JP2003523986A - Method for adjusting raw material concentration in gas phase contact reaction process, method for controlling reaction process by the method, and method for producing lower fatty acid or lower fatty acid ester using the control method - Google Patents

Method for adjusting raw material concentration in gas phase contact reaction process, method for controlling reaction process by the method, and method for producing lower fatty acid or lower fatty acid ester using the control method

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JP2003523986A
JP2003523986A JP2001561710A JP2001561710A JP2003523986A JP 2003523986 A JP2003523986 A JP 2003523986A JP 2001561710 A JP2001561710 A JP 2001561710A JP 2001561710 A JP2001561710 A JP 2001561710A JP 2003523986 A JP2003523986 A JP 2003523986A
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Japan
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fatty acid
raw material
lower fatty
concentration
catalyst
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英敏 後藤
滋 畑中
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Showa Denko KK
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Showa Denko KK
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Abstract

(57)【要約】 リサイクル系を有する気相接触反応プロセスにおける反応器に供給するガス中の原料濃度の調整において、当該プロセスのガス中の原料濃度を測定し、その測定した値により当該プロセスへ新たに追加する原料の供給量を定めて供給し、その結果反応器へ供給するガス中の原料濃度を制御することを含む原料濃度の調整方法、及び該調整方法による反応プロセスの制御方法。 (57) [Summary] In the adjustment of the raw material concentration in the gas supplied to the reactor in the gas phase catalytic reaction process having a recycling system, the raw material concentration in the gas of the process is measured, and the measured value is used to control the process. A method for adjusting the concentration of a raw material including controlling the concentration of a raw material in a gas supplied to a reactor as a result of determining and supplying a supply amount of a newly added raw material, and a method of controlling a reaction process by the adjusting method.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】 (関連出願の記述) この出願は、米国コード35の111条(b)に従って2000年12月21
日に提出された米国仮出願第60/256,914号の出願日の、米国コード3
5の119条(e)(1)に従う、利益を主張する、米国コード35の111条
(a)に基づく出願である。 (技術分野) 本発明は、気相接触反応プロセスにおける原料濃度の調整方法及び該調整方法
による反応プロセスの制御方法、並びに該制御方法を用いた低級脂肪酸又は低級
脂肪酸エステルの製造方法に関する。
Description of Related Application This application is filed on December 21, 2000 in accordance with US Code 35, section 111 (b).
US Code 3 on the filing date of US Provisional Application No. 60 / 256,914 filed
No. 5, 119 (e) (1), an application pursuant to US Code 35, section 111 (a), claiming benefit. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for adjusting a raw material concentration in a gas phase catalytic reaction process, a method for controlling the reaction process by the adjusting method, and a method for producing a lower fatty acid or a lower fatty acid ester using the method.

【0002】 さらに詳しくは、気相接触反応を行う反応器を通過後の未反応原料を含むガス
に新たな原料を追加供給し、このガスを再度反応器へ戻す、いわゆるリサイクル
系を有する気相接触反応プロセスにおいて、プロセス中の任意の場所で測定され
たガス中の原料濃度を基準として新たな原料の供給量を決定し、結果として反応
器へ供給するガス中の原料濃度を調整する方法、及び該調整方法により反応プロ
セスそのものを安定に制御する方法、並びに該制御方法を用いた低級脂肪酸又は
低級脂肪酸エステルの製造方法に関する。 (背景技術) 気相接触反応形式の反応を行う反応器を用いるプロセスでは、反応器に供給す
るガスが反応器を一度通るだけで、そのガス中の原料のすべてが反応し、目的物
質を得ることが可能な事例は無い。特に、2種以上の原料を用いる場合、反応に
おける原料の転化率や目的物質への選択率といった反応成績の向上或いは反応の
安定制御を目的として、1種以上の原料を反応が必要とする理論量以上に過剰に
用いることがある。このような場合、通常では過剰に用いた原料を回収し、再利
用することがプロセス実施の経済性上必須である。
More specifically, a gas phase having a so-called recycle system in which a new raw material is additionally supplied to a gas containing an unreacted raw material after passing through a reactor for carrying out a gas phase catalytic reaction and the gas is returned to the reactor again. In the catalytic reaction process, a method for determining the feed amount of a new raw material on the basis of the raw material concentration in the gas measured at any place in the process, and consequently adjusting the raw material concentration in the gas to be supplied to the reactor, And a method for stably controlling the reaction process itself by the adjusting method, and a method for producing a lower fatty acid or a lower fatty acid ester using the controlling method. (Background Art) In a process using a reactor that performs a gas-phase catalytic reaction type reaction, a gas supplied to the reactor passes through the reactor only once, and all raw materials in the gas react to obtain a target substance. There is no possible case. In particular, when two or more raw materials are used, the theory that the reaction requires one or more raw materials for the purpose of improving the reaction results such as the conversion rate of the raw materials in the reaction or the selectivity to the target substance or stabilizing the reaction. It may be used in excess of the amount. In such a case, it is usually essential from the economical aspect of the process to collect and reuse the excessively used raw material.

【0003】 そのために、気相接触反応形式の反応を行う反応器を用いるプロセスは、原料
を含むガスが反応器を通過した後に目的物質を分離し(必要なら精製した後に)
、未反応の原料を含むガスに新たな原料を追加供給してガス中の原料の濃度を調
整した後に、このガスを再び反応器に戻して反応させる、いわゆるリサイクル系
を有するのが一般的である。
Therefore, a process using a reactor for carrying out a reaction of a gas phase catalytic reaction is such that a target substance is separated (after purification if necessary) after a gas containing a raw material passes through the reactor.
It is common to have a so-called recycle system in which a new raw material is additionally supplied to a gas containing unreacted raw material to adjust the concentration of the raw material in the gas and then this gas is returned to the reactor for reaction. is there.

【0004】 このような反応プロセスにおける制御、すなわち反応成績の維持あるいは反応
の安定化等のためには、種々の反応条件等のいわゆる「プロセスの運転条件」の
制御が必要である。なかでも反応器へ供給するガス中の原料濃度と組成比、そし
て系内、特に反応器内の圧力の制御が重要である。
In order to control in such a reaction process, that is, to maintain the reaction results or stabilize the reaction, it is necessary to control so-called “process operating conditions” such as various reaction conditions. Above all, it is important to control the concentration and composition ratio of the raw materials in the gas supplied to the reactor, and the pressure in the system, particularly in the reactor.

【0005】 一般に、気相接触反応のプロセスにおいては、反応に無関係な、いわゆる「イ
ナート物」の存在を無視することができない。
Generally, in the process of gas-phase catalytic reaction, the presence of so-called “inert substances” unrelated to the reaction cannot be ignored.

【0006】 一般にイナート物には 1)反応で副生した目的外物質 2)原料自体に不純物として含まれる物質 3)反応制御のために原料濃度を調節する目的で添加した不活性ガス 等が含まれると考えられる。[0006]   Generally for inert materials   1) Unwanted substances by-produced in the reaction   2) Substances contained in the raw material itself as impurities   3) Inert gas added for the purpose of controlling the concentration of raw materials for controlling the reaction Etc. are considered to be included.

【0007】 これらの目的外物質、不純物、不活性ガスは、前述のリサイクル系を有する反
応プロセスにおいてリサイクル操作を繰り返すことにより系内に蓄積していき、
反応の観点からは原料の濃度を相対的に低下させ、また系内の圧力を上昇させる
要因となる。
These unintended substances, impurities, and inert gases accumulate in the system by repeating the recycling operation in the reaction process having the above-mentioned recycling system,
From the viewpoint of the reaction, it becomes a factor of relatively lowering the concentration of the raw materials and raising the pressure in the system.

【0008】 そこで、リサイクル系を有する反応プロセスにおいてはイナート物を系外へ排
出して系内の圧力の上昇を抑えることを目的の1つとする、系内のガスの一部を
系外に放出する、いわゆる「パージ操作」が行われる。
Therefore, in a reaction process having a recycle system, one of the purposes is to discharge the inert substances to the outside of the system to suppress an increase in the pressure inside the system, and to release part of the gas inside the system to the outside of the system. A so-called "purge operation" is performed.

【0009】 リサイクル系を有する反応プロセスにおけるパージ操作のもう1つの目的とし
ては、反応で消費された原料を新たに追加する際にその供給量を制御し、ひいて
は反応器へ供給するガス中の原料濃度の調整を行い、その結果反応プロセスその
ものを制御することが挙げられる。
Another purpose of the purging operation in the reaction process having a recycle system is to control the supply amount of the raw material consumed in the reaction when the raw material is newly added, and thus to control the feed amount of the raw material in the gas supplied to the reactor. One way to do this is to adjust the concentration and consequently control the reaction process itself.

【0010】 このような、パージ操作により系内の圧力上昇を抑え、同時に原料濃度の調整
を行うプロセスの例は非常に多い。なかでも「計装システムの基礎と応用(千本
資、花渕 太 著)株式会社 オーム社 平成5年10月20日 第1版第9
刷発行」530ページ〜531ページに記載の「第9章 プロセスユニットの制
御(応用I)第6項(e)リサイクル反応系の制御」がその具体例として挙げら
れる。
There are very many examples of such a process in which the pressure increase in the system is suppressed by the purging operation and the raw material concentration is adjusted at the same time. Among them, “Basics and Applications of Instrumentation Systems (by Shigemoto Senbon and Taita Hanabuchi) Ohmsha Co., Ltd. October 20, 1993, 1st edition, 9th edition
As a specific example thereof, "printing issue", pages 530 to 531, "Chapter 9 Process Unit Control (Application I), Item 6 (e) Recycle Reaction System Control" can be mentioned.

【0011】 この刊行物の総説によれば、リサイクル系を有するプロセスでは、パージ操作
で放出するガス量(以下、「パージ量」という)は、系内のイナート物の濃度が
一定に維持されるように濃度調節計の値により定める、あるいは系内の圧力上昇
はイナート物の増加であると解釈し、前述の濃度調節計に代えて圧力調節計を用
い、その値により定める、ということが記述されている。
According to the review article of this publication, in a process having a recycle system, the amount of gas released in the purging operation (hereinafter, referred to as “purge amount”) keeps the concentration of inert substances in the system constant. As described above, the value is determined by the value of the concentration controller, or the pressure increase in the system is interpreted as an increase in inert substances, and the pressure controller is used instead of the above-mentioned concentration controller, and it is determined by the value. Has been done.

【0012】 前者の場合は、ガス中のイナート物の濃度が上昇したことを濃度調節計が検知
した場合、パージ量を増やす方向に操作を行なう。するとイナート物の排出が促
進され系内のイナート物の濃度は徐々に低下する。同時にパージ量の増加は系内
の圧力が下がる方向の操作でもあることから系内への新たな原料の追加供給が行
われ、結果としてガス中の原料の濃度が上昇する。
In the former case, when the concentration controller detects that the concentration of the inert substance in the gas has risen, the purge amount is increased. Then, the discharge of the inert material is promoted and the concentration of the inert material in the system gradually decreases. At the same time, since the increase in the purge amount is also an operation in the direction of decreasing the pressure in the system, new raw material is additionally supplied into the system, resulting in an increase in the concentration of the raw material in the gas.

【0013】 後者の場合は、圧力の上昇を圧力調節計が検知するとパージ量を増加させて圧
力の低下とイナート物の排出増を図る。同時にこれによる圧力低下を補う形で新
たな原料の系内への追加供給が行われ、前者と同様にガス中の原料の濃度が上昇
する。
In the latter case, when the pressure regulator detects an increase in pressure, the purge amount is increased to reduce the pressure and increase the discharge of inert substances. At the same time, a new raw material is additionally supplied into the system to compensate for the pressure drop due to this, and the concentration of the raw material in the gas rises as in the former case.

【0014】 いずれの場合も、パージ量を制御することで系内のイナート物濃度の制御、言
い換えるならば反応器へ供給するガスの原料濃度の調整と、同時に系内の圧力の
調整を行い、ひいては反応を制御する方法である。
In any case, by controlling the purge amount, the concentration of the inert substance in the system is controlled, in other words, the concentration of the raw material of the gas supplied to the reactor is adjusted, and at the same time, the pressure in the system is adjusted. As a result, it is a method of controlling the reaction.

【0015】 このような方法では、系内で生成する或いは持ち込まれるイナート物の量とパ
ージ操作により系外へ排出されるイナート物の量が平衡に達した時、ガス中の原
料濃度と系内の圧力のいずれもがある点に平衡することになり、その結果反応及
びプロセス全体が定常状態となり、安定する。
In such a method, when the amount of the inert material produced or carried in the system and the amount of the inert material discharged to the outside of the system by the purging operation have reached equilibrium, the concentration of the raw material in the gas and the internal content of the system Any of the pressures will equilibrate to a point, resulting in a steady state and stable reaction and the entire process.

【0016】 さらにこの方法には、追加供給する新たな原料の供給量は系内の圧力により自
動的に加減されるので、原料供給量を調節するための調節弁等の手段を省略する
ことが可能であるという利点がある。前述の総説に記載されたプロセス例にも、
当該調節弁等の調節手段は用いられていない。
Further, in this method, since the supply amount of the new raw material to be additionally supplied is automatically adjusted depending on the pressure in the system, it is possible to omit a means such as a control valve for adjusting the raw material supply amount. It has the advantage of being possible. In the example process described in the above review,
No adjusting means such as the adjusting valve is used.

【0017】 このように気相接触反応形式の反応を行う反応器を用い、かつリサイクル系を
有するプロセスでは、反応器へ供給するガスの原料濃度の調整にパージ操作を利
用し、ひいては原料濃度により反応を安定かつ好成績に制御することが極めて一
般的である。
In such a process that uses a reactor that performs a gas phase catalytic reaction type reaction and has a recycling system, a purge operation is used to adjust the raw material concentration of the gas to be supplied to the reactor, and it depends on the raw material concentration. It is very common to control the reaction in a stable and successful manner.

【0018】 しかし、反応に用いる触媒の特性によっては、この方法では十分な制御が行え
ない場合がある。その具体例として、例えば、反応を安定かつ好成績に制御する
ために要求される原料濃度の範囲が非常に狭い触媒を用いたプロセスの場合が挙
げられる。
However, depending on the characteristics of the catalyst used in the reaction, this method may not provide sufficient control. A specific example thereof is, for example, the case of a process using a catalyst in which the range of raw material concentration required for controlling the reaction stably and with good performance is extremely narrow.

【0019】 このような特性を持つ触媒を使用するプロセスでは、反応を適正に制御するた
めには、反応器へ供給するガス中の原料濃度の調整を求められる狭い範囲に収め
るように精度良く行うことが必要である。しかしながら、前述した従来の方法、
すなわちパージ量による原料濃度の調整方法による反応の制御では次のような不
都合が考えられる。
In a process using a catalyst having such characteristics, in order to appropriately control the reaction, the concentration of the raw material in the gas supplied to the reactor is adjusted accurately so that it falls within a required narrow range. It is necessary. However, the conventional method described above,
That is, the following inconveniences can be considered in the control of the reaction by the method of adjusting the raw material concentration by the purge amount.

【0020】 まず、イナート物濃度あるいは原料濃度に変化が現れた場合、すでにその反応
の制御は適正値から外れ、しかも触媒の特性からさらに離れつつあることを示し
ており、早急に適正値に戻す必要がある。このためには、検出された変化を十分
に打ち消すほどの原料濃度の変化を与える必要があるが、それを実現するパージ
量の設定が難しい。しかも原料濃度の変化とパージ量の設定との関係は、触媒の
劣化の進行やプロセスのロードの変化等につれて一様でなく変動する為、たびた
び調節する必要が生じて現実的とはいえない。
First, when a change occurs in the concentration of the inert material or the concentration of the raw material, it means that the control of the reaction has already deviated from the proper value and further deviating from the characteristics of the catalyst, and it is immediately returned to the proper value. There is a need. For this purpose, it is necessary to change the raw material concentration so as to sufficiently cancel the detected change, but it is difficult to set the purge amount to realize it. In addition, the relationship between the change in the raw material concentration and the setting of the purge amount varies unevenly as the deterioration of the catalyst progresses, the load of the process changes, and the like, so that it is necessary to adjust it frequently, which is not realistic.

【0021】 また、パージ量を操作してそれによる圧力低下を補う形で原料の追加供給量を
制御する方法では、パージ流量操作〜系内圧力変化〜原料追加供給量変化〜原料
濃度変化に至る過程で時間遅れを伴い易く、精度の良い制御が困難である。
Further, in the method of controlling the additional supply amount of the raw material in a form of operating the purge amount and compensating for the pressure drop due to it, the purge flow rate operation, the system internal pressure change, the additional raw material supply amount change, and the raw material concentration change are brought about. In the process, a time delay is likely to occur, and accurate control is difficult.

【0022】 加えて、通常は系内のホールド量に比べてパージ量そのものが少なく、さらに
原料濃度を調節する目的で操作されるパージ量の変化量はより小さいため、パー
ジ操作が圧力に与える影響はわずかなものとならざるを得ない。この結果、パー
ジ操作による系内の圧力の変化は、その量が小さくかつ緩やかである。この圧力
のわずかな変化を精度よく検知しかつ原料濃度を望ましい値にするための新たな
原料の追加供給量を設定し、プロセスに反映することは大変困難である。
In addition, since the purge amount itself is usually smaller than the hold amount in the system, and the change amount of the purge amount operated for the purpose of adjusting the raw material concentration is smaller, the influence of the purge operation on the pressure is affected. Is unavoidable. As a result, the change in the pressure in the system due to the purging operation is small and gradual. It is very difficult to accurately detect this slight change in pressure and set an additional supply amount of a new raw material for setting the raw material concentration to a desired value and reflecting it in the process.

【0023】 以上、気相接触反応形式の反応を行う反応器を用い、かつリサイクル系を有す
る反応プロセスにおいて、従来から一般的に行われているようなパージ量の調節
により反応器内の原料濃度の調整及び系内の圧力調整を行う方法では最適な制御
が困難なプロセスの一例を示した。もちろん、本発明の適用例として、その触媒
の性質について本例に限定されるわけではない。 (発明の開示) 本発明者らは、気相接触反応形式の反応を行う反応器を用い、かつリサイクル
系を有する反応プロセスにおいて、パージ量を制御することで反応器へ追加供給
する原料の量を制御し、原料濃度の調整と同時に系内の圧力の調整を行い、ひい
ては反応プロセスを制御する従来から一般的に行われている方法では制御が困難
な触媒を用いたプロセスにおける原料濃度の調整方法、並びに反応プロセスの制
御方法に関して種々検討を行い、本発明を完成させた。
As described above, in a reaction process that uses a gas-phase catalytic reaction type reaction and has a recycle system, the raw material concentration in the reactor can be adjusted by adjusting the purge amount as is generally done in the past. An example of a process in which optimum control is difficult is shown by the method of adjusting the pressure and adjusting the pressure in the system. Of course, as an application example of the present invention, the properties of the catalyst are not limited to this example. DISCLOSURE OF THE INVENTION The inventors of the present invention use a reactor that performs a reaction of a gas phase catalytic reaction type, and in a reaction process having a recycle system, control the purge amount to supply the amount of raw material additionally supplied to the reactor. To control the raw material concentration at the same time as the raw material concentration, and thus to control the reaction process.The raw material concentration is adjusted in a process that uses a catalyst that is difficult to control by conventional methods. The present invention has been completed by conducting various studies on the method and the control method of the reaction process.

【0024】 すなわち、本発明(I)は、リサイクル系を有する気相接触反応プロセスにお
ける反応器に供給するガス中の原料濃度の調整において、当該プロセスのガス中
の原料濃度を測定し、その測定した値により当該プロセスへ新たに追加する原料
の供給量を定めて供給し、その結果反応器へ供給するガス中の原料濃度を制御す
ることを含む原料濃度の調整方法である。
That is, in the present invention (I), in the adjustment of the raw material concentration in the gas supplied to the reactor in the gas phase catalytic reaction process having a recycle system, the raw material concentration in the gas of the process is measured, and the measurement is performed. It is a method of adjusting the raw material concentration, which includes determining the supply amount of the raw material to be newly added to the process according to the value, and then controlling the raw material concentration in the gas supplied to the reactor.

【0025】 また、本発明(II)は、気相接触反応プロセスの制御において、その制御方法
の少なくとも1つが本発明(I)の原料濃度の調整方法である、反応プロセスの
制御方法である。
Further, the present invention (II) is a method for controlling a reaction process, wherein at least one of the control methods in the control of the gas phase catalytic reaction process is the method for adjusting the raw material concentration according to the present invention (I).

【0026】 さらに、本発明(III)は、本発明(II)のプロセスの制御方法により制御され
た、触媒の存在下に低級オレフィンと酸素とから低級脂肪酸を製造する方法であ
る。
Furthermore, the present invention (III) is a method for producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, which is controlled by the process control method of the present invention (II).

【0027】 また、さらに、本発明(IV)は、本発明(II)のプロセスの制御方法により制
御された、触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂肪族カルボ
ン酸エステルを製造する方法である。
Furthermore, the present invention (IV) produces a lower aliphatic carboxylic acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, which is controlled by the process control method of the present invention (II). Is the way.

【0028】 また、さらに、本発明(V)は、本発明(II)のプロセスの制御方法により制
御された、触媒の存在下に低級オレフィン、酸素及び低級脂肪酸とから低級脂肪
酸エステルを製造する方法である。
Furthermore, the present invention (V) is a method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin, oxygen and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, which is controlled by the process control method of the present invention (II). Is.

【0029】 発明を実施するための最良の形態 以下、本発明について詳細に説明する。[0029]   BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0030】 本発明(I)は、リサイクル系を有する気相接触反応プロセスにおける反応器
に供給するガス中の原料濃度の調整において、当該プロセスのガス中の原料濃度
を測定し、その測定した値により当該プロセスへ新たに追加する原料の供給量を
定めて供給し、その結果反応器へ供給するガス中の原料濃度を制御することを含
む原料濃度の調整方法である。
In the present invention (I), in the adjustment of the raw material concentration in the gas supplied to the reactor in the gas phase catalytic reaction process having a recycling system, the raw material concentration in the gas of the process is measured, and the measured value is measured. According to the method, the raw material concentration is adjusted by determining the supply amount of the raw material newly added to the process and controlling the raw material concentration in the gas supplied to the reactor as a result.

【0031】 本発明(I)の気相接触反応プロセスにおける反応器へ供給するガス中の原料
濃度の調整方法によれば、リサイクル系を有する気相接触反応プロセスにおける
反応器へ供給するガス中の原料濃度は、パージ操作による系内の圧力低下に対す
る圧力維持のための補給という従来から行われている間接的な方法により調整さ
れるのではなく、プロセスの任意の場所の原料濃度を測定し、その測定値に基づ
き新たに追加する量を定め供給するという直接的な方法により調整される。
According to the method for adjusting the concentration of the raw material in the gas supplied to the reactor in the gas-phase catalytic reaction process of the present invention (I), the gas in the gas supplied to the reactor in the gas-phase catalytic reaction process having a recycle system The raw material concentration is not adjusted by the conventional indirect method of replenishment for maintaining the pressure against the pressure drop in the system by the purge operation, but the raw material concentration is measured at any place in the process, It is adjusted by the direct method of determining and supplying a newly added amount based on the measured value.

【0032】 本発明(I)は、リサイクル系を有する気相接触反応プロセスであれば、どの
様な反応によるプロセスでも特に制限なく適用できる。様々な原因により従来の
パージ操作による方法では適切な原料濃度の調整が困難な反応の場合はもちろん
、パージ操作でも実用上問題ない場合でもより効率的な反応制御を目的として適
用してもいっこうに差し支えない。特に適用が好ましい具体例としては、触媒の
存在下に低級オレフィンと酸素とから低級脂肪酸を製造する方法及び触媒の存在
下に低級オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂肪酸エステルを製造する方法等を
挙げることができる。
The present invention (I) can be applied without particular limitation to a process by any reaction as long as it is a gas phase catalytic reaction process having a recycling system. Due to various causes, not only in the case of reactions where it is difficult to adjust the appropriate raw material concentration by the conventional purging method, but also in the case of purging operations where there is no practical problem, it can be applied for the purpose of more efficient reaction control. It doesn't matter. Examples of particularly preferable applications include a method for producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, a method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, and the like. You can

【0033】 本発明(I)の気相接触反応の反応器には特に制限はない。好ましくは反応は
固定床気相接触反応であり、さらに好ましくは反応器の形状が多管式及び/又は
多層式であることを挙げることができる。一般に反応器の形状が多管式及び/又
は多層式の方が反応の成績や熱効率、制御のしやすさ等の点で優れている。もち
ろん反応器の形状はこれに限定されるわけではない。
The reactor for the gas phase catalytic reaction of the present invention (I) is not particularly limited. The reaction is preferably a fixed bed gas phase catalytic reaction, and more preferably the reactor may have a multi-tube type and / or a multi-layer type. In general, a tubular type and / or multilayer type reactor is superior in terms of reaction results, thermal efficiency, controllability, and the like. Of course, the shape of the reactor is not limited to this.

【0034】 本発明(I)において、ガス中の原料濃度を測定する場所には特に制限はなく
、プロセスの任意の場所で行うことができる。プロセスの概念図の一例として図
1を示すが、この例における特徴的な各ライン、すなわち、 (A)リサイクルガスに新たな原料を加えた反応器直前のライン (B)反応器出口から分離装置へのライン (C)分離装置からの出口ライン (D)パージライン (E)新たな原料が追加される前のリサイクルガスライン 等のいずれの場所で行うことも可能である。
In the present invention (I), there is no particular limitation on the place where the concentration of the raw material in the gas is measured, and it can be performed at any place in the process. FIG. 1 is shown as an example of a conceptual diagram of the process. Each characteristic line in this example, that is, (A) a line immediately before the reactor in which a new raw material is added to recycled gas (B) a separation device from the reactor outlet (C) outlet line from separator (D) purge line (E) recycle gas line before new raw material is added, etc.

【0035】 原料濃度の測定を行う場所として、好ましくは(A),(D)を挙げることが
できる。(A)は反応器直前の位置で新たに追加された原料も含んだ原料濃度で
あることや原料濃度に外乱を与える要素が一番少ない等という点で好ましい。(
D)は測定後のガスを全量そのままパージラインに導くことができるので、原料
濃度自身に影響を与える可能性のある測定方法でも用いることが可能である等と
いう点で好ましい。しかし、(A)〜(E)のいずれの場所で測定してもその位
置での原料濃度の値から、新たに供給する原料の量の値を計算で求めることがで
きることから、測定場所が特にこれらの場所に制限されるわけではない。
The locations where the raw material concentration is measured are preferably (A) and (D). (A) is preferable in that the raw material concentration also includes the raw material newly added immediately before the reactor and that the factor that causes disturbance to the raw material concentration is the smallest. (
The method (D) is preferable in that the entire amount of the measured gas can be introduced to the purge line as it is, and therefore it can be used even in a measuring method that may affect the raw material concentration itself. However, even if measurement is performed at any of (A) to (E), the value of the amount of newly supplied raw material can be calculated from the value of the raw material concentration at that position. You are not limited to these places.

【0036】 原料濃度の測定方法に特に制限は無い。一般に用いられているガス成分の濃度
の測定方法を利用することができる。具体的には、例えば、濃度の測定場所にサ
ンプリングバルブを設け、ガスの一部をガスクロマトグラフィーに導き、適当な
カラムと検出器を組み合わせることにより組成比を測定する方法や、ラインその
ものにセルを設け、ある特定の波長により分光光学的に濃度を測定する方法等を
挙げることができるが、これらに限定されるわけではない。好ましい測定方法の
条件としては、測定すべき原料の性質から正確な濃度測定が短時間で可能である
こと、混在する他成分の影響を受けないこと等を挙げることができる。
There is no particular limitation on the method for measuring the raw material concentration. A commonly used method for measuring the concentration of gas components can be used. Specifically, for example, a sampling valve is installed at the concentration measurement location, a part of the gas is introduced into gas chromatography, and the composition ratio is measured by combining an appropriate column and a detector, or a cell is installed in the line itself. And a method of spectroscopically measuring the concentration at a specific wavelength can be given, but the present invention is not limited thereto. As preferable conditions for the measuring method, it is possible to accurately measure the concentration in a short time due to the properties of the raw material to be measured, and to be free from the influence of other components mixed.

【0037】 プロセスに追加供給する原料の量の調整方法に特に制限はない。従来から行わ
れている原料供給量の一般的な調整方法で可能である。具体的には、原料供給ラ
インに設けた調節手段、例えば、流量調整弁等で行うことができる。
There is no particular limitation on the method of adjusting the amount of raw material additionally supplied to the process. This can be done by a general method of adjusting the raw material supply amount that has been conventionally performed. Specifically, it can be performed by adjusting means provided in the raw material supply line, for example, a flow rate adjusting valve or the like.

【0038】 測定した原料濃度により追加供給する原料の量の制御には、通常用いられてい
る制御方法を用いることができる。具体的には、例えば、前述したような方法に
より測定した原料濃度の値をある種の電気信号に変換し、その信号の変化により
原料供給ラインに設けた調節手段を制御して追加供給する原料の量を決定する方
法が可能である。
For controlling the amount of the raw material to be additionally supplied according to the measured raw material concentration, a commonly used control method can be used. Specifically, for example, the value of the raw material concentration measured by the method as described above is converted into an electric signal of a certain kind, and the change of the signal controls the adjusting means provided in the raw material supply line to additionally supply the raw material. A method of determining the amount of is possible.

【0039】 より具体的な方法としては、目標とする原料濃度と反応器入口で測定された原
料濃度を比較し、この偏差が解消するように原料供給量を自動操作することが挙
げられる。例えば、この様な自動操作装置として、比例、積分、微分の各動作を
有するフィードバック制御装置(以下、「PID調節計」という)を使うことが
できる。この場合、濃度調節計としてPID調節計を用い、制御量(Proce
ss Variable(以下、「PV」という))としてガス中の原料濃度を
入力し、その操作出力(Mmanipulate Variable(以下、「
MV」という)で原料供給量調節弁を直接操作する手法が考えられる。
As a more specific method, it is possible to compare the target raw material concentration with the raw material concentration measured at the reactor inlet, and automatically operate the raw material supply amount so as to eliminate this deviation. For example, as such an automatic operation device, a feedback control device (hereinafter, referred to as "PID controller") having proportional, integral, and derivative operations can be used. In this case, a PID controller is used as the concentration controller, and
The raw material concentration in the gas is input as ss Variable (hereinafter, referred to as “PV”), and its operation output (Mmanipulate Variable (hereinafter, referred to as “PV”) is input.
A method of directly operating the raw material supply control valve by "MV") is conceivable.

【0040】 さらに、原料供給量に発生しうる外乱を局所的に限定する手段として、原料供
給量調節弁にもPID調節計を装備し、濃度調節計のMVを原料供給量調節計の
目標値(Setpoint Value(以下、「SV」という))とする、い
わゆる濃度−流量のカスケード制御を構成すると、さらにより良い結果を得るこ
とができる。
Furthermore, as a means for locally limiting the disturbance that may occur in the raw material supply amount, the raw material supply amount control valve is also equipped with a PID controller, and the MV of the concentration controller is set to the target value of the raw material supply amount controller. Even better results can be obtained by configuring so-called concentration-flow rate cascade control, which is (Setpoint Value (hereinafter referred to as “SV”)).

【0041】 もちろん、物質収支を基に望ましい原料濃度を別途算定して原料供給量を調整
する方法も考えられ、さらにモデル予測制御やファジィ制御などに代表されるい
わゆる高度制御方式でも差し支えないが、一般にはPID調節計を用いるのが簡
便で良い。
Of course, a method of separately calculating a desired raw material concentration based on the mass balance and adjusting the raw material supply amount is also conceivable, and a so-called advanced control method represented by model predictive control or fuzzy control may be used. Generally, it is convenient and easy to use a PID controller.

【0042】 次に、本発明(II)について説明する。本発明(II)は、気相接触反応プロセ
スの制御において、その制御方法の少なくとも1つが本発明(I)の原料濃度の
調整方法である反応プロセスの制御方法である。
Next, the present invention (II) will be described. The present invention (II) is a method for controlling a gas phase catalytic reaction process, wherein at least one of the control methods is a method for adjusting the raw material concentration according to the present invention (I).

【0043】 本発明(II)は、一般的な気相接触反応プロセスを安定に制御する際に、その
具体的な方法として本発明(I)で示した原料濃度の調整方法が含まれる反応プ
ロセスの制御方法である。言い換えるならば、本発明(II)は本発明(I)で示
した原料濃度の調整方法を手段とし、プロセス全体を安定かつ効率的に制御する
方法である。
The present invention (II) is a reaction process that includes the method for adjusting the raw material concentration shown in the present invention (I) as a specific method for stably controlling a general gas phase catalytic reaction process. Is a control method. In other words, the present invention (II) is a method for stably and efficiently controlling the entire process by using the raw material concentration adjusting method shown in the present invention (I) as a means.

【0044】 一般に、反応プロセスにおける制御、すなわち反応成績の維持、あるいは反応
の安定化等のためには、種々の反応条件等のいわゆる「プロセスの運転条件」の
制御が必要である。なかでも、通常反応器へ供給するガス中の原料濃度は反応成
績維持のために特に重要である。本発明(II)は、プロセスの安定な制御に必須
な原料濃度の調整を本発明(I)で示したパージ操作による系内の圧力低下に対
する圧力維持のための補給という、従来から行われている間接的な方法によるの
ではなく、プロセスの任意の場所の原料濃度を測定し、その測定値に基づき新た
に追加する量を定め供給するという、直接的な方法で行う、気相接触反応プロセ
スにおける反応器に供給するガス中の原料濃度の調整方法によるプロセスの制御
方法である。
In general, control of so-called “process operating conditions” such as various reaction conditions is necessary for control in the reaction process, that is, for maintaining reaction results, stabilizing reaction, and the like. Above all, the concentration of the raw material in the gas usually supplied to the reactor is particularly important for maintaining the reaction results. The present invention (II) has been conventionally performed by adjusting the raw material concentration essential for stable control of the process, that is, replenishment for maintaining the pressure against the pressure drop in the system by the purging operation shown in the present invention (I). Gas-phase catalytic reaction process, which is carried out not by indirect method but by direct method of measuring raw material concentration at any place in the process and determining and supplying new amount based on the measured value. Is a method of controlling the process by adjusting the concentration of the raw material in the gas supplied to the reactor.

【0045】 本発明(II)が適用できる反応プロセス、原料濃度の測定場所と測定方法、さ
らに測定値により新たに追加する原料の供給量の制御方法については、本発明(
I)と同様である。
Regarding the reaction process to which the present invention (II) can be applied, the measuring place and measuring method of the raw material concentration, and the controlling method of the supply amount of the raw material newly added by the measured value, the present invention (
Similar to I).

【0046】 また、本発明(II)のプロセスの制御方法には、本発明(I)による原料濃度
の調整方法の効果を失わない限りにおいて、他のプロセスの運転条件が含まれて
いてもかまわない。具体的には、反応器の温度や原料を含むガスの流速、さらに
はリサイクル系に影響を与えると考えられる分離装置(図1参照)の運転条件な
どを挙げることができるが、これに限定されるわけではない。そのプロセスの制
御方法の1つとして本発明(I)による原料濃度の調整方法が含まれていればよ
い。
The process control method of the present invention (II) may include operating conditions of other processes as long as the effect of the raw material concentration adjusting method of the present invention (I) is not lost. Absent. Specifically, the temperature of the reactor, the flow rate of the gas containing the raw material, and the operating conditions of the separation device (see FIG. 1), which is thought to affect the recycling system, can be mentioned, but the present invention is not limited thereto. Not necessarily. The raw material concentration adjusting method according to the present invention (I) may be included as one of the process controlling methods.

【0047】 次に、本発明(III)について説明する。本発明(III)は、本発明(II)のプロ
セスの制御方法により制御される、触媒の存在下に低級オレフィンと酸素とから
低級脂肪酸を製造する方法である。
Next, the present invention (III) will be described. The present invention (III) is a method for producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, which is controlled by the method for controlling the process of the present invention (II).

【0048】 本発明(III)の低級脂肪酸の製造方法によれば、触媒の存在下に低級オレフィ
ンと酸素とから低級脂肪酸を製造するプロセスにおいて、プロセスの効率的かつ
安定な制御を行うために、その制御方法の1つとして本発明(II)のプロセスの
制御方法を含む。従って、本発明(III)の低級脂肪酸の製造方法は、本発明(I
)による原料濃度の調整方法によることは言うまでもなく、原料濃度の測定場所
と測定方法、さらに測定値により新たに追加する原料の供給量の制御方法につい
ては、本発明(I)と同様である。
According to the method for producing a lower fatty acid of the present invention (III), in the process of producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, in order to perform efficient and stable control of the process, One of the control methods includes the process control method of the present invention (II). Therefore, the method for producing a lower fatty acid of the present invention (III) is
Needless to say, it depends on the method of adjusting the raw material concentration according to ()), and the measuring place and measuring method of the raw material concentration, and the method of controlling the supply amount of the raw material newly added by the measured value are the same as in the present invention (I).

【0049】 本発明(III)の低級脂肪酸の製造方法に用いることができる触媒に特に制限は
ない。低級オレフィンに対して酸素による酸化を行い低級脂肪族カルボン酸を生
成できる能力を持つ限り、いかなる触媒をも用いることができる。触媒の例とし
てはパラジウム及びリン酸または硫黄含有変性剤を含む触媒(特開昭47−13
221号公報、特開昭51−29425号公報)、ある種のヘテロポリ酸のパラ
ジウム塩を含む触媒(特開昭54−57488号公報)、及び3群系酸素化合物
からなる触媒(特開昭46−6763号公報)を挙げることができる。
There is no particular limitation on the catalyst that can be used in the method for producing a lower fatty acid of the present invention (III). Any catalyst can be used as long as it has the ability to oxidize a lower olefin with oxygen to form a lower aliphatic carboxylic acid. Examples of the catalyst include a catalyst containing palladium and a phosphoric acid- or sulfur-containing modifier (JP-A-47-13).
221, JP-A-51-29425), a catalyst containing a palladium salt of a certain heteropolyacid (JP-A-54-57488), and a catalyst comprising a group 3 oxygen compound (JP-A-46). No. 6763).

【0050】 好ましくは金属パラジウム−ヘテロポリ酸及び/又はその塩を含む触媒であり
、その具体例としては特開平7−89896号公報、特開平9−67298号公
報に開示された触媒を挙げることができる。もちろんこれらに限定されるわけで
はない。
A catalyst containing a metal palladium-heteropolyacid and / or a salt thereof is preferable, and specific examples thereof include the catalysts disclosed in JP-A-7-89896 and JP-A-9-67298. it can. Of course, it is not limited to these.

【0051】 触媒は、触媒成分そのものを打錠した物はもちろん、担体に担持された担持型
触媒であってもよい。担持型触媒の場合、用いることができる担体に特に制限は
なく、通常担体として使用可能な多孔質物質を用いることができる。具体的には
、例えば、シリカ、珪そう土、モンモリロナイト、チタニア、活性炭、アルミナ
及びシリカアルミナが挙げられるが、これに限定されるものではない。
The catalyst may be not only a product obtained by tableting the catalyst component itself, but also a supported catalyst supported on a carrier. In the case of a supported catalyst, the carrier that can be used is not particularly limited, and a porous substance that can be usually used as a carrier can be used. Specific examples include silica, diatomaceous earth, montmorillonite, titania, activated carbon, alumina, and silica-alumina, but are not limited thereto.

【0052】 本発明(III)の触媒の担体として用いることができる物質の形状には、特に制
限はなく、具体的には粉末状、球状、ペレット状その他任意の形状の物を用いる
ことができる。
The shape of the substance that can be used as the carrier of the catalyst of the present invention (III) is not particularly limited, and specifically, powder, spherical, pellet-shaped or any other shape can be used. .

【0053】 担体としてより好ましくは、主成分が珪質の担体であり、形態が球状又はペレ
ット状のものが挙げられる。更に好ましくは、担体が担体全質量に対して95質
量%以上の純度を有するシリカであるものが挙げられる。
The carrier is more preferably a siliceous carrier whose main component is spherical or pellet-shaped. More preferably, the carrier is silica having a purity of 95% by mass or more based on the total mass of the carrier.

【0054】 それらの平均粒子径としては、固定床の場合2〜10mmの範囲が好ましく、流
動床の場合は粉末から5mmの範囲が好ましい。
The average particle diameter thereof is preferably in the range of 2 to 10 mm in the case of a fixed bed, and in the range of powder to 5 mm in the case of a fluidized bed.

【0055】 本発明(III)の低級脂肪酸の製造方法における反応温度に特に制限はない。原
料のオレフィンの種類、使用する触媒等により最適値は異なる。一般に好ましく
は100〜300℃であり、更に好ましくは120〜250℃である。
The reaction temperature in the method for producing a lower fatty acid of the present invention (III) is not particularly limited. The optimum value varies depending on the type of olefin used as the raw material and the catalyst used. Generally, it is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C.

【0056】 反応圧力にも特に制限はない。反応温度と同様に、原料のオレフィンの種類、
使用する触媒等により最適値が異なることは言うまでもない。一般には設備の点
から0.0〜3.0MPa (ゲージ圧)であることが実用上有利であるが、これに
限定されるわけではない。より好ましくは0.1〜1.5MPa (ゲージ圧)の範
囲である。
The reaction pressure is also not particularly limited. As with the reaction temperature, the type of raw olefin,
Needless to say, the optimum value varies depending on the catalyst used. Generally, it is practically advantageous from the viewpoint of equipment that the pressure is 0.0 to 3.0 MPa (gauge pressure), but the invention is not limited to this. More preferably, it is in the range of 0.1 to 1.5 MPa (gauge pressure).

【0057】 本発明(III)の低級脂肪酸の製造方法における原料には、低級オレフィンと酸
素を挙げることができる。
As the raw material in the method for producing a lower fatty acid of the present invention (III), a lower olefin and oxygen can be mentioned.

【0058】 低級オレフィンとしては特に制限はない。炭素数6以下の、少なくとも1つの
不飽和結合を有する直鎖或いは分枝鎖構造を有する1種以上のオレフィン類が好
ましい。より好ましくはエチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、ブタ
ジエン及び/又はこれらの混合物を例示することができるが、これらに限定され
るわけではない。更に好ましくはエチレンである。
The lower olefin is not particularly limited. One or more olefins having 6 or less carbon atoms and having a linear or branched structure having at least one unsaturated bond are preferable. More preferably, ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, butadiene and / or a mixture thereof can be exemplified, but the invention is not limited thereto. More preferably, it is ethylene.

【0059】 反応に影響を与えない範囲で他の化合物、例えば、メタン、エタン、プロパン
等の低級飽和炭化水素が混入されていてもよい。
Other compounds, for example, lower saturated hydrocarbons such as methane, ethane and propane may be mixed in such a range that the reaction is not affected.

【0060】 酸素としては特に制限はない。高純度な酸素はもちろんのこと、窒素、炭酸ガ
ス等の不活性ガスで希釈されたもの、例えば、空気の形でも供給できる。一般に
高濃度、好適には99%以上の純度を有する酸素を用いる方が有利である。
There is no particular limitation on oxygen. Not only high-purity oxygen but also those diluted with an inert gas such as nitrogen or carbon dioxide, for example, in the form of air can be supplied. Generally, it is advantageous to use oxygen with a high concentration, preferably 99% or higher purity.

【0061】 ガス中の低級オレフィンと酸素の原料濃度の値に特に制限はない。反応温度や
圧力と同様に原料のオレフィンの種類、使用する触媒等により最適値が異なるこ
とは言うまでもない。一般にガスの全量に対して、低級オレフィンは5〜80容
量%、好ましくは8〜50容量%の割合となる量で、酸素は1〜15容量%、好
ましくは3〜10容量%の割合となる量で、更に好ましくは4〜8容量%の割合
となる量で反応系に供給される。
There is no particular limitation on the values of the raw material concentrations of the lower olefin and oxygen in the gas. Needless to say, the optimum value varies depending on the type of olefin as the raw material, the catalyst used, etc., as well as the reaction temperature and pressure. Generally, the lower olefin is in an amount of 5 to 80% by volume, preferably 8 to 50% by volume, and the oxygen is in an amount of 1 to 15% by volume, preferably 3 to 10% by volume, based on the total amount of gas. It is supplied to the reaction system in an amount, more preferably in an amount of 4 to 8% by volume.

【0062】 またガスの空間速度(以下、「GHSV」という)にも特に制限はない。一般
には、標準状態において10〜10000Hr-1、特に300〜5000Hr-1で触
媒に通すのが好ましいが、これに限定されるわけではない。
The space velocity of gas (hereinafter, referred to as “GHSV”) is not particularly limited. Generally, it is preferable to pass the catalyst at 10 to 10000 hr -1 , particularly 300 to 5000 hr -1 , in the standard state, but it is not limited thereto.

【0063】 特に金属パラジウムとヘテロポリ酸及び/又はその塩とを含む触媒を用いた反
応系の場合、水を反応系内に存在させると、低級脂肪族カルボン酸の生成活性と
選択率の向上および触媒の活性維持に著しく効果がある。水蒸気は反応ガス中に
1〜50容量%含まれるのが好適であるが、好ましくは5〜40容量%である。
Particularly in the case of a reaction system using a catalyst containing metallic palladium and a heteropoly acid and / or a salt thereof, the presence of water in the reaction system improves the production activity of the lower aliphatic carboxylic acid and the selectivity. It is extremely effective in maintaining the activity of the catalyst. The water vapor is preferably contained in the reaction gas in an amount of 1 to 50% by volume, preferably 5 to 40% by volume.

【0064】 次に、本発明(IV)について説明する。本発明(IV)は、本発明(II)のプロ
セスの制御方法により制御される、触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸
とから低級脂肪酸エステルを製造する方法である。
Next, the present invention (IV) will be described. The present invention (IV) is a method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, which is controlled by the method for controlling the process of the present invention (II).

【0065】 本発明(IV)の低級脂肪酸エステルの製造方法によれば、触媒の存在下に低級
オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂肪酸エステルを製造するプロセスにおいて
、プロセスの効率的かつ安定な制御を行うために、その制御方法の1つとして本
発明(II)のプロセスの制御方法を含む。従って、本発明(IV)の低級脂肪酸エ
ステルの製造方法は、本発明(I)による原料濃度の調整方法によることは言う
までもなく、原料濃度の測定場所と測定方法、さらに測定値により新たに追加す
る原料の供給量の制御方法については、本発明(I)と同様である。
According to the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (IV), in the process for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, the process is efficiently and stably controlled. Therefore, the process control method of the present invention (II) is included as one of the control methods. Therefore, needless to say, the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (IV) is based on the method for adjusting the raw material concentration according to the present invention (I), and the measurement location and measuring method of the raw material concentration, and a new addition are made depending on the measured value. The method of controlling the supply amount of the raw material is the same as in the present invention (I).

【0066】 本発明(IV)の低級脂肪酸エステルの製造方法に用いることができる触媒に特
に制限はない。一般的には酸性触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸を反
応させて、相当する低級脂肪酸エステルを得ることが可能なことがよく知られて
いる。この反応の触媒としてヘテロポリ酸及び/又はその塩が有効に働くことも
知られている。これらの具体例としては、例えば、特開平4−139148号公
報、特開平4−139149号公報、特開平5−65248号公報、特開平5−
163200号公報、特開平5−170699号公報、特開平5−255185
号公報、特開平5−294894号公報、特開平6−72951号公報、特開平
9−118647号公報等に開示された触媒を挙げることができる。もちろんこ
れらに限定されるわけではない。
There is no particular limitation on the catalyst that can be used in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (IV). It is generally well known that it is possible to obtain a corresponding lower fatty acid ester by reacting a lower olefin with a lower fatty acid in the presence of an acidic catalyst. It is also known that a heteropoly acid and / or a salt thereof works effectively as a catalyst for this reaction. Specific examples of these include, for example, JP-A-4-139148, JP-A-4-139149, JP-A-5-65248, and JP-A-5-248.
No. 163200, JP-A-5-170699, and JP-A-5-255185.
The catalysts disclosed in JP-A-5-294894, JP-A-6-72951, JP-A-9-118647 and the like can be mentioned. Of course, it is not limited to these.

【0067】 触媒は、触媒成分そのものを打錠した物はもちろん、担体に担持された担持型
触媒であってもよい。担持型触媒の場合、用いることができる担体に特に制限は
なく、通常担体として使用可能な多孔質物質を用いることができる。具体的には
、例えば、シリカ、珪そう土、モンモリロナイト、チタニア、活性炭、アルミナ
及びシリカアルミナなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
The catalyst may be not only the catalyst component itself tableted but also a supported catalyst supported on a carrier. In the case of a supported catalyst, the carrier that can be used is not particularly limited, and a porous substance that can be usually used as a carrier can be used. Specific examples thereof include silica, diatomaceous earth, montmorillonite, titania, activated carbon, alumina and silica-alumina, but are not limited thereto.

【0068】 本発明(IV)の触媒の担体として用いることができる物質の形状には、特に制
限はなく、具体的には粉末状、球状、ペレット状その他任意の形状の物を用いる
ことができる。
The shape of the substance that can be used as the carrier of the catalyst of the present invention (IV) is not particularly limited, and specifically, powder, spherical, pellet, or any other shape can be used. .

【0069】 担体として好ましくは、主成分が珪質の担体であり、形態が球状又はペレット
状のものが挙げられる。更に好ましくは、担体が担体全質量に対して95質量%
以上の純度を有するシリカであるものが挙げられる。
The carrier is preferably a siliceous carrier whose main component is spherical or pellet-shaped. More preferably, the carrier is 95% by mass relative to the total mass of the carrier.
Examples thereof include silica having the above purities.

【0070】 それらの平均粒子径としては、固定床の場合2〜10mmの範囲が、流動床の場
合は粉末から5mmの範囲が好ましい。
The average particle size thereof is preferably in the range of 2 to 10 mm in the case of a fixed bed, and in the range of powder to 5 mm in the case of a fluidized bed.

【0071】 本発明(IV)の低級脂肪酸エステルの製造方法における反応温度及び反応圧力
としては、特に原料として用いた低級脂肪酸が気体状を保つ範囲である必要があ
るが、ほかには特に限定されない。従って、原料に用いた低級脂肪族カルボン酸
によって異なってくるのは言うまでもない。一般に反応温度としては100〜3
00℃の範囲が好ましく、より好ましくは120〜250℃の範囲である。
The reaction temperature and the reaction pressure in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (IV) need to be in the range in which the lower fatty acid used as a raw material is kept in a gaseous state, but it is not particularly limited. . Therefore, it goes without saying that it depends on the lower aliphatic carboxylic acid used as the raw material. Generally, the reaction temperature is 100 to 3
The range of 00 ° C is preferable, and the range of 120 to 250 ° C is more preferable.

【0072】 反応圧力としては反応温度とのかねあいはあるが、一般には設備の点から0.
0〜3.0MPa (ゲージ圧)の範囲であることが実用上有利であり好ましく、よ
り好ましくは0.1〜1.5MPa (ゲージ圧)までの範囲であるが、これに限定
されるわけではない。
Although the reaction pressure has a relationship with the reaction temperature, it is generally 0.
A range of 0 to 3.0 MPa (gauge pressure) is practically advantageous and preferred, and a range of 0.1 to 1.5 MPa (gauge pressure) is more preferable, but the range is not limited thereto. Absent.

【0073】 本発明(IV)の低級脂肪酸エステルの製造方法における原料としては、低級オ
レフィンと低級脂肪酸を挙げることができる。
Examples of raw materials in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (IV) include lower olefins and lower fatty acids.

【0074】 低級オレフィンとしては特に制限はない。炭素数6以下の、少なくとも1つの
不飽和結合を有する直鎖或いは分枝鎖構造を有する1種以上のオレフィン類が好
ましく、より好ましくはエチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、ブタ
ジエン及び/又はこれらの混合物を例示することができるが、これらに限定され
るわけではない。さらに好ましくはエチレンである。
The lower olefin is not particularly limited. One or more olefins having 6 or less carbon atoms and having a linear or branched structure having at least one unsaturated bond are preferable, and more preferably ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, butadiene and / or Alternatively, a mixture thereof can be illustrated, but the invention is not limited thereto. More preferably, it is ethylene.

【0075】 反応に影響を与えない範囲で他の化合物、例えば、メタン、エタン、プロパン
等の低級飽和炭化水素が混入されていてもよい。
Other compounds, for example, lower saturated hydrocarbons such as methane, ethane and propane may be mixed in such a range that does not affect the reaction.

【0076】 低級脂肪酸としては特に制限はない。炭素数4以下のカルボン酸が好ましいが
、これらに限定されるものではない。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピ
オン酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。特に、酢酸、アクリル酸が
好ましい。
The lower fatty acid is not particularly limited. Carboxylic acids having 4 or less carbon atoms are preferable, but not limited thereto. Specific examples include formic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, methacrylic acid and the like. In particular, acetic acid and acrylic acid are preferable.

【0077】 低級オレフィンと低級脂肪酸の使用割合としては、低級オレフィンを低級脂肪
酸に対して等モルもしくは過剰モル量で使用することが望ましい。その割合とし
ては低級オレフィン:低級脂肪酸が、モル比として、1:1〜30:1の範囲に
あるのが好ましく、より好ましくは10:1〜20:1の範囲である。
As the ratio of the lower olefin and the lower fatty acid to be used, it is desirable to use the lower olefin in an equimolar amount or an excessive molar amount with respect to the lower fatty acid. As for the ratio, the molar ratio of lower olefin: lower fatty acid is preferably in the range of 1: 1 to 30: 1, and more preferably in the range of 10: 1 to 20: 1.

【0078】 ガスのGHSVにも特に制限はない。一般には、標準状態において10〜10
000Hr-1、特に300〜5000Hr-1で触媒に通すのが好ましいが、これに限
定されるわけではない。
The gas GHSV is not particularly limited. Generally, 10 to 10 in the standard state
000Hr -1, particularly preferably passed through the catalyst at 300~5000Hr -1, but are not limited thereto.

【0079】 特にヘテロポリ酸及び/又はその塩からなる触媒を用いた反応系の場合、少量
の水を反応系内に存在させることは触媒寿命の観点から好ましい。しかし、あま
りに多くの水を加えると、エタノール、ジエチルエーテル等の副生物も増えてく
るので好ましくない。一般に低級オレフィン及び低級脂肪酸の全使用量中の1〜
15mol %、より好ましくは3〜8mol %の範囲から選ぶことが好ましい。
Particularly in the case of a reaction system using a catalyst composed of a heteropolyacid and / or a salt thereof, it is preferable to allow a small amount of water to exist in the reaction system from the viewpoint of catalyst life. However, if too much water is added, by-products such as ethanol and diethyl ether will increase, which is not preferable. Generally, 1 to 1 in the total amount of lower olefins and lower fatty acids used
It is preferable to select from the range of 15 mol%, more preferably 3 to 8 mol%.

【0080】 次に、本発明(V)について説明する。本発明(V)は、本発明(II)のプロ
セスの制御方法により制御される、触媒の存在下に低級オレフィンと酸素と低級
脂肪酸とから低級脂肪酸エステルを製造する方法である。
Next, the present invention (V) will be described. The present invention (V) is a method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin, oxygen and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, which is controlled by the method for controlling the process of the present invention (II).

【0081】 本発明(V)の低級脂肪酸エステルの製造方法によれば、触媒の存在下に低級
オレフィン、酸素及び低級脂肪酸から低級脂肪酸エステルを製造するプロセスに
おいて、プロセスの効率的かつ安定な制御を行うために、その制御方法の1つと
して本発明(II)のプロセスの制御方法を含む。従って、本発明(V)の低級脂
肪酸エステルの製造方法は、本発明(I)による原料濃度の調整方法によること
は言うまでもなく、原料濃度の測定場所と測定方法、さらに測定値により新たに
追加する原料の供給量の制御方法については、本発明(I)と同様である。
According to the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V), in the process for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin, oxygen and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, efficient and stable control of the process can be achieved. In order to carry out, the method of controlling the process of the present invention (II) is included as one of the control methods. Therefore, it goes without saying that the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V) is based on the method for adjusting the raw material concentration according to the present invention (I), and a new place is added depending on the measurement place and measurement method of the raw material concentration and the measured value. The method of controlling the supply amount of the raw material is the same as in the present invention (I).

【0082】 本発明(V)の低級脂肪酸エステルの製造方法に用いることができる触媒に特
に制限はない。低級オレフィンと低級脂肪酸と酸素とから低級脂肪酸エステルを
生成できる能力を持つ限り、いかなる触媒をも用いることができる。触媒の例と
してはパラジウムを主成分とし、アルカリ金属またはアルカリ土類金属ならびに
金、銅、モリブデン、カドミウム、鉛、バナジウム、ビスマス、クロム、タング
ステン、マンガン、鉄などの少なくとも1種の金属を助触媒として用い、これら
の触媒成分を、通常、アルミナ、シリカ、活性炭、軽石酸化チタンなどに担持さ
せたものを挙げることができる。その具体例としては特開平2−91045号公
報や、特開平5−186393号公報、特開平6−47281号公報、特開平7
−136515号公報、特開平7−308576号公報、特開平8−38899
号公報等に開示された触媒を挙げることができる。もちろんこれらに限定される
わけではない。
There is no particular limitation on the catalyst that can be used in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V). Any catalyst can be used as long as it has the ability to form a lower fatty acid ester from a lower olefin, a lower fatty acid and oxygen. Examples of the catalyst include palladium as a main component and an alkali metal or alkaline earth metal and at least one metal such as gold, copper, molybdenum, cadmium, lead, vanadium, bismuth, chromium, tungsten, manganese, and iron as a cocatalyst. Examples of such catalyst components include those in which these catalyst components are usually supported on alumina, silica, activated carbon, pumice titanium oxide and the like. Specific examples thereof include JP-A-2-91045, JP-A-5-186393, JP-A-6-47281 and JP-A-7
-136515, JP-A-7-308576, and JP-A-8-38899.
Examples thereof include catalysts disclosed in Japanese Patent Publication No. Of course, it is not limited to these.

【0083】 触媒は、触媒成分そのものを打錠した物はもちろん、担体に担持された担持型
触媒であってもよい。担持型触媒の場合、用いることができる担体に特に制限は
なく、通常担体として使用可能な多孔質物質を用いることができる。具体的には
、例えば、シリカ、珪そう土、モンモリロナイト、チタニア、活性炭、アルミナ
及びシリカアルミナなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。
The catalyst may be not only the one obtained by tableting the catalyst component itself, but also a supported catalyst supported on a carrier. In the case of a supported catalyst, the carrier that can be used is not particularly limited, and a porous substance that can be usually used as a carrier can be used. Specific examples thereof include silica, diatomaceous earth, montmorillonite, titania, activated carbon, alumina and silica-alumina, but are not limited thereto.

【0084】 本発明(V)の触媒の担体として用いることができる物質の形状には、特に制
限はなく、具体的には粉末状、球状、ペレット状その他任意の形状の物を用いる
ことができる。
The shape of the substance that can be used as the carrier of the catalyst of the present invention (V) is not particularly limited, and specifically, a powder, a sphere, a pellet, or any other shape can be used. .

【0085】 担体としてより好ましくは、主成分が珪質の担体であり、形態が球状又はペレ
ット状のものが挙げられる。更に好ましくは、担体が担体全質量に対して90質
量%以上の純度を有するシリカであるものが挙げられる。
The carrier is more preferably a siliceous carrier whose main component is spherical and has a pellet form. More preferably, the carrier is silica having a purity of 90% by mass or more based on the total mass of the carrier.

【0086】 それらの平均粒子径としては、固定床の場合2〜10mmの範囲が、流動床の場
合は粉末から5mmの範囲が好ましい。
The average particle size thereof is preferably in the range of 2 to 10 mm in the case of a fixed bed, and in the range of powder to 5 mm in the case of a fluidized bed.

【0087】 本発明(V)の低級脂肪酸エステルの製造方法における反応温度に特に制限は
ない。原料のオレフィンの種類、使用する触媒等により最適値は異なり、原料で
ある低級脂肪酸が気体状を保つ範囲であれば、他は特に制限されない。一般に好
ましくは100〜300℃であり、更に好ましくは120〜250℃である。
The reaction temperature in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V) is not particularly limited. The optimum value varies depending on the type of olefin as a raw material, the catalyst used, and the like, and there is no particular limitation as long as the lower fatty acid as a raw material is in a gaseous state. Generally, it is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C.

【0088】 反応圧力にも特に制限はない。反応温度と同様に、原料のオレフィンの種類、
使用する触媒等により最適値が異なることは言うまでもない。一般には設備の点
から0.0〜3.0MPa (ゲージ圧)であることが実用上有利であるが、これに
限定されるわけではない。より好ましくは0.1〜1.5MPa (ゲージ圧)の範
囲である。
The reaction pressure is not particularly limited either. As with the reaction temperature, the type of raw olefin,
Needless to say, the optimum value varies depending on the catalyst used. Generally, it is practically advantageous from the viewpoint of equipment that the pressure is 0.0 to 3.0 MPa (gauge pressure), but the invention is not limited to this. More preferably, it is in the range of 0.1 to 1.5 MPa (gauge pressure).

【0089】 本発明(V)の低級脂肪酸エステルの製造方法における原料には、低級オレフ
ィン、低級脂肪酸及び酸素を挙げることができる。
Examples of the raw material in the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V) include lower olefin, lower fatty acid and oxygen.

【0090】 低級オレフィンとしては特に制限はない。炭素数6以下の、少なくとも1つの
不飽和結合を有する直鎖或いは分枝鎖構造を有する1種以上のオレフィン類が好
ましく、より好ましくは、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、ブ
タジエン及び/又はこれらの混合物を例示することができるが、これらに限定さ
れるわけではない。さらに好ましくはエチレン又はプロピレンである。
The lower olefin is not particularly limited. One or more olefins having 6 or less carbon atoms and having a linear or branched structure having at least one unsaturated bond are preferable, and more preferably ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, butadiene and Examples thereof may include, but are not limited to, and / or mixtures thereof. More preferably, it is ethylene or propylene.

【0091】 反応に影響を与えない範囲で他の化合物、例えば、メタン、エタン、プロパン
等の低級飽和炭化水素が混入されていてもよい。
Other compounds, for example, lower saturated hydrocarbons such as methane, ethane and propane may be mixed in such a range that the reaction is not affected.

【0092】 低級脂肪酸としては特に制限はない。炭素数4以下のカルボン酸が好ましいが
、これに限定されるものではない。具体的には、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオ
ン酸、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。特に、酢酸又はアクリル酸が
好ましい。
The lower fatty acid is not particularly limited. A carboxylic acid having 4 or less carbon atoms is preferable, but not limited to this. Specific examples include formic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid, methacrylic acid and the like. In particular, acetic acid or acrylic acid is preferable.

【0093】 酸素としては特に制限はない。高純度な酸素はもちろんのこと、窒素、炭酸ガ
ス等の不活性ガスで希釈されたもの、例えば、空気の形でも供給できる。一般に
高濃度、好適には99%以上の純度を有する酸素を用いる方が有利である。
There is no particular limitation on oxygen. Not only high-purity oxygen but also those diluted with an inert gas such as nitrogen or carbon dioxide, for example, in the form of air can be supplied. Generally, it is advantageous to use oxygen with a high concentration, preferably 99% or higher purity.

【0094】 ガス中の低級オレフィンと酸素の原料濃度の値に特に制限はない。反応温度や
圧力と同様に原料のオレフィンの種類、使用する触媒等により最適値が異なるこ
とは言うまでもない。一般にガスの全量に対して、低級オレフィンは5〜80容
量%、好ましくは8〜60容量%の割合となる量で、酸素は1〜15容量%、好
ましくは3〜10容量%の割合となる量で、最も好ましくは4〜8容量%となる
割合で反応系に供給される。
There are no particular restrictions on the values of the raw material concentrations of the lower olefin and oxygen in the gas. Needless to say, the optimum value varies depending on the type of olefin as the raw material, the catalyst used, etc., as well as the reaction temperature and pressure. Generally, the lower olefin is in an amount of 5 to 80% by volume, preferably 8 to 60% by volume, and the oxygen is in an amount of 1 to 15% by volume, preferably 3 to 10% by volume, based on the total amount of gas. The amount is most preferably supplied to the reaction system in a ratio of 4 to 8% by volume.

【0095】 本発明(V)の低級脂肪酸エステルの製造方法の具体的な例としては、低級脂
肪酸として酢酸を用い、低級オレフィンとしてプロピレンを用いる酢酸アリルの
製造方法の場合、プロピレンは40〜60容量%の割合となる量が好ましい。ま
た、低級脂肪酸として酢酸を用い、低級オレフィンとしてエチレンを用いる酢酸
ビニルの製造方法の場合、エチレンは20〜40容量%の割合となる量で供給す
るのが好ましい。
As a specific example of the method for producing a lower fatty acid ester of the present invention (V), in the case of an allyl acetate production method using acetic acid as a lower fatty acid and propylene as a lower olefin, propylene is 40 to 60 volumes. % Is preferable. Further, in the case of a method for producing vinyl acetate using acetic acid as the lower fatty acid and ethylene as the lower olefin, ethylene is preferably supplied in an amount of 20 to 40% by volume.

【0096】 低級オレフィンと低級脂肪酸の使用割合としては、低級オレフィンを低級脂肪
酸に対して等モルもしくは過剰モル量で使用することが望ましい。その割合とし
ては低級オレフィン:低級脂肪酸が、モル比として、1:1〜30:1の範囲に
あるのが好ましく、より好ましくは2:1〜10:1の範囲である。
As a ratio of the lower olefin and the lower fatty acid to be used, it is desirable to use the lower olefin in an equimolar amount or an excessive molar amount with respect to the lower fatty acid. The molar ratio of lower olefin: lower fatty acid is preferably 1: 1 to 30: 1, more preferably 2: 1 to 10: 1.

【0097】 さらにガスのGHSVにも特に制限はない。一般には、標準状態において、1
0〜10000Hr-1、特に300〜5000Hr-1で触媒に通すのが好ましいが、
これに限定されるわけではない。
Further, the gas GHSV is not particularly limited. Generally, in standard conditions, 1
It is preferable to pass the catalyst at 0 to 10000 Hr -1 , particularly 300 to 5000 Hr -1 ,
It is not limited to this.

【0098】 以下、本発明をさらに実施例及び比較例を参照して説明するが、これらの実施
例は本発明の概要を示すもので、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples, but these Examples show the outline of the present invention, and the present invention is not limited to these Examples. .

【0099】 本発明を、ヘテロポリ酸系の酢酸製造用触媒の存在下にエチレンと酸素から酢
酸を得る反応プロセスを使って説明する。
The present invention will be described using a reaction process of obtaining acetic acid from ethylene and oxygen in the presence of a heteropolyacid-based catalyst for acetic acid production.

【0100】 反応の概要 図2に示す反応プロセスでは、原料としてエチレンと酸素が反応器に供給され
、気液分離装置を経て酢酸が分離され、イナート物質及び未反応原料を含むガス
が再度反応器へ至るリサイクル系が構成されている。主生成物として酢酸が生成
し、その他の副生成物として、炭酸ガスやアセトアルデヒド、エタノール、酢酸
メチル、プロピオン酸などが生成する。
Outline of Reaction In the reaction process shown in FIG. 2, ethylene and oxygen are supplied to a reactor as raw materials, acetic acid is separated through a gas-liquid separator, and a gas containing an inert substance and unreacted raw materials is again supplied to the reactor. A recycling system leading to is constructed. Acetic acid is produced as a main product, and carbon dioxide gas, acetaldehyde, ethanol, methyl acetate, propionic acid, etc. are produced as other by-products.

【0101】 反応器における条件の目標としては、触媒床の反応ピーク温度200℃、反応
圧力は0.75MPa (ゲージ圧)、GHSV1800Hr-1とした。
As the target of the conditions in the reactor, the reaction peak temperature of the catalyst bed was 200 ° C., the reaction pressure was 0.75 MPa (gauge pressure), and GHSV1800 Hr −1 .

【0102】 触媒の調製方法 実施例1及び2及び比較例1及び2に用いた酢酸製造用触媒について説明する
Catalyst Preparation Method The catalyst for acetic acid production used in Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 and 2 will be described.

【0103】 テトラクロロパラジウム酸ナトリウム2.81g、塩化金酸1.05g、及び
塩化亜鉛0.1402gを計りとり、ここに純水を加えて溶解して45mlとし、
水溶液(1)を調製した。シリカ担体(ズードヘミー社製KA−1担体、5mmφ
)69.6gを水溶液(1)を調製したビーカーに加え、水溶液(1)の全量を
シリカ担体に吸収させた。
2.81 g of sodium tetrachloropalladate, 1.05 g of chloroauric acid, and 0.1402 g of zinc chloride were weighed, and pure water was added thereto to dissolve them to 45 ml,
An aqueous solution (1) was prepared. Silica carrier (KA-1 carrier manufactured by Sud Chemie, 5 mmφ)
) 69.6 g was added to the beaker in which the aqueous solution (1) was prepared, and the entire amount of the aqueous solution (1) was absorbed by the silica carrier.

【0104】 別のビーカーにメタケイ酸ナトリウム8.00gを計り取り、ここに純水10
0gを加え、溶解して水溶液(2)を調製した。水溶液(1)を吸収したシリカ
担体を、水溶液(2)を調製したビーカーに加え、室温下で20時間静置した。
次いでこれに、撹拌しつつ室温下で徐々にヒドラジン一水和物8.00gを加え
た。ヒドラジン一水和物を添加した後4時間撹拌した。その後触媒を濾取し、4
0時間純水を流通させて洗浄した後、空気気流下に110℃で4時間乾燥した。
Into another beaker, weigh 8.00 g of sodium metasilicate and add 10 parts of pure water to it.
0 g was added and dissolved to prepare an aqueous solution (2). The silica carrier absorbing the aqueous solution (1) was added to the beaker prepared with the aqueous solution (2), and the mixture was allowed to stand at room temperature for 20 hours.
Next, 8.00 g of hydrazine monohydrate was gradually added to this at room temperature with stirring. After adding hydrazine monohydrate, the mixture was stirred for 4 hours. Then the catalyst was filtered off and
After deionized water was circulated for 0 hours for washing, it was dried in an air stream at 110 ° C. for 4 hours.

【0105】 次に、亜テルル酸ナトリウム0.266gを計り取り、ここに純水45gを加
えて水溶液(3)を調製した。上記金属パラジウム担持触媒を水溶液(3)に加
え、水溶液(3)の全量を吸収させた。その後、空気気流下に110℃で4時間
乾燥して、テルル添加金属パラジウム担持触媒を得た。
Next, 0.266 g of sodium tellurite was weighed out, and 45 g of pure water was added to prepare an aqueous solution (3). The metal palladium-supported catalyst was added to the aqueous solution (3) to absorb the whole amount of the aqueous solution (3). Then, it was dried at 110 ° C. for 4 hours under an air stream to obtain a tellurium-added metal palladium-supported catalyst.

【0106】 更に別のビーカーに、ケイタングステン酸26水和物23.98gを計り取り
、ここに純水を加え、溶解して45mlとし、水溶液(4)を調製した。酸性溶液
で洗浄した金属パラジウム担持触媒を、水溶液(4)を調製したビーカーに加え
、水溶液(4)の全量を吸収させた。その後、空気気流下に110℃で4時間乾
燥して、酢酸製造用触媒を得た。
In another beaker, 23.98 g of silicotungstic acid 26 hydrate was weighed, and pure water was added thereto to dissolve it to 45 ml to prepare an aqueous solution (4). The metallic palladium-supported catalyst washed with an acidic solution was added to the beaker in which the aqueous solution (4) was prepared, and the whole amount of the aqueous solution (4) was absorbed. Then, it was dried at 110 ° C. for 4 hours under an air stream to obtain a catalyst for acetic acid production.

【0107】 上記操作により、反応器に必要な充填量である約5lの触媒を製造した。[0107]   By the above operation, about 5 liters of the catalyst, which is the required filling amount for the reactor, was produced.

【0108】 プロセスの概要 実施例及び比較例に用いたプロセスの概要を図2に基づいて説明する。[0108]   Process overview   The outline of the processes used in the examples and comparative examples will be described with reference to FIG.

【0109】 反応器(6)としてはジャケット付き縦型環状反応器を用いた。ジャケットに
供給する水の気化により反応により発生する熱を除去し、反応器内の温度を制御
した。
As the reactor (6), a vertical annular reactor with a jacket was used. The heat generated by the reaction was removed by vaporizing the water supplied to the jacket, and the temperature in the reactor was controlled.

【0110】 気液分離装置(7)では、気液混合の状態で供給される反応器通過後のガスを
、主として未反応エチレンガスと未反応酸素、炭酸ガス及び窒素等からなる気体
と、酢酸及び水等からなる液体に分離している。分離された酢酸を含む液体は酢
酸取り出しライン(9)より系外に取り出される。他方、気体の一部はパージラ
イン(11)を経て系外に放出されるが、多くは流量計(13)を経てエチレン
供給ライン(17)から新たなエチレンが、また酸素供給ライン(15)から酸
素が追加され、再び反応器に戻される。
In the gas-liquid separation device (7), the gas that has been supplied in a gas-liquid mixed state after passing through the reactor is mainly composed of unreacted ethylene gas, a gas composed of unreacted oxygen, carbon dioxide gas, nitrogen, etc. And liquid such as water. The separated liquid containing acetic acid is taken out of the system through the acetic acid take-out line (9). On the other hand, a part of the gas is discharged to the outside of the system through the purge line (11), but most of it is supplied with new ethylene from the ethylene supply line (17) through the flow meter (13) and also with the oxygen supply line (15). Oxygen is added to the reactor and returned to the reactor again.

【0111】 プロセスの制御、特に原料の供給量の操作出力(MV)は、次のように自動的
に行われる。各制御装置や計測装置の計測値から反応器(6)入り口の原料濃度
が計算装置(19)により算定され、濃度調節計(18)の制御量(PV)とし
て入力される。濃度調節計(18)では、あらかじめ与えられた目標値(SV)
と該PVの偏差に基づき流量制御装置(16)へ与える新たな流量目標値が計算
され、その結果行われるいわゆるPID調節計による濃度−流量カスケード制御
の構成によりMVが決定される。
The process control, in particular, the operation output (MV) of the raw material supply amount is automatically performed as follows. The raw material concentration at the inlet of the reactor (6) is calculated by the calculation device (19) from the measured values of each control device and the measurement device, and is input as the control amount (PV) of the concentration controller (18). In the concentration controller (18), the target value (SV) given in advance
Based on the deviation of the PV, a new flow rate target value to be given to the flow rate control device (16) is calculated, and the MV is determined by the resulting configuration of concentration-flow rate cascade control by a so-called PID controller.

【0112】 なお、圧力制御装置(10)とエチレン流量制御装置(16)に用いた調節弁
は、ともに山武製VSM型調節弁でそのCV値は0.05、リニア特性(LC)
で、1/2インチ配管に接続されたものである。
The control valves used in the pressure control device (10) and the ethylene flow rate control device (16) were both VSM type control valves manufactured by Yamatake Co., which had a CV value of 0.05 and a linear characteristic (LC).
And is connected to 1/2 inch piping.

【0113】 実施例1 図2に示すように制御ラインが構成されたプロセスにおいて、反応器入り口で
の原料ガス組成を容量比(vol %)で酸素:エチレン:水:窒素=4.5:8.
5:25:62となるように調整し、濃度−流量カスケード制御を投入した。
Example 1 In a process in which a control line was configured as shown in FIG. 2, the composition of the raw material gas at the reactor inlet was adjusted to a volume ratio (vol%) of oxygen: ethylene: water: nitrogen = 4.5: 8. .
The concentration was adjusted to 5:25:62, and the concentration-flow rate cascade control was turned on.

【0114】 この結果、プロセスは図8に示すように非常に安定したエチレン濃度の挙動を
示した。
As a result, the process exhibited very stable ethylene concentration behavior as shown in FIG.

【0115】 制御の成績を示す指標である二乗偏差、すなわち目標エチレン濃度からの偏差
を二乗して得られる面積の大きさは、0.187(vol %)2 と非常に小さいも
のであった。この時の圧力の挙動は図9に示すごとく非常に安定しており同じく
圧力の二乗偏差は、0.00182MPa2であった。
The square deviation, which is an index showing the control performance, that is, the size of the area obtained by squaring the deviation from the target ethylene concentration was 0.187 (vol%) 2 , which was very small. The behavior of the pressure at this time was very stable as shown in FIG. 9, and the squared deviation of the pressure was 0.00182 MPa 2 .

【0116】 この時の濃度−流量カスケード制御の一次側であるエチレン濃度調節計のPI
Dパラメータは、比例帯200%、積分時間600秒であった。
PI of the ethylene concentration controller which is the primary side of the concentration-flow rate cascade control at this time
The D parameter had a proportional band of 200% and an integration time of 600 seconds.

【0117】 実施例2 図2に示すように制御ラインが構成されたプロセスにおいて、反応器入り口で
の原料ガス組成を容量比(vol %)で酸素:エチレン:水:窒素=4.5:8.
5:25:62となるように調整し、濃度−流量カスケード制御投入のまま、3
0分経過後にそのエチレン濃度の目標値(SV)を8.5vol %から9.0vol
%へと変化する操作を加えた。
Example 2 In a process in which a control line was configured as shown in FIG. 2, the composition of the raw material gas at the reactor inlet was adjusted to a volume ratio (vol%) of oxygen: ethylene: water: nitrogen = 4.5: 8. .
Adjust to be 5:25:62, and leave the concentration-flow rate cascade control turned on, 3
After 0 minutes, the ethylene concentration target value (SV) was changed from 8.5 vol% to 9.0 vol.
The operation to change to% was added.

【0118】 このような操作を加えたにもかかわらず、本発明のユニットでは図10に示す
ごとく非常に安定的に、オーバーシュートや不安定な動作もなく約一時間で目標
値に達した。この時におけるエチレン濃度の目標値との二乗偏差は6.48(vo
l %)2 、圧力の二乗偏差は0.00175MPa2であった。
Despite such an operation, the unit of the present invention reached the target value in a very stable manner as shown in FIG. 10 in about one hour without overshoot or unstable operation. The squared deviation of the ethylene concentration from the target value at this time is 6.48 (vo
1%) 2 , and the squared deviation of the pressure was 0.00175 MPa 2 .

【0119】 なお、この時のエチレン濃度調節計のPIDパラメータは、引き続き比例帯2
00%、積分時間600秒であった。
At this time, the PID parameter of the ethylene concentration controller continues to be proportional band 2.
It was 00% and the integration time was 600 seconds.

【0120】 比較例1 図3に示すように、エチレン濃度が一定となるようにパージ流量を操作する反
応プロセスを構築した。
Comparative Example 1 As shown in FIG. 3, a reaction process was constructed in which the purge flow rate was controlled so that the ethylene concentration was constant.

【0121】 図3は、実施例1および2とも同じプロセスであるが、濃度調節計(18)の
操作指令信号MVはパージライン(11)の調節弁を開閉するように接続されて
おり、エチレン供給ライン(17)の調節弁は、その開度17.7%(0%で全
閉)で固定した。
FIG. 3 shows the same process as in Examples 1 and 2, but the operation command signal MV of the concentration controller (18) is connected so as to open and close the control valve of the purge line (11), and ethylene The control valve of the supply line (17) was fixed at an opening of 17.7% (fully closed at 0%).

【0122】 このプロセスにおいて、反応器入り口組成が容量比(vol %)で酸素:エチレ
ン:水:窒素=4.5:8.5:25:60.5となるように調整した後に制御
を投入し、30分経過後にエチレン濃度の目標値(SV)を8.5vol %から9
.0vol %へと変化する操作を加えた。
In this process, the control was turned on after the reactor inlet composition was adjusted so that the volume ratio (vol%) was oxygen: ethylene: water: nitrogen = 4.5: 8.5: 25: 60.5. Then, after 30 minutes, the ethylene concentration target value (SV) was changed from 8.5 vol% to 9%.
. The operation to change to 0 vol% was added.

【0123】 結果は図11に示すように、エチレン濃度を上昇させるためにパージ流量を増
やし、エチレンの系内流入を促進する操作を行ったが、この結果圧力が大きく低
下したものの、それによるエチレン流量の増加はエチレン濃度の目標値を達成す
るには不十分で、4時間を超えても目標値に到達しなかったため制御を断念する
に至った。
As a result, as shown in FIG. 11, the purge flow rate was increased in order to increase the ethylene concentration, and the operation of promoting the inflow of ethylene into the system was carried out. The increase in the flow rate was insufficient to reach the target value of ethylene concentration, and the target value was not reached even after 4 hours, so the control was abandoned.

【0124】 この時のエチレン濃度と圧力のそれぞれの二乗偏差は、22.83(vol %) 2 と0.203MPa2であり、実施例2に比べて圧力に約100倍の外乱を与えて
いるにもかかわらず、エチレン濃度の制御成績はまったく芳しいものではなく、
目標にも到達できなかった。
[0124]   The squared deviations of ethylene concentration and pressure at this time are 22.83 (vol%) 2  And 0.203 MPa2And applying a disturbance about 100 times the pressure as compared with Example 2.
However, the ethylene concentration control results are not very good,
I couldn't reach my goal.

【0125】 なお、エチレン濃度調節計のPIDパラメータは、エチレン濃度への影響と圧
力への外乱を考慮した結果、比例帯60%、積分時間1200秒とした。
The PID parameter of the ethylene concentration controller was set to a proportional band of 60% and an integration time of 1200 seconds as a result of considering the influence on the ethylene concentration and the disturbance on the pressure.

【0126】 比較例2 図4に示すように、圧力が一定となるようにパージ量を制御する反応プロセス
を構築した。図4は、実施例1および2と同じプロセスであるが、エチレン供給
ライン(17)の調節弁は、その開度17.4%(0%で全閉)で固定した。
Comparative Example 2 As shown in FIG. 4, a reaction process was constructed in which the purge amount was controlled so that the pressure became constant. FIG. 4 shows the same process as in Examples 1 and 2, but the control valve of the ethylene supply line (17) was fixed at an opening of 17.4% (fully closed at 0%).

【0127】 このプロセスにおいて、反応器入り口組成が容量比(vol %)で酸素:エチレ
ン:水:窒素=4.5:8.5:25:62となるように調整した後、制御を投
入した。
In this process, the reactor inlet composition was adjusted so that the volume ratio (vol%) was oxygen: ethylene: water: nitrogen = 4.5: 8.5: 25: 62, and then control was turned on. .

【0128】 結果は、図12に示すように圧力の偏差を解消すべく行われるパージ量の変動
に影響されてエチレン流量も微動し、次第にエチレン濃度が漸減して行く傾向が
観察され、4時間を超えても回復する気配がまったくなかったため制御を断念し
た。
As shown in FIG. 12, as a result, it was observed that the ethylene flow rate slightly fluctuated due to the fluctuation of the purge amount performed to eliminate the pressure deviation, and the ethylene concentration was gradually decreased for 4 hours. Since there was no sign of recovery even if the temperature exceeded the limit, control was abandoned.

【0129】 この時のエチレン濃度の二乗偏差は、6.09(vol %)2 と実施例1の30
倍以上悪く、エチレン濃度をその目標値に保つ効果は認められなかった。このと
きの圧力の挙動を図13に示す。この時の圧力の二乗偏差は0.00108MPa2 で実施例1と同じレベルの制御結果である。
The squared deviation of the ethylene concentration at this time was 6.09 (vol%) 2, which was 30 in Example 1.
It was more than doubled, and the effect of keeping the ethylene concentration at its target value was not recognized. The behavior of the pressure at this time is shown in FIG. The square deviation of the pressure at this time is 0.00108 MPa 2 , which is a control result at the same level as in the first embodiment.

【0130】 実施例3 次に本発明を、ヘテロポリ酸系の酢酸エチル製造用触媒の存在下にエチレンと
酢酸から酢酸エチルを得る反応プロセスを使って説明する。
Example 3 Next, the present invention will be described using a reaction process of obtaining ethyl acetate from ethylene and acetic acid in the presence of a heteropolyacid-based catalyst for producing ethyl acetate.

【0131】 反応及びプロセスの概要 図5に示すように、原料としてエチレンと酢酸が反応器に供給され、気液分離
装置を経て酢酸エチルが分離され、イナート物及び未反応原料を含むガスが再度
反応器へ至るリサイクル系が構成されているプロセスを構築した。図5は、図2
と同じプロセスを示すが、図2では酸素を供給したラインをここでは酢酸供給ラ
イン(24)および酢酸流量制御装置(23)として用いており、計算装置(2
5)は酸素流量などに代えて酢酸流量等からエチレン濃度を計算するようにプロ
グラムが変更されている。
Outline of Reaction and Process As shown in FIG. 5, ethylene and acetic acid as raw materials are supplied to a reactor, ethyl acetate is separated through a gas-liquid separation device, and a gas containing an inert material and an unreacted raw material is again generated. A process was constructed in which a recycling system to the reactor was constructed. 5 is shown in FIG.
2 shows the same process as the above, but in FIG. 2, the line to which oxygen is supplied is used as the acetic acid supply line (24) and the acetic acid flow controller (23), and the calculation device (2
In 5), the program is changed to calculate the ethylene concentration from the flow rate of acetic acid instead of the flow rate of oxygen.

【0132】 触媒の調製法 担体として天然シリカ(ズードヘミーAG社製KA−0)を用い、これをあら
かじめ110℃に調節した熱風式乾燥機で4時間乾燥させておいた。リンタング
ステン酸(H3 PW1240)3266.5gと硝酸リチウム6.6gを秤量し、
純水750mlを加えて均一に溶解させ、Li0.12.9 PW1240水溶液を得た
。次いで、この水溶液を1700mlになるように純水で希釈し、均一にかき混ぜ
た。続いて乾燥させておいた担体を2790g秤り取り、水溶液中に漬けてよく
かき混ぜ、充分に含浸させた。液で含浸された担体を1時間風乾後、150℃に
調節した熱風式乾燥機で5時間乾燥した。このようにして得られた触媒の重量は
5675gであった。
Preparation Method of Catalyst Natural silica (KA-0 manufactured by Sudhemie AG) was used as a carrier, and this was dried for 4 hours in a hot air dryer previously adjusted to 110 ° C. Weigh 3266.5 g of phosphotungstic acid (H 3 PW 12 O 40 ) and 6.6 g of lithium nitrate,
750 ml of pure water was added and uniformly dissolved to obtain a Li 0.1 H 2.9 PW 12 O 40 aqueous solution. Next, this aqueous solution was diluted with pure water so as to be 1700 ml, and uniformly stirred. Subsequently, 2790 g of the dried carrier was weighed out, soaked in an aqueous solution and well stirred to sufficiently impregnate it. The carrier impregnated with the liquid was air-dried for 1 hour and then dried for 5 hours with a hot air dryer adjusted to 150 ° C. The weight of the catalyst thus obtained was 5675 g.

【0133】 このような手順で得られた触媒約5lを図5に示す反応器に充填し、触媒床の
反応ピーク温度170℃、反応圧力は0.8MPa (ゲージ圧)、空間速度(GH
SV)は1500Hr-1とし、反応器へ供給する混合ガスの比率がエチレン:酢酸
:水:窒素の比率が78.5:8.0:4.5:9.0となるように調整した。
About 5 liters of the catalyst obtained by the above procedure was charged into the reactor shown in FIG. 5, the reaction peak temperature of the catalyst bed was 170 ° C., the reaction pressure was 0.8 MPa (gauge pressure), the space velocity (GH).
SV) was 1500 Hr -1 and the ratio of the mixed gas supplied to the reactor was adjusted so that the ratio of ethylene: acetic acid: water: nitrogen was 78.5: 8.0: 4.5: 9.0.

【0134】 30分経過後に、原料エチレンの濃度目標値(SV)を78.5容量%から1
.0容量%だけ上昇させる操作を行った。
After 30 minutes, the target concentration value (SV) of the raw material ethylene was changed from 78.5% by volume to 1%.
. The operation of increasing the volume by 0% was performed.

【0135】 結果は、図14に示すように安定した挙動を見せつつ、約2時間後に目標エチ
レン濃度に収束した。エチレン濃度と圧力の二乗偏差は、5.54(vol %)2
と0.00136MPa2であった。
The results showed stable behavior as shown in FIG. 14, and converged to the target ethylene concentration after about 2 hours. The squared deviation between ethylene concentration and pressure is 5.54 (vol%) 2
And 0.00136 MPa 2 .

【0136】 実施例4 本発明を気相においてプロピレン、酢酸及び酸素から酢酸アリルを製造するプ
ロセスを用いて説明する。
Example 4 The present invention is illustrated using a process for producing allyl acetate from propylene, acetic acid and oxygen in the gas phase.

【0137】 反応及びプロセスの概要 図6のように、原料のプロピレンと酢酸と酸素とから酢酸アリルを製造するプ
ロセスを構築した。
Outline of Reaction and Process As shown in FIG. 6, a process for producing allyl acetate from propylene as a raw material, acetic acid, and oxygen was constructed.

【0138】 図6は図2と同じプロセスを示すが、図2でエチレン供給ラインとして使用さ
れたラインはプロピレン供給ライン(27)及びプロピレン流量制御装置(26
)として使用されており、新たに酢酸供給ライン(29)と酢酸流量制御装置(
28)が追加されて機能している。
FIG. 6 shows the same process as FIG. 2, but the line used as the ethylene feed line in FIG. 2 is the propylene feed line (27) and the propylene flow controller (26).
), A new acetic acid supply line (29) and acetic acid flow controller (
28) is added and functioning.

【0139】 図2におけるエチレン濃度分析装置はプロピレン濃度分析装置(30)で置き
換えられ、計算装置(31)は、これら原料流量等からプロピレン濃度を算定す
るようにプログラムされている。
The ethylene concentration analyzer in FIG. 2 is replaced by a propylene concentration analyzer (30), and the calculator (31) is programmed to calculate the propylene concentration from these raw material flow rates and the like.

【0140】 触媒の調製法 テトラクロロパラジウム酸ナトリウム(Na2 PdCl4 )45.6gと塩化
銅(CuCl2 )5.2gを含有する水溶液1800mlに、粒径5mmのシリカ担
体5lを加え、溶液を完全に含浸させた。次にこれを、水酸化ナトリウム(Na
OH)29.6gを含有する水溶液4lに添加し、室温で20時間アルカリ処理
した後、ヒドラジンヒドラートを加えて還元処理した。還元後、触媒を塩素イオ
ンが認められなくなるまで水洗し、次いで110℃で4時間乾燥後、酢酸カリウ
ム(KOAc)150gを含有する水溶液1800ml中に投入し、全溶液を吸収
させた後、再び100℃で20時間乾燥させておいた。
Preparation Method of Catalyst To 1800 ml of an aqueous solution containing 45.6 g of sodium tetrachloropalladate (Na 2 PdCl 4 ) and 5.2 g of copper chloride (CuCl 2 ) was added 5 l of a silica carrier having a particle diameter of 5 mm to form a solution. It was completely impregnated. Next, add this to sodium hydroxide (Na
It was added to 4 l of an aqueous solution containing 29.6 g of OH), treated with an alkali for 20 hours at room temperature, and then reduced with hydrazine hydrate. After the reduction, the catalyst was washed with water until chlorine ions were not observed, then dried at 110 ° C. for 4 hours, then put into 1800 ml of an aqueous solution containing 150 g of potassium acetate (KOAc) to absorb the whole solution, and then to 100 again. It was dried at 0 ° C. for 20 hours.

【0141】 このようにして調製した触媒5lを図6のステンレス製反応管に充填し、プロ
ピレン30%、酢酸7.0%、酸素7.0%、水14.0%および窒素42.0
%の混合ガスをGHSVが2100Hr-1となるように供給し、反応温度165℃
、圧力0.5MPa (ゲージ圧)の条件を整えた後に、濃度−流量カスケード制御
を行った。30分後、プロピレン濃度SVを30vol %から30.5vol %へ上
昇させた。
5 l of the catalyst thus prepared was filled in a stainless reaction tube shown in FIG. 6, and propylene 30%, acetic acid 7.0%, oxygen 7.0%, water 14.0% and nitrogen 42.0.
% Of the mixed gas is supplied so that the GHSV becomes 2100 Hr -1, and the reaction temperature is 165 ° C.
After adjusting the conditions of pressure 0.5 MPa (gauge pressure), concentration-flow rate cascade control was performed. After 30 minutes, the propylene concentration SV was increased from 30 vol% to 30.5 vol%.

【0142】 結果は、図15及び16に示すように安定した挙動を見せつつ約2時間後に目
標プロピレン濃度に収束した。プロピレン濃度と圧力の二乗偏差は、6.76(
vol %)2 と0.00127MPa2であった。
The results converged to the target propylene concentration after about 2 hours while exhibiting stable behavior as shown in FIGS. The square deviation between the propylene concentration and the pressure is 6.76 (
vol%) 2 and 0.00127 MPa 2 .

【0143】 実施例5 本発明をパラジウム系の触媒を用いて、エチレン、酢酸及び酸素の存在下に酢
酸ビニルを製造するプロセスを用いて説明する。
Example 5 The present invention will be described using a process for producing vinyl acetate using a palladium-based catalyst in the presence of ethylene, acetic acid and oxygen.

【0144】 反応及びプロセスの概要 図7のように、原料のエチレンと酢酸と酸素とから酢酸ビニルを製造するプロ
セスを構築した。
Outline of Reaction and Process As shown in FIG. 7, a process for producing vinyl acetate from ethylene, acetic acid and oxygen as raw materials was constructed.

【0145】 図7は図2と同じプロセスを示すが、図6と同様に酢酸供給ライン(29)と
酢酸流量制御装置(28)が装備され、また計算装置(32)はこれら原料流量
等からエチレン濃度を算出するようにプログラムされている。
FIG. 7 shows the same process as in FIG. 2, but is equipped with an acetic acid supply line (29) and an acetic acid flow controller (28) as in FIG. It is programmed to calculate ethylene concentration.

【0146】 触媒の調製法 テトラクロロパラジウム酸ナトリウム(Na2 PdCl4 )100gおよびテ
トラクロロ金酸四水和物13gを含む水溶液に、天然シリカ(ズードヘミーAG
社製KA−0)5lを浸して、全量吸収させた後、メタケイ酸ナトリウム320
gを含む水溶液4l中に加え、20時間静置した。その後、ヒドラジン水和物1
9.0gを添加し、テトラクロロパラジウム酸ナトリウムおよびテトラクロロ金
酸四水和物を金属に還元し、水洗した後110℃で4時間乾燥した。その後、酢
酸錫4.0gの水溶液中に上記金属パラジウムおよび金を含む担体を投入し、全
液を吸収させた後、110℃で4時間乾燥させた。その後、酢酸カリウム165
gを含有する水溶液中に上記の金属パラジウムを含む担体を投入し、全液を吸収
させた後、110℃で4時間乾燥させた。
Preparation Method of Catalyst An aqueous solution containing 100 g of sodium tetrachloropalladate (Na 2 PdCl 4 ) and 13 g of tetrachloroauric acid tetrahydrate was added to natural silica (Zudhemie AG).
Sodium metasilicate 320 after soaking 5 l of KA-0)
It was added to 4 l of an aqueous solution containing g and allowed to stand for 20 hours. Then hydrazine hydrate 1
After adding 9.0 g, sodium tetrachloropalladate and tetrachloroauric acid tetrahydrate were reduced to metal, washed with water, and then dried at 110 ° C. for 4 hours. Then, the carrier containing the metal palladium and gold was put into an aqueous solution of 4.0 g of tin acetate to absorb the whole liquid, and then dried at 110 ° C. for 4 hours. Then potassium acetate 165
The above-mentioned carrier containing metallic palladium was put into an aqueous solution containing g to absorb the whole liquid, and then dried at 110 ° C. for 4 hours.

【0147】 このようにして得た触媒5lを反応管に充填し、反応温度170℃、反応圧力
0.8MPa (ゲージ圧)で、エチレン、酸素、酢酸、水、窒素の比率が60:4
:15:15:6の割合になるように混合したガスをGHSV2200Hr-1にて
導入し、反応させた。
The reaction tube was filled with 5 l of the catalyst thus obtained, the reaction temperature was 170 ° C., the reaction pressure was 0.8 MPa (gauge pressure), and the ratio of ethylene, oxygen, acetic acid, water, and nitrogen was 60: 4.
The gas mixed so as to have a ratio of 15: 15: 6 was introduced by GHSV2200Hr -1 and reacted.

【0148】 結果は、図14に示すように安定した挙動を見せつつ、約1時間半後に目標エ
チレン濃度に収束した。エチレン濃度と圧力の二乗偏差は5.57(vol %)2
と0.00101MPa2であった。 (産業上の利用可能性) 以上説明したように、本発明の気相接触反応における原料濃度の調整方法、及
び該調整方法によるプロセスの制御方法を用いれば、反応を効率的かつ安定に行
うことが可能である。
The results showed stable behavior as shown in FIG. 14, and converged to the target ethylene concentration after about one and a half hours. The square deviation of ethylene concentration and pressure is 5.57 (vol%) 2
And 0.00101 MPa 2 . (Industrial Applicability) As described above, the reaction can be carried out efficiently and stably by using the method for adjusting the concentration of the raw material in the gas phase catalytic reaction of the present invention and the method for controlling the process by the adjusting method. Is possible.

【0149】 特に、本発明の気相接触反応における原料濃度の調整方法、及び該調整方法に
よるプロセスの制御方法を用いた低級脂肪酸の製造方法及び低級脂肪酸エステル
の製造方法においては、従来のプロセス制御方法に比べて長期間にわたり反応を
効率的かつ安定して行うことが可能である。
In particular, in the method for adjusting the concentration of raw materials in the gas phase catalytic reaction of the present invention, and the method for producing a lower fatty acid and the method for producing a lower fatty acid ester using the method for controlling the process according to the adjustment method, conventional process control is performed. Compared with the method, it is possible to carry out the reaction efficiently and stably over a long period of time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

図面は、それぞれ、本発明の実施の一態様を表すプロセス図、実施例及び比較
例にて使用した実験装置の模式図、並びに実施例及び比較例による結果のグラフ
である。
The drawings are respectively a process diagram showing an embodiment of the present invention, a schematic diagram of an experimental apparatus used in Examples and Comparative Examples, and a graph of results according to Examples and Comparative Examples.

【図1】 本発明の概念を説明するための概念図である。図中の番号は以下の通りである
。 1:反応装置 2:製品とその他の分離装置 3:製品ライン 4:パージライン 5:原料供給ライン
FIG. 1 is a conceptual diagram for explaining the concept of the present invention. The numbers in the figure are as follows. 1: Reactor 2: Product and other separation device 3: Product line 4: Purge line 5: Raw material supply line

【図2】 実施例1及び2で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は
信号ライン、一重破線は制御ラインを示す。図中の番号は以下の通りである。 6:反応器 7:気液分離装置 8:レベル制御装置 9:酢酸取り出しライン 10:圧力制御装置 11:パージライン 12:エチレン濃度分析装置 13:流量計 14:酸素流量制御装置 15:酸素供給ライン 16:エチレン流量制御装置 17:エチレン供給ライン 18:濃度調節計 19:計算装置
FIG. 2 is a schematic diagram of an apparatus used in Examples 1 and 2. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. The numbers in the figure are as follows. 6: Reactor 7: Gas-liquid separator 8: Level controller 9: Acetic acid take-out line 10: Pressure controller 11: Purge line 12: Ethylene concentration analyzer 13: Flow meter 14: Oxygen flow controller 15: Oxygen supply line 16: Ethylene flow rate control device 17: Ethylene supply line 18: Concentration controller 19: Calculation device

【図3】 比較例1で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は信号ラ
イン、一重破線は制御ラインを示す。図中の番号は以下に示したもの以外は図2
と同じである。 20:圧力計 21:流量計
FIG. 3 is a schematic diagram of an apparatus used in Comparative Example 1. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. The numbers in the figure are the same as those shown in FIG.
Is the same as. 20: Pressure gauge 21: Flow meter

【図4】 比較例2で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は信号ラ
イン、一重破線は制御ラインを示す。図中の凡例で以下に示したもの以外は図2
と同じである。 21:流量計 22:濃度計
4 is a schematic diagram of an apparatus used in Comparative Example 2. FIG. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. Figure 2 except for those shown below in the legend in the figure
Is the same as. 21: Flowmeter 22: Densitometer

【図5】 実施例3で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は信号ラ
イン、一重破線は制御ラインを示す。図中の凡例で以下に示したもの以外は図2
と同じである。 23:酢酸流量制御装置 24:酢酸供給ライン 25:計算装置
FIG. 5 is a schematic diagram of an apparatus used in Example 3. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. Figure 2 except for those shown below in the legend in the figure
Is the same as. 23: Acetic acid flow controller 24: Acetic acid supply line 25: Calculation device

【図6】 実施例4で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は信号ラ
イン、一重破線は制御ラインを示す。図中の凡例で以下に示したもの以外は図2
と同じである。 26:プロピレン流量制御装置 27:プロピレン供給ライン 28:酢酸流量制御装置 29:酢酸供給ライン 30:プロピレン濃度測定装置 31:計算装置
FIG. 6 is a schematic diagram of an apparatus used in Example 4. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. Figure 2 except for those shown below in the legend in the figure
Is the same as. 26: Propylene flow controller 27: Propylene supply line 28: Acetic acid flow controller 29: Acetic acid supply line 30: Propylene concentration measuring device 31: Calculation device

【図7】 実施例5で用いた装置の模式図である。実線はプロセスライン、点線は信号ラ
イン、一重破線は制御ラインを示す。図中の凡例で以下に示したもの以外は図2
と同じである。 28:酢酸流量制御装置 29:酢酸供給ライン 32:計算装置
FIG. 7 is a schematic diagram of an apparatus used in Example 5. The solid line shows the process line, the dotted line shows the signal line, and the single broken line shows the control line. Figure 2 except for those shown below in the legend in the figure
Is the same as. 28: Acetic acid flow controller 29: Acetic acid supply line 32: Calculation device

【図8】 実施例1の結果を示すグラフである。[Figure 8]   5 is a graph showing the results of Example 1.

【図9】 実施例1の圧力の結果を示すグラフである。[Figure 9]   5 is a graph showing the results of pressure in Example 1.

【図10】 実施例2の結果を示すグラフである。[Figure 10]   5 is a graph showing the results of Example 2.

【図11】 比較例1の結果を示すグラフである。FIG. 11   9 is a graph showing the results of Comparative Example 1.

【図12】 比較例2の結果を示すグラフである。[Fig. 12]   9 is a graph showing the results of Comparative Example 2.

【図13】 比較例2の圧力の結果を示すグラフである。[Fig. 13]   9 is a graph showing the results of pressure in Comparative Example 2.

【図14】 実施例3の結果を示すグラフである。FIG. 14   9 is a graph showing the results of Example 3.

【図15】 実施例4の結果を示すグラフである。FIG. 15   9 is a graph showing the results of Example 4.

【図16】 実施例4の結果を示すグラフである。FIG. 16   9 is a graph showing the results of Example 4.

【図17】 実施例5の結果を示すグラフである。FIG. 17   9 is a graph showing the results of Example 5.

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Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リサイクル系を有する気相接触反応プロセスにおける反応器
に供給するガス中の原料濃度の調整において、当該プロセスのガス中の原料濃度
を測定し、測定した値により当該プロセスへ新たに追加する原料の供給量を定め
て供給し、その結果反応器へ供給するガス中の原料濃度を制御することを含む原
料濃度の調整方法。
1. In the adjustment of the raw material concentration in the gas supplied to the reactor in the gas phase catalytic reaction process having a recycle system, the raw material concentration in the gas of the process is measured, and the measured value is newly added to the process. A method for adjusting the concentration of a raw material, which comprises controlling the concentration of the raw material in the gas supplied to the reactor as a result of determining and supplying the supply amount of the additional raw material.
【請求項2】 気相接触反応が、固定床気相接触反応である、請求項1記載
の方法。
2. The method according to claim 1, wherein the gas phase catalytic reaction is a fixed bed gas phase catalytic reaction.
【請求項3】 反応器が、多管式及び/又は多層式である、請求項1又は2
記載の方法。
3. The reactor according to claim 1, wherein the reactor is a multi-tube type and / or a multi-layer type.
The method described.
【請求項4】 原料濃度の測定場所が、反応器直前である、請求項1〜3の
いずれかに記載の方法。
4. The method according to claim 1, wherein the raw material concentration is measured immediately before the reactor.
【請求項5】 新たに追加する原料の供給量の調節を、原料供給ラインに設
けた調節手段で行う、請求項1〜4のいずれかに記載の方法。
5. The method according to claim 1, wherein the supply amount of the newly added raw material is adjusted by an adjusting means provided in the raw material supply line.
【請求項6】 気相接触反応プロセスの制御において、その制御方法の少な
くとも1つが請求項1〜5のいずれかに記載の原料濃度の調整方法である、反応
プロセスの制御方法。
6. A method for controlling a reaction process, wherein in the control of the gas-phase catalytic reaction process, at least one of the controlling methods is the method for adjusting the raw material concentration according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 触媒の存在下に低級オレフィンと酸素とから低級脂肪酸を製
造することを含み、反応器における低級オレフィン及び/又は酸素の濃度の調整
方法が請求項1〜5のいずれかに記載の調整方法である、低級脂肪酸の製造方法
7. The method for adjusting the concentration of lower olefin and / or oxygen in a reactor, which comprises producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, according to claim 1. A method for producing a lower fatty acid, which is a method for adjusting a lower fatty acid.
【請求項8】 触媒の存在下に低級オレフィンと酸素とから低級脂肪酸を製
造することを含み、その製造プロセスが請求項6に記載の反応プロセスの制御方
法により制御される、低級脂肪酸の製造方法。
8. A method for producing a lower fatty acid, which comprises producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst, the production process being controlled by the method for controlling a reaction process according to claim 6. .
【請求項9】 触媒の存在下に低級オレフィンと酸素とから低級脂肪酸を製
造する方法において、水の存在下に反応を行う、請求項7又は8記載の方法。
9. The method according to claim 7, wherein the reaction is carried out in the presence of water in the method of producing a lower fatty acid from a lower olefin and oxygen in the presence of a catalyst.
【請求項10】 低級オレフィンがエチレン、プロピレン、1−ブテン、2
−ブテン及びブタジエンからなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項
7〜9のいずれかに記載の方法。
10. The lower olefin is ethylene, propylene, 1-butene, 2
-The method according to any one of claims 7 to 9, which is at least one selected from the group consisting of butene and butadiene.
【請求項11】 触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂
肪酸エステルを製造することを含み、反応器における低級オレフィン及び/又は
低級脂肪酸の濃度の調整方法が請求項1〜5のいずれかに記載の調整方法である
、低級脂肪酸エステルの製造方法。
11. A method for adjusting the concentration of a lower olefin and / or a lower fatty acid in a reactor, which comprises producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst. A method for producing a lower fatty acid ester, which is the adjusting method described in 1.
【請求項12】 触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂
肪酸エステルを製造することを含み、その製造プロセスが請求項6に記載の反応
プロセスの制御方法により制御される、低級脂肪酸エステルの製造方法。
12. A lower fatty acid ester, which comprises producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, the production process being controlled by the method for controlling a reaction process according to claim 6. Manufacturing method.
【請求項13】 触媒の存在下に低級オレフィンと低級脂肪酸とから低級脂
肪酸エステルを製造することを含み、水の存在下に反応を行う、請求項11又は
12記載の低級脂肪酸エステルの製造方法。
13. The method for producing a lower fatty acid ester according to claim 11 or 12, which comprises producing a lower fatty acid ester from a lower olefin and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, and performing the reaction in the presence of water.
【請求項14】 触媒の存在下に低級オレフィン、酸素及び低級脂肪酸から
低級脂肪酸エステルを製造することを含み、反応器における低級オレフィン、酸
素及び/又は低級脂肪酸の濃度の調整方法が請求項1〜5のいずれかに記載の調
整方法である、低級脂肪酸エステルの製造方法。
14. A method for adjusting the concentration of lower olefin, oxygen and / or lower fatty acid in a reactor, which comprises producing a lower fatty acid ester from lower olefin, oxygen and lower fatty acid in the presence of a catalyst. 5. The method for producing a lower fatty acid ester, which is the adjusting method according to any one of 5 above.
【請求項15】 触媒の存在下に低級オレフィン、酸素、及び低級脂肪酸と
から低級脂肪酸エステルを製造することを含み、その製造プロセスが請求項6に
記載の反応プロセスの制御方法により制御される、低級脂肪酸エステルの製造方
法。
15. A method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin, oxygen, and a lower fatty acid in the presence of a catalyst, the production process being controlled by the method for controlling a reaction process according to claim 6. Method for producing lower fatty acid ester.
【請求項16】 触媒の存在下に低級オレフィン、酸素及び低級カルボン酸
とから低級脂肪酸エステルを製造する方法において、水の存在下に反応を行う、
請求項14又は15記載の方法。
16. A method for producing a lower fatty acid ester from a lower olefin, oxygen and a lower carboxylic acid in the presence of a catalyst, wherein the reaction is carried out in the presence of water,
The method according to claim 14 or 15.
【請求項17】 低級オレフィンがエチレン、プロピレン、1−ブテン、2
−ブテン及びブタジエンからなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項
11〜16のいずれかに記載の方法。
17. The lower olefin is ethylene, propylene, 1-butene, 2
-The method according to any of claims 11 to 16, which is at least one selected from the group consisting of butene and butadiene.
【請求項18】 低級脂肪酸がギ酸、酢酸、プロピオン酸、アクリル酸及び
メタクリル酸からなる群から選ばれた少なくとも1種である、請求項11〜17
のいずれかに記載の方法。
18. The lower fatty acid is at least one selected from the group consisting of formic acid, acetic acid, propionic acid, acrylic acid and methacrylic acid.
The method described in any one of.
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