JP2003514598A - 足の形状寸法を測定する方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 発泡印象ブロック(１０)およびキャリア（２１）を有する足底輪郭を採寸する装置および方法である。本装置は、前部(１４)および後部(１８)を包含する発泡印象ブロックおよび高さ調節装置を包含するキャリアを有する。後部および高さ調節装置が互いに隣り合うようにブロックがキャリアと組み合わされる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【関連出願】

この出願は、１９９９年１１月５日に出願した合衆国仮出願第６０／１６４,
０９０号の優先権を主張する。この仮出願の記載を参照により本明細書に組み込
むものとする。

【０００２】

【発明の背景】

１．発明の分野 本発明は、靴内部にあるときの足の位置で足の形状寸法を測定するのに使用す
る装置および方法に関する。より詳しくは、本発明は、目標とする履物が持つこ
とになる形状に特別に形成した発泡印象ブロックを有する装置に関する。さらに
、本発明は、靴内部にあるときの足の位置で足底輪郭および足の甲を採寸するこ
のような装置を使用する方法に関する。

【０００３】 ２．関連技術の説明 現在、足底輪郭の形状寸法を測定する方法が数多く存在する。注文中底の製造
においては、足底輪郭の正確な測定値が使われる。従来の方法には、石膏採型、
光学走査、接触センサ採寸ならびに発泡体印象採寸がある。これらの方法では、
足を平らな位置に置く必要がある。しかしながら、或る種の靴（たとえば、ハイ
ヒールまたは傾斜を有する他の靴）では、ユーザーの体重が移ることによって足
底輪郭および足の甲が歪む。したがって、これらの従来方法を使用して作った中
底は、このような歪みを考慮していない。さらに、これらの従来方法は、家庭で
使用するにはあまり適していない。

【０００４】 光学走査方法および接触センサー測定方法は、高価な器材を利用する。これら
の方法は、足の正確で完全な測定値を得ることができる。が、これらの方法に必
要な器材のサイズ、費用および複雑さは、これらの方法をあらゆる場所で使用す
るという点では適当でない。さらに、これらの方法は、靴内部にある位置で足の
形状寸法を正確に測定することができない。

【０００５】 石膏採型方法は、採寸中の人間以外の人間が採寸を実行しなければならない。
この方法は、足を正確かつ完璧に測定することができるが、非常に扱いにくく、
時間がかかる。したがって、石膏採型方法は、家庭で、あるいは、ひとりで使用
するには適していない。さらに、これらの方法は、靴内部にあるときの位置で足
の形状寸法を正確に測定することができない。

【０００６】 発泡印象（foam impression）採寸方法および装置は、容易に変形可能な発泡
体ブロックを利用する。採寸しようとする人間がブロック上に足を載せ、圧力を
加えて発泡体をつぶす。このようにして、発泡体ブロックは、人間の足底輪郭に
近似する形状に変形する。この従来方法は家庭での使用に適しているが、多くの
理由により、足の最適状態に及ばない測定値を生じる。まず、発泡体ブロックは
、かかとからつま先まで厚さが均一である。この理由のため、足を発泡体内に押
し込んだときに、足のつま先の加える圧力がかかとから中足骨頭部までの足領域
よりもかなり小さくなり、つま先が上に押されることになる。つま先が上に押さ
れるということは、多くの問題の原因となる。たとえば、足底筋膜の過度の伸張
、土踏まず高さの低下およびつま先、かかとの不正確な採寸という問題の原因と
なる。次ぎに、全体重をかけたとき、足が膨張して、通常の足印象よりも大きく
なる。さらに、この従来技術は足の甲の採寸ができない。さらに、現在の発泡体
材料および方法は、靴内部にある位置で足の形状寸法を正確に測定することがで
きない。

【０００７】 注文中底の製造においては、石膏採型および発泡体印象方法は、スキャニング
・システムの使用も必要とする。スキャニング・システムは、発泡体または石膏
にある陰型印象に直接作用できる。陰型印象に直接作用するスキャニング・シス
テムは、この技術分野では周知である。これらのレーザー・スキャニング・シス
テムは、走査線発生光学部品を有するレーザーからなる。レーザーは、陰型印象
上へ既知の入射角度で走査線を投射する。陰型印象上のレーザー走査線の位置を
読み取るのにカメラが使用される。あるいは、スキャニング・システムは、石膏
または発泡体にある陰型印象から作った陽型石膏模型に作用してもよい。陽型印
象に直接作用するスキャニング・システムもこの技術分野では周知である。この
ようなスキャニング・システムの１つが、米国特許第４,８７６,７５８号に記載
されているが、そこでは、ピン状センサー配列を構成している。いずれの状況に
おいても、スキャニング・システムは測定した輪郭をデジタル化するのに用いら
れる。デジタル化された輪郭は、コンピュータ制御式フライス盤に装着される。
このフライス盤は、デジタル化情報を使用してデジタル化輪郭と一致する注文中
底を製造する。したがって、本発明の装置および方法は、顧客に注文製造の中底
を提供するより安くてより操作簡単な手段を提供する。 したがって、本発明の目的は、上記の制限を克服する足測定装置および方法を
提供することにある。

【０００８】

【発明の概要】

本発明の目的は、足底輪郭を採寸するための装置を提供することにある。この
装置は、発泡印象ブロックとかかとを有するキャリアとを有する。ブロックは、
つま先肉厚部分、丈部分およびかかと肉厚部分を有する。つま先肉厚部分は、か
かと肉厚部分よりも薄くなっている。ブロックは、かかと肉厚部分およびかかと
が互いに隣り合うようにキャリア上に配置されている。

【０００９】 本発明のさらなる目的は、足底輪郭および足の甲を採寸するための装置を提供
することにある。この装置は、発泡印象ブロックおよびキャリアを有する。キャ
リアは、かかとおよび複数のストラップを有する。ブロックは、つま先肉厚部分
丈部分、かかと肉厚部分を有し、つま先肉厚部分がかかと肉厚部分より薄くなっ
ている。ブロックは、かかと肉厚部分とかかとが互いに隣り合うようにキャリア
上に配置されている。複数のストラップは、キャリア上に配置されており、スト
ラップの各々に設けた複数の採寸用目盛を読み取り可能となるように足の甲まわ
りに巻き付けるようになっている。

【００１０】 本発明の目的は、また、足底輪郭を採寸する方法を提供することにある。この
方法は、(１)かかとを有するキャリア上に配置した発泡印象ブロック上に足底輪
郭を置く段階であって、ブロックがつま先肉厚部分、丈部分およびかかと肉厚部
分を有し、つま先肉厚部分がかかと肉厚部分よりも薄くなっており、かかと肉厚
部分およびかかとが互いに隣り合うようにブロックをキャリア上に配置する段階
と、(２)つま先をつま先肉厚部分と整合させる段階と、(３)ブロック内に足底輪
郭を押圧してブロックを変形させる段階とを有する。

【００１１】 本発明のさらなる目的は、足底輪郭および足の甲を採寸するための方法を提供
することにある。この方法は、(１)かかとおよび複数のストラップを有するキャ
リア上に配置した発泡印象ブロック上に足底輪郭を置く段階であって、ブロック
がつま先肉厚部分、丈部分およびかかと肉厚部分を有し、つま先肉厚部分がかか
と肉厚部分よりも薄くなっており、かかと肉厚部分およびかかとが互いに隣り合
うようにブロックをキャリア上に配置し、キャリアに設けた複数のストラップを
足のまわりに巻き付けるようになっている段階と、(２) 足のつま先をつま先肉
厚部分と整合させる段階と、(３)ブロック内に足底輪郭を押圧してブロックを変
形させる段階と、（４）ストラップの各々に配置した複数の採寸用目盛を読み取
り可能とするようにストラップを足の甲まわりに巻き付ける段階と、（５）スト
ラップの各々によって示される採寸用目盛を書き留める段階とを有する。

【００１２】 添付図面において： 図１は本発明の発泡体ブロックの第一の実施例の側面斜視図であり、 図２は本発明の発泡体ブロックの第二の実施例の背面斜視図であり、 図３は本発明の発泡体ブロックの第三の実施例の正面斜視図であり、図３ａは
図１の発泡体ブロックの実施例上に置いた足の側面図であり、図３ｂは図２の容
器の別の実施例上に置いた足の側面図であり、図３ｃは図３ｂの容器上に置いた
足の背面図であり、 図４は図１の発泡体ブロック上に置いた足の側面斜視図であり、 図５は図１の発泡体ブロックを完全に変形させている足の側面斜視図であり、 図６は図１の変形した発泡体ブロックから除かれつつある足の側面斜視図であ
り、 図７は足を除いた後の図１の変形発泡体ブロックの背面斜視図であり、 図８は足の甲の採寸実施例を示す、図２の変形した発泡体ブロックの正面斜視
図であり、 図９はくさび補正実施例を示す、図２の発泡体ブロックの背面斜視図であり、 図１０ａは本発明の第一の中足骨サポート実施例の側面図であり、図１０ｂは
本発明の第二の中足骨サポート実施例の側面図であり、 図１１ａは本発明の二元密度の実施例に置いた足の背面図であり、図１１ｂは
図１１ａの二元密度の実施例の側面図であり、 図１２は本発明のかかとガイド実施例の斜視図であり、 図１３は本発明の容器の透明実施例の斜視図であり、そして 図１４本発明の走査マーク実施例の頂面図である。

【００１３】

【好ましい実施例の説明】

図、特に図１を参照して、ここには発泡印象ブロックが示してあり、全体的に
参照符号１０が付けてある。ブロック１０は、感圧材料から作ってあり、人間の
足をブロック内に押し込んだときに圧縮する。好ましくは、ブロック１０は、低
密度、高曲げ弾性率および低剪断強さを有する発泡採型材料からなる。したがっ
て、ブロック１０は、容易に変形し、メモリが少ないかあるいはまったくなく、
変形した形状をいつまでも保持する材料となる。断熱に普通使用されているよう
な発泡フェノール材料および超低密度発泡ポリスチレンがブロック１０に適して
いる。好ましい実施例においては、ブロック１０は発泡フェノール材料である。

【００１４】 ブロック１０は、約２〜約２５ポンド／平方インチ（以下に「ｐｓｉ」）の硬
度または密度を有する。正しい発泡体密度の選択は、体重、生活様式または所望
の使用法（たとえば、スポーツ、カジュアルまたはフォーマル）のようなファク
ターに依存する。たとえば、約２ｐｓｉの密度は、着座姿勢においてブロック１
０で足を採型するために選ばれ、約５ｐｓｉの密度は、立った姿勢においてブロ
ック１０で足を採型するために選ばれ、そして、約１０ｐｓｉの密度は、後述す
るようにブロック１０で足の動的採型を行うために選ばれる。

【００１５】 図１に示すように、ブロック１０は、つま先肉厚部１４、かかと１６、かかと
肉厚部１８および丈部１９を有する。一実施例においては、つま先肉厚部１４お
よびかかと肉厚部は同じである。好ましい実施例においては、つま先肉厚部１４
、かかと肉厚部１８および丈部１９は、ブロックにくさび状形状を与える。この
実施例においては、つま先肉厚部１４は、かかと肉厚部１８より薄くなっており
、ブロック１０内に押し込んだときに人間の足のつま先を持ち上げる傾向を最小
限に抑える。たとえば、第一の実施例においては、かかと肉厚部１８は、約２０
mmから約３５mmまでの範囲にあり、そして、つま先肉厚部１４は、約１０mmから
約１５mmまでの範囲にある。好ましい実施例においては、かかと肉厚部１８はほ
ぼ３５mmであり、そして、つま先肉厚部１４はほぼ１０mmである。

【００１６】 ブロック１０は、キャリア２１の頂面に配置されている。キャリア２１は、キ
ャリアの底面に配置したかかと１６を包含する。かかと１６は、女性の靴５と同
様の形状を有するキャリア２１を提供する。ブロック１０は、かかと肉厚部１８
およびかかと１６が互いに隣り合うようにキャリア２１上に配置される。

【００１７】 かかと１６は、ブロック１０を使用して人間の足の採寸精度を向上させる。か
かと１６およびキャリア２１は、所望の靴を着用するときに足が採る姿勢および
形状により接近させる。図２に示すかかと１６の別の実施例においては、男性の
靴の勾配に近似する。この実施例においては、かかと１６およびキャリア２１は
、一体の容器２２を形成する。図３に示すかかと１６のさらに別の実施例におい
ては、スニーカーまたはテニスシューズの勾配に近似する。この実施例において
は、かかと１６およびキャリア２１は、一体の容器２２を形成する。さらに別の
実施例においては、ブロック１０は、調節可能な高さを有するかかと１６を備え
る。かかと１６の高さは、(１)ブロック１０に負の勾配を与える、つま先高さよ
り低いかかと高さ、(２)ブロック１０に勾配を与えない、つま先高さと等しいか
かと高さ、(３)ブロック１０に正の勾配を与える、つま先高さよりも高いかかと
高さから調節可能である。好ましくは、容器２２は、靴底の外観に近似するよう
に形成する。さらに、容器２２の内部は、図１１ａに示すようにその底面２２−
２に対して約９０度の角をなす側壁２２−１を有するか、あるいは、図３ｃに示
すようにその底面２２−２に対して或る半径を持つ側壁２２−２を有するように
形成する。

【００１８】 図３ｂ、３ｃの別の実施例においては、容器２２は、垂直ガイド部分３４を包
含する。この部分３４は、ブロック１０のレベルより上のレベルまで容器２２か
ら上方へ延びている。したがって、部分３４はユーザーがブロック１０に関して
足を整合させるのを助ける。

【００１９】 別の実施例においては、キャリア２１および／または容器２２は、ブロック１
０を屈曲させるように作用する。図３ａに示すこの実施例においては、キャリア
２１は片寄せ部２３を包含する。片寄せ部２３は、かかと１６とつま先部分１７
との間に位置する。好ましくは、片寄せ部２３は、かかと１６と足旋回点部分１
３との間に位置する。片寄せ部１６は、位置２３−１として示すユーザーの重量
の下に弾性的に屈曲あるいは湾曲し、位置２３−２として示す使用後に初位置に
戻る。したがって、片寄せ部２３は、さらに、ブロック１０を用いて、体重のか
かった位置にある人間の足の採寸時の精度および支持を向上させる。別の実施例
においては、片寄せ部２３の屈曲量は調節可能である。片寄せ部２３の屈曲量は
、足の丈に沿って、足の幅に沿って、あるいは、丈と幅の組み合わせに沿って調
節可能である。

【００２０】 ここで、靴を着用している足の位置をより精密に近似させるかかと１６、キャ
リア２１および／または片寄せ部２３の組み合わせも本発明の範囲内に含まれる
ことは了解されたい。

【００２１】 たとえば、人間の足底輪郭を採寸するのにブロック１０を使用することを、図
１に示すブロック１０の実施例に関して以下に説明する。ユーザーは、つま先を
つま先肉厚部１４に向け、かかとをかかと肉厚部１８に向けてブロック１０上に
片足を位置させ、図４に矢印Ａで示す方向へブロック１０に向かって足を動かす
。次に、ユーザーは、ブロック１０が図５に示すように完全に変形するまで、矢
印Ａで示す方向へ体重を加える。体重がかかったとき、ユーザーの足は、靴を履
いているときの形状に一致することになり、かかと高さはかかと１６の高さにほ
ぼ等しくなる。こうして、ブロック１０は、靴を履いたときのユーザーの足の形
状に変形することになる。次に、ユーザーは、図６に矢印Ｂで示す方向に変形し
たブロック１０からその足を取り除く。完全に変形したブロック１０は、図７に
示すように、靴を履いたときに人間の足が採る形状に一致する形状を有すること
になる。

【００２２】 本発明の別の実施例においては、ブロック１０は、足の甲すなわち頂面の採寸
を行うようにした変形例である。この情報も、しばしば、履物を適正に履くのに
必要である。「甲高」の人間は、より深い靴を必要としており、よりぴったり合
った履物に適正に適合させるのを妨げる可能性がある。さらに、当該の足の甲を
知り、或る特定の靴の内部形状寸法を知ることによって、靴が適正に適合してい
るかどうかを知ることが可能である。この情報は、注文仕様の足底輪郭を製造す
るときに不可欠である。たとえば、本発明を使用しての採寸を経て、靴に２mmの
余分なスペースがあることがわかった場合、この余分なスペースを吸収するよう
に足底輪郭の特性を処理することが可能である。

【００２３】 図８に示すように、足の甲を特徴づけるために複数のストラップ８０が用いら
れる。各ストラップ８０は、足の甲範囲を示す頂面に設けた複数の目盛８１を有
する。各ストラップ８０は、キャリア２１または容器２２上に配置してあり、足
の頂面に沿って延びており、足の甲範囲を目盛８１から読み取ることができる。
付加的な特徴として、ストラップ８０はブロック１０を人間の足に固着し、人間
がその足に固着したブロックで歩行できるようにしている。したがって、ストラ
ップ８０は足の動的採型を可能にする。したがって、体重の移行および足サイズ
の変化（歩行の結果として生じる）をブロック１０で取り込むことができる。足
の動的採型には、ブロック１０が少なくとも３ｐｓｉの密度を有することを必要
とする。

【００２４】 しばしば、足の位置を調節することが望ましいことがある。たとえば、しばし
ば、足底輪郭を過度の回内、回外運動等に関して補正しなければならない角度を
操作することが望ましいことがある。この実施例では、図９に示すように、ブロ
ック１０は、さらに、サポート３０を備えている。サポート３０は、足の回内ま
たは回外運動について、または、脚の長さの差異について補正するために、ブロ
ック１０とサポート２１との間に挿入することができる。あるいは、サポート３
０は、容器２２内に構成したスロット３１に挿入可能である。別の実施例では、
サポート３０は、キャリア２１／容器２２内に形成される。サポート３０は、さ
らに、回内または回外運動の所望補正レベルを有する所望の靴を履いたときに足
が採るであろう位置および形状により精密に近似させることによって足の採寸精
度を向上させることができる。

【００２５】 別の実施例においては、サポート３０は、図１０ａに示すブロック１０の下、
あるいは、図１０ｂに示すブロック１０上にある中足骨サポートである。この中
足骨サポートとしてのサポート３０は、所望中足骨サポート・レベルを有する所
望の靴を履いたときに足が採るであろう位置および形状により精密に近づけるこ
とによって人間の足の採寸精度をさらに向上させる。

【００２６】 図１１ａ、１１ｂに示すさらにまた別の実施例においては、サポート３０は、
ブロック１０内で種々の密度の発泡体の選択的に使用することによって得られる
。この実施例では、ブロック１０は、第一の密度を有する領域１０−１およびよ
り低い第二の密度を有する領域１０−２を包含する。領域１０−１（より高い密
度である）は、ユーザのかかとがブロック１０内で適切に位置することを確実に
する。サポート３０は、さらに、適切に位置したときに足が採るであろう位置お
よび形状により精密に近づけることによって足の採寸精度をさらに向上させる。
たとえば、好ましい実施例では、領域１０−１は、５ｐｓｉの密度を有し、領域
１０−２は３ｐｓｉの密度を有する。この実施例においては、領域１０−１のよ
り高い密度は、足がより低い密度領域１０−２内に適切に位置するのを確実にす
る。

【００２７】 ここで、ブロック１０内で足を調節して靴を履いた足の適正位置により精密に
近づけるのを支援するサポート３０が本発明の範囲内に含まれることは了解され
たい。

【００２８】 容器２２を２つ以上の靴サイズについて使用することが望ましい。サポート３
０が容器２２内に固着される実施例においては、足は、サポートを覆って適正に
整合させられなければならない。したがって、図１２に示すかかとガイド４４が
設けられる。かかとガイド４４は、容器２２を２つ以上の靴サイズについて使用
するのを可能にする。かかとガイド４４は、それが容器内にユーザーの足を適正
に位置するように１つまたはそれ以上の位置で容器２２に着脱自在に連結するよ
うになっている。好ましい実施例においては、かかとガイド２２は植込ボルト４
５を包含し、容器２２はくぼみ４６を包含する。植込ボルト４５は、くぼみ４６
と連結して、かかとガイド４４を容器２２に着脱自在に固着するようになってい
る。所望の靴サイズ範囲に近づけるように、植込ボルト４５はガイド２２上に位
置し、くぼみ４６は容器２２上に位置する。

【００２９】 図３に示すように、薄い柔軟な媒体８５、たとえば、といって限定するつもり
はないが、タオル地をブロック１０の頂面に置く。次ぎに、足を柔軟な媒体８５
内へ押し込み、この媒体を介してブロック１０を圧縮する。柔軟な媒体８５は、
ブロック１０のどこかがユーザーの足に付着するのを防ぐように作用する。

【００３０】 しばしば、たとえば、中足骨頭部が存在するような問題のある場合、足の底面
に特殊なポイントをマーク付けすることが望ましいことがある。この例では、容
器２２を図１３に示すように光学的に透明な材料で作ることが望ましい。オプシ
ョンとして、容器２２の一部のみ、たとえば、底面２２−２のみを光学的に透明
な材料で作ってもよい。好ましくは、透明な容器２２に基準グリッド６０を設け
る。オプションとして、基準グリッド６０は、ハリス・マット、ペド棒グラフ、
補正用のコンピュータ・ディスプレイ・ソフトウェアに関するグリッドである。
したがって、透明な容器２２により、ユーザは、容器２２からブロック１０を取
り除いてから、足を基準グリッド６０に合わせて置き、任意の存在する問題スポ
ットを正確にマーク付けすることができる。

【００３１】 上述したように、ブロック１０によって採寸した足底輪郭は、しばしば、注文
中底の製造で使われる。ブロック１０上の輪郭を注文中底に変換するプロセスで
は、スキャナを使用してブロック１０から輪郭を直接デジタル化する必要がある
。この例では、キャリア２１および／または容器２２が図１２、１４に示すよう
に１つまたはそれ以上の走査基準マーク３３を含むことが望ましい。マーク３３
は、光学スキャナが容器および採寸済みの足底輪郭の迅速かつ正確なセンタリン
グを行うのを支援する。

【００３２】 オプションとして、容器２２および／またはキャリア２１は、ブロック１０を
その中に固着するための機構を包含する。たとえば、第一の実施例においては、
接着剤を使用して容器２２内にブロック１０を固着する。別の実施例においては
、くぼみ７０（図１０ａに示す）またはスロット７１（図１０ｂに示す）が容器
２２に形成される。くぼみ７０および／またはスロット７１は、ブロックをその
変形前に取り除くのを可能にする。しかしながら、ひとたびユーザが変形させた
ならば、ブロック１０はくぼみ７０および／またはスロットに７１内に膨張し、
容器２２内にブロックを固着する。

【００３３】 ここで、前記の説明が本発明を例示しているに過ぎないことは了解されたい。
発明から逸脱することなく、当業者は種々の変更、修正を工夫し得ることができ
る。したがって、本発明は、添付の特許請求の範囲内に入るこのような変更、修
正、改造のすべてを含むことを意図している。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の発泡体ブロックの第一の実施例の側面斜視図である。

【図２】 本発明の発泡体ブロックの第二の実施例の背面斜視図である。

【図３】 本発明の発泡体ブロックの第三の実施例の正面斜視図である。

【図３ａ】 図１の発泡体ブロックの実施例上に置いた足の側面図である。

【図３ｂ】 図２の容器の別の実施例上に置いた足の側面図である。

【図３ｃ】 図３ｂの容器上に置いた足の背面図である。

【図４】 図１の発泡体ブロック上に置いた足の側面斜視図である。

【図５】 図１の発泡体ブロックを完全に変形させている足の側面斜視図である。

【図６】 図１の変形した発泡体ブロックから除かれつつある足の側面斜視図である。

【図７】 足を除いた後の図１の変形発泡体ブロックの背面斜視図である。

【図８】 足の甲の採寸実施例を示す、図２の変形した発泡体ブロックの正面斜視図であ
る。

【図９】 くさび補正実施例を示す、図２の発泡体ブロックの背面斜視図である。

【図１０ａ】 本発明の第一の中足骨サポート実施例の側面図である。

【図１０ｂ】 本発明の第二の中足骨サポート実施例の側面図である。

【図１１ａ】 本発明の二元密度の実施例に置いた足の背面図である。

【図１１ｂ】 図１１ａの二元密度の実施例の側面図である。

【図１２】 本発明のかかとガイド実施例の斜視図である。

【図１３】 本発明の容器の透明実施例の斜視図である。

【図１４】 本発明の走査マーク実施例の頂面図である。

【手続補正書】特許協力条約第３４条補正の翻訳文提出書

【提出日】平成１３年１１月１４日（２００１．１１．１４）

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】特許請求の範囲

【補正方法】変更

【補正の内容】

【特許請求の範囲】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ，ＴＲ)，ＯＡ(ＢＦ ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ， ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，Ｇ Ｍ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ， ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ， ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｂ Ｚ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ， ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，Ｊ Ｐ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ， ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ

Claims (57)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 足底輪郭を採寸するための装置であって、前部および後部を
   有する発泡印象ブロックと、高さを調節するための手段を包含するキャリアとを
   包含し、前記高さ調節手段が後部あるいは前部のいずれかに隣接するように前記
   ブロックを前記キャリアと組み合わせたことを特徴とする装置。
2. 【請求項２】 請求項１の装置において、前記前部がつま先肉厚部を有し、
   前記後部がかかと肉厚部を有し、前記つま先肉厚部が前記かかと肉厚部より薄い
   ことを特徴とする装置。
3. 【請求項３】 請求項１の装置において、前記ブロックが膨張したフェノー
   ル発泡体であることを特徴とする装置。
4. 【請求項４】 請求項２の装置において、前記かかと肉厚部が、約２０mmか
   ら約３５mmまでの範囲にあり、前記つま先肉厚部が、約１０mmから約１５mmまで
   の範囲にあることを特徴とする装置。
5. 【請求項５】 請求項１の装置において、前記高さ調節手段が前記ブロック
   に勾配を与えることができ、前記勾配が、前記高さ調節手段が後部に隣接してい
   るときの正の勾配から、前記高さ調節手段が前部に隣接しているときの負の勾配
   までの範囲にあることを特徴とする装置。
6. 【請求項６】 請求項１の装置において、前記キャリアおよび前記高さ調節
   手段が一体の容器を形成していることを特徴とする装置。
7. 【請求項７】 請求項６の装置において、前記一体の容器が、靴底の形をし
   ていることを特徴とする装置。
8. 【請求項８】 請求項７の装置において、前記一体の容器が、その底面に対
   して約９０度の角をなす側壁を有することを特徴とする装置。
9. 【請求項９】 請求項７の装置において、前記一体の容器が、その底面に対
   して或る半径を有する側壁を有することを特徴とする装置。
10. 【請求項１０】 請求項６の装置において、前記一体の容器の少なくとも底
    部が透明であることを特徴とする装置。
11. 【請求項１１】 請求項１０の装置において、前記底部が、さらに、足底輪
    郭の識別スポットを精密にマークするようになっている基準グリッドを包含する
    ことを特徴とする装置。
12. 【請求項１２】 請求項１の装置において、前記キャリアが、さらに、 前記ブロックが足底輪郭の採寸精度を向上させるように、使用時に屈曲あるいは
    弯曲するようになっている片寄せ部を包含することを特徴とする装置。
13. 【請求項１３】 請求項１２の装置において、前記片寄せ部の屈曲量が調節
    可能であることを特徴とする装置。
14. 【請求項１４】 請求項１２の装置において、前記片寄せ部が、前記高さ調
    節手段と前記キャリアの回動点部分との間に位置することを特徴とする装置。
15. 【請求項１５】 請求項６の装置において、さらに、前記ブロックおよび前
    記キャリアを結合する手段を包含することを特徴とする装置。
16. 【請求項１６】 請求項１５の装置において、前記結合手段が接着剤である
    ことを特徴とする装置。
17. 【請求項１７】 請求項１５の装置において、前記結合手段が前記容器内の
    少なくとも１つのスロットであることを特徴とする装置。
18. 【請求項１８】 請求項１５の装置において、前記結合手段が前記容器内の
    少なくとも１つのくぼみであることを特徴とする装置。
19. 【請求項１９】 請求項１５の装置において、前記結合手段が前記ブロック
    と前記容器との締りばめであることを特徴とする装置。
20. 【請求項２０】 請求項１の装置において、さらに、足底輪郭を操作する手
    段を包含することを特徴とする装置。
21. 【請求項２１】 請求項２０の装置において、前記操作手段が前記ブロック
    と前記キャリアとの間にあるくさびであることを特徴とする装置。
22. 【請求項２２】 請求項２０の装置において、前記操作手段が前記ブロック
    と前記キャリアとの間にある中足骨サポートであることを特徴とする装置。
23. 【請求項２３】 請求項２０の装置において、前記操作手段が前記ブロック
    上にある中足骨サポートであることを特徴とする装置。
24. 【請求項２４】 請求項２０の装置において、前記操作手段が、第一の密度
    を有する前記ブロックの第一の領域と、第二の密度を有する前記ブロックの第二
    の領域とを包含することを特徴とする装置。
25. 【請求項２５】 請求項２４の装置において、前記第一の密度が前記第二の
    密度より低いことを特徴とする装置。
26. 【請求項２６】 請求項６の装置において、さらに、走査フィールド内に前
    記ブロックを芯合わせするように光学スキャナを支援する少なくとも１つの走査
    基準手段を包含することを特徴とする装置。
27. 【請求項２７】 請求項６の装置において、前記容器が、さらに、前記ブロ
    ック内にユーザの足を導くように配置した垂直ガイド手段を包含することを特徴
    とする装置。
28. 【請求項２８】 足底輪郭および足の甲を採寸するための装置において、前
    部および後部を有する発泡印象ブロックと、キャリア手段および高さ調節手段を
    包含する容器と、前記容器上に配置してあり、足の甲まわりに巻き付ける陽にな
    っている少なくとも１つのストラップとを包含し、前記ブロックが、前記高さ調
    節手段が前部または後部のいずれかに隣接するように前記キャリアと組み合わせ
    てあることを特徴とする装置。
29. 【請求項２９】 請求項２８の装置において、前記前部が前部肉厚部分を有
    し、前記後部が後部肉厚部分を有し、前記前部肉厚部分が前記後部肉厚部分より
    薄くなっていることを特徴とする装置。
30. 【請求項３０】 請求項２８の装置において、前記少なくとも１つのストラ
    ップに複数の採寸用目盛が配置してあり、前記少なくとも１つのストラップを足
    の甲まわりに巻き付けたときにこの採寸用目盛を読むことができるようになって
    いることを特徴とする装置。
31. 【請求項３１】 請求項２８の装置において、前記ブロックが膨張したフェ
    ノール発泡体であることを特徴とする装置。
32. 【請求項３２】 請求項２８の装置において、前記後部肉厚部分が約２０mm
    から約３５mmまでの範囲にあり、前記前部肉厚部分が約１０mmから約１５mmまで
    の範囲にあることを特徴とする装置。
33. 【請求項３３】 請求項２８の装置において、前記高さ調節手段が前記ブロ
    ックに或る勾配を与えることができ、前記勾配が、前記高さ調節手段が後部に隣
    接しているときの正の勾配から前記高さ調節手段が前部に隣接しているときの負
    の勾配までの範囲にあることを特徴とする装置。
34. 【請求項３４】 請求項２８の装置において、前記容器が靴底の形となって
    いることを特徴とする装置。
35. 【請求項３５】 請求項２８の装置において、前記容器の少なくとも底部分
    が透明であることを特徴とする装置。
36. 【請求項３６】 請求項３５の装置において、前記底部分が、さらに、足底
    輪郭の識別スポットをマークするようになっている基準グリッドを包含すること
    を特徴とする装置。
37. 【請求項３７】 請求項２８の装置において、前記キャリア手段が、さらに
    、前記ブロックが足底輪郭の採寸精度を向上させるように、使用時に屈曲あるい
    は弯曲するようになっている片寄せ部を包含することを特徴とする装置。
38. 【請求項３８】 請求項２８の装置において、さらに、前記ブロックと前記
    キャリアとを結合する手段を包含することを特徴とする装置。
39. 【請求項３９】 請求項２８の装置において、さらに、足底輪郭を操作する
    手段を包含することを特徴とする装置。
40. 【請求項４０】 請求項３９の装置において、前記操作手段が、前記ブロッ
    クと前記キャリア手段との間にあるくさびであることを特徴とする装置。
41. 【請求項４１】 請求項３９の装置において、前記操作手段が、前記ブロッ
    クと前記キャリア手段との間にある中足骨サポートであることを特徴とする装置
    。
42. 【請求項４２】 請求項３９の装置において、前記操作手段が、前記ブロッ
    ク上の中足骨サポートであることを特徴とする装置。
43. 【請求項４３】 請求項３９の装置において、前記操作手段が、第１密度を
    有する前記ブロックの第１領域と、第２密度を有する前記ブロックの第２領域で
    あることを特徴とする装置。
44. 【請求項４４】 請求項４３の装置において、前記第１密度が前記第２密度
    より低いことを特徴とする装置。
45. 【請求項４５】 請求項２８の装置において、さらに、走査フィールド内に
    前記ブロックを芯合わせするように光学スキャナを支援する少なくとも１つの走
    査基準手段を包含することを特徴とする装置。
46. 【請求項４６】 請求項２８の装置において、前記容器が、さらに、前記ブ
    ロック内にユーザの足を導くように配置した垂直ガイド手段を包含することを特
    徴とする装置。
47. 【請求項４７】 足底輪郭を採寸する方法であって、高さを調節するための
    手段を有するキャリアと組み合わせた発泡印象ブロック上に足底輪郭を置く段階
    であり、前記ブロックが前部および後部を有し、前記高さ調節手段が前部あるい
    は後部のいずれかに隣接するように前記ブロックを前記キャリアと組み合わせる
    段階と、足のつま先を前記前部に整合させる段階と、足底輪郭内に前記ブロック
    を押圧して前記ブロックを変形させる段階とを包含することを特徴とする方法。
48. 【請求項４８】 請求項４７の方法において、前記前部が前部肉厚部分を有
    し、前記後部が後部肉厚部分を有し、前記前部肉厚部分が前記後部肉厚部分より
    薄いことを特徴とする方法。
49. 【請求項４９】 請求項４７の方法において、さらに、前記キャリアと組み
    合わせた少なくとも１つのストラップを介して前記ブロックを足に固着する段階
    と、足に固着した前記ブロックで歩行して足底輪郭を動的採型する段階とを包含
    することを特徴とする方法。
50. 【請求項５０】 請求項４７の方法において、さらに、前記発泡印象ブロッ
    ク上に足底輪郭を置く前に前記ブロックと前記キャリアとの間で足底輪郭を操作
    する挿入手段を包含することを特徴とする方法。
51. 【請求項５１】 足底輪郭および足の甲を採寸する方法であって、高さを調
    節する手段および少なくとも１つのストラップを有するキャリア上に配置した発
    泡印象ブロック上に足底輪郭を置く段階であり、前記ブロックが前部および後部
    を有し、前記高さ調節手段を前記前部または前記後部のいずれかに隣接するよう
    に前記ブロックを前記キャリアと組み合わせ、前記少なくとも１つのストラップ
    が足の甲まわりに巻き付けるようにした段階と、足のつま先を前記前部と整合さ
    せる段階と、前記ブロック内に足底輪郭を押圧して前記ブロックを変形させる段
    階と、前記少なくとも１つのストラップ上に配置した複数の採寸用目盛を読みと
    ることができるように前記少なくとも１つのストラップを足の甲まわりに巻き付
    ける段階と、前記少なくとも１つのストラップによって示される前記採寸用目盛
    を書き留める段階とを包含することを特徴とする方法。
52. 【請求項５２】 請求項５１の方法において、前記前部が前記後部の厚さよ
    り薄い厚さを有することを特徴とする方法。
53. 【請求項５３】 請求項５１の方法において、さらに、前記少なくとも１つ
    のストラップを介して前記ブロックを足に固着する段階と、足に固着した前記ブ
    ロックで歩行して足底輪郭の動的採型を行う段階とを有することを特徴とする方
    法。
54. 【請求項５４】 注文中底を作る方法であって、高さを調節するための手段
    を有するキャリアと組み合わせた発泡印象ブロックであり、前部および後部を有
    するブロック上に足底輪郭を置くことによって足底輪郭を採寸する段階と、足の
    つま先を前部と整合させる段階と、足底輪郭をブロック内に押圧してブロックを
    変形させる段階と、スキャナを使用して変形したブロックによって与えられた足
    底輪郭をデジタル化する段階と、コンピュータ制御式フライス盤にデジタル化足
    底輪郭を装着する段階と、コンピュータ制御式フライス盤を操作してデジタル化
    輪郭を使用して注文中底を製作する段階とを包含することを特徴とする方法。
55. 【請求項５５】 請求項５４の方法において、前部が後部よりも厚くなって
    いることを特徴とする方法。
56. 【請求項５６】 請求項５４の方法において、足底輪郭を採寸する段階が、
    さらに、キャリアと組み合わせた少なくとも１つのストラップを介してブロック
    を足に固着する段階と、足に固着したブロックで歩行して足底輪郭の動的採型を
    行う段階とを包含することを特徴とする方法。
57. 【請求項５７】 請求項５４の方法において、足底輪郭を採寸する段階が、
    さらに、ブロックとキャリアとの間の足底輪郭を操作する挿入手段を包含するこ
    とを特徴とする方法。