JP2003500612A - 膠着された弁を解放する方法 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
膠着された弁を解放するために、検査ポートは弁胴の壁内に形成され、弁の膠着されている領域が決定されており、1つ以上の注入ポートが弁の膠着部分に隣接する弁胴内に形成され、加圧流体(好ましくは、非常に高い円錐状浸透度を有する不溶性潤滑剤)が前記注入ポートまたは各注入ポートを貫流して注入され、それから注入ポートは閉鎖される。
Description
【0001】
本発明は、膠着された弁を解放する方法に関し、特に(しかし他を排除せずに
)、膠着された水用弁を解放する方法に関する。
)、膠着された水用弁を解放する方法に関する。
【0002】
特に水流を制御するための流量制御弁(流量調整弁)は、しばしば長期間にわ
たり、時折10年間にもわたり、同一の位置に完全に放置されたままにある。こ
れら弁は、完全に閉じた位置、または完全に開いた位置、またはこれら2つの極
端な位置の中間位置のままであることもある。
たり、時折10年間にもわたり、同一の位置に完全に放置されたままにある。こ
れら弁は、完全に閉じた位置、または完全に開いた位置、またはこれら2つの極
端な位置の中間位置のままであることもある。
【0003】
このような弁が、定期的に作動されない場合、通常、垢(スケール)は、弁の
内部構成要素上に沈着することになる。垢の生成は、特に、弁が多年にわたり作
動されていない場合、弁を作動させることが不可能になるほどひどくなることも
ある。この問題は、例えば仕切弁(ゲートバルブ)、プラグ弁、ボール弁、逆止
弁、バタフライバルブを含むすべてのタイプの弁において発生する。
内部構成要素上に沈着することになる。垢の生成は、特に、弁が多年にわたり作
動されていない場合、弁を作動させることが不可能になるほどひどくなることも
ある。この問題は、例えば仕切弁(ゲートバルブ)、プラグ弁、ボール弁、逆止
弁、バタフライバルブを含むすべてのタイプの弁において発生する。
【0004】
弁を作動することが必要となる場合(例えば、修理作業を弁の下流で実施可能
にするために、ある長さのパイプを単離する場合)、弁が垢の生成により再作動
不能に膠着されているならば、ただ一つの解決法は、膠着された弁の上流に位置
する作動可能な弁を探し出し、上流の弁を閉じるとともに、膠着された弁を取外
して交換することにある。これは、膠着された弁が作動可能であったならば正常
の供給を維持し、さもなければ消費者に迷惑をかけることもあるだけでなく、膠
着された弁の交換は、時間がかかり、高価な手順(プロシージャー)である。さ
らに、交換された弁が修復可能であることは稀であり、通常は廃棄される。
にするために、ある長さのパイプを単離する場合)、弁が垢の生成により再作動
不能に膠着されているならば、ただ一つの解決法は、膠着された弁の上流に位置
する作動可能な弁を探し出し、上流の弁を閉じるとともに、膠着された弁を取外
して交換することにある。これは、膠着された弁が作動可能であったならば正常
の供給を維持し、さもなければ消費者に迷惑をかけることもあるだけでなく、膠
着された弁の交換は、時間がかかり、高価な手順(プロシージャー)である。さ
らに、交換された弁が修復可能であることは稀であり、通常は廃棄される。
【0005】
本発明の目的は、膠着された弁を解放することにある。
【0006】
本発明の第1の態様では、弁ハウジング、入口、出口、前記入口と前記出口と
の間に位置する前記弁ハウジング内の弁座、および、弁の開度を制御するために
前記弁座と解除可能に係合し得る弁閉鎖部材を有するタイプの膠着された弁を解
放する方法であって、 (a)前記弁の膠着された部分に隣接する前記弁ハウジングの壁内に1つ以上の
注入ポートを形成するステップと、 (b)前記注入ポートまたは各注入ポートを通過させて、前記弁の前記膠着され
た部分へ向けて加圧処理流体を注入するステップと、 (c)前記ポートまたは各ポートを閉鎖するステップとを含んでいる方法が提供
される。
の間に位置する前記弁ハウジング内の弁座、および、弁の開度を制御するために
前記弁座と解除可能に係合し得る弁閉鎖部材を有するタイプの膠着された弁を解
放する方法であって、 (a)前記弁の膠着された部分に隣接する前記弁ハウジングの壁内に1つ以上の
注入ポートを形成するステップと、 (b)前記注入ポートまたは各注入ポートを通過させて、前記弁の前記膠着され
た部分へ向けて加圧処理流体を注入するステップと、 (c)前記ポートまたは各ポートを閉鎖するステップとを含んでいる方法が提供
される。
【0007】
これは、膠着された弁を非常に効果的に解放し、通常は、膠着された弁の取外
しおよび交換の必要性を除去することが分かった。
しおよび交換の必要性を除去することが分かった。
【0008】
1つの実施形態では、本発明が、
(d)前記弁ハウジングの壁内に検査ポートを形成するステップと、
(e)前記検査ポートを介して、前記弁の前記膠着された部分の位置を決定する
ステップとをさらに含んでいる。
ステップとをさらに含んでいる。
【0009】
好ましくは、前記弁の前記膠着された部分の位置が、前記検査ポートを介して
前記弁の内部を調査することにより決定される。また、前記膠着された部分の位
置が、視覚的におよび/または探針(プローグ)により決定されることが可能で
ある。
前記弁の内部を調査することにより決定される。また、前記膠着された部分の位
置が、視覚的におよび/または探針(プローグ)により決定されることが可能で
ある。
【0010】
好ましくは、前記ステップ(b)の前に加圧試験流体は、前記ポートが前記ス
テップ(b)を経験するのに適することを保証するために、前記注入ポートまた
は各注入ポートに適用される。これは、処理流体が注入される際、潜在的に非常
に危険な圧力生成が発生しないことを保証する。
テップ(b)を経験するのに適することを保証するために、前記注入ポートまた
は各注入ポートに適用される。これは、処理流体が注入される際、潜在的に非常
に危険な圧力生成が発生しないことを保証する。
【0011】
好ましくは、前記処理流体は清缶剤流体(スケール防止流体)を含んでいる。
前記清缶剤流体は、高い円錐状浸透度を有することもあり、例えばグリースなど
の流体潤滑剤内の増粘剤の固体または半固体分散系の形式の潤滑剤である。また
、前記清缶剤流体は、弁が流体の流れを制御するように設計されている流体内で
不溶性であることが好ましい。
前記清缶剤流体は、高い円錐状浸透度を有することもあり、例えばグリースなど
の流体潤滑剤内の増粘剤の固体または半固体分散系の形式の潤滑剤である。また
、前記清缶剤流体は、弁が流体の流れを制御するように設計されている流体内で
不溶性であることが好ましい。
【0012】
選択的に、本方法は、膠着が発生した弁の少なくとも1つの部分内に振動を誘
起することをさらに含んでいる。
起することをさらに含んでいる。
【0013】
振動は、膠着された弁を非常に効果的に解放し、通常は、膠着された弁の取外
しおよび交換の必要性を除去する。本技術は、しばしば弁の膠着の原因である垢
の沈着生成体を固定位置から取除くのに、特に有用である。
しおよび交換の必要性を除去する。本技術は、しばしば弁の膠着の原因である垢
の沈着生成体を固定位置から取除くのに、特に有用である。
【0014】
超音波周波数での振動の誘起が、特に効果的であることが分かった。振動は
、弁の一部(例えば、弁ハウジングまたは、ねじ付ステムや仕切弁の弁閉鎖ゲー
トなどの弁の内部構成要素など)と接触させて超音波変換器を配置することによ
り、誘起される。代替的に、または付加的に、振動は、前記弁の一部と接触する
流体と接触させて前記超音波変換器を配置することにより、誘起されることも可
能である。特に、前記超音波変換器は、前記弁内の開口を通過させて、前記超音
波変換器が前記弁ハウジング内に収容されている液体内に突出するようにするこ
とも可能である。
、弁の一部(例えば、弁ハウジングまたは、ねじ付ステムや仕切弁の弁閉鎖ゲー
トなどの弁の内部構成要素など)と接触させて超音波変換器を配置することによ
り、誘起される。代替的に、または付加的に、振動は、前記弁の一部と接触する
流体と接触させて前記超音波変換器を配置することにより、誘起されることも可
能である。特に、前記超音波変換器は、前記弁内の開口を通過させて、前記超音
波変換器が前記弁ハウジング内に収容されている液体内に突出するようにするこ
とも可能である。
【0015】
液体の振動は、いわゆる「キャビテーション」すなわち液体の「低温沸騰」を
惹起し、これによって、流体内に急激な気泡の形成および爆縮が起こることにな
る。垢沈着生成体を固定位置から取除くのは、液体のキャビテーションであると
考えられている。
惹起し、これによって、流体内に急激な気泡の形成および爆縮が起こることにな
る。垢沈着生成体を固定位置から取除くのは、液体のキャビテーションであると
考えられている。
【0016】
本発明の第1の態様では、膠着された弁を解放するための組成が、
75〜90重量%(好ましくは80〜85重量%)のポリアルファオレフィン
と、 3〜15重量%(好ましくは6〜12重量%)の粉末シリカと、 0.5〜5重量%(好ましくは1.5〜3重量%)の粉末PTFEと、 1〜6重量%(好ましくは2〜5重量%)のジ−n−オクチルセバケートとを
含んでいる。
と、 3〜15重量%(好ましくは6〜12重量%)の粉末シリカと、 0.5〜5重量%(好ましくは1.5〜3重量%)の粉末PTFEと、 1〜6重量%(好ましくは2〜5重量%)のジ−n−オクチルセバケートとを
含んでいる。
【0017】
好ましくは、前記組成は、例えば前記組成の0.05〜1重量%(および好ま
しくは0.1〜0.5重量%)を含んでいてもよい殺菌剤をさらに含んでいる。
しくは0.1〜0.5重量%)を含んでいてもよい殺菌剤をさらに含んでいる。
【0018】
好ましくは、前記組成は、例えば前記組成の0.05〜1重量%(および好ま
しくは0.1〜0.5重量%)を含んでいてもよい抗酸化剤をさらに含んでいる
。
しくは0.1〜0.5重量%)を含んでいてもよい抗酸化剤をさらに含んでいる
。
【0019】
本発明は、第1の態様に従って、膠着された弁を解放する方法も含み、この場
合、処理流体は第2の態様による組成を含んでいる。
合、処理流体は第2の態様による組成を含んでいる。
【0020】
本発明の第3の態様では、弁ハウジング、入口、出口、前記入口と前記出口と
の間に位置する弁座、前記弁の開度を制御するために前記弁と解除可能に係合し
得る弁閉鎖部材、および、弁の膠着が発生することが予測される位置で前記弁ハ
ウジングの壁内に位置する複数のポートを含んでいる弁が提供される。
の間に位置する弁座、前記弁の開度を制御するために前記弁と解除可能に係合し
得る弁閉鎖部材、および、弁の膠着が発生することが予測される位置で前記弁ハ
ウジングの壁内に位置する複数のポートを含んでいる弁が提供される。
【0021】
このような弁が将来ある時点で膠着される場合、弁を解放する本方法では、必
要なポートのうちの全部ではないにしても大部分が、製造中に弁上にすでに設け
られている事実からして、簡素化されている。これらポートは、好ましくはタッ
プ立てされ、弁の通常の使用中はプラグが差込まれている。
要なポートのうちの全部ではないにしても大部分が、製造中に弁上にすでに設け
られている事実からして、簡素化されている。これらポートは、好ましくはタッ
プ立てされ、弁の通常の使用中はプラグが差込まれている。
【0022】
【発明の実施の形態】
例示的のみに、本発明のある特定の例を、添付図面を参照しながら、以下に説
明する。
明する。
【0023】
図1〜図4は、弁を通過する流路15を形成する入口ポート部分区間12およ
び出口部分区間14を有する主要鋳鉄弁胴10を有するハウジングを含む仕切弁
を示している。入口ポート部分区間12および出口ポート部分区間14は、使用
中、フランジ20によりそれぞれ入口管16および出口管18に接続されており
、フランジ20は、入口ポート部分区間12、出口ポート部分区間14、入口管
16および出口管18上にそれぞれ形成され、フランジ20は、フランジ20内
の位置合せされた開口を通過するボルト22により互いに固定されている。ボル
ト22は、保持ナット24により位置決めされて保持されている。
び出口部分区間14を有する主要鋳鉄弁胴10を有するハウジングを含む仕切弁
を示している。入口ポート部分区間12および出口ポート部分区間14は、使用
中、フランジ20によりそれぞれ入口管16および出口管18に接続されており
、フランジ20は、入口ポート部分区間12、出口ポート部分区間14、入口管
16および出口管18上にそれぞれ形成され、フランジ20は、フランジ20内
の位置合せされた開口を通過するボルト22により互いに固定されている。ボル
ト22は、保持ナット24により位置決めされて保持されている。
【0024】
また、ハウジングは弁帽(ボンネット)26を有し、弁帽26は、図1におい
て最良に示されているように、弁の流れ方向に対してほぼ垂直に突出し、ねじ付
ステム28を収容している。ステム28は、弁帽の上端に固定されている歯車箱
32内の歯車を介して、手動ホイール30により回転可能となっている。
て最良に示されているように、弁の流れ方向に対してほぼ垂直に突出し、ねじ付
ステム28を収容している。ステム28は、弁帽の上端に固定されている歯車箱
32内の歯車を介して、手動ホイール30により回転可能となっている。
【0025】
図1〜図4に示す仕切弁は、非上昇型ステムバルブであり、さらに、弁閉鎖部
材34を含んでいる。弁閉鎖部材34は、2つの互いに間隔を置いて位置する金
属ディスク36を含んでおり、ディスク36の上端は、カラー38で互いに接合
されている。弁閉鎖部材のカラー38は、ねじ付ステム28をねじり入れられて
収容し、弁閉鎖部材自身は、ハウジングの内壁を形成する際に形成された案内路
39により弁の流れ方向に対して垂直の方向で動くように制約されている。この
ようにして、手動ホイール30によりバルブステム28を回転させることにより
、弁閉鎖部材34は、図3に示す閉鎖位置と、弁帽内に配置されかつ弁の流路外
に配置される開放位置との間を移動可能となっている。
材34を含んでいる。弁閉鎖部材34は、2つの互いに間隔を置いて位置する金
属ディスク36を含んでおり、ディスク36の上端は、カラー38で互いに接合
されている。弁閉鎖部材のカラー38は、ねじ付ステム28をねじり入れられて
収容し、弁閉鎖部材自身は、ハウジングの内壁を形成する際に形成された案内路
39により弁の流れ方向に対して垂直の方向で動くように制約されている。この
ようにして、手動ホイール30によりバルブステム28を回転させることにより
、弁閉鎖部材34は、図3に示す閉鎖位置と、弁帽内に配置されかつ弁の流路外
に配置される開放位置との間を移動可能となっている。
【0026】
図4に最良に示されているように金属ディスク36のそれぞれの外面のリムに
は、シールリング40が設けられ、各シールリング40は、弁ハウジング内のそ
れぞれの環状弁座42と係合可能になっている。弁閉鎖部材34が、図4に示さ
れているように閉鎖位置に動かされると、2つの金属ディスク36は、ハウジン
グの床上のウェッジ44と係合し、これにより、金属ディスク36は、強制的に
互いから僅かに遠ざけられ、それぞれの弁座と密封接触するようになっている。
は、シールリング40が設けられ、各シールリング40は、弁ハウジング内のそ
れぞれの環状弁座42と係合可能になっている。弁閉鎖部材34が、図4に示さ
れているように閉鎖位置に動かされると、2つの金属ディスク36は、ハウジン
グの床上のウェッジ44と係合し、これにより、金属ディスク36は、強制的に
互いから僅かに遠ざけられ、それぞれの弁座と密封接触するようになっている。
【0027】
このようにして、弁が長期間にわたり作動されないままである場合には、垢が
弁閉鎖部材34を動かすのが可能でない程に、金属ディスク36と弁ハウジング
との間の表面上に生成される確率が高い。この問題は、弁が図4に示されている
ような閉鎖位置にあり、弁の密封表面が互いに密に接触している場合に特に深刻
である。しかし、この問題は、弁閉鎖部材の位置がどのようであっても存在する
。例えば、垢がねじ付ステム28のほぼ全長にわたり生成されることが可能であ
り、これにより、ねじ付ステム28が、弁閉鎖部材のねじ付カラー38に対して
回転することが非常に困難となることが分かる。
弁閉鎖部材34を動かすのが可能でない程に、金属ディスク36と弁ハウジング
との間の表面上に生成される確率が高い。この問題は、弁が図4に示されている
ような閉鎖位置にあり、弁の密封表面が互いに密に接触している場合に特に深刻
である。しかし、この問題は、弁閉鎖部材の位置がどのようであっても存在する
。例えば、垢がねじ付ステム28のほぼ全長にわたり生成されることが可能であ
り、これにより、ねじ付ステム28が、弁閉鎖部材のねじ付カラー38に対して
回転することが非常に困難となることが分かる。
【0028】
本発明は、このような膠着された弁を解放するための技術に関する。本技術は
、弁のタイプおよびサイズに依存して変化することもあるが、一般原理は同一で
ある。
、弁のタイプおよびサイズに依存して変化することもあるが、一般原理は同一で
ある。
【0029】
前述の弁において、手順における第1のステップは、仕切弁の位置が知られて
ない場合、その位置を探し出すことにある。これは、仕切弁が位置すると考えら
れる領域内の弁胴(または弁帽)内にパイロット孔を穿孔することを含んでいる
。この場合、パイロット孔46を穿孔するのに適切な位置としては、管16,1
8の長手軸線と同一の高さで、弁座の下流に位置する弁胴側の点である。このパ
イロット孔46は、最初に注入ポートねじを切るのに充分な深さまで穿孔され、
弁胴を貫通するように穿孔されている。ビデオスコープにより、または、パイロ
ット孔を通過させて機械的探針を挿入することにより、閉鎖部材34のおおよそ
の位置が確証され、同様に、弁ハウジング壁の厚さが確認される。次いで、パイ
ロット孔44は、ねじ付プラグにより密封される。
ない場合、その位置を探し出すことにある。これは、仕切弁が位置すると考えら
れる領域内の弁胴(または弁帽)内にパイロット孔を穿孔することを含んでいる
。この場合、パイロット孔46を穿孔するのに適切な位置としては、管16,1
8の長手軸線と同一の高さで、弁座の下流に位置する弁胴側の点である。このパ
イロット孔46は、最初に注入ポートねじを切るのに充分な深さまで穿孔され、
弁胴を貫通するように穿孔されている。ビデオスコープにより、または、パイロ
ット孔を通過させて機械的探針を挿入することにより、閉鎖部材34のおおよそ
の位置が確証され、同様に、弁ハウジング壁の厚さが確認される。次いで、パイ
ロット孔44は、ねじ付プラグにより密封される。
【0030】
弁閉鎖部材が、22.86センチメートル(9インチ)よりも大きく開いてい
ることが分かった場合、2つの検査孔48が穿孔され、各ゲートガイドの頂部上
方で約7.62センチメートル(約3インチ)の個所にセンタリングされた弁帽
の各側にそれぞれタップ立てされる。バルブゲートが、完全に開いた位置にある
場合、ポート48は、例えば図1および図3において50により示されている、
ゲートの底部下方で約7.62センチメートル(約3インチ)の位置にあるゲー
トガイド内に配置される。
ることが分かった場合、2つの検査孔48が穿孔され、各ゲートガイドの頂部上
方で約7.62センチメートル(約3インチ)の個所にセンタリングされた弁帽
の各側にそれぞれタップ立てされる。バルブゲートが、完全に開いた位置にある
場合、ポート48は、例えば図1および図3において50により示されている、
ゲートの底部下方で約7.62センチメートル(約3インチ)の位置にあるゲー
トガイド内に配置される。
【0031】
それぞれの場合、ねじ付接続ポートを有するビデオスコープ検査ツールパッキ
ン箱52が検査ポートのそれぞれに固定され、弁の最初の内部調査が行われる。
視覚的調査を基礎として、1つ以上の注入ポート54が膠着が発生し、弁の領域
に隣接して穿孔されるとともにタップ立てされ、逆止弁注入装備品56が各注入
ポート内に固定される。さらに、上流圧力ポート58および下流圧力ポート60
が穿孔されるとともに、弁胴の入口ポート部分区間12および出口ポート部分区
間14内でタップ立てされ、圧力センサ62,64が、ポート内に固定される。
ン箱52が検査ポートのそれぞれに固定され、弁の最初の内部調査が行われる。
視覚的調査を基礎として、1つ以上の注入ポート54が膠着が発生し、弁の領域
に隣接して穿孔されるとともにタップ立てされ、逆止弁注入装備品56が各注入
ポート内に固定される。さらに、上流圧力ポート58および下流圧力ポート60
が穿孔されるとともに、弁胴の入口ポート部分区間12および出口ポート部分区
間14内でタップ立てされ、圧力センサ62,64が、ポート内に固定される。
【0032】
次のステップは、膠着された弁を解放するのを支援するために、加圧流体を受
入れることが可能であるポートを選択することにある。しかし、流体を注入する
前に、圧力試験が清浄な飲料水により各ポートで実施される。例えば、注入ポー
ト54aが第1のポートとして選択され、この場合、図面に略示されている液圧
式手動ポンプ66がポート内に固定されている逆止弁に接続され、清浄な飲料水
を注入するのに使用される。手動ポンプで検出された圧力が、(上流圧力センサ
62および下流圧力センサ64により測定された)管路圧にただちに戻る場合、
そのポートを介して注入された流体用の出口路が存在し、弁を解放するために、
処理流体を注入しても安全であると仮定することが可能である。任意の注入ポー
トが管路圧にただちに戻ることが可能でない場合、注入度試験は、そのポートに
おいてただちに停止される。そのポート用の逆止弁注入装備品は取除かれ、ねじ
付プラグにより置換され、プラグは、弁に流入する加圧流体用の出口路が存在し
ない事実を斟酌して、再度使用されないことを保証するためにマーキングされる
。
入れることが可能であるポートを選択することにある。しかし、流体を注入する
前に、圧力試験が清浄な飲料水により各ポートで実施される。例えば、注入ポー
ト54aが第1のポートとして選択され、この場合、図面に略示されている液圧
式手動ポンプ66がポート内に固定されている逆止弁に接続され、清浄な飲料水
を注入するのに使用される。手動ポンプで検出された圧力が、(上流圧力センサ
62および下流圧力センサ64により測定された)管路圧にただちに戻る場合、
そのポートを介して注入された流体用の出口路が存在し、弁を解放するために、
処理流体を注入しても安全であると仮定することが可能である。任意の注入ポー
トが管路圧にただちに戻ることが可能でない場合、注入度試験は、そのポートに
おいてただちに停止される。そのポート用の逆止弁注入装備品は取除かれ、ねじ
付プラグにより置換され、プラグは、弁に流入する加圧流体用の出口路が存在し
ない事実を斟酌して、再度使用されないことを保証するためにマーキングされる
。
【0033】
ポートのそれぞれが、加圧流体用の出口路が存在することを保証するために試
験されると、圧縮空気により駆動される(略示されている)高圧ポンプ68が注
入ポートのそれぞれに適用され、1000〜1500psiの圧力で清缶剤液を
注入するのに使用される。清缶剤液は、非常に高い円錐状浸透度を有する、0.
85〜0.9の比重の水不溶性潤滑剤であり、清缶剤液は高圧で注入されると、
弁閉鎖部材の膠着された表面に付着することになる。
験されると、圧縮空気により駆動される(略示されている)高圧ポンプ68が注
入ポートのそれぞれに適用され、1000〜1500psiの圧力で清缶剤液を
注入するのに使用される。清缶剤液は、非常に高い円錐状浸透度を有する、0.
85〜0.9の比重の水不溶性潤滑剤であり、清缶剤液は高圧で注入されると、
弁閉鎖部材の膠着された表面に付着することになる。
【0034】
特に良好に作業することが分かった1つの流体は、0.89の比重を有し、次
の成分、 約75〜90重量%、好ましくは80〜85重量%、例えば83重量%のポリア
ルファオレフィン(合成基剤油)、 約3〜15重量%、好ましくは6〜12重量%、例えば9重量%の粉末シリカ、
約0.5〜5重量%、好ましくは1.5〜3重量%、例えば2.3重量%の粉末
PTFE、 約1〜6重量%、好ましくは2〜5重量%、例えば3.5重量%のジ−n−オク
チルセバケート、 0.05〜1重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%、例えば0.25重量%
の殺菌剤、 約0.05〜1重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%、例えば0.25重量
%の抗酸化剤を有する、グリース状潤滑清缶剤組成である。
の成分、 約75〜90重量%、好ましくは80〜85重量%、例えば83重量%のポリア
ルファオレフィン(合成基剤油)、 約3〜15重量%、好ましくは6〜12重量%、例えば9重量%の粉末シリカ、
約0.5〜5重量%、好ましくは1.5〜3重量%、例えば2.3重量%の粉末
PTFE、 約1〜6重量%、好ましくは2〜5重量%、例えば3.5重量%のジ−n−オク
チルセバケート、 0.05〜1重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%、例えば0.25重量%
の殺菌剤、 約0.05〜1重量%、好ましくは0.1〜0.5重量%、例えば0.25重量
%の抗酸化剤を有する、グリース状潤滑清缶剤組成である。
【0035】
このような組成は、ポンピングされることもある。本組成をポンピングすると
、垢の固さを緩め、処理された弁表面との垢の結合を劣化させることになる。ま
た、本組成は処理された弁表面をコーティングし、垢のさらなる生成の確度を低
減させることになる。本流体が膠着の発生したと考えられる表面のすべてに適用
されると、潤滑作用および清缶作用によって、通常、弁閉鎖部材がその膠着され
た位置から解放されることを可能にする。
、垢の固さを緩め、処理された弁表面との垢の結合を劣化させることになる。ま
た、本組成は処理された弁表面をコーティングし、垢のさらなる生成の確度を低
減させることになる。本流体が膠着の発生したと考えられる表面のすべてに適用
されると、潤滑作用および清缶作用によって、通常、弁閉鎖部材がその膠着され
た位置から解放されることを可能にする。
【0036】
清缶剤液の注入は、前に試験に合格した各注入ポートにおいて実施され、通常
、約50のポンプ行程が、各注入において必要とされる。また、(前述のように
、前に清浄な飲料水により試験された)少なくとも1つの別の注入ポート52が
、弁内で潜在的に非常に危険な圧力生成を阻止するため、清缶剤が注入される際
には常に開放状態のままでなければならないことが重要である。
、約50のポンプ行程が、各注入において必要とされる。また、(前述のように
、前に清浄な飲料水により試験された)少なくとも1つの別の注入ポート52が
、弁内で潜在的に非常に危険な圧力生成を阻止するため、清缶剤が注入される際
には常に開放状態のままでなければならないことが重要である。
【0037】
圧力は、弁内に危険な圧力生成が存在しないことを保証するために、各ポンプ
行程の後に観察されなければならない。注入圧力が管路圧に戻らない場合、その
ポートを経てのポンピングは、ただちに停止されなければならない。次いで、残
留ポンプ圧力が放出され、ホースが注入ポートから抜取られなければならない。
それから、閉塞された注入ポートはプラグと置換され、プラグは後の注入度試験
により閉塞が除去されたことを示されない限り、そのポートが後に使用されては
ならないとの趣旨を明瞭にマーキングしなければならない。
行程の後に観察されなければならない。注入圧力が管路圧に戻らない場合、その
ポートを経てのポンピングは、ただちに停止されなければならない。次いで、残
留ポンプ圧力が放出され、ホースが注入ポートから抜取られなければならない。
それから、閉塞された注入ポートはプラグと置換され、プラグは後の注入度試験
により閉塞が除去されたことを示されない限り、そのポートが後に使用されては
ならないとの趣旨を明瞭にマーキングしなければならない。
【0038】
いったん、膠着されたと考えられるすべての領域が処理されると、弁は作動さ
れ、十分に周期作動される。次いで、清缶剤処理が各閉塞されていないポートに
おいて繰返され、これにより、いかなる残りの垢も取除かれ、弁閉鎖部材の密封
表面は、粘性潤滑剤の層によりコーティングされる。そして、弁閉鎖部材は、3
回にわたり十分に周期作動され、1つの代替的な位置のままにされる必要がない
限り、元の位置に戻されることになる。
れ、十分に周期作動される。次いで、清缶剤処理が各閉塞されていないポートに
おいて繰返され、これにより、いかなる残りの垢も取除かれ、弁閉鎖部材の密封
表面は、粘性潤滑剤の層によりコーティングされる。そして、弁閉鎖部材は、3
回にわたり十分に周期作動され、1つの代替的な位置のままにされる必要がない
限り、元の位置に戻されることになる。
【0039】
処理が終了すると、注入ポートはねじ付プラグにより置換され、プラグは膠着
が将来再び発生した場合に使用されることもあるポート内に固定される。
が将来再び発生した場合に使用されることもあるポート内に固定される。
【0040】
前述の方法に加えて(しかも、特に、前述の方法が、弁を解放するのに充分で
ない場合に)、振動が図5〜図8に示されているように、弁の少なくとも1つの
部分内で誘起されることも可能である。振動は、しばしば、膠着された弁の原因
である垢を固定位置から取除くと考えられている。さらに、振動は弁の1以上の
構成要素を変位させ、これにより、1つまたは複数の振動構成要素の運動を阻止
すると信じられている。弁の少なくとも1つの部分の振動が、いくつかの異なる
方法で誘起されることは可能であるが、図5に示されているように、それぞれは
、超音波変換器50の使用を含んでいる。従来の超音波変換器の使用は可能であ
り、図示の実施形態では、変換器部分52を含んでいる従来の圧電形変換器が使
用され、変換器部分52の一端からホーン54が突出し、ホーン54の一端に放
射先端56が形成されている。変換器50は従来の電源(図示せず)に接続され
、電源は高周波ケーブル58を経て所望の周波数で電流を供給している。変換器
50は、弁10の少なくとも1つの部分を振動させるのに使用される。
ない場合に)、振動が図5〜図8に示されているように、弁の少なくとも1つの
部分内で誘起されることも可能である。振動は、しばしば、膠着された弁の原因
である垢を固定位置から取除くと考えられている。さらに、振動は弁の1以上の
構成要素を変位させ、これにより、1つまたは複数の振動構成要素の運動を阻止
すると信じられている。弁の少なくとも1つの部分の振動が、いくつかの異なる
方法で誘起されることは可能であるが、図5に示されているように、それぞれは
、超音波変換器50の使用を含んでいる。従来の超音波変換器の使用は可能であ
り、図示の実施形態では、変換器部分52を含んでいる従来の圧電形変換器が使
用され、変換器部分52の一端からホーン54が突出し、ホーン54の一端に放
射先端56が形成されている。変換器50は従来の電源(図示せず)に接続され
、電源は高周波ケーブル58を経て所望の周波数で電流を供給している。変換器
50は、弁10の少なくとも1つの部分を振動させるのに使用される。
【0041】
図5では、例示的に、変換器50が弁の1つのフェース内で3つの孔60,6
2,64のうちの1つの孔内に挿入可能であるものとして示されているが、弁の
他の部分は、例えば弁ハウジングの1つの面内に設けられている付加的なポート
66,68で示されているように、振動されることも可能である。しかし、これ
らの位置は例示的であり、弁の1つの部分を振動させるための多数の他の位置が
可能である。
2,64のうちの1つの孔内に挿入可能であるものとして示されているが、弁の
他の部分は、例えば弁ハウジングの1つの面内に設けられている付加的なポート
66,68で示されているように、振動されることも可能である。しかし、これ
らの位置は例示的であり、弁の1つの部分を振動させるための多数の他の位置が
可能である。
【0042】
ところで、一般に、図8aおよび8e、図8bおよび8dおよび図8cのそれ
ぞれで示されているように、弁の1つの部分を振動させる3つの異なる方法が存
在する。
ぞれで示されているように、弁の1つの部分を振動させる3つの異なる方法が存
在する。
【0043】
図8aにおいて、盲孔70が弁10のハウジングの外側フェース内に穿孔され
、先端56が盲孔70の底部と接触されて配置されている。通常、変換器が作動
される際、孔70の底部に変換器50の先端56を密に当接させることを保証す
るために、従来のクランプ(図示せず)により適所にしっかりと変換器50を保
持する必要がある。
、先端56が盲孔70の底部と接触されて配置されている。通常、変換器が作動
される際、孔70の底部に変換器50の先端56を密に当接させることを保証す
るために、従来のクランプ(図示せず)により適所にしっかりと変換器50を保
持する必要がある。
【0044】
図8eの配置は、実質的に図8aのものと同一であるが、相違点は、先端56
に隣接する変換器ホーン54の部分80に雄ねじが切られ、弁のハウジング内の
相補的にねじ切りされている盲孔82内に収容されることにある。大部分の場合
、これは1つの別個のクランプの必要性を除去している。ねじ付盲孔82の代わ
りに、ねじ付貫通孔が形成されることもあり、この場合、変換器の1つの先端5
6は弁内の水中に突出することになる。
に隣接する変換器ホーン54の部分80に雄ねじが切られ、弁のハウジング内の
相補的にねじ切りされている盲孔82内に収容されることにある。大部分の場合
、これは1つの別個のクランプの必要性を除去している。ねじ付盲孔82の代わ
りに、ねじ付貫通孔が形成されることもあり、この場合、変換器の1つの先端5
6は弁内の水中に突出することになる。
【0045】
図8bおよび図8dに示されている配置では、孔72,74は、弁10のハウ
ジングを貫通して穿孔されている。図8bに示されている配置では、変換器の先
端56が弁のねじ付ステム28と接触して配置され、図8dでは、変換器50の
先端56が弁閉鎖部材34の一部を形成する、金属ディスク36のうちの1つの
ディスクのフェースと係合して保持されている。それぞれの場合、変換器は、通
常、変換器の先端56が振動中にわたり弁の内部構成要素にしっかり当接して保
持されることを保証するために、クランプ(図示せず)により適所に保持されて
いる。
ジングを貫通して穿孔されている。図8bに示されている配置では、変換器の先
端56が弁のねじ付ステム28と接触して配置され、図8dでは、変換器50の
先端56が弁閉鎖部材34の一部を形成する、金属ディスク36のうちの1つの
ディスクのフェースと係合して保持されている。それぞれの場合、変換器は、通
常、変換器の先端56が振動中にわたり弁の内部構成要素にしっかり当接して保
持されることを保証するために、クランプ(図示せず)により適所に保持されて
いる。
【0046】
前述のように、孔72,74はねじ切りされ、変換器のホーン56の相補的雄
ねじ部を受入れることが可能であり、これにより、大部分の場合において、別個
にクランピングする必要性を取除いている。
ねじ部を受入れることが可能であり、これにより、大部分の場合において、別個
にクランピングする必要性を取除いている。
【0047】
図8cにおいて、孔76は弁ハウジング10の壁を貫通して延び、変換器50
は孔76を貫通して通されていることから、先端56は、弁ハウジング10内で
(通常は水である)液体78中に配置されている。この場合にも、変換器50は
、通常、クランプ(図示せず)により適所に保持され、例えば、孔を貫通して突
出する変換器50の部分の周りに配置されているシールリングにより、または、
孔内に注入された硬化性シーラントにより、孔76に対して変換器を密封するこ
とも必要である。
は孔76を貫通して通されていることから、先端56は、弁ハウジング10内で
(通常は水である)液体78中に配置されている。この場合にも、変換器50は
、通常、クランプ(図示せず)により適所に保持され、例えば、孔を貫通して突
出する変換器50の部分の周りに配置されているシールリングにより、または、
孔内に注入された硬化性シーラントにより、孔76に対して変換器を密封するこ
とも必要である。
【0048】
前述のように、孔76は、変換器のホーン54の相補的ねじ部を受入れるため
に、ねじ切りされることもある。大部分の場合、これは、変換器を別個にクラン
ピングする必要性を取除いている。
に、ねじ切りされることもある。大部分の場合、これは、変換器を別個にクラン
ピングする必要性を取除いている。
【0049】
図8aおよび図8eに示されている配置では、変換器が弁ハウジングを振動さ
せ、これにより、ハウジングと、場合に応じて弁の1つ以上の他の構成要素とが
、超音波周波数で振動することが惹起される。図8bおよび図8dの配置では、
弁の内部構成要素が直接に振動することを惹起するが、この振動は、伝達されて
弁の他の部分に渡され、これにより、それらの部分を振動することが惹起される
。図8cの配置では、弁内の液体78が振動することを惹起され、この液体は、
振動を弁の1つ以上の構成要素に渡し、これにより、前記構成要素自身が振動さ
れる。前記構成要素は、振動を弁の他の構成要素に渡すこともある。
せ、これにより、ハウジングと、場合に応じて弁の1つ以上の他の構成要素とが
、超音波周波数で振動することが惹起される。図8bおよび図8dの配置では、
弁の内部構成要素が直接に振動することを惹起するが、この振動は、伝達されて
弁の他の部分に渡され、これにより、それらの部分を振動することが惹起される
。図8cの配置では、弁内の液体78が振動することを惹起され、この液体は、
振動を弁の1つ以上の構成要素に渡し、これにより、前記構成要素自身が振動さ
れる。前記構成要素は、振動を弁の他の構成要素に渡すこともある。
【0050】
いずれの技術が使用されても、いったん変換器が適所に固定されると、変換器
はスイッチオンされ、掃引周波数が、通常、変換器に印加される。変換器の振動
周波数は、次第に変化させられる。これは、構成要素にとって最も効果的である
周波数で振動される弁の構成要素の数を最大化する。勿論、事前の計算または事
前の知識により、ある特定の周波数が、任意の特定の弁に適することが知られて
いる場合、変換器がその周波数のみで振動することを惹起されることもある。
はスイッチオンされ、掃引周波数が、通常、変換器に印加される。変換器の振動
周波数は、次第に変化させられる。これは、構成要素にとって最も効果的である
周波数で振動される弁の構成要素の数を最大化する。勿論、事前の計算または事
前の知識により、ある特定の周波数が、任意の特定の弁に適することが知られて
いる場合、変換器がその周波数のみで振動することを惹起されることもある。
【0051】
弁の1つ以上の部分の振動は、しばしば、弁膠着の通常の原因である垢を固定
位置から取除くことを惹起する。また、弁の1つ以上の構成要素の振動が、一時
的または恒久的に、弁の膠着部分間の摩擦を低減させ、これにより、これらの部
分を互いに対して解放することがより容易になると信じられている。
位置から取除くことを惹起する。また、弁の1つ以上の構成要素の振動が、一時
的または恒久的に、弁の膠着部分間の摩擦を低減させ、これにより、これらの部
分を互いに対して解放することがより容易になると信じられている。
【0052】
本発明は、前述の実施形態の詳細に制限されない。例えば、変換器は、前述し
た位置とは別の位置に適用することも可能である。さらに、変換器は、2つ以上
の位置で使用することおよび/または、2つ以上の変換器を同時に使用すること
も可能である。異なるタイプの変換器、例えば、磁気歪変換器が使用されること
もある。
た位置とは別の位置に適用することも可能である。さらに、変換器は、2つ以上
の位置で使用することおよび/または、2つ以上の変換器を同時に使用すること
も可能である。異なるタイプの変換器、例えば、磁気歪変換器が使用されること
もある。
【0053】
弁のタイプおよび条件に依存して、弁閉鎖部材の位置を探し出すために、弁胴
または弁帽内にパイロット孔を穿孔することおよび/または、1つまたは複数の
変換器のための最も適切な1つまたは複数の位置を決定するために、弁が膠着さ
れている場所を推定することも適切である。ビデオスコープまたは機械的探針が
、この推定を実施するために、パイロット孔を貫通して挿入されることも可能で
ある。所望の場合には、パイロット孔をねじ付プラグにより密封することが可能
である。
または弁帽内にパイロット孔を穿孔することおよび/または、1つまたは複数の
変換器のための最も適切な1つまたは複数の位置を決定するために、弁が膠着さ
れている場所を推定することも適切である。ビデオスコープまたは機械的探針が
、この推定を実施するために、パイロット孔を貫通して挿入されることも可能で
ある。所望の場合には、パイロット孔をねじ付プラグにより密封することが可能
である。
【0054】
実際、弁内には、盲孔や貫通孔であっても、いかなる孔も穿孔する必要がない
こともある。周囲条件に依存して、単に、弁の1つの外面または弁の他の部分に
変換器の先端56を接触させるのが適切であることもある。
こともある。周囲条件に依存して、単に、弁の1つの外面または弁の他の部分に
変換器の先端56を接触させるのが適切であることもある。
【0055】
また、本発明は、前述の実施形態の詳細に制限されない。例えば、前述の実施
形態は、非上昇型仕切弁を引用して説明したにもかかわらず、本技術は、膠着す
る傾向を有するすべてのタイプの弁に適用可能である。
形態は、非上昇型仕切弁を引用して説明したにもかかわらず、本技術は、膠着す
る傾向を有するすべてのタイプの弁に適用可能である。
【0056】
また、弁胴および/または弁帽上の複数の位置ですでにタップ立てされている
(およびプラグを差込まれている)ポートを有する弁を製造することも可能であ
り、これは、弁が将来いつか膠着する場合、前述のように弁を解放するための手
順を簡素化する。
(およびプラグを差込まれている)ポートを有する弁を製造することも可能であ
り、これは、弁が将来いつか膠着する場合、前述のように弁を解放するための手
順を簡素化する。
【図1】
本発明による、膠着された弁を解放する方法を示すものであって、仕切弁の斜
視図である。
視図である。
【図2】
一部切除された、図1の弁のさらなる斜視図である。
【図3】
図1に示した弁の側面図である。
【図4】
図1に示した弁の横断面側面図である。
【図5】
本発明による、膠着された弁を解放する1つの選択的で付加的な方法を示すも
のであって、図1の仕切弁の斜視図である。
のであって、図1の仕切弁の斜視図である。
【図6】
部分的に切除された、図5の弁のさらなる斜視図である。
【図7】
図5に示した弁の側面図である。
【図8】
(a)〜(e)は本発明による、膠着された弁を解放する選択的で付加的な方
法の変形例を示すものであって、図5の弁の一部を切断して示す横断面概略図で
ある。
法の変形例を示すものであって、図5の弁の一部を切断して示す横断面概略図で
ある。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY,
DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I
T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ
,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML,
MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K
E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG
,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD,
RU,TJ,TM),AE,AG,AL,AM,AT,
AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,C
H,CN,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,DZ
,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,
HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE,K
G,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT
,LU,LV,MA,MD,MG,MK,MN,MW,
MX,MZ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,S
D,SE,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR
,TT,TZ,UA,UG,US,UZ,VN,YU,
ZA,ZW
Claims (31)
- 【請求項1】 弁ハウジング、入口、出口、前記入口と前記出口との間に
位置する前記弁ハウジング内の弁座、および、弁の開度を制御するために前記弁
座と解除可能に係合し得る弁閉鎖部材を有するタイプの膠着された弁を解放する
方法であって、 (a)前記弁の膠着された部分に隣接する前記弁ハウジングの壁内に1つ以上の
注入ポートを形成するステップと、 (b)前記注入ポートまたは各注入ポートを通過させて、前記弁の前記膠着され
た部分へ向けて加圧処理流体を注入するステップと、 (c)前記ポートまたは各ポートを閉鎖するステップとを含んでいる方法。 - 【請求項2】 (d)前記弁ハウジングの壁内に検査ポートを形成するステップと、 (e)前記検査ポートを介して、前記弁の前記膠着された部分の位置を決定する
ステップとをさらに含んでいる請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 前記弁の前記膠着された部分の位置が、前記検査ポートを介
して前記弁の内部を調査することにより決定される請求項2に記載の方法。 - 【請求項4】 前記膠着された部分の位置が、視覚的に決定される請求項3
に記載の方法。 - 【請求項5】 前記弁の前記膠着された部分の位置が、探針により決定され
る請求項3または4に記載の方法。 - 【請求項6】 複数の注入ポートを含んでおり、前記処理流体が、前記注入
ポートを通過して注入される請求項1から請求項5のうちのいずれか1つの請求
項に記載の方法。 - 【請求項7】 前記加圧処理流体を注入する間、前記弁ハウジング内の少な
くとも1つの別のポートが、開放状態のままである請求項1から請求項6のうち
のいずれか1つの請求項に記載の方法。 - 【請求項8】 前記ステップ(b)の前に加圧試験流体は、前記ポートが前
記ステップ(b)を経験するのに適することを保証するために、前記注入ポート
または各注入ポートに適用される請求項1から請求項7のうちのいずれか1つの
請求項に記載の方法。 - 【請求項9】 前記処理流体は、清缶剤流体を含んでいる請求項1から請求
項8のうちのいずれか1つの請求項に記載の方法。 - 【請求項10】 前記清缶剤流体が、潤滑剤である請求項9に記載の方法。
- 【請求項11】 前記清缶剤流体が、高い円錐状浸透度を有する請求項9ま
たは10に記載の方法。 - 【請求項12】 前記清缶剤流体は、弁が流体の流れを制御するように設計
されている前記流体内でほぼ不溶性である請求項9または11に記載の方法。 - 【請求項13】 膠着が発生した弁の少なくとも1つの部分内に振動を誘起
することをさらに含んでいる請求項1から請求項12のうちのいずれか1つの請
求項に記載の方法。 - 【請求項14】 超音波周波数で振動させることを含んでいる請求項13に
記載の方法。 - 【請求項15】 超音波変換器を前記弁の一部と接触させて配置することを
含んでいる請求項14に記載の方法。 - 【請求項16】 前記超音波変換器を前記弁ハウジングと接触させて配置す
ることを含んでいる請求項15に記載の方法。 - 【請求項17】 前記超音波変換器を、前記弁の内部構成要素と接触させて
配置することを含んでいる請求項15または16に記載の方法。 - 【請求項18】 前記超音波変換器を、前記弁の一部と接触する液体と接触
させて配置することを含んでいる請求項15から請求項17のうちのいずれか1
つの請求項に記載の方法。 - 【請求項19】 前記超音波変換器は、前記弁ハウジング内の開口を通過し
、前記超音波変換器が前記弁ハウジング内に収容されている流体中に突出するよ
うにすることを含んでいる請求項18に記載の方法。 - 【請求項20】 膠着された弁を解放するための組成が、 75〜90重量%のポリアルファオレフィンと、 3〜15重量%の粉末シリカと、 0.5〜5重量%の粉末PTFEと、 1〜6重量%のジ−n−オクチルセバケートとを含んでいる組成。
- 【請求項21】 80〜85重量%ポリアルファオレフィンと、 6〜12重量%の粉末シリカと、 1.5〜3重量%の粉末PTFEと 2〜5重量%のジ−n−オクチルセバケートとを含んでいる請求項20に記載の
組成。 - 【請求項22】 殺菌剤をさらに含んでいる請求項20または21に記載の
組成。 - 【請求項23】 0.05〜1重量%の殺菌剤を含んでいる請求項22に記
載の組成。 - 【請求項24】 0.1〜0.5重量%の殺菌剤を含んでいる請求項23に
記載の組成。 - 【請求項25】 さらに、抗酸化剤を含んでいる請求項20から請求項24
のうちのいずれか1つの請求項に記載の組成。 - 【請求項26】 0.05〜1重量%の抗酸化剤を含んでいる請求項25に
記載の組成。 - 【請求項27】 0.1〜0.5重量%の抗酸化剤を含んでいる請求項26
に記載の組成。 - 【請求項28】 前記処理流体が、請求項20から請求項27のうちのいず
れか1つの請求項に記載の組成を含んでいる請求項1から請求項19のうちのい
ずれか1つの請求項に記載の方法。 - 【請求項29】 弁ハウジング、入口、出口、前記入口と前記出口との間に
位置する弁座、前記弁の開度を制御するために前記弁と解除可能に係合し得る弁
閉鎖部材、および、弁の膠着が発生することが予測される位置で前記弁ハウジン
グの壁内に位置する複数のポートを含んでいる弁。 - 【請求項30】 前記ポートがタップ立てされる請求項29に記載の弁。
- 【請求項31】 前記ポートには、通常、プラグが差込まれている請求項2
9または30に記載の弁。
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