JP2003331462A - 光学式記録媒体およびその記録方式 - Google Patents
光学式記録媒体およびその記録方式Info
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- Inorganic Chemistry (AREA)
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来の問題点を解決するとともに、低エネル
ギーの光束により書込み動作をおこなう。 【構成】 少なくとも記録層３０２を有し、記録層３０
２が透明基板の上に位置し、その構造が順に第１透明層
３０４、第１半反射層３０６、第１絶縁層３０８、反射
層３１０および材質層を含む。書込み光束３００が記録
層３０２に照射されると、第１半反射層３０６と透明層
に第２半反射層が生成されて、記録層３０２の反射特性
が反転する。
ギーの光束により書込み動作をおこなう。 【構成】 少なくとも記録層３０２を有し、記録層３０
２が透明基板の上に位置し、その構造が順に第１透明層
３０４、第１半反射層３０６、第１絶縁層３０８、反射
層３１０および材質層を含む。書込み光束３００が記録
層３０２に照射されると、第１半反射層３０６と透明層
に第２半反射層が生成されて、記録層３０２の反射特性
が反転する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学式記録媒体
（Optical Recordable Media）の構造およびその記録方
法に関し、特に無機材料を利用して製造した光ディスク
を、光学式方法によるデータ記録に適用する技術に関す
る。
（Optical Recordable Media）の構造およびその記録方
法に関し、特に無機材料を利用して製造した光ディスク
を、光学式方法によるデータ記録に適用する技術に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】￥：：
記録ディスク（Recordable Disc）は、大きい記録保存
容量、容易な保存、低いコストなどの長所を有するた
め、次第に従来の磁気保存媒体に取って代わり、現代人
にとって必要不可欠な保存媒体の一つとなった。従来の
記録ディスクは有機染料により記録層を形成し、有機染
料が特定波長の光線を吸収して変化するため、この特定
波長の光束を利用してデータを書込んでいた。ただし、
有機染料により形成された記録層は常に特定波長の光線
を吸収するため、ゆっくりと変化する。そのため、有機
染料により製作された記録ディスクは寿命に限界があ
り、特に太陽光或いは特定波長を含んだ光線の光源に晒
されると、記録ディスクの寿命はさらに短くなった。
容量、容易な保存、低いコストなどの長所を有するた
め、次第に従来の磁気保存媒体に取って代わり、現代人
にとって必要不可欠な保存媒体の一つとなった。従来の
記録ディスクは有機染料により記録層を形成し、有機染
料が特定波長の光線を吸収して変化するため、この特定
波長の光束を利用してデータを書込んでいた。ただし、
有機染料により形成された記録層は常に特定波長の光線
を吸収するため、ゆっくりと変化する。そのため、有機
染料により製作された記録ディスクは寿命に限界があ
り、特に太陽光或いは特定波長を含んだ光線の光源に晒
されると、記録ディスクの寿命はさらに短くなった。
【０００３】この他、有機染料には問題が２つあり、そ
れらの問題とは高い密度のデータ記録への運用性と高い
書込み速度のディスクへの適用性であった。ディスクの
データ記録密度を高めるには、グルーブ及び将来の高密
度記録媒体のスペースをともに狭くしなければならなか
ったが、そうすると分子サイズが大きい有機染料をスピ
ンコート（Spin Coating）方式によりグルーブ内に塗布
することは非常に困難となった。また、より高いデータ
記録密度にはより速い記録速度も合わせて必要となり、
有機染料にとって、データ記録の高速性とデータ記録の
安定性のバランスをとることは非常に困難であった。
れらの問題とは高い密度のデータ記録への運用性と高い
書込み速度のディスクへの適用性であった。ディスクの
データ記録密度を高めるには、グルーブ及び将来の高密
度記録媒体のスペースをともに狭くしなければならなか
ったが、そうすると分子サイズが大きい有機染料をスピ
ンコート（Spin Coating）方式によりグルーブ内に塗布
することは非常に困難となった。また、より高いデータ
記録密度にはより速い記録速度も合わせて必要となり、
有機染料にとって、データ記録の高速性とデータ記録の
安定性のバランスをとることは非常に困難であった。
【０００４】無機材料により形成される記録層は特定波
長の光束を照射してデータの書込みを行い、無機記録層
の光学状態の変化が起こる。例えば米国特許第4,451,91
4号及び第4,451,915号に開示されているように、書込み
レーザ光束を利用して反射性質を有する記録層上に孔を
形成し、抗反射位置のアブレーション式記録ディスクを
形成する。また、米国特許第4,499,178号においては、
異なる金属材質を含んだ２層を利用して、レーザ照射の
下で合金を形成して反射特性を変える二重層合金法（Al
loying of Bilayer）が開示されている。従って、この
ような技術によれば記録層の反射性は反転される。ま
た、米国特許第5,188,923号においては、基板上に不連
続アイランド状の金属層を形成して、データが書込まれ
ていない部分を抗反射状態にして、レーザ光束によりデ
ータを書込み、不連続アイランド状の金属層が接続され
て強い反射の金属層を形成する方法が開示されている。
長の光束を照射してデータの書込みを行い、無機記録層
の光学状態の変化が起こる。例えば米国特許第4,451,91
4号及び第4,451,915号に開示されているように、書込み
レーザ光束を利用して反射性質を有する記録層上に孔を
形成し、抗反射位置のアブレーション式記録ディスクを
形成する。また、米国特許第4,499,178号においては、
異なる金属材質を含んだ２層を利用して、レーザ照射の
下で合金を形成して反射特性を変える二重層合金法（Al
loying of Bilayer）が開示されている。従って、この
ような技術によれば記録層の反射性は反転される。ま
た、米国特許第5,188,923号においては、基板上に不連
続アイランド状の金属層を形成して、データが書込まれ
ていない部分を抗反射状態にして、レーザ光束によりデ
ータを書込み、不連続アイランド状の金属層が接続され
て強い反射の金属層を形成する方法が開示されている。
【０００５】米国特許第4,451,914号および第4,451,915
号においては、アブレーション記録式ディスクの記録方
式が開示され、記録層上にレーザアブレーションにより
孔を形成してデータを書込んでいる。従って、これらの
米国特許に開示された技術にあっては、もともと孔位置
にあった記録層の材料は孔両側の記録層上に堆積されて
突起を形成する。記録層は反射層であり、孔は透過位置
を形成するが、形成された突起は記録層のように均一に
反射せずに散乱が発生した。このようにデータ判読は困
難となりエラーが発生しやすい、という欠点があった。
号においては、アブレーション記録式ディスクの記録方
式が開示され、記録層上にレーザアブレーションにより
孔を形成してデータを書込んでいる。従って、これらの
米国特許に開示された技術にあっては、もともと孔位置
にあった記録層の材料は孔両側の記録層上に堆積されて
突起を形成する。記録層は反射層であり、孔は透過位置
を形成するが、形成された突起は記録層のように均一に
反射せずに散乱が発生した。このようにデータ判読は困
難となりエラーが発生しやすい、という欠点があった。
【０００６】米国特許第4,499,178号の二重層合金法に
必要な書込みエネルギーは２００〜４００ミリワットに
達し、現在一般に使用されているディスク・ドライブ装
置（ＣＤ−Ｒ／ＲＷ又はＤＶＤ／ＲＷ）ではこのように
高いパワーを提供することはできなく、従来使用してい
た他の材料もこのように高いエネルギーで書込む模式に
は適合しなかった。
必要な書込みエネルギーは２００〜４００ミリワットに
達し、現在一般に使用されているディスク・ドライブ装
置（ＣＤ−Ｒ／ＲＷ又はＤＶＤ／ＲＷ）ではこのように
高いパワーを提供することはできなく、従来使用してい
た他の材料もこのように高いエネルギーで書込む模式に
は適合しなかった。
【０００７】米国特許第5,188,923号において開示して
いる、不連続アイランド状の金属層を溶かして反射性を
有する金属層を形成する方法は、データを書込むのに必
要なエネルギーは高くない．しかしながら、ディスクの
初期状態は抗反射状態で、データが書込まれると強反射
状態に変化する、という欠点があった。従来、一般の記
録ディスクの設計ではデータが書込まれないと強い反射
性質を有し、データを書込む際は光束でその反射性を破
壊してもとの状態と異なるようにする。一般の記録ディ
スクの長所はディスクが完成した後、ディスクにキズが
ないか非常に簡単に検査することができることである。
もし抗反射の部分が現れるとそれはディスクにキズがあ
ることを示し、そのディスクは淘汰されなければならな
い。米国特許第5,188,923号において開示するディスク
の反射特性は従来技術と正反対で、ディスクのキズ検査
は非常に困難であった。これもまた、現在市販されてい
る記録ディスクは、データが書込まれない状態では強い
反射性質を有することが原因であった。
いる、不連続アイランド状の金属層を溶かして反射性を
有する金属層を形成する方法は、データを書込むのに必
要なエネルギーは高くない．しかしながら、ディスクの
初期状態は抗反射状態で、データが書込まれると強反射
状態に変化する、という欠点があった。従来、一般の記
録ディスクの設計ではデータが書込まれないと強い反射
性質を有し、データを書込む際は光束でその反射性を破
壊してもとの状態と異なるようにする。一般の記録ディ
スクの長所はディスクが完成した後、ディスクにキズが
ないか非常に簡単に検査することができることである。
もし抗反射の部分が現れるとそれはディスクにキズがあ
ることを示し、そのディスクは淘汰されなければならな
い。米国特許第5,188,923号において開示するディスク
の反射特性は従来技術と正反対で、ディスクのキズ検査
は非常に困難であった。これもまた、現在市販されてい
る記録ディスクは、データが書込まれない状態では強い
反射性質を有することが原因であった。
【０００８】現在、無機材料で製造された記録ディスク
はこれらの問題点を解決することができないため、本発
明は記録ディスク構造および記録方法を提供して、従来
の問題点を解決する。
はこれらの問題点を解決することができないため、本発
明は記録ディスク構造および記録方法を提供して、従来
の問題点を解決する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】今まで無機材料で製造
する記録ディスクは上記の問題を解決することができな
かった。そのため、本発明の第１の目的は、一般の光学
メッキ膜材料および膜設計を組合せて１回書込むという
目的を達成し、前述の各問題が発生しない光学式記録媒
体およびその記録方式を提供することである。
する記録ディスクは上記の問題を解決することができな
かった。そのため、本発明の第１の目的は、一般の光学
メッキ膜材料および膜設計を組合せて１回書込むという
目的を達成し、前述の各問題が発生しない光学式記録媒
体およびその記録方式を提供することである。
【００１０】本発明の第２の目的は、低エネルギーの光
束により書込み動作をおこなうことができる光学式記録
媒体およびその記録方式を提供することである。
束により書込み動作をおこなうことができる光学式記録
媒体およびその記録方式を提供することである。
【００１１】本発明の第３の目的は、従来のディスク・
ドライブ装置（ＣＤ−ＲまたはＤＶＤ−Ｒ）の読み書き
規格および将来のより高密度な光記録媒体のニーズに合
致する光学式記録媒体およびその記録方式を提供するこ
とである。
ドライブ装置（ＣＤ−ＲまたはＤＶＤ−Ｒ）の読み書き
規格および将来のより高密度な光記録媒体のニーズに合
致する光学式記録媒体およびその記録方式を提供するこ
とである。
【００１２】本発明の第４の目的は、高い反射性、低い
書込みエネルギー、高い信号変調（High Signal Modula
tion）を有して、従来のディスクと同様の変調極性（Mo
dulation Polarity）を有する光学式記録媒体およびそ
の記録方式を提供することである。
書込みエネルギー、高い信号変調（High Signal Modula
tion）を有して、従来のディスクと同様の変調極性（Mo
dulation Polarity）を有する光学式記録媒体およびそ
の記録方式を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも透
明基板の上に形成される記録層を有する光学式記録媒体
において、記録層の構造が順に少なくとも、第１透明層
と、第１半反射層と、第１絶縁層と、反射層と、書込み
光束が記録層に照射されると、第１半反射層と第１透明
層に第２半反射層が生成されて、記録層の反射特性が反
転する材質層とを含む。変調されたかきこみ光束が記録
層を照射した場合には、データは記録層に画きこまれ、
透明層及び第一の半反射層は第２反射層を形成するため
に反応する。読み取り光線が記録層を照射した場合に
は、当該光線の位相は初期状態からシフトし、記録層は
反反射状態になる。本発明に適用される理論は、光線の
伝送（反射性）は物質層の厚さに依存している。変調さ
れた書きこみ光線が記録層を照射し、かつ、データが記
録領域に書かれている間、透明層及び第一の半反射層は
第２の反反射層を形成するために反応する。読み取り光
線が非記録領域を照射した際には、反射層、第一半反射
層及び透明層は、当該光線を反射する。しかしながら、
読み取り光線が記録領域を照射した場合には、当該光線
は単に反射層及び第２半反射層により反射される。上記
第２半反射層及び絶縁層全体の厚さが、反射された読み
取り光線の位相をシフトさせ、その結果、記録領域の反
射性は変化する。記録層の熱伝導特性を向上させ、記録
層の記録符号の読み取り違いを低減させるために、絶縁
層が、記録層の熱特性の変調を増大させるために透明層
の前に形成される。さらに、記録層の反射性を増大させ
るために、半反射層が透明層の前に形成される。また、
記録層の熱伝導特性の向上及び記録層上の記録符号の読
み取り違いの低減のために透明層が、絶縁層と半反射層
との間に形成される。
明基板の上に形成される記録層を有する光学式記録媒体
において、記録層の構造が順に少なくとも、第１透明層
と、第１半反射層と、第１絶縁層と、反射層と、書込み
光束が記録層に照射されると、第１半反射層と第１透明
層に第２半反射層が生成されて、記録層の反射特性が反
転する材質層とを含む。変調されたかきこみ光束が記録
層を照射した場合には、データは記録層に画きこまれ、
透明層及び第一の半反射層は第２反射層を形成するため
に反応する。読み取り光線が記録層を照射した場合に
は、当該光線の位相は初期状態からシフトし、記録層は
反反射状態になる。本発明に適用される理論は、光線の
伝送（反射性）は物質層の厚さに依存している。変調さ
れた書きこみ光線が記録層を照射し、かつ、データが記
録領域に書かれている間、透明層及び第一の半反射層は
第２の反反射層を形成するために反応する。読み取り光
線が非記録領域を照射した際には、反射層、第一半反射
層及び透明層は、当該光線を反射する。しかしながら、
読み取り光線が記録領域を照射した場合には、当該光線
は単に反射層及び第２半反射層により反射される。上記
第２半反射層及び絶縁層全体の厚さが、反射された読み
取り光線の位相をシフトさせ、その結果、記録領域の反
射性は変化する。記録層の熱伝導特性を向上させ、記録
層の記録符号の読み取り違いを低減させるために、絶縁
層が、記録層の熱特性の変調を増大させるために透明層
の前に形成される。さらに、記録層の反射性を増大させ
るために、半反射層が透明層の前に形成される。また、
記録層の熱伝導特性の向上及び記録層上の記録符号の読
み取り違いの低減のために透明層が、絶縁層と半反射層
との間に形成される。
【発明の実施形態】図１は本発明の光学式記録媒体の縦
断面図を示す。本発明の光学式記録媒体は少なくとも記
録層２００を有する。記録層２００の構造は透明基板２
０２の上に形成され、それは順に透明層２０４、半反射
層２０６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２
１２を含む。そのうち透明層２０４の材質は金属、金属
合金、半導体材料、金属燐化物および金属ヒ素でもよ
い。透明層２０４の材質は特にシリコン、ゲルマニウ
ム、燐化グルマニウム、燐化インジウム、ガリウム砒
素、インジウム砒素、ビスマスガリウム合金、ビスマス
インジウム合金からなるグループから選択することがで
きる。透明層２０４の厚さは約１〜２００ｎｍである。
断面図を示す。本発明の光学式記録媒体は少なくとも記
録層２００を有する。記録層２００の構造は透明基板２
０２の上に形成され、それは順に透明層２０４、半反射
層２０６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２
１２を含む。そのうち透明層２０４の材質は金属、金属
合金、半導体材料、金属燐化物および金属ヒ素でもよ
い。透明層２０４の材質は特にシリコン、ゲルマニウ
ム、燐化グルマニウム、燐化インジウム、ガリウム砒
素、インジウム砒素、ビスマスガリウム合金、ビスマス
インジウム合金からなるグループから選択することがで
きる。透明層２０４の厚さは約１〜２００ｎｍである。
【００１４】半反射層２０６の材質は金属でもよく、特
に銀、アルミニウム、金、クロム、銅、インジウム、イ
リジウム、ニッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、
錫、タンタル、タングステンからなるグループから選択
することができる。半反射層の厚みは約５〜１００ｎｍ
である。反射層２１０の材質も金属でよく、特に銀、ア
ルミニウム、金、クロム、銅、インジウム、イリジウ
ム、ニッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、錫、タ
ンタル、タングステンからなるグループから選択するこ
とができる。反射層２１０の厚みは１〜３００ｎｍであ
る。
に銀、アルミニウム、金、クロム、銅、インジウム、イ
リジウム、ニッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、
錫、タンタル、タングステンからなるグループから選択
することができる。半反射層の厚みは約５〜１００ｎｍ
である。反射層２１０の材質も金属でよく、特に銀、ア
ルミニウム、金、クロム、銅、インジウム、イリジウ
ム、ニッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、錫、タ
ンタル、タングステンからなるグループから選択するこ
とができる。反射層２１０の厚みは１〜３００ｎｍであ
る。
【００１５】また、絶縁層２０８の材質は亜鉛、アルミ
ニウム、インジウム、錫、チタニウム、マグネシウム、
シリコンの酸化物、硫化物からなるグループから選択す
る。この他、絶縁層２０８を形成する材質は有機絶縁体
材質でもよい。その厚みは約１〜３００ｎｍである。材
質層２１２は保護層でもよく、その目的はその他の材質
層を保護する層であり、材質層２１２はもう一つを粘着
接合する透明基板でもよい。
ニウム、インジウム、錫、チタニウム、マグネシウム、
シリコンの酸化物、硫化物からなるグループから選択す
る。この他、絶縁層２０８を形成する材質は有機絶縁体
材質でもよい。その厚みは約１〜３００ｎｍである。材
質層２１２は保護層でもよく、その目的はその他の材質
層を保護する層であり、材質層２１２はもう一つを粘着
接合する透明基板でもよい。
【００１６】図２は本発明の光学式記録媒体にデータが
書込まれた後の縦断面図を示す。書込み光束３００を記
録層３０２に照射すると、半反射層３０６と透明層３０
４は書込み光束が入るエネルギーにより反応が起きて半
反射層３１４が生成される。半反射層３１４が生成され
ることにより、読取り光束が照射されると光波の位相は
遷移して記録層の反射特性が反転する。
書込まれた後の縦断面図を示す。書込み光束３００を記
録層３０２に照射すると、半反射層３０６と透明層３０
４は書込み光束が入るエネルギーにより反応が起きて半
反射層３１４が生成される。半反射層３１４が生成され
ることにより、読取り光束が照射されると光波の位相は
遷移して記録層の反射特性が反転する。
【００１７】本発明が提供する光学式記録媒体は、その
書込み光束に必要なエネルギーは約５〜３０ミリワット
であり、それは設計材質層の厚みにより決定される。記
録層の反射率は０．２〜０．６５であり、書込み前後で
の変調は最大で０．６以上に達する。キャリアーとノイ
ズの比（Carrier-Noise Ratio）は全て４０ｄＢ以上で
あり、一般的には６０ｄＢに達する。
書込み光束に必要なエネルギーは約５〜３０ミリワット
であり、それは設計材質層の厚みにより決定される。記
録層の反射率は０．２〜０．６５であり、書込み前後で
の変調は最大で０．６以上に達する。キャリアーとノイ
ズの比（Carrier-Noise Ratio）は全て４０ｄＢ以上で
あり、一般的には６０ｄＢに達する。
【００１８】本発明は、厚みが異なる材質層に対して光
束が異った透過（反射）率を有するという原理を利用す
る。変調された書きこみ光線３００が記録層３０２を照
射すると共に、データが記録領域に書きこまれている際
には、半反射層３０６と透明層３０４に入る書込み光束
のエネルギーにより反応が起きて、半反射層３１４が生
成される。読取り光束にとり、データが書込まれていな
い部分は、読取り光束が照射されると反射層３１０、半
反射層３０６および透明層３０４がそれぞれ反射する。
データが書込まれた部分は、半反射層３１４および反射
層３１０だけが反射する。半反射層３１４の生成とその
下に位置する絶縁層３０８の厚みの総和は読取り光束が
照射されると光波の位相が遷移して記録層の反射特性が
反転する。
束が異った透過（反射）率を有するという原理を利用す
る。変調された書きこみ光線３００が記録層３０２を照
射すると共に、データが記録領域に書きこまれている際
には、半反射層３０６と透明層３０４に入る書込み光束
のエネルギーにより反応が起きて、半反射層３１４が生
成される。読取り光束にとり、データが書込まれていな
い部分は、読取り光束が照射されると反射層３１０、半
反射層３０６および透明層３０４がそれぞれ反射する。
データが書込まれた部分は、半反射層３１４および反射
層３１０だけが反射する。半反射層３１４の生成とその
下に位置する絶縁層３０８の厚みの総和は読取り光束が
照射されると光波の位相が遷移して記録層の反射特性が
反転する。
【００１９】記録層の熱伝導特性を改善して記録符号の
読み取り違いを低減するために、透明層３０４の前に絶
縁層を形成して、記録層の熱伝導特性の調整を増大させ
てもよい。
読み取り違いを低減するために、透明層３０４の前に絶
縁層を形成して、記録層の熱伝導特性の調整を増大させ
てもよい。
【００２０】そして、記録層の反射率を高めるために、
好ましくは透明層３０４の前に半反射層を形成して、記
録層の反射率を高めてもよい。
好ましくは透明層３０４の前に半反射層を形成して、記
録層の反射率を高めてもよい。
【００２１】この他、絶縁層３０８と半反射層３０６と
の間に透明層を形成し、この新たに増やされた透明層も
記録層の熱伝導特性を改善して、記録符号の読み取り違
いヲ低減するようにしてもよい。
の間に透明層を形成し、この新たに増やされた透明層も
記録層の熱伝導特性を改善して、記録符号の読み取り違
いヲ低減するようにしてもよい。
【００２２】本発明が開示する各材料層の厚みはその必
要性により調整することができ、本発明の特徴は書込み
光束を照射して、新たに生成された反射層とその下方に
位置する絶縁層の厚みの総和により読取り光束が照射さ
れると光波の位相が遷移して記録層の反射特性が反転す
る。そのため、上で述べられた範囲は単なる例であり、
例えば各材質層の厚みを調整して、ディスクをデータが
記載されていない時に抗反射または低反射の状態にし、
データを書込んで強い反射状態にすることにより、その
書込み光束のパワーを1ミリワット以下にすることもで
きる。各材質層に必要な厚みは前述した範囲内にない可
能性もあるが、これも本発明が開示した特許範囲に属す
要性により調整することができ、本発明の特徴は書込み
光束を照射して、新たに生成された反射層とその下方に
位置する絶縁層の厚みの総和により読取り光束が照射さ
れると光波の位相が遷移して記録層の反射特性が反転す
る。そのため、上で述べられた範囲は単なる例であり、
例えば各材質層の厚みを調整して、ディスクをデータが
記載されていない時に抗反射または低反射の状態にし、
データを書込んで強い反射状態にすることにより、その
書込み光束のパワーを1ミリワット以下にすることもで
きる。各材質層に必要な厚みは前述した範囲内にない可
能性もあるが、これも本発明が開示した特許範囲に属す
【００２３】実施例
本発明が提供する光学式記録媒体およびその記録方法を
更に詳しく述べるため、実施例を次に述べる。
更に詳しく述べるため、実施例を次に述べる。
【００２４】実施例１
図１が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、順に透明層２０４、半反射層２０
６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２１２を
含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約１．２ｍｍの
ポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層２０４は
厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜である。半反
射層２０６は厚みが７〜３０ｎｍの金からなる層であ
る。絶縁層２０８は厚みが１０〜１５０ｎｍの硫化亜鉛
−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜である。
反射層２１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアルミ金属
薄膜である。材質層２１２は保護層である。
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、順に透明層２０４、半反射層２０
６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２１２を
含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約１．２ｍｍの
ポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層２０４は
厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜である。半反
射層２０６は厚みが７〜３０ｎｍの金からなる層であ
る。絶縁層２０８は厚みが１０〜１５０ｎｍの硫化亜鉛
−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜である。
反射層２１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアルミ金属
薄膜である。材質層２１２は保護層である。
【００２５】市販の読取り書込み光束波長が７８０ｎｍ
である読取り書込み式光ディスク（ＣＤ−Ｒ／ＲＷ）・
ドライブ装置に電気特性試験（Dynamic Test）を行い、
４倍速で書込みをおこなう際の書込みパワーは１４〜２
０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。このほか、この試験におけるディスクのキャリアー
とノイズの比はすべて４５ｄＢ以上であることが分かっ
た。
である読取り書込み式光ディスク（ＣＤ−Ｒ／ＲＷ）・
ドライブ装置に電気特性試験（Dynamic Test）を行い、
４倍速で書込みをおこなう際の書込みパワーは１４〜２
０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。このほか、この試験におけるディスクのキャリアー
とノイズの比はすべて４５ｄＢ以上であることが分かっ
た。
【００２６】実施例２
図１が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、その構造は順に透明層２０４、半反
射層２０６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層
２１２を含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約０．
６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層
２０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜であ
る。半反射層２０６は厚みが約７〜３０ｎｍの金の薄い
層である。絶縁層２０８は厚みが約１０〜１５０ｎｍの
硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜
であり、絶縁層２０８は有機絶縁材質でもよい。反射層
２１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアルミ金属薄膜で
ある。材質層２１２も厚みが約０．６ｍｍのポリカーボ
ネート（ＰＣ）基板である。
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、その構造は順に透明層２０４、半反
射層２０６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層
２１２を含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約０．
６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層
２０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜であ
る。半反射層２０６は厚みが約７〜３０ｎｍの金の薄い
層である。絶縁層２０８は厚みが約１０〜１５０ｎｍの
硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜
であり、絶縁層２０８は有機絶縁材質でもよい。反射層
２１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアルミ金属薄膜で
ある。材質層２１２も厚みが約０．６ｍｍのポリカーボ
ネート（ＰＣ）基板である。
【００２７】Pulsetech DDU-1000の１倍速の速度により
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、最適な書込みパワーは
１１〜２０ミリワットであった。その結果、記録層の反
射率は０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後
における反射の最大の帯域は約６０％に達することが分
かった。このほか、この試験では上述ディスクのキャリ
アーとノイズの比はすべて６０ｄＢ以上であることが分
かった。
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、最適な書込みパワーは
１１〜２０ミリワットであった。その結果、記録層の反
射率は０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後
における反射の最大の帯域は約６０％に達することが分
かった。このほか、この試験では上述ディスクのキャリ
アーとノイズの比はすべて６０ｄＢ以上であることが分
かった。
【００２８】実施例３
図１が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、順に透明層２０４、半反射層２０
６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２１２を
含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約１．２ｍｍの
ポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層２０４は
厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜である。半反
射層２０６は厚みが約７〜３０ｎｍの金の薄い層であ
る。絶縁層２０８は厚みが約１０〜１５０ｎｍの硫化亜
鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜であ
る。反射層２１０の厚みは約１０〜１００ｎｍで、反射
層２１０の材質は銀、アルミニウム、金、銅からなるグ
ループから選択、又はこれらの組み合わせから選択する
ことができる。材質層２１２は保護層である。
も記録層２００を有する。記録層２００は透明基板２０
２の上に形成され、順に透明層２０４、半反射層２０
６、絶縁層２０８、反射層２１０および材質層２１２を
含む。そのうち透明基板２０２は厚みが約１．２ｍｍの
ポリカーボネート（ＰＣ）基板である。透明層２０４は
厚みが約１０〜１００ｎｍのシリコン薄膜である。半反
射層２０６は厚みが約７〜３０ｎｍの金の薄い層であ
る。絶縁層２０８は厚みが約１０〜１５０ｎｍの硫化亜
鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ２）複合薄膜であ
る。反射層２１０の厚みは約１０〜１００ｎｍで、反射
層２１０の材質は銀、アルミニウム、金、銅からなるグ
ループから選択、又はこれらの組み合わせから選択する
ことができる。材質層２１２は保護層である。
【００２９】市販の読取り書込み光束波長が７８０ｎｍ
である読取り書込み式光ディスク・ドライブ装置に電気
特性試験を行い、４倍速で書込みをおこなう際の最適の
書込みパワーは１１〜２０ミリワットであった。その結
果、記録層の反射率は０．２〜０．６５で、書きこみ前
及び書きこみ後における反射の最大の帯域は約６０％に
達することが分かった。このほか、この試験において、
上述の一部の試験ディスクはキャリアーとノイズの比が
４５ｄＢ以上であり、最高で６４ｄＢに達することが分
かった。
である読取り書込み式光ディスク・ドライブ装置に電気
特性試験を行い、４倍速で書込みをおこなう際の最適の
書込みパワーは１１〜２０ミリワットであった。その結
果、記録層の反射率は０．２〜０．６５で、書きこみ前
及び書きこみ後における反射の最大の帯域は約６０％に
達することが分かった。このほか、この試験において、
上述の一部の試験ディスクはキャリアーとノイズの比が
４５ｄＢ以上であり、最高で６４ｄＢに達することが分
かった。
【００３０】実施例４
図３が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層４００を有する。記録層４００は透明基板４０
２の上に形成され、その構造は順に絶縁層４０３、透明
層４０４、半反射層４０６、絶縁層４０８、反射層４１
０および材質層４１２を含む。そのうち透明基板４０２
は厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板
である。透明層４０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシ
リコン薄膜である。半反射層４０６は厚みが約７〜３０
ｎｍの金の薄い層である。絶縁層４０８は厚みが約１０
〜１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２）複合薄膜であり、絶縁層４０８は有機絶縁材質で
もよい。反射層４１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのア
ルミ金属薄膜である。材質層４１２も厚みが約０．６ｍ
ｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
も記録層４００を有する。記録層４００は透明基板４０
２の上に形成され、その構造は順に絶縁層４０３、透明
層４０４、半反射層４０６、絶縁層４０８、反射層４１
０および材質層４１２を含む。そのうち透明基板４０２
は厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板
である。透明層４０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシ
リコン薄膜である。半反射層４０６は厚みが約７〜３０
ｎｍの金の薄い層である。絶縁層４０８は厚みが約１０
〜１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２）複合薄膜であり、絶縁層４０８は有機絶縁材質で
もよい。反射層４１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのア
ルミ金属薄膜である。材質層４１２も厚みが約０．６ｍ
ｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
【００３１】そのうち絶縁層４０３の機能は、記録層の
熱伝導特性を改善して記録する際の熱伝導特性を調整す
ることである。絶縁層４０３の材料は絶縁層４０８と同
じであるが、その厚みは約５〜２００ｎｍである。
熱伝導特性を改善して記録する際の熱伝導特性を調整す
ることである。絶縁層４０３の材料は絶縁層４０８と同
じであるが、その厚みは約５〜２００ｎｍである。
【００３２】Pulsetech DDU-1000の１倍速の速度により
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。その記録点の単位長さの散布率（Jitter）は実施例
２中の記録層と比べて０．５〜２％低下した。
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。その記録点の単位長さの散布率（Jitter）は実施例
２中の記録層と比べて０．５〜２％低下した。
【００３３】実施例５
図４が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層５００を有する。記録層５００は透明基板５０
２の上に位置し、その構造は順に半反射層５０３、透明
層５０４、半反射層５０６、絶縁層５０８、反射層５１
０および材質層５１２を含む。そのうち透明基板５０２
は厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板
である。透明層５０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシ
リコン薄膜である。半反射層５０６は厚みが約７〜３０
ｎｍの金の薄い層である。絶縁層５０８は厚みが約１０
〜１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２）複合薄膜であり、絶縁層５０８は有機絶縁材質で
もよい。反射層５１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのア
ルミ金属薄膜である。材質層５１２も厚みが約０．６ｍ
ｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
も記録層５００を有する。記録層５００は透明基板５０
２の上に位置し、その構造は順に半反射層５０３、透明
層５０４、半反射層５０６、絶縁層５０８、反射層５１
０および材質層５１２を含む。そのうち透明基板５０２
は厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板
である。透明層５０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシ
リコン薄膜である。半反射層５０６は厚みが約７〜３０
ｎｍの金の薄い層である。絶縁層５０８は厚みが約１０
〜１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−Ｓｉ
Ｏ２）複合薄膜であり、絶縁層５０８は有機絶縁材質で
もよい。反射層５１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのア
ルミ金属薄膜である。材質層５１２も厚みが約０．６ｍ
ｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
【００３４】そのうち半反射層５０３の機能は、記録層
の反射率を改善して記録する際の熱伝導特性を調整する
ことである。半反射層５０３の材料は半反射層５０６と
同じであるが、その厚みは約５〜１００ｎｍである。
の反射率を改善して記録する際の熱伝導特性を調整する
ことである。半反射層５０３の材料は半反射層５０６と
同じであるが、その厚みは約５〜１００ｎｍである。
【００３５】Pulsetech DDU-1000の１倍速の速度により
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
実施例２中の記録層の反射率と比べて０．０３〜０．１
０高まり、書きこみ前及び書きこみ後における反射の最
大の帯域は約６０％に達することが分かった。
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
実施例２中の記録層の反射率と比べて０．０３〜０．１
０高まり、書きこみ前及び書きこみ後における反射の最
大の帯域は約６０％に達することが分かった。
【００３６】実施例６
図５が示すように、本発明の光学式記録媒体は少なくと
も記録層６００を有する。記録層６００は透明基板６０
２の上に位置し、その構造は順に透明層６０４、半反射
層６０６、透明層６０７、絶縁層６０８、反射層６１０
および材質層６１２を含む。そのうち透明基板６０２は
厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板で
ある。透明層６０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシリ
コン薄膜である。半反射層６０６は厚みが約７〜３０ｎ
ｍの金の薄い層である。絶縁層６０８は厚みが約１０〜
１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ
２）複合薄膜であり、絶縁層６０８は有機絶縁材質でも
よい。反射層６１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアル
ミ金属薄膜である。材質層６１２も厚みが約０．６ｍｍ
のポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
も記録層６００を有する。記録層６００は透明基板６０
２の上に位置し、その構造は順に透明層６０４、半反射
層６０６、透明層６０７、絶縁層６０８、反射層６１０
および材質層６１２を含む。そのうち透明基板６０２は
厚みが約０．６ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板で
ある。透明層６０４は厚みが約１０〜１００ｎｍのシリ
コン薄膜である。半反射層６０６は厚みが約７〜３０ｎ
ｍの金の薄い層である。絶縁層６０８は厚みが約１０〜
１５０ｎｍの硫化亜鉛−酸化シリコン（ＺｎＳ−ＳｉＯ
２）複合薄膜であり、絶縁層６０８は有機絶縁材質でも
よい。反射層６１０は厚みが約１０〜１００ｎｍのアル
ミ金属薄膜である。材質層６１２も厚みが約０．６ｍｍ
のポリカーボネート（ＰＣ）基板である。
【００３７】そのうち透明層６０７の機能は、記録層の
熱伝導特性を改善して記録する際の熱伝導特性を調整す
ることである。透明層６０７の材料は透明層６０４と同
じであるが、その厚みは約５〜５０ｎｍである。
熱伝導特性を改善して記録する際の熱伝導特性を調整す
ることである。透明層６０７の材料は透明層６０４と同
じであるが、その厚みは約５〜５０ｎｍである。
【００３８】Pulsetech DDU-1000の１倍速の速度により
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。またその記録点の単位長さの散布率（Jitter）は実
施例２中の記録層と比べて０．５〜２％低下した。
書込みをおこなって電気特性を試験したところ、読取り
書込み光束波長は６５０ｎｍで、書込みパワーは１１〜
２０ミリワットであった。その結果、記録層の反射率は
０．２〜０．６５で、書きこみ前及び書きこみ後におけ
る反射の最大の帯域は約６０％に達することが分かっ
た。またその記録点の単位長さの散布率（Jitter）は実
施例２中の記録層と比べて０．５〜２％低下した。
【００３９】本発明では好ましい実施例を前述の通り開
示したが、これらは決して本発明に限定するものではな
く、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と
領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えること
ができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で
指定した内容を基準とする。
示したが、これらは決して本発明に限定するものではな
く、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と
領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えること
ができ、従って本発明の保護範囲は、特許請求の範囲で
指定した内容を基準とする。
【００４０】
【発明の効果】上述した本発明の好適な実施形態から分
かるように、本発明は従来の問題点を解決することがで
きるとともに、低エネルギーの光束により書込み動作を
おこなうことができる光学式記録媒体およびその記録方
式を提供することができる。
かるように、本発明は従来の問題点を解決することがで
きるとともに、低エネルギーの光束により書込み動作を
おこなうことができる光学式記録媒体およびその記録方
式を提供することができる。
【図１】本発明にかかる光学式記録媒体の縦断面図であ
って、第１、第２及び第３実施例を示す図である。
って、第１、第２及び第３実施例を示す図である。
【図２】本発明にかかる光学式記録媒体の縦断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の実施例４による光学式記録媒体の縦断
面図である。
面図である。
【図４】本発明の実施例５による光学式記録媒体の縦断
面図である。
面図である。
【図５】本発明の実施例６による光学式記録媒体の縦断
面図である。
面図である。
２００、３０２、４００、５００、６００ 記録層
２０２、４０２、５０２、６０２ 透明基板
２０４、３０４、４０４、５０４、６０４、６０７ 透
明層 ２０６、３０６、３１４、４０６、５０３、５０６、６
０６ 半反射層 ２０８、３０８、４０３、４０８、５０８、６０８ 絶
縁層 ２１０、３１０、４１０、５１０、６１０ 反射層 ２１２、４１２、５１２、６１２ 材質層 ３００ 書込み光束
明層 ２０６、３０６、３１４、４０６、５０３、５０６、６
０６ 半反射層 ２０８、３０８、４０３、４０８、５０８、６０８ 絶
縁層 ２１０、３１０、４１０、５１０、６１０ 反射層 ２１２、４１２、５１２、６１２ 材質層 ３００ 書込み光束
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ１１Ｂ 7/24 Ｇ１１Ｂ 7/24 ５３４Ｎ
５３５ ５３５Ｇ
５３８ ５３８Ｅ
５４１ ５４１Ｃ
Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｂ４１Ｍ 5/26 Ｘ
(72)発明者 チュ シュアン チェン
台湾 330タオユアン，ツングテ 11スト
リート，58，Ｒ11Ｆ−２ｃ
(72)発明者 シン チェン ライ
台湾 330タオユアン，ツングテ 11スト
リート，58，Ｒ11Ｆ−２ｃ
Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA21 EA25 EA33
EA37 FA02 FA11 FA12 FA23
FA25 FA27 FB04 FB05 FB06
FB08 FB10 FB16 FB17 FB21
FB23 FB28
5D029 JA01 JB03 JB06 JB35 JC02
LA02 LA17 LB03 LB07 MA13
RA03 RA04 RA05
Claims (14)
- 【請求項１】 少なくとも第１透明基板の上に位置する
記録層を有する光学式記録媒体において、前記記録層の
構造が順に少なくとも、第１透明層と、第１半反射層
と、第１絶縁層と、反射層と、書込み光束が前記記録層
に照射されると、前記第１半反射層と前記第１透明層に
第２半反射層が生成されて、前記記録層の反射特性が反
転する材質層と、 を含むことを特徴とする光学式記録媒体。 - 【請求項２】 前記第１透明層を形成する材質をシリコ
ン、ゲルマニウム、燐化グルマニウム、燐化インジウ
ム、ガリウム砒素、インジウム砒素、ビスマスガリウム
合金、ビスマスインジウム合金及びこれらの組み合わせ
からなるグループから選択することを特徴とする請求項
１記載の光学式記録媒体。 - 【請求項３】 前記第１透明層の厚さが約１〜２００ｎ
ｍであることを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒
体。 - 【請求項４】 前記第１半反射層を形成する材質を銀、
アルミニウム、金、クロム、銅、インジウム、イリジウ
ム、ニッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、錫、タ
ンタル、タングステン及びこれらの組み合わせからなる
グループから選択することを特徴とする請求項１記載の
光学式記録媒体。 - 【請求項５】 前記第１半反射層の厚みが約５〜１００
ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光学式記録
媒体。 - 【請求項６】 前記反射層を形成する材質を銀、アルミ
ニウム、金、クロム、銅、インジウム、イリジウム、ニ
ッケル、プラチナ、レニウム、ロジウム、錫、タンタ
ル、タングステン及びこれらの組み合わせからなるグル
ープから選択することを特徴とする請求項１記載の光学
式記録媒体。 - 【請求項７】 前記絶縁層を形成する材質を亜鉛、アル
ミニウム、インジウム、錫、チタニウム、マグネシウ
ム、シリコン、チタニウム、タングステン及びこれらの
組み合わせの酸化物、硫化物からなるグループから選択
することを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒体。 - 【請求項８】 前記絶縁層を形成する材質が更に有機絶
縁層を含むことを特徴とする請求項１記載の光学式記録
媒体。 - 【請求項９】 前記絶縁層の厚みが約１〜３００ｎｍで
あることを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒体。 - 【請求項１０】 前記第２半反射層が生成されて読取り
光束の光波の位相が遷移することにより、前記記録層の
反射特性が反転することを特徴とする請求項１記載の光
学式記録媒体。 - 【請求項１１】 前記材質層が保護層または第２透明基
板であることを特徴とする請求項１記載の光学式記録媒
体。 - 【請求項１２】 前記第１透明層を形成する前に、予め
第２絶縁層を形成して、前記第２絶縁層の厚みが５〜２
００ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光学式
記録媒体。 - 【請求項１３】 前記第１透明層を形成する前に、予め
第３半反射層を形成して、前記第３半反射層の厚みが５
〜１００ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光
学式記録媒体。 - 【請求項１４】 前記第１絶縁層を形成する前に、予め
第２透明層を形成して、前記第２透明層の厚みが５〜５
０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の光学式記
録媒体。
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