JP2003342307A - Protective film and its manufacturing process - Google Patents

Protective film and its manufacturing process

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JP2003342307A JP2003106018A JP2003106018A JP2003342307A JP 2003342307 A JP2003342307 A JP 2003342307A JP 2003106018 A JP2003106018 A JP 2003106018A JP 2003106018 A JP2003106018 A JP 2003106018A JP 2003342307 A JP2003342307 A JP 2003342307A
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克明 堤
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high quality protective film for a dry film resist. <P>SOLUTION: The protective film is made from a polyethylene film which is obtained by pressurizing ethylene with an ultra high pressure compressor and polymerizing the ethylene at a reaction temperature of 190-300°C under a reaction pressure of ≥167 MPa in the presence of a radical polymerization initiator or by pressurizing ethylene with an ultra high pressure compressor and polymerizing the ethylene at a reaction temperature of 190-300°C in the coexistence of a radical polymerization inhibitor. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はプロテクトフィルム
および該フィルム用ポリエチレンの製造方法に関する。
より詳しくは被保護物品の表面に直接積層されてこれを
保護する密着型プロテクトフィルムおよび該フィルム用
ポリエチレンの製造方法に関する。プロテクトフィルム
は、保護フィルム、マスキングフィルムまたはカバーフ
ィルムともいうことがある。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a protect film and a method for producing polyethylene for the film.
More specifically, it relates to a contact-type protect film that is directly laminated on the surface of an article to be protected and protects the same, and a method for producing polyethylene for the film. The protect film may also be referred to as a protective film, a masking film or a cover film.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路実装に用いられるリード
フレームやプリント配線板の製造時にエッチングレジス
トとして用いられる感光層を形成するためのフィルムレ
ジスト(ドライフィルムレジストともいう)は、一般に
支持フィルム(ポリエステル等からなるフィルムが多
い)の上にポジ型またはネガ型の感光性組成物が形成さ
れ、さらにその上に保護のためのプロテクトフィルムが
積層されて構成される。感光性組成物としては、未露光
部(ネガ型)または露光部(ポジ型)がアルカリ水溶液
で除かれるアルカリ現像型と、有機溶剤により除かれる
溶剤現像型が知られている。感光性組成物は固体状では
あるが、形状が変化しない硬質な固体ではなく一定の寸
法変形度合いを有するものである。
2. Description of the Related Art A film resist (also referred to as a dry film resist) for forming a photosensitive layer used as an etching resist when manufacturing a lead frame or a printed wiring board used for mounting a semiconductor integrated circuit is generally a support film (such as polyester). (There are many films consisting of), a positive or negative photosensitive composition is formed, and a protective film for protection is further laminated thereon. As the photosensitive composition, there are known an alkali developing type in which an unexposed area (negative type) or an exposed area (positive type) is removed with an alkaline aqueous solution, and a solvent development type in which an unexposed area (negative type) is removed with an organic solvent. Although the photosensitive composition is solid, it is not a hard solid whose shape does not change but has a certain degree of dimensional deformation.

【0003】一例として、アルカリ現像型フィルムレジ
ストを用いてメタルエッチング法によりプリント回路配
線板やリードフレームを製造する方法を以下に示す。
As an example, a method of manufacturing a printed circuit wiring board and a lead frame by a metal etching method using an alkali developing film resist will be described below.

【0004】まず、フィルムレジストに直接積層されて
いるプロテクトフィルムを剥離し、圧着ロールにより銅
張り積層板等の金属基板にフィルムレジストが接する様
にラミネート(積層)する。次に、所望のパターンが描
画されたマスクを通して露光により金属基板上のフィル
ムレジストにパターンを焼き付ける。弱アルカリ水で現
像処理し、金属基板上にレジストパターンを形成する。
このレジストパターンをマスクにして金属基板をエッチ
ングした後、レジストパターンを強アルカリ水で剥離・
除去すれば、プリント回路配線板やリードフレームが製
造される。
First, the protect film directly laminated on the film resist is peeled off and laminated (laminated) by a pressure roll so that the film resist contacts a metal substrate such as a copper-clad laminate. Next, the pattern is printed on the film resist on the metal substrate by exposure through a mask on which a desired pattern is drawn. Development is performed with weak alkaline water to form a resist pattern on the metal substrate.
After etching the metal substrate using this resist pattern as a mask, remove the resist pattern with strong alkaline water.
If removed, a printed circuit wiring board and a lead frame are manufactured.

【0005】ここで、上記プロテクトフィルムを剥離
後、金属基板と積層するラミネート工程においては、特
開平11−153861号公報が指摘するように、金属
基板とフィルムレジストの界面にエアーボイドが発生
し、このエアーボイドの存在のためにレジストパターン
形成の際にパターン欠損を生じたり、金属基板のエッチ
ングの際に回路線部欠損部が生じるなどの恐れがある。
当該公報でも説明しているように、このエアーボイドの
発生は感光層としてのフィルムレジストの厚みが薄い方
が発生しやすい。
In the laminating step in which the protective film is peeled off and laminated on the metal substrate, air voids are generated at the interface between the metal substrate and the film resist, as pointed out in JP-A-11-153861. Due to the presence of the air voids, there is a possibility that a pattern defect may occur when forming the resist pattern, or a circuit line portion defect portion may occur when the metal substrate is etched.
As described in the publication, air voids are more likely to occur when the film resist as the photosensitive layer is thinner.

【0006】なお、当該公報では、単にエアーボイドの
発生個数でもって判定をしているが、端的には、たとえ
ば、回路代用としての数十μm幅の線の描画パターンを
形成し、そのパターンにおける欠陥状態等を検証する方
が実際上にも対応している。
In this publication, the determination is made simply by the number of air voids generated, but in short, for example, a drawing pattern of a line having a width of several tens of μm is formed as a circuit substitute, and the pattern in the pattern is formed. Actually, it is better to verify the defect status.

【0007】一方、プロテクトフィルムの材質には、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル系や、ポリ
プロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系が多
く使用されているものの、当該公報の比較例1ではポリ
エチレンからなるプロテクトフィルム(当該公報では保
護フィルムと称している)は好ましくない例としてい
る。
On the other hand, as the material of the protect film, polyester-based materials such as polyethylene terephthalate and polyolefin-based materials such as polypropylene and polyethylene are often used, but in Comparative Example 1 of the publication, the protect film made of polyethylene (the publication). Is referred to as a protective film) is an unfavorable example.

【0008】さらに、当該公報のプロテクトフィルム自
体もさらにその改良が求められている。すなわち、当該
公報ではプロテクトフィルムの性質として直径80μm
以上のフィッシュアイの個数を規定する。直径80μm
以上の大径のフィッシュアイの場合は、当該公報も説明
するようにそれは材料の未溶解及び劣化物がフィルム中
に取り込まれたものであることが多い。
Further, the protective film itself of the publication is required to be further improved. That is, according to the publication, the diameter of the protective film is 80 μm.
The number of fish eyes above is specified. 80 μm diameter
In the case of the fish eye having a large diameter as described above, it is often the case that undissolved materials and deteriorated materials are incorporated in the film as described in the publication.

【0009】しかしながら、当該公報のプロテクトフィ
ルムを改良すべく、さらに小径のフィッシュアイ、たと
えば30μm程度の微小フィッシュアイすら少ないよう
なフィルムを製造しようとしても、微小フィッシュアイ
は未だその成因の解明が不十分である。そのうえ、この
ような微小径のフィッシュアイと、微小であるが故に前
記エアーボイド生成との関係すら解明が不十分である。
すなわち、フィッシュアイの測定がフィルム透過光の観
察に基づくものであって必ずしもフィルム表面の凹凸を
直接求めているものではなく、それ故、大径のフィッシ
ュアイの場合にはフィルム表面の凹凸およびその形状と
一応の相関があることを認めるとしても、30μm程度
の微小フィッシュアイの場合には、その実態としてフィ
ッシュアイが単なる樹脂流動の後を示すのみであり、フ
ィルム表面の凹凸とは直接の関係がないこともある。そ
れ故、このような微小フィッシュアイがフィルム表面の
凹凸およびその形状に相関するか否かも判定しがたいの
が実状である。当然、前記線画パターンの形成にも対応
するか否か判定しがたい。
However, even if an attempt is made to improve the protective film of the above publication, a fish eye having a smaller diameter, for example, a film having even a small fish eye of about 30 μm is produced, the cause of the small fish eye is still unclear. It is enough. Moreover, it is insufficient to elucidate even the relationship between the fish eyes having such a minute diameter and the formation of the air voids because they are minute.
That is, the measurement of the fish eye is based on the observation of the light transmitted through the film and does not necessarily directly determine the unevenness of the film surface, therefore, in the case of a large-diameter fish eye, the unevenness of the film surface and its Even if it is admitted that there is a tentative correlation with the shape, in the case of a small fish eye of about 30 μm, as a matter of fact, the fish eye only shows after the resin flow, and the direct relation with the unevenness of the film surface. Sometimes there is no. Therefore, it is difficult to determine whether or not such a minute fish eye correlates with the unevenness of the film surface and its shape. Of course, it is difficult to determine whether or not the above-mentioned line drawing pattern can be formed.

【0010】さらにポリエチレンフィルムからなるプロ
テクトフィルムとしての上記のような適合性はフィルム
の成形方法やその成形条件等により変えることは難し
く、ポリエチレンそのものの本質的な性質から変える必
要があるのである。すなわち、ポリエチレンの成形方
法、成形条件をいかに変えようとしても、プロテクトフ
ィルムとしての上記のような適合性の向上には限界があ
るのである。特にフィルムの成形方法やその成形条件等
を変えることでは、有用なプロテクトフィルムを得るの
は難しい。たとえば、フィルム成形前やその過程で単に
ポリエチレンをフィルターでろ過しても改善が見られな
いことが多い。なお、前記80μm以上の大径のフィッ
シュアイではフィルターろ過等の物理的除去手段により
その個数の一定の低減効果が認められることからも、3
0μm程度の微小フィッシュアイとは本質的な相違が推
測される。
Further, it is difficult to change the above compatibility as a protect film made of polyethylene film depending on the film forming method and its forming conditions, and it is necessary to change it from the essential properties of polyethylene itself. That is, no matter how the molding method and molding conditions of polyethylene are changed, there is a limit to the improvement of the compatibility as a protect film. In particular, it is difficult to obtain a useful protective film by changing the film forming method and the forming conditions thereof. For example, simply filtering polyethylene with a filter before or during film formation often does not show any improvement. It should be noted that the fish eye having a large diameter of 80 μm or more has a certain effect of reducing the number thereof by a physical removing means such as filter filtration, and therefore 3
It is presumed that there is an essential difference from a fine fish eye of about 0 μm.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
課題を解決することにある。特に高度の保護機能が要求
されるドライフィルムレジストなどのプロテクトフィル
ムとしての適性に優れるポリエチレンの製造法を確立す
ることを通して、新規プロテクトフィルム、その製造法
及びそれを用いた積層体を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above problems. To provide a novel protective film, a method for producing the same, and a laminate using the same by establishing a method for producing polyethylene, which is particularly suitable as a protective film for a dry film resist or the like that requires a high degree of protective function. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決すべく高圧法低密度ポリエチレンの製造方法およ
びそれから得られたポリエチレンフィルムにつき鋭意検
討を続けた結果、高い反応圧力、反応系におけるラジカ
ル重合禁止剤の共存等が上記課題の解決に関係するとい
う知見を得て、ドライフィルムレジストなどの被保護物
品の平坦表面におけるプロテクトフィルムとしての適性
を格段に向上させることに成功した。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted extensive studies on a method for producing low-density polyethylene of high pressure method and a polyethylene film obtained therefrom to solve the above-mentioned problems, and as a result, high reaction pressure, reaction system Based on the finding that the coexistence of the radical polymerization inhibitor and the like in (3) is related to the solution of the above problems, the inventors have succeeded in significantly improving the suitability as a protect film on the flat surface of protected articles such as dry film resists.

【0013】すなわち、本発明の第1は、超高圧圧縮機
によりエチレンを昇圧し、ついでラジカル重合開始剤の
存在下、反応温度190℃〜300℃でエチレンを重合
するに際し、前記超高圧圧縮機出口におけるエチレンに
対する濃度が5〜1000重量ppmとなる割合のラジ
カル重合禁止剤を反応系内に共存させることにより得ら
れるポリエチレンからなることを特徴とするプロテクト
フィルムに関する。
That is, the first aspect of the present invention is to pressurize ethylene with an ultra-high pressure compressor, and then polymerize ethylene at a reaction temperature of 190 to 300 ° C. in the presence of a radical polymerization initiator. The present invention relates to a protect film, which is made of polyethylene obtained by allowing a radical polymerization inhibitor to coexist in the reaction system in a proportion such that the concentration at the outlet is 5 to 1000 ppm by weight.

【0014】本発明の第2は、本発明の第1において、
エチレンを重合する際の反応圧力が、167MPa以上
であるプロテクトフィルムに関する。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention,
The present invention relates to a protect film having a reaction pressure of 167 MPa or more when polymerizing ethylene.

【0015】本発明の第3は、本発明の第1または第2
において、ラジカル重合禁止剤が、フェノール系または
キノン系化合物であるプロテクトフィルムに関する。
The third aspect of the present invention is the first or second aspect of the present invention.
In regard to the protect film, the radical polymerization inhibitor is a phenol-based or quinone-based compound.

【0016】本発明の第4は、本発明の第1から第3の
いずれかの発明において、エチレンを重合する際に攪拌
槽型反応器を用い、反応器内平均滞留時間が5〜30秒
となる条件を用いるプロテクトフィルムに関する。
In a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects of the present invention, a stirring tank reactor is used when ethylene is polymerized, and an average residence time in the reactor is 5 to 30 seconds. The present invention relates to a protect film that uses the following condition.

【0017】本発明の第5は、0.3〜30(g/10
分)のMFRおよび0.913〜0.930(g/cm
3 )の密度を有し、30μm厚みのフィルムとして、ヘ
ーズが1〜50(%)、フィルム中に存在する長径30
μm以上0.20mm未満のフィッシュアイ存在密度が
40個/10cm2 以下、長径0.20mm以上のフィ
ッシュアイ存在密度が1.0個/1.0m2 以下である
ことを特徴とするポリエチレンフィルムからなることを
特徴とするプロテクトフィルムに関する。
The fifth aspect of the present invention is 0.3 to 30 (g / 10).
Min) MFR and 0.913-0.930 (g / cm
As a film having a density of 3 ) and a thickness of 30 μm, the haze is 1 to 50 (%), and the major axis is 30 present in the film.
From the polyethylene film, the density of fish eyes of μm or more and less than 0.20 mm is 40 pieces / 10 cm 2 or less, and the density of fish eyes of major axis 0.20 mm or more is 1.0 pieces / 1.0 m 2 or less. The present invention relates to a protective film which is characterized by

【0018】本発明の第6は、本発明の第1から第5の
いずれかのプロテクトフィルムが、被保護物品の表面に
直接積層されてなる積層体に関する。
A sixth aspect of the present invention relates to a laminate in which the protect film according to any one of the first to fifth aspects of the present invention is directly laminated on the surface of the article to be protected.

【0019】本発明の第7は、超高圧圧縮機によりエチ
レンを昇圧し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度1
90℃〜300℃でエチレンを重合するに際し、前記超
高圧圧縮機出口におけるエチレンに対する濃度が5〜1
000重量ppmとなる割合のラジカル重合禁止剤を反
応系内に共存させることを特徴とするプロテクトフィル
ム用ポリエチレンの製造方法に関する。
The seventh aspect of the present invention is to pressurize ethylene with an ultra-high pressure compressor, and then to react at a reaction temperature of 1 in the presence of a polymerization initiator.
When polymerizing ethylene at 90 ° C to 300 ° C, the concentration of ethylene at the outlet of the ultrahigh pressure compressor is 5 to 1
The present invention relates to a method for producing polyethylene for a protect film, which comprises allowing a radical polymerization inhibitor in a proportion of 000 ppm by weight to coexist in a reaction system.

【0020】本発明の第8は、本発明の第7において、
反応圧力167MPa以上でエチレンを重合するプロテ
クトフィルム用ポリエチレンの製造方法に関する。
An eighth aspect of the present invention is the same as the seventh aspect of the present invention.
The present invention relates to a method for producing polyethylene for a protect film, which polymerizes ethylene at a reaction pressure of 167 MPa or more.

【0021】本発明の第9は、本発明の第7または第8
において、重合禁止剤がフェノール系またはキノン系化
合物であるプロテクトフィルム用ポリエチレンの製造方
法に関する。
The ninth aspect of the present invention is the seventh or eighth aspect of the present invention.
Relates to a method for producing polyethylene for a protect film, wherein the polymerization inhibitor is a phenol-based or quinone-based compound.

【0022】本発明の第10は、本発明の第7から第9
の発明において、攪拌槽型反応器を用い、反応器内平均
滞留時間が5〜30秒となるような条件でエチレンを重
合するプロテクトフィルム用ポリエチレンの製造方法に
関する。
The tenth aspect of the present invention is the seventh to ninth aspects of the present invention.
In the invention described above, the present invention relates to a method for producing polyethylene for a protect film, which comprises using a stirred tank reactor and polymerizing ethylene under conditions such that the average residence time in the reactor is 5 to 30 seconds.

【0023】本発明の第11は、本発明の第7から第1
0のいずれかの発明において、得られるポリエチレン
が、0.3〜30(g/10分)のMFRおよび0.9
13〜0.930(g/cm3 )の密度を有し、30μ
m厚みのフィルムとして、ヘーズが1〜50(%)、フ
ィルム中に存在する長径30μm以上0.20mm未満
のフィッシュアイ存在密度が40個/10cm2 以下、
長径0.20mm以上のフィッシュアイ存在密度が1.
0個/1.0m2 以下であることを特徴とするプロテク
トフィルム用ポリエチレンの製造方法に関する。
The eleventh aspect of the present invention is the seventh to first aspects of the present invention.
0, the polyethylene obtained has a MFR of 0.3 to 30 (g / 10 min) and a value of 0.9.
It has a density of 13 to 0.930 (g / cm 3 ), and 30 μ
As a m-thick film, haze is 1 to 50 (%), and the presence density of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm in the film is 40 pieces / 10 cm 2 or less,
The existence density of fish eyes with a major axis of 0.20 mm or more is 1.
The present invention relates to a method for producing polyethylene for a protect film, which is characterized in that the number is 0 / 1.0 m 2 or less.

【0024】本発明の第12は、超高圧圧縮機によりエ
チレンを昇圧し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度
190℃〜300℃、反応圧力167MPa以上でエチ
レンを重合し、得られたポリエチレンを製膜して、0.
3〜30(g/10分)のMFRおよび0.913〜
0.930(g/cm3 )の密度を有し、30μm厚み
のフィルムとして、ヘーズが1〜50(%)、フィルム
中に存在する長径30μm以上0.20mm未満のフィ
ッシュアイ存在密度が40個/10cm2 以下、長径
0.20mm以上のフィッシュアイ存在密度が1.0個
/1.0m2 以下であるポリエチレンフィルムとし、こ
のポリエチレンフィルムをプロテクトフィルムとして被
保護物品の表面に直接積層することを特徴とする積層体
の製造方法に関する。
The twelfth aspect of the present invention is a polyethylene obtained by pressurizing ethylene with an ultrahigh pressure compressor, and then polymerizing ethylene in the presence of a polymerization initiator at a reaction temperature of 190 ° C. to 300 ° C. and a reaction pressure of 167 MPa or more. Is formed into a film, and 0.
MFR of 3 to 30 (g / 10 minutes) and 0.913 to
A film having a density of 0.930 (g / cm 3 ) and a thickness of 30 μm, a haze of 1 to 50 (%), and a fish eye existence density of 30 μm or more and less than 0.20 mm present in the film of 40 pieces. / 10 cm 2 or less, a major axis of 0.20 mm or more, a polyethylene film having a fish eye existence density of 1.0 / 1.0 m 2 or less, and directly laminating this polyethylene film as a protective film on the surface of the article to be protected. The present invention relates to a method for producing a characteristic laminate.

【0025】本発明の第13は、超高圧圧縮機によりエ
チレンを昇圧し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度
190℃〜300℃でエチレンを重合するに際し、前記
超高圧圧縮機出口におけるエチレンに対する濃度が5〜
1000重量ppmとなる割合のラジカル重合禁止剤を
反応系内に共存させることにより得られたポリエチレン
を製膜して、0.3〜30(g/10分)のMFRおよ
び0.913〜0.930(g/cm3 )の密度を有
し、30μm厚みのフィルムとして、ヘーズが1〜50
%、フィルム中に存在する長径30μm以上0.20m
m未満のフィッシュアイ存在密度が40個/10cm2
以下、長径0.20mm以上のフィッシュアイ存在密度
が1.0個/m2 以下であるポリエチレンフィルムと
し、このポリエチレンフィルムをプロテクトフィルムと
して被保護物品の表面に直接積層することを特徴とする
積層体の製造方法に関する。
The thirteenth aspect of the present invention is to pressurize ethylene with an ultra-high pressure compressor, and then polymerize ethylene at a reaction temperature of 190 ° C. to 300 ° C. in the presence of a polymerization initiator. Is 5 to
A polyethylene obtained by coexisting a radical polymerization inhibitor in an amount of 1000 ppm by weight in the reaction system was formed into a film to have an MFR of 0.3 to 30 (g / 10 minutes) and 0.913 to 0. A film having a density of 930 (g / cm 3 ) and a thickness of 30 μm and a haze of 1 to 50.
%, Major axis present in the film is 30 μm or more and 0.20 m
The presence density of fish eyes less than m is 40 pieces / 10 cm 2
Hereinafter, a polyethylene film having a major diameter of 0.20 mm or more and a fish eye existence density of 1.0 / m 2 or less, and the polyethylene film is directly laminated on the surface of a protected article as a protect film. Manufacturing method.

【0026】本発明の第14は、超高圧圧縮機によりエ
チレンを昇圧し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度
190℃〜300℃、反応圧力167MPa以上でエチ
レンを重合するに際し、前記超高圧圧縮機出口における
エチレンに対する濃度が5〜1000重量ppmとなる
割合のラジカル重合禁止剤を反応系内に共存させること
により得られたポリエチレンを製膜して、0.3〜30
(g/10分)のMFRおよび0.913〜0.930
(g/cm3 )の密度を有し、30μm厚みのフィルム
として、ヘーズが1〜50%、フィルム中に存在する長
径30μm以上0.20mm未満のフィッシュアイ存在
密度が40個/10cm2 以下、長径0.20mm以上
のフィッシュアイ存在密度が1.0個/m2 以下である
ポリエチレンフィルムとし、このポリエチレンフィルム
をプロテクトフィルムとして被保護物品の表面に直接積
層することを特徴とする積層体の製造方法に関する。
In the fourteenth aspect of the present invention, ethylene is pressurized by an ultrahigh pressure compressor, and then ethylene is polymerized in the presence of a polymerization initiator at a reaction temperature of 190 ° C. to 300 ° C. and a reaction pressure of 167 MPa or more. A polyethylene obtained by allowing a radical polymerization inhibitor to coexist in the reaction system at a ratio such that the concentration at the outlet of the compressor with respect to ethylene is 5 to 1000 ppm by weight is formed into a film to give 0.3 to 30.
(G / 10 min) MFR and 0.913-0.930
As a film having a density of (g / cm 3 ), a thickness of 30 μm, a haze of 1 to 50%, a fish eye existence density of 30 μm or more and less than 0.20 mm of major axis present in the film of 40 pieces / 10 cm 2 or less, A polyethylene film having a major diameter of 0.20 mm or more and a fish eye existing density of 1.0 / m 2 or less, and the polyethylene film is directly laminated on the surface of a protected article as a protect film. Regarding the method.

【0027】本発明の第15は、本発明の第1〜5のい
ずれかにおいて、プロテクトフィルムが保護すべきもの
の表面に直接積層されて使用される密着型プロテクトフ
ィルムに関する。
The fifteenth aspect of the present invention relates to the contact-type protect film according to any one of the first to fifth aspects of the present invention, which is used by being directly laminated on the surface of the object to be protected.

【0028】本発明の第16は、本発明の第7〜11の
いずれかにおいて、製造されるプロテクトフィルムが、
保護すべきものの表面に直接積層されて使用される密着
型プロテクトフィルムの製造方法に関する。
[0028] A sixteenth aspect of the present invention is the protective film produced according to any of the seventh to eleventh aspects of the present invention,
The present invention relates to a method for producing a contact-type protect film, which is used by being directly laminated on the surface of an object to be protected.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】以下本発明について詳しく説明す
る。本発明のプロテクトフィルムに用いられるポリエチ
レンは、有機過酸化物、酸素等をラジカル重合開始剤と
して使用するエチレンの高圧ラジカル重合法により製造
される。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in detail below. The polyethylene used in the protect film of the present invention is produced by a high pressure radical polymerization method of ethylene using an organic peroxide, oxygen or the like as a radical polymerization initiator.

【0030】この高圧ラジカル重合は、一般には、エチ
レンを超高圧圧縮機により昇圧させた後、管状反応器ま
たは攪拌槽型反応器に導入してラジカル重合開始剤の存
在下にエチレンを重合させ、その後適宜に脱圧してポリ
エチレンを製造する方法である。
In this high-pressure radical polymerization, generally, ethylene is pressurized by an ultrahigh-pressure compressor and then introduced into a tubular reactor or a stirred tank reactor to polymerize ethylene in the presence of a radical polymerization initiator, This is a method of producing polyethylene by depressurizing appropriately thereafter.

【0031】ラジカル重合開始剤は、遊離基を発生する
化合物であり、酸素やt−ブチルパーオキシピバレー
ト、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパ
ーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシベンゾエー
ト等の有機過酸化物が挙げられる。ラジカル重合開始剤
は常法により反応器内へ注入される。
The radical polymerization initiator is a compound which generates a free radical, such as oxygen, t-butylperoxypivalate, t-butylperoxyoctoate, t-butylperoxyacetate, t-butylperoxybenzoate and the like. The organic peroxides of The radical polymerization initiator is injected into the reactor by a conventional method.

【0032】エチレンの昇圧は通常、高圧圧縮機、超高
圧圧縮機の二段階の圧縮で達成される。エチレンを約1
0〜40MPaまで昇圧するのが高圧圧縮機で、そこか
ら更に反応圧力まで昇圧するのが超高圧圧縮機である。
超高圧圧縮機から出たエチレンは反応器内に導入されそ
こで重合する。反応器としては、前記の管状反応器また
は攪拌槽型反応器のいずれも採用することができる。好
ましくは攪拌槽型反応器である。
The pressurization of ethylene is usually achieved by two-stage compression of a high pressure compressor and an ultrahigh pressure compressor. About 1 ethylene
The high-pressure compressor boosts the pressure to 0 to 40 MPa, and the ultra-high-pressure compressor boosts the reaction pressure from there.
The ethylene from the ultra-high pressure compressor is introduced into the reactor where it polymerizes. As the reactor, either the tubular reactor or the stirred tank reactor described above can be adopted. A stirred tank reactor is preferred.

【0033】エチレン重合の反応温度は、190〜30
0℃、好ましくは200〜280℃、さらに好ましくは
210〜265℃である。反応温度が上記範囲を外れた
場合、何れも重合体同士の架橋反応が促進されフィッシ
ュアイの存在密度が増加する。ここで、重合の反応温度
の下限値は、反応器内でエチレンガスと重合開始剤が最
初に接触する部位より下流で、重合が進行し比較的はっ
きり温度上昇している部分の温度を表し、上限値は反応
器内の最高温度を表す。
The reaction temperature for ethylene polymerization is 190 to 30.
The temperature is 0 ° C, preferably 200 to 280 ° C, more preferably 210 to 265 ° C. When the reaction temperature is out of the above range, the cross-linking reaction between the polymers is promoted and the existing density of fish eyes is increased. Here, the lower limit of the reaction temperature of the polymerization represents the temperature of the part where the polymerization proceeds and the temperature rises relatively clearly downstream of the site where the ethylene gas and the polymerization initiator first contact in the reactor, The upper limit represents the maximum temperature in the reactor.

【0034】なお、プロテクトフィルムとしての性能を
阻害しない限り、適宜の種類と量の極性モノマー、たと
えば酢酸ビニル、(メタ)アクリル酸エステル等をエチ
レンに共重合させることもできる。
Incidentally, polar monomers of appropriate types and amounts such as vinyl acetate and (meth) acrylic acid ester can be copolymerized with ethylene as long as the performance as a protect film is not impaired.

【0035】本発明のエチレンの重合においては、一定
の反応圧力以上で重合させることが肝要である。ここ
で、反応圧力とは反応器内の最低圧力を意味し、具体的
には、167MPa以上、好ましくは190MPa以上
である。反応圧力が、167MPaより低いと反応器内
で一部エチレンとポリエチレン濃厚相との相分離が起こ
る領域が発生し、それにより形成されたポリエチレン濃
厚相においてポリエチレン同士の接触確率が高まりポリ
エチレンの架橋反応が起こりやすくなる。そのため、1
67MPa未満の圧力では微小フィッシュアイを減少さ
せることが難しい。反応圧力が167MPa以上である
ならば反応器内の相は均一であり、それだけ架橋反応が
起こりがたい。重合圧力は高圧であるほど好ましいが、
プロセス内各機器の耐圧に制限があるので、実質的に反
応圧力の上限は、393MPa程度である。
In the polymerization of ethylene of the present invention, it is important to carry out the polymerization at a certain reaction pressure or higher. Here, the reaction pressure means the lowest pressure in the reactor, and is specifically 167 MPa or more, preferably 190 MPa or more. When the reaction pressure is lower than 167 MPa, a region where phase separation of ethylene and the polyethylene-rich phase occurs occurs in the reactor, and the polyethylene-rich phase formed thereby increases the probability of contact between polyethylenes, resulting in a polyethylene crosslinking reaction. Is more likely to occur. Therefore, 1
When the pressure is less than 67 MPa, it is difficult to reduce the fine fisheye. If the reaction pressure is 167 MPa or more, the phase in the reactor is uniform, and thus the crosslinking reaction is hard to occur. The higher the polymerization pressure, the better, but
Since the pressure resistance of each device in the process is limited, the upper limit of the reaction pressure is substantially about 393 MPa.

【0036】重合における反応器内平均滞留時間は、5
〜30秒、好ましくは8〜25秒、さらに好ましくは1
0〜18秒となるように反応原料の供給速度等を操作す
る。平均滞留時間が5秒より短いと未反応のラジカル重
合開始剤が反応器より下流へ流出することになり、攪拌
状態の悪い配管内や分離器内で反応を開始させることと
なる。分散不良の状態で開始剤が分解すると重合体が局
部架橋してフィッシュアイを生成するとともに、異常反
応につながる懸念がある。また、30秒より長いと生成
した重合体が遊離基の存在する環境に長時間晒されるた
め、架橋が促進される。ここで、反応器内平均滞留時間
とは反応器内容積(m3 )を反応器に入る全エチレンガ
スの容積流量速度(m3 /秒)で割った値を表す。
The average residence time in the reactor during polymerization is 5
~ 30 seconds, preferably 8-25 seconds, more preferably 1
The supply rate of the reaction raw material and the like are controlled so as to be 0 to 18 seconds. If the average residence time is shorter than 5 seconds, the unreacted radical polymerization initiator will flow out to the downstream of the reactor, and the reaction will be started in the pipe or the separator where the stirring state is bad. If the initiator decomposes in a poorly dispersed state, the polymer may locally crosslink to form fish eyes and may lead to an abnormal reaction. If it is longer than 30 seconds, the produced polymer is exposed to the environment in which free radicals are present for a long time, so that the crosslinking is accelerated. Here, the average residence time in the reactor means a value obtained by dividing the reactor internal volume (m 3 ) by the volumetric flow rate of all ethylene gas entering the reactor (m 3 / sec).

【0037】本発明のエチレン重合に際しては、前述の
反応圧力を167MPa以上とするほかに、さらに反応
系内に重合禁止剤を共存させることが好ましい。この二
つの手段を併用することで相乗的にフィッシュアイ、特
に微小フィッシュアイの減少を達成することができる。
重合禁止剤の反応系内への添加量は、エチレンに対して
5〜1000重量ppmである。好ましくは50〜50
0重量ppm、さらに好ましくは100〜300重量p
pmである。もちろんであるが、重合禁止剤の量はエチ
レン等モノマー自体の重合を阻害しない量である。用い
る重合禁止剤の重合禁止効果の程度によって多少は異な
るが、下限未満ではフィッシュアイの低減効果が不充分
であり、上限を超えるときはフィッシュアイ低減効果の
頭打ち且つ重合開始剤消費量の激増を招くので実際的で
ない。なお、後記するように通常未反応エチレンは循環
・再使用されるため、超高圧圧縮機出口においてその流
量が最大となる。重合禁止剤は、当該出口個所において
上記濃度になるような割合で反応系に共存させる。
In the ethylene polymerization of the present invention, in addition to the above-mentioned reaction pressure of 167 MPa or more, it is preferable to further coexist a polymerization inhibitor in the reaction system. By using these two means in combination, it is possible to synergistically achieve reduction of fish eyes, particularly fine fish eyes.
The amount of the polymerization inhibitor added to the reaction system is 5 to 1000 ppm by weight based on ethylene. Preferably 50-50
0 weight ppm, more preferably 100 to 300 weight p
pm. Of course, the amount of the polymerization inhibitor is an amount that does not inhibit the polymerization of the monomer itself such as ethylene. Although it varies somewhat depending on the degree of the polymerization inhibitory effect of the polymerization inhibitor used, if it is less than the lower limit, the fisheye reducing effect is insufficient, and if it exceeds the upper limit, the fisheye reducing effect is capped and the consumption of the polymerization initiator increases sharply. It is not practical because it invites. Since unreacted ethylene is usually circulated and reused as will be described later, the flow rate becomes maximum at the outlet of the ultra-high pressure compressor. The polymerization inhibitor is allowed to coexist in the reaction system at such a ratio that the concentration becomes the above concentration at the outlet.

【0038】重合禁止剤はそれが反応系内に共存する限
り、適宜に任意の個所にこれを注入・添加することがで
きる。しかしながら、超高圧圧縮機出口より後の個所で
添加する場合は、重合禁止剤を添加するための超高圧ポ
ンプが必要となる。それゆえ、注入・添加位置としては
超高圧圧縮機出口より前で添加するのが好ましい。具体
的には、高圧圧縮機入口より前、または高圧圧縮機出口
より下流で超高圧圧縮機入口より上流である。また、重
合禁止剤は、単独で添加してもいいし、エチレン、分子
量調節剤等と予め混合して反応系に添加してもよい。
The polymerization inhibitor can be injected / added to any desired location as long as it coexists in the reaction system. However, when adding at a location after the outlet of the ultra-high pressure compressor, an ultra-high pressure pump for adding the polymerization inhibitor is required. Therefore, the injection / addition position is preferably added before the outlet of the ultra-high pressure compressor. Specifically, it is before the inlet of the high-pressure compressor or downstream of the outlet of the high-pressure compressor and upstream of the inlet of the ultra-high pressure compressor. Further, the polymerization inhibitor may be added alone, or may be added in advance to the reaction system after being mixed with ethylene, a molecular weight modifier and the like in advance.

【0039】反応器内に共存さすべき重合禁止剤は、エ
チレンのラジカル重合禁止剤であるならばいずれのもの
も使用することができる。具体的には、フェノール系化
合物、キノン系化合物が例示される。具体的には、ハイ
ドロキノン、モノメチルエーテルハイドロキノン、2,
6−ジt−ブチル−4−メチルフェノール、2,6−ジ
t−ブチル−4−エチルフェノール、3,5−ビス
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシベンゼン
プロピオン酸オクタデシルエステル、チオビスフェノー
ル、キノン、4−t−ブチルピロカテコール等を挙げる
ことができる。この中でも、比較的低分子量で極性が大
きすぎずエチレン中への分散性が良いモノメチルエーテ
ルハイドロキノン、2,6−ジt−ブチル−4−メチル
フェノール、2,6−ジt−ブチル−4−エチルフェノ
ール等が好ましい。これらの中でも重合反応自体を過度
に抑制しない2,6−ジt−ブチル−4−メチルフェノ
ール、2,6−ジt−ブチル−4−エチルフェノール等
がさらに好ましい。これら重合禁止剤は、単独または2
種以上組み合わせて用いてもよい。また、重合禁止剤は
溶媒に溶解した溶液として反応系に添加することができ
る。ここで用いる溶媒としては、例えば炭素数6〜14
程度の飽和炭化水素が挙げられる。場合によってはこれ
らの溶媒を2種以上組み合わせて用いてもよい。この溶
媒は重合禁止剤の良溶媒であり、かつ重合系に悪影響を
与えないものが望ましい。また、沸点やポリマーとの分
離効率を考慮し、重合体中に残存する量ができるだけ小
さくなるものを選ぶことが好ましい。
As the polymerization inhibitor to be coexisted in the reactor, any radical polymerization inhibitor of ethylene can be used. Specific examples include phenol compounds and quinone compounds. Specifically, hydroquinone, monomethyl ether hydroquinone, 2,
6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol, 3,5-bis (1,1-dimethylethyl) -4-hydroxybenzenepropionic acid octadecyl ester, thio Examples thereof include bisphenol, quinone, 4-t-butylpyrocatechol and the like. Among these, monomethyl ether hydroquinone, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2,6-di-t-butyl-4-, which has a relatively low molecular weight, is not too polar, and has good dispersibility in ethylene. Ethylphenol and the like are preferred. Among these, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol and 2,6-di-t-butyl-4-ethylphenol which do not excessively suppress the polymerization reaction are more preferable. These polymerization inhibitors may be used alone or in 2
You may use it in combination of 2 or more types. Further, the polymerization inhibitor can be added to the reaction system as a solution dissolved in a solvent. The solvent used here has, for example, 6 to 14 carbon atoms.
Included are some saturated hydrocarbons. Depending on the case, you may use these solvents in combination of 2 or more types. It is desirable that this solvent is a good solvent for the polymerization inhibitor and does not adversely affect the polymerization system. Further, in consideration of the boiling point and the efficiency of separation from the polymer, it is preferable to select the one in which the amount remaining in the polymer is as small as possible.

【0040】また、重合に際しては分子量調節剤も適宜
に使用することができ、これには種々の連鎖移動剤を使
用することが可能である。具体的な連鎖移動剤として
は、プロピレン、ブテン、ヘキセン等のオレフィン系化
合物、エタン、プロパン、ブタン等のパラフィン類、ト
ルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素
類等を挙げることができる。
In the polymerization, a molecular weight modifier may be appropriately used, and various chain transfer agents can be used. Specific examples of chain transfer agents include olefin compounds such as propylene, butene and hexene, paraffins such as ethane, propane and butane, and aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene and ethylbenzene.

【0041】重合後は、適宜に脱圧すれば目的とするポ
リエチレン、たとえば、MFR(JIS K 6760
(温度190℃、荷重2.16kg))が0.3〜30
(g/10分)、密度(JIS K 6760)が0.
913〜0.930(g/cm3 )のポリエチレンが得
られる。脱圧時回収される未反応エチレンは、適宜に再
度昇圧し循環・再使用することができる。得られるポリ
エチレンのMFRは0.3〜30であればよく、1〜1
0が好ましく、2〜5が特に好ましい。MFRがこの範
囲外である場合、安定したフィルム成形が困難になる。
密度は、0.913〜0.930であればよく、0.9
18〜0.930が好ましく、0.920〜0.928
が特に好ましい。密度が0.913未満ではフィルムの
剛性が低下し、作業性が悪くなりすぎる恐れがあり、
0.930を超える場合にはフィルムの柔軟性が低下
し、プロテクトフィルムとして使用した場合フィルムの
密着性に問題が生じる恐れがある。
After the polymerization, if the pressure is appropriately released, the desired polyethylene such as MFR (JIS K 6760) can be obtained.
(Temperature 190 ° C., load 2.16 kg)) is 0.3 to 30
(G / 10 minutes), density (JIS K 6760) is 0.
913 to 0.930 (g / cm 3 ) of polyethylene is obtained. The unreacted ethylene recovered during depressurization can be circulated and reused by appropriately increasing the pressure again. The MFR of the obtained polyethylene may be 0.3 to 30, and 1 to 1
0 is preferable and 2-5 is especially preferable. If the MFR is outside this range, stable film formation becomes difficult.
The density may be 0.913 to 0.930, and 0.9
18 to 0.930 is preferable, and 0.920 to 0.928
Is particularly preferable. If the density is less than 0.913, the rigidity of the film is lowered, and workability may be deteriorated too much.
When it exceeds 0.930, the flexibility of the film is lowered, and when it is used as a protective film, the adhesion of the film may be problematic.

【0042】プロテクトフィルムのためのフィルム成形
方法としては、公知のフィルム成形方法を採用すること
ができる。たとえば、フィルム成形に当たっては、イン
フレーション法(空冷法、水冷法)、Tダイ法等何れの
フィルム成形方法によることも可能で、場合により一軸
延伸、二軸延伸処理等の延伸処理を加えることもでき
る。フィルム成形における成形温度、引取り速度に特に
制限はないが、一般には成形温度130〜230℃、引
取り速度5〜40m/min程度が好適である。フィル
ム厚みは適宜に選択されるが、プロテクトフィルムとし
ては一般的には10〜100μm程度が好ましく、さら
に好ましくは5〜30μmの厚みである。なお、本発明
のプロテクトフィルムを構成するポリエチレンには、本
発明のフィッシュアイ等の規定に悪影響を与えない範囲
で、直鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、
エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−ブテン共重
合体等のポリオレフィン系樹脂をブレンドしてもよい。
また、必要に応じて通常ポリオレフィンで使用される添
加剤、具体的には酸化防止剤、ブロッキング防止剤、滑
剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。
As a film forming method for the protect film, a known film forming method can be adopted. For example, in forming the film, any film forming method such as an inflation method (air cooling method, water cooling method) or a T-die method can be used, and in some cases, a stretching treatment such as a uniaxial stretching treatment or a biaxial stretching treatment can be added. . The molding temperature and the take-up speed in film forming are not particularly limited, but generally, the molding temperature of 130 to 230 ° C. and the take-up speed of 5 to 40 m / min are suitable. Although the film thickness is appropriately selected, the thickness of the protect film is preferably about 10 to 100 μm, and more preferably 5 to 30 μm. In addition, the polyethylene constituting the protect film of the present invention includes linear low-density polyethylene, high-density polyethylene, within a range that does not adversely affect the specifications of the fisheye of the present invention,
A polyolefin resin such as an ethylene-propylene copolymer or an ethylene-butene copolymer may be blended.
If necessary, additives usually used for polyolefins, specifically, antioxidants, antiblocking agents, lubricants, antistatic agents, ultraviolet absorbers and the like may be added.

【0043】なお、重合反応系にラジカル重合禁止剤を
共存させてポリエチレンを製造する場合、反応系内に存
在させたラジカル重合禁止剤は一定量が製品中に残存す
る。この残存ラジカル重合禁止剤が酸化防止能をも有
し、かつその濃度が十分な場合などには、製品ポリエチ
レン中には特に酸化防止剤を加えないとすることもでき
る。
When a radical polymerization inhibitor coexists in the polymerization reaction system to produce polyethylene, a certain amount of the radical polymerization inhibitor present in the reaction system remains in the product. When the residual radical polymerization inhibitor also has an antioxidant ability and the concentration thereof is sufficient, it is possible to add no antioxidant to the product polyethylene.

【0044】上記のようにしてポリエチレンを成形する
ことにより得られる本発明のプロテクトフィルムは、3
0μm厚みのフィルムで測定した際、ヘーズ(JIS
K7105で測定)が1〜50(%)、フィルム中に存
在する長径30μm以上0.20mm未満のフィッシュ
アイ存在密度が40個/10cm2 以下、長径0.20
mm以上のフィッシュアイ存在密度が1.0個/1.0
2 以下を満たすものである。
The protect film of the present invention obtained by molding polyethylene as described above is 3
When measured with a 0 μm thick film, haze (JIS
(Measured by K7105) is 1 to 50 (%), the presence density of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm in the film is 40 pieces / 10 cm 2 or less, and a major axis of 0.20.
The existence density of fish eyes of 1.0 mm or more is 1.0 / 1.0
It satisfies m 2 or less.

【0045】ここで、フィッシュアイとはフィルム透過
光から観察される光学的不均一領域を意味するものであ
る。大径のフィッシュアイ、たとえば80μm程度のも
のは異物であることが多い。しかし微小径のフィッシュ
アイ、たとえば30μm程度のものは、微小径であるた
めにそれ自身の解明が不十分なこともあり、その成因は
不明であって解決策も不十分である。まして透過光で観
察される光学的不均一領域としての微小径フィッシュア
イが、前記エアーボイド発生に直接相関するとは予想さ
れ得ない。
Here, the fish eye means an optically non-uniform region observed from the light transmitted through the film. Large-sized fish eyes, for example, those having a diameter of about 80 μm are often foreign substances. However, a fish eye having a minute diameter, for example, a fish eye having a diameter of about 30 μm may not be sufficiently elucidated due to its minute diameter, and the cause thereof is unknown and its solution is insufficient. Furthermore, it cannot be expected that the small-diameter fish eyes as an optically non-uniform region observed in transmitted light will directly correlate with the occurrence of air voids.

【0046】長径0.20mm以上のフィッシュアイ
(大フィッシュアイ)は、酸化劣化樹脂等が主な要因で
ある。これらはフィルム平滑性に重大な影響を与えるた
め可能な限り存在しないのが好ましく、具体的には1.
0個/1.0m2 以下、好ましくは0.5個/1.0m
2 以下、さらに好ましくは0.3個/1.0m2 以下で
ある。また、大フィッシュアイの長径の上限は、重大な
外観不良・密着不良を防止する観点から、1.5mm程
度にとどめるべきである。
Fish-eyes having a major axis of 0.20 mm or more (large fish-eyes) are mainly caused by oxidative deterioration resin and the like. Since they have a significant influence on the film smoothness, it is preferable that they are not present as much as possible.
0 pieces / 1.0 m 2 or less, preferably 0.5 pieces / 1.0 m
2 or less, more preferably 0.3 / 1.0 m 2 or less. Further, the upper limit of the major axis of the large fish eye should be limited to about 1.5 mm from the viewpoint of preventing serious appearance defects and poor adhesion.

【0047】一方、長径0.20mm未満のフィッシュ
アイは、長径30μm以上0.20mm未満のフィッシ
ュアイ(小フィッシュアイ)の個数が40個/10cm
2 以下、好ましくは10個/10cm2 以下、更に好ま
しくは2個/10cm2 以下とする。小フィッシュアイ
の個数の下限は、当該フィルムの製造条件管理上等か
ら、通常小フィッシュアイが0.05個/10cm2
ある。上記小フィッシュアイの個数範囲は、直径が80
μm以上のフィッシュアイの個数としては5個/m2
下の個数のものに略相当する。フィッシュアイの個数は
その径が減少するにつれて個数が累進的に増加すること
が認められ、それ故たとえ80μmのフィッシュアイの
個数が0(ゼロ)であっても、30μm程度のフィッシ
ュアイはかなりの個数が存在するのが通常である(30
μmの微小フィッシュアイはその測定法が難しいことを
差し引いても)。
On the other hand, as for the fish eyes having a major axis of less than 0.20 mm, the number of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm (small fish eyes) is 40/10 cm.
2 or less, preferably 10 pieces / 10 cm 2 or less, and more preferably 2 pieces / 10 cm 2 or less. The lower limit of the number of small fish eyes is usually 0.05 small fish eyes / 10 cm 2 from the viewpoint of production condition management of the film. The number range of the small fish eyes is 80
The number of fish eyes of μm or more is approximately equal to or less than 5 / m 2 . It was observed that the number of fish eyes increased progressively as the diameter decreased, so even if the number of fish eyes of 80 μm is 0 (zero), fish eyes of about 30 μm have a considerable amount. Usually there are a number (30
Even if it is difficult to measure the microscopic fisheye of μm, the measurement method is difficult).

【0048】なお、本発明におけるフィルムのフィッシ
ュアイの存在密度は、簡易クリーンルーム(清浄度:F
ederal Standard 209Dのクラス1
0000)内で、空冷式インフレーションフィルム成形
機(モダンマシナリー社製、押出機バレル径45mm、
ダイ径80mm)を用い、押出機の温度設定をシリンダ
ー部130〜150℃、アダプター・ダイ部150℃、
引取り速度20m/min、ブローアップ比2.0の条
件で成形した、厚さ30μmのフィルムから求めるもの
である。
The density of fish eyes in the film of the present invention is determined by a simple clean room (cleanliness: F
ederal standard 209D class 1
0000), an air-cooled blown film forming machine (Modern Machinery, extruder barrel diameter 45 mm,
Using a die diameter of 80 mm, set the temperature of the extruder to 130 to 150 ° C for the cylinder section, 150 ° C for the adapter / die section,
It is obtained from a film having a thickness of 30 μm formed under the conditions of a take-up speed of 20 m / min and a blow-up ratio of 2.0.

【0049】また、フィッシュアイの測定方法は、以下
のとおりである。
The fisheye measuring method is as follows.

【0050】長径0.20mm以上の大フィッシュアイ
は、フィルム成形機に取り付けたレーザーカウンター又
はCCDカメラによるインライン測定によるものであ
り、長径30μm以上0.20mm未満の小フィッシュ
アイの測定は、解像度1600dpiのCCDスキャナ
を使用し透過モードでの画像をオフライン解析する方法
を基準とする。測定面積は、長径30μm以上0.20
mm未満の小フィッシュアイ測定の場合30cm2
上、長径0.20mm以上の大フィッシュアイ測定の場
合100m2 以上とし、それぞれの実測カウント数を所
定の単位面積あたりに換算する。
The large fish eyes having a major axis of 0.20 mm or more are measured by in-line measurement with a laser counter or a CCD camera attached to a film molding machine, and the small fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm have a resolution of 1600 dpi. The method is based on the method of off-line analysis of an image in the transmission mode using the CCD scanner of. The measurement area is 30 μm or longer and 0.20
In the case of measuring a small fish eye of less than mm, it is set to 30 cm 2 or more, and in the case of measuring a large fish eye of 0.20 mm or more in major axis, it is set to 100 m 2 or more.

【0051】次に、本発明のプロテクトフィルムの使用
を例示する。既に説明したように、ドライフィルムレジ
ストは、ポリエチレンテレフタレート等からなるベース
フィルム上に、感光性樹脂層のレジスト層が形成され、
さらにその上面に、レジスト層に直接接するプロテクト
フィルムとしてのポリエチレンフィルムが積層された構
成となっている。用いるレジストとしては、ドライフィ
ルムレジストとして使用できるものならば従来公知のい
ずれのものも用いることができる。フィルムレジスト層
の厚みは、薄いほど解像度が向上するので好ましい。特
に解像度の点から近年はより厚みの薄いレジスト層が要
求されている。本発明のプロテクトフィルムは、特に3
0μm以下、好ましくは25μm以下の厚みのレジスト
層に好適に積層して用いることができる。厚みの下限値
は、特に限定されないが、通常は0.1μm以上、好ま
しくは1μm以上である。
Next, the use of the protect film of the present invention will be exemplified. As described above, the dry film resist is formed by forming the resist layer of the photosensitive resin layer on the base film made of polyethylene terephthalate or the like,
Further, a polyethylene film as a protect film which is in direct contact with the resist layer is laminated on the upper surface thereof. Any conventionally known resist can be used as long as it can be used as a dry film resist. A thinner film resist layer is preferable because the resolution is improved. Particularly, from the viewpoint of resolution, a thinner resist layer is required in recent years. The protective film of the present invention is particularly suitable for 3
It can be suitably used by laminating on a resist layer having a thickness of 0 μm or less, preferably 25 μm or less. The lower limit of the thickness is not particularly limited, but is usually 0.1 μm or more, preferably 1 μm or more.

【0052】ベースフィルム上にレジストフィルムを形
成した後、ポリエチレンフィルムを積層する方法は、従
来公知の方法によることができる。
A method of laminating a polyethylene film after forming a resist film on the base film can be a conventionally known method.

【0053】かくして得られるフィルムレジストとポリ
エチレンフィルムとの積層体、具体的にはプロテクトフ
ィルム/フィルムレジスト/ベースフィルムの構成の積
層体を用いるレジストプロセスの概略について次に述べ
る。
An outline of the resist process using the laminate of the film resist thus obtained and the polyethylene film, specifically, the laminate of the constitution of protect film / film resist / base film will be described below.

【0054】すなわち、まずフィルムレジストとして
は、従来公知のいずれのフィルムレジストも採用するこ
とができる。たとえば、前記した特開平11−1538
61号公報で例示されているような、(a)アクリル酸
またはメタクリル酸及びこれらのアルキルエステルを構
成モノマーとして共重合してなるバインダーポリマー、
(b)分子内に少なくとも一つの光重合可能なエチレン
性不飽和基を有するモノマー及び(c)光重合開始剤を
含有してなる感光性組成物からなるフィルムレジストで
あることができる。これらは適宜に市販品を利用するこ
とができる。
That is, first, any conventionally known film resist can be adopted as the film resist. For example, the above-mentioned Japanese Patent Laid-Open No. 11-1538.
(A) a binder polymer obtained by copolymerizing acrylic acid or methacrylic acid and an alkyl ester thereof as a constituent monomer, as exemplified in JP-A-61-
The film resist may be a photosensitive composition containing (b) a monomer having at least one photopolymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule and (c) a photopolymerization initiator. As these, commercially available products can be appropriately used.

【0055】また、ベースフィルム(支持フィルム)
は、ポリエステルフィルム、たとえばポリエチレンテレ
フタレートからなるフィルムを用いることができる。そ
の厚みは、特に限定されないが、通常は1〜30μmの
範囲から選択される。ベースフィルムもまた適宜に市販
品を利用することができる。
Also, a base film (supporting film)
Can be a polyester film, for example, a film made of polyethylene terephthalate. The thickness is not particularly limited, but is usually selected from the range of 1 to 30 μm. As the base film, a commercially available product can be appropriately used.

【0056】上記プロテクトフィルム/フィルムレジス
ト/ベースフィルムの構成の積層体を、そのプロテクト
フィルムを剥離しながら、レジスト層を金属基板の一面
にベースフィルムが最上層となるようにしながら金属面
にレジスト層を貼着する。すなわち、プロテクトフィル
ムを剥離したレジスト面が金属基板面に接するように貼
着する。なお、金属基板面は予め適宜に研磨される。貼
着には適宜に圧着ロールを用いることができる。なお、
剥離したプロテクトフィルムは適宜に廃棄またはリサイ
クルして使用することができる。また、高圧ラジカル重
合法によるポリエチレンはレジスト面に密着するが、レ
ジストへの接着性は高くないので剥離性は良好である。
従って、剥離の際にはレジストがプロテクトフィルム上
に残ることも少ない。
The laminate having the above-mentioned protect film / film resist / base film was peeled off from the protect film to form a resist layer on one surface of the metal substrate, with the base film being the uppermost layer. Affix. That is, the protective film is attached so that the resist surface peeled off is in contact with the metal substrate surface. The surface of the metal substrate is appropriately polished in advance. A pressure-bonding roll can be appropriately used for attachment. In addition,
The peeled protective film can be discarded or recycled as appropriate for use. Polyethylene obtained by the high-pressure radical polymerization method adheres to the resist surface, but the adhesiveness to the resist is not so high that the releasability is good.
Therefore, the resist rarely remains on the protect film during peeling.

【0057】次いで、所望のパターンを有するホトマス
クを介して上記フィルムレジストに紫外線、その外の活
性線を照射し、パターンに対応してレジスト層の一部を
光硬化または光分解させ、残部のレジスト層を未変化状
態のままとする。この後、有機溶剤、アルカリ水溶液な
どの現像液を用い、ポジ型レジストでは未硬化部分のレ
ジスト層を溶解除去するとともに、光硬化されたレジス
ト層の部分を残す。こうして基板上に所望のパターンの
硬化レジスト層を形成することができる。その後必要に
応じてエッチングすることにより、金属基板上に回路等
を形成する。
Then, the film resist is irradiated with ultraviolet rays and active rays other than the above through a photomask having a desired pattern, and a part of the resist layer is photocured or photolyzed in accordance with the pattern, and the remaining resist. Leave the layers unchanged. After that, a developing solution such as an organic solvent or an alkaline aqueous solution is used to dissolve and remove the resist layer in the uncured portion of the positive resist, while leaving the portion of the photocured resist layer. Thus, a cured resist layer having a desired pattern can be formed on the substrate. After that, a circuit or the like is formed on the metal substrate by etching if necessary.

【0058】本発明のプロテクトフィルムは、直接接す
るフィルムレジスト面に対して物理的、化学的影響を及
ぼすことはなく、前記エアーボイドの発生が少なく、そ
の結果としてパターン形成の際にパターン欠損のある硬
化レジスト層を生じることが少ない。そのため、レジス
トフィルムに直接接する構成のプロテクトフィルムとし
て好適である。また、前記公報が示すように、レジスト
厚みが薄い方がかかるパターン欠損等の欠陥が生じ易い
ところ、本発明のプロテクトフィルムによれば、30μ
m以下、0.1μm以上、好ましくは1〜25μmとい
う薄い厚みのドライフィルムレジストに積層されて用い
る場合でも前記エアーボイドの発生が少なく、その結果
としてパターン形成の際にパターン欠損のある硬化レジ
スト層を生じることが少ない。本発明のプロテクトフィ
ルムはドライフィルムレジスト以外にも同様の保護を要
する適宜の物品の保護に用いられる。
The protect film of the present invention has no physical or chemical influence on the film resist surface which is in direct contact with the film, the occurrence of air voids is small, and as a result, pattern defects occur during pattern formation. Less likely to produce a cured resist layer. Therefore, it is suitable as a protect film that is in direct contact with the resist film. Further, as disclosed in the above publication, the thinner the resist thickness is, the more easily defects such as pattern defects are generated.
m or less, 0.1 μm or more, preferably 1 to 25 μm, even when used by being laminated on a thin dry film resist, the occurrence of the air voids is small, and as a result, a cured resist layer having a pattern defect during pattern formation. Rarely occurs. The protect film of the present invention is used for protection of an appropriate article requiring similar protection other than the dry film resist.

【0059】[0059]

【実施例】以下本発明を具体例で説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to specific examples.

【0060】実施例1 攪拌槽型反応器をもつ高圧法低密度ポリエチレン製造設
備を用い、ラジカル重合開始剤の存在下、反応温度最低
部210℃〜最高部265℃、反応圧力196MPa、
反応器内平均滞留時間17秒、高圧圧縮機出口より下流
で超高圧圧縮機入口より上流の部位から2,6−ジt−
ブチル−4−メチルフェノールのイソパラフィン溶液
(濃度150g/l)を注入し、超高圧圧縮機出口にお
ける2,6−ジt−ブチル−4−メチルフェノールのエ
チレン中濃度が170重量ppmとなる条件で、ポリエ
チレンを製造した。
Example 1 Using a high-pressure low-density polyethylene production facility having a stirred tank reactor, in the presence of a radical polymerization initiator, the reaction temperature was from 210 ° C. to 265 ° C. at the lowest temperature, and the reaction pressure was 196 MPa.
The average residence time in the reactor was 17 seconds, 2,6-di-t-from a site downstream of the high pressure compressor outlet and upstream of the ultra high pressure compressor inlet.
Under the condition that an isoparaffin solution of butyl-4-methylphenol (concentration 150 g / l) was injected and the concentration of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol in ethylene at the outlet of the ultrahigh pressure compressor was 170 ppm by weight. , Manufactured polyethylene.

【0061】なお製造にあたっては、目的製品製造前に
MFR、密度がほぼ同一な類似製品を8時間以上生産
し、プロセス系内の充分な置換を行った。また、樹脂ペ
レット化後から袋詰めの間に通過する工程個所について
は、分子量の異なる残留ポリエチレンが混入しないよう
充分な清掃を実施し、袋詰め時も空気中の塵埃混入を防
止すべくできる限りの防塵上の配慮を行った。
Prior to the production of the target product, a similar product having substantially the same MFR and density was produced for 8 hours or more, and sufficient replacement in the process system was carried out. In addition, as for process points that pass between resin pelletization and bagging, perform thorough cleaning to prevent residual polyethylene with different molecular weights from entering and to prevent dust contamination in the air during bagging as much as possible. Consideration for dust prevention was made.

【0062】この結果、製品として約40Tのロットを
生産した。ロット内ではドライブレンドによる均一化操
作が行われるので、物性、品質は一定である。
As a result, a lot of about 40T was produced as a product. Since the homogenization operation is performed by dry blending within the lot, the physical properties and quality are constant.

【0063】取扱過程での塵埃混入防止、成形機内滞留
物の事前清掃等に留意しつつ、清浄度クラス10000
(Federal Stnandard 209D)の
簡易クリーンルーム内で、空冷式インフレーションフィ
ルム成形機(モダンマシナリー社製、押出機バレル径4
5mm、フルフライトスクリュー、装着フィルター12
0メッシュ、ダイ径80mm)を用い、押出機の温度設
定をシリンダー部130〜150℃、アダプター・ダイ
部150℃、引取り速度20m/min、ブローアップ
比2.0の条件で、厚さ30μmのフィルムを製膜し
た。
Cleanliness class 10000, paying attention to prevention of dust contamination in the handling process and prior cleaning of accumulated matters in the molding machine.
(Federal Standard 209D) in a simple clean room, air-cooled inflation film molding machine (Modern Machinery, extruder barrel diameter 4)
5mm, full flight screw, wearing filter 12
0 mesh, die diameter 80 mm), the temperature of the extruder is set to 130 to 150 ° C., the adapter / die portion is 150 ° C., the take-up speed is 20 m / min, the blow-up ratio is 2.0, and the thickness is 30 μm. Was formed into a film.

【0064】長径0.20mm以上の大フィッシュアイ
の存在密度は、成形中にインラインでレーザーフィッシ
ュアイカウンター(安川電機製Laser Eye;T
PLS−J04T型)にて個数を計測し、所定単位面積
あたりに換算した。1回の測定あたり320m2 の面積
について行い、この測定を各製品ロットにつき3回行い
平均値を計算した。
The existence density of large fish eyes having a major axis of 0.20 mm or more is determined by in-line laser fish eye counter (Laser Eye;
The number was measured with a PLS-J04T type) and converted per a predetermined unit area. An area of 320 m 2 was measured once, and this measurement was performed three times for each product lot to calculate the average value.

【0065】長径30μm以上0.20mm未満の小フ
ィッシュアイの存在密度は、得られたフィルムをA4サ
イズ程度にカットし、CCDスキャナ(EPSON E
S−2000)を用いて任意の部位を解像度1600d
piの透過モードで走査し、得られた画像を解析して所
定面積に換算して決定した。一回の測定あたり33.3
cm2 の面積について行い、フィルムサンプルを替えて
計3回測定し平均値を計算した。フィッシュアイ存在密
度の測定結果を表1に示す。
The existence density of small fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm was determined by cutting the obtained film into about A4 size and using a CCD scanner (EPSON E
S-2000) is used to set the resolution of any part to 1600d
Scanning was performed in the transmission mode of pi, and the obtained image was analyzed and converted into a predetermined area for determination. 33.3 per measurement
The measurement was performed for an area of cm 2 , and the film sample was changed, and a total of 3 measurements were performed, and the average value was calculated. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0066】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅20μmの
描画パターンに充分対応可能であった。
When this product was applied to a dry film resist protect film, it was possible to sufficiently cope with a drawing pattern having a minimum line width of 20 μm.

【0067】なお、上記描画パターンの形成とその判定
は以下のようにして行った(以下の実施例、比較例もこ
の方法に準じて行った)。
The formation of the drawing pattern and its determination were carried out as follows (the following Examples and Comparative Examples were also carried out according to this method).

【0068】すなわち、16μmのポリエチレンテレフ
タレートフィルム(支持フィルム)/市販フィルムレジ
スト(20μm)のレジストの上に、上記ポリエチレン
フィルム(厚み30μm)をプロテクトフィルムとして
積層した。
That is, the above polyethylene film (thickness 30 μm) was laminated as a protect film on the resist of 16 μm polyethylene terephthalate film (supporting film) / commercial film resist (20 μm).

【0069】この3層構造の積層フィルムからプロテク
トフィルムを剥離しながら、銅張り積層板にラミネート
した。その後、最小線幅20μmの線画パターンマスク
で常法により露光、現像、エッチングをして、銅板上に
線画を形成させた。形成した線画を顕微鏡観察すること
により線画による描画パターンへの対応性を判定した。
The protective film was peeled off from the laminated film having the three-layer structure and laminated on a copper-clad laminated plate. Then, exposure, development and etching were carried out by a conventional method with a line drawing pattern mask having a minimum line width of 20 μm to form a line drawing on the copper plate. By observing the formed line drawing with a microscope, the compatibility with the drawing pattern by the line drawing was determined.

【0070】実施例2 2,6−ジt−ブチル−4−メチルフェノールのイソパ
ラフィン溶液を系内に注入しない以外は実施例1に同じ
条件・方法で原料ポリエチレンを製造(約80T)し、
フィルム成形・測定を行った。フィッシュアイ存在密度
の測定結果を表1に示す。
Example 2 A raw material polyethylene was produced (about 80 T) under the same conditions and method as in Example 1, except that the isoparaffin solution of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol was not injected into the system.
Film formation and measurement were performed. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0071】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅30μmの
線画による描画パターンに充分対応可能であった。しか
し最小線幅20μmでは一部不具合が認められた。
When this product was applied to a protective film of a dry film resist, it was possible to sufficiently cope with a drawing pattern by a line drawing having a minimum line width of 30 μm. However, some defects were recognized at the minimum line width of 20 μm.

【0072】実施例3 2,6−ジt−ブチル−4−メチルフェノールのイソパ
ラフィン溶液を系内に注入せず、反応圧力を173MP
aとした以外は実施例1に同じ条件・方法で原料ポリエ
チレンを製造(約80T)し、フィルム成形・測定を行
った。フィッシュアイ存在密度の測定結果を表1に示
す。
Example 3 An isoparaffin solution of 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol was not injected into the system, and the reaction pressure was 173MP.
A raw material polyethylene was produced (about 80 T) under the same conditions and methods as in Example 1 except that a was used, and a film was formed and measured. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0073】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅75μmの
線画による描画パターンであれば対応可能であった。ま
た、アクリル板等用の汎用プロテクトフィルム用途(以
下同じ)では好適に使用できた。
When this was applied to a protective film of a dry film resist, it was possible to cope with a drawing pattern with a line drawing having a minimum line width of 75 μm. Further, it can be preferably used for general-purpose protect film applications for acrylic plates and the like (hereinafter the same).

【0074】実施例4 管型反応器をもつ高圧法低密度ポリエチレン製造設備を
用い、ラジカル重合開始剤の存在下、反応温度最低部1
95℃〜最高部275℃、反応圧力240MPaで、実
施例1と同様な対策を実施してポリエチレンを製造(約
50T)、実施例1に同じ条件・方法でフィルム成形・
測定を行った。フィッシュアイ存在密度の測定結果を表
1に示す。
Example 4 Using a high-pressure process low-density polyethylene production facility having a tubular reactor, in the presence of a radical polymerization initiator, the reaction temperature was at least 1 part.
At 95 ° C to 275 ° C at the highest temperature and at a reaction pressure of 240 MPa, the same measures as in Example 1 were carried out to produce polyethylene (about 50T), and the film was formed under the same conditions and methods as in Example 1.
The measurement was performed. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0075】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅75μmの
線画による描画パターンであれば対応可能であった。ま
た、汎用プロテクトフィルム用途では好適に使用でき
た。
When this was applied to a protective film of a dry film resist, it was possible to cope with a drawing pattern with a line drawing having a minimum line width of 75 μm. Further, it could be suitably used for general-purpose protect film applications.

【0076】比較例1 反応圧力を150MPaとした以外は、実施例3に準
じ、ポリエチレン製造(約40T)、フィルム成形、フ
ィッシュアイ測定を行った。フィッシュアイ存在密度の
測定結果を表1に示す。
Comparative Example 1 Polyethylene production (about 40 T), film molding, and fisheye measurement were carried out according to Example 3 except that the reaction pressure was 150 MPa. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0077】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅100μm
以上の低級用途でも一部不具合を生じた。
When this was applied to a dry film resist protect film, the minimum line width was 100 μm.
Some problems occurred even in the above low-grade applications.

【0078】比較例2 反応温度最低部175℃〜最高部305℃とした以外
は、実施例3に準じ、ポリエチレン製造(約40T)、
フィルム成形、フィッシュアイ測定を行った。フィッシ
ュアイ存在密度の測定結果を表1に示す。
Comparative Example 2 Polyethylene production (about 40 T) was carried out in accordance with Example 3 except that the reaction temperature was 175 ° C. at the lowest temperature and 305 ° C. at the highest temperature.
Film molding and fisheye measurement were performed. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0079】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅100μm
以上の低級用途でも一部不具合を生じた。
When this was applied to a dry film resist protect film, the minimum line width was 100 μm.
Some problems occurred even in the above low-grade applications.

【0080】比較例3 反応器内平均滞留時間を34秒とした以外は、実施例3
に準じ、ポリエチレン製造(約30T)、フィルム成
形、フィッシュアイ測定を行った。フィッシュアイ存在
密度の測定結果を表1に示す。
Comparative Example 3 Example 3 was repeated except that the average residence time in the reactor was 34 seconds.
Polyethylene production (about 30 T), film molding, and fish eye measurement were carried out according to. Table 1 shows the measurement results of the fish eye abundance.

【0081】このものをドライフィルムレジストのプロ
テクトフィルムに適用したところ、最小線幅100μm
以上の描画パターンであれば対応可能であった。また、
汎用プロテクトフィルム用途では好適に使用できた。
When this product was applied to a dry film resist protect film, the minimum line width was 100 μm.
The above drawing patterns could be used. Also,
It was suitable for use in general-purpose protect films.

【0082】[0082]

【表1】 [Table 1]

【0083】[0083]

【発明の効果】30μm以下の微小フィッシュアイの存
在やその個数は、フィルムの成形方法やその成形条件等
により変えることは難しく、ポリエチレンそのものの本
質的な性質から変える必要がある。これは、30μm以
下の微小フィッシュアイの生成原因が未だ解明されてい
ないことに起因する。
The presence and the number of minute fish eyes having a size of 30 μm or less are difficult to change depending on the film forming method and the forming conditions thereof, and it is necessary to change from the essential properties of polyethylene itself. This is because the cause of generation of fine fish eyes of 30 μm or less has not been clarified yet.

【0084】本発明においては、均質相での重合を可能
とする高圧の圧力下でエチレンを重合させ、しかもその
際、重合禁止剤を共存させるという重合方法を採用する
ことにより、薄いレジスト層厚みであっても有効な優れ
たポリエチレンフィルムからなるプロテクトフィルムを
提供することができる。
In the present invention, by adopting a polymerization method in which ethylene is polymerized under a high pressure which enables polymerization in a homogeneous phase, and at the same time, a polymerization inhibitor is allowed to coexist, a thin resist layer thickness is obtained. Even if it is, it is possible to provide an effective protective film made of an excellent polyethylene film.

【0085】この結果、本発明のプロテクトフィルムを
用いれば、最小線幅20μmの描画パターンでも十分対
応可能である。
As a result, by using the protect film of the present invention, even a drawing pattern having a minimum line width of 20 μm can be sufficiently dealt with.

【0086】また高圧ラジカル重合法による低密度ポリ
エチレンは、柔軟でそれ故フィルムレジスト面への密着
性が良いのでプロテクト機能を発揮するのに都合が良
く、また密着性が良いにもかかわらず適度にフィルムレ
ジストとの剥離性も良いので、金属基板へのラミネート
作業を容易に行うことができる。従って、本発明のポリ
エチレンフィルムはプロテクトフィルムとして好適であ
る。
Low-density polyethylene produced by the high-pressure radical polymerization method is flexible and therefore has good adhesion to the film resist surface, and is therefore convenient for exhibiting a protective function. Since the peelability from the film resist is good, the work of laminating on the metal substrate can be easily performed. Therefore, the polyethylene film of the present invention is suitable as a protect film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 23:06 C08L 23:06 Fターム(参考) 2H025 AB11 DA02 4F071 AA15 AA17 AA18 AA82 AA88 AC07 AC11 AH04 AH19 BC01 BC02 BC11 BC12 BC13 BC14 4J011 AA05 AB02 AB04 DB19 DB35 NA18 NA23 NB03 NB04 NC02 NC07 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) // C08L 23:06 C08L 23:06 F term (reference) 2H025 AB11 DA02 4F071 AA15 AA17 AA18 AA82 AA88 AC07 AC11 AH04 AH19 BC01 BC02 BC11 BC12 BC13 BC14 4J011 AA05 AB02 AB04 DB19 DB35 NA18 NA23 NB03 NB04 NC02 NC07

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧し、
ついでラジカル重合開始剤の存在下、反応温度190℃
〜300℃でエチレンを重合するに際し、前記超高圧圧
縮機出口におけるエチレンに対する濃度が5〜1000
重量ppmとなる割合のラジカル重合禁止剤を反応系内
に共存させることにより得られるポリエチレンからなる
ことを特徴とするプロテクトフィルム。
1. The pressure of ethylene is boosted by an ultra-high pressure compressor,
Then, in the presence of a radical polymerization initiator, the reaction temperature is 190 ° C.
When polymerizing ethylene at ˜300 ° C., the concentration of ethylene at the outlet of the ultra high pressure compressor is 5˜1000.
A protective film comprising polyethylene obtained by allowing a radical polymerization inhibitor in a proportion of ppm by weight to coexist in a reaction system.
【請求項2】 エチレンを重合する際の反応圧力が、1
67MPa以上である請求項1記載のプロテクトフィル
ム。
2. The reaction pressure for polymerizing ethylene is 1
The protect film according to claim 1, which has a pressure of 67 MPa or more.
【請求項3】 ラジカル重合禁止剤が、フェノール系ま
たはキノン系化合物である請求項1または2記載のプロ
テクトフィルム。
3. The protect film according to claim 1, wherein the radical polymerization inhibitor is a phenol-based or quinone-based compound.
【請求項4】 エチレンを重合する際に攪拌槽型反応器
を用い、反応器内平均滞留時間が5〜30秒となる条件
を用いる請求項1から3のいずれか1項記載のプロテク
トフィルム。
4. The protective film according to claim 1, wherein a stirring tank reactor is used when ethylene is polymerized, and conditions under which the average residence time in the reactor is 5 to 30 seconds are used.
【請求項5】 0.3〜30(g/10分)のMFRお
よび0.913〜0.930(g/cm3 )の密度を有
し、30μm厚みのフィルムとして、ヘーズが1〜50
(%)、フィルム中に存在する長径30μm以上0.2
0mm未満のフィッシュアイ存在密度が40個/10c
2 以下、長径0.20mm以上のフィッシュアイ存在
密度が1.0個/1.0m2 以下であることを特徴とす
るポリエチレンフィルムからなることを特徴とするプロ
テクトフィルム。
5. A 30 μm thick film having an MFR of 0.3 to 30 (g / 10 minutes) and a density of 0.913 to 0.930 (g / cm 3 ) and a haze of 1 to 50.
(%), Major axis present in the film 30 μm or more 0.2
Presence of fisheye of less than 0 mm is 40 pieces / 10c
m 2 or less, the protective film characterized by comprising a polyethylene film, wherein the fish-eye the density of more than the major diameter 0.20mm is 1.0 or /1.0M 2 below.
【請求項6】 請求項1から5のいずれか1項記載のプ
ロテクトフィルムが被保護部品の表面(但しフィルムレ
ジストの表面は除く)に直接積層されてなる積層体。
6. A laminate in which the protect film according to claim 1 is directly laminated on the surface of a protected component (excluding the surface of a film resist).
【請求項7】 超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧し、
ついで重合開始剤の存在下、反応温度190℃〜300
℃でエチレンを重合するに際し、前記超高圧圧縮機出口
におけるエチレンに対する濃度が5〜1000重量pp
mとなる割合のラジカル重合禁止剤を反応系内に共存さ
せることにより得られるポリエチレンを製膜することを
特徴とするプロテクトフィルムの製造方法。
7. The pressure of ethylene is boosted by an ultra-high pressure compressor,
Then, in the presence of a polymerization initiator, the reaction temperature is 190 ° C to 300 ° C.
When polymerizing ethylene at ℃, the concentration of ethylene at the outlet of the ultra-high pressure compressor is 5 to 1000 weight pp.
A method for producing a protect film, which comprises forming a polyethylene film obtained by allowing a radical polymerization inhibitor in a proportion of m to coexist in a reaction system.
【請求項8】 反応圧力167MPa以上でエチレンを
重合する請求項7記載のプロテクトフィルムの製造方
法。
8. The method for producing a protect film according to claim 7, wherein ethylene is polymerized at a reaction pressure of 167 MPa or more.
【請求項9】 重合禁止剤がフェノール系またはキノン
系化合物である請求項7または8記載のプロテクトフィ
ルムの製造方法。
9. The method for producing a protect film according to claim 7, wherein the polymerization inhibitor is a phenol type or quinone type compound.
【請求項10】 攪拌槽型反応器を用い、反応器内平均
滞留時間が5〜30秒となるような条件でエチレンを重
合する請求項7から9のいずれか1項記載のプロテクト
フィルムの製造方法。
10. The process for producing a protective film according to claim 7, wherein ethylene is polymerized using a stirred tank reactor under conditions such that the average residence time in the reactor is 5 to 30 seconds. Method.
【請求項11】 得られるポリエチレンが、0.3〜3
0(g/10分)のMFRおよび0.913〜0.93
0(g/cm3 )の密度を有し、30μm厚みのフィル
ムとして、ヘーズが1〜50(%)、フィルム中に存在
する長径30μm以上0.20mm未満のフィッシュア
イ存在密度が40個/10cm2 以下、長径0.20m
m以上のフィッシュアイ存在密度が1.0個/1.0m
2 以下であることを特徴とする請求項7から10のいず
れか1項記載のプロテクトフィルムの製造方法。
11. The polyethylene obtained is 0.3 to 3
0 (g / 10 min) MFR and 0.913-0.93
As a film having a density of 0 (g / cm 3 ) and a thickness of 30 μm, haze is 1 to 50 (%), and the presence density of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm in the film is 40 pieces / 10 cm. 2 or less, major axis 0.20 m
The presence density of fish eyes of m or more is 1.0 / 1.0 m
It is 2 or less, The manufacturing method of the protect film of any one of Claim 7 to 10 characterized by the above-mentioned.
【請求項12】 超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧
し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度190℃〜3
00℃、反応圧力167MPa以上でエチレンを重合
し、得られたポリエチレンを製膜して、0.3〜30
(g/10分)のMFRおよび0.913〜0.930
(g/cm3 )の密度を有し、30μm厚みのフィルム
として、ヘーズが1〜50(%)、フィルム中に存在す
る長径30μm以上0.20mm未満のフィッシュアイ
存在密度が40個/10cm2 以下、長径0.20mm
以上のフィッシュアイ存在密度が1.0個/1.0m2
以下であるポリエチレンフィルムとし、このポリエチレ
ンフィルムをプロテクトフィルムとして被保護物品の表
面(但しフィルムレジストの表面は除く)に直接積層す
ることを特徴とする積層体の製造方法。
12. The pressure of ethylene is increased by an ultra-high pressure compressor, and then the reaction temperature is 190 ° C. to 3 in the presence of a polymerization initiator.
Polymerize ethylene at 00 ° C. and a reaction pressure of 167 MPa or more, form a film of the obtained polyethylene, and form 0.3 to 30.
(G / 10 min) MFR and 0.913-0.930
As a film having a density of (g / cm 3 ), a thickness of 30 μm, a haze of 1 to 50 (%), and a density of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm present in the film of 40 pieces / 10 cm 2 Below, major axis 0.20 mm
The above fish eye density is 1.0 / 1.0 m 2
A method for producing a laminate, comprising the following polyethylene film, which is directly laminated on the surface of a protected article (excluding the surface of the film resist) as a protective film.
【請求項13】 超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧
し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度190℃〜3
00℃でエチレンを重合するに際し、前記超高圧圧縮機
出口におけるエチレンに対する濃度が5〜1000重量
ppmとなる割合のラジカル重合禁止剤を反応系内に共
存させることにより得られたポリエチレンを製膜して、
0.3〜30(g/10分)のMFRおよび0.913
〜0.930(g/cm3 )の密度を有し、30μm厚
みのフィルムとして、ヘーズが1〜50%、フィルム中
に存在する長径30μm以上0.20mm未満のフィッ
シュアイ存在密度が40個/10cm2 以下、長径0.
20mm以上のフィッシュアイ存在密度が1.0個/m
2 以下であるポリエチレンフィルムとし、このポリエチ
レンフィルムをプロテクトフィルムとして被保護部質の
表面(但しフィルムレジストの表面は除く)に直接積層
することを特徴とする積層体の製造方法。
13. The pressure of ethylene is increased by an ultra-high pressure compressor, and then the reaction temperature is 190 ° C. to 3 in the presence of a polymerization initiator.
When polymerizing ethylene at 00 ° C., a polyethylene film obtained by coexisting in the reaction system a radical polymerization inhibitor in a ratio such that the concentration of ethylene at the outlet of the ultrahigh pressure compressor is 5 to 1000 ppm by weight is formed. hand,
MFR of 0.3-30 (g / 10 min) and 0.913
As a film having a density of ˜0.930 (g / cm 3 ), a thickness of 30 μm, a haze of 1 to 50%, and a density of fish eyes having a major axis of 30 μm or more and less than 0.20 mm in the film of 40 / 10 cm 2 or less, major axis 0.
Presence of fish eyes of 20 mm or more is 1.0 / m
A method for producing a laminate, which comprises forming a polyethylene film of 2 or less, and directly laminating this polyethylene film as a protect film on the surface of the protected material (excluding the surface of the film resist).
【請求項14】 超高圧圧縮機によりエチレンを昇圧
し、ついで重合開始剤の存在下、反応温度190℃〜3
00℃、反応圧力167MPa以上でエチレンを重合す
るに際し、前記超高圧圧縮機出口におけるエチレンに対
する濃度が5〜1000重量ppmとなる割合のラジカ
ル重合禁止剤を反応系内に共存させることにより得られ
たポリエチレンを製膜して、0.3〜30(g/10
分)のMFRおよび0.913〜0.930(g/cm
3 )の密度を有し、30μm厚みのフィルムとして、ヘ
ーズが1〜50%、フィルム中に存在する長径30μm
以上0.20mm未満のフィッシュアイ存在密度が40
個/10cm2 以下、長径0.20mm以上のフィッシ
ュアイ存在密度が1.0個/m2 以下であるポリエチレ
ンフィルムとし、このポリエチレンフィルムをプロテク
トフィルムとして被保護物品の表面(但しフィルムレジ
ストの表面は除く)に直接積層することを特徴とする積
層体の製造方法。
14. The pressure of ethylene is increased by an ultrahigh pressure compressor, and then the reaction temperature is 190 ° C. to 3 in the presence of a polymerization initiator.
It was obtained by polymerizing ethylene at 00 ° C. and a reaction pressure of 167 MPa or more by coexisting in the reaction system a radical polymerization inhibitor in a ratio such that the concentration at the outlet of the ultrahigh pressure compressor was 5 to 1000 ppm by weight with respect to ethylene. Polyethylene film is formed to 0.3 to 30 (g / 10
Min) MFR and 0.913-0.930 (g / cm
As a film having a density of 3 ) and a thickness of 30 μm, haze is 1 to 50%, and a major axis present in the film is 30 μm.
The fish-eye existence density of less than 0.20 mm is 40
A polyethylene film having a number of particles / 10 cm 2 or less and a major axis of 0.20 mm or more and a fish eye existence density of 1.0 / m 2 or less, and the polyethylene film is used as a protective film on the surface of the article to be protected (however, the surface of the film resist is Except for the above), the method for producing a laminated body is characterized by directly laminating.
【請求項15】 プロテクトフィルムが、保護すべきも
のの表面に直接積層されて使用される密着型プロテクト
フィルムである請求項1〜5のいずれか1に記載のプロ
テクトフィルム。
15. The protect film according to any one of claims 1 to 5, wherein the protect film is a contact-type protect film used by being directly laminated on the surface of the object to be protected.
【請求項16】 製造されるプロテクトフィルムが、保
護すべきものの表面に直接積層されて使用される密着型
プロテクトフィルムである請求項7〜11のいずれか1
に記載のプロテクトフィルムの製造方法。
16. The protective film produced according to claim 7, which is a contact-type protective film used by being directly laminated on the surface of an object to be protected.
The method for producing a protective film according to.
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