JP2004022767A - Wafer transporter - Google Patents
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Abstract
Description
【発明の属する分野】
本発明は、半導体の製造工程に於いて、複数枚のウエハを一度に搬送する際に用いられるバッチ式ウエハ搬送装置に関するものである。
【従来の技術】
半導体の製造工程に於いて、複数枚のウエハを一度に把持搬送を行うウエハ搬送装置には特開平6−310585号公報のようなウエハを保持するフォークを固定したブラケットを複数個積み重ね、ネジ止めをする方式のものが知られている。前記方式の装置は、フォークを取り付けたブラケットを位置決めピンにより位置決めを行い、積み重ねてネジ止めを行うように構成され、調整機構を持たない装置であるため、ブラケットの加工精度にばらつきが有った場合、フォークに傾きや、フォーク間ピッチがばらつき、ウエハカセット内にフォークが侵入する際にウエハに干渉する等の問題が発生してしまうため、非常に高精度に加工された部品が要求される。
また上記公報の他に、特開平7−153817号公報のように、フォークを調整しながら一段ずつ組み付け、複数段積み上げ取り付けを行う装置が知られている。前記構成の装置は、何らかの原因でフォークの調整にずれが生じ、再調整を必要とする場合、ずれが生じた段まで分解を行い分解した全ての段について再度一段ずつ調整をおこなわなければならず、再調整に非常に多くの工数を必要とし、簡単にメンテナンスする事が困難であった。
前記問題の他にフォークには、ウエハが複数枚収納されるウエハカセット内にウエハに干渉することなく侵入するために薄さが求められるうえに、昨今のウエハ製造技術の進歩によるウエハの大径化により、大径ウエハの保持が可能なフォークが求められ、フォークが大型且つ薄型なものとなるため、フォーク自体に捻れや加工による歪みが生じやすく、装置組み付け時の調整を非常に困難なものにしていた。
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、多段に組み付けされるフォークの組み付け及びピッチ調整を容易に行うことが可能なバッチ式ウエハ搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段及び作用】
本発明は、前記した課題を解決するための手段として、ウエハ把持部を左右対称のフォーク要素と、該フォーク要素を取り付けた略水平方向に離れて配置されたベースと、ベースが取り付けられるフレームより構成し、フレーム内に多段に配設した複数のベースが独立した状態で揺動することが可能となるように位置決めピンで支持し、フォークのピッチ調整完了後に固定ボルトにてベースをフレームに固定するものとした。
左右対称のフォーク要素が取り付けられた略水平方向に離れて配設されたベースを独立した状態で揺動することが可能な装置構成としたことで、組み付け後に各フォークの傾き調整を行うことが可能となった。
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施例のバッチ式ウエハ搬送装置は、フレーム3とフレーム3内に多段に配設される略水平方向に離れて配設した状態でフレーム3に取り付けられたべース2と、各ベースに固定された左右対称のフォーク要素1より構成されている。
フレーム3は、サイドプレート5、トッププレート4、ベースプレート7、バックプレート6の組み合わせにより構成されている。サイドプレート5には、ベース2を固定するための固定ボルトを通す貫通孔と、位置決めピン8がフレーム3の内側に突出した状態で配設されている。
略水平方向に離れて配設した状態でフレーム3に取り付けられたベース2のサイドプレート5と接する面には、ベース2とサイドプレート5を固定する為のネジ穴と、位置決めピン用の穴が設けられ、フレーム3の内壁面に突出した状態に取り付けられた位置決めピン8が挿入され、ベース2が位置決めピン8を支点に揺動可能に支持された状態で、固定ボルト9によりフレーム3に固定されている。
略水平方向に離れて配設した状態で取り付けられたベース2にはウエハを支持するフォーク要素1がフレームより突出した状態に取り付けられている。
フォーク要素1の、ベース側にはウエハの受座10が装着され、先端部にはウエハを把持するための固定爪11が装着されている。
次にフォークの調整方法について述べる。
ベース2を固定しているフレーム側面の固定ボルト9を緩めると、フレーム3に設けられた固定ボルト9を通すための貫通孔の直径が、通常設けられる貫通孔の直径に較べ若干大きく設定されているため、フォーク要素1が取り付けられたベース2を位置決めピン8を支点として揺動させることが可能となり、貫通孔の直径と固定ボルト9の直径の差により生じるベース2の揺動範囲内においてフォークの傾き及びピッチ調整を行い、調整完了後に固定ボルト9を絞め再度ベースをフレーム3に固定し調整を完了する。
【発明の効果】
本発明のバッチ式ウエハ搬送装置は、ウエハ把持部を左右対称のフォーク要素と、該フォーク要素を取り付けた略水平方向に離れて配置されたベースと、ベースが取り付けられるフレームより構成し、フレーム内に多段に配設した複数のベースが独立した状態で揺動することができ、組み付け後にフォークの調整を可能としたことで一段づつ調整を行いながら多段に組み付けを行う従来方法と異なり組み付け時間を大幅に短縮する事が可能となった。また、各ベースを独立した状態で揺動させることが可能な装置構成であるため、中間位置に配設されたフォークの再調整が必要となった場合、ずれが生じた段まで分解し、分解した全ての段について再度一段ずつ調整を行わなければならない従来方式と異なり再調整の必要なフォークのみ調整すれば良く、メンテナンス性に優れた装置構成となっているうえに、独立した状態で揺動可能なベースを個々に調整しフレームに固定していく構成のため、ベースを積み重ねる従来方式と異なり高精度な加工を必要とせず、安価に製作することが可能となった。
更に、フォークをツーピース化し、各フォーク要素ごとに位置調整可能な装置構成としたことにより、一体型かつ大型のフォークに生じやすい捻れや加工歪みの問題を解消することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施例の側面図
【図2】トッププレートを外した状態の上面図
【図3】トッププレートとフォーク要素を取り外した状態の上面図
【図4】従来例を示す断面図
【符号の説明】
1フォーク要素
2ベース
3フレーム
4トッププレート
5サイドプレート
6バックプレート
7ベースプレート
8位置決めピン
9固定ボルト
10受座
11固定爪[Field of the Invention]
The present invention relates to a batch-type wafer transfer device used to transfer a plurality of wafers at once in a semiconductor manufacturing process.
[Prior art]
In a semiconductor manufacturing process, a plurality of brackets to which a fork holding a wafer is fixed are stacked in a wafer transfer device for holding and transferring a plurality of wafers at a time at a time, as described in JP-A-6-310585, and screwed. Is known. The apparatus of the above-described method is configured to position the brackets to which the forks are attached by the positioning pins, and to stack and fix the forks with screws. Since the apparatus has no adjustment mechanism, the processing accuracy of the brackets varies. In this case, the inclination of the forks and the pitch between the forks vary, causing problems such as interference with the wafers when the forks enter the wafer cassette. Therefore, components processed with extremely high precision are required. .
In addition to the above-mentioned publications, there is also known an apparatus, as described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-153817, in which a fork is adjusted one by one and assembled in a plurality of stages. In the device having the above-described configuration, when the adjustment of the fork occurs for some reason and the readjustment is required, the fork must be disassembled to the stage where the misalignment has occurred, and all the disassembled stages must be adjusted one by one again. However, re-adjustment requires a very large number of man-hours, making it difficult to easily maintain.
In addition to the above problems, the fork needs to be thin in order to penetrate into a wafer cassette in which a plurality of wafers are stored without interfering with the wafers. The demand for a fork capable of holding large-diameter wafers is increasing, and the fork becomes large and thin, so that the fork itself is likely to be twisted or distorted due to processing, and it is very difficult to adjust when assembling the device. I was
[Problems to be solved by the invention]
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and has as its object to provide a batch-type wafer transfer device capable of easily assembling and adjusting a pitch of forks to be assembled in multiple stages.
Means and Action for Solving the Problems
The present invention, as means for solving the above-mentioned problems, comprises a wafer gripping portion, a symmetrical fork element, a base, which is attached to the fork element, and which is disposed in a substantially horizontal direction, and a frame to which the base is mounted. Constructed and supported by positioning pins so that multiple bases arranged in multiple stages in the frame can swing independently, and after the pitch adjustment of the fork is completed, the base is fixed to the frame with fixing bolts To do.
By adopting a device configuration in which the symmetrically-mounted fork element is attached and the base that is arranged in a substantially horizontal direction and can swing independently can be adjusted, the inclination of each fork can be adjusted after assembly. It has become possible.
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
The batch-type wafer transfer device of the present embodiment includes a frame 3 and a
The frame 3 includes a combination of a
A screw hole for fixing the
A
A wafer receiving seat 10 is mounted on the base side of the
Next, a method of adjusting the fork will be described.
When the
【The invention's effect】
The batch-type wafer transfer device of the present invention is configured such that the wafer gripping portion includes a symmetrical fork element, a base to which the fork element is attached, which is disposed in a substantially horizontal direction, and a frame to which the base is attached. The multiple bases arranged in multiple stages can swing independently and the fork can be adjusted after assembly. It became possible to greatly shorten. In addition, since each base can be rocked independently, if the fork located in the middle position needs to be readjusted, it will be disassembled to the stage where the misalignment occurs, and disassembled. Unlike the conventional method, in which all steps must be adjusted one by one again, only the forks that require re-adjustment need to be adjusted, and the equipment configuration is excellent in maintainability and swings independently. Since the possible bases are individually adjusted and fixed to the frame, unlike the conventional method in which the bases are stacked, high-precision processing is not required, and it has become possible to manufacture the base at low cost.
Furthermore, by using a two-piece fork and a device configuration capable of adjusting the position of each fork element, it has become possible to solve the problems of twisting and processing distortion that are likely to occur in an integrated large sized fork.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a side view of the present embodiment. FIG. 2 is a top view with a top plate removed. FIG. 3 is a top view with a top plate and a fork element removed. FIG. 4 is a cross-sectional view showing a conventional example. Explanation of code]
1
Claims (1)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002175090A JP2004022767A (en) | 2002-06-14 | 2002-06-14 | Wafer transporter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002175090A JP2004022767A (en) | 2002-06-14 | 2002-06-14 | Wafer transporter |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004022767A true JP2004022767A (en) | 2004-01-22 |
Family
ID=31173843
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002175090A Pending JP2004022767A (en) | 2002-06-14 | 2002-06-14 | Wafer transporter |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2004022767A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012141067A1 (en) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | タツモ株式会社 | Wafer exchange device and hand for wafer support |
-
2002
- 2002-06-14 JP JP2002175090A patent/JP2004022767A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2012141067A1 (en) * | 2011-04-15 | 2012-10-18 | タツモ株式会社 | Wafer exchange device and hand for wafer support |
CN103493193A (en) * | 2011-04-15 | 2014-01-01 | 龙云株式会社 | Wafer exchange device and hand for wafer support |
JPWO2012141067A1 (en) * | 2011-04-15 | 2014-07-28 | タツモ株式会社 | Wafer changer and wafer support hand |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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