抵抗Riがノズル毎に約3kΩある。ここで、共通電極を兼用するシリコン基板と個別電極が載っているガラス基板のギャップが約0.23μmと小さく、また、各インク室で等間隔のギャップを保持しなければならないことと、ガラス基板とシリコン基板とを陽極接合するために高温を印加するため、ガラス基板に載せる個別電極は、ITOにする必要がある。ITOの配線抵抗は、おのずと高く(数kΩ)なってしまう。
Hereinafter, the driving circuit for the silicon vibrator (2) will be described with reference to FIG.
First, in the driving circuit of FIG. 15, the on-resistance of the common transistor Tr0 and the common impedance shared by each oscillator are R0, and the on-resistances of the individual transistors Tr1, Tr2, Tr3, are R1, R2, R3,. And When the number of nozzles is increased to increase the resolution, the on-resistance of the individual transistor Tr1 increases (about 3 kΩ) due to integration. On the common electrode side, the silicon substrate is doped with boron (boron), and the resistance value is low (several tens of ohms). On the other hand, the individual electrode side is densely wired with ITO on the glass substrate. The wiring resistance Ri of ITO is about 3 kΩ for each nozzle. Here, the gap between the silicon substrate also serving as the common electrode and the glass substrate on which the individual electrodes are mounted is as small as about 0.23 μm, and it is necessary to maintain a uniform gap in each ink chamber. Since a high temperature is applied for anodic bonding between the silicon substrate and the silicon substrate, it is necessary that the individual electrodes mounted on the glass substrate be ITO. The wiring resistance of ITO naturally increases (several kΩ).
各ノズルがオンされたときの等価回路を図16に示す。図16で、同時駆動(印字)ノズル数をn、各振動子の容量をCa(単純化モデルとするため、Ca、R1、Riを各ノズル共通値とする)、電源電圧をVhとすると、オン時に各振動子に印加される電圧Va(t)は、
Va(t)=Vh・(1−exp(−t/((n・R0+Ri+R1)・Ca))
・・・・(式1)
となる。このときの時定数T=(n・R0+Ri+R1)・Caとなり、R0=1kΩ、Ri=3kΩ、R1=3kΩ、Ca=25pFとすると、n=1のときT(1)=0.18μs、n=50のときT(50)=1.4μsとなる。
FIG. 16 shows an equivalent circuit when each nozzle is turned on. In FIG. 16, when the number of simultaneously driven (printing) nozzles is n, the capacity of each vibrator is Ca (Ca, R1, and Ri are common values for each nozzle for a simplified model), and the power supply voltage is Vh. The voltage Va (t) applied to each transducer at the time of ON is
Va (t) = Vh ・ (1-exp (-t / ((n ・ R0 + Ri + R1) ・ Ca))
.... (Equation 1)
It becomes. At this time, the time constant T = (n ・ R0 + Ri + R1) ・ Ca, where R0 = 1 kΩ, Ri = 3 kΩ, R1 = 3 kΩ, and Ca = 25 pF. When n = 1, T (1) = 0.18 μs, n = At 50, T (50) = 1.4 μs.
シリコン振動子に静電力を印加するとき、立ち上がり及び立ち下がりが約1〜2μs程の速いパルスを印加しないと、ノズルからインクが吐出しないという課題がある。そのため、パルス幅Pw=約14μs、立ち上がり約2μs、立ち下がり約1μsの駆動パルスを印加してシリコン振動子を駆動するとき、同時駆動ノズル数nが増えるに従って、図17の波形Va(n=50)のようにVaの波形がなまってしまい、立ち上がり時に、Vhより低い電圧が印加され、立ち下がり時にGNDにすぐ落ちない。よって、同時駆動ノズル数が増えると、立ち上がり・立ち下がり時間が遅くなり、インクが吐出できなくなるという課題がある。 (4) When applying electrostatic force to the silicon vibrator, there is a problem in that ink is not ejected from the nozzles unless a pulse whose rise and fall are as fast as about 1 to 2 μs is applied. Therefore, when driving the silicon vibrator by applying a drive pulse having a pulse width Pw of about 14 μs, a rise of about 2 μs, and a fall of about 1 μs, the waveform Va (n = 50) of FIG. ), The waveform of Va is distorted, a voltage lower than Vh is applied at the time of rising, and the voltage does not immediately fall to GND at the time of falling. Therefore, when the number of simultaneously driven nozzles increases, the rise and fall times are delayed, and there is a problem that ink cannot be ejected.
さらに、多数のノズルからインクを吐出させる際、個々の振動板のシリコン基板側のインピーダンスや、ガラス基板側の配線インピーダンスが異なると、ノズル間で印加電圧が異なってしまい、ノズル間で吐出特性が異なってしまうという課題がある。 Furthermore, when ink is ejected from a large number of nozzles, if the impedance of the individual diaphragms on the silicon substrate side or the wiring impedance on the glass substrate side is different, the applied voltage is different between the nozzles, and the ejection characteristics between the nozzles are different. There is a problem of being different.
また、シリコン振動子とガラス基板との間のキャパシタに静電エネルギが印加されると、電荷が蓄積してしまい、静電エネルギを解除しても電荷が残留し、シリコン振動子がガラス基板側にたわんだままの状態ができてしまうという課題がある(特許文献2:特開平7−81088号公報参照)。そのため、反対側の電荷を印加するように静電エネルギを印加し、シリコン振動子の永久的なたわみを防止するとともに、浮遊容量を少なくする必要があるという課題がある。 In addition, when electrostatic energy is applied to a capacitor between the silicon oscillator and the glass substrate, electric charges are accumulated, and even if the electrostatic energy is released, electric charges remain, and the silicon oscillator is moved to the glass substrate side. There is a problem that a state of being bent is generated (see Patent Document 2: JP-A-7-81088). Therefore, there is a problem that it is necessary to apply electrostatic energy so as to apply an electric charge on the opposite side to prevent permanent bending of the silicon vibrator and reduce stray capacitance.
また、集積化するため、CMOSICを用いるが、振動板に立ち上がり2μs程度の40V程度のパルス電圧を繰り返し印加し、また、正逆パルスを繰り返し印加するため、CMOSIC内部でパルス波形を作成しようとすると、パルス波形にヒゲ等が発生し乱れてしまい、ノイズが発生したり、吐出できなくなるという課題がある。 In addition, a CMOS IC is used for integration, but a pulse voltage of about 40 V with a rise of about 2 μs is repeatedly applied to the diaphragm and a forward / reverse pulse is repeatedly applied. In addition, there is a problem that a whisker or the like is generated in the pulse waveform and the pulse waveform is disturbed, and noise is generated or ejection becomes impossible.
そこで、本発明は、上記課題を解決し、以下に示すことを目的とする。
(A)浮遊容量の影響によって、オフノズル(非吐出ノズル)が、オンノズル(吐出ノズル)の影響により、吐出してしまうこともあるので、浮遊容量の影響をなくし、オフノズルの吐出を防止する。そのために、シリコン振動子は、オフノズルのときは両端を短絡(ショート)しておく。
(B)さらに、浮遊容量の影響を防止しつつ、振動板に正逆両方のパルス電位を印加し、振動板への電荷の蓄積を防止し、シリコン振動板の永久的なガラス基板へのたわみを防止するとともに、簡単な駆動回路を実現する。
(C)また、吐出ノズル数が増大すると、振動板に印加される個々の電位が低下してしまうことを防止する。そのため、吐出ノズル数を検出し、吐出ノズル数に応じて、駆動パルスのタイミング等のパルス波形を変化させる。そのために、駆動パルスのタイミングをずらし、同時に駆動するノズル数を少なくする。また、印加電圧の大きさを変化させる。さらに、パルスの立ち上がり、立ち下がり、パルス幅を変化させ、吐出性能を変化させる。
(D)また、吐出ノズル数を検出するかわりに、吐出ノズル数が増大しても振動板に印加される個々の電位の低下を防止する。そのため、式1でnの数に効いてくる、R0(共通トランジスタTr1のオン抵抗+共通インピーダンス)の値を小さくする。そのため、共通トランジスタTr1を構成するCMOSIC内部のトランジスタサイズを大きくした。また、共通インピーダンスを小さくするとともに、各振動板間での共通インピーダンス側の配線抵抗を等しくし、そのため、シリコン基板上に、金属べた部を設けた。
(E)さらに、各ノズル間の吐出特性を揃えることを目的とする。そのため、シリコン基板上の配線抵抗を等しくした。また、絶縁基板側の抵抗値を等しくし、そのため、配線距離を各個別電極で等しくし、また、個別スイッチング手段のオン抵抗を等しくした。
(F)また、共通スイッチング手段と個別スイッチング手段とを集積化するため、CMOSICを用いた。
(G)さらに、CMOSIC内部でパルスを生成すると振動板に印加されるパルス波形がノイズにより乱れてしまい、吐出特性が低下することを防止する。そのため、CMOSIC内部でパルス波形を作成せず、外部からパルス波形を作成し、CMOSICに印加するようにした。
(H)また、容量性手段への充放電の方向を双方向とし、充電時間、放電時間を早めた。そのために、CMOSIC内部でのスイッチング手段をトランスミッションゲートとした。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide the following.
(A) The off-nozzle (non-discharge nozzle) may discharge due to the influence of the on-nozzle (discharge nozzle) due to the influence of the stray capacitance. For this purpose, when the silicon vibrator is an off-nozzle, both ends are short-circuited (short-circuited).
(B) Further, while preventing the influence of the stray capacitance, both forward and reverse pulse potentials are applied to the diaphragm to prevent the accumulation of electric charges on the diaphragm, and the deflection of the silicon diaphragm to the permanent glass substrate. And a simple drive circuit is realized.
(C) Further, when the number of ejection nozzles increases, it is possible to prevent individual potentials applied to the diaphragm from lowering. Therefore, the number of ejection nozzles is detected, and the pulse waveform such as the timing of the drive pulse is changed according to the number of ejection nozzles. Therefore, the timing of the drive pulse is shifted, and the number of nozzles driven simultaneously is reduced. Further, the magnitude of the applied voltage is changed. Furthermore, the rising and falling of the pulse and the pulse width are changed to change the ejection performance.
(D) Also, instead of detecting the number of ejection nozzles, even when the number of ejection nozzles increases, a decrease in individual potential applied to the diaphragm is prevented. For this reason, the value of R0 (the on-resistance of the common transistor Tr1 + the common impedance), which affects the number n in
(E) It is another object of the present invention to make the ejection characteristics between the nozzles uniform. Therefore, the wiring resistance on the silicon substrate was made equal. Further, the resistance value on the insulating substrate side was made equal, so that the wiring distance was made equal for each individual electrode, and the on-resistance of the individual switching means was made equal.
(F) A CMOS IC is used to integrate the common switching means and the individual switching means.
(G) Further, when a pulse is generated inside the CMOS IC, the pulse waveform applied to the diaphragm is disturbed by noise, thereby preventing the ejection characteristics from deteriorating. For this reason, a pulse waveform is created from the outside and applied to the CMOS IC without creating a pulse waveform inside the CMOS IC.
(H) The charging / discharging direction of the capacitive means is bidirectional, and the charging time and the discharging time are shortened. For this purpose, a transmission gate is used as a switching means inside the CMOS IC.
本発明のインクジェットヘッドの駆動方法は、
パルス電圧を複数の容量性手段に印加し、該容量性手段を変形し、ノズルからそれぞれインク滴を吐出し、記録を行うインクジェットヘッドの駆動方法において、
前記容量性手段は、一端がそれぞれ個別スイッチング手段に接続され、
前記容量性手段を変形させ吐出させるとき、前記容量性手段に前記パルス電圧を印加するよう、前記個別スイッチング手段を切り換え、
前記容量性手段を非変形状態にし非吐出状態にするとき、前記容量性手段の両端を同電位にするよう、前記個別スイッチング手段を切り換える
ことを特徴とする。
The driving method of the inkjet head of the present invention includes:
Applying a pulse voltage to a plurality of capacitive means, deforming the capacitive means, ejecting ink droplets from each nozzle, and performing a method of driving an inkjet head for performing recording.
The capacitive means has one end connected to the individual switching means,
When the capacitive means is deformed and ejected, the individual switching means is switched so as to apply the pulse voltage to the capacitive means,
When the capacitive means is in the non-deformed state and in the non-ejection state, the individual switching means is switched so that both ends of the capacitive means have the same potential.
また、本発明のシリコン振動子の静電駆動方法は、
パルス電圧を複数のシリコン振動子に印加し、該シリコン振動子を変形しさせるシリコン振動子の静電駆動方法において、
前記シリコン振動子は、一端がそれぞれ個別スイッチング手段に接続され、
前記シリコン振動子を変形させるとき、前記シリコン振動子に前記パルス電圧を印加するよう、前記個別スイッチング手段を切り換え、
前記シリコン振動子を非変形状態にするとき、前記シリコン振動子の両端を同電位にするよう、前記個別スイッチング手段を切り換える
ことを特徴とする。
Further, the method of electrostatically driving the silicon vibrator of the present invention,
A pulse voltage is applied to a plurality of silicon vibrators, and in a method of electrostatically driving a silicon vibrator for deforming the silicon vibrator,
The silicon vibrator has one end connected to individual switching means,
When deforming the silicon oscillator, the individual switching means is switched so as to apply the pulse voltage to the silicon oscillator,
When the silicon vibrator is in a non-deformed state, the individual switching means is switched so that both ends of the silicon vibrator have the same potential.
また、本発明のシリコン振動子の静電駆動用半導体装置は、
一端が共通端子に接続され他端がそれぞれ個別端子に接続されるシリコン振動子に印加する駆動パルス電圧を制御し、第1の状態または第2の状態を制御するシリコン振動子の静電駆動用半導体装置において、
前記シリコン振動子の共通端子の電位を駆動パルス電圧側またはGND電位側に切り換える共通スイッチング手段と、
前記シリコン振動子の個別端子の電位を駆動パルス電圧側またはGND電位側にそれぞれ切り換える複数の個別スイッチング手段と、
前記シリコン振動子を変形させ第1の状態とするとき前記共通端子と前記個別端子のうち一方の電位を駆動パルス電圧側に接続し他方をGND電位側に接続し、前記シリコン振動子を第2の状態とするとき前記共通端子と前記個別端子とを同電位に接続するよう、前記共通スイッチング手段と前記個別スイッチング手段とを制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とする。
Further, the semiconductor device for electrostatically driving the silicon vibrator of the present invention,
For controlling the driving pulse voltage applied to the silicon vibrator having one end connected to the common terminal and the other end connected to the individual terminal, and controlling the first state or the second state for electrostatic driving of the silicon vibrator. In semiconductor devices,
Common switching means for switching a potential of a common terminal of the silicon oscillator to a driving pulse voltage side or a GND potential side;
A plurality of individual switching means for switching the potential of the individual terminal of the silicon vibrator to a drive pulse voltage side or a GND potential side;
When the silicon vibrator is deformed to the first state, one of the common terminal and the individual terminal is connected to a drive pulse voltage side, the other is connected to a GND potential side, and the silicon vibrator is connected to a second potential. Control means for controlling the common switching means and the individual switching means, so as to connect the common terminal and the individual terminal to the same potential when the state is set,
It is characterized by having.
以上説明したように、本発明によると、以下の効果を奏する。
(A)浮遊容量の影響を防止することができ、オフノズルからあやまってインク滴が吐出されることがなくなった。
(B)浮遊容量の影響を防止しつつ、振動板への電荷の蓄積を防止する簡単な駆動回路を実現した。
(C)同時吐出ノズル数が増大しても、印字が可能になった。
(D)各ノズル間の吐出特性が揃い、印字品質が向上した。
(E)CMOSICを用い、小型なインクジェットヘッドを提供できる。
(F)CMOSICの外部から駆動パルスを印加するため、ノイズの影響を防止し、印字品質が向上できる。
(G)共通スイッチング手段のオン抵抗を小さくしたため、駆動パルスを印加した後、放電するためにキャパシタをショートするとき、時定数が低下し、速く放電する。
(H)トランスミッションゲートを採用したため、双方向に電流を流すことができ、印加パルス電圧およびタイミングにかかわらず充放電を早くすることができる。
As described above, the present invention has the following effects.
(A) The influence of the floating capacity can be prevented, and the ink droplet is no longer ejected from the off nozzle.
(B) A simple driving circuit that prevents the accumulation of electric charge on the diaphragm while preventing the influence of the stray capacitance is realized.
(C) Printing became possible even when the number of simultaneous ejection nozzles increased.
(D) The ejection characteristics between the nozzles were uniform, and the printing quality was improved.
(E) A small-sized inkjet head can be provided by using a CMOS IC.
(F) Since the driving pulse is applied from outside the CMOS IC, the influence of noise can be prevented and the print quality can be improved.
(G) Since the on-resistance of the common switching means is reduced, when the capacitor is short-circuited for discharging after the application of the driving pulse, the time constant is reduced and the discharging is performed quickly.
(H) Since a transmission gate is employed, current can flow in both directions, and charging and discharging can be accelerated regardless of the applied pulse voltage and timing.
以下、本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
図1は、本発明に係るインクジェットヘッド10を搭載したインクジェット記録装置310の概観斜視図である。インクジェットヘッド10は、キャリッジ302に搭載され、プラテン300に巻かれた記録紙105に対し、インク滴を吐出する。キャリッジ302は、プラテン軸に平行に移動可能に配置されている。
インクジェットヘッド10は、インク供給チューブ306を介してインクタンク301よりインク供給される。もちろん、インクジェットヘッド10は、それ自身が、インクタンクを有し、インクタンクと一緒に交換可能にキャリッジ302に搭載されてもよい。
FIG. 1 is a schematic perspective view of an
The
インクキャップ304は、キャリッジ302のホームポジション近傍に設けられ、インクジェットヘッド10が長時間吐出しないときや、インク吐出不良が発生しインク吸引するとき、インクジェットヘッド10にキャップして、廃インク回収チューブ308を介して廃インク溜305に回収するために用いられる。廃インクを回収するとき、電動または手動のポンプ303を用いる。
The
図2は、インクジェットヘッド10の分解斜視図である。インクジェットヘッド10は、3枚の基板1、2、3を重ね合わせた積層構造をしている。
FIG. 2 is an exploded perspective view of the
中間の基板2は、シリコン基板をエッチングしてエッジノズル4、共通インク室8、各ノズルに連通するインク室6、オリフィス7、インク室の底壁を兼用する振動板5を有している。共通インク室8の近傍には、共通電極17を有している。シリコン基板2は、ホウ素をドープされ、抵抗率が約0.1Ω・cmの導体となっている。
The
絶縁性基板としてのホウ系酸ガラス基板1、3が、シリコン基板2を挟むように陽極接合される。陽極接合の方法としては、ガラス基板1とシリコン基板2とを温度300〜500℃、電圧500〜1000V印加することで行い、ガラス基板3とシリコン基板2との間も同様に陽極接合する。上側ガラス基板1の上方よりインク供給チューブ306、接続パイプ16、供給口14を介して、共通インク室8にインクが供給される。
(4) The borate-based
下側ガラス基板2には、振動板5に対向して個別電極31が端子部33、配線リード部32とともにITOにより配設されている。ITO31、32には、絶縁膜34が被覆されている。絶縁膜34は、ITO側ではなく、シリコン基板側に設けてもよい。インクジェットヘッドドライバ回路220から、共通電極17と個別電極31、31、にそれぞれ電気エネルギが印加される。
個別 On the
図3は、インクジェットヘッド10の側断面図である。図3のA−Aから見た平面図が、図4である。シリコン基板2のインク室6の底壁を兼ねる振動板5は、ガラス基板3上に設けられた個別電極31との間に間隙(空気)を介し、キャパシタを形成している。振動板5は、厚さ2μmである。間隙9(図2参照)は、シリコン基板2を両面からエッチングしてもよいし、シリコン基板2を底面からエッチングせず、シリコン基板2とガラス基板3との間にギャップ調整機構を設け、間隙をもたしてもよい。この間隙は、0.225μmである。インク滴13が、ノズル4から吐出され、記録紙105に記録される。なお、ノズル4は、シリコン基板2に設けるのではなく、ガラス基板1に設け、振動板5の振動によるインク滴をガラス基板1から吐出させてもよい。
FIG. 3 is a side sectional view of the
ドライバ回路220により、正の電圧パルスを吐出させたいノズルに連通するインク室に対向する個別電極に印加すると、個別電極の表面が正に、振動板5側の表面が負に帯電する。そのため、振動板は、静電気力によって吸引され、下方へたわむ。次に、個別電極へ印加している正電圧パルスをオフすると、振動板は元の位置に復帰し、インク室の内圧が急激に上昇し、ノズルからインク滴が吐出する。
(4) When the
図5は、本発明のインクジェット記録装置に用いられるインクジェットヘッドの駆動制御系を示すブロック図である。プリンタ制御回路201は、1チップマイクロコンピュータで構成され、アドレスバスおよびデータバスを含む内部バス202、203、204を介してRAM205、ROM206、CG(キャラクタジェネレータ)−ROM207が接続されている。ヘッド駆動制御回路210は、プリンタ制御回路201により制御され、ヘッドドライバ回路220に駆動選択信号SEL等を出力し、データバス211を介して印刷データDATAをヘッドドライバ回路220に出力する。ヘッドドライバ220に印加される駆動パルスVpは、ヘッド駆動制御回路210で形成される。
FIG. 5 is a block diagram showing a drive control system of the ink jet head used in the ink jet recording apparatus of the present invention. The
印刷データDATAはノズル数検出手段212に接続され、ノズル数検出手段212は、同時駆動ノズル数を検出し、検出信号を制御手段213に送出する。
制御手段213は、検出信号により、必要に応じて、ヘッド駆動制御回路210を制御し、ヘッドドライバ220に印加される駆動パルスVpのパルス形状や駆動タイミングの制御を行う。
The print data DATA is connected to the number-of-
The
ヘッドドライバ220は、CMOS−ICで構成され、インクジェットヘッド10上に一体的に設けてもよいし、FPC(フレキシブル基板)上に設け、インクジェットヘッド10とユニット化してもよい。
The
ヘッドドライバ220用CMOS−ICのブロック図を、図6に示す。このヘッドドライバ用CMOS−ICは、個別電極用(SEG)ドライバ61を64ビット有し、共通電極用(COM)ドライバ62を1ビット有している。64ドットのノズルを吐出させるときは、このCMOS−ICを1個使用すればよいし、128ドットのノズルを吐出させるときは、2個使用すればよい。
FIG. 6 is a block diagram of a CMOS-IC for the
ヘッド駆動制御回路210から出力された電圧値31V、立ち上がり2μs、幅14μs、立ち下がり1μs、周波数16kHz(それぞれTyp値)の駆動電圧パルスVpがVp端子に入力される。Vp端子から入力された駆動電圧パルスVpは、SEGドライバ61及びCOMドライバ62に接続される。記録データDATAは、バス211によりシリアルデータとして64ビット入力され、シリアル−パラレル変換回路64によりシリアル−パラレル変換されたあと、反転回路63を介してSEGドライバ61に入力される。反転回路63では、各ノズルデータとSELとのXOR(イクスクルーシブオア;排他的論理和)をSEGドライが61に出力する。ヘッド駆動制御回路210から出力された選択信号SELは、端子SELに入力され、反転回路63とCOMドライバ62に接続される。
(4) A drive voltage pulse Vp output from the head
COMドライバとnビットのSEGドライバの要部回路図を図7に示し、等価回路図を図8に示し、さらに共通トランジスタ、個別トランジスタのオン抵抗を考慮した等価回路図を図9に示す。 FIG. 7 shows a main circuit diagram of the COM driver and the n-bit SEG driver, FIG. 8 shows an equivalent circuit diagram, and FIG. 9 shows an equivalent circuit diagram in consideration of the on-resistance of the common transistor and the individual transistor.
図8において、COMドライバ62を3端子の共通スイッチS0、SEGドライバ61を3端子の個別スイッチS1、S2、、、Snで表しており、COM−SEG端子間に接続される振動板5−個別電極31間のキャパシタをC1、C2、、、Cnで表している。吐出させたいノズル番号をmとすると、キャパシタCmに対して共通スイッチS0側の電位と個別スイッチSm側の電位とを異ならせ、約31Vの電圧がキャパシタCmに印加されることを必要とする。
8, the
また、吐出させたくないノズル番号をkとすると、キャパシタCkには、共通スイッチS0側の電位と個別スイッチSk側の電位とを同電位とさせることが必要となる。同電位とすることにより、キャパシタCkを短絡したことになり、浮遊容量によるノイズの影響を防止でき、他の吐出ノズルへの駆動パルスによる吐出ミスが防止できる。 If the nozzle number that does not want to be ejected is k, the potential of the common switch S0 and the potential of the individual switch Sk must be the same in the capacitor Ck. By setting the same potential, the capacitor Ck is short-circuited, so that the influence of noise due to stray capacitance can be prevented, and ejection errors due to driving pulses to other ejection nozzles can be prevented.
図10(a)(b)を用いてキャパシタに印加される電圧波形について説明する。駆動パルス電圧Vpは、周波数16kHzで、VhとGNDを繰り返しヘッドドライバ220に入力される。図10(b)で、S0〜S2の波形のHは駆動電圧Vp側、LはGND側にそれぞれスイッチを切り換えることを示している。共通スイッチS0は、ヘッド駆動制御回路210から出力される選択信号SELにより、駆動パルス電圧Vpの半分の周波数で繰り返し駆動電圧Vp側とGND側とを切り換えられる。
電 圧 A voltage waveform applied to the capacitor will be described with reference to FIGS. The driving pulse voltage Vp is input to the
タイミングに応じて、個別スイッチS1〜Snの電位を切り換えるため、反転回路63とSEL信号及びDATA信号を用いる(図6参照)。
(4) The inverting
図10(a)に戻り、タイミング1において、ノズル1を非吐出とするため、共通スイッチS0及び個別スイッチS1をVp側とする。そのため、共通電極の電位VCOMとノズル1の個別電極電位VSEG1がVhで等しくなり、キャパシタ1は短絡状態となり、浮遊容量の影響を防止され、かつ、吐出しない。一方、ノズル2から吐出するため、個別スイッチS2をGND側とすると、ノズル2の共通電極側(振動板)に電位VCOM=Vhが印加され、ノズル2の個別電極側(個別電極)の電位VSEG2がGNDになり、キャパシタ2には、電位差Vhが印加されるため、吐出できる。
Returning to FIG. 10A, at
タイミング2において、ノズル1を非吐出とするため、共通スイッチS0及び個別スイッチS1をGND側とし、共通電極電位VCOMとノズル1の個別電極電位VSEG1がGNDで等しくなり、キャパシタ1は短絡状態となり、浮遊容量の影響を防止され、かつ、吐出しない。一方、ノズル2から吐出するため、個別スイッチS2をVp側とすると、ノズル2の共通電極側の電位がGND、個別電極側の電位VSEG2=Vhとなり、キャパシタ2には、電位差Vhが印加されるため、吐出できる。
At
図10(a)のタイミング3、4より、吐出するとき、キャパシタ1には、電位差Vhが印加されるが、VCOM−VSEG1は、タイミング3とタイミング4とで、電位が反転している。本発明においては、簡単な回路により、浮遊容量を防止しつつ、反転駆動回路を実現した。キャパシタ1〜nに反転電位を印加し電荷を中和するため、電荷の蓄積による振動板5のガラス基板1側への永久的なたわみを防止することができ、振動板5−個別電極31間の間隙を一定に保つことが可能になった。
よ り When discharging from
図2を参照し、シリコン基板2には金属べた部17が設けられている。従って、金属べた部17から各インク室への共通基板側の抵抗値は、シリコン基板の比抵抗を場所に応じて変化しないようにホウ素をドープすればノズル毎の抵抗値を等しくすることができる。また、ガラス基板3に設けられた個別リード部32、32、、の距離及び幅を各ノズルで等しくすることにより、ITOの抵抗値を各ノズルで等しくすることができる。また、振動板5、5のエッチング特性及び個別電極31、31の面積を等しくすることにより、各インク室のキャパシタのキャパシタンスを等しくすることができる。
を Referring to FIG. 2, a metal
よって、図9において、共通スイッチS0を駆動パルスVp側にしたときの共通ドライバのオン抵抗+シリコン基板抵抗をRO、GND側にしたときの共通ドライバのオン抵抗+シリコン基板抵抗をROとする(CMOS−ICのため、Nチャネル側のオン抵抗とPチャネル側のオン抵抗をほぼ等しいものとみなせ、個別ドライバも同様である)。また、振動板5−個別電極31間のキャパシタンスをCaとし、各インク室(各ノズル)で等しくできる。さらに、個別電極31、32、33を構成するITOの抵抗をRiとし、各ノズルで等しくできる。また、個別スイッチS1を駆動パルスVp側にしたときの個別ドライバのオン抵抗をR1、GND側にしたときの個別ドライバのオン抵抗をR1とする。CMOSICで集積化して形成するため、各個別ドライバのオン抵抗R1をほぼ等しくすることができる。
Accordingly, in FIG. 9, the on-resistance of the common driver + silicon substrate resistance when the common switch S0 is on the drive pulse Vp side is RO, and the on-resistance of the common driver + silicon substrate resistance when the common switch S0 is on the GND side is RO ( Because of the CMOS-IC, the on-resistance on the N-channel side and the on-resistance on the P-channel side can be regarded as substantially equal, and the same applies to the individual driver.) Further, the capacitance between the
よって、各インク室に印加されるパルス波形の時定数T(式1参照)が等しくなり、同一の波形でそれぞれ印加されるため、ノズル間でのインク吐出特性が同一になり、印字特性が向上する。 Therefore, the time constant T (see Equation 1) of the pulse waveform applied to each ink chamber becomes equal, and the pulse is applied with the same waveform, so that the ink ejection characteristics between the nozzles are the same, and the printing characteristics are improved. I do.
また、駆動パルスVpは、CMOSIC内部で作成せず、ヘッド駆動制御回路210等の外部で作成し、CMOSICに印加する。さらに、キャパシタを反転駆動するため、CMOSIC内部での共通スイッチS0、個別スイッチS1〜Snの切り換え周波数は、それぞれ駆動パルスVpの周波数の半分で済む。また、駆動パルスVpを外部で作成するため、CMOSIC内部での高電圧(約31V)の高速パルス(立ち上がり約2μs、立ち下がり約1μs)を作成する必要がない。従って、パルス波形にヒゲ等のノイズが発生することがなく、パルス波形が乱れず、キャパシタを正確に駆動することができる。
{Circle around (4)} The drive pulse Vp is not created inside the CMOS IC, but is created outside the head
図7の共通ドライバ62は、図14のようにトランスミッションゲートにすると、より望ましい。さらに、個別ドライバ61も図14のようにトランスミッションゲートを採用することが望ましい。図14において、SELをHにしておくと、トランジスタ141、142がオンし、Vpの電位によらず、Vp−COM間で双方向の電流を流すことができる。SELがHの間、パルスVpを印加すると、COM端子にはVpの電位がそのまま出力され、吐出ノズルに対し、パルスVpの立ち上がりでキャパシタを充電し、パルスVpの立ち下がりでキャパシタを放電する。SELがLの間、トランジスタ141、142はオフし、トランジスタ143がオンし、COM端子にはGND電位が出力される。SELをH−L切り換えるパルス幅内に駆動パルスVpのパルス幅を入れているため、外部で形成された駆動パルスVpの電位に応じて吐出キャパシタの充放電ができ、CMOSIC内で早いタイミングの切り換えを行う必要がない。そのため、キャパシタの充放電時間を早くすることができるとともに、CMOSIC内部でのタイミング切り換えに伴うノイズやパルス波形の乱れが生じない。また、オン抵抗を低減するため、図14の3つのトランジスタのサイズを大きくしている。
共通 It is more desirable that the
次に、多ノズル同時に印字駆動することを考える。この場合、式1における時定数T=(n・R0+Ri+R1)・Caは、小のままでないと、印加電圧波形がなまって印加電圧が小さくなり、吐出できなくなる。従って、時定数Tを小さくし、立ち上がり及び立ち下がりを速くするためには、同時駆動ノズル数n、R0(共通ドライバのオン抵抗+シリコン基板抵抗)、Ri(ITO抵抗)、R1(個別ドライバ側のオン抵抗)、キャパシタンスCaのそれぞれを小さくする必要がある。しかしながら、静電エネルギWは、キャパシタンス*(電圧の2乗)に比例し、電圧波形として、矩形波を用いるため、パルス幅tにも比例する。
Next, consider driving printing with multiple nozzles simultaneously. In this case, unless the time constant T = (n ・ R0 + Ri + R1) ・ Ca in
W∝C・V2・t・・・(式2)
従って、キャパシタンスCa、印加電圧Vaを小さくすると、インク滴が吐出しなくなってしまうため、キャパシタンスCaは、小さくできない。式1において、ノズル数nを大きくすると、n・Ca・R0の項が大きくなる。そのため、R0を小としておき、ノズル数nが大きくなっても、時定数Tがあまり大きくならないようにすることが必要となる。本出願人は、
n・Ca・R0≦(Ri+R1)・Ca・・・(式3)
とすることにより、ノズル数nが大きくなって時定数Tが大きくなっても、吐出できるという知見を得た。ここで、ノズル数n=64、キャパシタンスCa=25pF、個別電極側ITO抵抗Ri=3kΩ、個別ドライバオン抵抗R1=3kΩとしたとき、R0(共通ドライバオン抵抗+シリコン基板抵抗)=93Ωとすれば、吐出できる。シリコン基板抵抗が、約50Ωあるため、CMOSIC内部の共通ドライバのオン抵抗を43Ω以下とすれば、吐出可能である。そのため、CMOSIC内部の共通ドライバのトランジスタサイズを個別ドライバのトランジスタサイズの64倍以上の面積とした。共通ドライバのオン抵抗を低減する観点からはトランジスタサイズは大きければ大きいほどよい。しかし、トランジスタサイズを大きくしすぎると、集積化の点、製造上(歩留まり)の点から不利であるため、本実施形態では、ICのチップサイズが約4.7*4.1(mm)となるようにしてある。
W∝C · V 2 · t (Equation 2)
Therefore, if the capacitance Ca and the applied voltage Va are reduced, the ink droplets will not be ejected, so that the capacitance Ca cannot be reduced. In
n · Ca · R0 ≦ (Ri + R1) · Ca (Equation 3)
Thus, it has been found that ejection can be performed even when the number of nozzles n increases and the time constant T increases. Here, when the number of nozzles n = 64, the capacitance Ca = 25 pF, the individual electrode side ITO resistance Ri = 3 kΩ, and the individual driver ON resistance R1 = 3 kΩ, if R0 (common driver ON resistance + silicon substrate resistance) = 93Ω. Can be discharged. Since the silicon substrate resistance is about 50Ω, the discharge can be performed if the on-resistance of the common driver in the CMOS IC is set to 43Ω or less. Therefore, the transistor size of the common driver in the CMOS IC is set to be 64 times or more the transistor size of the individual driver. From the viewpoint of reducing the on-resistance of the common driver, the larger the transistor size, the better. However, if the transistor size is too large, it is disadvantageous in terms of integration and manufacturing (yield). Therefore, in this embodiment, the IC chip size is about 4.7 * 4.1 (mm). It has become.
また、共通スイッチS0のオン抵抗R1を小さくしたため、キャパシタの充電時間を早めることができる。さらに、駆動パルスを印加した後、浮遊容量の影響を防止し、かつ、放電するためにキャパシタをショートするとき、時定数Tが小さいため、速く放電することができる。その結果、電荷の蓄積時間が短くなり、永久的なたわみが少なくなるとともに、残留電荷が少なくなるため、次の駆動パルス電圧の充電時間も短くなり、駆動周波数を高くできる。 (4) Since the on-resistance R1 of the common switch S0 is reduced, the charging time of the capacitor can be shortened. Furthermore, after applying the drive pulse, when the capacitor is short-circuited for preventing the influence of the stray capacitance and discharging, the discharge can be performed quickly because the time constant T is small. As a result, the charge accumulation time is reduced, permanent deflection is reduced, and the residual charge is reduced, so that the charging time of the next drive pulse voltage is also reduced, and the drive frequency can be increased.
ここで、R0を小さくしない場合を考える。図11に、本発明において用いた駆動パルス波形を示す。(1)はパルスの立ち上がり時間であり、容量性手段である吐出インク室への充電カーブ、(2)はパルス頂上での幅、(3)はパルスの立ち下がり時間であり、放電カーブ、(4)はパルス電圧値、(5)は各パルスの印加タイミング、をそれぞれ示す。(1)の充電カーブの傾きが寝るほど、電流量を下げ、ドライバのオン抵抗による電圧降下を防止することができる。また、(3)の放電カーブも(1)の充電カーブと同様の効果を奏する。(1)〜(5)のパルス波形を形成する部分をそれぞれ変化させることにより、吐出ノズル数に応じた制御が可能になる。 Here, consider a case where R0 is not reduced. FIG. 11 shows a drive pulse waveform used in the present invention. (1) is the rise time of the pulse, the charge curve to the discharge ink chamber which is a capacitive means, (2) is the width at the top of the pulse, (3) is the fall time of the pulse, the discharge curve, ( 4) shows the pulse voltage value, and (5) shows the application timing of each pulse. The more the slope of the charging curve in (1) falls, the lower the amount of current can be, and the voltage drop due to the on-resistance of the driver can be prevented. The discharge curve of (3) has the same effect as the charge curve of (1). By changing the portions forming the pulse waveforms (1) to (5), control according to the number of ejection nozzles becomes possible.
また、ノズル数nを検出し、吐出ノズル数nに応じて印加電圧Vhの大きさ(図11の(4))を変化させることにより、吐出特性を向上することができる。式2の印加静電エネルギが、吐出エネルギに比例するので、吐出エネルギは電圧の2乗で効いてくる。ところが、式1より、nが大きくなると、パルス波形の立ち上がりが遅くなり、印加電圧が小さくなってしまう。よって、ノズル数検出手段212(図5参照)により、印字データDATAの同時吐出ノズル数nを検出し、nが所定の値以上であれば、制御手段213に信号を送出し、制御手段213は、ヘッド駆動制御回路210の駆動パルス出力Vpの電圧値Vhを大きくするよう制御する。図12(a)において、吐出ノズル数1のとき、電圧値V1のパルスを印加し、一方、吐出ノズル数32のとき、電圧値V2(>V1)を印加し、吐出ノズル数nが大きくなるときの各インク室への印加電圧が小さくなる分を補償した。
(4) The ejection characteristics can be improved by detecting the number n of nozzles and changing the magnitude of the applied voltage Vh ((4) in FIG. 11) according to the number n of ejection nozzles. Since the applied electrostatic energy of
また、印加パルス幅(図11の(2))を変化させることによって、ノズル数nの増大による吐出特性の劣化を防止することもできる。上述したように、式2における印加静電エネルギが吐出エネルギに比例し、吐出エネルギはパルス幅で効いてくる。よって、ノズル数nを検出し、吐出ノズル数nに応じて印加パルス幅Pwを変化させることにより、吐出特性を向上することができる。本発明では、ノズル数検出手段212により、印字データDATAの同時吐出ノズル数nを検出し、nが所定の値以上であれば、制御手段213に信号を送出し、制御手段213は、ヘッド駆動制御回路210の駆動パルス出力Vpのパルス幅Pwを大きくするよう制御する。図12(b)において、吐出ノズル数1のとき、パルス幅Pw1のパルスを印加し、一方、吐出ノズル数32のとき、パルス幅Pw2(>Pw1)のパルスを印加し、吐出ノズル数nが大きくなるときの各インク室への印加電圧が小さくなる分を、電圧値Vhをそのままでパルス幅を変化させることにより補償した。
{Circle around (2)} By changing the applied pulse width ((2) in FIG. 11), it is also possible to prevent the ejection characteristics from deteriorating due to an increase in the number n of nozzles. As described above, the applied electrostatic energy in
もちろん、ノズル数検出手段212が検出するノズル数nに応じ、図12(a)における電圧値を逐一アナログ的に変化させ、または、図12(b)におけるパルス幅を逐一アナログ的に変化させる方が望ましい。
Of course, according to the number n of nozzles detected by the number-of-
また、吐出ノズル数nが大きくなったとき、インク室(キャパシタ)に同時に印加されるパルスをずらし、見かけ上同時駆動パルス数を小さくすることにより、印加電圧の低下を防止する方法(図11の(5))を図13により説明する。ノズル数検出手段212(図5)により、同時吐出ノズル数が50個であり、ノズル番号1〜50を同時に吐出するものとする。そのとき、共通スイッチS0のオン時間を長くし、個別スイッチS1〜S25と、個別スイッチS26〜S50とを同時にオンするタイミングを共通スイッチS0のオン時間の間でずらす。タイミングをずらし制御するために、ノズル数検出手段212の検出出力を制御手段213に送出し、ヘッド駆動制御回路210は、制御手段213の信号を受け、SEL信号タイミングを制御し、ヘッドドライバ220に出力する。よって、駆動パルスのインク室への同時印加数が半分の25個となるため、時定数Tがあまり小さくならず、同時吐出が可能になる。タイミングのずらし方は、遅延回路を使用するなど、種種採用できる。
Further, when the number n of the ejection nozzles increases, the method of preventing the drop of the applied voltage (FIG. 11) by shifting the pulses simultaneously applied to the ink chambers (capacitors) and apparently reducing the number of simultaneous drive pulses. (5)) will be described with reference to FIG. It is assumed that the number of simultaneous ejection nozzles is 50 and the
また、共通スイッチのオン抵抗R0を小さくするだけでなく、個別電極の配線抵抗Ri、個別スイッチのオン抵抗R1を小さくすることも、多数ノズル同時駆動のためにより有効である。さらに、R0を小さくし、かつ吐出ノズル数に応じてパルス電圧の大きさまたはパルス幅を変化させることもより有効である。
In addition to reducing the on-resistance R0 of the common switch, reducing the wiring resistance Ri of the individual electrode and the on-resistance R1 of the individual switch is more effective for simultaneous driving of a large number of nozzles. Further, it is more effective to reduce R0 and change the magnitude or pulse width of the pulse voltage according to the number of ejection nozzles.
2・・・・シリコン基板
3・・・・ガラス基板
5・・・・振動板
10・・・インクジェットヘッド
17・・・共通電極(金属べた部)
31・・・個別電極
32・・・個別リード部
61・・・SEGドライバ
62・・・COMドライバ
210・・ヘッド駆動制御回路
212・・ノズル数検出手段
213・・制御手段
220・・ヘッドドライバ用CMOSIC
2,
31
Claims (3)
前記容量性手段は、一端がそれぞれ個別スイッチング手段に接続され、
前記容量性手段を変形させ吐出させるとき、前記容量性手段に前記パルス電圧を印加するよう、前記個別スイッチング手段を切り換え、
前記容量性手段を非変形状態にし非吐出状態にするとき、前記容量性手段の両端を同電位にするよう、前記個別スイッチング手段を切り換える
ことを特徴とするインクジェットヘッドの駆動方法。 Applying a pulse voltage to a plurality of capacitive means, deforming the capacitive means, ejecting ink droplets from each nozzle, and performing a method of driving an inkjet head for performing recording.
The capacitive means has one end connected to the individual switching means,
When the capacitive means is deformed and ejected, the individual switching means is switched so as to apply the pulse voltage to the capacitive means,
The method of driving an ink-jet head, wherein the individual switching means is switched so that both ends of the capacitive means have the same potential when the capacitive means is in a non-deformed state and in a non-ejection state.
前記シリコン振動子は、一端がそれぞれ個別スイッチング手段に接続され、
前記シリコン振動子を変形させるとき、前記シリコン振動子に前記パルス電圧を印加するよう、前記個別スイッチング手段を切り換え、
前記シリコン振動子を非変形状態にするとき、前記シリコン振動子の両端を同電位にするよう、前記個別スイッチング手段を切り換える
ことを特徴とするシリコン振動子の静電駆動方法。 A pulse voltage is applied to a plurality of silicon vibrators, and in a method of electrostatically driving a silicon vibrator for deforming the silicon vibrator,
The silicon vibrator has one end connected to individual switching means,
When deforming the silicon oscillator, the individual switching means is switched so as to apply the pulse voltage to the silicon oscillator,
When the silicon vibrator is in a non-deformed state, the individual switching means is switched so that both ends of the silicon vibrator have the same potential.
前記シリコン振動子の共通端子の電位を駆動パルス電圧側またはGND電位側に切り換える共通スイッチング手段と、
前記シリコン振動子の個別端子の電位を駆動パルス電圧側またはGND電位側にそれぞれ切り換える複数の個別スイッチング手段と、
前記シリコン振動子を変形させ第1の状態とするとき前記共通端子と前記個別端子のうち一方の電位を駆動パルス電圧側に接続し他方をGND電位側に接続し、前記シリコン振動子を第2の状態とするとき前記共通端子と前記個別端子とを同電位に接続するよう、前記共通スイッチング手段と前記個別スイッチング手段とを制御する制御手段と、
を備えたことを特徴とするシリコン振動子の静電駆動用半導体装置。
For controlling the driving pulse voltage applied to the silicon vibrator having one end connected to the common terminal and the other end connected to the individual terminal, and controlling the first state or the second state for electrostatic driving of the silicon vibrator. In semiconductor devices,
Common switching means for switching a potential of a common terminal of the silicon oscillator to a driving pulse voltage side or a GND potential side;
A plurality of individual switching means for switching the potential of the individual terminal of the silicon vibrator to a drive pulse voltage side or a GND potential side;
When the silicon vibrator is deformed to the first state, one of the common terminal and the individual terminal is connected to a drive pulse voltage side, the other is connected to a GND potential side, and the silicon vibrator is connected to a second potential. Control means for controlling the common switching means and the individual switching means, so as to connect the common terminal and the individual terminal to the same potential when the state is set,
A semiconductor device for electrostatically driving a silicon vibrator, comprising:
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