JP2003324260A - Printed wiring board and manufacturing method therefor - Google Patents

Printed wiring board and manufacturing method therefor

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JP2003324260A
JP2003324260A JP2002129637A JP2002129637A JP2003324260A JP 2003324260 A JP2003324260 A JP 2003324260A JP 2002129637 A JP2002129637 A JP 2002129637A JP 2002129637 A JP2002129637 A JP 2002129637A JP 2003324260 A JP2003324260 A JP 2003324260A
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wiring board
substrate
electrode
circuit component
printed wiring
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JP2002129637A
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Japanese (ja)
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Shigeru Michiwaki
茂 道脇
Shinji Suga
慎司 菅
Yoshiteru Matsubayashi
芳輝 松林
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To densify a printed wiring board by improving the connection reliability of a circuit component 3, related to a single-sided, double-sided or multilayer printed wiring board in which the circuit component 3 is buried, and a method for manufacturing it. <P>SOLUTION: An electrode 3a of the circuit component 3 is formed of an elementary substance of Ni, Cr or Ti, or an alloy of them. A through hole 2 or a counter boring part 9 is formed in a substrate 1 to form a burying part. A form thereof is so set that the circuit component 3 can be pressed therein. The surface of the electrode 3a is recessed from the surface of the substrate 1 by 10-50 μm. The electrode 3a is connected to a wiring pattern 6A1 formed of a copper layer 6A while adjoining the electrode 3a in the thickness direction of the substrate with the copper layer 6A. The copper layer 6A is the same copper layer that is formed on the surface of a through hole 4, a via hole 8 or an inner via hole 4A. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内部に回路部品を
埋め込んで成る両面配線基板又は多層配線基板と、この
片面若しくは両面配線基板又は多層配線基板上に絶縁層
及びパターン層を積層して成るいわゆるビルドアップ基
板と、これらの製造方法に係り、特に回路部品の接続信
頼性向上と、高密度化に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention comprises a double-sided wiring board or a multilayer wiring board in which circuit components are embedded, and an insulating layer and a pattern layer laminated on the single-sided or double-sided wiring board or the multilayer wiring board. The present invention relates to a so-called build-up board and manufacturing methods thereof, and particularly to improvement in connection reliability of circuit components and increase in density.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型化、多機能化、高
速化が進んでおり、これに対応するため、プリント配線
板やその製造方法に様々な高密度実装技術を盛り込むこ
とが要求されてきた。この要求を満たす方策として、従
来、プリント配線板の表面あるいは裏面上に実装してい
るチップ部品等を、プリント配線板の内部に埋め込む技
術が提案されている。この部品埋込技術を基板に採用す
ることで、基板の部品実装密度は大幅に向上し、配線長
の短縮化も図られることから基板自体の高信頼性化、信
号伝達の高速化が期待されている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have become smaller, more multifunctional, and faster, and in order to meet these demands, it is required to incorporate various high-density mounting technologies into printed wiring boards and their manufacturing methods. Came. As a measure to meet this demand, conventionally, a technique has been proposed in which a chip component or the like mounted on the front surface or the back surface of a printed wiring board is embedded inside the printed wiring board. By adopting this component embedding technology for the substrate, the component mounting density of the substrate is greatly improved, and the wiring length can be shortened.Therefore, high reliability of the substrate itself and high-speed signal transmission are expected. ing.

【0003】そして、部品埋込型の多層配線板技術は、
特開平6−120671号公報(以下公報1)や、特開
2001−53447公報(以下公報2)に開示されて
いる。
The component-embedded multilayer wiring board technology is
It is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-120671 (hereinafter referred to as Publication 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-53447 (hereinafter referred to as Publication 2).

【0004】公報1には、配線板内層にチップ部品を埋
め込み、層間導通の確保及び埋め込んだ部品間の接続と
を、それぞれ融点の異なる半田材を使用して数工程に分
けて行う技術が開示されている。
[0004] Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2004-242242 discloses a technique of embedding a chip component in an inner layer of a wiring board, securing inter-layer conduction and connecting the embedded components in several steps using solder materials having different melting points. Has been done.

【0005】また、公報2には、配線内層にチップ部品
等を埋め込み、その上に絶縁層を形成し、レーザーやド
リル等で設けたビアホールを介してめっきすることによ
り、層間導通の確保及び埋め込んだ部品間の接続とを行
う技術が開示されている。
[0005] Further, in Japanese Patent Laid-Open No. 2-211, a chip component or the like is embedded in an inner layer of a wiring, an insulating layer is formed thereon, and plating is performed through a via hole provided by a laser, a drill or the like to secure and embed interlayer conduction. A technique for connecting between the parts is disclosed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、公報1
に開示された発明は、 (イ)半田の接合個所に対応した複数回の半田付け工程
が必要である。 (ロ)基板表裏面上への部品実装やマザーボード等の別
種基板への半田付けにおける接合条件が大きく制約され
る。 (ハ)半田の溶融温度を安定化させるための半田の素材
管理が難しい。 (ニ)半田付け部の周辺やその内部に半田フラックスが
残留していると、絶縁層を積層してビルドアップ化した
場合に膨れや破裂が起こる可能性が高い。 (ホ)半田付けの厚さを薄くするのが困難で、厚さ50
μm程度のビルドアップ絶縁層でこれを覆う場合にその
平坦性が確保できない。という問題があった。その内、
(ハ),(ニ),(ホ)は特に信頼性の低下に関わる問
題である。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problem to be Solved by the Invention
The invention disclosed in (1) requires a plurality of soldering steps corresponding to the solder joints. (B) The bonding conditions for mounting components on the front and back surfaces of the board and for soldering to another board such as a mother board are greatly restricted. (C) It is difficult to control the solder material to stabilize the melting temperature of the solder. (D) If the solder flux remains around the soldered portion or inside the soldered portion, swelling or rupture is likely to occur when the insulating layers are laminated to build up. (E) It is difficult to reduce the thickness of soldering,
If this is covered with a build-up insulating layer of about μm, its flatness cannot be ensured. There was a problem. Among them,
(C), (d), and (e) are problems related to the deterioration of reliability.

【0007】また、公報2に開示された発明は、接続方
式がめっきであり接合の信頼性は向上する反面、 (ヘ)ビルドアップ絶縁層を介したビアホールを埋込部
品の電極上に形成する際に、埋込部品の電極位置の精度
を保つ配慮がされていないため、位置ずれによる接合不
良が発生する可能性がある。この位置のばらつきは通常
50μm程度ある。 (ト)ビアホールの形成を、通常の方法であるレーザー
又はドリルで行った場合、埋込部品の電極表面にはめっ
き性を阻害する絶縁樹脂の残さ成分が残留するためこれ
をデスミア液等により除去する必要があるが、この除去
液が埋込部品の電極にコートされている半田を劣化させ
る。
Further, in the invention disclosed in the publication 2, the connection method is plating and the reliability of the joint is improved, but (f) the via hole via the build-up insulating layer is formed on the electrode of the embedded component. At this time, since no consideration is given to maintaining the accuracy of the electrode position of the embedded component, there is a possibility that a joint failure may occur due to the position shift. The variation of this position is usually about 50 μm. (G) When a via hole is formed by a usual method such as laser or drill, the residual component of the insulating resin that hinders the plating property remains on the electrode surface of the embedded component and is removed by a desmear solution etc. However, this removing solution deteriorates the solder coated on the electrodes of the embedded component.

【0008】(チ)ビアホールの形成を薬品によって行
った場合、この薬液によって電極にコートされている半
田を劣化させる。しかもこの薬液によるビアホール形成
方法は、ビアホール形状がストレートではなく薬液の回
り込みで逆テーパー形状に形成されるため、めっきの付
き廻り性が悪化し接続不良となる可能性が高い。 (リ)電解めっきによる銅層形成時に基板を浸す電解液
中に、部品の電極にコートされた半田に含有する鉛ある
いは銀が漏出して電解液を変質劣化させる。
(H) When a via hole is formed by a chemical, this chemical deteriorates the solder coated on the electrode. Moreover, in this method of forming a via hole using a chemical solution, the via hole shape is not a straight shape but an inverse taper shape due to the chemical solution wrapping around. Therefore, the throwing power of the plating is deteriorated and there is a high possibility of a connection failure. (I) Lead or silver contained in the solder coated on the electrode of the component leaks into the electrolytic solution in which the substrate is immersed when the copper layer is formed by electrolytic plating, and the electrolytic solution is deteriorated and deteriorated.

【0009】(ヌ)埋込回路部品30への接続を、一段
外層の配線パターン60Bからビアホール80で接続し
なければならず(図6参照)、長手方向両端に電極30
aを有する回路部品30を、基板のコア部に貫通孔を設
けて縦方向に埋め込んだ場合、この部品を接続するため
には4層(コア部多層板の表裏2層及びビルドアップ層
の外側2層)が必要となる。
(G) The connection to the embedded circuit component 30 must be made from the wiring pattern 60B in the outer layer of one step by the via holes 80 (see FIG. 6), and the electrodes 30 are provided at both ends in the longitudinal direction.
When the circuit component 30 having a is embedded in the core portion of the board in the longitudinal direction by providing a through hole, in order to connect this component, four layers (two front and back layers of the core multilayer board and the outside of the buildup layer) are connected. 2 layers) are required.

【0010】また、座ぐり穴に部品を横向きに埋め込む
場合でも、2層(コア部多層板の片側1層及びそこに積
層したビルドアップ層の外側1層)のレイヤーが必要で
あり、高密度化に適さない。という問題があった。その
内、(ヘ),(ト),(チ),(リ)は特に信頼性の低
下に関する問題である。
Further, even when the parts are laterally embedded in the counterbore, two layers (one layer on one side of the core multi-layer board and one layer on the outside of the buildup layer laminated there) are required, and high density is required. Not suitable for conversion. There was a problem. Among them, (f), (to), (h), and (ri) are problems particularly relating to the deterioration of reliability.

【0011】そこで、本発明が解決しようとする課題
は、前述(イ)〜(ヌ)の問題を解決して、 (a)埋め込み回路部品の接続信頼性の飛躍的向上。 (b)回路部品の埋め込み位置の精度向上による高密度
化。 (c)埋め込み回路部品と配線パターンとの接続をより
少ない層で行うことによる高密度化。を可能とする、プ
リント配線板及びその製造方法を提供することにある。
Therefore, the problem to be solved by the present invention is to solve the above-mentioned problems (a) to (n), and (a) dramatically improve the connection reliability of the embedded circuit parts. (B) Higher density by improving the accuracy of the embedded position of the circuit component. (C) Higher density by connecting the embedded circuit component and the wiring pattern with fewer layers. A printed wiring board and a method for manufacturing the same are provided.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本願発明は手段として次の構成及び方法を有す
る。即ち、請求項1は、基板1に貫通孔2又は座ぐり部
9を形成してなる埋め込み部と、前記埋め込み部に挿入
又は収納した回路部品3と、前記基板1の少なくとも一
面側に、めっきにより、単層又は絶縁層7との交互の複
層に形成した銅層6A,6Bからなる配線パターン6A
1,6B1とを有するプリント配線板において、前記電
極3aと、前記電極3aに前記基板1の厚さ方向におい
て隣接して形成した銅層6Aからなる配線パターン6A
1とを、前記隣接して形成した銅層6Aで接続してある
ことを特徴とするプリント配線板である。
In order to solve the above problems, the present invention has the following constitution and method as means. That is, according to claim 1, the embedded portion formed by forming the through hole 2 or the spot facing portion 9 in the substrate 1, the circuit component 3 inserted or housed in the embedded portion, and the plating on at least one surface side of the substrate 1 Thus, the wiring pattern 6A including the copper layers 6A and 6B formed in a single layer or in a plurality of alternating layers with the insulating layer 7.
In the printed wiring board having 1, 6B1, a wiring pattern 6A composed of the electrode 3a and a copper layer 6A formed adjacent to the electrode 3a in the thickness direction of the substrate 1.
1 and 1 are connected by the copper layer 6A formed adjacently to each other.

【0013】請求項2は、前記電極3aの表面材質を、
Ni,Cr若しくはTiの単体又はNi,Cr若しくは
Tiの合金としたことを特徴とする請求項1記載のプリ
ント配線板である。
According to a second aspect, the surface material of the electrode 3a is
The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board is made of Ni, Cr or Ti alone or an alloy of Ni, Cr or Ti.

【0014】請求項3は、前記埋め込み部は、前記回路
部品3に対して圧入しろを有する形状としたことを特徴
とする請求項1又は請求項2記載のプリント配線板であ
る。
A third aspect of the present invention is the printed wiring board according to the first or second aspect, wherein the embedded portion has a shape having a press-fitting margin with respect to the circuit component 3.

【0015】請求項4は、前記圧入しろを、3μm以上
30μm以下としたことを特徴とする請求項3記載のプ
リント配線板である。
A fourth aspect of the present invention is the printed wiring board according to the third aspect, wherein the press-fitting margin is 3 μm or more and 30 μm or less.

【0016】請求項5は、前記電極3aの前記基板1の
厚さ方向端面を、前記隣接して形成した銅層6Aからな
る配線パターン6A1の基板1側面に対して、厚さ方向
距離で10μm以上50μm以下の凹部としたことを特
徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のプリン
ト配線板である。
According to a fifth aspect of the present invention, the end face in the thickness direction of the substrate 1 of the electrode 3a is 10 μm in the thickness direction with respect to the side face of the substrate 1 of the wiring pattern 6A1 made of the adjacent copper layer 6A. The printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the concave portion has a size of 50 μm or less.

【0017】請求項6は、前記基板1あるいは前記絶縁
層7に、表面にめっきによる銅層6A,6Bを形成した
スルーホール4,インナービアホール、ビアホール8の
いずれかのホールを設け、前記ホールの表面に形成した
銅層6Aと、前記隣接して形成した銅層6Aとを同一の
銅層としてあることを特徴とする請求項1乃至5のいず
れか1項に記載のプリント配線板である。
According to a sixth aspect of the present invention, the substrate 1 or the insulating layer 7 is provided with any one of a through hole 4, an inner via hole and a via hole 8 having copper layers 6A and 6B formed by plating on the surface thereof. The printed wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein the copper layer 6A formed on the surface and the copper layer 6A formed adjacently are the same copper layer.

【0018】請求項7は、前記埋め込み部と前記回路部
品3との空隙に樹脂5を充填してあることを特徴とする
請求項1乃至6のいずれか1項に記載のプリント配線板
である。
A seventh aspect of the present invention is the printed wiring board according to any one of the first to sixth aspects, wherein a resin 5 is filled in a space between the embedded portion and the circuit component 3. .

【0019】さらに、請求項8は、少なくとも、基板1
に貫通孔2または座ぐりによる埋め込み部を設ける工程
と、前記埋め込み部に回路部品3を装着又は収納する埋
め込み工程と、前記基板1の少なくとも一面側に、配線
パターン6A1とする銅層6Aを、単層又は絶縁層7と
の交互の複層に形成するめっき工程とを含んでなるプリ
ント配線板の製造方法において、前記回路部品3の電極
3a面材質をNi,Cr若しくはTiの単体又はNi,
Cr若しくはTiの合金とし、前記めっき工程は、前記
電極3aに前記基板1の厚さ方向において隣接する銅層
6Aを、前記電極3aと接続して形成する工程を含んで
なることを特徴とするプリント配線板の製造方法であ
る。
Further, the claim 8 is at least the substrate 1
A step of providing an embedded portion by the through hole 2 or the spot facing, an embedding step of mounting or housing the circuit component 3 in the embedded portion, and a copper layer 6A as a wiring pattern 6A1 on at least one surface side of the substrate 1, In a method for manufacturing a printed wiring board, which comprises a plating step of forming a single layer or an alternate multilayer with an insulating layer 7, the electrode 3a surface material of the circuit component 3 is Ni, Cr or Ti alone or Ni,
An alloy of Cr or Ti is used, and the plating step includes a step of forming a copper layer 6A adjacent to the electrode 3a in the thickness direction of the substrate 1 by connecting to the electrode 3a. It is a manufacturing method of a printed wiring board.

【0020】請求項9は、前記めっき工程よりも前に、
前記埋め込み部と前記回路部品3との空隙に樹脂5を充
填した後、不要な前記樹脂5を除去する工程を有するこ
とを特徴とする請求項8記載のプリント配線板の製造方
法である。
According to a ninth aspect, before the plating step,
9. The method of manufacturing a printed wiring board according to claim 8, further comprising the step of removing the unnecessary resin 5 after filling the resin 5 into the space between the embedded portion and the circuit component 3.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、好ましい
実施例により図1乃至図5を用いて説明する。本発明の
プリント配線板に埋め込む回路部品としては、抵抗,コ
ンデンサー,コイル,ダイオード,トランジスター及び
集積回路のチップ部品等がある。そして、この回路部品
の電極表面が、従来の鉛や銀を含む半田コートではな
く、Ni,Cr若しくはTiの単体又はNi,Cr若し
くはTiの合金で形成されている回路部品を使用するこ
とに特徴がある。この合金の好ましい例としては、Ni
Cr,TiNがある。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 5 according to a preferred embodiment. Circuit components to be embedded in the printed wiring board of the present invention include resistors, capacitors, coils, diodes, transistors, and chip components of integrated circuits. The electrode surface of this circuit component is not a conventional solder coat containing lead or silver, but a circuit component formed of Ni, Cr or Ti alone or an alloy of Ni, Cr or Ti is used. There is. A preferred example of this alloy is Ni
There are Cr and TiN.

【0022】Ni,Cr,Tiは、銅めっきとの密着性
に優れており、また、これらの単体あるいはこれらの合
金で形成された電極は、電極に付着した不要な樹脂成分
を除去するデスミア液等の除去液では劣化することはな
い。また、電解めっきによる銅層形成時に、基板を浸す
電解液を汚染して変質劣化させるものでもない。この特
徴により接続信頼性が飛躍的に向上する。環境負荷の観
点も含めて、中でもNiとするのが最も好ましい。
Ni, Cr, and Ti have excellent adhesion to copper plating, and electrodes formed of these simple substances or alloys thereof are desmear liquids that remove unnecessary resin components adhering to the electrodes. It does not deteriorate with a removing solution such as. Further, it does not contaminate the electrolytic solution that immerses the substrate to deteriorate and deteriorate it when the copper layer is formed by electrolytic plating. This feature dramatically improves connection reliability. From the viewpoint of environmental load, Ni is most preferable.

【0023】これらの回路部品を埋め込むプリント配線
板としては、片面板,両面板及び多層積層板、並びに、
これらの面上に絶縁層や回路パターン層を交互に積層し
てビルドアップしたいわゆるビルドアップ基板がある。
回路部品の埋め込み形態として、(I)基板に貫通孔を
設けて埋め込む形態と、(II)座ぐりを設けて埋め込
む形態と、(III)貫通孔を設けて埋め込む応用形態
とがあり、まず貫通孔を設けて埋め込む形態から順次詳
述する。
Printed wiring boards in which these circuit components are embedded include single-sided boards, double-sided boards and multilayer laminated boards, and
There is a so-called build-up board in which insulating layers and circuit pattern layers are alternately laminated on these surfaces to build up.
As the embedding form of the circuit component, there are (I) a form in which the through hole is embedded in the substrate, (II) a form in which a counterbore is formed and embedded, and (III) an applied form in which the through hole is formed and embedded. Detailed description will be given in order from a mode in which holes are provided and embedded.

【0024】(I)貫通孔を設けて埋め込む形態 貫通孔を設けて埋め込む形態とするのは、回路部品を配
線基板の銅貼り積層板の表と裏の両方に接続する場合で
ある。この場合、まず銅貼り積層板に貫通孔を形成し
て、そこに回路部品を埋め込む。また、ビルドアップ基
板において接続をビルドアップ層と行う場合には、貫通
孔をビルドアップ後に形成して、そこに回路部品を埋め
込むこともできる。
(I) Forming Through Holes for Embedding The through hole for embedding is a case where circuit components are connected to both the front and back sides of a copper-clad laminate of a wiring board. In this case, first, a through hole is formed in the copper-clad laminate, and a circuit component is embedded therein. When the connection is made with the build-up layer in the build-up board, the through hole can be formed after the build-up and the circuit component can be embedded therein.

【0025】この形態によるプリント配線板の製造方法
を工程毎に図1(a)〜図1(l)を用い、(1)〜
(11)にて説明する。図1は、プリント配線板の概略
断面図である。 (1)貫通孔の形成(図1(b)) プリント配線板の基板となる銅貼り積層板1の回路部品
3の埋め込み場所に貫通孔2を形成する。この貫通孔2
の径を、回路部品3の収納が圧入となる形状に設定する
ことに特徴がある。
The method for manufacturing a printed wiring board according to this embodiment is described with reference to FIGS. 1 (a) to 1 (l) for each step, and
This will be described in (11). FIG. 1 is a schematic sectional view of a printed wiring board. (1) Formation of Through Hole (FIG. 1B) The through hole 2 is formed in the place where the circuit component 3 is embedded in the copper-clad laminate 1 that will be the substrate of the printed wiring board. This through hole 2
Is characterized in that the diameter of is set to a shape in which the circuit component 3 is press-fitted.

【0026】以下にその特徴を具体的に説明する。この
貫通孔2の形成において、直径が数mm程度の比較的大
きな開孔が必要な場合は、これを矩形の孔として加工す
ることも可能であるが、孔径が1mm以下の場合は、円
形の孔をドリルで加工するのが現実的である。回路部品
3は、通常直方体の長手方向両端部に電極を有する形態
であり、図4(a)に示すようにその電極面の対角線長
さをL1、貫通孔の孔径をφAとすると、L1−φAが
正の数の場合にその圧入しろを有し、これを3μm以上
30μm以下と設定する。
The features will be specifically described below. In the formation of the through hole 2, if a relatively large hole having a diameter of about several mm is required, it can be processed as a rectangular hole, but if the hole diameter is 1 mm or less, a circular hole is formed. It is realistic to drill the holes. The circuit component 3 is usually in the form of having electrodes at both ends in the longitudinal direction of a rectangular parallelepiped. As shown in FIG. 4A, when the diagonal length of the electrode surface is L1 and the hole diameter of the through hole is φA, L1− When φA is a positive number, it has a press-fitting margin, which is set to 3 μm or more and 30 μm or less.

【0027】この寸法L1と孔径φAの関係は、基板の
プリプレグやビルドアップした絶縁層の物性値、部品の
大きさによらず共通に設定することができる。これによ
り、従来、マージンをとり、大きく開孔していて50μ
m程度あった、貫通孔2に対する回路部品3の電極3a
の位置のばらつきをほとんど無くすことができる。この
ように、回路部品3の位置精度を確保することで、信頼
性の高い接合が可能となり、貫通孔2の加工マージン分
小さくできることによる高密度化が可能となる。また、
工程(1)においては、同時にスルーホール4も形成し
てある。
The relationship between the dimension L1 and the hole diameter φA can be commonly set regardless of the physical properties of the prepreg of the substrate, the built-up insulating layer, and the size of the component. As a result, it is possible to open a large hole with a margin of 50μ.
The electrode 3a of the circuit component 3 with respect to the through hole 2 was about m
It is possible to almost eliminate the variation in the position. As described above, by ensuring the positional accuracy of the circuit component 3, it is possible to perform highly reliable bonding, and it is possible to reduce the processing margin of the through-hole 2 to achieve high density. Also,
In the step (1), the through hole 4 is also formed at the same time.

【0028】(2)回路部品3の貫通孔2への挿入。
(図1(c)) (3)回路部品3と貫通孔2との空隙への樹脂5の充
填。(図1(d)) (4)不要な樹脂5の除去。(図1(e)) 工程(2)において、回路部品3を貫通孔2に、その電
極3aが基板の表裏に対応するような向きで挿入する。
この回路部品3の各電極3a間の外形寸法D1と、基板
の厚さt1との差を所定の値Δt1に設定し、基板表面
から回路部品3の電極面までがΔt1/2の凹部となる
ように圧入方向位置を設定することに特徴がある。
(2) Inserting the circuit component 3 into the through hole 2.
(FIG. 1C) (3) Filling the gap between the circuit component 3 and the through hole 2 with the resin 5. (FIG. 1D) (4) Removal of unnecessary resin 5. (FIG. 1E) In step (2), the circuit component 3 is inserted into the through hole 2 in such a direction that the electrodes 3a thereof correspond to the front and back of the substrate.
The difference between the outer dimension D1 between the electrodes 3a of the circuit component 3 and the thickness t1 of the substrate is set to a predetermined value Δt1, and a recess of Δt1 / 2 is formed from the substrate surface to the electrode surface of the circuit component 3. The feature is that the position in the press-fitting direction is set as described above.

【0029】具体的には、t1−D1=Δt1 とした
ときの凹部深さ寸法Δt1/2を10μm以上50μm
以下に設定する。これは、後述するように、Δt1/2
を、不要な樹脂5をバフ研磨により除去しても部品電極
3aが削れない10μm以上であって、かつ、この電極
表面と凹部に残る樹脂をYAGレーザー等で効率良く除
去できる50μm以下とすることで、生産性を向上する
ことができることによる。
Specifically, when t1-D1 = Δt1, the recess depth dimension Δt1 / 2 is 10 μm or more and 50 μm or more.
Set as follows. This is Δt1 / 2, as will be described later.
Is 10 μm or more so that the component electrode 3a is not shaved even if the unnecessary resin 5 is removed by buffing, and the resin remaining on the electrode surface and the recess is 50 μm or less that can be efficiently removed by a YAG laser or the like. Because, it is possible to improve productivity.

【0030】工程(3)における樹脂5の充填により、
回路部品3の挿入後のめっき,スパッタあるいは蒸着等
による導体層の形成時に、この空隙に導体層が形成され
て層間でショートすることを防止できる。この層間のシ
ョート防止ができる最小限の樹脂量にて充填した場合で
も、余分な樹脂が作製中の基板上に付着する可能性があ
る。
By filling the resin 5 in the step (3),
When the conductor layer is formed by plating, sputtering, vapor deposition or the like after the circuit component 3 is inserted, it is possible to prevent the conductor layer from being formed in this void and causing a short circuit between layers. Even if the resin is filled with the minimum amount of resin that can prevent short-circuiting between layers, excess resin may adhere to the substrate being manufactured.

【0031】また、後工程において、真空装置内での処
理や熱処理がある場合、空隙に十分に樹脂を注入してボ
イドが無い状態とすることは、それらの処理を良好にす
るために極めて重要であって、この場合、基板上に余分
な樹脂が付着する可能性は高い。従って、工程(4)に
より余分な樹脂分を完全に除去する必要がある。
Further, in the case where there is a treatment or a heat treatment in a vacuum apparatus in the subsequent step, it is extremely important to sufficiently inject the resin into the voids so that there are no voids in order to improve the treatment. In this case, however, there is a high possibility that extra resin will adhere to the substrate. Therefore, it is necessary to completely remove the excess resin component in the step (4).

【0032】この基板上の除去手段として、ブラスト処
理やバフ研磨が知られているが、除去後の表面の平坦性
が優れていることからバフ研磨が好ましい。また、回路
部品3の電極3a部分での除去は、前述のレーザー加工
によることが行われ、これにより接続の信頼性を確保す
ることができる。
Blasting and buffing are known as removing means on the substrate, but buffing is preferable because the flatness of the surface after removal is excellent. Further, the removal at the electrode 3a portion of the circuit component 3 is performed by the above-mentioned laser processing, which can ensure the reliability of the connection.

【0033】(5)めっきによる銅層6の形成(図1
(f)) 無電解めっき及び電解めっきにより基板表裏面に銅層6
Aを形成する。これにより、回路部品3の電極3aと銅
層6Aとが接続される。このように、絶縁層7を設けず
にめっきにより銅層6を直接積層するので、基板の表裏
2層のみで回路部品3の接続をすることができることに
特徴がある。
(5) Formation of copper layer 6 by plating (see FIG. 1)
(F)) A copper layer 6 is formed on the front and back surfaces of the substrate by electroless plating and electrolytic plating.
Form A. As a result, the electrode 3a of the circuit component 3 and the copper layer 6A are connected. In this way, since the copper layer 6 is directly laminated by plating without providing the insulating layer 7, the circuit component 3 can be connected only by the two front and back layers of the substrate.

【0034】(6)スルーホール4への樹脂5の充填
(図1(g)) (7)銅層6Aへのパターン6A1の形成(図1
(h)) 以上により、貫通孔2を設けて埋め込む形態の両面配線
基板が完成する。
(6) Filling resin 5 into through holes 4 (FIG. 1 (g)) (7) Forming pattern 6A1 on copper layer 6A (FIG. 1)
(H)) With the above, a double-sided wiring board in which the through holes 2 are provided and embedded is completed.

【0035】さらに、ビルドアップ基板とする場合は、 (8)絶縁層7の形成(図1(i)) (9)ビアホール8の形成(図1(j)) (10)銅層6Bの形成(図1(k)) (11)銅層6Bへのパターン6B1の形成(図1
(l))の工程により作成することができる。この状態
で、スルーホール4は絶縁層に覆われ外部に露出しない
所謂インナービアホール4Aである。
Further, in the case of a build-up substrate, (8) formation of insulating layer 7 (FIG. 1 (i)) (9) formation of via hole 8 (FIG. 1 (j)) (10) formation of copper layer 6B (FIG. 1 (k)) (11) Formation of Pattern 6B1 on Copper Layer 6B (FIG. 1)
It can be created by the step (l)). In this state, the through hole 4 is a so-called inner via hole 4A which is covered with the insulating layer and is not exposed to the outside.

【0036】プリント基板の構造によっては、(8)の
工程後に埋め込み部を設けて回路部品を埋め込み、ビア
ホール8への銅層6Bと同一層にて電極3aと配線パタ
ーン6B1との接続をすることもできる。埋め込み部
は、貫通孔でも後述する座ぐり部でもよく、貫通孔の場
合について、図5(a)〜5図(c)を用い、工程(1
1A),(11B)及び(11C)にて説明する。
Depending on the structure of the printed circuit board, after the step (8), an embedded portion is provided to embed a circuit component, and the electrode 3a and the wiring pattern 6B1 are connected to the via hole 8 in the same layer as the copper layer 6B. You can also The embedding part may be a through hole or a spot facing part described later, and in the case of the through hole, the steps (1) to (c) of FIG.
1A), (11B) and (11C).

【0037】(11A)絶縁層7の形成。(図5
(a)) 工程(8)(図1(i))に対して、貫通孔2のない形
態である。 (11B)貫通孔2の形成と、回路部品3の圧入。(図
5(b)) 圧入しろは前述と同様であり、絶縁層7を含んだ基板1
の厚さをt4とし、電極表面間の寸法をD4とすると、
Δt4=t4−D4であり、絶縁層7の表面に対して、
電極3a表面が(Δt4)/2あって、10μm以上5
0μm以下の凹部となるように納める。 (11C)銅層6Bの形成。(図5(c)) めっきにより銅層6Bを形成する。このとき、銅層6B
と電極3aが接続され、同時にビアホール表面にも同一
層で銅層が形成される。この後、銅層6Bに配線パター
ンが施される。
(11A) Formation of insulating layer 7. (Fig. 5
(A)) In contrast to the step (8) (FIG. 1 (i)), the through hole 2 is not provided. (11B) Forming the through hole 2 and press-fitting the circuit component 3. (FIG. 5B) The press-fitting margin is the same as that described above, and the substrate 1 including the insulating layer 7 is used.
Is t4 and the dimension between the electrode surfaces is D4,
Δt4 = t4-D4, and with respect to the surface of the insulating layer 7,
The surface of the electrode 3a is (Δt4) / 2, and 10 μm or more 5
The recess should be 0 μm or less. (11C) Formation of copper layer 6B. (FIG. 5C) The copper layer 6B is formed by plating. At this time, the copper layer 6B
And the electrode 3a are connected, and at the same time, a copper layer is formed in the same layer on the surface of the via hole. After that, a wiring pattern is applied to the copper layer 6B.

【0038】次に、座ぐり部9を設けて埋め込む形態に
ついて詳述する。 (II)座ぐり部9を設けて埋め込む形態 座ぐり部9を設けて埋め込む形態とするのは、回路部品
3を配線基板の銅貼り積層板(基板)の片面のみに接続
する場合である。この場合、まず基板に座ぐり部9を形
成して、そこに回路部品3を収納する。この形態による
プリント配線板の製造方法を工程毎に図2(a)〜図2
(g)を用い、(12)〜(22)にて説明する。図2
も、プリント配線板の概略断面図である。
Next, the form in which the counterbore 9 is provided and embedded will be described in detail. (II) Form in which the counterbore 9 is provided and embedded The case where the counterbore 9 is provided and embedded is a case where the circuit component 3 is connected to only one side of the copper-clad laminate (board) of the wiring board. In this case, first, the counterbore 9 is formed on the substrate, and the circuit component 3 is housed therein. The method of manufacturing a printed wiring board according to this embodiment is shown in each step of FIGS.
(12) to (22) will be described using (g). Figure 2
FIG. 3 is a schematic sectional view of a printed wiring board.

【0039】(12)座ぐり部9の形成(図2(a)) 基板の回路部品3の埋め込み場所に座ぐり部9を形成す
る。この座ぐり部9の形状を、回路部品3の収納が圧入
となる形状とすることに特徴がある。
(12) Formation of Counterbore 9 (FIG. 2 (a)) The counterbore 9 is formed at the place where the circuit component 3 is embedded on the substrate. This counterbore 9 is characterized in that the circuit component 3 is press-fitted.

【0040】この特徴について具体的に説明する。座ぐ
り部9の開口形状は、ドリルにて円形状あるいは長円状
にて形成することができる。そこに埋め込む回路部品3
は、通常直方体でその長手方向両端部に電極3aを有す
る形態であるから、座ぐり部9の開口形状は円形状より
長円状の方が必要な面積が少なく高密度化が可能となる
ので好ましい。
This characteristic will be specifically described. The opening of the counterbore 9 can be formed into a circular shape or an oval shape with a drill. Circuit component 3 to be embedded there
Is usually a rectangular parallelepiped and has electrodes 3a at both ends in the longitudinal direction, and therefore, the opening shape of the counterbore 9 is elliptic rather than circular so that the required area is small and the density can be increased. preferable.

【0041】図4(b)に示すように、座ぐり部の開口
形状の長円の一方の円半径をB、その中心をCとし、中
心Cから回路部品の角までの距離をLbとしたとき、
(Lb−B)×2が正の数の場合にその圧入しろを有
し、これを3μm以上30μm以下に設定する。座ぐり
部9の開口形状が円形の場合は、図4(c)に示すよう
に、その直径をφA2、回路部品3の対角長さをL2と
したとき、前述のようにL2−φA2が正の数の場合に
圧入しろを有し、これを3μm以上30μm以下に設定
する。これらが圧入しろとなる。この寸法Lbと径Bあ
るいはL2と径φA2の関係は、基板のプリプレグやビ
ルドアップした絶縁層の物性値、部品の大きさによらず
共通に設定することができる。
As shown in FIG. 4 (b), the radius of one of the ellipses having the opening shape of the spot facing is B, the center is C, and the distance from the center C to the corner of the circuit component is Lb. When
When (Lb−B) × 2 is a positive number, it has a press-fitting margin, which is set to 3 μm or more and 30 μm or less. When the counterbore 9 has a circular opening shape, as shown in FIG. 4C, when the diameter is φA2 and the diagonal length of the circuit component 3 is L2, L2-φA2 is as described above. A positive number has a press-fitting margin, which is set to 3 μm or more and 30 μm or less. These are the press fits. The relationship between the dimension Lb and the diameter B or the diameter L2 and the diameter φA2 can be set in common regardless of the physical properties of the prepreg of the substrate, the built-up insulating layer, and the size of the component.

【0042】これにより、従来、マージンをとり、大き
く開口していて50μm程度あった、座ぐり部9に対す
る回路部品3の電極3aの位置のばらつきをほとんど無
くすことができる。このように、回路部品3の位置精度
を確保することで、信頼性の高い接合が可能となり、座
ぐり部9の加工マージン分小さくできることによる高密
度化が可能となる。工程(12)においては、同時にス
ルーホール4も形成する。
As a result, it is possible to almost eliminate the variation in the position of the electrode 3a of the circuit component 3 with respect to the spot facing portion 9, which has a large opening and is about 50 μm in the related art. In this way, by ensuring the positional accuracy of the circuit component 3, it is possible to perform highly reliable joining and to reduce the processing margin of the spot facing portion 9 to achieve high density. In the step (12), the through hole 4 is also formed at the same time.

【0043】(13)回路部品3の座ぐり部9への収
納。(図2(b)) (14)回路部品3と座ぐり部9との空隙への樹脂5の
充填(図2(c)) (15)不要な樹脂5の除去(図2(d)) 工程(13)において、回路部品2を座ぐり部9に、そ
の電極3aが基板の面方向に平行となる向きで収納す
る。この回路部品3における埋め込み方向の外形寸法D
2と、座ぐり深さt2との差を所定の値Δt2とし、基
板表面から回路部品の電極までがΔt2の凹となるよう
に設定したことに特徴がある。
(13) Storage of the circuit component 3 in the spot facing portion 9. (FIG. 2 (b)) (14) Filling the gap between the circuit component 3 and the spot facing 9 with the resin 5 (FIG. 2 (c)) (15) Removing the unnecessary resin 5 (FIG. 2 (d)) In the step (13), the circuit component 2 is housed in the spot facing portion 9 with its electrode 3a oriented parallel to the surface direction of the substrate. External dimensions D of the circuit component 3 in the embedding direction
The difference between 2 and the counterbore depth t2 is set to a predetermined value Δt2, and is set so as to have a recess of Δt2 from the substrate surface to the electrode of the circuit component.

【0044】具体的には、t2−D2=Δt2 とした
ときの凹寸法Δt2を100〜50μmと設定する。こ
れは、後述するように、Δt2を、不要な樹脂をバフ研
磨により除去しても部品電極が削れない10μm以上で
あって、かつ、この電極表面と凹部に残る樹脂をYAG
レーザー等で効良く除去できる50μm以下とすること
で、生産性を向上することができることによる。
Specifically, when t2-D2 = Δt2, the concave dimension Δt2 is set to 100 to 50 μm. As will be described later, Δt2 is 10 μm or more at which the component electrodes cannot be shaved even if the unnecessary resin is removed by buffing, and the resin remaining on the electrode surface and the recess is YAG.
This is because the productivity can be improved by setting the thickness to 50 μm or less that can be effectively removed by a laser or the like.

【0045】工程(14)における樹脂の充填により、
回路部品埋め込み後のめっき,スパッタあるいは蒸着等
による導体層の形成時に、この空隙に導体層が形成され
て層間でショートすることを防止できる。この層間のシ
ョート防止ができる最小限の樹脂量にて充填した場合で
も、余分な樹脂が作製中の基板上に付着する可能性があ
る。
By filling the resin in the step (14),
When a conductor layer is formed by plating, sputtering, vapor deposition or the like after embedding a circuit component, it is possible to prevent a conductor layer from being formed in this void and causing a short circuit between layers. Even if the resin is filled with the minimum amount of resin that can prevent short-circuiting between layers, excess resin may adhere to the substrate being manufactured.

【0046】また、後工程において、真空装置内での処
理や熱処理がある場合、空隙に十分に樹脂を注入してボ
イドが無い状態とすることは、それらの処理を良好にす
るために極めて重要であって、この場合、基板上に余分
な樹脂が付着する可能性は高い。従って、工程(15)
により余分な樹脂分を完全に除去する必要がある。
Further, in the case where there is a treatment or a heat treatment in a vacuum apparatus in the subsequent step, it is extremely important to sufficiently inject the resin into the voids so that there are no voids in order to improve those treatments. In this case, however, there is a high possibility that extra resin will adhere to the substrate. Therefore, step (15)
Therefore, it is necessary to completely remove the excess resin component.

【0047】この基板上の除去手段として、ブラスト処
理やバフ研磨が知られているが、除去後の表面の平坦性
が優れていることからバフ研磨が好ましい。また、回路
部品3の電極部分3aでの除去は、前述のレーザー加工
によることが行われ、これにより接続の信頼性を確保す
ることができる。
Blasting and buffing are known as removing means on the substrate, but buffing is preferable because the flatness of the surface after removal is excellent. Further, the removal of the circuit component 3 at the electrode portion 3a is performed by the above-described laser processing, which can ensure the reliability of the connection.

【0048】(16)めっきによる銅層6Aの形成(図
2(e)) 無電解めっき及び電解めっきにより基板表裏面に銅層6
Aを形成する。これにより、回路部品3の電極3aと銅
層6Aとが接続される。このように、絶縁層7を設けず
にめっきにより銅層6Aを直接積層するので、基板表面
の1層のみで回路部品3の接続をすることができること
に特徴がある。
(16) Formation of Copper Layer 6A by Plating (FIG. 2 (e)) The copper layer 6 is formed on the front and back surfaces of the substrate by electroless plating and electrolytic plating.
Form A. As a result, the electrode 3a of the circuit component 3 and the copper layer 6A are connected. Since the copper layer 6A is directly laminated by plating without providing the insulating layer 7 in this manner, the circuit component 3 can be connected by only one layer on the surface of the substrate.

【0049】(17)スルーホール4への樹脂5aの充
填(図2(f)) (18)銅層6Aへのパターン6A1の形成(図2
(g)) 以上により、座ぐり部9を設けて埋め込む形態の両面配
線基板が完成する。
(17) Filling resin 5a into through hole 4 (FIG. 2 (f)) (18) Forming pattern 6A1 on copper layer 6A (FIG. 2)
(G)) With the above, a double-sided wiring board in which the counterbore 9 is provided and embedded is completed.

【0050】さらに、ビルドアップ基板とする場合は、 (19)絶縁層7の形成(図2(h)) (20)ビアホール8の形成(図2(i)) (21)銅層6Bの形成(図2(j)) (22)銅層6Bへのパターン6B1の形成(図2
(k)) の工程により作成することができる。次に貫通孔2を設
けて埋め込む応用形態について詳述する。
Further, in the case of a build-up substrate, (19) formation of insulating layer 7 (FIG. 2 (h)) (20) formation of via hole 8 (FIG. 2 (i)) (21) formation of copper layer 6B (FIG. 2 (j)) (22) Formation of pattern 6B1 on copper layer 6B (FIG. 2)
It can be prepared by the step (k)). Next, an application mode in which the through hole 2 is provided and embedded will be described in detail.

【0051】(III)貫通孔2を設けて埋め込む応用
形態 この応用形態は、前述した(I)貫通孔2を設けて埋め
込む形態において、回路部品3をその電極3aが基板1
と平行になるように埋め込み、基板1の表と裏の両方に
接続する場合に用いる。この形態による基板板の作成方
法を、工程毎に図3(a)乃至図3(k)を用いて(2
3)〜(33)にて説明する。図3は、プリント配線板
の概略断面図である。
(III) Application Forming with Through Hole 2 Provided and Embedded In this application form, in the above-mentioned form (I) providing the through hole 2 and embedding, the circuit component 3 has its electrode 3a on the substrate 1.
It is used when it is embedded so as to be parallel to and is connected to both the front and back of the substrate 1. A method of manufacturing a substrate plate according to this embodiment will be described with reference to FIG. 3A to FIG.
This will be described in 3) to (33). FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of the printed wiring board.

【0052】(23)貫通孔2の形成(図3(a)) 基板1の回路部品3の埋め込み場所に貫通孔2を形成す
る。この貫通孔2の形状を、回路部品の収納が圧入とな
る形状に設定することに特徴がある。
(23) Formation of Through Hole 2 (FIG. 3A) The through hole 2 is formed in the board 1 at the place where the circuit component 3 is embedded. It is characterized in that the shape of the through hole 2 is set such that the circuit component is press-fitted therein.

【0053】この特徴について具体的に説明する。この
貫通孔2はドリルにて円形あるいは長円形にて形成する
ことができる。そこに埋め込む回路部品3は、通常、直
方体の長手方向両端部に電極3aを有する形態であるか
ら、貫通孔2の開口部形状は、円形より長円形の方が占
める面積が少なく高密度化が可能となるので好ましい。
This feature will be specifically described. This through hole 2 can be formed in a circular shape or an elliptical shape with a drill. Since the circuit component 3 to be embedded therein usually has electrodes 3a at both ends in the longitudinal direction of the rectangular parallelepiped, the shape of the opening of the through-hole 2 is smaller than that of the circle in the area occupied by the ellipse, and the density can be increased. It is possible because it is possible.

【0054】前述のように、図4(b)に示す、開口形
状の長円の一方の円半径をB、その中心をCとし、中心
Cから回路部品の角までの距離をLb、としたとき、
(Lb−B)×2が正の数の場合にその圧入しろを有
し、これを3μm以上30μm以下に設定する。座ぐり
が円形の場合は、その直径をφA2、回路部品の対角長
さをL2としたとき、前述のようにL2−φA2が正の
数の場合にその圧入しろを有し、これを3μm以上30
μm以下に設定する。
As described above, one radius of the ellipse having the opening shape shown in FIG. 4B is B, the center thereof is C, and the distance from the center C to the corner of the circuit component is Lb. When
When (Lb−B) × 2 is a positive number, it has a press-fitting margin, which is set to 3 μm or more and 30 μm or less. When the counterbore is circular and its diameter is φA2 and the diagonal length of the circuit component is L2, as described above, when L2-φA2 is a positive number, it has a press-fitting margin, which is 3 μm. More than 30
Set to less than μm.

【0055】この寸法Lbと径BあるいはL2と径φA
2の関係は、基板のプリプレグやビルドアップした絶縁
層の物性値、部品の大きさによらず共通に設定すること
ができる。これにより、従来、マージンをとり、大きく
開孔していて50μm程度あった、貫通孔2に対する回
路部品3の電極3aの位置のばらつきをほとんど無くす
ことができる。
This dimension Lb and diameter B or L2 and diameter φA
The relationship of 2 can be commonly set regardless of the physical properties of the prepreg of the substrate, the built-up insulating layer, and the size of the component. As a result, it is possible to substantially eliminate the variation in the position of the electrode 3a of the circuit component 3 with respect to the through hole 2, which has a large opening and is about 50 μm in the related art.

【0056】このように、回路部品3の位置精度を確保
することで、信頼性の高い接合が可能となり、貫通孔2
の加工マージン分小さくできることによる高密度化が可
能となる。工程(23)においては、同時にスルーホー
ル4も形成してある。
As described above, by ensuring the positional accuracy of the circuit component 3, highly reliable bonding becomes possible, and the through hole 2
It is possible to increase the density by reducing the processing margin. In the step (23), the through hole 4 is also formed at the same time.

【0057】(24)回路部品3の貫通孔2への収納。
(図3(b)) (25)回路部品3と貫通孔2との空隙への樹脂5の充
填。(図3(c)) (26)不要な樹脂5の除去。(図3(d)) 工程(24)において、回路部品3を貫通孔2に、その
各電極3aが基板1の表面方向に並ぶ向きで収納する。
この回路部品3の圧入方向の外形寸法D3と、基板の厚
さt3との差を所定の値Δt3に設定し、基板表面から
回路部品の電極までがΔt3/2の凹部深さとなるよう
に圧入位置を設定することに特徴がある。
(24) Storage of the circuit component 3 in the through hole 2.
(FIG. 3B) (25) Filling the gap between the circuit component 3 and the through hole 2 with the resin 5. (FIG. 3C) (26) Removal of unnecessary resin 5. (FIG. 3D) In the step (24), the circuit component 3 is housed in the through hole 2 with the electrodes 3a thereof aligned in the surface direction of the substrate 1.
The difference between the external dimension D3 of the circuit component 3 in the press-fitting direction and the thickness t3 of the substrate is set to a predetermined value Δt3, and the recess is Δt3 / 2 from the substrate surface to the electrode of the circuit component. It is characterized by setting the position.

【0058】具体的には、t3−D3=Δt3 とした
ときの凹部深さ寸法Δt3/2を10〜50μmと設定
する。これは、後述するように、(Δt3)/2を、不
要な樹脂をバフ研磨により除去しても部品電極が削れな
い10μm以上であって、かつ、この電極表面と凹部に
残る樹脂をYAGレーザー等で効率良く除去できる50
μm以下とすることで、生産性を向上することができる
ことによる。
Specifically, the recess depth dimension Δt3 / 2 when t3-D3 = Δt3 is set to 10 to 50 μm. As will be described later, this is because (Δt3) / 2 is 10 μm or more at which the component electrodes cannot be scraped off even if the unnecessary resin is removed by buffing, and the resin remaining on the electrode surface and the recess is YAG laser. 50 can be removed efficiently
This is because the productivity can be improved by setting the thickness to μm or less.

【0059】工程(25)における樹脂5の充填によ
り、回路部品3埋め込み後のめっき,スパッタあるいは
蒸着等による導体層の形成時に、この空隙に導体層が形
成されて層間でショートすることを防止できる。この層
間のショート防止ができる最小限の樹脂量にて充填した
場合でも、余分な樹脂が作製中の基板上に付着する可能
性がある。
By filling the resin 5 in the step (25), it is possible to prevent the conductor layer from being formed in the void and short-circuiting between layers when the conductor layer is formed by plating, sputtering or vapor deposition after the circuit component 3 is embedded. . Even if the resin is filled with the minimum amount of resin that can prevent short-circuiting between layers, excess resin may adhere to the substrate being manufactured.

【0060】また、後工程において、真空装置内での処
理や熱処理がある場合、空隙に十分に樹脂を注入してボ
イドが無い状態とすることは、それらの処理を良好にす
るために極めて重要であって、この場合、基板上に余分
な樹脂が付着する可能性は高い。従って、工程(26)
により余分な樹脂分を完全に除去する必要がある。
Further, in the subsequent step, when there is a treatment or heat treatment in a vacuum apparatus, it is extremely important to sufficiently inject the resin into the voids so that there are no voids in order to improve those treatments. In this case, however, there is a high possibility that extra resin will adhere to the substrate. Therefore, step (26)
Therefore, it is necessary to completely remove the excess resin component.

【0061】前述のように、この基板1上の除去手段と
して、ブラスト処理やバフ研磨が知られているが、除去
後の表面の平坦性が優れていることから、バフ研磨が好
ましい。また、回路部品3の電極3a部分での除去は、
前述のレーザー加工によることが行われ、これにより接
続の信頼性を確保することができる。
As described above, blasting and buffing are known as the removing means on the substrate 1. However, buffing is preferable because the flatness of the surface after removal is excellent. Further, the removal at the electrode 3a portion of the circuit component 3 is
The above-mentioned laser processing is carried out, so that the reliability of the connection can be secured.

【0062】(27)めっきによる銅層6Aの形成(図
3(e)) 無電解めっき及び電解めっきにより基板表裏面に銅層6
Aを形成する。これにより、回路部品3の電極3aと銅
層6Aとが接続される。このように、絶縁層7を設けず
にめっきにより銅層6Aを電極3aに直接積層するの
で、基板1の表裏2層のみで回路部品3の接続をするこ
とができることに特徴がある。
(27) Formation of Copper Layer 6A by Plating (FIG. 3 (e)) Copper layer 6 is formed on the front and back surfaces of the substrate by electroless plating and electrolytic plating.
Form A. As a result, the electrode 3a of the circuit component 3 and the copper layer 6A are connected. Since the copper layer 6A is directly laminated on the electrode 3a by plating without providing the insulating layer 7 in this manner, the circuit component 3 can be connected only by the two front and back layers of the substrate 1.

【0063】(28)スルーホール4への樹脂5aの充
填(図3(f)) (29)銅層6Aへのパターン6A1の形成(図3
(g)) 以上により、貫通孔2を設けて埋め込む応用形態のプリ
ント配線板が完成する。
(28) Filling resin 5a into through hole 4 (FIG. 3 (f)) (29) Forming pattern 6A1 on copper layer 6A (FIG. 3)
(G)) With the above, the printed wiring board of the applied mode in which the through holes 2 are provided and embedded is completed.

【0064】さらに、前述と同様にこれをビルドアップ
基板とする場合は、(30)絶縁層7の形成(図3
(h)) (31)ビアホール8の形成(図3(i)) (32)銅層6Bの形成(図3(j)) (33)銅層6Bへのパターン6B1の形成(図3
(k))の工程により作成することができる。
Further, when this is used as a build-up substrate as described above, (30) formation of the insulating layer 7 (see FIG. 3).
(H)) (31) Formation of via hole 8 (FIG. 3 (i)) (32) Formation of copper layer 6B (FIG. 3 (j)) (33) Formation of pattern 6B1 on copper layer 6B (FIG. 3)
It can be created by the step (k)).

【0065】以上説明した構成と方法において、基板材
料及び絶縁層の厚みを限定するものではない。基板1の
プリプレグとしてはエポキシ樹脂,ポリイミド樹脂,B
Tレジン又はこれらをガラスクロスに含浸させた材料が
使用できる。また、銅貼り積層板でなくてもよく、絶縁
樹脂からなる単なるコア基板でもよい。積層する絶縁材
料も制約することなく、エポキシ樹脂,ポリイミド樹
脂,オレフィン樹脂等が使用可能で、これらに、難燃特
性,粗化性,銅層との密着性,機械的特性及びレーザー
加工性を向上させる目的で、染料,顔料又はその他の添
加剤を添加した材料も使用できる。
In the configurations and methods described above, the substrate material and the thickness of the insulating layer are not limited. Epoxy resin, polyimide resin, B
T-resin or a material in which glass cloth is impregnated with T-resin can be used. Further, it may not be a copper-clad laminate, but may be a simple core substrate made of an insulating resin. Epoxy resin, polyimide resin, olefin resin, etc. can be used without restriction on the insulating material to be laminated, and these have flame retardant properties, roughening properties, adhesion to copper layers, mechanical properties and laser processability. For the purpose of improving, a material to which a dye, pigment or other additive is added can also be used.

【0066】貫通孔2と回路部品3との空隙に充填する
樹脂5についても限定されない。空隙の充填に適し、プ
リント配線板の信頼性を損なわないものであれば良い。
さて、本発明の実施例は、上述した構成に限定されるも
のではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において例
えば下記のように変更が可能である。
The resin 5 filling the gap between the through hole 2 and the circuit component 3 is not limited either. Any material that is suitable for filling voids and does not impair the reliability of the printed wiring board may be used.
Now, the embodiment of the present invention is not limited to the above-mentioned configuration, and can be modified as follows, for example, within the scope not departing from the gist of the present invention.

【0067】例えば、回路部品3の埋め込みにおいて、
座ぐり部9に埋め込んだ回路部品3の電極3aが基板1
の表面側を向く様にする場合や、同様の場合でトランジ
スターや集積回路の様に電極3aが3箇所以上あるもの
でも、回路部品3と座ぐり部9との圧入寸法を前述した
寸法に設定し、空隙への樹脂5の充填や余分な樹脂の除
去を行い、さらに回路部品3の電極3aと基板面との凹
部深さを前述の所定の寸法Δt1/2,Δt2,Δt3
/2,Δt4/2とすることで、微細なパターンにより
回路部品3の各電極3aの接続をすることができる。
For example, in embedding the circuit component 3,
The electrode 3a of the circuit component 3 embedded in the counterbore 9 is the substrate 1
When facing the front side of the circuit, or in the same case where there are three or more electrodes 3a such as a transistor or an integrated circuit, the press-fitting dimension between the circuit component 3 and the counterbore 9 is set to the dimension described above. Then, the voids are filled with the resin 5 or the excess resin is removed, and the depth of the recess between the electrode 3a of the circuit component 3 and the substrate surface is set to the above-mentioned predetermined dimensions Δt1 / 2, Δt2, Δt3.
By setting / 2 and Δt4 / 2, each electrode 3a of the circuit component 3 can be connected by a fine pattern.

【0068】また、電極3aが半田コートされた回路部
品3においては、その半田コートの下地がNiめっきで
あることから、半田を除去液で除去してニッケルめっき
電極の回路部品3aとして用いることができる。
Further, in the circuit component 3 having the electrodes 3a coated with solder, since the base of the solder coating is Ni plating, it is possible to remove the solder with a removing liquid and use it as the circuit components 3a of nickel plated electrodes. it can.

【0069】この場合の半田除去液として、メタンスル
ホン酸液を使用することができ、具体的商品例として
は、メルテックス株式会社の「メルストリップHN−9
80M」がある。
In this case, a methanesulfonic acid liquid can be used as the solder removing liquid, and a specific product example is "Melstrip HN-9" manufactured by Meltex Co., Ltd.
There is 80M ".

【0070】本発明者らは、各種回路部品を埋め込んだ
プリント配線板を、鋭意工夫しつつ研究する過程で多く
の試作を作成して評価してきた。その中の、実施例の一
つである抵抗チップ部品を埋め込んだ配線基板につい
て、比較例と合わせて評価した結果を詳述する。
The inventors of the present invention have produced and evaluated many prototypes in the course of researching a printed wiring board in which various circuit components are embedded while devising it. Among them, the result of evaluation of the wiring board in which the resistance chip component is embedded, which is one of the examples, will be described in detail together with the comparative example.

【0071】埋め込み回路部品3として抵抗チップ部品
を用意した。この回路部品3の抵抗値は1kΩ、外形寸
法は0.600×0.300×0.300mmの直方
体、その長手方向の両端に電極を有するものであり、外
形寸法の許容公差を1μmとして選定した。そして、こ
の電極3a表面については、半田コート処理品とNiめ
っき品とを用意した。
A resistance chip component was prepared as the embedded circuit component 3. This circuit component 3 has a resistance value of 1 kΩ, an outer dimension of a rectangular parallelepiped of 0.600 × 0.300 × 0.300 mm, and has electrodes at both ends in the longitudinal direction, and the tolerance of the outer dimension is selected to be 1 μm. . For the surface of the electrode 3a, a solder coat treated product and a Ni plated product were prepared.

【0072】また、この回路部品3を埋め込む基板1と
して、そのコア材に、エポキシ樹脂を含浸したガラスク
ロスを用いた銅貼り両面基板を用意した。基板厚みは、
両面の銅層を含めて0.500mmのものを基準として
0.615mm,0.620mm,0.700mm,
0.720mmのものを用意した。そして、所定の位置
に埋め込み用の円形貫通孔2をドリルで形成した。(図
1(b)参照) ドリルの刃の径及び回転数を調整し、孔径が0.388
mm,0.401mm,0.420mm,0.423m
mのものを作製した。
As the substrate 1 in which this circuit component 3 is embedded, a copper-bonded double-sided substrate using a glass cloth impregnated with an epoxy resin as its core material was prepared. Substrate thickness is
0.615mm, 0.620mm, 0.700mm based on 0.500mm including the copper layers on both sides
The thing of 0.720 mm was prepared. Then, a circular through hole 2 for embedding was formed at a predetermined position with a drill. (See Fig. 1 (b)) Adjust the diameter and rotation speed of the drill blade so that the hole diameter is 0.388.
mm, 0.401 mm, 0.420 mm, 0.423 m
The thing of m was produced.

【0073】一方、座ぐり部9を形成した基板1も作製
した。(図2(a)参照) この座ぐり部9は、開口形状を円形状とし、直径が0.
669mm,0.667mm,0.643mm,0.6
31mmのものを作製した。座ぐり部9の深さについて
は、まずドリルで所定形状に形成し、その後、レーザー
によって、不要な樹脂の除去、座ぐり底面の平坦化を施
し、最終的に座ぐり部9の深さが0.305mm,0.
310mm,0.350mm,0.370mmとなるの
ものそれぞれ作製した。
On the other hand, a substrate 1 having a spot facing 9 was also produced. (See FIG. 2A) The counterbore 9 has a circular opening and a diameter of 0.
669 mm, 0.667 mm, 0.643 mm, 0.6
The thing of 31 mm was produced. Regarding the depth of the spot facing portion 9, first, a drill is formed into a predetermined shape, and thereafter, unnecessary resin is removed by a laser and the bottom surface of the spot facing portion is flattened. 0.305 mm, 0.
Those having a size of 310 mm, 0.350 mm, and 0.370 mm were manufactured.

【0074】ただし、基板1の厚みは電極3aと基板表
面との凹部深さに関係しない為、基板厚み0.700m
mのものを用いた。これらを使用して、貫通孔2を形成
した基板1については前述の工程(2)〜(7)を、座
ぐり部9を形成した基板1については前述の工程(1
3)〜(18)に準じた工程を経た後、絶縁層7として
エポキシ樹脂を50μm塗布して両面配線基板の供試品
を完成させた。
However, since the thickness of the substrate 1 is not related to the recess depth between the electrode 3a and the substrate surface, the substrate thickness is 0.700 m.
m was used. These are used to perform the above-mentioned steps (2) to (7) for the substrate 1 having the through hole 2 formed therein, and the above-described steps (1) to the substrate 1 having the spot facing portion 9 formed therein.
After going through the steps according to 3) to (18), an epoxy resin was applied to the insulating layer 7 to a thickness of 50 μm to complete the test piece of the double-sided wiring board.

【0075】これらの基板1には、その所定の場所にパ
ターニングや絶縁層7の積層を行わない部分を設け、位
置測定用基準マークを設けた。ここで基板1の所定の場
所にパターニング、絶縁層7の積層を行わない部分を設
け、位置測定用基準マークを作製した。
On these substrates 1, a portion where patterning or lamination of the insulating layer 7 was not performed was provided at a predetermined position, and a reference mark for position measurement was provided. Here, a portion where patterning and insulating layer 7 are not laminated is provided at a predetermined position on the substrate 1 to form a reference mark for position measurement.

【0076】これら供試品の内容を整理し、表1に示
す。
The contents of these samples are summarized and shown in Table 1.

【表1】 これら供試品のうち、実施例1〜4、比較例1,3,5
〜8は貫通孔2に抵抗チップ部品を埋め込んだものであ
り、実施例5〜8、比較例2,4,9〜12は座ぐり部
9に抵抗チップ部品を埋め込んだものである。
[Table 1] Among these specimens, Examples 1-4 and Comparative Examples 1, 3, 5
8 to 8 have resistance chip parts embedded in the through hole 2, and Examples 5 to 8 and Comparative Examples 2, 4, 9 to 12 have resistance chip parts embedded in the spot facing portion 9.

【0077】(評価)これら試作品について、回路部
品3の位置精度,電極3aの接続性,絶縁層7表面
の平坦性の評価を行ったのでその評価方法とを説明す
る。
(Evaluation) With respect to these prototypes, the positional accuracy of the circuit component 3, the connectivity of the electrodes 3a, and the flatness of the surface of the insulating layer 7 were evaluated, and the evaluation method will be described.

【0078】位置精度について 各回路部品には、外部より見える部分の中央にレーザー
加工機によりマーキングをあらかじめ付与し、基板上の
部品を埋め込む所定の位置とのずれを測定した。このず
れが5μm以下のものを良好(○以下同様)とした。
Positional accuracy Each circuit part was preliminarily marked with a laser processing machine at the center of the portion visible from the outside, and the deviation from the predetermined position where the part was embedded on the substrate was measured. If the deviation was 5 μm or less, it was evaluated as good (same as ◯ or less).

【0079】接続性について 回路部品3埋め込み後、この基板1上にめっきによって
銅層6Aを30μm形成し、その後200℃2時間のア
ニール処理後パターニングを行った。この段階で、配線
パターン6A1によるチップ抵抗との接続をホットオイ
ル試験により評価した。ホットオイル試験は、供試品を
260℃のオイルに10秒間浸した後、常温空気中に2
0秒放置する処理を1回として、これを100回実施す
るものである。この試験実施後に接続を維持しているも
のを良好とした。
Concerning Connectivity After the circuit component 3 was embedded, a copper layer 6A having a thickness of 30 μm was formed on the substrate 1 by plating, and then an annealing treatment at 200 ° C. for 2 hours was performed and patterning was performed. At this stage, the connection with the chip resistor by the wiring pattern 6A1 was evaluated by a hot oil test. The hot oil test consists of dipping the sample in oil at 260 ° C for 10 seconds and
This is performed 100 times, with one treatment being left for 0 seconds. Those that maintained the connection after conducting this test were considered good.

【0080】平坦性について 絶縁層7としてエポキシ樹脂を50μm塗布した。ここ
で絶縁層7の平坦性を非接触3次元表面粗さ計で測定
し、段差が30μm以内に収まっているものを良好とし
た。
Regarding flatness, an epoxy resin of 50 μm was applied as the insulating layer 7. Here, the flatness of the insulating layer 7 was measured by a non-contact three-dimensional surface roughness meter, and the one having a step within 30 μm was regarded as good.

【0081】表2に、各供試品の評価結果を示す。Table 2 shows the evaluation results of each sample.

【表2】 [Table 2]

【0082】この評価結果から、本願発明に係る実施例
1〜8は、埋め込んだ回路部品3の位置精度、部品電極
3aのパターニングによる接続、ビルドアップ後の絶縁
層7表面の平坦性がいずれも良好であった。これに対し
て、各比較例は以下に示すような不具合が発生した。
From the evaluation results, in Examples 1 to 8 according to the present invention, the positional accuracy of the embedded circuit component 3, the connection by patterning the component electrode 3a, and the flatness of the surface of the insulating layer 7 after buildup were all. It was good. On the other hand, in each comparative example, the following problems occurred.

【0083】比較例1,2の、回路部品の電極表面が半
田コートのものは、銅層めっき後のアニール処理でこの
めっき層が膨れる現象が発生し、プリント配線板として
使用できないものであった。
In Comparative Examples 1 and 2, the circuit parts whose electrode surfaces were solder-coated were unusable as a printed wiring board due to the phenomenon that the plating layer swelled due to the annealing treatment after copper layer plating. .

【0084】比較例3,4の、回路部品と孔の空隙への
樹脂の充填と余分な樹脂の除去を行っていないものは、
同じく銅層めっき後のアニール処理でめっき層が膨れる
現象が発生し、プリント配線板として使用できないもの
であった。
In Comparative Examples 3 and 4, the circuit components and the holes are not filled with resin and the excess resin is not removed,
Similarly, a phenomenon that the plated layer swells due to the annealing treatment after the copper layer plating, and it cannot be used as a printed wiring board.

【0085】比較例5の、基板厚みが0.615mmと
薄く、回路部品との凹部深さ寸法が7.5μmと小さい
ものは、孔の空隙への樹脂充填後、余分な樹脂を削除す
るための研磨工程において、回路部品の電極部分が損傷
して接続性が悪かった。また、その損傷によって、積層
した絶縁層の平坦性にも悪影響を及ぼした。よって、プ
リント配線板として使用できないものであった。
In Comparative Example 5, the substrate thickness is as thin as 0.615 mm and the recess depth dimension with the circuit component is as small as 7.5 μm in order to remove the excess resin after the resin is filled in the voids of the holes. In the polishing process, the electrode part of the circuit component was damaged and the connectivity was poor. Moreover, the damage also adversely affected the flatness of the laminated insulating layers. Therefore, it cannot be used as a printed wiring board.

【0086】比較例6の、基板厚みが0.720mmと
厚く、回路部品との凹部深さ寸法が60μmと大きいも
のは、孔の空隙への樹脂充填後、回路部品の電極上に多
くの樹脂が残り、バフ研磨後に行うレーザー光線による
樹脂の除去が非常に困難で、しかも完全には除去できな
かった。そのため、その後の銅めっきによる銅層と電極
との接続にも悪影響を与え、更に絶縁層の平坦性にも悪
影響を及ぼした。よって、プリント配線板として使用で
きないものであった。
In Comparative Example 6, the thickness of the substrate was as thick as 0.720 mm and the depth of the concave portion with the circuit component was as large as 60 μm. However, it was very difficult to remove the resin with a laser beam after buffing, and the resin could not be completely removed. Therefore, the connection between the copper layer and the electrode by the subsequent copper plating is also adversely affected, and the flatness of the insulating layer is also adversely affected. Therefore, it cannot be used as a printed wiring board.

【0087】比較例7の、圧入しろが0μmで圧入では
ないものは、回路部品の埋め込み位置の精度が悪く、プ
リント配線板として使用できないものであった。
In Comparative Example 7, the case where the press-fitting margin was 0 μm and the press-fitting was not performed, the precision of the embedding position of the circuit component was poor, and it could not be used as a printed wiring board.

【0088】比較例8の、圧入しろが35μmと大きい
ものは、回路部品の圧入により基板の孔に大きな変形が
発生し、プリント配線板として使用できないものであっ
た。回路部品の埋め込み位置の精度が悪いのは、この変
形によるものと考えられた。
The comparative example 8 having a large press-fitting margin of 35 μm could not be used as a printed wiring board because the circuit board had a large deformation due to the press-fitting of circuit components. It was considered that the accuracy of the embedded position of the circuit component was poor due to this deformation.

【0089】比較例9の、座ぐり深さが0.305mm
と浅く、回路部品との凹部深さ寸法が5μmと小さいも
のは、孔の空隙への樹脂充填後、余分な樹脂の除去を目
的とした研磨工程において、回路部品の電極が損傷して
接続性が悪かった。また、その損傷によって積層した絶
縁層の平坦性に悪影響を及ぼした。よって、プリント配
線板として使用できないものであった。
The counterbore depth of Comparative Example 9 is 0.305 mm.
If the depth of the concave portion with the circuit component is as small as 5 μm, the electrode of the circuit component will be damaged during the polishing process for removing the excess resin after the resin is filled into the hole voids, and the connectivity will be improved. Was bad. In addition, the damage adversely affects the flatness of the laminated insulating layers. Therefore, it cannot be used as a printed wiring board.

【0090】比較例10の、座ぐり深さが0.370m
mと深く、回路部品との凹部深さ寸法が70μmと大き
いものは、孔の空隙に樹脂を充填後、回路部品の電極上
に多くの樹脂が残り、バフ研磨後に行うレーザー光線に
よる樹脂の除去が非常に困難で、しかも完全には除去で
きなかった。そのため、その後の銅めっきによる銅層と
電極との接続にも悪影響を与え、更に絶縁層の平坦性に
も悪影響を及ぼした。よって、プリント配線板として使
用できないものであった。
The counterbore depth of Comparative Example 10 is 0.370 m.
In the case where the depth of the groove is as deep as m and the depth of the recess with the circuit component is as large as 70 μm, much resin remains on the electrode of the circuit component after the resin is filled in the voids of the hole, and the resin removal by the laser beam after buffing is performed. It was very difficult and could not be completely removed. Therefore, the connection between the copper layer and the electrode by the subsequent copper plating is also adversely affected, and the flatness of the insulating layer is also adversely affected. Therefore, it cannot be used as a printed wiring board.

【0091】比較例11の、座ぐり部の圧入しろが2μ
mと小さいものは、埋め込み後の回路部品の位置精度が
悪く、プリント配線板として使用できないものであっ
た。
In Comparative Example 11, the press-fitting margin of the spot facing portion is 2 μm.
Those having a small value of m were inferior in the positional accuracy of the circuit components after embedding and could not be used as a printed wiring board.

【0092】比較例12の、座ぐり部の圧入しろが40
μmと大きいものは、回路部品の圧入により、基板の穴
に大きな変形が発生し、プリント配線板として使用でき
ないものであった。回路部品の埋め込み位置の精度が悪
いのは、この変形によるものと考えられた。
In Comparative Example 12, the press-fitting margin of the spot facing portion is 40.
Those having a large value of μm cannot be used as a printed wiring board because the holes of the board are largely deformed by press fitting of circuit parts. It was considered that the accuracy of the embedded position of the circuit component was poor due to this deformation.

【0093】[0093]

【発明の効果】以上詳述したように、本願発明によれ
ば、埋め込み回路部品の接続を半田ではなくめっきで行
えるので、 (イ)半田付けが複数回必要になることはない。 (ロ)半田の接合条件が制約されることはない。 (ハ)半田の素材管理が難しいという問題がない。 また、絶縁層を積層してビルドアップ化した場合でも、 (ニ)半田フラックスによる膨れや破裂が起こることは
ない。 (ホ)めっき厚さが薄いので、ビルドアップ絶縁層の平
坦性が十分確保できる。従って、高い信頼性が得られる
という効果を有する。
As described above in detail, according to the present invention, since the embedded circuit components can be connected by plating instead of soldering, (a) soldering is not required a plurality of times. (B) The soldering conditions are not restricted. (C) There is no problem that solder material management is difficult. Even when the insulating layers are laminated to build up, (d) swelling or rupture due to the solder flux does not occur. (E) Since the plating thickness is thin, sufficient flatness of the buildup insulating layer can be ensured. Therefore, there is an effect that high reliability can be obtained.

【0094】また、回路部品を埋め込み部に圧入して挿
入又は収容し、圧入しろを3〜30μmとしているの
で、 (ヘ)電極の位置のばらつきはほとんど無く、埋め込み
部の形成マージンを少なくできるので高密度化が可能と
なり、また整合ズレによる接合不良は発生しないので高
い信頼性が得られる。さらに、電極の基板厚さ方向端面
を、電極に隣接して形成した銅層からなる配線パターン
の基板側面に対して厚さ方向距離で10μm以上50μ
m以下の凹部としたので、余分な樹脂の除去を目的とし
た研磨工程においてこの電極が損傷して接続性が悪くな
ることがなく、高い信頼性が得られる。
Further, since the circuit component is press-fitted into the embedded portion to be inserted or housed and the press-fitting margin is 3 to 30 μm, (f) there is almost no variation in the position of the electrode, and the formation margin of the embedded portion can be reduced. Higher density is possible, and high reliability is obtained because no joint failure due to misalignment occurs. Further, the end face of the electrode in the thickness direction of the substrate is 10 μm or more and 50 μm in the thickness direction with respect to the side face of the substrate of the wiring pattern made of the copper layer formed adjacent to the electrode.
Since the concave portion has a depth of m or less, high reliability can be obtained without damaging the electrode and deteriorating the connectivity in the polishing step for removing the excess resin.

【0095】また、回路部品の電極表面をNi,Cr若
しくはTiの単体又はNi,Cr若しくはTiの合金で
形成したので、 (ト)充填樹脂の残さ成分を除去する除去液で電極が劣
化させられることがない。 (チ)ビアホール形成を薬品で行った場合でも、この薬
液によって電極が劣化させられることはない。 (リ)電解めっきによる銅層形成時に、基板を浸す電解
液中に電極から鉛や銀が漏出することがないので、電解
液を変質あるいは劣化させることがない。 (ヌ)銅層との密着性に優れる。 従って高い信頼性が得られる。
Moreover, since the electrode surface of the circuit component is formed of Ni, Cr or Ti alone or an alloy of Ni, Cr or Ti, (g) the electrode is deteriorated by the removing liquid for removing the residual component of the filling resin. Never. (H) Even if the via holes are formed by chemicals, the chemical solution does not deteriorate the electrodes. (I) Since lead and silver do not leak from the electrodes into the electrolytic solution in which the substrate is immersed when the copper layer is formed by electrolytic plating, the electrolytic solution is not altered or deteriorated. (G) Excellent adhesion to the copper layer. Therefore, high reliability can be obtained.

【0096】一方、 (ル)回路部品の電極と、この電極と基板の厚さ方向に
おいて隣接して形成した銅層からなる配線パターンと
を、この隣接して形成した銅層でめっきにより接続して
あるので、貫通孔埋め込みの場合、配線基板の表裏2層
でその接続が可能である。従って一段外層からビアホー
ルで接続して4層(配線基板の表裏2層及びビルドアッ
プ層の外側2層)が必要となることがない。座ぐり埋め
込みの場合は、配線基板の片側1層のみで可能であり、
ビアホールで接続して2層が必要となることはない。こ
れにより高密度化が得られるという効果を有する。
On the other hand, (L) the electrode of the circuit component and the wiring pattern made of the copper layer formed adjacent to the electrode in the thickness direction of the substrate are connected by plating with the adjacent copper layer formed. Therefore, in the case of embedding the through hole, the connection can be made in two layers of the front and back of the wiring board. Therefore, it is not necessary to connect four layers (two front and back layers of the wiring board and two outer layers of the buildup layer) by connecting via via holes from the outermost layer. In the case of counterbore embedding, it is possible to use only one layer on one side of the wiring board,
There is no need for two layers connected by via holes. This has the effect of increasing the density.

【0097】以上の(イ)〜(ル)により、 (a)埋め込み回路部品の接続信頼性の飛躍的向上。 (b)回路部品の埋め込み位置の精度向上による高密度
化。 (c)埋め込み回路部品と配線パターンとの接続を少な
い層で行うことによる高密度化。 という極めて優れた効果が得られる。
Due to the above items (a) to (l), (a) the connection reliability of the embedded circuit component is dramatically improved. (B) Higher density by improving the accuracy of the embedded position of the circuit component. (C) Higher density by connecting the embedded circuit component and the wiring pattern with a small number of layers. That is an extremely excellent effect.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のプリント配線板の一実施例の製造工程
を示す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of an embodiment of a printed wiring board of the present invention.

【図2】本発明のプリント配線板の他の実施例の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a manufacturing process of another embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図3】本発明のプリント配線板の別の実施例の製造工
程を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing the manufacturing process of another embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図4】本発明のプリント配線板の一実施例の回路部品
と埋め込み部とを説明する平面図である。
FIG. 4 is a plan view illustrating a circuit component and an embedding portion of an embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図5】本発明のプリント配線板のさらに別の実施例の
製造工程を示す概略断面図である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view showing the manufacturing process of yet another embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図6】従来のプリント配線板の一例を示す概略断面図
である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a conventional printed wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板(同貼り配線板) 2 貫通孔 3 回路部品 3a (回路部品の)電極 4 スルーホール 4A インナービアホール 5,5a 樹脂 6A,6B 銅層 6A1,6B1 配線パターン 7 絶縁層 8 ビアホール 9 座ぐり部 L1,Lb,L2 長さ t1,t2,t3,t4 厚さ φA,φA2 直径 B 半径 D1,D2,D3,D4(埋め込み方向の)寸法 Δt1,Δt2,Δt3,Δt4 深さ 1 board (same wiring board) 2 through holes 3 circuit parts 3a (Circuit parts) electrode 4 through holes 4A Inner beer hole 5,5a resin 6A, 6B Copper layer 6A1, 6B1 wiring pattern 7 Insulation layer 8 beer holes 9 spot facing L1, Lb, L2 length t1, t2, t3, t4 thickness φA, φA2 diameter B radius D1, D2, D3, D4 (in the embedding direction) dimensions Δt1, Δt2, Δt3, Δt4 depth

フロントページの続き (72)発明者 松林 芳輝 神奈川県横浜市神奈川区守屋町3丁目12番 地 日本ビクター株式会社内 Fターム(参考) 5E319 AA01 CC70 CD13 GG15 5E336 AA07 AA08 BB01 BB02 BB03 BC02 BC15 CC31 CC36 CC52 CC53 CC56 CC57 CC58 EE20 GG30 Continued front page    (72) Inventor Yoshiteru Matsubayashi             3-12 Moriya-cho, Kanagawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa             Local Victor Company of Japan, Ltd. F term (reference) 5E319 AA01 CC70 CD13 GG15                 5E336 AA07 AA08 BB01 BB02 BB03                       BC02 BC15 CC31 CC36 CC52                       CC53 CC56 CC57 CC58 EE20                       GG30

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板に貫通孔又は座ぐり部を形成してなる
埋め込み部と、 前記埋め込み部に挿入又は収納した、表面に電極を有す
る回路部品と、 前記基板の少なくとも一面側に、めっきにより、単層又
は絶縁層との交互の複層に形成した銅層からなる配線パ
ターンとを有するプリント配線板において、 前記電極と、前記電極に前記基板の厚さ方向において隣
接して形成した銅層からなる配線パターンとを、前記隣
接して形成した銅層で接続してあることを特徴とするプ
リント配線板。
1. A buried portion formed by forming a through hole or a spot facing portion in a substrate, a circuit component having an electrode on a surface, which is inserted into or housed in the buried portion, and at least one surface side of the substrate is plated by plating. A printed wiring board having a wiring pattern made of a copper layer formed in a single layer or a plurality of alternating layers with an insulating layer, wherein the electrode and a copper layer formed adjacent to the electrode in the thickness direction of the substrate. And a wiring pattern made of the same are connected by the copper layer formed adjacent to the printed wiring board.
【請求項2】前記電極の表面材質を、Ni,Cr若しく
はTiの単体又はNi,Cr若しくはTiの合金とした
ことを特徴とする請求項1記載のプリント配線板。
2. The printed wiring board according to claim 1, wherein the surface material of the electrode is a simple substance of Ni, Cr or Ti or an alloy of Ni, Cr or Ti.
【請求項3】前記埋め込み部は、前記回路部品に対して
圧入しろを有する形状としたことを特徴とする請求項1
又は請求項2記載のプリント配線板。
3. The embedding portion has a shape having a press-fitting margin with respect to the circuit component.
Alternatively, the printed wiring board according to claim 2.
【請求項4】前記圧入しろを、3μm以上30μm以下
としたことを特徴とする請求項3記載のプリント配線
板。
4. The printed wiring board according to claim 3, wherein the press-fitting margin is 3 μm or more and 30 μm or less.
【請求項5】前記電極の前記基板の厚さ方向端面を、前
記隣接して形成した銅層からなる配線パターンの基板側
面に対して、厚さ方向距離で10μm以上50μm以下
の凹部としたことを特徴とする請求項1乃至4のいずれ
か1項に記載のプリント配線板。
5. An end face of the electrode in the thickness direction of the substrate is a recess having a thickness direction distance of 10 μm or more and 50 μm or less with respect to the substrate side face of the wiring pattern formed of the adjacent copper layer. The printed wiring board according to claim 1, wherein the printed wiring board is a printed wiring board.
【請求項6】前記基板あるいは前記絶縁層に、表面にめ
っきによる銅層を形成したスルーホール,インナービア
ホール、ビアホールのいずれかのホールを設け、 前記ホールの表面に形成した銅層と、前記隣接して形成
した銅層とを同一の銅層としてあることを特徴とする請
求項1乃至5のいずれか1項に記載のプリント配線板。
6. A through hole, an inner via hole, or a via hole having a copper layer formed by plating on the surface thereof is provided on the substrate or the insulating layer, and the copper layer formed on the surface of the hole is adjacent to the copper layer. The printed wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein the copper layer formed as described above is the same copper layer.
【請求項7】前記埋め込み部と前記回路部品との空隙に
樹脂を充填してあることを特徴とする請求項1乃至6の
いずれか1項に記載のプリント配線板。
7. The printed wiring board according to claim 1, wherein a resin is filled in a gap between the embedded portion and the circuit component.
【請求項8】少なくとも、基板に貫通孔又は座ぐりによ
る埋め込み部を設ける工程と、 前記埋め込み部に、表面に電極を有する回路部品を挿入
又は収納する埋め込み工程と、 前記基板の少なくとも一面側に、配線パターンとする銅
層を単層又は絶縁層との交互の複層に形成するめっき工
程とを含んでなるプリント配線板の製造方法において、 前記電極の表面材質をNi,Cr若しくはTiの単体又
はNi,Cr若しくはTiの合金とし、 前記めっき工程は、前記電極に前記基板の厚さ方向にお
いて隣接する銅層を、前記電極と接続して形成する工程
を含んでなることを特徴とするプリント配線板の製造方
法。
8. A step of at least providing an embedded portion by a through hole or a spot facing in the substrate, an embedding step of inserting or accommodating a circuit component having an electrode on the surface in the embedded portion, and at least one surface side of the substrate. A method for manufacturing a printed wiring board, comprising: a plating step of forming a copper layer as a wiring pattern in a single layer or in an alternate multi-layer with an insulating layer, wherein the surface material of the electrode is Ni, Cr or Ti alone. Or an alloy of Ni, Cr, or Ti, and the plating step includes a step of forming a copper layer adjacent to the electrode in the thickness direction of the substrate by connecting to the electrode. Wiring board manufacturing method.
【請求項9】前記めっき工程よりも前に、前記埋め込み
部と前記回路部品との空隙に樹脂を充填した後、不要な
前記樹脂を除去する工程を有することを特徴とする請求
項8記載のプリント配線板の製造方法。
9. The method according to claim 8, further comprising a step of removing unnecessary resin after filling a resin in a gap between the embedded portion and the circuit component before the plating step. Manufacturing method of printed wiring board.
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