JP2003323976A - 表示装置および電子機器 - Google Patents

表示装置および電子機器

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JP2003323976A
JP2003323976A JP2002131114A JP2002131114A JP2003323976A JP 2003323976 A JP2003323976 A JP 2003323976A JP 2002131114 A JP2002131114 A JP 2002131114A JP 2002131114 A JP2002131114 A JP 2002131114A JP 2003323976 A JP2003323976 A JP 2003323976A
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organic
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color
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Nobuyuki Ito
信行 伊藤
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 3色並置方式において、各色発光材料を封止
する際に用いられる各色発光材料ごとの充満気体を最適
にできる、有機EL表示装置を提供する。 【解決手段】 一対の電極間に発光層を配した表示画素
を、複数配設し、且つ、異なる発光色の複数の発光層を
有するフルカラー表示用の有機EL表示装置であって、
各表示画素部は、それぞれ、発光層を、発光特性の安定
性、信頼性の面から、各発光色の発光層ごとに対応させ
た所定の組成の気体に接触させている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、情報表示装置に関
し、特に、エレクトロルミネッセンス素子(以下、エレ
クトロルミネッセンスをELで表現し、EL素子とも言
う)を利用したディスプレイ装置であるELディスプレ
イ装置と該ELディスプレイ装置を表示部に用いた電子
機器に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、平面表示装置( 以下、フラットデ
ィスプレイとも言う) が多くの分野、場所で使われてお
り、情報化が進む中で、ますます、その重要性が高まっ
ている。現在、フラットディスプレイの代表と言えば液
晶ディスプレイ(以下、LCDとも言う)であるが、L
CDとは異なる表示原理に基づくフラットディスプレイ
として、有機EL、無機EL、プラズマディスプレイパ
ネル(以下、PDPとも言う)、ライトエミッティング
ダイオード表示装置(以下、LEDとも言う)、蛍光表
示管表示装置(以下、VFDとも言う)、フィールドェ
ミッションディスプレイ(以下、FEDとも言う)など
の開発も活発に行われている。これらの新しいフラット
ディスプレイはいずれも自発光型と呼ばれるもので、L
CDとは次の点で大きく異なり、LCDには無い優れた
特徴を有している。LCDは、受光型と呼ばれ、液晶は
自身では発光することはなく、外光を透過、遮断する、
いわゆるシャッターとして動作し、表示装置を構成す
る。このため光源を必要とし、ー般に、バックライトが
必要である。これに対して自発光型は、装置自身が発光
するため別光源が不要である。LCDのような受光型で
は表示情報の様態に拘わらず常にバックライトが点灯
し、全表示状態とほぼ変わらない電力を消費することに
なる。これに対して自発光型は、表示情報に応じて点灯
する必要のある箇所だけが電力を消費するだけなので、
受光型表示装置に比較して電力消費が少ないという利点
が原理的にある。LCDでは、バックライト光源の光を
遮光して暗状態を得るため、少量であっても光漏れを完
全に無くすことは困難であるのに対して、自発光型では
発光しない状態がまさに暗状態であるので理想的な暗状
態を容易に得ることができコントラストにおいても自発
光型が圧倒的に優位である。また、LCDは液晶の複屈
折による偏光制御を利用しているため、観察する方向こ
よって大きく表示状態が変わるいわゆる視野角依存性が
強いが、自発光型ではこの問題がほとんど無い。さら
に、LCDは有機弾性物質である液晶の誘電異方性に由
来する配向変化を利用するため、原理的に電気信号に対
する応答時間が1msec以上である。これに対して、
開発が進められている上記の技術では電子、正孔といっ
たいわゆるキャリア遷移、電子放出、プラズマ放電など
を利用しているため、応答時間はnsec桁であり、液
晶とは比較にならないほど高速であり、LCDの応答の
遅さに由来する動画残像の問題が無い。
【0003】これらの中でも、特に、有機ELの研究が
活発である。有機ELはOEL(Organic E
L)または有機ライトエミッティングダイオード(OL
ED;Organic Light Emitting
Diode)とも呼ばれている。OEL素子、OEL
D素子は、陽極と陰極の一対の電極間に有機化合物を含
む(EL層)を挟持した構造となっており、Tang等
の「アノード電極/ 正孔注入層/ 発光層/ カソード電
極」の積層構造が基本になっている。(特許15260
26号公報) また、Tang等が低分子材料を用いているの対して、
中野らは、高分子材料を用いている。(特開平3−27
3087号公報) また、正孔注入層や電子注入層を用いて効率を向上させ
たり、発光層に蛍光色素等をドーブして発光色を制御す
ることも行われている。尚、ここでは、画素電極と対向
電極が陽極、陰極のいずれかに相当し、ー対の電極を構
成する。そして、ー対の電極間に設けられる全ての層
を、総称して、EL層と呼び、上記の正孔注入層、正孔
輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層がこれに含ま
れる。
【0004】図4に有機EL素子の断面構造を示す。有
機ELは、電極間に電場を印加し、EL層に電流を通じ
ることで、発光するが、従来はー重頃励起状態から基底
状態に戻る際の蛍光発光のみを利用していたが、最近の
研究により、三重項励起状態から基底状態に戻る際の燐
光発光を有効に利用することができるようになり、効率
が向上している。通常、ガラス基板やプラスチック基板
といった透光性の支持基板(基板2)にー方の電極3を
形成してから、発光層(有機EL層とも言う)4、対向
電極5の順に形成して製造される。基板2上に形成され
る電極3は陽電極(単に陽極、あるいはアノードとも言
う)であっても陰電極(単に陰極、あるいはカソーとも
言う)であっても良く、これによって図4のように、基
板側に発光10するボトムエミッション構造と、図5の
ように、基板逆方向に発光10するトップエミッション
構造がある。トップエミッション構造の場合は基板は透
光性である必要はない。透光性基板の光導波路効果によ
って失活される発光を低屈折率材料を用いて外部に取り
出し、光取り出し効率を向上させる研究も行われてい
る。なお、図4、図5では図示しないが、有機EL素子
は水分や酸素による特性劣化が著しいため、ー般には、
素子が水分や酸素に触れない様に不活性ガスを充満した
上で、別基板を用いたり、薄膜蒸着によりいわゆる封止
を行ない信頼性を確保している。EL層の形成方法とし
ては、低分子材料ではー般に真空蒸着法が用いられ、高
分子材料では溶液化して、スピンコートや印刷法、転写
法が用いられる。異なる発光色材料を微細画素に形成し
てカラー表示装置を作製する場合には、低分子材料では
マスク蒸着法が用いられ、高分子材料ではインクジェッ
ト法や印刷法、転写法などが用いられる。
【0005】有機EL素子をディスプレイとして利用す
る場合、LCDと同様に、電極構成と駆動方法によりパ
ッシブマトリクス方式とアクティブマトリクス方式に大
別することが出来る。パッシブマトリクス方式は、EL
層を挟んで互いに交差する水平方向電極と垂直方向電極
によりー対の電極を構成するもので構造が簡単である
が、画像を表示するためには時分割走査により走査線の
本数倍だけ瞬間輝度を高めなければならず、通常のVG
A以上のディスプレイでは10000cd/m2 を上回
る有機ELの瞬間輝度が必要であり、ディスプレイとし
ては実用上多くの問題がある。アクティブマトリクス方
式は、TFTを形成した基板に画素電極を形成し、EL
層、対向電極を形成するもので、パッシブマトリクス方
式に比べて構造は複雑であるが、発光輝度、消費電力、
クロストークといった多くの点で有機ELディスプレイ
として有利である。さらに、多結晶シリコン(ポリシリ
コン)膜や連続粒界シリコン(CGシリコン)膜を用い
たアクティブマトリクス方式ディスプレイでは、アモル
ファスシリコン膜よりも電界効果移動度が高いので、T
FTの大電流処理が可能であり、電流駆動素子である有
機ELの駆動に適している。また、ポリシリコンTFT
では高速動作が可能であることにより、従来、外付けの
ICで処理していた各種制御回路を、ディスプレイ画素
と同一基板上に形成し、表示装置の小型化、低コスト
化、多機能化等多くのメリットがある。
【0006】ここで、従来の有機EL表示装置の画素回
路構成と、アクティブマトリクス方式の有機EL表示装
置の信号処理システムについて、簡単に説明しておく。
図6は、従来の有機EL表示装置の代表的な画素回路構
成であるが、走査線G(11)、データ信号線D(1
2)、電源供給線V(13)の各バスラインに加えて、
スイッチング用TFT(14)、ゲート保持容量(1
5)、駆動用TFT(16)とEL素子(17)で構成
される。走査線G(11)で選択されたスイッチング用
TFT(14)のゲートがオープンされデータ信号線D
(12)から発光強度に応じた信号電圧がTFTソース
に加えられると駆動用TFT(16)のゲートが信号電
圧の大きさに応じてアナログ的にオープンされ、その状
態がゲート保持容量(15)で保持される。電源供給線
V(13)から駆動用TFT(16)のソースに電圧が
印加されるとゲートの開き具合に応じた電流がEL素子
(17)に流れ、信号電圧の大きさに応じて階調的に発
光する。図7は画素(18)をマトリクス状に配置した
実際の表示装置の構造である。配線の簡略化のために、
図8のように隣接する画素の電源供給線V1、2を共通
化しても良い。有機EL表示装置の回路構成、駆動方法
としては、他にTFTの数を更に多くしたもの(Yum
otoらの『Pixel−Driving Metho
dsfor Large−Sized Poly−si
AM−OLED Displays』Asia Di
splay/IDW’01 P. 1395−1398)
や、時間分割階調(Mizukamiらの『6−bit
Digital VGA OLED』SID’00
P. 912−915)や面積分割階調(Miyasit
aらの『Full Color Displays F
abricated by Ink−Jet Prin
ting』Asia Display/IDW’01
P. 1399−1402)などのディジタル階調駆動法
がある。
【0007】カラー化を達成する方法としては、最も基
本的なR、G、Bの3色の有機EL材料を表示装置の画
素毎に精密に配置する3色並置方式の他に、白色発光層
とR、G、Bのカラーフィルター(CFとも言う)を組
み合わせるCF方式と青色発光層とR、Gの蛍光変換色
素フィルターとを組み合わせえるCCM(ColorC
hanging Medium)方式がある。
【0008】このように、多くの特徴をもった有機EL
表示装置であるが、前述したように水分や酸素による特
性劣化が著い、という問題がある。このため、通常は、
不活性ガスを充満した上で、別基板を用いたり薄膜蒸着
によりいわゆる封止を行ない信頼性を確保している。実
際の作製工程としては、真空蒸着法による低分子有機E
L層の形成、スピンコート、インクジェット法や印刷
法、転写法による高分子有機EL層の形成の後に、一貫
して大気から隔離し窒素ガス等の不活性気体を充満した
環境で封止を行い装置を完成させている。充満する気体
は、有機ELの発光特性を長期間に渡って安定に維持す
るためのもので、安定性、信頼性の面で非常に重要であ
り、発光材料によってその最適な気体が異なる。CF方
式やCCM方式では発光材料が1種類であるためこの問
題は無いが、3色並置方式では従来のように充満気体が
1種類だけでは、R、G、Bの3色の発光材料に最適な
安定性を確保することが出来ず有機ELの性能を十分に
発揮することができない。また、CF方式では白色発光
材料が必要であるが照明用途としての見かけの白色有機
EL材料は実現しているが、R、G、Bの3色のスペク
トルを備えた真の白色有機EL材料は未だ実現しておら
ず、またカラーフィルターを使用するために発光の利用
効率が1/3になってしまう欠点がある。CCM方式で
は青色発光材料のみを使用するためその発光効率とCC
MフィルターのR、Gへの変換効率が重要であるが十分
な効率を得ることは容易ではなく実用にはなっていな
い。CF方式のLCDがテレビ映像の再現性に難点があ
るのと同様に、色再現性の点でCF方式は不十分であ
る。CCM方式も1 種のフィルター方式であり、この点
は同様であり、3 色並置方式は各色発光材料の材料組成
を微妙に調整することで色再現性に優れている。また、
CF方式やCCM方式はフィルターを使用するため素子
が厚くなったり部品点数が多くなるなど、総合的に3 色
並置方式が有利である。最も重要なカラー化方式である
3色並置方式で安定性、信頼性を最適にするためには、
各色発光材料ごとに充満気体を最適にする必要がある
が、これまではそのような有機EL素子及び表示装置は
無かった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来、
有機EL表示装置のカラー化における、CF方式、CC
M方式は色再現性の点で問題があり、3色並置方式は色
再現性の点で優れてはいる等利点があるが、これまで
は、3色並置方式において、各色発光材料を封止する際
に用いられる各色発光材料ごとの充満気体を適切にでき
る、有機EL素子及び表示装置は無かった。本発明は、
これに対応するもので、3色並置方式において、各色発
光材料を封止する際に用いられる各色発光材料ごとの充
満気体を適切にできる、有機EL表示装置を提供しよう
とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明の表示装置は、一
対の電極間に発光層を配した表示画素を、複数配設し、
且つ、異なる発光色の複数の発光層を有するフルカラー
表示用の有機EL表示装置であって、各表示画素部は、
それぞれ、発光層を、発光特性の安定性、信頼性の面か
ら、各発光色の発光層ごとに対応させた所定の組成の気
体に接触させていることを特徴とするものである。そし
て、上記において、第1の電極をその一面に配設し、ベ
ース基板上に、第1の電極とその対向電極とを前記一対
の電極として設け、表示画素は、それぞれ、各発光色の
発光層ごとに、隔壁により区分けされているもので、隔
壁はベース基板から対向電極に達し、更に、対向電極か
ら所定の距離に設けられた板状の封止基材の一面にまで
達する、あるいはほぼ達するもので、画素毎に、発光層
の封止基材側に、対向電極と、隔壁と、封止基材とによ
って囲まれ形成される空間を設けており、画素の発光層
に合せ、前記空間に、それぞれ、対応した所定の組成の
気体を充満させていることを特徴とするものであり、隔
壁と封止基材とが、接着材により固定されてなることを
特徴とするものである。
【0011】本発明の電子機器は、上記、本発明の表示
装置を、表示部に用いたことを特徴とするものである。
【0012】
【作用】本発明の表示装置は、このような構成にするこ
とにより、3色並置方式において、各色発光材料を封止
する際に用いられる各色発光材料ごとの充満気体を最適
にできる、有機EL表示装置の提供を可能とするもので
ある。具体的には、一対の電極間に発光層を配した表示
画素を、複数配設し、且つ、異なる発光色の複数の発光
層を有するフルカラー表示用の有機EL表示装置であっ
て、各表示画素部は、それぞれ、発光層を、発光特性の
安定性、信頼性の面から、各発光色の発光層ごとに対応
させた所定の組成の気体に接触させていることにより、
これを達成している。詳しくは、複数の、異なる発光色
の発光層を使用する表示装置において、発光層ごとに適
切な環境を提供することによって、発光特性の安定性、
信頼性に優れた有機EL表示装置の提供を可能とする。
【0013】本発明の電子機器は、このような構成にす
ることにより、3色並置方式において、各色発光材料を
封止する際に用いられる各色発光材料ごとの充満気体を
最適にできる、有機EL表示装置を表示部に用いた電子
機器の提供を可能とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の例を、図に
基づいて説明する。図1は本発明の表示装置の実施の形
態の第1の例の、特徴部である表示部の断面図で、図2
は本発明の表示装置の実施の形態の第2の例の、特徴部
である表示部の断面図で、図3は本発明の表示装置の実
施の形態の第3の例の、特徴部である表示部の断面図で
ある。図1〜図3中、1は有機EL表示装置、2は基板
(ベース基板とも言う)、3は第1の電極(単に電極と
も言う)、4は有機EL層(発光層とも言う)、4aは
第1の有機EL層(R用の有機EL層、R用の発光層と
も言う)、4bは第2の有機EL層(G用の有機EL
層、G用の発光層とも言う)、4cは第3の有機EL層
(B用の有機EL層、B用の発光層とも言う)、5は第
2の電極(対向電極とも言う)、6は隔壁、7封止基
材、8は気体、8aは第1の気体、8bは第2の気体、
8cは第3の気体、9はシール材(接着材とも言う)で
ある。
【0015】はじめに、本発明の表示装置の実施の形態
の第1の例を説明する。第1の例の表示装置は、図1に
示す、3色並置方式の有機EL表示装置で、基板2上に
第1の電極3を各画素毎に配し、各第1の電極3に対向
して、それぞれ、第2の電極5を配し、第1の電極3と
第2の電極5間に、それぞれ、所定の有機EL層(4
A、4b、4cの1つ)を配し、且つ、各画素は、これ
を囲むようにして設けられた隔壁6で、互いに区切られ
ている。そして、隔壁6は基板2から第2の電極5まで
に達し、更に、第2の電極5から所定の距離に設けられ
た板状の封止基材7の一面に達し、画素毎に、その封止
基材7側に、第2の電極5と、隔壁6と封止基材7とで
囲まれる空間を形成しており、発光特性の安定性、信頼
性の面から、各空間には、各画素の有機EL層の種類
(有機EL層4a、4b、4cの3種の1つ)に対応し
た所定の組成の気体が充填されている。ここでは、有機
EL層4A、4b、4cに対応して、それぞれ、問題と
なる水分や酸素による特性劣化を起こさないような気体
8a、8b、8cが、各空間に充填してある。尚、第1
の電極3、第2の電極5は、ボトムエミッション構造、
トップエミッシヨン構造に応じて、それぞれ、陽電極
(アノード)、陰電極(カソード)、あるいは陰電極
(カソード)、陽電極(アノード)であって良い。
【0016】基板2としては、ガラス基板、プラスチッ
ク基板等が用いられ、図4に示すボトムエミッション構
造の場合は、透明性が要求される。隔壁6の材料として
は、感光性の樹脂やレジストを用いても良いし、非感光
性の樹脂やSiO2 などの無機層をエッチングなどで形
成しても良い。有機EL層4a、4b、4cとしては、
正孔注入層上に、各色の発光有機材料を積層したものが
挙げられ、具体的には、正孔注入層として、TPD
(N、N’−diphenyl−N、N’−bis(3
methyl−phenyl)−1、1−diphen
yl−4、4’−diamine)、3色の発光有機材
料のG(緑)発光有機材料として、Alq3 (tris
(8−hydroxyquinoline)alumi
nium)、B(青)発光材料としてDPVBi(1、
4−bis(2、2−diphenylivinyl)
biphenyl)、R(赤)発光材料としてAlq3
にDCM(ジシアノメチレンピラン誘導体) を1. 0w
t%添加したものを用いる場合や、PEDOT(ポリチ
オフェン:Bayer CH8000)をスピンコート
により80nmの厚さに塗布し、160℃で焼成して形
成したものを、正孔注入層として、該PEDOTの上
に、下記組成の、それぞれ異なる蛍光色素に対応し、有
機EL層形成用塗布液により塗布形成される、それぞれ
異なる3色の高分子有機EL材料を用いる場合等が、挙
げられる。 <有機EL層形成用塗布液組成> ・ポリビニルカルバゾール 70 重量部 ・オキサジアゾール化合物 30 重量部 ・蛍光色素 1 重量部 ・モノクロロベンゼン(溶媒) 4900重量部 尚、蛍光色素がクマリン6の場合は501nmをピーク
に持つ緑色発光、ペリレンの場合は460nm〜470
nmに持つ青色発光、DCMの場合は570nmをピー
クに持つ赤色発光が得られる。陽電極としてITO、陰
電極27としては、MgAg合金等が用いられる。有機
EL層4a、4b、4c、それぞれ、に対する、適切な
気体8a、8b、8cの選定は、通常、封入気体の組成
を変化させた状態で、発光寿命試験を行い、その結果か
ら、適切な組成を決定することにより行なう。
【0017】本例の有機EL表示装置の製造方法は、簡
単には、基板2上への電極3形成工程、隔壁6の形
成工程、各有機EL層(4a、4b、4c)の配設工
程および対向電極5の形成工程、封止基材7の配設工
程、気体(8a、8b、8c)の注入工程を順に行な
うものである。 基板2上への電極3形成工程では、真空蒸着法等によ
り、電極形成を行なう。 隔壁6の形成工程では、隔壁が感光性の樹脂やレジス
トの場合は、通常のフォトリソ法により、また、隔壁が
非感光性の樹脂やSiO2 などの無機層である場合は、
エッチング法などで形成する。 各有機EL層(4a、4b、4c)の配設工程では、
基板2上に正孔注入層を形成した上に、各色の発光有機
材料をマスク蒸着やインクジェット法により、それぞれ
を形成して積層する。対向電極形成工程では、真空蒸着
法等により電極形成を行なう。 封止基材7の配設工程は、隔壁上に直接装着、あるい
は、接着材(シール材兼用もある)を介して装着する。 気体(8a、8b、8c)の注入工程では、気体毎
に、その封入孔を、作製の際、隔壁パターン部に形成し
ておき、封入孔からマイクロシリンジやマイクロポンプ
などにより、直接気体封入する方法などが採られる。
【0018】次に、本発明の表示装置の実施の形態の第
2の例を挙げる 第2の例の表示装置は、図1にその特徴部示す第1の例
において、図2に示すように、更に、表示装置の全周辺
にわたり、シール材9を配設し、封止基材7を固定した
ものである。第1の例の有機EL表示装置を作製した
後、更にシール工程を行なうことにより、得られる。シ
ール材9としては、UV硬化型接着剤、熱硬化型接着剤
等が挙げられる。
【0019】次に、本発明の表示装置の実施の形態の第
3の例を挙げる 第3の例の表示装置は、図1にその特徴部示す第1の例
において、図3に示すように、隔壁6毎に、シール材9
を隔壁6と封止基材7との間に配設したもので、封入空
間の形成が、第1の例、第2の例に比べ、より効果的で
ある。第1の例の製造方法の封止基材7の配設工程に
おいて、シール工程を同時に行なう。隔壁6の上面にシ
ール材を設置するにはマイクロシリンジを用いたり、別
基板にシール材を塗布してから隔壁を形成した素子を基
板を押し付けてシール材を転写するなどの方法を用いる
ことができる。シール材9としては、UV硬化型接着
剤、熱硬化型接着等が挙げられる。
【0020】本発明の表示装置の形態としては、第1の
例〜第3の例のように、隔壁6が各画素を囲むように形
成する場合の他に、各色の有機EL層をストライプ状に
配設する場合には、色毎のラインを隔離するように、ラ
イン状に配設する例(変形例)を挙げることができる。
【0021】尚、隔壁を用いた有機EL表示装置として
は、特開平10−261490号、特開2000−
310958号、特開2000−30858号、特
開2001−345178号があるが、それぞれ、本発
明とは異なるものである。簡単には、更に説明しておく
と、特開平10−261490号は、いわゆるパッシ
ブマトリクス方式でのカソードセパレーターであり、
特開2000−310958号は、隔壁( スベーサー)
とバックプレートとで密閉空間を形成する点は、本発明
と同様であるが、本発明のように画素毎ではなく表示装
置全体でー式の密閉空間を形成しているだけであり、
特開2000−30858号は、表示エリアと接着材エ
リアの間に隔壁を形成し接着剤の流動を防ぐものであ
り、特開2001−345178号は、隔壁が金属膜
を含むものであり、隔壁を帯電させることで有機EL層
の帯電制御形成を目的としており、いずれも、上記本発
明の形態例や変形例とはまったく異なるものである。
【0022】本発明の電子機器の形態例としては、先に
述べた実施の形態例やその変形例の表示装置を表示部と
して用いた、図9(a)に示す携帯電話や、図9(b)
に示すPDA(Personal Degital A
ssistant)や、PC(Personal Co
mputer)、テレビ受像機、ビデオカメラを挙げる
ことができる。
【0023】
【実施例】実施例を挙げて、本発明を更に説明する。 (実施例1)実施例1は、前述の実施の形態の第2の例
の表示装置を作製したもので、ガラス基板上にポリシリ
コン膜を使って、図6に示すCMOS構造TFTを駆動
TFTとした画素構成の有機EL素子を、図7のよう
に、マトリクス配置して、アクティブマトリックス表示
の有機EL表示装置を作製した。画素回路、ドライバー
回路を作製した上に、パッシベーション層を介して画素
駆動TFTに画素形状にバターニングしたITO透明電
極をスパッタ接続し、更に感光性樹脂により5μm高さ
の隔壁6を形成した後、図4に示す構造の有機EL素子
を積層して作製した。図2を基に説明する。有機EL層
4は、正孔注入層TPD(N、N’−diphenyl
−N、N’−bis(3methyl−phenyl)
−1、1−diphenyl−4、4’−diamin
e)と各色の発光有機材料を積層するとともに、マスク
蒸着により3色並置蒸着し、サブピクセルとしてフルカ
ラー表示装置とした。G(緑)発光有機材料としてAl
3 (tris(8−hydroxyquinolin
e)aluminium)、B(青)発光材料としてD
PVBi(1、4−bis(2、2−diphenyl
ivinyl)biphenyl)、R(赤)発光材料
としてAlq3 にDCM(ジシアノメチレンピラン誘導
体) を1. 0wt%添加したものを用いた。陽電極(第
1の電極)3としてITO、陰電極(第2の電極5)と
して、MgAgを用いた。TPDとITOとが接する積
層順とした。ITOは厚さ150nmとし、高真空下で
予熱を十分に行った昇華精製装置で精製したTPD
(m)をタングステンボードに装荷して抵抗加熱法で5
0nm成膜した。昇華精製された各色発光材料を石英ボ
ードで装荷して、抵抗加熱法で30nmの厚さに成膜し
た。続いて、MgAg合金(Mg:Ag=10:1)を
厚さ150nmになるように蒸着し、さらにその上に、
保護層として、Agを200nmの厚みになるように蒸
着し、陰電極(第2の電極5)を形成した。最後に、別
に用意したガラス板7とUV硬化シール材9により、図
2の如く封止し、一部に開口しておいた孔からG画素に
は窒素を、B画素にはアルゴンを、R画素には窒素:ア
ルゴン5:1としたガスを充填し孔を同じくUV硬化シ
ール材により塞いで完成した。尚、G画素、B画素、R
画素は、それぞれ、緑色発光画素、青色発光画素、赤色
発光画素のことである。この装置を100cd/m2で
連続点灯試験したところ、いずれの発光色も同様の輝度
減衰特性を示し、特定の発光色の劣化によって、装置寿
命が制限されるというこれまでの制約が無いことが確認
された。
【0024】(実施例2)実施例2は、UV硬化シール
材9を、図3の如く各隔壁6の上面に設置し、気体充填
空間の隔離をより気密にした以外は、実施例1と同様に
行なって得たものである。実施例1と同様に連続点灯試
験を行なったところ、いずれの発光色もほぼ同様の輝度
減衰特性を示したが、実施例1よりも減衰が緩やかで、
気密性を高めた効果が確認された。
【0025】(実施例3)実施例3は、実施例1で用い
た低分子有機EL材料を高分子有機EL材料とした以外
は、実施例1と同じで、実施例1と同様に行なって得た
ものである。正孔注入層はPEDOT(ポリチオフェ
ン:Bayer CH8000)をスピンコートにより
80nmの厚さに塗布し、160℃で焼成して形成し
た。PEDOTの上に、下記の高分子有機EL材料を、
溶媒に溶解して液状化したものをインクジェット法によ
り3色並置蒸着し、サブピクセルとしてフルカラー表示
装置とした。実施例1と同様な表示装置が得られた。 (有機EL層形成用塗布液組成) ・ポリビニルカルバゾール 70 重量部 ・オキサジアゾール化合物 30 重量部 ・蛍光色素 1 重量部 ・モノクロロベンゼン(溶媒) 4900重量部 蛍光色素がクマリン6の場合は501nmをピークに持
つ緑色発光、ペリレンの場合は460nm〜470nm
に持つ青色発光、DCMの場合は570nmをピークに
持つ赤色発光が得られた。実施例3の場合、充満させる
気体の組成は、G画素には窒素:アルゴン10:1、B
画素には窒素:アルゴン5:1、R画素には窒素:アル
ゴン1:1とした。
【0026】(実施例4)実施例4は、アクティブマト
リクス表示ではなくTFTを用いないパッシブマトリク
ス表示装置とした以外は実施例1と同様に行なった。所
定の画面輝度を得るには、走査線数倍の瞬間輝度が必要
であるため、アクティブマトリクス表示装置よりも輝度
減衰は速かったが、いずれの発光色もほぼ同様の輝度減
衰特性を示し効果が確認された。
【0027】(比較例)比較例として、従来と同じよう
に充填気体を窒素だけとした表示装置を作製した。アク
ティブマトリクス表示装置、パッシブマトリクス表示装
置のいずれにおいても、また低分子発光材料、高分子発
光材料のいずれにおいても、発光材料によって輝度減衰
特性が異なり、特定の発光色の劣化によって装置寿命が
制限されるというこれまでの制約が発生してしまった。
以上、本発明の実施例について説明したが、本発明はこ
れに限定されるものではない。
【0028】
【発明の効果】本発明は、上記のように、3色並置方式
において、各色発光材料を封止する際に用いられる各色
発光材料ごとの充満気体を最適にできる、有機EL素子
及び表示装置の提供を可能とした。同時に、そのような
表示装置を表示部とした電子機器の提供を可能とした。
即ち、本発明により、最も重要なカラー化方式である3
色並置方式で最適な安定性、信頼性を実現した有機EL
表示装置と、そのような表示装置を搭載した実用的な電
子機器の提供を可能とした。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の表示装置の実施の形態の第1の例の、
特徴部である表示部の断面図である。
【図2】本発明の表示装置の実施の形態の第2の例の、
特徴部である表示部の断面図である。
【図3】本発明の表示装置の実施の形態の第3の例の、
特徴部である表示部の断面図である。
【図4】有機EL素子の構造を示す断面図である。
【図5】有機EL素子の構造を示す断面図である。
【図6】アクティブ駆動有機EL表示装置の画素の構成
を示す回路図である。
【図7】アクティブ駆動有機EL表示装置のマトリクス
画素構成を示す構成図である。
【図8】共通化電源V1、2を説明するための回路構成
図である。
【図9】本発明の電子機器の形態例を示した図である。
【符号の説明】
1 有機EL表示装置(電子機器の表示部と
も言う) 2 基板(ベース基板とも言う) 3 第1の電極(単に電極とも言う) 4 有機EL層(発光層とも言う) 4a 第1の有機EL層(R用の有機EL層、
R用の発光層とも言う) 4b 第2の有機EL層(G用の有機EL層、
G用の発光層とも言う) 4c 第3の有機EL層(B用の有機EL層、
B用の発光層とも言う) 5 第2の電極(対向電極とも言う) 6 隔壁 7 封止基材 8 気体 8a 第1の気体 8b 第2の気体 8c 第3の気体 9 シール材(接着材とも言う) 10 発光 11 ゲート走査線G 12 データ信号線D 13 電源供給線V 14 スイッチング用TFT 15 ゲート保持容量 16 EL駆動用TFT 17 EL素子 18 画素 19 入力部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一対の電極間に発光層を配した表示画素
    を、複数配設し、且つ、異なる発光色の複数の発光層を
    有するフルカラー表示用の有機EL表示装置であって、
    各表示画素部は、それぞれ、発光層を、発光特性の安定
    性、信頼性の面から、各発光色の発光層ごとに対応させ
    た所定の組成の気体に接触させていることを特徴とする
    表示装置。
  2. 【請求項2】 請求項1において、第1の電極をその一
    面に配設し、ベース基板上に、第1の電極とその対向電
    極とを前記一対の電極として設け、表示画素は、それぞ
    れ、各発光色の発光層ごとに、隔壁により区分けされて
    いるもので、隔壁はベース基板から対向電極に達し、更
    に、対向電極から所定の距離に設けられた板状の封止基
    材の一面にまで達する、あるいはほぼ達するもので、画
    素毎に、発光層の封止基材側に、対向電極と、隔壁と、
    封止基材とによって囲まれ形成される空間を設けてお
    り、画素の発光層に合せ、前記空間に、それぞれ、対応
    した所定の組成の気体を充満させていることを特徴とす
    る表示装置。
  3. 【請求項3】 請求項2において、隔壁と封止基材と
    が、接着材により固定されてなることを特徴とする表示
    装置。
  4. 【請求項4】 前記請求項1記載から請求項3記載の表
    示装置を、表示部に用いたことを特徴とする電子機器。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006253097A (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Tohoku Pioneer Corp 自発光パネルおよび自発光パネルの製造方法
JP2010140790A (ja) * 2008-12-12 2010-06-24 Casio Computer Co Ltd 発光パネル及び発光パネルの製造方法

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