JP2003345017A - Resin composition - Google Patents

Resin composition

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JP2003345017A
JP2003345017A JP2002149164A JP2002149164A JP2003345017A JP 2003345017 A JP2003345017 A JP 2003345017A JP 2002149164 A JP2002149164 A JP 2002149164A JP 2002149164 A JP2002149164 A JP 2002149164A JP 2003345017 A JP2003345017 A JP 2003345017A
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Japan
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group
acid
resin
mass
general formula
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Application number
JP2002149164A
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Japanese (ja)
Inventor
Ippei Nakamura
一平 中村
Ikuo Kawachi
幾生 河内
Takeshi Serikawa
健 芹川
Mitsumasa Tsuchiya
光正 土屋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin composition excellent in a film forming property and film strength and useful for a recording layer in a positive lithographic printing original plate. <P>SOLUTION: The resin composition contains a polymer compound containing a monomer unit expressed by general formula (1) and an IR absorber and changes its solubility with an alkali aqueous solution by irradiation of IR rays. In general formula (1), A represents a divalent organic group having polymerizable double bond, X<SP>1</SP>represents -O- or -NR<SP>2</SP>-, R<SP>1</SP>represents an alkyl group when X<SP>1</SP>is -O- and represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group when X<SP>1</SP>is -NR<SP>2</SP>-, and R<SP>2</SP>represents a hydrogen atom or an alkyl group. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は樹脂組成物に関し、
より詳細には、コンピュータ等のディジタル信号から直
接製版できるいわゆるダイレクト製版用の赤外線レーザ
用ポジ型平版印刷版原版の記録層に好適に用いうる樹脂
組成物に関する。 【0002】 【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。 【0003】赤外線レーザ用ポジ型平版印刷版材料は、
アルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し
熱を発生するIR染料等とを必須成分とし、IR染料等
が、未露光部(画像部)では、バインダー樹脂との相互
作用によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させ
る溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発
生した熱によりIR染料等とバインダー樹脂との相互作
用が弱まりアルカリ現像液に溶解して平版印刷版を形成
する。 【0004】ポジ型平版印刷版材料におけるアルカリ水
溶液可溶性のバインダー樹脂としては、ノボラック樹脂
等のフェノール性水酸基を有する高分子化合物が好適に
用いられる。しかしながら、ノボラック樹脂等を用いた
ポジ型平版印刷版原版の記録層においては、皮膜形成性
及び皮膜強度の点で不充分な場合があり改善が望まれて
いた。 【0005】皮膜強度を向上することを目的に、特開平
10−282643号公報には、光熱変換物質及びアル
カリ可溶性樹脂を含有するポジ型感光性組成物に、更に
ポリアクリル酸を併用した例が示されているが、感光層
の更なる高感度化を考慮すると、皮膜強度の更なる改善
が望まれる。また、特開2001−324808公報に
は、光熱変換物質及びノボラック樹脂を含有するポジ型
感光性組成物に、更にメタクリル酸メチル−(メタ)ア
クリル酸共重合体を併用した例も示されているが、感度
を維持しつつ皮膜強度を向上する点で未だ不充分なレベ
ルである。 【0006】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ポジ型平版印刷版原版における記録層に有用な、皮
膜形成性及び皮膜強度に優れた樹脂組成物を提供するこ
とにある。 【0007】 【課題を解決するための手段】本発明者は、鋭意研究を
重ねた結果、特定のモノマー単位を含む高分子化合物を
含有する樹脂組成物により、上記課題を解決し得ること
を見出し、本発明を完成するに到った。即ち、本発明の
樹脂組成物は、下記一般式(1)で示されるモノマー単
位を含む高分子化合物(以下、適宜「特定の高分子化合
物」と称する。)と、赤外線吸収剤と、を含有し、赤外
線の照射によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化
することを特徴とする。 【0008】 【化2】 【0009】一般式(1)中、Aは重合性二重結合を有
する2価の有機基を表す。X1は−O−又は−NR2−を
表す。R1は、X1が−O−の場合は、アルキル基を表
し、X1が−NR2−の場合は、水素原子、アルキル基、
又はアリール基を表す。R2は、水素原子又はアルキル
基を表す。 【0010】本発明の作用機構は明確ではないが、以下
のように推測される。即ち、本発明の樹脂組成物に含ま
れる特定の高分子化合物は、柔軟性を有する高分子化合
物であり、かかる高分子化合物をノボラック樹脂等を含
むポジ型平版印刷版原版の記録層に用いた場合、皮膜形
成性及び皮膜強度に優れた記録層を形成することがで
き、これにより記録層のアルカリ現像液に対する耐性が
著しく向上する。また、このような記録層を有するポジ
型平版印刷版は、現像ラチチュード、耐刷性、及び網点
再現性に著しく優れたものとなる。これは、ノボラック
樹脂中のアルカリ溶解チャンネル(クラック等)を、特
定の高分子化合物が封止することに起因するためと考え
られる。 【0011】なお、本発明に係る特定の高分子化合物
は、製造安定性に優れるという特徴をも有する。即ち、
本発明に係る特定の高分子化合物のように、柔軟な疎水
性基と酸性基を共に含む高分子化合物を、これらの基を
それぞれ有するモノマーの共重合により得る場合、共重
合性等の点から、疎水性基を有するモノマーと酸性基を
有するモノマーの比率を制御することや、ランダムな共
重合体とすることは困難な場合がある。しかしながら、
本発明に係る特定の高分子化合物に含まれる前記一般式
(1)で表されるモノマー単位は、単一のモノマー単位
内に柔軟な疎水性基と酸性基とを共に有しているため、
共重合性等を考慮せずに、柔軟な疎水性基と酸性基を共
に含む高分子化合物をホモポリマーとして安定に得るこ
とができるという特徴を有する。このため、本発明に係
る特定の高分子化合物を、例えばポジ型平版印刷版原版
の記録層に用いた場合には、形成された皮膜全体に亘る
均一な画像形成性を達成することが可能になる。 【0012】 【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 【0013】[樹脂組成物]本発明の樹脂組成物は、下
記一般式(1)で示されるモノマー単位を含む高分子化
合物(特定の高分子化合物)と、赤外線吸収剤と、を含
有し、赤外線の照射によりアルカリ性水溶液に対する溶
解性が変化することを特徴とする。また、本発明の樹脂
組成物は、ポジ型平版印刷版原版の記録層に適用するこ
とが好ましい。以下、本発明の樹脂組成物を構成する成
分について順次説明する。 【0014】〔特定の高分子化合物〕本発明における特
徴的な成分である特定の高分子化合物は、下記一般式
(I)で示されるモノマー単位を含む高分子化合物であ
る。 【0015】 【化3】 【0016】一般式(1)中、Aは重合性二重結合を有
する2価の有機基を表す。X1は−O−又は−NR2−を
表す。R1は、X1が−O−の場合は、アルキル基を表
し、X1が−NR2−の場合は、水素原子、アルキル基、
又はアリール基を表す。R2は、水素原子又はアルキル
基を表す。 【0017】以下、一般式(1)について詳細に説明す
る。一般式(1)中、Aは重合性二重結合を有する2価
の有機基を表すが、付加重合反応により高分子化合物を
形成可能な2価の有機基であれば限定されるもではな
い。但し、重合性、入手性等の観点からは、Aの少なく
とも一方の末端は、重合性二重結合であることが好まし
い。特に好ましいAとしては、以下の構造を有するもの
が挙げられる。 【0018】 【化4】 【0019】X1は、各々独立に、−O−又は−NR2
を表すが、入手性等の観点からは、−O−であることが
より好ましい。R2は水素原子又はアルキル基を表し、
2で表されるアルキル基としては、炭素数1〜20で
あることが好ましく、1〜12であることがより好まし
く、2〜8であることが特に好ましい。また、R2で表
されるアルキル基は、置換基を有していてもよく、好ま
しい置換基としては、アリール基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、水酸基、アミノ基、アルキルアミノ基、
ジアルキルアミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。 【0020】R1は、X1が−O−の場合は、アルキル基
を表し、X1が−NR2−の場合は、水素原子、アルキル
基、又はアリール基を表す。また、R1とR2とは、互い
に結合して環を形成してもよい。R1で表されるアルキ
ル基は、直鎖、分岐鎖及び環状アルキル基のいずれであ
ってもよく、炭素数1〜20であることが好ましく、親
疎水性、溶剤への溶解性等の観点からは、炭素数1〜8
であることがより好ましく、炭素数2〜6であることが
特に好ましい。R1で表されるアルキル基は、置換基を
有していてもよく、好ましい置換基としては、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、水酸基、アミノ
基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。R1で表
されるアリール基は、置換基を有していてもよく、該置
換基としては上記アルキル基の場合と同様の置換基が挙
げられる。 【0021】一般式(1)で表されるモノマー単位の好
ましい例としては、以下のものが挙げられる。 【0022】 【化5】【0023】 【化6】 【0024】 【化7】 【0025】 【化8】 【0026】これらのモノマー単位は単独で用いても、
複数種を併用して共重合体を形成してもよい。さらに、
前記一般式(1)で示されるモノマー単位以外の共重合
成分を共重合させることにより、その他の諸物性を改善
又は修飾することができる。そのような諸物性として
は、例えば、アルカリ現像性、耐薬品性、耐刷性、感度
等が含まれる。前記一般式(1)で表されるモノマー単
位以外で共重合成分として好ましいものとしては、以下
の(m1)〜(m12)に挙げるモノマーを挙げること
ができる。 【0027】(m1)例えば、2−ヒドロキシエチルア
クリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメ
タクリル酸エステル類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート
等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチ
ルアミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレ
ート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 (m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエー
テル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 【0028】(m7)スチレン、α−メチルスチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾ
ール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタク
リロニトリル等。 (m11)N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセ
チルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルア
ミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド
等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸等の
不飽和カルボン酸や、2−ヒドロキシエチルアクリレー
ト又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族
水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸
エステル類と環状酸無水物の縮合物等のカルボキシル基
含有モノマー。 【0029】これら共重合成分のうち、皮膜性を向上す
るためには、アルキルアクリレート(m2)及びアルキ
ルメタクリレート(m3)を用いることが好ましい。 【0030】一般式(1)で表されるモノマー単位を含
む高分子化合物が共重合体の場合、一般式(1)で表さ
れるモノマー単位が共重合体中に5モル%以上含まれて
いるものが好ましく、10モル%以上含まれているもの
がより好ましい。一般式(1)で表されるモノマー単位
を含む高分子化合物の重量平均分子量としては、5,0
00〜200,000が好ましく、10,000〜10
0,000が更に好ましく、20,000〜60,00
0が特に好ましい。分子量が少なすぎると十分な塗膜が
得られず、大きすぎると現像性が劣る傾向がある。 【0031】また、本発明の樹脂組成物を平版印刷版原
版の感光層(記録層)に用いる場合には、その感光層全
固形分中、1質量%〜50質量%であることが好まし
く、5質量%〜20質量%であることが更に好ましい。
1質量%未満であると、現像ラチチュードが狭くなる場
合があり、また50質量%を超えると、バーニング時の
耐刷性が低くなる傾向があるため好ましくない。 【0032】一般式(1)表されるモノマー単位を含む
高分子化合物は、公知のラジカル重合開始剤を用いて、
従来知られているグラフト共重合法、ブロック共重合
法、ランダム共重合法等の方法を用いて合成することが
できる。 【0033】一般式(1)で表されるモノマー単位を含
む高分子化合物のうち、本発明に好適に用いられるもの
(AP−1〜AP−18)を以下に例示するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。 【0034】 【化9】【0035】 【化10】 【0036】 【化11】【0037】 【化12】【0038】 【化13】【0039】 【化14】 【0040】[赤外線吸収剤]本発明における赤外線吸
収剤について説明する。本発明に用いられる赤外線吸収
剤としては、記録に使用する光エネルギー照射線を吸収
し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限は
なく用いることができるが、入手容易な高出力レーザー
への適合性の観点から、波長760nm〜1200nm
に吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好まし
く挙げられる。 【0041】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。 【0042】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号の各公報等に記載されているメチン染料、
特開昭58−112793号、特開昭58−22479
3号、特開昭59−48187号、特開昭59−739
96号、特開昭60−52940号、特開昭60−63
744号の各公報等に記載されているナフトキノン染
料、特開昭58−112792号公報等に記載されてい
るスクアリリウム色素、英国特許434,875号明細
書に記載のシアニン染料等を挙げることができる。 【0043】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第3,881,924号明細書に記載の置
換されたアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭
57−142645号(米国特許第4,327,169
号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−
181051号、同58−220143号、同59−4
1363号、同59−84248号、同59−8424
9号、同59−146063号、同59−146061
号の各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開
昭59−216146号公報に記載のシアニン色素、米
国特許第4,283,475号明細書に記載のペンタメ
チンチオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同
5−19702号の各公報に開示されているピリリウム
化合物も好ましく用いられる。 【0044】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。 【0045】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明の樹脂組成物
中に使用した場合、アルカリ可溶性樹脂との高い相互作
用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ま
しい。 【0046】 【化15】 【0047】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表
す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1
は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有
する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の
炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、
S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 【0048】 【化16】 【0049】R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子
数1〜12の炭化水素基を示す。感光層塗布液の保存安
定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水
素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは互い
に結合し、5員環又は6員環を形成していることが特に
好ましい。 【0050】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が
挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なってい
てもよく、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアル
キルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも
異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原
子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基と
しては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及び
8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原
子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料
の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-
は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかに
スルホ基が置換されている場合は、Za-は必要ない。好
ましいZa-は、感光層塗布液の保存安定性から、ハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホ
ン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、
ヘキサフルオロフォスフェートイオン、及びアリールス
ルホン酸イオンである。 【0051】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特開2001−1339
69公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開
2002−40638公報の段落番号[0012]〜
[0038]、特願2002−23360公報の段落番
号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げ
ることができる。 【0052】 【化17】 【0053】 【化18】【0054】 【化19】 【0055】 【化20】 【0056】 【化21】【0057】一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以
上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していて
もよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していて
もよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオン
としては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウ
ム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオ
ン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14
及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組合
せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成してい
てもよい。ここで、一般式(b)中、Lが共役炭素原子
数7のメチン鎖を表すもの、及び、R 9〜R14及びR15
〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効
果の観点から好ましい。 【0058】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0059】 【化22】 【0060】 【化23】 【0061】一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞ
れ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子
を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R
21〜R 24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異
なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
a-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZa-
と同義である。 【0062】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0063】 【化24】【0064】 【化25】 【0065】一般式(d)中、R29ないしR31は各々独
立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。
33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ
基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0
ないし4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32
それぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/
又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結
合して環を形成してもよく、さらに、R33或いはR34
複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互い
に結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立
に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、X
2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基を
示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又は
ペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造を
形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一般式
(a)におけるZa-と同義である。 【0066】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0067】 【化26】 【0068】 【化27】 【0069】一般式(e)中、R35〜R50はそれぞれ独
立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原子、
シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ア
ルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム
塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、
ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれ
る金属原子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、I
VB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタ
ノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウム、
鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウ
ムが好ましい。 【0070】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0071】 【化28】 【0072】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。 【0073】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。 【0074】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。 【0075】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像感光層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像感
光層の均一性の点で好ましくない。 【0076】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。 【0077】これらの顔料もしくは染料は、記録層を構
成する全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましく
は0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.
5〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜1
0質量%の割合で添加することができる。顔料もしくは
染料の添加量が0.01質量%未満であると感度が低く
なる傾向があり、また50質量%を越えて配合すると、
配合量の増加にしたがって感光層の均一性や、記録層の
耐久性に好ましくない影響を与えるおそれがでてくる。 【0078】既述のごとく、本発明の樹脂組成物は、ポ
ジ型平版印刷版原版の記録層に適用することが好まし
く、この場合、本発明の樹脂組成物は、以下に挙げられ
る各成分を更に含むことが好ましい。 【0079】[アルカリ可溶性樹脂]本発明に用いうる
アルカリ可溶性樹脂としては、高分子中の主鎖及び/又
は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合
体又はこれらの混合物を包含する。中でも、下記(1)
〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖
中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の
点、溶解抑制能発現の点で好ましい。 【0080】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。)〔−SO2 NHCOR、−SO2NHS
2R、−CONHSO2R〕 (4)カルボン酸基(−CO2H) (5)スルホン酸基(−SO3H) (6)リン酸基(−OPO32) 【0081】上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有
していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。 【0082】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール
基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イミド基を
有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)フ
ェノール基又は(2)スルホンアミド基を有するアルカ
リ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現
像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から好まし
く、(1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂が
最も好ましい。 【0083】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のも
のを挙げることができる。 (1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂として
は、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−
/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、フェノールとクレゾール(m−、p−、又はm−/
p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの縮
重合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセト
ンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フェノ
ール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を
挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖に有
する化合物を共重合させた共重合体を用いることもでき
る。 【0084】フェノール基を有する化合物としては、フ
ェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又は
ヒドロキシスチレン等が挙げられる。 【0085】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有す
る化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として
構成される重合体を挙げることができる。上記のような
化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子
が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられ
る。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキ
シ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基又は
置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化
合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般式
(v)で表される化合物が挙げられる。 【0086】 【化29】 【0087】式中、X1、X2 は、それぞれ独立に−O
−又は−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に水
素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及
び、R16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい
炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及
び、R13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有して
いてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、
6、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよ
い炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R1 4は、
それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R
15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していても
よい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2
は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。 【0088】一般式(i)〜一般式(v)で表される化
合物のうち、本発明のポジ型平版印刷版原版では、特
に、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N
−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミ
ド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルア
ミド等を好適に使用することができる。 【0089】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物
に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成され
る重合体を挙げることができる。上記のような化合物と
しては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可
能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合
物を挙げることができる。 【0090】 【化30】 【0091】具体的には、N−(p−トルエンスルホニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。 【0092】(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な
不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に
由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙
げることができる。 (5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する
最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げること
ができる。 (6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、
例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内
にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位
を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。 【0093】上記のようなアルカリ可溶性樹脂を構成す
る、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を有する最
小構成単位は、特に1種類のみである必要はなく、同一
の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、又は異なる
酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重合させたも
のを用いることもできる。 【0094】前記共重合体は、共重合させる(1)〜
(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モ
ル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。 【0095】本発明において、化合物を共重合してアル
カリ可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合さ
せる化合物として、前記(1)〜(6)の酸性基を含ま
ない他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)
の酸性基を含まない他の化合物の例としては、前記一般
式(1)で表されるモノマー単位との共重合成分として
例示した(m1)〜(m12)のモノマーを同様に挙げ
ることができるが、これらに限定されるものではない。 【0096】アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レー
ザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノ
ール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m
−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合の
いずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラ
ック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げら
れる。 【0097】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,
279号明細書に記載されているように、t−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル
基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体や、特開2000−241972公報に記
載の芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を
有するアルカリ可溶性樹脂等が挙げられる。 【0098】本発明においては、これらのフェノール性
水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、樹脂組成
物としての皮膜特性等の観点から、フェノール類として
のフェノール、o−クレゾール、m−クレゾール、p−
クレゾール、2,5−キシレノール、3,5−キシレノ
ール、レゾルシノールと、アルデヒド類又はケトン類と
してのホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒドとの重縮合体が好ましく、特に、m−クレ
ゾール:p−クレゾール:2,5−キシレノール:3,
5−キシレノール:レゾルシノールの混合割合が、モル
比で40〜100:0〜50:0〜20:0〜20:0
〜20の混合フェノール類、又は、フェノール:m−ク
レゾール:p−クレゾール:の混合割合がモル比で0〜
100:1〜70:1〜60の混合フェノール類と、ホ
ルムアルデヒドとの重縮合体が好ましい。 【0099】アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子
量が500以上であることが画像形成性の点で好まし
く、1,000〜700,000であることがより好ま
しい。また、その数平均分子量が500以上であること
が好ましく、750〜650,000であることがより
好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は
1.1〜10であることが好ましい。 【0100】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、そ
の合計の含有量が、記録層全固形分中、30〜99質量
%が好ましく、40〜95質量%がより好ましい。含有
量が30質量%未満である場合には、耐久性が悪化する
傾向にあり、また、99質量%を超える場合には、感
度、画像形成性が低下する傾向があるため好ましくな
い。 【0101】〔その他の成分〕本発明の樹脂化合物を用
いて、ポジ型記録層を形成するにあたっては、更に必要
に応じて、種々の添加剤を添加することができる。例え
ばオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スル
ホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分
解性であり、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の
溶解性を実質的に低下させる物質を併用することは、画
像部の現像液への溶解阻止性の向上を図る点では、好ま
しい。オニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウ
ム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム
塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる事がで
きる。 【0102】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば、S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et
al,Polymer, 21, 423(1980) 、特開平5−158230
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,06
9,055号、同4,069,056号、特開平3−1
40140号の明細書に記載のアンモニウム塩、D. C.
Necker et al, Macromolecules, 17, 2468(1984)、C.
S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. CuringASIA, p4
78 Tokyo, Oct (1988)、米国特許第4,069,055
号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホ
ニウム塩、J. V.Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,
041,358号、同4,491,628号の各明細
書、特開平2−150848号、特開平2−29651
4号の各公報に記載のヨードニウム塩、J. V.Crivello
et al, Polymer J. 17, 73 (1985)、J. V. Crivello et
al. J. Org.Chem., 43, 3055 (1978)、W. R. Watt et
al, J. Polymer Sci., Polymer Chem.Ed., 22, 1789 (1
984) 、J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 27
9 (1985) 、J. V. Crivello et al, Macromorecules, 1
4(5) ,1141(1981)、J. V. Crivello et al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979) 、欧州
特許第370,693号、同233,567号、同29
7,443号、同297,442号、米国特許第4,9
33,377号、同3,902,114号、同5,04
1,358号、同4,491,628号、同4,76
0,013号、同4,734,444号、同2,83
3,827号、独国特許第2,904,626号、同
3,604,580号、同3,604,581号の各明
細書に記載のスルホニウム塩、J. V. Crivello et al,
Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivello
et al, J. Polymer Sci.,Polymer Chem. Ed., 17, 104
7 (1979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen etal, T
eh,Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。 【0103】オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が
特に好ましい。また、特に好適なジアゾニウム塩として
は特開平5−158230号公報に記載のものがあげら
れる。 【0104】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。 【0105】好適なキノンジアジド類としては、o−キ
ノンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用
いられるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個
のo−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によ
りアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合
物を用いることができる。つまり、o−キノンジアジド
は熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−
キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化する
ことの両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発
明に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例
えば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システ
ムズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第339〜352頁
に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリ
ヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミノ化合物と反応さ
せたo−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスル
ホン酸アミドが好適である。また、特公昭43−28403 号
公報に記載されているようなベンゾキノン(1,2)−
ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−
(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとピ
ロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第
3,046,120号明細書及び同第3,188,21
0号明細書に記載されているベンゾキノン−(1,2)
−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−
(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドとフ
ェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に
使用される。 【0106】さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の
有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特
許に報告され知られている。例えば、特開昭47−53
03号、特開昭48−63802号、特開昭48−63
803号、特開昭48−96575号、特開昭49−3
8701号、特開昭48−13354号、特公昭41−
11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−
17481号などの各公報、米国特許第2,797,2
13号、同第3,454,400号、同第3,544,
323号、同第3,573,917号、同第3,67
4,495号、同第3,785,825号、英国特許第
1,227,602号、同第1,251,345号、同
第1,267,005号、同第1,329,888号、
同第1,330,932号、ドイツ特許第854,89
0号などの各明細書中に記載されているものを挙げるこ
とができる。 【0107】o−キノンジアジド化合物の添加量として
は、好ましくは記録層の全固形分に対し、0〜10質量
%、更に好ましくは0〜5質量%、特に好ましくは0〜
2質量%の範囲である。これらの化合物は単一で使用で
きるが、数種の混合物として使用してもよい。 【0108】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは0〜5質量%、更に好ましくは0
〜2質量%、特に好ましくは0.1〜1.5質量%であ
る。本発明の添加剤と結着剤は、同一層へ含有させるこ
とが好ましい。 【0109】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,
128号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,
6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェノー
ル、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、4,
4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、4,
4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,3′,
5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。更に、有機酸類としては、特開昭60−88942
号公報、特開平2−96755号公報などに記載されて
いる、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類
などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,
4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、
ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが
挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有
機酸類の印刷版材料中に占める割合は、0.05〜20
質量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15質量
%、特に好ましくは0.1〜10質量%である。 【0110】また、記録層には現像条件に対する処理の
安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報
や特開平3−208514号公報に記載されているよう
な非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公
報、特開平4−13149号公報に記載されているよう
な両性界面活性剤、EP950517に記載されている
ようなシロキサン系化合物、特開平11−288093
号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共
重合体を添加することができる。非イオン界面活性剤の
具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビ
タンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステ
アリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフ
ェニルエーテル等が挙げられる。両面活性剤の具体例と
しては、アルキルジ(アミノエチル)グリシン、アルキ
ルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N
−カルボキシエチル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリ
ニウムベタインやN−テトラデシル−N,N−ベタイン
型(例えば、商品名「アモーゲンK」:第一工業(株)
製)等が挙げられる。シロキサン系化合物としては、ジ
メチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック
共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、
DBE−224,DBE−621,DBE−712,D
BP−732,DBP−534、独Tego社製、Te
go Glide100等のポリアルキレンオキシド変
性シリコーンを挙げることが出来る。上記非イオン界面
活性剤及び両性界面活性剤が、記録層全固形分中に占め
る割合は、0.05〜15質量%が好ましく、より好ま
しくは0.1〜5質量%である。 【0111】本発明の樹脂組成物が用いられる記録層中
には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き
出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えること
ができる。焼き出し剤としては、露光による加熱によっ
て酸を放出する化合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る
有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具
体的には、特開昭50−36209号、同53−812
8号の各公報に記載されているo−ナフトキノンジアジ
ド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組
合せや、特開昭53−36223号、同54−7472
8号、同60−3626号、同61−143748号、
同61−151644号及び同63−58440号の各
公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性
有機染料の組合せを挙げることができる。かかるトリハ
ロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリ
アジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、
明瞭な焼き出し画像を与える。 【0112】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、記録層全固形分に対し、0.01
〜10質量%、好ましくは0.1〜3質量%の割合で記
録層中に添加することができる。 【0113】更に本発明の樹脂組成物が用いられる記録
層中には、必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するため
に可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリ
エチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジ
エチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタ
ル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチ
ル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフル
フリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及び
ポリマー等が用いられる。 【0114】また、これら以外にも、エポキシ化合物、
ビニルエーテル類、さらには、特開平8−276558
号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール
化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物、及び、本発明者らが先に提案した特開平11−16
0860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する
架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することがで
きる。 【0115】[平版印刷版原版]本発明の樹脂組成物
は、平版印刷版原版の記録層として好適に使用すること
ができる。かかる平版印刷版原版は、本発明の樹脂組成
物を含む記録層塗布液や、保護層等の所望の層の塗布液
用成分を溶媒に溶かして、適当な支持体上に塗布するこ
とにより平版印刷版原版を製造することができる。ここ
で使用する溶媒とし、エチレンジクロライド、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノー
ル、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、1−メトキシ−2−プロパノール、2−メトキシ
エチルアセテート、1−メトキシ−2−プロピルアセテ
ート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、
N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、テトラメチルウレア、N−メチルピロリド
ン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラ
クトン、トルエン等をあげることができるがこれに限定
されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合
して使用される。溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固
形分)の濃度は、好ましくは1〜50質量%である。ま
た塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)
は、用途によって異なるが、感光性印刷版についていえ
ば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布量
が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、感
光膜の皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、種
々の方法を用いることができるが、例えば、バーコータ
ー塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディ
ップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗
布等を挙げることができる。本発明における感光性層中
には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開
昭62−170950号公報に記載されているようなフ
ッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添
加量は、記録層全固形分中0.01〜1質量%、さらに
好ましくは0.05〜0.5質量%である。 【0116】〔樹脂中間層〕平版印刷版原版には、必要
に応じて、記録層と支持体の間に樹脂中間層を設けるこ
とができる。この樹脂中間層を設けることで、露光によ
りアルカリ現像液への溶解性が向上する赤外線感応層で
ある記録層が、露光面或いはその近傍に設けらることで
赤外線レーザに対する感度が良好であるとともに、支持
体と該赤外線感応層との間に高分子からなる樹脂中間層
が存在し、断熱層として機能し、赤外線レーザの露光に
より発生した熱が支持体に拡散せず、効率良く画像形成
に使用されることからの高感度化も図れるという利点を
有する。また、未露光部においては、アルカリ現像液に
対して非浸透性である記録層自体が樹脂中間層の保護層
として機能するために、現像安定性が良好になるととも
にディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且
つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光
部においては、溶解抑制能が解除された記録層の成分が
速やかに現像液に溶解、分散し、さらには、支持体に隣
接して存在するこの樹脂中間層自体がアルカリ可溶性高
分子からなるものであるため、現像液に対する溶解性が
良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場
合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、
現像性の向上にも寄与し、この樹脂中間層は有用である
と考えられる。 【0117】〔支持体〕平版印刷版原版に使用される支
持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強
度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限は
なく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートさ
れた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロー
ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸
セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレ
ン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルア
セタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしく
は蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙
げられる。 【0118】支持体としては、ポリエステルフィルム又
はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性が
よく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好まし
い。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びア
ルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板で
あり、更にアルミニウムがラミネートもしくは蒸着され
たプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合金に
含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグ
ネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタン
などがある。合金中の異元素の含有量は高々10質量%
以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。アルミニウム板は、その組成が
特定されるものではなく、従来より公知公用の素材であ
るアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発
明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ0.1m
m〜0.6mm程度、好ましくは0.15mm〜0.4
mm、特に好ましくは0.2mm〜0.3mmである。 【0119】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。 【0120】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解
質の濃度が1〜80質量%溶液、液温は5〜70℃、電
流密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時
間10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮
膜の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不充分で
あったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなっ
て、印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷
汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、ア
ルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,
714,066号、同第3,181,461号、第3,
280,734号及び第3,902,734号の各明細
書に開示されているようなアルカリ金属シリケート(例
えば、ケイ酸ナトリウム水溶液)法がある。この方法に
おいては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理
されるか又は電解処理される。他に特公昭36−220
63号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム
及び米国特許第3,276,868号、同第4,15
3,461号、同第4,689,272号の各明細書に
開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する
方法などが用いられる。 【0121】本発明の樹脂組成物が適用される平版印刷
版原版は、支持体上にポジ型の記録層を設けたものであ
るが、必要に応じてその間に下塗層を設けることができ
る。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、
例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、
アラビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミ
ノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及び
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基
を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフ
ィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン
酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンな
どのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩な
どのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ
るが、2種以上混合して用いてもよい。 【0122】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10質量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。 【0123】上記のようにして作成されたポジ型平版印
刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露
光に用いられる光線の光源としては、近赤外から赤外領
域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導
体レーザが特に好ましい。 【0124】本発明の樹脂組成物が適用される平版印刷
版の現像液及び補充液としては、従来より知られている
アルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウ
ム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及
び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。ま
た、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのア
ルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用いら
れる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によっ
て現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開
昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に
記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用
いられる。 【0125】更に、自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進
や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハ
イドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸など
の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に
有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもで
きる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印
刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラ
ビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の画像記録材料を印刷版として使用する場合
の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用
いることができる。 【0126】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。 【0127】本発明が適用される平版印刷版原版におい
て、画像露光し、現像し、水洗及び/又はリンス及び/
又はガム引きして得られた平版印刷版に不必要な画像部
(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡など)がある
場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。こ
のような消去は、例えば特公平2−13293号公報に
記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、
そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより
行なう方法が好ましいが、特開平59−174842号
公報に記載されているようなオプティカルファイバーで
導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像す
る方法も利用できる。 【0128】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版とし
たい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
特に、本発明の樹脂組成物を用いた平版印刷版において
は、汎用のバーニング処理を行なうことで、耐刷性が著
しく向上する。平版印刷版をバーニングする場合には、
バーニング前に特公昭61−2518号、同55−28
062号、特開昭62−31859号、同61−159
655号の各公報に記載されているような整面液で処理
することが好ましい。その方法としては、該整面液を浸
み込ませたスポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布
するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して
塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用さ
れる。また、塗布した後でスキージ、あるいは、スキー
ジローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好
ましい結果を与える。 【0129】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥質量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。 【0130】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施すことができるが水溶性高分子化合物等
を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどの
いわゆる不感脂化処理を省略することができる。この様
な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機
等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【0131】 【実施例】以下に実施例を示して本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらに限られるものではない。 【0132】(支持体の作製)厚さ0.3mmのJIS
−A−1050アルミニウム板を用いて、下記に示す工
程を組み合わせて処理することで支持体A、B、C、及
びDを作製した。 【0133】(a)機械的粗面化処理 比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との懸濁液を研磨
スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しなが
ら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗
面化を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は
50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナ
イロン、毛長50mm、毛の直径は0.3mmであっ
た。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒
に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3
本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200
mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブ
ラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラを
アルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kW
プラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はア
ルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転
数は200rpmであった。 【0134】(b)アルカリエッチング処理 上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH
水溶液(濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.
5質量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アル
ミニウム板を6g/m2溶解した。その後、井水を用い
てスプレーによる水洗を行った。 【0135】(c)デスマット処理 温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイ
オンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマ
ット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デ
スマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を
用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。 【0136】(d)電気化学的粗面化処理 60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面
化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g
/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リット
ル)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼ
ロからピークに達するまでの時間TPが0.8mse
c、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カ
ーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行っ
た。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽
はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密度は電
流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム
板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であっ
た。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させ
た。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行っ
た。 【0137】(e)アルカリエッチング処理 アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミ
ニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチ
ング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g
/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化
を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とす
るスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッ
ジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、
井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 【0138】(f)デスマット処理 温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウム
イオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水
洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水
溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の
廃液を用いた。 【0139】(g)電気化学的粗面化処理 60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面
化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/
リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル
含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は矩形波
であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化
処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。
電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。電流密
度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミ
ニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であ
った。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行っ
た。 【0140】(h)アルカリエッチング処理 アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミ
ニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチ
ング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g
/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化
処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体
とするスマット成分を除去し、また、生成したピットの
エッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その
後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。 【0141】(i)デスマット処理 温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデス
マット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによ
る水洗を行った。 【0142】(j)陽極酸化処理 電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫
酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.
5質量%含む。)、温度は43℃であった。その後、井
水を用いてスプレーによる水洗を行った。電流密度はと
もに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は
2.7g/m2であった。 【0143】<支持体A>上記(a)〜(j)の各工程
を順に行い、(e)工程におけるエッチング量は3.5
g/m2となるようにして支持体Aを作製した。 【0144】<支持体B>上記工程のうち(g)(h)
(i)の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体
Bを作製した。 【0145】<支持体C>上記工程のうち(a)及び
(g)(h)(i)の工程を省略した以外は各工程を順
に行い支持体Cを作製した。 【0146】<支持体D>上記工程のうち(a)及び
(d)(e)(f)の工程を省略した以外は各工程を順
に行い、(g)工程における電気量の総和が450C/
dm2となるようにして支持体Dを作製した。 【0147】上記によって得られた支持体A、B、C、
及びDは、続けて下記の親水化処理、下塗り処理を行っ
た。 【0148】(k)アルカリ金属ケイ酸塩処理 陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度
30℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理層中
へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩
処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用い
たスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付
着量は3.5mg/m2であった。 【0149】(下塗り処理)上記のようにして得られた
アルカリ金属ケイ酸塩処理後の各アルミニウム支持体上
に、下記組成の下塗り液を塗布し、80℃で15秒間乾
燥した。乾燥後の被覆量は15mg/m2であった。 【0150】 <下塗り液組成> ・下記高分子化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1.0g 【0151】 【化31】 【0152】(実施例1〜10、比較例1〜3)得られ
た支持体A〜Dに、以下の感光液を塗布し、150℃の
オーブンで1分乾燥後、乾燥膜厚が1.8g/m2のポ
ジ型感赤外線感光性組成物層を有するポジ型平版印刷版
原版を作製した。 【0153】 〔感光液〕 ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、 表1に記載の量 重量平均分子量7300、 未反応クレゾール0.4質量%含有) ・表1に記載の高分子化合物 表1に記載の量 ・下記赤外線吸収剤(シアニン染料A) 0.016g ・下記赤外線吸収剤(シアニン染料B) 0.024g ・2,4,6-トリス(ヘキシルオキシ)ヘ゛ンセ゛ンシ゛アソ゛ニウム-2-ヒト゛ロキシ- 0.01g 4-メトキシヘ゛ンソ゛フェノンー5-スルホネート ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物 0.06g ・ビクトリアピュアブルーBOHの対アニオンを 0.015g 1−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料 ・フッ素系界面活性剤(メガファックF−176、 0.02g 大日本インキ化学工業(株)製) ・メチルエチルケトン 15g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7g 【0154】 【化32】 【0155】 【化33】 【0156】比較例2で用いた高分子化合物(AP−
C)を以下に示す。 【0157】 【化34】 【0158】[平版印刷版原版の評価] 〔現像ラチチュードの評価〕得られた感光性平版印刷版
をCreo社製Trendsetterにてビーム強度
9W、ドラム回転速度150rpmでテストパターンを
画像状に描き込みを行った。その後、下記A組成及びB
組成のアルカリ現像液の水の量を変更することにより、
希釈率を変えて電導度を変化させたものを仕込んだ富士
写真フイルム(株)製PSプロセッサー900Hを用
い、液温を30℃に保ち、現像時間20秒で現像した。
この時、画像部が溶出されず、かつ、現像不良の感光層
残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像が行えた現
像液の電導度の一番高いものと、一番低いものの差を現
像ラチチュードとして評価した。その結果を表1に示
す。 【0159】 <アルカリ現像液A組成> ・SiO2・K2O(K2O/SiO2=1/1(モル比)) 4.0質量% ・クエン酸 0.5質量% ・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.5質量% (重量平均分子量1,000) ・水 95.0質量% <アルカリ現像液B組成> ・Dソルビット 2.5質量% ・水酸化ナトリウム 0.85質量% ・ポリエチレングリコールラウリルエーテル 0.5質量% (重量平均分子量1,000) ・水 96.15質量% 【0160】〔耐刷性の評価〕上記現像ラチチュード評
価と同様の方法で、画像部が溶出されず、かつ、現像不
良の感光層残膜に起因する汚れや着色がなく良好に現像
が行なえる現像液の電導度に於いて得られた平版印刷版
を、小森コーポレーション社製のリスロン印刷機で、大
日本インキ化学工業社製のDIC−GEOS(N)墨の
インキを用いて印刷し、ベタ画像の濃度が薄くなり始め
たと目視で認められた時点の印刷枚数により、耐刷性を
評価した。結果を表1に示す。 【0161】〔バーニング処理後の耐刷性の評価〕上記
耐刷性の評価同様に現像して得られた平版印刷版の版面
を、富士写真フイルム(株)製のバーニング整面液BC
−3で拭いた後、約240℃で7分間、バーニング処理
を行った。その後、水洗し、富士写真フイルム(株)製
ガムGU−7を水で体積を2倍に希釈した液で版面を処
理した。その後、耐刷性の評価同様に、小森コーポレー
ション社製のリスロン印刷機で、大日本インキ化学工業
社製のDIC−GEOS(N)墨のインキを用いて印刷
し、ベタ画像の濃度が薄くなり始めたと目視で認められ
た時点の印刷枚数により、バーニング処理後の耐刷性を
評価した。結果を表1に示す。 【0162】〔網点再現性の評価〕得られた平版印刷版
原版を、Creo社製Trendsetter3244
にて、出力9W、ドラム回転数150rpmにて、解像
度175lpiの条件で50%の網点画像を露光した。
次いで、前記アルカリ現像液Aを仕込んだ富士写真フイ
ルム(株)製PSプロセッサー900Hを用い、液温を
30℃に保ち、現像時間は22秒で現像した。現像した
平版印刷版の網点面積率を、X−Rite分光濃度計5
28を用いて測定し、下記に示す評価基準により評価し
た。結果を表1に示す。 −評価基準− A 網点面積率48〜52% B 網点面積率45〜47%、53〜55% C 網点面積率45%未満、56%以上 【0163】 【表1】 【0164】表1に示されるように、本発明の樹脂組成
物を記録層に用いた平版印刷版は、シリケート系、非シ
リケート系いずれの現像液を用いた場合も、現像ラチチ
ュードに優れていることがわかった。また、耐刷性、網
点再現性についても優れていることがわかった。一方、
本発明に係る特定の高分子化合物を用いない比較例1及
び3、並びに、線状高分子としてエステル基を有するモ
ノマーと酸性基を有するモノマーとを共重合させたもの
を用いた比較例2は、現像ラチチュードに劣ることがわ
かった。 【0165】(実施例11及び12)得られた支持体B
に、実施例1〜10と同様に前記下塗り液を塗布した
後、下記組成の下層用塗布液を、ウェット塗布量が23
ml/m2のワイヤーバーで塗布して塗布量を1.2g
/m2としたのち、150℃の乾燥オーブンで60秒間
乾燥した。得られた下塗付き支持体に、下記組成の画像
記録層(上層)用塗布液を、ウエット塗布量が11ml
/m2のワイヤーバーで塗布を行い総塗布量を1.5g
/m2とした。塗布後、乾燥オーブンで、140℃で7
0秒間の乾燥を行いポジ型平版印刷版原版を作製した。 【0166】 〔下層用塗布液〕 ・N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミドと、 2.133g メタクリル酸メチル、アクリロニトリルの共重合体 (モル比37:33:30、重量平均分子量6.5万) ・シアニン染料A(前記構造) 0.098g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g ・シクロヘキサンジカルボン酸無水物 0.100g ・ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール 0.090g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対アニオンを 0.100g 6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン 0.03g ヘキサフルオロホスフェート(熱分解性化合物) ・フッ素系界面活性剤 0.035g (メガファックF−176、大日本インキ工業(株)社製) ・メチルエチルケトン 26.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g ・N,N−ジメチルアセトアミド 13.8g 【0167】 〔画像記録層(上層)用塗布液〕 ・表2に記載の高分子化合物 表2に記載の量 ・クレゾールノボラック樹脂 表2に記載の量 (PR−54046、住友ベークライト(株)製) ・シアニン染料C(下記構造) 0.008g ・テトラブチルアンモニウムブロミド 0.030g ・フッ素系界面活性剤 0.035g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・1−メトキシ−2−プロパノール 40.2g 【0168】 【化35】 【0169】〔現像ラチチュードの評価〕得られた平版
印刷版原版に対し、実施例1〜10と同様の方法により
露光及び現像を行い、現像ラチチュードを評価した。結
果を表2に示す。 【0170】〔耐刷性の評価〕得られた平版印刷版原版
について、実施例1〜10と同様に平版印刷版を得たの
ち、耐刷性を評価した。結果を表2に示す。 【0171】 【表2】 【0172】表2に示されるように、本発明の樹脂組成
物を記録層に用いた平版印刷版は、記録層が重層構造を
とる場合においても現像ラチチュード及び耐刷性に優れ
ており、このように下層を設けることで性能がさらに向
上することがわかった。 【0173】 【発明の効果】本発明によれば、ポジ型平版印刷版原版
における記録層に有用な、皮膜形成性及び皮膜強度に優
れた樹脂組成物を提供することできる。また、本発明樹
脂組成物が適用されたポジ型平版印刷版は、現像ラチチ
ュード、耐刷性、及び網点再現性に優れる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] The present invention relates to a resin composition,
More specifically, it is directly from a digital signal such as a computer.
Infrared laser for so-called direct plate making that can make plate making
Resin that can be suitably used for the recording layer of positive lithographic printing plate precursors
Relates to the composition. [0002] 2. Description of the Related Art Recent development of laser
In particular, a solid-state laser with a light emitting region from near infrared to infrared
Semiconductor lasers are easily available in high output and small size
It is like. Is it digital data such as a computer?
These lasers are used as exposure light sources for direct plate-making.
Very useful. The positive lithographic printing plate material for infrared laser is
Binder resin that is soluble in alkaline aqueous solution and absorbs light
An IR dye that generates heat, an essential component, and an IR dye
However, in the unexposed area (image area),
The solubility of the binder resin is substantially reduced by the action.
It acts as a dissolution inhibitor, and in exposed areas (non-image areas)
Interaction between IR dyes and binder resin due to generated heat
Use is weakened and dissolved in an alkaline developer to form a lithographic printing plate
To do. Alkaline water in positive planographic printing plate materials
As a solution-soluble binder resin, novolak resin
A polymer compound having a phenolic hydroxyl group such as
Used. However, novolac resin was used
In the recording layer of positive planographic printing plate precursors, film-forming properties
In addition, there is a case where the film strength is insufficient and improvement is desired.
It was. For the purpose of improving film strength,
No. 10-282463 discloses a photothermal conversion substance and an al
In addition to a positive photosensitive composition containing potash-soluble resin,
An example using polyacrylic acid in combination is shown.
Considering further enhancement of sensitivity, further improvement of film strength
Is desired. Also, in JP 2001-324808 A
Is a positive type containing a photothermal conversion substance and a novolac resin
To the photosensitive composition, methyl methacrylate- (meth) acrylate is further added.
Although an example using a crylic acid copolymer is also shown, the sensitivity
Insufficient level in terms of improving film strength while maintaining
It is le. [0006] Accordingly, it is an object of the present invention.
Is useful for the recording layer in positive type lithographic printing plate precursors.
To provide a resin composition excellent in film formability and film strength.
It is in. [0007] [Means for Solving the Problems] The inventor has conducted intensive research.
As a result of stacking, polymer compounds containing specific monomer units
The above problem can be solved by the resin composition contained.
As a result, the present invention has been completed. That is, the present invention
The resin composition comprises a monomer unit represented by the following general formula (1).
Polymer compound containing a position (hereinafter referred to as “specific polymer compound”
It is called "thing". ) And an infrared absorber, and infrared
Solubility in alkaline aqueous solution changes by irradiation
It is characterized by doing. [0008] [Chemical 2] In the general formula (1), A has a polymerizable double bond.
Represents a divalent organic group. X1Is —O— or —NR2
Represent. R1X1Is —O—, it represents an alkyl group.
X1-NR2In the case of-, a hydrogen atom, an alkyl group,
Or represents an aryl group. R2Is a hydrogen atom or alkyl
Represents a group. The working mechanism of the present invention is not clear, but
Is guessed. That is, it is included in the resin composition of the present invention.
The specific polymer compound is a flexible polymer compound.
Such polymer compound containing novolac resin, etc.
When used for the recording layer of a positive lithographic printing plate precursor
It is possible to form a recording layer with excellent composition and film strength.
This makes the recording layer resistant to alkaline developer.
Remarkably improved. Also, a positive having such a recording layer.
The type lithographic printing plate has development latitude, printing durability, and halftone dots.
The reproducibility is remarkably excellent. This is a novolak
Specially used for alkali dissolution channels (cracks, etc.) in resin
It is thought that this is caused by the sealing of certain polymer compounds
It is done. The specific polymer compound according to the present invention
Also has the feature of excellent manufacturing stability. That is,
Like certain polymer compounds according to the present invention, flexible hydrophobicity
High molecular compounds containing both functional groups and acidic groups
When obtained by copolymerization of each monomer,
From the point of compatibility etc., a monomer having a hydrophobic group and an acidic group
Control the proportion of monomers
It may be difficult to obtain a polymer. However,
The general formula contained in the specific polymer compound according to the present invention.
The monomer unit represented by (1) is a single monomer unit.
Because it has both a flexible hydrophobic group and an acidic group inside,
Without considering copolymerization, etc., flexible hydrophobic groups and acidic groups
It is possible to stably obtain high molecular compounds contained in
It has the feature of being able to. For this reason, the present invention
Specific polymer compounds such as positive planographic printing plate precursors
When used as a recording layer, it covers the entire formed film.
It becomes possible to achieve uniform image forming properties. [0012] DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below. [Resin composition] The resin composition of the present invention comprises:
Polymerization containing a monomer unit represented by the general formula (1)
Compound (specific polymer compound) and an infrared absorber.
And dissolved in an alkaline aqueous solution by infrared irradiation.
It is characterized by the change in solution. The resin of the present invention
The composition is applied to the recording layer of a positive planographic printing plate precursor.
Are preferred. Hereinafter, the components constituting the resin composition of the present invention are described.
Minutes will be described sequentially. [Specific polymer compound]
Specific polymer compounds that are characteristic components have the following general formula:
A polymer compound containing the monomer unit represented by (I)
The [0015] [Chemical 3] In general formula (1), A has a polymerizable double bond.
Represents a divalent organic group. X1Is —O— or —NR2
Represent. R1X1Is —O—, it represents an alkyl group.
X1-NR2In the case of-, a hydrogen atom, an alkyl group,
Or represents an aryl group. R2Is a hydrogen atom or alkyl
Represents a group. The general formula (1) will be described in detail below.
The In general formula (1), A is divalent having a polymerizable double bond.
Represents an organic group of
Any divalent organic group that can be formed is not limited.
Yes. However, from the viewpoint of polymerizability, availability, etc., there is little A
It is preferable that one of the ends is a polymerizable double bond.
Yes. Particularly preferred A has the following structure
Is mentioned. [0018] [Formula 4] X1Each independently represents —O— or —NR—2
From the viewpoint of availability and the like, it may be -O-.
More preferred. R2Represents a hydrogen atom or an alkyl group,
R2As an alkyl group represented by C1-C20,
Preferably 1-12, more preferably 1-12
2 to 8 is particularly preferable. R2In the table
The alkyl group to be substituted may have a substituent.
Suitable substituents include aryl groups, alkoxy groups,
Alkyloxy group, hydroxyl group, amino group, alkylamino group,
A dialkylamino group, a halogen atom, etc. are mentioned. R1X1When-is -O-, an alkyl group
X1-NR2In the case of-, hydrogen atom, alkyl
Represents a group or an aryl group. R1And R2And each other
To form a ring. R1Archi represented by
Is a straight chain, branched chain or cyclic alkyl group.
Preferably having 1 to 20 carbon atoms,
From the viewpoint of hydrophobicity, solubility in a solvent, etc., the number of carbon atoms is 1-8.
It is more preferable that the number of carbon atoms is 2 to 6.
Particularly preferred. R1The alkyl group represented by
A preferable substituent may be aryl.
Group, alkoxy group, aryloxy group, hydroxyl group, amino group
Group, alkylamino group, dialkylamino group, nitro
Group, cyano group, halogen atom and the like. R1In the table
The aryl group to be substituted may have a substituent.
Examples of the substituent include the same substituents as in the case of the alkyl group.
I can get lost. Preferred monomer units represented by the general formula (1)
A good example is: [0022] [Chemical formula 5][0023] [Chemical 6] [0024] [Chemical 7] [0025] [Chemical 8] These monomer units may be used alone or
Multiple types may be used in combination to form a copolymer. further,
Copolymer other than the monomer unit represented by the general formula (1)
Improve other physical properties by copolymerizing components
Or it can be modified. As such physical properties
For example, alkali developability, chemical resistance, printing durability, sensitivity
Etc. are included. Monomer represented by the general formula (1)
Examples of the copolymer component other than the above are as follows:
Mention of the monomers listed in (m1) to (m12)
Can do. (M1) For example, 2-hydroxyethyla
Chlorate or 2-hydroxyethyl methacrylate, etc.
Acrylates having aliphatic hydroxyl groups and
Tacrylic acid esters. (M2) Methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic
Propyl lurate, butyl acrylate, amyl acrylate,
Hexyl acrylate, octyl acrylate, acrylic acid
Benzyl, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl
Acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate
Alkyl acrylates such as (M3) methyl methacrylate, ethyl methacrylate, me
Propyl tacrylate, butyl methacrylate, methacryl
Amyl acid, hexyl methacrylate, cyclomethacrylate
Hexyl, benzyl methacrylate, methacrylic acid-2-
Chloroethyl, glycidyl methacrylate, N-dimethyl
Alkyl methacrylate such as ruaminoethyl methacrylate
To. (M4) Acrylamide, methacrylamide, N-methyl
Roll acrylamide, N-ethyl acrylamide, N
-Hexyl methacrylamide, N-cyclohexyl aqua
Rilamide, N-hydroxyethylacrylamide, N
-Phenylacrylamide, N-nitrophenyl acrylic
Luamide, N-ethyl-N-phenylacrylamide, etc.
Acrylamide or methacrylamide. (M5) Ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl
Ether, hydroxyethyl vinyl ether, propylene
Ru vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl bi
Vinyl ethers such as nil ether and phenyl vinyl ether
Tells. (M6) vinyl acetate, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate
Kind. (M7) Styrene, α-methylstyrene,
Styrene such as methylstyrene and chloromethylstyrene
Kind. (M8) Methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, plastic
Vinyl such as propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone
Ketones. (M9) Ethylene, propylene, isobutylene, butadi
Olefins such as ene and isoprene. (M10) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazo
, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylate
Rilonitrile and the like. (M11) N-acryloylacrylamide, N-ace
Til methacrylamide, N-propionyl methacrylate
Mido, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide
Unsaturated imides such as (M12) such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid
Unsaturated carboxylic acid and 2-hydroxyethyl acrylate
Or aliphatic such as 2-hydroxyethyl methacrylate
Acrylic acid ester having hydroxyl group and methacrylic acid
Carboxyl groups such as condensates of esters and cyclic acid anhydrides
Containing monomer. Among these copolymer components, the film property is improved.
For this purpose, alkyl acrylate (m2) and alkyl
It is preferable to use dimethacrylate (m3). The monomer unit represented by the general formula (1) is included.
When the high molecular compound is a copolymer, it is represented by the general formula (1).
The monomer unit contained in the copolymer is 5 mol% or more.
Preferably 10 mol% or more
Is more preferable. Monomer unit represented by general formula (1)
The weight average molecular weight of the polymer compound containing
00 to 200,000 is preferred, 10,000 to 10
More preferably, 20,000, 20,000-60,00
0 is particularly preferred. If the molecular weight is too low, a sufficient coating
If it is not obtained and is too large, the developability tends to be inferior. Also, the resin composition of the present invention can be used as a lithographic printing plate precursor.
When used for the photosensitive layer (recording layer) of a plate, the entire photosensitive layer
The solid content is preferably 1% by mass to 50% by mass.
More preferably, the content is 5% by mass to 20% by mass.
If the development latitude is narrower than 1% by mass,
If the amount exceeds 50% by mass,
This is not preferable because printing durability tends to be low. Including a monomer unit represented by the general formula (1)
The polymer compound uses a known radical polymerization initiator,
Conventionally known graft copolymerization and block copolymerization
Method, random copolymerization method, etc.
it can. The monomer unit represented by the general formula (1) is contained.
Among the polymer compounds that can be suitably used in the present invention
Examples of (AP-1 to AP-18) are shown below.
Is not limited to these. [0034] [Chemical 9][0035] Embedded image [0036] Embedded image[0037] Embedded image[0038] Embedded image[0039] Embedded image [Infrared absorber] Infrared absorber in the present invention
The collecting agent will be described. Infrared absorption used in the present invention
As an agent, it absorbs the irradiation energy of light energy used for recording.
However, if the substance generates heat, the limit of the absorption wavelength range is
High power laser that can be used without
Wavelength from 760 nm to 1200 nm
Infrared absorbing dyes or pigments that have an absorption maximum
Can be mentioned. Examples of the dye include commercially available dyes and, for example, “dye”.
"Handbook for Handbook"
The well-known thing described in literature can be utilized. concrete
Azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes
, Naphthoquinone dye, anthraquinone dye, phthalose
Anine dye, carbonium dye, quinone imine dye,
Chin dye, cyanine dye, squarylium dye, piliri
Um salt, metal thiolate complex, oxonol dye, dii
Such as monium dye, aminium dye, croconium dye, etc.
Dyes. Preferred dyes include, for example, JP-A-5.
No. 8-125246, JP 59-84356, JP
Sho 59-202829, JP-A 60-78787, etc.
Cyanine dyes described in JP-A-58-1736
96, JP-A-58-181690, JP-A-58-1
Methine dyes described in each publication of No. 94595, etc.
JP-A-58-112793, JP-A-58-22479
3, JP-A-59-48187, JP-A-59-739
96, JP-A-60-52940, JP-A-60-63
Naphthoquinone dye described in each publication of No. 744
Described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 58-112792, etc.
Squarylium dye, British Patent 434,875
And the cyanine dyes described in the book. US Pat. No. 5,156,938
The near-infrared absorption sensitizer described in the booklet is also preferably used.
The device described in US Pat. No. 3,881,924
Substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts,
57-142645 (US Pat. No. 4,327,169)
No.), trimethine thiapyrylium salt, JP-A 58-
181051, 582-22014, 59-4
1363, 59-84248, 59-8424
No. 9, No. 59-146063, No. 59-146061
Pyryllium compounds described in each of the publications
Cyanine dyes described in JP-A-59-216146, rice
The pentame described in Japanese Patent No. 4,283,475
Chinthiopyrylium salt, etc.
Pyrylium disclosed in each publication of Japanese Patent No. 5-19702
Compounds are also preferably used. Another preferred example of the dye is rice.
In Japanese Patent No. 4,756,993, formula (I),
Name near-infrared absorbing dyes listed as (II)
You can. Of these dyes, particularly preferred
Cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol
Dyes, squarylium pigments, pyrylium salts, thiopyri
Examples thereof include a lithium dye and a nickel thiolate complex. The
In addition, dyes represented by the following general formulas (a) to (e)
Is preferable because of its excellent photothermal conversion efficiency.
The cyanine dye represented by (a) is the resin composition of the present invention.
High interaction with alkali-soluble resin when used in
Most preferred because of its stability and economy.
That's right. [0046] Embedded image In general formula (a), X1Is a hydrogen atom, halo
Gen atom, -NPh2, X2-L1Or the following groups
The Where X2Represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L1
Has a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a hetero atom.
An aromatic ring having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom
A hydrocarbon group is shown. Here, the hetero atom is N,
S, O, a halogen atom, and Se are shown. [0048] Embedded image R1And R2Are each independently a carbon atom
The hydrocarbon group of number 1-12 is shown. Safe storage of photosensitive layer coating solution
From qualitative, R1And R2Is a hydrocarbon with 2 or more carbon atoms
It is preferably a basic group, and further R1And R2And each other
In particular to form a 5- or 6-membered ring
preferable. Ar1, Ar2Are the same or different
Aromatic hydrocarbons that may have a substituent
Indicates the basis. Preferred aromatic hydrocarbon groups include ben
Zen ring and naphthalene ring may be mentioned. Also preferred
As the substituent, a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms,
A halogen atom, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms
Can be mentioned. Y1, Y2Are the same but different
Or a sulfur atom or a dial with 12 or less carbon atoms
A kilmethylene group is shown. RThree, RFourAre the same
Carbon atoms which may be different and may have a substituent
A hydrocarbon group having 20 or fewer children is shown. With preferred substituents
An alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carbo
A xyl group and a sulfo group are mentioned. RFive, R6, R7as well as
R8May be the same or different,
A child or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms is shown. material
From the availability of the hydrogen atom, a hydrogen atom is preferable. Za-
Represents a counter anion. However, R1~ R8Either
When the sulfo group is substituted, Za-Is not necessary. Good
Zai-Because of the storage stability of the photosensitive layer coating solution,
Ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion
ON, hexafluorophosphate ion, and sulfo
Acid ions, particularly preferably perchlorate ions,
Hexafluorophosphate ion and aryls
It is a sulfonic acid ion. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a)
In addition to those exemplified below, JP-A-2001-1339
69, paragraph numbers [0017] to [0019], JP
Paragraph Nos. [0012] to 2002-40638
[0038], paragraph number of Japanese Patent Application No. 2002-23360
Nos. [0012] to [0023]
Can. [0052] Embedded image [0053] Embedded image[0054] Embedded image [0055] Embedded image [0056] Embedded imageIn the general formula (b), L is a conjugated carbon atom number of 7 or more.
Represents the upper methine chain, and the methine chain has a substituent.
The substituents are bonded to each other to form a ring structure.
Also good. Zb+Indicates a counter cation. Preferred counter cation
As ammonium, iodonium, sulfoniu
Phosphonium, pyridinium, alkali metal cation
(Ni+, K+, Li+). R9~ R14
And R15~ R20Are independently of each other hydrogen atoms or halogen atoms.
Child, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl
Group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl
Group, sulfinyl group, oxy group, or amino group
Substituents, or combinations of two or three of these
Which are bonded to each other to form a ring structure.
May be. Here, in general formula (b), L is a conjugated carbon atom.
Those representing the methine chain of formula 7, and R 9~ R14And R15
~ R20That all represent hydrogen atoms are readily available and effective
It is preferable from the viewpoint of fruit. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (b) include
Can be mentioned as examples. [0059] Embedded image [0060] Embedded image In general formula (c), YThreeAnd YFourIs that
Oxygen, sulfur, selenium, or tellurium atoms
Represents. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R
twenty one~ R twenty fourAnd Rtwenty five~ R28Are the same, but different
May be hydrogen atom, halogen atom, cyano
Group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkini
Group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfi
Represents a nyl group, an oxy group, or an amino group. In the formula, Z
a-Represents a counter anion, and Za in the general formula (a)-
It is synonymous with. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (c) include the following:
Can be mentioned as examples. [0063] Embedded image[0064] Embedded image In the general formula (d), R29Or R31Each is German
In addition, a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group is shown.
R33And R34Each independently represents an alkyl group, a substituted oxy
A group or a halogen atom; n and m are each independently 0
Or an integer of 4. R29And R30Or R31And R32Is
Each may be bonded to form a ring, and R29as well as/
Or R30Is R33And also R31And / or R32Is R34And conclusion
May be combined to form a ring, and R33Or R34But
R when there are multiple33Each other or R34Each other
To form a ring. X2And XThreeAre independent of each other
And a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group, and X
2And XThreeAt least one of a hydrogen atom or an alkyl group
Show. Q is a trimethine group which may have a substituent, or
It is a pentamethine group and has a ring structure together with a divalent organic group.
It may be formed. Zc-Represents a counter anion, the general formula
Za in (a)-It is synonymous with. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (d) are as follows:
Can be mentioned as examples. [0067] Embedded image [0068] Embedded image In the general formula (e), R35~ R50Each
In addition, a hydrogen atom which may have a substituent, a halogen atom,
A cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an
Lucinyl group, hydroxyl group, carbonyl group, thio group, sulfoni
Ru group, sulfinyl group, oxy group, amino group, onium
The salt structure is shown. M is two hydrogen atoms or metal atoms,
Shows halometal group and oxymetal group, but is included
As the metal atom, IA, IIA, IIIB, I in the periodic table
VB group atoms, 1st, 2nd and 3rd transition metals, lanta
Noid elements such as copper, magnesium,
Iron, zinc, cobalt, aluminum, titanium, vanadium
Are preferred. In the present invention, it can be suitably used.
Specific examples of the dye represented by the general formula (e) are as follows:
Can be mentioned as examples. [0071] Embedded image Used as an infrared absorber in the present invention
Commercially available pigments and color indexes
(CI) Handbook, “Latest Pigment Handbook” (Japan Pigment Technical Association)
Edition, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC
Published in 1986), "Printing ink technology" issued by CMC
Edition, published in 1984)
The The types of pigment include black pigment, yellow face
, Orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Examples include polymer-bound dyes. Specifically, insoluble
Zo pigment, azo lake pigment, condensed azo pigment, chelate azo
Pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, key
Nacridone pigments, dioxazine pigments, isoindole
Non-based pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, firefly
Light pigments, inorganic pigments, carbon black, etc. can be used.
Of these pigments, carbon black is preferred.
is there. These pigments may be used without surface treatment.
Alternatively, a surface treatment may be applied. For surface treatment method
The method of surface coating with resin and wax, surfactant
Method of adhering, reactive substances (eg silane cups)
Ring agents, epoxy compounds, polyisocyanates, etc.)
A method of bonding to the pigment surface is conceivable. Above surface
The treatment method is "Characteristics and application of metal soap" (Shoshobo)
“Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and
To "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986)
Has been described. The particle size of the pigment is in the range of 0.01 μm to 10 μm.
Preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm
More preferably, it is particularly 0.1 μm to 1 μm.
It is preferable that it exists in the range. The particle size of the pigment is 0.01μ
If it is less than m, the stability of the dispersion in the image-sensitive layer coating solution
In view of the above, it is not preferable.
It is not preferable in terms of the uniformity of the optical layer. As a method for dispersing the pigment, ink production is possible.
And well-known dispersion techniques used for toner production, etc.
The Dispersers include ultrasonic dispersers, sand mills, and atomizers.
Lighter, Pearl mill, Super mill, Ball mill, Y
Impeller, despather, KD mill, colloid mill, da
Inatron, 3-roll mill, pressure kneader, etc.
It is. For details, see “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1
986). These pigments or dyes constitute the recording layer.
0.01 to 50% by weight, preferably based on the total solid content
Is 0.1 to 10% by weight, particularly preferably in the case of dyes.
5 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 1 in the case of pigments
It can be added at a ratio of 0% by mass. Pigment or
When the added amount of the dye is less than 0.01% by mass, the sensitivity is low.
And when it exceeds 50% by mass,
As the blending amount increases, the uniformity of the photosensitive layer and the recording layer
There is a risk of adversely affecting durability. As described above, the resin composition of the present invention has a
It is preferable to apply to the recording layer of di-type planographic printing plate precursor
In this case, the resin composition of the present invention is listed below.
It is preferable that each component is further included. [Alkali-soluble resin] Can be used in the present invention.
Alkali-soluble resins include main chains and / or
Is a homopolymer containing an acidic group in the side chain, copolymer of these
Body or mixtures thereof. Above all, (1)
The acidic group listed in (6) is the main chain and / or side chain of the polymer
What is in it is soluble in alkaline developer
This is preferable in terms of expression of dissolution inhibiting ability. (1) Phenol group (-Ar-OH) (2) Sulfonamide group (—SO2NH-R) (3) Substituted sulfonamide acid group (hereinafter referred to as “active imide”
It is called "base". ) [-SO2 NHCOR, -SO2NHS
O2R, -CONHSO2R] (4) Carboxylic acid group (—CO2H) (5) Sulfonic acid group (-SOThreeH) (6) Phosphate group (-OPOThreeH2) In the above (1) to (6), Ar has a substituent.
Represents a divalent aryl linking group which may be
The hydrocarbon group which may have a substituent is represented. An acidic group selected from the above (1) to (6)
Among the alkali-soluble resins we have, (1) phenol
Groups, (2) sulfonamide groups and (3) active imide groups
An alkali-soluble resin is preferable.
Alkaline having an enol group or (2) a sulfonamide group
The re-soluble resin is soluble in alkaline developer.
Image latitude, preferred from the viewpoint of ensuring sufficient film strength
(1) An alkali-soluble resin having a phenol group
Most preferred. An acidic group selected from the above (1) to (6)
Examples of the alkali-soluble resin having:
Can be mentioned. (1) As an alkali-soluble resin having a phenol group
For example, polycondensation of phenol and formaldehyde
Body, condensation polymer of m-cresol and formaldehyde,
a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde, m-
Polymerization of p / p-mixed cresol and formaldehyde
Body, phenol and cresol (m-, p-, or m- /
p-mixed) and formaldehyde
Novolak resins such as polymers, and pyrogallol and aceto
And a polycondensation polymer. Furthermore, Feno
A copolymer obtained by copolymerizing a compound having a vinyl group in the side chain.
It can also be mentioned. Alternatively, it has a phenol group in the side chain.
It is also possible to use a copolymer obtained by copolymerizing the compound to be
The As the compound having a phenol group,
Acrylamide having enolic group, methacrylamido
, Acrylic acid ester, methacrylic acid ester, or
Hydroxystyrene etc. are mentioned. (2) Alkali having a sulfonamide group
Examples of the soluble resin include a sulfonamide group
The smallest structural unit derived from a compound
Mention may be made of constructed polymers. As above
As a compound, at least one hydrogen atom per nitrogen atom
And a polymerizable unsaturated group
And compounds having one or more in the molecule.
The Among them, acryloyl group, allyl group, or vinyloxy
A substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or
Low molecular weight with substituted sulfonylimino group in the molecule
Compounds are preferred, for example, the following general formula (i) to general formula
The compound represented by (v) is mentioned. [0086] Embedded image Where X1, X2 Are each independently -O
-Or-NR7Represents. R1, RFourEach independently water
Elementary atom or -CHThreeRepresents. R2, RFive, R9, R12, And
And R16Each independently may have a substituent.
An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group,
Represents an arylene group or an aralkylene group; RThree, R7, And
And R13Each independently has a hydrogen atom or a substituent.
An optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, cycloalkyl
Represents an alkyl group, an aryl group or an aralkyl group. Also,
R6, R17Each independently may have a substituent.
An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an
Reel group, aralkyl group. R8, RTen, R1 FourIs
Each independently a hydrogen atom or -CHThreeRepresents. R11, R
15Each independently has a single bond or a substituent.
Good C1-C12 alkylene group, cycloalkylene
Represents a group, an arylene group or an aralkylene group. Y1, Y2
Each independently represents a single bond or CO. Formulas represented by general formula (i) to general formula (v)
Among the compounds, the positive lithographic printing plate precursor of the present invention has a special
M-aminosulfonylphenyl methacrylate, N
-(P-aminosulfonylphenyl) methacrylami
N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylic
A mid or the like can be suitably used. (3) Alkali-soluble with an active imide group
Examples of the functional resin include compounds having an active imide group
The smallest structural unit derived from
Can be mentioned. With compounds like the above
Can be polymerized with an active imide group represented by the following structural formula:
A compound having at least one functional unsaturated group in the molecule
You can list things. [0090] Embedded image Specifically, N- (p-toluenesulfoni
) Methacrylamide, N- (p-toluenesulfoni
E) Acrylamide and the like can be preferably used. (4) Alkali soluble having a carboxylic acid group
Examples of the polymerizable resin are polymerizable with a carboxylic acid group.
A compound having at least one unsaturated group in the molecule
Polymers whose main constituent is the smallest constituent unit
I can make it. (5) An alkali-soluble polymer having a sulfonic acid group
For example, a sulfonic acid group and a polymerizable unsaturated group
Derived from a compound having one or more in the molecule
List polymers with the smallest building block as the main building block
Can do. (6) As an alkali-soluble resin having a phosphate group,
For example, a phosphate group and a polymerizable unsaturated group
The minimum structural unit derived from a compound having 1 or more in each
Can be cited as a main component. Consists of the alkali-soluble resin as described above
And having an acidic group selected from the above (1) to (6)
There is no need to have only one kind of small structural unit.
2 or more or different minimum structural units having an acidic group of
Two or more kinds of minimum structural units having acidic groups are copolymerized
Can also be used. The copolymer is copolymerized (1) to (1) to
The compound having an acidic group selected from (6) is in the copolymer
Are preferably contained in an amount of 10 mol% or more,
More preferably, it is contained in an amount of at least 1%. 10 mol%
If it is less than 1, development latitude can be improved sufficiently.
There is a tendency not to be able to. In the present invention, a compound is copolymerized to form an alcohol.
When potash-soluble resin is used as a copolymer,
As a compound to contain, the acidic group of said (1)-(6) is included.
Other compounds that are not available can also be used. (1)-(6)
Examples of other compounds not containing the acidic group of
As a copolymerization component with the monomer unit represented by the formula (1)
The monomer of (m1)-(m12) illustrated similarly is mentioned similarly
However, the present invention is not limited to these. As the alkali-soluble resin, an infrared ray resin is used.
The pheno
Preferably have a hydroxyl group, such as phenol
Formaldehyde resin, m-cresol formal
Dehydric resin, p-cresol formaldehyde resin, m
-/ P-mixed cresol formaldehyde resin, pheno
Mole / cresol (m-, p-, or m- / p-mixed
Any)) Novola such as mixed formaldehyde resin
Preferable examples are lacquer resin and pyrogallol acetone resin.
It is. Further, an alkenyl having a phenolic hydroxyl group
As the resoluble resin, further, US Pat. No. 4,123,
As described in US Pat.
Enol formaldehyde resin, octyl phenol resin
Alkyl having 3 to 8 carbon atoms such as lumaldehyde resin
Phenol and formaldehyde as substituents
As described in JP-A-2000-241972.
A phenolic structure with an electron-withdrawing group on the aromatic ring
Examples thereof include alkali-soluble resins. In the present invention, these phenolic compounds
Among alkali-soluble resins having a hydroxyl group, the resin composition
From the viewpoint of film properties as a product, as phenols
Phenol, o-cresol, m-cresol, p-
Cresol, 2,5-xylenol, 3,5-xyleno
And resorcinol and aldehydes or ketones
Formaldehyde, acetaldehyde, propio
Polycondensates with aldehydes are preferred, especially m-clei.
Zole: p-cresol: 2,5-xylenol: 3,
5-xylenol: resorcinol mixing ratio is mole
40 to 100: 0 to 50: 0 to 20: 0 to 20: 0 in ratio
~ 20 mixed phenols or phenol: m-c
The mixing ratio of resol: p-cresol: 0 to 0 in molar ratio
100: 1 to 70: 1-60 mixed phenols,
A polycondensate with rumaldehyde is preferred. The alkali-soluble resin has a weight average molecule.
The amount is preferably 500 or more from the viewpoint of image formability.
More preferably 1,000 to 700,000
That's right. The number average molecular weight is 500 or more.
Is preferable, and is more preferably 750 to 650,000
preferable. Dispersity (weight average molecular weight / number average molecular weight) is
It is preferable that it is 1.1-10. The alkali-soluble resin in the present invention is
The total content of is 30 to 99 mass in the total solid content of the recording layer.
% Is preferable, and 40 to 95% by mass is more preferable. Contains
When the amount is less than 30% by mass, the durability is deteriorated.
If the amount is over 99% by mass,
This is preferable because the image forming property tends to decrease.
Yes. [Other components] The resin compound of the present invention is used.
It is necessary to form a positive recording layer.
Depending on the situation, various additives can be added. example
Onium salt, o-quinonediazide compound, aromatic sulfur
Heat content of phono compounds, aromatic sulfonate compounds, etc.
It is degradable, and in the state where it does not decompose, the alkali soluble resin
Using substances that substantially reduce solubility
This is preferable in terms of improving the dissolution inhibition of the image area in the developer.
That's right. Examples of onium salts are diazonium salts and ammonium
Salt, phosphonium salt, iodonium salt, sulfonium
Salt, selenonium salt, arsonium salt, etc.
Yes. As the onium salt used in the present invention
For example, S. I. Schlesinger,
 Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), T. S. Bal et
al, Polymer, 21, 423 (1980), JP-A-5-158230
Diazonium salts described in US Pat.
9,055, 4,069,056, JP-A 3-1
Ammonium salt described in the specification of No. 40140, D.C.
Necker et al, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C.
S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. CuringASIA, p4
78 Tokyo, Oct (1988), US Pat. No. 4,069,055
No. 4,069,056
Ni salt, J. V. Crivello et al, Macromorecules, 10
(6), 1307 (1977), Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31
(1988), European Patent No. 104,143, US Patent No. 5,
Each specification of 041,358 and 4,491,628
, JP-A-2-150848, JP-A-2-29651
Iodonium salt described in each publication of No. 4, J. V. Crivello
et al, Polymer J. 17, 73 (1985), J. V. Crivello et
 al. J. Org. Chem., 43, 3055 (1978), W. R. Watt et
al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 22, 1789 (1
984), J. V. Crivello et al, Polymer Bull., 14, 27
9 (1985), J. V. Crivello et al, Macromorecules, 1
4 (5), 1141 (1981), J. V. Crivello et al, J. Polyme
r Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 2877 (1979), Europe
Patent Nos. 370,693, 233,567, 29
7,443, 297,442, U.S. Pat. No. 4,9
33,377, 3,902,114, 5,04
1,358, 4,491,628, 4,76
0,013, 4,734,444, 2,83
3,827, German Patent 2,904,626, the same
Each light of 3,604,580 and 3,604,581
The sulfonium salt described in the booklet, J. V. Crivello et al,
Macromorecules, 10 (6), 1307 (1977), J. V. Crivello
 et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 104
7 (1979), selenonium salts, C. S. Wen etal, T
eh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct
(1988) and the like. Among onium salts, diazonium salts are
Particularly preferred. Also, as a particularly suitable diazonium salt
Are described in JP-A-5-158230.
It is. The counter ion of the onium salt is tetrafluoride.
Boric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalene
Sulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid, 5
-Sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfo
Acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfuric acid
Phosphonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluoro
Capryl naphthalene sulfonic acid, dodecyl benzene sul
Phosphonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy
Ci-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfo
Acid, p-toluenesulfonic acid, etc.
Yes. Among these, especially hexafluorophosphoric acid, triisopropyl
Lopylnaphthalenesulfonic acid and 2,5-dimethylbenze
Alkyl aromatic sulfonic acids such as sulfonic acids are preferred
It is. Suitable quinonediazides include o-kis.
Non-diazide compounds can be mentioned. For the present invention
At least one o-quinonediazide compound can be used
The compound having o-quinonediazide group of
It increases the solubility in alkali and is a combination of various structures.
Can be used. That is, o-quinonediazide
Loses the ability to inhibit the dissolution of the binder by thermal decomposition, and o-
Quinonediazide itself turns into an alkali-soluble substance
Both effects help the solubility of the sensitive material system. Main departure
Examples of o-quinonediazide compounds used for light
For example, J.H. By Korser "Light-sensitive system"
Muse "(John Wiley & Sons. Inc.) pp. 339-352
Can be used, but various aromatic poly
Reacts with hydroxy compounds or aromatic amino compounds
O-quinonediazide sulfonate or sulfo
Phonamide is preferred. In addition, Japanese Patent Publication No.43-28403
Benzoquinone (1,2)-as described in the publication
Diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone
(1,2) -Diazide-5-sulfonic acid chloride and pic
Rogalol-ester with acetone resin, US Patent No.
No. 3,046,120 and No. 3,188,21
Benzoquinone- (1,2) described in No. 0 specification
-Diazide sulfonic acid chloride or naphthoquinone-
(1,2) -Diazide-5-sulfonic acid chloride and fluorine
Esters with enol-formaldehyde resin are also suitable
used. Further, naphthoquinone- (1,2) -dia
Zido-4-sulfonic acid chloride and phenol formua
Rudehydr resin or cresol-formaldehyde tree
Esters with fat, naphthoquinone- (1,2) -diazide
-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone
Ester with resin is also preferably used. Other
Useful o-quinonediazide compounds include a number of special features.
Reported to Huh and known. For example, JP-A-47-53
03, JP-A-48-63802, JP-A-48-63
803, JP-A-48-96575, JP-A-49-3
8701, JP 48-13354, JP 41-
No. 11222, No. 45-9610, No. 49-
17481 and other publications, US Pat. No. 2,797,2
13, No. 3,454,400, No. 3,544
No. 323, No. 3,573,917, No. 3,67
No. 4,495, No. 3,785,825, British Patent No.
Nos. 1,227,602, Nos.1,251,345,
No. 1,267,005, No. 1,329,888,
No. 1,330,932, German Patent No. 854,89
List items described in each specification such as No. 0
You can. As addition amount of o-quinonediazide compound
Is preferably 0 to 10 mass based on the total solid content of the recording layer
%, More preferably 0 to 5% by mass, particularly preferably 0 to
The range is 2% by mass. These compounds can be used alone
However, it may be used as a mixture of several kinds. Additives other than o-quinonediazide compounds
The addition amount is preferably 0 to 5% by mass, more preferably 0.
~ 2% by weight, particularly preferably 0.1 to 1.5% by weight
The The additive and binder of the present invention may be contained in the same layer.
And are preferred. Further, in order to further improve the sensitivity, an annular shape is used.
Use of acid anhydrides, phenols, and organic acids in combination
it can. Cyclic acid anhydrides include U.S. Pat. No. 4,115,
Phthalic anhydride, tetra, as described in No. 128
Hydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, 3,
6-endooxy-Δ4-tetrahydrophthalic anhydride,
Tetrachlorophthalic anhydride, maleic anhydride, no chloro
Maleic anhydride, α-phenylmaleic anhydride, succinic anhydride
Succinic acid, pyromellitic anhydride, etc. can be used. Fenault
Bisphenol A, p-nitrophenol
, P-ethoxyphenol, 2,4,4'-trihydride
Loxybenzophenone, 2,3,4-trihydroxybenzene
Nzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,
4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,
4 ', 3 ", 4" -tetrahydroxy-3,5,3',
And 5'-tetramethyltriphenylmethane.
The Further, as organic acids, JP-A-60-88942
No. 2, JP-A-2-96755, etc.
Sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfuric acid
, Phosphonic acids, phosphate esters and carboxylic acids
Specifically, p-toluenesulfonic acid,
Decylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfin
Acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphine
Phosphoric acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid
Acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid, 3,
4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4
-Cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid, erucic acid,
Lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid, etc.
Can be mentioned. The above cyclic acid anhydrides, phenols and
The proportion of mechanical acids in the printing plate material is 0.05-20.
% By mass is preferred, more preferably 0.1 to 15 mass.
%, Particularly preferably 0.1 to 10% by mass. In addition, the recording layer is subjected to processing for development conditions.
In order to expand stability, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-251740
And as described in JP-A-3-208514
Nonionic Surfactant, JP 59-121044
As described in Japanese Patent Laid-Open No. 4-13149
Amphoteric surfactants, described in EP 950517
Such siloxane compounds, JP-A-11-288093
Monomer containing fluorine as described in
A polymer can be added. Nonionic surfactant
Specific examples include sorbitan tristearate, sorbi
Tan monopalmitate, sorbitan trioleate,
Arylic acid monoglyceride, polyoxyethylene nonylph
Examples include phenyl ether. Specific examples of double-sided activators and
Alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl
Rupolyaminoethylglycine hydrochloride, 2-alkyl-N
-Carboxyethyl-N-hydroxyethyl imidazoli
Nium betaine and N-tetradecyl-N, N-betaine
Type (for example, trade name “Amorgen K”: Daiichi Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured) and the like. Examples of siloxane compounds include di
Block of methylsiloxane and polyalkylene oxide
A copolymer is preferred, and as a specific example, manufactured by Chisso Corporation,
DBE-224, DBE-621, DBE-712, D
BP-732, DBP-534, Tego, Germany, Te
polyalkylene oxide modification such as go Glide 100
Can be mentioned. Non-ionic interface above
Activators and amphoteric surfactants occupy the total solid content of the recording layer
The proportion is preferably 0.05 to 15% by mass, more preferably
It is 0.1-5 mass%. In the recording layer in which the resin composition of the present invention is used
In order to obtain a visible image immediately after heating by exposure,
Add dyes and pigments as a color remover and image colorant
Can do. The print-out agent can be heated by exposure.
Can form a salt with a compound that releases acid (photoacid releasing agent)
A combination of organic dyes can be mentioned as a representative. Ingredients
Specifically, JP-A-50-36209, 53-812.
O-Naphthoquinonediazi described in each publication of No. 8
Combination of do-4-sulfonic acid halide and salt-forming organic dye
And JP-A-53-36223, 54-7472.
No. 8, No. 60-3626, No. 61-143748,
Each of 61-151644 and 63-58440
Trihalomethyl compounds and salt-forming properties described in the publication
Mention may be made of combinations of organic dyes. Such a triha
Rhomethyl compounds include oxazole compounds and trimethyl
There are azine compounds, both of which have excellent temporal stability,
Gives clear printout images. As the colorant of the image, the above-mentioned salt forming property is present.
Other dyes can be used in addition to the machine dye. Salt formation
Oil-soluble dyes and bases as suitable dyes, including organic dyes
Sex dyes can be listed. Specifically, oil yellow
-# 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink #
312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oh
Ilblue # 603, Oil Black BY, Oil Bra
BS, Oil Black T-505 (orientated
Chemical Industry Co., Ltd.), Victoria Pure Blue, Chris
Tal violet (CI42555), methyl violet
(CI42535), ethyl violet, loader
Min B (CI145170B), Malachite Green
(CI42000), methylene blue (CI5201)
5). JP-A 62-2
The dyes described in Japanese Patent No. 93247 are particularly preferred
Yes. These dyes are 0.01% of the total solid content of the recording layer.
10 mass%, preferably 0.1 to 3 mass%
Can be added to the recording layer. Further, recording using the resin composition of the present invention.
In the layer, if necessary, to give the film flexibility etc.
A plasticizer is added. For example, butylphthalyl, poly
Ethylene glycol, tributyl citrate, diphthalate
Ethyl, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, lid
Dioctyl phosphate, tricresyl phosphate, tributy phosphate
, Trioctyl phosphate, tetrahydrofurate oleate
Oligomers of furyl, acrylic acid or methacrylic acid and
A polymer or the like is used. In addition to these, epoxy compounds,
Vinyl ethers, and further, JP-A-8-276558
Phenol having a hydroxymethyl group described in No. 1
Compound, phenol compound having alkoxymethyl group
And JP-A-11-16 previously proposed by the present inventors
Has an alkali dissolution inhibiting effect described in Japanese Patent No. 0860
It is possible to add a crosslinkable compound etc. according to the purpose.
Yes. [Lithographic printing plate precursor] Resin composition of the present invention
Should be used as a recording layer for lithographic printing plate precursors
Can do. Such a lithographic printing plate precursor is a resin composition of the present invention.
Recording layer coating liquid containing a product or coating liquid for a desired layer such as a protective layer
The ingredients are dissolved in a solvent and coated on a suitable support.
Thus, a lithographic printing plate precursor can be produced. here
Solvents used in ethylene dichloride, cyclohexane
Xanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol
Propanol, ethylene glycol monomethyl ether
Ter, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxy
Ethyl acetate, 1-methoxy-2-propylacete
, Dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate,
N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylform
Muamide, tetramethylurea, N-methylpyrrolide
, Dimethyl sulfoxide, sulfolane, γ-butyro
Kuton, toluene, etc. can be raised but limited to this
Is not to be done. These solvents can be used alone or as a mixture
Used. The above components in the solvent (total solid including additives
The concentration of (form) is preferably 1 to 50% by weight. Ma
Coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying
Depends on the application, but for photosensitive printing plates
Generally 0.5 to 5.0 g / m2Is preferred. Application amount
As the value decreases, the apparent sensitivity increases.
The film properties of the photo film are degraded. As a method of applying, seed
Various methods can be used, for example, bar coater
-Coating, spin coating, spray coating, curtain coating,
Coating, air knife coating, blade coating, roll coating
Cloth etc. can be mentioned. In the photosensitive layer in the present invention
Include surfactants for improving coating properties, such as
As described in Japanese Patent Publication Sho 62-170950.
A nitrogen-based surfactant can be added. Preferred supplement
The added amount is 0.01 to 1% by mass in the total solid content of the recording layer, and
Preferably it is 0.05-0.5 mass%. [Resin intermediate layer] Necessary for lithographic printing plate precursors
Depending on the situation, a resin intermediate layer may be provided between the recording layer and the support.
You can. By providing this resin intermediate layer, exposure
Infrared sensitive layer with improved solubility in alkaline developer
A certain recording layer is provided on or near the exposed surface.
Good sensitivity and support for infrared lasers
Resin intermediate layer made of a polymer between the body and the infrared sensitive layer
Functions as a heat insulation layer, and for infrared laser exposure
The heat generated is not diffused to the support, allowing efficient image formation
The advantage of high sensitivity from being used in
Have. In unexposed areas, use alkaline developer.
The non-permeable recording layer itself is a protective layer of the resin intermediate layer
As well as improved development stability.
Produces an image with excellent discrimination, and
In addition, it is thought that stability over time is secured, and exposure
In the part, the components of the recording layer whose dissolution inhibiting ability is released
Dissolve and disperse quickly in the developer, and next to the support
This resin intermediate layer itself in contact with the
Because it consists of molecules, its solubility in the developer is
Good, for example, when using a developer with reduced activity
Even if it is, it dissolves quickly without residual film,
This resin intermediate layer is also useful because it contributes to improved developability.
it is conceivable that. [Support] Support used for planographic printing plate precursor
As a holder, it is a dimensionally stable plate-like material and has the necessary strength.
As long as it satisfies physical properties such as degree and flexibility
For example, paper, plastic (eg, polyethylene
(Polypropylene, polystyrene, etc.)
Paper, metal plate (eg, aluminum, zinc, copper)
Etc.), plastic film (eg, cellulose acetate)
, Cellulose triacetate, cellulose propionate, butyric acid
Cellulose, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene
Reethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene
Polypropylene, polycarbonate, polyvinyl alcohol
Settal, etc.), and the above metal is laminated,
Is vapor-deposited paper or plastic film.
I can get lost. As the support, polyester film or
Is preferably an aluminum plate, among which dimensional stability
Aluminum plates that are good and relatively inexpensive are especially preferred
Yes. Suitable aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum.
An alloy plate with ruminium as the main component and a trace amount of foreign elements.
In addition, aluminum is laminated or vapor-deposited
Plastic film may be used. Aluminum alloy
The different elements included include silicon, iron, manganese, copper, mug
Nesium, chromium, zinc, bismuth, nickel, titanium
and so on. The content of foreign elements in the alloy is at most 10% by mass
It is as follows. Aluminum particularly suitable in the present invention
Is pure aluminum but completely pure aluminum
Is difficult to manufacture due to refining technology.
It may be contained. Aluminum plate has the composition
It is not specified and is a publicly known material.
A suitable aluminum plate can be used. Main departure
The thickness of the aluminum plate used in the light is about 0.1m
m to about 0.6 mm, preferably 0.15 mm to 0.4
mm, particularly preferably 0.2 mm to 0.3 mm. Prior to roughening the aluminum plate,
If desired, for example, the surface activity to remove surface rolling oil
Degreasing treatment with an organic agent, organic solvent or alkaline aqueous solution
Is done. The roughening treatment of the surface of the aluminum plate
This can be done in various ways, for example mechanically roughening
A method for electrochemically dissolving and roughening a surface; and
It is carried out by a method of selectively dissolving the surface chemically. Machine
Mechanical methods include ball polishing, brush polishing, and bra
Use known methods such as strike polishing and buff polishing
Can do. As an electrochemical surface roughening method, hydrochloric acid or
There is a method of performing AC or DC in nitric acid electrolyte.
Moreover, it is disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 54-63902.
You can also use a method that combines both
The The roughened aluminum plate can be used as needed.
After the alkaline etching treatment and neutralization treatment,
Anodic acid to increase surface water retention and wear resistance as desired
Processing is performed. For anodizing of aluminum plates
The electrolyte that can be used is a species that forms a porous oxide film.
Various electrolytes can be used, generally sulfuric acid, phosphoric acid,
Succinic acid, chromic acid or a mixed acid thereof is used. So
The concentration of these electrolytes is determined appropriately according to the type of electrolyte.
It is. The treatment conditions for anodization depend on the electrolyte used.
Since it varies, it cannot be specified unconditionally.
The solution has a concentration of 1 to 80% by mass, the liquid temperature is 5 to 70 ° C,
Flow density 5-60A / dm2, Voltage 1-100V, during electrolysis
It is suitable if it is in the range of 10 seconds to 5 minutes. Anodized leather
The amount of membrane is 1.0 g / m2If it is less, the printing durability is insufficient.
Or scratches on non-image areas of planographic printing plates
The so-called `` scratch that ink adheres to the scratched part during printing
Dirt "tends to occur. After anodizing,
The ruminium surface is subjected to a hydrophilic treatment if necessary. Book
As the hydrophilization treatment used in the invention, US Pat.
No. 714,066, No. 3,181,461, No. 3,
Each specification of 280,734 and 3,902,734
Alkali metal silicates as disclosed in the documents (eg
For example, there is a sodium silicate aqueous solution method. In this way
In this case, the support is immersed in an aqueous sodium silicate solution.
Or electrolytically treated. In addition, Shoko 36-220
Potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent No. 63
And U.S. Pat. Nos. 3,276,868 and 4,15.
No. 3,461, No. 4,689,272
Treat with polyvinylphosphonic acid as disclosed
A method or the like is used. Lithographic printing to which the resin composition of the present invention is applied
A plate precursor is a substrate in which a positive recording layer is provided.
However, if necessary, an undercoat layer can be provided between them.
The Various organic compounds are used as the primer layer component,
For example, carboxymethylcellulose, dextrin,
Ami such as gum arabic and 2-aminoethylphosphonic acid
A phosphonic acid having an amino group,
Nylphosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphospho
Acid, glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and
Organic phosphonic acids such as ethylenediphosphonic acid, substituents
Phenyl phosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl
Organic phosphoric acids such as luric acid and glycerophosphoric acid, substituents
Phenylphosphinic acid, naphthylphosphine
Phosphoric acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphine
Organic phosphinic acids such as acids, glycine and β-alanine
Which amino acids and triethanolamine hydrochloride
Selected from the hydrochloride of amines with any hydroxy group
However, a mixture of two or more may be used. This organic undercoat layer is provided by the following method.
be able to. Water or methanol, ethanol,
Organic solvents such as methyl ethyl ketone or mixtures thereof
A solution in which the above organic compound is dissolved in a solvent mixture is mixed with aluminum.
A method of coating and drying on a metal plate and water or methanol
Organic solvents such as alcohol, ethanol, methyl ethyl ketone
Or the above organic compounds are dissolved in the mixed solvent.
An aluminum plate is immersed in the soaked solution to absorb the above compound.
And then wash and dry with water, etc. to dry the organic primer
This is a method of providing a layer. In the former method, the above organic
Various solutions with a concentration of 0.005 to 10% by mass of the compound
It can be applied by the method. In the latter method, the concentration of the solution is
0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass
The immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 5
0 ° C., immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably
2 seconds to 1 minute. The solution used for this is ammonia,
Basic substances such as triethylamine and potassium hydroxide
PH 1-12 due to acidic substances such as hydrochloric acid and phosphoric acid
The range can also be adjusted. In addition, adjustment of image recording materials
Yellow dye can be added to improve the reproducibility
The The coverage of the organic undercoat layer is 2 to 200 mg / m2Is suitable
Preferably 5 to 100 mg / m2It is. Up
The coating amount is 2 mg / m2Less than enough press life
No performance can be obtained. 200 mg / m2Bigger
Is the same. A positive type lithographic stamp produced as described above.
The plate precursor is usually subjected to image exposure and development. Statue
The light source used for light is from near infrared to infrared.
A light source with an emission wavelength in the range is preferred, solid-state laser, semiconductor
A body laser is particularly preferred. Lithographic printing to which the resin composition of the present invention is applied
Conventionally known as plate developer and replenisher
An alkaline aqueous solution can be used. For example, sodium silicate
, Potassium, tribasic sodium phosphate, potassium,
Same ammonium, dibasic sodium phosphate, same potassium,
Same ammonium, sodium carbonate, same potassium, same an
Monium, sodium bicarbonate, potassium, ammo
Ni, Sodium borate, Potassium, Ammonium
Sodium hydroxide, ammonium hydroxide, potassium
And inorganic alkali salts such as lithium. Ma
Monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine
Min, monoethylamine, diethylamine, triethyl
Amine, monoisopropylamine, diisopropylamine
, Triisopropylamine, n-butylamine, mono
Ethanolamine, diethanolamine, triethanol
Luamine, monoisopropanolamine, diisopropa
Noramine, ethyleneimine, ethylenediamine,
Organic alkali agents such as lysine are also used. These a
Lucari is used alone or in combination of two or more.
It is. Among these alkali agents, particularly preferred developers
Silicate water such as sodium silicate and potassium silicate
It is a solution. The reason is silicon oxide, a component of silicate
SiO2And alkali metal oxide M2Depending on the ratio and concentration of O
This makes it possible to adjust the developability.
In Sho 54-62004 and Shokoku 57-7427
Effective use of alkali metal silicates as described
I can. Furthermore, when developing using an automatic processor.
Is an aqueous solution (replenisher) with higher alkali strength than the developer.
In the developer tank for a long time by adding
A large amount of PS plates can be processed without changing the developer.
Is known. This replenishment method is also preferred in the present invention.
Applied well. Developer and replenisher promote development
Suppression, dispersion of development residue and ink affinity of printing plate image area
Various surfactants and organic solvents are used as needed
An agent can be added. Preferred surfactants include anio
Ionic, cationic, nonionic and amphoteric surfactants
I can get lost. In addition, if necessary, the developer and replenisher
Idroquinone, resorcin, sulfurous acid, bisulfite, etc.
Reducing agents such as sodium salts and potassium salts of inorganic acids,
Add organic carboxylic acid, antifoaming agent, water softener
Yes. Marks developed using the developer and replenisher
The printing plate should be washed with water, rinse solution containing surfactant, etc.
Post-treated with a desensitizing solution containing beer gum or starch derivatives
The When the image recording material of the present invention is used as a printing plate
As a post-processing, various combinations of these processes are used.
Can be. In recent years, the plate making work has been rationalized in the plate making / printing industry.
Widely used for automatic processing machines for printing plates for standardization and standardization
It has been. This automatic processor is generally used for developing and post-processing.
Consists of an apparatus for conveying the printing plate
Consisting of a playing device, it conveys the exposed printing plate horizontally.
While spraying each processing liquid pumped up by the pump
And then developing. Also recently
In-liquid guide roll in a processing liquid tank filled with processing liquid
Also known is the method of immersing and transporting printing plates
ing. In such automatic processing, each processing solution is processed.
Process while replenishing the replenisher according to the amount of work or operating time.
Can. Also, treatment with virtually unused processing solution
A so-called disposable processing method can also be applied. In the lithographic printing plate precursor to which the present invention is applied
Image exposure, development, rinsing and / or rinsing and / or
Or unnecessary image area in planographic printing plate obtained by gumming
(For example, film edge traces of original film)
In that case, the unnecessary image portion is erased. This
Erasing such as is disclosed in, for example, Japanese Patent Publication No. 2-13293
Apply the erasing solution as described to the unnecessary image area,
By leaving it for a predetermined time and washing it with water
Although the method of carrying out is preferred, JP-A-59-174842
Optical fiber as described in the official gazette
Develop after irradiating unnecessary image area with guided actinic ray
You can also use this method. A lithographic printing plate obtained as described above is
Applying desensitized gum as desired, then use in printing process
It is possible to make a lithographic printing plate with even higher printing durability.
If desired, a burning process is performed as desired.
In particular, in a lithographic printing plate using the resin composition of the present invention
The printing durability is significantly improved by performing a general-purpose burning process.
Improve. When burning a planographic printing plate,
Before burning, Shoko 61-2518, 55-28
062, JP-A-62-31859, 61-159
Treated with surface conditioning liquid as described in each publication of No. 655
It is preferable to do. As a method for this, the surface conditioning liquid is immersed.
Apply on lithographic printing plate with sponge or absorbent cotton
Or immerse the printing plate in a bat filled with surface-adjusting liquid
Application methods and automatic coater application are applied.
It is. Also, after application, squeegee or ski
It is more preferable to use a di-roller to make the coating amount uniform.
Give good results. The coating amount of the surface conditioning liquid is generally 0.03 to 0.8.
g / m2(Dry mass) is appropriate. The surface-adjusting solution is applied
If necessary, the planographic printing plate is dried and then burned.
Processor (for example, Fuji Photo Film Co., Ltd.)
Burning processor on sale: “BP-130
0 ") or the like. In this case, the heating temperature and
Depending on the type of ingredients that form the image,
The range of 1 to 20 minutes is preferable in the range of 180 to 300 ° C.
Yes. A lithographic printing plate that has been burned is necessary.
Depending on the conventional method, washing with water, gumming, etc.
Water-soluble polymer compounds, etc.
Such as gumming, etc.
So-called desensitizing treatment can be omitted. Like this
Lithographic printing plate obtained by various processing is offset printing machine
And is used for printing a large number of sheets. [0131] The present invention will be described in detail with reference to the following examples.
However, the present invention is not limited to these. (Preparation of support) JIS with a thickness of 0.3 mm
-A-1050 Aluminum plate
The support A, B, C, and
And D were produced. (A) Mechanical roughening treatment Polishing suspension of abrasive (silica sand) with specific gravity of 1.12 and water
While supplying the slurry liquid to the surface of the aluminum plate
And a mechanical roller rough nylon brush
Surfaced. The average particle size of the abrasive is 8μm and the maximum particle size is
It was 50 μm. The material of nylon brush is 6 · 10
Iron, hair length 50mm, hair diameter is 0.3mm
It was. Nylon brush is a 300mm stainless steel tube
The hair was planted so as to be dense with a hole. 3 rotating brushes
Used this book. Two support rollers at the bottom of the brush (φ200
mm) was 300 mm. Brush roller
The load of the drive motor that rotates the brush
7 kW against the load before pressing against the aluminum plate
Pressed until it was positive. The direction of brush rotation is
The direction of movement of the ruminium plate was the same. Brush rotation
The number was 200 rpm. (B) Alkali etching treatment NaOH having a temperature of 70 ° C. was applied to the aluminum plate obtained above.
Aqueous solution (concentration 26 mass%, aluminum ion concentration 6.
5 mass%) is sprayed to perform the etching process.
Minium plate 6g / m2Dissolved. Then use well water
The water was washed by spraying. (C) Desmut treatment 1% by mass aqueous solution of nitric acid with a temperature of 30 ° C.
Contains 0.5% by mass of ON. )
And then washed with water by spraying. Said de
The aqueous nitric acid solution used for the smut is exchanged in the aqueous nitric acid solution.
The waste liquid from the process of electrochemical roughening was used. (D) Electrochemical roughening treatment Continuous electrochemical rough surface using 60Hz AC voltage
The treatment was performed. The electrolyte at this time was 10.5 g of nitric acid.
/ Liter aqueous solution (5g / lit of aluminum ions
The temperature was 50 ° C. The AC power supply waveform has a current value of zero.
Time from peak to peak reaches TP 0.8mse
c, DUTY ratio 1: 1, trapezoidal rectangular wave AC
-Electrochemical roughening treatment with the Bon electrode as the counter electrode
It was. Ferrite was used for the auxiliary anode. Electrolyzer used
A radial cell type was used. Current density is electric
30 A / dm at the peak value of the flow2The quantity of electricity is aluminum
The total amount of electricity when the plate is an anode is 220 C / dm2So
It was. The auxiliary anode shunts 5% of the current flowing from the power source
It was. Then, wash with water using well water
It was. (E) Alkali etching treatment Aluminum plate with caustic soda concentration of 26% by mass, aluminum
Etching by spray at a concentration of 6.5% by mass
Processing at 32 ° C. and 0.20 g of aluminum plate
/ M2Dissolve and electrochemical roughening using the previous stage alternating current
Mainly made of aluminum hydroxide produced when
The smut component is removed and the generated pit edge is removed.
The edge portion was melted to smooth the edge portion. after that,
Water washing by spraying was performed using well water. (F) Desmut processing 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid with a temperature of 30 ° C.
It contains 4.5% by mass of ions. ) And spray death
Perform mat treatment, then spray water with well water
Washed. The aqueous nitric acid solution used for the desmut is nitric acid water.
Process of electrochemical surface roughening using alternating current in solution
Waste liquid was used. (G) Electrochemical roughening treatment Continuous electrochemical rough surface using 60Hz AC voltage
The treatment was performed. The electrolyte at this time was 7.5 g of hydrochloric acid /
Liter aqueous solution (aluminum ion 5g / liter
Including. ), And the temperature was 35 ° C. AC power supply waveform is rectangular
Electrochemical roughening with carbon electrode as counter electrode
Processed. Ferrite was used for the auxiliary anode.
The electrolytic cell used was a radial cell type. Current density
Degree is 25A / dm at peak current2The amount of electricity is aluminum
50C / dm as the total amount of electricity when the nickel plate is the anode2In
It was. Then, wash with water using well water
It was. (H) Alkali etching treatment Aluminum plate with caustic soda concentration of 26% by mass, aluminum
Etching with spray at a concentration of 6.5% by mass
Processing at 32 ° C. and 0.10 g of aluminum plate
/ M2Dissolve and electrochemical roughening using the previous stage alternating current
Mainly aluminum hydroxide produced during processing
Remove the smut component and also generate pits
The edge portion was melted to smooth the edge portion. That
Thereafter, water was washed by spraying using well water. (I) Desmut processing Sulfuric acid concentration 25 mass% aqueous solution (aluminum at 60 ° C.
Contains 0.5% by mass of ions. ) And spray death
Perform mat treatment and then spray with well water.
The water was washed. (J) Anodizing treatment Sulfuric acid was used as the electrolytic solution. All electrolytes are sulfur
Acid concentration 170 g / liter (aluminum ions
Contains 5% by mass. ), The temperature was 43 ° C. Then well
Water was washed by spraying with water. Current density is
About 30A / dm2Met. The final oxide film amount is
2.7 g / m2Met. <Support A> Steps (a) to (j) above
The etching amount in step (e) is 3.5.
g / m2The support A was prepared as described above. <Support B> Of the above steps (g) and (h)
Except that the step (i) is omitted, the steps are performed in order and the support is performed.
B was produced. <Support C> Of the above steps, (a) and
(G) (h) Steps were repeated except that step (i) was omitted.
Then, a support C was prepared. <Support D> Of the above steps, (a) and
(D) (e) The steps were sequentially performed except that the step (f) was omitted.
The total amount of electricity in step (g) is 450 C /
dm2Thus, a support D was produced. Supports A, B, C obtained as described above
And D followed by the following hydrophilization treatment and undercoating treatment
It was. (K) Alkali metal silicate treatment The temperature of the aluminum support obtained by anodizing treatment
In the treatment layer of 1 mass% aqueous solution of No. 3 sodium silicate at 30 ° C
To alkali metal silicate by soaking for 10 seconds
Processing (silicate processing) was performed. Then use well water
Washed with water by spray. With silicate at that time
Wearing amount is 3.5mg / m2Met. (Undercoating treatment) Obtained as described above.
On each aluminum support after alkali metal silicate treatment
Apply an undercoat solution of the following composition and dry at 80 ° C. for 15 seconds.
Dried. The coating amount after drying is 15 mg / m2Met. [0150] <Undercoat liquid composition> ・ The following polymer compound 0.3g ・ Methanol 100g ・ Water 1.0g [0151] Embedded image (Examples 1 to 10, Comparative Examples 1 to 3)
The following photosensitive solution was applied to the supports A to D, and 150 ° C.
After drying for 1 minute in the oven, the dry film thickness is 1.8 g / m2Of the
Positive lithographic printing plate having a di-type infrared-sensitive composition layer
An original plate was prepared. [0153] [Photosensitive solution] M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, amount described in Table 1     Weight average molecular weight 7300,     Unreacted cresol containing 0.4% by mass) -Polymer compounds listed in Table 1 Quantity listed in Table 1 ・ The following infrared absorber (cyanine dye A) 0.016 g ・ The following infrared absorber (cyanine dye B) 0.024 g ・ 2,4,6-Tris (hexyloxy) benzeneazonium-2-humanoxy- 0.01g     4-Methoxybenzophenone-5-sulfonate ・ 0.002 g of p-toluenesulfonic acid ・ Cyclohexane-1,2-dicarboxylic anhydride 0.06g ・ 0.015g counter anion of Victoria Pure Blue BOH     1-Naphthalenesulfonate anion dye ・ Fluorosurfactant (Megafac F-176, 0.02g       Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) ・ Methyl ethyl ketone 15g ・ 7g of 1-methoxy-2-propanol [0154] Embedded image [0155] Embedded image The polymer compound used in Comparative Example 2 (AP-
C) is shown below. [0157] Embedded image [Evaluation of planographic printing plate precursor] [Evaluation of development latitude] Photosensitive lithographic printing plate obtained
Beam strength with a Trend setter manufactured by Creo
Test pattern at 9W, drum rotation speed 150rpm
I drew the image. Then, the following A composition and B
By changing the amount of alkaline developer water in the composition,
Fuji equipped with different conductivity by changing dilution rate
Using PS processor 900H manufactured by Photo Film Co., Ltd.
The liquid temperature was kept at 30 ° C., and development was performed with a development time of 20 seconds.
At this time, the image area is not eluted and the photosensitive layer is poorly developed.
Current development has been achieved with no stains or coloring caused by residual film
The difference between the highest and lowest conductivity of the image liquid
Evaluated as image latitude. The results are shown in Table 1.
The [0159] <Alkali developer A composition> ・ SiO2・ K2O (K2O / SiO2= 1/1 (molar ratio)) 4.0% by mass ・ Citric acid 0.5% by mass ・ Polyethylene glycol lauryl ether 0.5% by mass     (Weight average molecular weight 1,000) ・ Water 95.0 mass% <Alkali developer B composition> ・ D sorbit 2.5% by mass -Sodium hydroxide 0.85 mass% ・ Polyethylene glycol lauryl ether 0.5% by mass     (Weight average molecular weight 1,000) ・ Water 96.15% by mass [Evaluation of printing durability] Evaluation of development latitude
The image area is not eluted and development is not
Good development without smudges or coloration caused by good photosensitive layer residual film
A lithographic printing plate obtained in the conductivity of the developer
With a Lithrone printing machine manufactured by Komori Corporation
DIC-GEOS (N) made by Nippon Ink Chemical Co., Ltd.
Printing with ink, the density of solid images begins to fade
The printing durability is determined by the number of printed sheets
evaluated. The results are shown in Table 1. [Evaluation of printing durability after burning]
The plate surface of a lithographic printing plate obtained by developing in the same way as the evaluation of printing durability
, Burning surface preparation BC manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
After wiping with -3, burning treatment at about 240 ° C for 7 minutes
Went. Then washed with water, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.
The plate surface is treated with a solution obtained by diluting the gum GU-7 with water.
I managed. After that, as with the printing durability evaluation, Komori Corporation
Dai Nippon Ink Chemical Co., Ltd.
Printing using DIC-GEOS (N) black ink
However, it is visually recognized that the density of the solid image has started to decrease.
Depending on the number of prints at the time, the printing durability after the burning process
evaluated. The results are shown in Table 1. [Evaluation of halftone dot reproducibility] The obtained lithographic printing plate
The original version, Trend setter 3244 made by Creo
At 9 W output and 150 rpm drum resolution
A halftone dot image was exposed under the condition of a degree of 175 lpi.
Next, Fuji Photo Fiber charged with the alkali developer A
Using Lum Co., Ltd. PS processor 900H
Development was carried out at a temperature of 30 ° C. and a development time of 22 seconds. Developed
The halftone dot area ratio of the lithographic printing plate was calculated using the X-Rite spectral densitometer 5
28 and measured according to the evaluation criteria shown below.
It was. The results are shown in Table 1. -Evaluation criteria- A Halftone dot area ratio 48-52% B halftone dot area ratio 45-47%, 53-55% C Halftone dot area ratio less than 45%, 56% or more [0163] [Table 1] As shown in Table 1, the resin composition of the present invention
A lithographic printing plate using a recording layer as a recording layer is a silicate, non-silica.
Regardless of which type of developer is used, the development latitude
It turns out that it is excellent in the speed. Also, printing durability, mesh
It was found that the point reproducibility was also excellent. on the other hand,
Comparative Examples 1 and 3 not using the specific polymer compound according to the present invention
3 and a module having an ester group as a linear polymer.
Copolymerized monomers and monomers having acidic groups
In Comparative Example 2 using the film, the development latitude is inferior.
won. Examples 11 and 12 Obtained support B
The undercoat liquid was applied in the same manner as in Examples 1 to 10.
Thereafter, a lower layer coating solution having the following composition was applied at a wet coating amount of 23.
ml / m2Apply with a wire bar of 1.2g
/ M2And then in a drying oven at 150 ° C for 60 seconds
Dried. An image of the following composition was applied to the obtained primer-coated support.
11 ml wet coating amount of recording layer (upper layer) coating solution
/ M2Apply with a wire bar of 1.5g and apply a total amount of 1.5g
/ M2It was. After application, in a drying oven at 140 ° C for 7
Drying for 0 second was performed to prepare a positive planographic printing plate precursor. [0166] [Lower layer coating solution] N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide and 2.133 g     Copolymer of methyl methacrylate and acrylonitrile   (Molar ratio 37:33:30, weight average molecular weight 650,000) ・ Cyanine dye A (the above structure) 0.098 g ・ 4,4'-bishydroxyphenylsulfone 0.126g ・ Cyclohexanedicarboxylic anhydride 0.100g ・ Bis (hydroxymethyl) -p-cresol 0.090 g ・ 0.008 g of p-toluenesulfonic acid ・ 0.100 g of counter anion of ethyl violet     Changed to 6-hydroxynaphthalenesulfonic acid ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine 0.03g       Hexafluorophosphate (thermally decomposable compound) ・ Fluorosurfactant 0.035g   (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink Industries, Ltd.) ・ Methyl ethyl ketone 26.6g 1-methoxy-2-propanol 13.6 g ・ N, N-dimethylacetamide 13.8 g [0167] [Coating liquid for image recording layer (upper layer)] -Polymer compounds listed in Table 2 Amounts listed in Table 2 ・ Cresol novolac resin Amounts listed in Table 2     (PR-54046, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) ・ Cyanine dye C (the following structure) 0.008g ・ Tetrabutylammonium bromide 0.030g ・ Fluorosurfactant 0.035g     (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 1-methoxy-2-propanol 40.2g [0168] Embedded image [Evaluation of development latitude] The obtained lithographic plate
For the printing plate precursor, the same method as in Examples 1 to 10
Exposure and development were performed, and development latitude was evaluated. Result
The results are shown in Table 2. [Evaluation of printing durability] The obtained lithographic printing plate precursor
In the same manner as in Examples 1 to 10, a lithographic printing plate was obtained.
That is, printing durability was evaluated. The results are shown in Table 2. [0171] [Table 2] As shown in Table 2, the resin composition of the present invention
A lithographic printing plate using an object as a recording layer has a multilayer structure.
Excellent development latitude and printing durability even when taking
The performance is further improved by providing a lower layer in this way.
I found out that [0173] According to the present invention, a positive lithographic printing plate precursor
Useful for the recording layer at
An improved resin composition can be provided. In addition, the present invention tree
Positive lithographic printing plates to which the oil composition is applied
Excellent in screen, printing durability, and halftone dot reproducibility.

【手続補正書】 【提出日】平成14年5月29日(2002.5.2
9) 【手続補正1】 【補正対象書類名】明細書 【補正対象項目名】0051 【補正方法】変更 【補正内容】 【0051】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特開2001−1339
69公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開
2002−40638公報の段落番号[0012]〜
[0038]、特2002−23360公報の段落番
号[0012]〜[0023]に記載されたものを挙げ
ることができる。
[Procedure Amendment] [Submission Date] May 29, 2002 (2002.5.2
9) [Procedure Amendment 1] [Document Name to be Amended] Description [Name of Item to be Amended] 0051 [Correction Method] Change [Content of Amendment] [0051] Specific examples of the cyanine dye shown include those exemplified below and JP-A-2001-1339.
69, paragraph numbers [0017] to [0019], and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-40638, paragraph numbers [0012] to
[0038], paragraph [0012] of JP-Open 2002-23360 JP-may be mentioned those described in [0023].

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芹川 健 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 (72)発明者 土屋 光正 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA13 AB03 AC08 AD03 BF08 CC11 FA17 2H096 AA06 BA11 EA04 GA08 4J002 AA03X AA05X AA06W AA06X AA07W AA07X BH02W EE026 EL086 EN056 EU026 EU136 EV306 EV326 EV346 EZ006 FD096 GP03    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Ken Sasakawa             4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Kashihara-gun, Shizuoka Prefecture Fuji             Within Shin Film Co., Ltd. (72) Inventor Mitsumasa Tsuchiya             4,000 Kawajiri, Yoshida-cho, Kashihara-gun, Shizuoka Prefecture Fuji             Within Shin Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA04 AA13 AB03 AC08 AD03                       BF08 CC11 FA17                 2H096 AA06 BA11 EA04 GA08                 4J002 AA03X AA05X AA06W AA06X                       AA07W AA07X BH02W EE026                       EL086 EN056 EU026 EU136                       EV306 EV326 EV346 EZ006                       FD096 GP03

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるモノマー単
位を含む高分子化合物と、赤外線吸収剤と、を含有し、
赤外線の照射によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が
変化することを特徴とする樹脂組成物。 【化1】 (一般式(1)中、Aは重合性二重結合を有する2価の
有機基を表す。X1は−O−又は−NR2−を表す。R1
は、X1が−O−の場合は、アルキル基を表し、X1が−
NR2−の場合は、水素原子、アルキル基、又はアリー
ル基を表す。R2は、水素原子又はアルキル基を表
す。)
What is claimed is: 1. A polymer compound containing a monomer unit represented by the following general formula (1), and an infrared absorber,
A resin composition, wherein solubility in an alkaline aqueous solution is changed by irradiation with infrared rays. [Chemical 1] (In General Formula (1), A represents a divalent organic group having a polymerizable double bond. X 1 represents —O— or —NR 2 —. R 1
Represents an alkyl group when X 1 is —O—, and X 1 is —
NR 2 - For, represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group. )
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005001576A1 (en) * 2003-06-30 2005-01-06 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO2005116767A1 (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO2006013704A1 (en) * 2004-08-02 2006-02-09 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-working photosensitive composition
WO2006022086A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-02 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO2006059435A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-08 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
JP2008046666A (en) * 2003-07-03 2008-02-28 Think Laboratory Co Ltd Plate making method
JP2008070901A (en) * 2003-07-03 2008-03-27 Think Laboratory Co Ltd Positive photosensitive composition
JP2008077101A (en) * 2003-07-03 2008-04-03 Think Laboratory Co Ltd Positive photosensitive composition
EP2006092A1 (en) * 2007-05-05 2008-12-24 Chengdu Core Polytech. Co., Ltd. Positive photosensitive element comprising vinyl polymer

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005001576A1 (en) * 2003-06-30 2005-01-06 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
JP4657276B2 (en) * 2003-07-03 2011-03-23 株式会社シンク・ラボラトリー Positive photosensitive composition
JP4732419B2 (en) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー Positive photosensitive composition
JP4732420B2 (en) * 2003-07-03 2011-07-27 株式会社シンク・ラボラトリー Plate making method
JP2008046666A (en) * 2003-07-03 2008-02-28 Think Laboratory Co Ltd Plate making method
JP2008070901A (en) * 2003-07-03 2008-03-27 Think Laboratory Co Ltd Positive photosensitive composition
JP2008077101A (en) * 2003-07-03 2008-04-03 Think Laboratory Co Ltd Positive photosensitive composition
WO2005116767A1 (en) * 2004-05-27 2005-12-08 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO2006013704A1 (en) * 2004-08-02 2006-02-09 Think Laboratory Co., Ltd. Positive-working photosensitive composition
KR100813012B1 (en) * 2004-08-27 2008-03-13 가부시키가이샤 씽크. 라보라토리 Positive photosensitive composition
WO2006022086A1 (en) * 2004-08-27 2006-03-02 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
WO2006059435A1 (en) * 2004-11-30 2006-06-08 Think Laboratory Co., Ltd. Positive photosensitive composition
EP2006092A1 (en) * 2007-05-05 2008-12-24 Chengdu Core Polytech. Co., Ltd. Positive photosensitive element comprising vinyl polymer

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