JP2003321479A - Photodegradable silane coupling agent - Google Patents

Photodegradable silane coupling agent

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JP2003321479A JP2002131027A JP2002131027A JP2003321479A JP 2003321479 A JP2003321479 A JP 2003321479A JP 2002131027 A JP2002131027 A JP 2002131027A JP 2002131027 A JP2002131027 A JP 2002131027A JP 2003321479 A JP2003321479 A JP 2003321479A
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    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new photodegradable silane coupling agent comprising a silane compound having an amino group, etc., a new silane compound having the amino group, etc., a substrate treated with the new photodegradable silane coupling agent comprising the silane compound having the amino group, etc,. and a method for producing the substrate. <P>SOLUTION: The photodegradable silane coupling agent comprises the silane compound having the protected amino group, etc., with a photodegradable protective group, e.g. a silane compound represented by general formula [1] (X denotes an alkoxy group or a halogen atom; Y denotes the photodegradable protective group; R<SP>1</SP>s denote each an alkyl group; m denotes an integer of 0-3; and n denotes an integer), preferably general formula [2] (R<SP>2</SP>denotes a hydrogen atom or an alkyl group; and R<SP>3</SP>and R<SP>4</SP>denote each independently a hydrogen atom or an alkoxy group). <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光分解性シランカ
ップリング剤に係り、詳しくは、光分解性保護基で官能
基を保護したシラン化合物を含有する光分解性シランカ
ップリング剤に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photodegradable silane coupling agent, and more particularly to a photodegradable silane coupling agent containing a silane compound having a functional group protected by a photodegradable protective group.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば、官能基としてアミノ基を有する
シラン化合物は、シリカゲルやシリコンウェハ等の無機
材料の表面にアミノ基を導入する化合物として広く用い
られている。導入されたアミノ基の高い反応性を利用し
て、例えば、DNAやたんぱく質等の生体物質を固定し
て複合材料を形成し、これを用いた細胞の吸着等の生化
学的現象の調査や、新しいタイプのバイオセンサーとし
ての応用研究がなされている。従来より知られているア
ミノ基を有するシラン化合物としては、γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−β(アミノ
エチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−
〔ビス(β−ヒドロキシエチル)〕−アミノプロピルト
リエトキシシラン、(2―アミノエチル)アミノプロピ
ルトリアルコシキシラン、3−アミノプロピルトリメト
キシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
3−アミノプロピルジメチルエトシキシシラン、3−ア
ミノプロピルメチルジエトシキシシラン、N−(2−ア
ミノエチル)−3−アミノプロピルメチルメトシキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルト
リメトシキシシラン等を挙げることができる。
2. Description of the Related Art For example, a silane compound having an amino group as a functional group is widely used as a compound for introducing an amino group onto the surface of an inorganic material such as silica gel or a silicon wafer. Utilizing the high reactivity of the introduced amino group, for example, a biological material such as DNA or protein is immobilized to form a composite material, and a biochemical phenomenon such as adsorption of cells using this is investigated, Applied research is being conducted as a new type of biosensor. Conventionally known amino group-containing silane compounds include γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, and N-β ( Aminoethyl) γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β (aminoethyl) γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-
[Bis (β-hydroxyethyl)]-aminopropyltriethoxysilane, (2-aminoethyl) aminopropyltrialkoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane,
3-Aminopropyldimethylethoxysilane, 3-aminopropylmethyldiethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethylmethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl Examples thereof include trimethoxysilane.

【0003】また、生体物質を基材上の特定の位置に固
定する方法の一つとして、例えば、光化学反応を利用す
るものがあり、従来よりこれに用いるアミノ基を有する
シラン化合物として、アミノエチルアミノプロピルトリ
メトキシシラン等が知られている。これらアミノエチル
アミノプロピルトリメトキシシラン等を用いた生体物質
の固定方法においては、あらかじめ導入したアミノ基に
光感受性の構造を有する分子を反応させなければならな
かった。
Further, as one of the methods for fixing a biological substance at a specific position on a substrate, there is, for example, one utilizing a photochemical reaction, and aminoethyl has been conventionally used as a silane compound having an amino group. Aminopropyltrimethoxysilane and the like are known. In the method of immobilizing a biological substance using these aminoethylaminopropyltrimethoxysilane and the like, it was necessary to react a molecule having a light-sensitive structure with a previously introduced amino group.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、すでに
カルボキシ基をo−ニトロベンジルエステルで保護した
下記一般式〔20〕で表されるシラン化合物の合成に成
功し、これを用いて、光照射によるシリカゲル表面への
カルボキシ基の導入(Chem.Lett.2000,228-229)に成功
し、さらにシリコンウェハ上へのカルボキシ基の導入と
そのパターンニングに成功した。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors have succeeded in synthesizing a silane compound represented by the following general formula [20] in which a carboxy group is protected with o-nitrobenzyl ester. We succeeded in introducing a carboxy group to the surface of silica gel by light irradiation (Chem. Lett. 2000, 228-229), and also succeeded in introducing a carboxy group on a silicon wafer and its patterning.

【0005】[0005]

【化15】 [Chemical 15]

【0006】ところで、アミノ基を有するシラン化合物
は上述のように有用であり、カルボキシ基の代わりにア
ミノ基を保護基で保護したシラン化合物が望まれるが、
例えば沸点が高いために上記一般式〔20〕で表される
シラン化合物のように減圧蒸留による単離は困難であ
り、シリル基の部分がシリカゲルと反応するためシリカ
ゲルカラムによる分離も困難であった。
By the way, the silane compound having an amino group is useful as described above, and a silane compound in which an amino group is protected by a protecting group instead of the carboxy group is desired.
For example, since the boiling point is high, it is difficult to isolate it by vacuum distillation like the silane compound represented by the above general formula [20], and it is also difficult to separate it by a silica gel column because the silyl group part reacts with silica gel. .

【0007】しかしながら、昨年メトキシシリル基を含
むある種のシラン化合物が、溶出溶媒にテトラメトキシ
シランを添加したシリカゲルカラムにより単離可能であ
ることが報告された(Y.Barness,O.Gershevitz,M.Serka
r,andC.N.Sukenik, Langmuir, 16, 247-251、 2000)。
本発明者は、上記報告に着目し、溶出溶媒にテトラメト
キシシランを添加したシリカゲルカラムを用いると、新
規なシラン化合物の合成が可能になると考えた。本発明
の課題は、アミノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸
基を有するシラン化合物を含有する新規な光分解性シラ
ンカップリング剤、アミノ基、スルホ基、チオール基又
はリン酸基を有する新規なシラン化合物、並びにアミノ
基、スルホ基、チオール基又はリン酸基を有するシラン
化合物を含有する新規な光分解性シランカップリング剤
によって処理された基材及びその製造方法を提供するこ
とにある。
However, last year, it was reported that a certain silane compound containing a methoxysilyl group could be isolated by a silica gel column in which tetramethoxysilane was added as an elution solvent (Y. Barness, O. Gershevitz, M. .Serka
r, and C.N.Sukenik, Langmuir, 16, 247-251, 2000).
The present inventor has paid attention to the above report and thought that a novel silane compound can be synthesized by using a silica gel column in which tetramethoxysilane is added as an elution solvent. An object of the present invention is to provide a novel photodegradable silane coupling agent containing a silane compound having an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group, a novel photodegradable silane coupling agent having an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group. Another object of the present invention is to provide a substrate treated with a novel photodegradable silane coupling agent containing a novel silane compound, and a silane compound having an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group, and a method for producing the same.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者は、アミノ基、
スルホ基、チオール基又はリン酸基を有するシラン化合
物の有用性、及び従来のシランカップリング剤(シラン
化合物)の問題点を鋭意検討し、保護基によってアミノ
基、スルホ基、チオール基又はリン酸基が保護されたシ
ラン化合物の有用性に着目してその合成を試みた結果、
例えば、テトラメトキシシラン添加のシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによる分離精製法を用いることによ
って、従来合成が困難であった光分解性の化合物(例え
ば、2−ニトロベンジル誘導体)で保護したアミノ基、
スルホ基、チオール基又はリン酸基を有するシラン化合
物の合成に成功し、かかる光分解性の化合物で保護した
アミノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸基を有する
シラン化合物が、生体物質の固定等に有用なシランカッ
プリング剤となることを見い出し、本発明を完成するに
至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have found that an amino group,
The effectiveness of silane compounds having a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group, and the problems of conventional silane coupling agents (silane compounds) were thoroughly studied, and amino groups, sulfo groups, thiol groups or phosphoric acid groups were protected by protecting groups. As a result of trying the synthesis focusing on the usefulness of the silane compound in which the group is protected,
For example, an amino group protected with a photodegradable compound (for example, a 2-nitrobenzyl derivative) that has been difficult to synthesize by using a separation and purification method using silica gel column chromatography with tetramethoxysilane,
The silane compound having a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group has been successfully synthesized, and the silane compound having an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group protected by such a photodegradable compound fixes a biological substance. It has been found that the silane coupling agent is useful as a silane coupling agent, etc., and the present invention has been completed.

【0009】すなわち本発明は、光分解性保護基で、ア
ミノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸基を保護した
シラン化合物を含有することを特徴とする光分解性シラ
ンカップリング剤(請求項1)や、シラン化合物が、下
記一般式〔1〕
That is, the present invention comprises a photodegradable silane coupling agent characterized by containing a silane compound in which an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group is protected by a photodegradable protective group. 1) or a silane compound is represented by the following general formula [1]

【0010】[0010]

【化16】 [Chemical 16]

【0011】(一般式〔1〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されるシラン化合物であることを特徴
とする請求項1に記載の光分解性シランカップリング剤
(請求項2)や、一般式〔1〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔2〕
(In the general formula [1], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. ) Is a silane compound represented by the formula (1), the photodegradable silane coupling agent according to claim 1 (claim 2) and the silane compound represented by the general formula [1] are represented by the following general formula: [2]

【0012】[0012]

【化17】 [Chemical 17]

【0013】(一般式〔2〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されるシラン化合物
であることを特徴とする請求項2に記載の光分解性シラ
ンカップリング剤(請求項3)や、シラン化合物が、下
記一般式〔3〕
(In the general formula [2], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. It represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The photodegradable silane coupling according to claim 2, which is a silane compound. The agent (claim 3) or the silane compound is represented by the following general formula [3]

【0014】[0014]

【化18】 [Chemical 18]

【0015】(一般式〔3〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されるシラン化合物であることを特徴
とする請求項1に記載の光分解性シランカップリング剤
(請求項4)や、一般式〔3〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔4〕
(In the general formula [3], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protecting group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. ) The photodegradable silane coupling agent according to claim 1 (claim 4) or the silane compound represented by the general formula [3] is a silane compound represented by the following general formula: [4]

【0016】[0016]

【化19】 [Chemical 19]

【0017】(一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されるシラン化合物
であることを特徴とする請求項4に記載の光分解性シラ
ンカップリング剤(請求項5)や、シラン化合物が、下
記一般式〔5〕
(In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. Represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The photodegradable silane coupling according to claim 4, which is a silane compound. The agent (claim 5) or the silane compound is represented by the following general formula [5]

【0018】[0018]

【化20】 [Chemical 20]

【0019】(一般式〔5〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されるシラン化合物であることを特徴
とする請求項1に記載の光分解性シランカップリング剤
(請求項6)や、一般式〔5〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔6〕
(In the general formula [5], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. ) Is a silane compound represented by the following general formula, wherein the photodegradable silane coupling agent according to claim 1 (claim 6) and the silane compound represented by the general formula [5] are [6]

【0020】[0020]

【化21】 [Chemical 21]

【0021】(一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されるシラン化合物
であることを特徴とする請求項6に記載の光分解性シラ
ンカップリング剤(請求項7)や、請求項1〜7のいず
れかに記載の光分解性シランカップリング剤で該シラン
カップリング剤中のシラン化合物をカップリングしたこ
とを特徴とする表面修飾カップリング基材(請求項8)
に関する。
(In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. Represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The photodegradable silane coupling according to claim 6, which is a silane compound. Agent (Claim 7) or the photodegradable silane coupling agent according to any one of claims 1 to 7, wherein the silane compound in the silane coupling agent is coupled to the surface-modified coupling group. Material (Claim 8)
Regarding

【0022】また本発明は、請求項1〜7のいずれかに
記載の光分解性シランカップリング剤で該シランカップ
リング剤中のシラン化合物を基材にカップリングするこ
とを特徴とする表面修飾カップリング基材の製造方法
(請求項9)や、基材が、前処理が施された基材である
ことを特徴とする請求項9に記載の表面修飾カップリン
グ基材の製造方法(請求項10)や、請求項1〜7のい
ずれかに記載の光分解性シランカップリング剤を基材に
コーティングし、シランカップリング剤中のシラン化合
物を前記基材にカップリングして表面修飾カップリング
基材を調製し、前記表面修飾カップリング基材の表面の
全部又は一部に光を照射し、光照射部分の光分解性保護
基を離脱してアミノ基、スルホ基、チオール基又はリン
酸基を露出させ、基材表面にアミノ基、スルホ基、チオ
ール基又はリン酸基を形成させることを特徴とする官能
基露出カップリング基材の製造方法(請求項11)や、
基材が、前処理が施された基材であることを特徴とする
請求項11に記載の官能基露出カップリング基材の製造
方法(請求項12)や、光が、紫外線であることを特徴
とする請求項11又は12に記載の官能基露出カップリ
ング基材の製造方法(請求項13)や、請求項1〜7の
いずれかに記載の光分解性シランカップリング剤を基材
にコーティングし、シランカップリング剤中のシラン化
合物を前記基材にカップリングして表面修飾カップリン
グ基材を調製し、前記表面修飾カップリング基材の表面
の全部又は一部に光を照射し、光照射部分の光分解性保
護基を離脱してアミノ基、スルホ基、チオール基又はリ
ン酸基を露出させ、基材表面に形成されたアミノ基、ス
ルホ基、チオール基又はリン酸基に化学修飾を施すこと
を特徴とする化学修飾カップリング基材の製造方法(請
求項14)や、基材が、前処理が施された基材であるこ
とを特徴とする請求項14に記載の化学修飾カップリン
グ基材の製造方法(請求項15)や、光が、紫外線であ
ることを特徴とする請求項14又は15に記載の化学修
飾カップリング基材の製造方法(請求項16)や、化学
修飾が、核酸、糖、タンパク質等の生体物質を用いて行
われることを特徴とする請求項14〜16のいずれかに
記載の化学修飾カップリング基材の製造方法(請求項1
7)に関する。
Further, the present invention is characterized in that the silane compound in the silane coupling agent is coupled to a substrate with the photodegradable silane coupling agent according to any one of claims 1 to 7. A method for producing a coupling base material (claim 9) or a method for producing a surface-modified coupling base material according to claim 9, wherein the base material is a pretreated base material (claim). Item 10) or the photodegradable silane coupling agent according to any one of claims 1 to 7 is coated on a substrate, and the silane compound in the silane coupling agent is coupled to the substrate to form a surface-modified cup. A ring base material is prepared, and all or part of the surface of the surface-modified coupling base material is irradiated with light, and the photodegradable protective group in the light-irradiated portion is removed to leave an amino group, a sulfo group, a thiol group or phosphorus Expose the acid groups, Amino groups on the surface, a sulfo group, and the manufacturing method of the functional groups exposed coupling substrate, characterized in that to form a thiol group or a phosphate group (Claim 11),
The method for producing a functional group-exposed coupling base material according to claim 11, wherein the base material is a pre-treated base material, and the light is ultraviolet light. A method for producing a functional group-exposed coupling base material according to claim 11 or 12 (claim 13) or a photodegradable silane coupling agent according to any one of claims 1 to 7 as a base material. Coating, to prepare a surface-modified coupling substrate by coupling the silane compound in the silane coupling agent to the substrate, and irradiate all or part of the surface of the surface-modified coupling substrate with light, Amino group, sulfo group, thiol group or phosphoric acid group is exposed by leaving the photodegradable protective group in the light irradiation part, and the amino group, sulfo group, thiol group or phosphoric acid group formed on the substrate surface is chemically Chemistry characterized by modification 15. The method for producing a decorative coupling base material (claim 14), or the method for producing a chemically modified coupling base material according to claim 14, wherein the base material is a pre-treated base material ( (15) or the light is ultraviolet light, The method for producing the chemically modified coupling substrate according to (14) or (15) or the chemical modification is nucleic acid, sugar or protein. The method for producing a chemically modified coupling substrate according to any one of claims 14 to 16, which is performed using a biological substance such as (Claim 1).
Regarding 7).

【0023】さらに本発明は、光分解性保護基で、アミ
ノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸基が保護された
ことを特徴とするシラン化合物(請求項18)や、下記
一般式〔1〕
Further, the present invention provides a silane compound (claim 18) characterized in that an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group is protected by a photodegradable protective group (claim 18) or the following general formula [1]: ]

【0024】[0024]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0025】(一般式〔1〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されることを特徴とする請求項18に
記載のシラン化合物(請求項19)や、一般式〔1〕で
表されるシラン化合物が、下記一般式〔2〕
(In the general formula [1], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. The silane compound according to claim 18 (claim 19) or the silane compound represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [2].

【0026】[0026]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0027】(一般式〔2〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されることを特徴と
する請求項19に記載のシラン化合物(請求項20)
や、下記一般式〔3〕
(In the general formula [2], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. Represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The silane compound according to claim 19 (claim 20).
Or the following general formula [3]

【0028】[0028]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0029】(一般式〔3〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されることを特徴とする請求項18に
記載のシラン化合物(請求項21)や、一般式〔3〕で
表されるシラン化合物が、下記一般式〔4〕
(In the general formula [3], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. The silane compound according to claim 18 (claim 21) or the silane compound represented by the general formula [3] is represented by the following general formula [4]

【0030】[0030]

【化25】 [Chemical 25]

【0031】(一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されることを特徴と
する請求項21に記載のシラン化合物(請求項22)
や、下記一般式〔5〕
(In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. Represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The silane compound according to claim 21 (claim 22).
Or the following general formula [5]

【0032】[0032]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0033】(一般式〔5〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
はアルキル基を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整
数を表す。)で表されることを特徴とする請求項18に
記載のシラン化合物(請求項23)や、一般式〔5〕で
表されるシラン化合物が、下記一般式〔6〕
(In the general formula [5], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1
Represents an alkyl group. m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. The silane compound according to claim 18 (claim 23) or the silane compound represented by the general formula [5] is represented by the following general formula [6]:

【0034】[0034]

【化27】 [Chemical 27]

【0035】(一般式〔6〕中、Xはアルコキシ基又は
ハロゲン原子を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水
素原子又はアルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立
して水素原子又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整
数を表し、nは整数を表す。)で表されることを特徴と
する請求項23に記載のシラン化合物(請求項24)
や、一般式〔1〕〜〔6〕において、mが1〜3の整数
であることを特徴とする請求項19〜24のいずれかに
記載のシラン化合物(請求項25)や、下記一般式
〔7〕
(In the general formula [6], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently. Represents a hydrogen atom or an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer.) The silane compound according to claim 23 (claim 24).
Or in the general formulas [1] to [6], m is an integer of 1 to 3; the silane compound according to any one of claims 19 to 24 (claim 25); [7]

【0036】[0036]

【化28】 [Chemical 28]

【0037】(一般式〔7〕中、Yは光分解性保護基を
表す。)で表されることを特徴とする光分解性化合物
(請求項26)や、一般式〔7〕で表される光分解性化
合物が、下記一般式〔8〕
(In the general formula [7], Y represents a photodegradable protective group), and a photodegradable compound (claim 26), or a general formula [7]. Is a photodegradable compound represented by the following general formula [8]

【0038】[0038]

【化29】 [Chemical 29]

【0039】(一般式〔8〕中、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。)で表されることを特徴とす
る請求項26に記載の光分解性化合物(請求項27)や
に関する。
(In the general formula [8], R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkoxy group). A photodegradable compound according to claim 26 (claim 27) or the like.

【0040】[0040]

【発明の実施の形態】本発明の光分解性シランカップリ
ング剤としては、光分解性保護基で、アミノ基、スルホ
基、チオール基又はリン酸基(以下、これらの基をまと
めて官能基と称す場合がある。)を保護したシラン化合
物を含有するものであれば特に制限されるものではない
が、上記シラン化合物としては、下記一般式〔1〕〜
〔6〕及び一般式
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The photodegradable silane coupling agent of the present invention includes a photodegradable protective group, an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphate group (hereinafter, these groups are collectively referred to as a functional group. Is not particularly limited as long as it contains a silane compound in which the silane compound is protected by the following general formula [1] to
[6] and general formula

〔9〕〜〔11〕で表される化合物で
あることが好ましい。
The compounds represented by [9] to [11] are preferable.

【0041】[0041]

【化30】 [Chemical 30]

【0042】一般式〔1〕中、Xはアルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表し、Xで表されるアルコキシ基として
は、炭素数は特に制限されるものではないが、炭素数1
〜6のアルコキシ基であることが好ましく、具体的に
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポシキ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ
基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキ
シルオキシ基等を挙げることができ、これらの中でもメ
トキシ基、エトキシ基が特に好ましく、また、Xで表さ
れるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭
素原子又はヨウ素原子等を挙げることができるが、Xは
ハロゲン原子であるよりもアルコキシ基であることが好
ましい。
In the general formula [1], X represents an alkoxy group or a halogen atom, and the alkoxy group represented by X has a carbon number of 1 although the carbon number is not particularly limited.
It is preferably an alkoxy group of 6 to 6, specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, an s-butoxy group, a t-butoxy group, an n-pentyloxy group. , N-hexyloxy group and the like, and among them, a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable, and the halogen atom represented by X includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like. Although it can be mentioned, X is preferably an alkoxy group rather than a halogen atom.

【0043】一般式〔1〕中、R1はアルキル基を表
す。R1で表されるアルキル基は、直鎖状であってもよ
いし、分岐状であってもよく、また不飽和結合を有して
いてもよく、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基
や、ホルミル基、アセチル基等のアシル基などの置換基
を有していてもよい。上記アルキル基としては、炭素数
は特に制限されるものではないが、炭素数1〜6のもの
が好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−ブチル基、
t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオ
ペンチル基、n−ヘキシル基等のアルキル基や、ビニル
基、アリル基、2−プロペニル基、2−ブテニル基、2
−ペンテニル基、2−ヘプチニル基等のアルケニル基
や、プロパルギル基等のアルキニル基等を具体的に挙げ
ることができ、これらの中でも特にメチル基を好適なも
のとして挙げることができる。
In the general formula [1], R 1 represents an alkyl group. The alkyl group represented by R 1 may be linear or branched, may have an unsaturated bond, and may be an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group, It may have a substituent such as an acyl group such as a formyl group and an acetyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is not particularly limited, but those having 1 to 6 carbon atoms are preferable, and specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, s-butyl group,
alkyl groups such as t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group and n-hexyl group, vinyl group, allyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 2
Specific examples thereof include an alkenyl group such as a -pentenyl group and a 2-heptynyl group, an alkynyl group such as a propargyl group, and among these, a methyl group is particularly preferable.

【0044】一般式〔1〕中、mは1〜3の整数を表し
(カップリング剤に含有する場合)、無機材料等の表面
への導入が容易となる点からその数が大きいほど好まし
い。また、一般式〔1〕中、nは整数を表し、出発原料
の入手の容易さの点から、1〜20の整数であることが
好ましく、2〜15の整数であることがより好ましい。
In the general formula [1], m represents an integer of 1 to 3 (when it is contained in the coupling agent), and the larger the number, the more preferable because it is easy to introduce the inorganic material or the like into the surface. Further, in the general formula [1], n represents an integer, and from the viewpoint of easy availability of starting materials, it is preferably an integer of 1 to 20, and more preferably an integer of 2 to 15.

【0045】一般式〔1〕中、Yは光分解性保護基を表
す。光分解性保護基は、光照射により離脱する任意の基
をいい、例えば、2−ニトロベンジル誘導体骨格を有す
る基、ジメトキシベンゾイン基、2−ニトロピペロニル
オキシカルボニル(NPOC)基、2−ニトロベラトリ
ルオキシカルボニル(NVOC)基、α−メチル−2−
ニトロピペロニルオキシカルボニル(MeNPOC)
基、α−メチル−2−ニトロベラトリルオキシカルボニ
ル(MeNVOC)基、2,6−ジニトロベンジルオキ
シカルボニル(DNBOC)基、α−メチル−2,6−
ジニトロベンジルオキシカルボニル(MeDNBOC)
基、1−(2−ニトロフェニル)エチルオキシカルボニ
ル(NPEOC)基、1−メチル−1−(2−ニトロフ
ェニル)エチルオキシカルボニル(MeNPEOC)
基、9−アントラセニルメチルオキシカルボニル(AN
MOC)基、1−ピレニルメチルオキシカルボニル(P
YMOC)基、3′−メトキシベンゾイニルオキシカル
ボニル(MBOC)基、3′,5′−ジメトキシベンゾ
イルオキシカルボニル(DMBOC)基、7−ニトロイ
ンドリニルオキシカルボニル(NIOC)基、5,7−
ジニトロインドリニルオキシカルボニル(DNIOC)
基、2−アントラキノニルメチルオキシカルボニル(A
QMOC)基、α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシ
ベンジルオキシカルボニル基、5−ブロモ−7−ニトロ
インドリニルオシキカルボニル(BNIOC)基等を挙
げることができるが、下記一般式〔2〕で表されるシラ
ン化合物におけるように、2−ニトロベンジル誘導体骨
格を有する基が特に好ましい。
In the general formula [1], Y represents a photodegradable protective group. The photodegradable protective group refers to any group that is released by irradiation with light, and includes, for example, a group having a 2-nitrobenzyl derivative skeleton, a dimethoxybenzoin group, a 2-nitropiperonyloxycarbonyl (NPOC) group, and a 2-nitro group. Veratryloxycarbonyl (NVOC) group, α-methyl-2-
Nitropiperonyloxycarbonyl (MeNPOC)
Group, α-methyl-2-nitroveratryloxycarbonyl (MeNVOC) group, 2,6-dinitrobenzyloxycarbonyl (DNBOC) group, α-methyl-2,6-
Dinitrobenzyloxycarbonyl (MeDNBOC)
Group, 1- (2-nitrophenyl) ethyloxycarbonyl (NPEOC) group, 1-methyl-1- (2-nitrophenyl) ethyloxycarbonyl (MeNPEOC)
Group, 9-anthracenylmethyloxycarbonyl (AN
MOC) group, 1-pyrenylmethyloxycarbonyl (P
YMOC) group, 3'-methoxybenzoinyloxycarbonyl (MBOC) group, 3 ', 5'-dimethoxybenzoyloxycarbonyl (DMBOC) group, 7-nitroindolinyloxycarbonyl (NIOC) group, 5,7-
Dinitroindolinyloxycarbonyl (DNIOC)
Group, 2-anthraquinonylmethyloxycarbonyl (A
QMOC) group, α, α-dimethyl-3,5-dimethoxybenzyloxycarbonyl group, 5-bromo-7-nitroindolinyloxycarbonyl (BNIOC) group, and the like. Groups having a 2-nitrobenzyl derivative backbone, as in the represented silane compounds, are particularly preferred.

【0046】[0046]

【化31】 [Chemical 31]

【0047】上記一般式〔1〕で表されるシラン化合物
の中でも、上記一般式〔2〕で表されるシラン化合物が
好ましく、かかる一般式〔2〕中、R2は水素原子又は
アルキル基を表し、R2で表されるアルキル基は、直鎖
状であってもよいし、分岐状であってもよく、また不飽
和結合を有していてもよく、メトキシ基、エトキシ基等
のアルコキシ基や、ホルミル基、アセチル基等のアシル
基などの置換基を有していてもよい。上記アルキル基と
しては、炭素数が制限されるものではないが、炭素数1
〜6のものが好ましく、具体的には、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、s−
ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチ
ル基、ネオペンチル基、n−ヘキシル基等のアルキル基
や、ビニル基、アリル基、2−プロペニル基、2−ブテ
ニル基、2−ペンテニル基、2−ヘプチニル基等のアル
ケニル基や、プロパルギル基等のアルキニル基等を具体
的に挙げることができ、これらの中でも特にメチル基を
好適なものとして挙げることができる。
Among the silane compounds represented by the above general formula [1], the silane compound represented by the above general formula [2] is preferable, and in the general formula [2], R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group. The alkyl group represented by R 2 may be linear or branched, may have an unsaturated bond, and may be an alkoxy group such as a methoxy group or an ethoxy group. It may have a substituent such as a group and an acyl group such as a formyl group and an acetyl group. The number of carbon atoms of the alkyl group is not limited, but the number of carbon atoms is 1
To 6 are preferred, and specifically, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, butyl group, s-
Alkyl groups such as butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, vinyl group, allyl group, 2-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, Specific examples thereof include an alkenyl group such as a 2-heptynyl group and an alkynyl group such as a propargyl group, and among these, a methyl group is particularly preferable.

【0048】一般式〔2〕中、R3及びR4はそれぞれ独
立して水素原子又はアルコキシ基を表す。すなわち、R
3及びR4は同一の置換基であってもよいし、異なる置換
基であってもよいが、同一の基であることが好ましく、
カップリングを行う場合に長波長の光で保護基を除去す
ることが可能であることから、アルコキシ基であること
が好ましい。R3及びR4で表されるアルコキシ基として
は、炭素数は特に制限されるものではないが、炭素数1
〜6のアルコキシ基であることが好ましく、具体的に
は、メトキシ基、エトキシ基、プロポシキ基、イソプロ
ポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、s−ブトキシ
基、t−ブトキシ基、n−ペンチルオキシ基、n−ヘキ
シルオキシ基等が挙げられるが、これらの中でもメトキ
シ基、エトキシ基が特に好ましい。
In the general formula [2], R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkoxy group. That is, R
3 and R 4 may be the same substituent or different substituents, but are preferably the same group,
An alkoxy group is preferred because the protecting group can be removed with long-wavelength light when coupling is performed. The number of carbon atoms of the alkoxy group represented by R 3 and R 4 is not particularly limited, but the number of carbon atoms is 1
It is preferably an alkoxy group of 6 to 6, specifically, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, an s-butoxy group, a t-butoxy group, an n-pentyloxy group. , N-hexyloxy group and the like, and of these, a methoxy group and an ethoxy group are particularly preferable.

【0049】[0049]

【化32】 [Chemical 32]

【0050】一般式〔3〕中、Xはアルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
アルキル基を表す。mは1〜3の整数を表し(カップリ
ング剤に含有する場合)、nは整数を表す。一般式
〔3〕におけるX、Y、R1については、一般式〔1〕
におけるX、Y、R1と同様である。一般式〔3〕にお
けるm、nについても、一般式〔1〕におけるm、nと
同様である。
In the general formula [3], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1 represents an alkyl group. m represents an integer of 1 to 3 (when contained in the coupling agent), and n represents an integer. Regarding X, Y and R 1 in the general formula [3], the general formula [1]
Is the same as X, Y and R 1 in. The m and n in the general formula [3] are the same as the m and n in the general formula [1].

【0051】[0051]

【化33】 [Chemical 33]

【0052】上記一般式〔3〕で表されるシラン化合物
の中でも、上記一般式〔4〕で表されるシラン化合物が
好ましく、かかる一般式〔4〕中、R2は水素原子又は
アルキル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立して水素
原子又はアルコキシ基を表す。一般式〔4〕におけるR
2、R3、R4については、一般式〔2〕におけるR2、R
3、R4と同様である。
Among the silane compounds represented by the above general formula [3], the silane compounds represented by the above general formula [4] are preferable, and in the general formula [4], R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkoxy group. R in general formula [4]
2 , R 3 and R 4 are R 2 and R in the general formula [2].
The same as 3 and R 4 .

【0053】[0053]

【化34】 [Chemical 34]

【0054】一般式〔5〕中、Xはアルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1
アルキル基を表す。mは1〜3の整数を表し(カップリ
ング剤に含有する場合)、nは整数を表す。一般式
〔5〕におけるX、Y、R1については、一般式〔1〕
におけるX、Y、R1と同様である。一般式〔5〕にお
けるm、nについても、一般式〔1〕におけるm、nと
同様である。
In the general formula [5], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and R 1 represents an alkyl group. m represents an integer of 1 to 3 (when contained in the coupling agent), and n represents an integer. Regarding X, Y and R 1 in the general formula [5], the general formula [1]
Is the same as X, Y and R 1 in. The m and n in the general formula [5] are the same as the m and n in the general formula [1].

【0055】[0055]

【化35】 [Chemical 35]

【0056】上記一般式〔5〕で表されるシラン化合物
の中でも、上記一般式〔6〕で表されるシラン化合物が
好ましく、かかる一般式〔6〕中、R2は水素原子又は
アルキル基を表し、R3及びR4はそれぞれ独立して水素
原子又はアルコキシ基を表す。一般式〔6〕におけるR
2、R3、R4については、一般式〔2〕におけるR2、R
3、R4と同様である。
Among the silane compounds represented by the above general formula [5], the silane compound represented by the above general formula [6] is preferable, and in the general formula [6], R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group. R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkoxy group. R in general formula [6]
2 , R 3 and R 4 are R 2 and R in the general formula [2].
The same as 3 and R 4 .

【0057】[0057]

【化36】 [Chemical 36]

【0058】一般式General formula

〔9〕中、Xはアルコキシ基又はハ
ロゲン原子を表し、Yは光分解性保護基を表し、WはY
又は水素原子を表し、R1はアルキル基を表す。mは1
〜3の整数を表し(カップリング剤に含有する場合)、
nは整数を表し、lは0又は1を表す。一般式
In [9], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, and W represents Y.
Alternatively, it represents a hydrogen atom, and R 1 represents an alkyl group. m is 1
Represents an integer of 3 (when contained in the coupling agent),
n represents an integer, and l represents 0 or 1. General formula

〔9〕に
おけるX、Y、R1については、一般式〔1〕における
X、Y、R1と同様である。一般式
X in [9], Y, for R 1 is the same formula in [1] X, Y, and R 1. General formula

〔9〕におけるm、
nについても、一般式〔1〕におけるm、nと同様であ
る。
M in [9],
The same applies to n as m and n in the general formula [1].

【0059】[0059]

【化37】 [Chemical 37]

【0060】上記一般式The above general formula

〔9〕で表されるシラン化合物
の中でも、上記一般式〔10〕又は一般式〔11〕で表
されるシラン化合物が好ましく、かかる一般式〔10〕
及び〔11〕中、R2は水素原子又はアルキル基を表
し、R3及びR4はそれぞれ独立して水素原子又はアルコ
キシ基を表す。一般式〔10〕及び〔11〕におけるR
2、R3、R4については、一般式〔2〕におけるR2、R
3、R4と同様である。
Silane compound represented by [9]
Among the above, the formula [10] or the formula [11]
A silane compound represented by the formula [10]
And R in [11]2Represents a hydrogen atom or an alkyl group
And R3And RFourAre each independently a hydrogen atom or an alcohol
Represents a xy group. R in the general formulas [10] and [11]
2, R3, RFourWith respect to R in the general formula [2]2, R
3, RFourIs the same as.

【0061】本発明のシラン化合物としては、光分解性
保護基で、アミノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸
基が保護されたシラン化合物であれば特に制限されるも
のではなく、上記一般式〔1〕〜〔6〕及び一般式
The silane compound of the present invention is not particularly limited as long as it is a silane compound in which an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group is protected by a photodegradable protective group, and the above-mentioned general formula is used. [1] to [6] and general formula

〔9〕〜〔11〕で表されるシラン化合物(mが0の場
合も含む)が好ましい。特に一般式〔2〕、一般式
〔4〕、一般式〔6〕、一般式〔10〕及び一般式〔1
1〕で表されるシラン化合物が好ましく、これらの中で
もmが1〜3の整数である化合物が好ましく、具体的に
は1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3−(ト
リエトキシシリル)プロピル)カルバマート(具体例
1)、1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3−
(トリメトキシシリル)プロピル)カルバマート(具体
例2)、1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3
−(メチルジエトキシシリル)プロピル)カルバマート
(具体例3)、1−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロ
フェニル)エチル−N−(3−(トリエトキシシリル)
プロピル)カルバマート(具体例4)、1−(2−ニト
ロフェニル)エチル−N−(11−トリエトキシシリ
ル)プロピル)カルバマート(具体例5)、2−ニトロ
ベンジル−4−(トリメトキシシリル)ブタンスルホネ
ート(具体例6)、2−ニトロベンジル−4−(トリエ
トキシシリル)ブタンスルホネート(具体例7)、2−
ニトロベンジル−3−(トリメトキシシリル)プロピル
スルフィド(具体例8)等を挙げることができる。な
お、本発明のシラン化合物は、シランカップリング剤と
しての用途のみならず、例えば、高分子化合物に混合し
て結合剤として使用することができる。
Silane compounds represented by [9] to [11] (including the case where m is 0) are preferable. In particular, general formula [2], general formula [4], general formula [6], general formula [10] and general formula [1]
1] is preferable, and among these, compounds in which m is an integer of 1 to 3 are preferable, and specifically, 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (triethoxysilyl). ) Propyl) carbamate (Specific Example 1), 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3-
(Trimethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example 2), 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3
-(Methyldiethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example 3), 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (triethoxysilyl))
Propyl) carbamate (Specific Example 4), 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (11-triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example 5), 2-nitrobenzyl-4- (trimethoxysilyl) butane Sulfonate (Specific Example 6), 2-nitrobenzyl-4- (triethoxysilyl) butane sulfonate (Specific Example 7), 2-
Examples thereof include nitrobenzyl-3- (trimethoxysilyl) propyl sulfide (Specific Example 8). The silane compound of the present invention can be used not only as a silane coupling agent but also as a binder by being mixed with a polymer compound, for example.

【0062】[0062]

【化38】 [Chemical 38]

【0063】本発明のシランカップリング剤は、上記の
ように1分子中に有機ポリマーに対して親和性、反応性
を有する有機官能基と、無機、金属系材料に対して親和
性、反応性を有する加水分解性シリル基を有するシラン
化合物を溶媒に混合し、有機ポリマーと無機又は金属材
料の接する界面における接着改良適正を示す接着改良剤
とすることができる。本発明の光分解性シランカップリ
ング剤の溶媒としては、ベンゼン、ヘキサン、酢酸エチ
ル、エチルアセテート、メタノール、クロロホルム、ジ
クロロメタン、四塩化炭素、テトラヒドロフラン等が挙
げられ、この中でもベンゼンが好ましく、脱水処理した
ものを用いることが特に好ましい。
The silane coupling agent of the present invention has an organic functional group having an affinity and a reactivity with an organic polymer in one molecule as described above, and an affinity and a reactivity with an inorganic or metallic material. A silane compound having a hydrolyzable silyl group having ## STR3 ## can be mixed with a solvent to obtain an adhesion improver showing adequacy of adhesion improvement at the interface where the organic polymer and the inorganic or metal material are in contact. Examples of the solvent of the photodegradable silane coupling agent of the present invention include benzene, hexane, ethyl acetate, ethyl acetate, methanol, chloroform, dichloromethane, carbon tetrachloride, tetrahydrofuran and the like. Among them, benzene is preferable and dehydrated. It is particularly preferable to use one.

【0064】本発明の光分解性シランカップリング剤
は、光分解性の保護基でアミノ基を保護したものであ
り、使い勝手がよく、例えば、光分解性保護基で保護さ
れたアミノ基を基材表面に形成し、基材表面に紫外線を
照射し、保護基をはずしてアミノ基を露出させ、DNA
プローブを結合させたDNAチップを製造することが可
能となる。
The photodegradable silane coupling agent of the present invention is one in which an amino group is protected by a photodegradable protective group and is easy to use. For example, an amino group protected by a photodegradable protective group is used as a group. It is formed on the surface of the material, the surface of the substrate is irradiated with ultraviolet rays, the protecting group is removed to expose the amino group, and DNA is
It becomes possible to manufacture a DNA chip to which a probe is bound.

【0065】上記シラン化合物の製造においては、溶出
溶媒にテトラメトキシシランを添加したシリカゲルカラ
ムにより単離する方法を好適に例示することができる。
上記溶出溶媒としては、ヘキサン、エチルアセテート、
メタノール、クロロホルム、ジクロロメタン等を用いる
ことができ、ヘキサン、エチルアセテートが好ましい。
これらは、単独で用いてもよいし、2種以上を併用して
もよい。また、前記テトラメトキシシランの添加量とし
ては、前記溶出溶媒に対して0.1〜3.0vol%で
あることが好ましく、0.2〜2.0vol%であるこ
とがより好ましく、0.3〜1.5vol%であること
がさらに好ましい。テトラメトキシシランを上記範囲で
添加することにより、シラン化合物を効率よく分離する
ことができる。
In the production of the above-mentioned silane compound, a method of isolating with a silica gel column in which tetramethoxysilane is added as an elution solvent can be preferably exemplified.
As the elution solvent, hexane, ethyl acetate,
Methanol, chloroform, dichloromethane and the like can be used, and hexane and ethyl acetate are preferable.
These may be used alone or in combination of two or more. The amount of tetramethoxysilane added is preferably 0.1 to 3.0 vol%, more preferably 0.2 to 2.0 vol%, and 0.3 to the elution solvent. It is more preferable that the content is ˜1.5 vol%. By adding tetramethoxysilane in the above range, the silane compound can be efficiently separated.

【0066】以下、上記光分解性カップリング剤を用い
た、シリカゲル、シリコンウェハ、ガラス等の無機材料
からなる基材の化学修飾の処理方法の一例を図面を参照
して説明する。なお、前記基材としては、無機材料のほ
かに表面にヒドロキシ基を有する有機材料であってもよ
い。また、基材の形状は特に制限されるものではなく、
シート状、ハニカム状、ファイバー状、ビーズ状、発泡
状やそれらが集積したもの等であってもよい。図1は本
発明の光分解性カップリング剤を用いた化学修飾処理過
程の説明図であり、図2は前処理の説明図であり、図3
は表面処理の説明図であり、図4は光照射による保護基
離脱の説明図であり、図5は化学修飾の説明図である。
図1に示すように、処理は、必要に応じて基材の前処理
が行われ、続いて表面修飾、光照射、化学修飾が順に行
われる。以下、各工程について説明する。
An example of a method for chemically modifying a substrate made of an inorganic material such as silica gel, silicon wafer, glass or the like using the above photodegradable coupling agent will be described below with reference to the drawings. In addition to the inorganic material, the base material may be an organic material having a hydroxy group on the surface. Further, the shape of the substrate is not particularly limited,
It may be in a sheet shape, a honeycomb shape, a fiber shape, a bead shape, a foamed shape, or a combination thereof. FIG. 1 is an illustration of a chemical modification treatment process using the photodegradable coupling agent of the present invention, FIG. 2 is an illustration of pretreatment, and FIG.
FIG. 4 is an explanatory diagram of surface treatment, FIG. 4 is an explanatory diagram of protective group removal by light irradiation, and FIG. 5 is an explanatory diagram of chemical modification.
As shown in FIG. 1, in the treatment, the substrate is pretreated, if necessary, and then surface modification, light irradiation, and chemical modification are sequentially performed. Hereinafter, each step will be described.

【0067】図2に示すように、前処理は、酸性溶液を
基材表面にコーティングすることにより行う。酸性溶液
としては、硫酸、塩酸、硝酸、過酸化水素等が挙げら
れ、これらは単独で用いてもよいし、2種以上を併用し
てもよいが、硫酸及び過酸化水素の併用が好ましく、シ
リコンウェハの前処理には特に硫酸及び過酸化水素の併
用が適している。また、コーティングの手段としては、
基材表面をコーティングできるものであれば特に制限は
なく、例えば、塗布、スプレー、ディッピング等が挙げ
られる。この前処理により基材表面に親水性基(シラノ
ール基)を形成することができる。
As shown in FIG. 2, the pretreatment is performed by coating the surface of the substrate with an acidic solution. Examples of the acidic solution include sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hydrogen peroxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more, but a combination of sulfuric acid and hydrogen peroxide is preferable, The combined use of sulfuric acid and hydrogen peroxide is particularly suitable for the pretreatment of silicon wafers. Also, as a means of coating,
There is no particular limitation as long as it can coat the surface of the base material, and examples thereof include coating, spraying and dipping. By this pretreatment, a hydrophilic group (silanol group) can be formed on the surface of the base material.

【0068】図3に示すように、表面修飾処理は、上記
光分解性シランカップリング剤を基材にコーティング
し、シランカップリング剤中のシラン化合物を基材にカ
ップリングして、シラン化合物によって表面修飾された
表面修飾カップリング基材を調製する。コーティングの
手段としては、前処理同様、塗布、スプレー、ディッピ
ング等が挙げられ、この中でもディッピングが好まし
く、適宜、室温処理のみならず還流処理を施すことが好
ましい。
As shown in FIG. 3, the surface modification treatment is carried out by coating the substrate with the photodegradable silane coupling agent, coupling the silane compound in the silane coupling agent to the substrate, and using the silane compound. A surface-modified surface-modified coupling substrate is prepared. Examples of the coating means include coating, spraying and dipping as in the pretreatment. Of these, dipping is preferable, and not only room temperature treatment but also reflux treatment is preferably performed.

【0069】図4に示すように、光照射処理は、表面修
飾カップリング基材の表面の全部又は一部に光を照射
し、光照射部分の光分解性保護基を離脱して官能基を露
出させ、基材表面に官能基を形成させて官能基露出カッ
プリング基材を調製する。即ち、特定の箇所のみを光照
射することによりその部分のみに官能基を形成すること
ができる。照射光としては、光分解性保護基を離脱して
官能基を露出することができれば特に制限されないが、
紫外線(1〜400nm)であることが好ましく、シラ
ン化合物の有する光分解性保護基の光分解能によって、
適宜、長波長(例えば、320nm以上)の光を使用す
ることができる。
As shown in FIG. 4, in the light irradiation treatment, light is applied to all or part of the surface of the surface-modified coupling base material, and the photodegradable protective group in the light-irradiated portion is released to remove a functional group. A functional group-exposed coupling base material is prepared by exposing and forming a functional group on the surface of the base material. That is, by irradiating only a specific portion with light, a functional group can be formed only in that portion. The irradiation light is not particularly limited as long as it can remove the photodegradable protective group and expose the functional group,
Ultraviolet rays (1 to 400 nm) are preferable, and due to the optical resolution of the photodegradable protective group of the silane compound,
Light with a long wavelength (for example, 320 nm or more) can be used as appropriate.

【0070】図5に示すように、化学修飾処理は、修飾
したい有機物質を含む溶液を官能基露出カップリング基
材にコーティングし、官能基露出カップリング基材の官
能基と有機材料とを反応させて化学修飾カップリング基
材を製造する。化学修飾に用いられる有機物質として
は、その製造物の用途等により適宜決定することができ
るが、例えば、核酸、糖、タンパク質等の生体物質を用
いることができる。コーティング手段は、表面修飾の場
合と同様である。
As shown in FIG. 5, in the chemical modification treatment, the functional group-exposed coupling base material is coated with a solution containing an organic substance to be modified, and the functional group of the functional group-exposed coupling base material is reacted with the organic material. Then, a chemically modified coupling substrate is manufactured. The organic substance used for the chemical modification can be appropriately determined depending on the intended use of the product, and for example, a biological substance such as nucleic acid, sugar or protein can be used. The coating means is the same as in the case of surface modification.

【0071】本発明の光分解性保護基でアミノ基が保護
された化合物は、複合材料の改質剤として有用であるだ
けでなく、自己集積単分子膜(Self assembled monolay
er;SAM)やメゾポーラスシリカ、マイクロアレイ等
の表面に従来導入が困難であった官能基を導入する試薬
として広く利用することができる。また、300nm以
上の光照射により官能基導入のパターンニングが可能で
あることから、新たなフォトレジスト材料、コンビナト
リアルケミストリーの基盤技術としての利用が可能であ
る。さらに、クロマトグラフィー担体への利用が可能で
ある。
The compound of the present invention in which an amino group is protected by a photodegradable protective group is not only useful as a modifier for a composite material, but also a self-assembled monolayer (Self assembled monolayer).
ER; SAM), mesoporous silica, microarrays, etc., can be widely used as a reagent for introducing a functional group into the surface, which has been difficult to introduce. Further, since it is possible to perform patterning for introducing a functional group by irradiation with light of 300 nm or more, it can be used as a new photoresist material and a basic technology of combinatorial chemistry. Further, it can be used as a chromatography carrier.

【0072】本発明の一般式〔7〕で表される光分解性
化合物について説明する。かかる一般式〔7〕で表され
る光分解性化合物は、上記一般式〔1〕で表されるシラ
ン化合物の製造において使用することができ、非常に効
率よく一般式〔1〕で表される化合物を製造することが
できる。
The photodecomposable compound represented by the general formula [7] of the present invention will be described. The photodecomposable compound represented by the general formula [7] can be used in the production of the silane compound represented by the general formula [1], and is very efficiently represented by the general formula [1]. The compound can be prepared.

【0073】[0073]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0074】一般式〔7〕中、Yは光分解性保護基を表
す。一般式〔7〕におけるYは一般式〔1〕におけるY
と同様である。一般式〔7〕で表される光分解性化合物
は、下記一般式〔8〕で表される光分解性化合物である
ことが好ましい。一般式〔8〕で表される光分解性化合
物は、上記一般式〔2〕で表されるシラン化合物の製造
において使用することができ、非常に効率よく一般式
〔2〕で表される化合物を製造することができる。
In the general formula [7], Y represents a photodegradable protective group. Y in the general formula [7] is Y in the general formula [1].
Is the same as. The photodegradable compound represented by the general formula [7] is preferably a photodegradable compound represented by the following general formula [8]. The photodecomposable compound represented by the general formula [8] can be used in the production of the silane compound represented by the general formula [2], and is a compound represented by the general formula [2] very efficiently. Can be manufactured.

【0075】[0075]

【化40】 [Chemical 40]

【0076】一般式〔8〕中、R2は水素原子又はアル
キル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子又
はアルコキシ基を表す。一般式〔8〕におけるR2
3、R 4は一般式〔2〕におけるR2、R3、R4と同様
である。
In the general formula [8], R2Is a hydrogen atom or
Represents a kill group, R3, RFourAre each independently a hydrogen atom or
Represents an alkoxy group. R in general formula [8]2,
R3, R FourIs R in the general formula [2]2, R3, RFoursame as
Is.

【0077】[0077]

【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、水とはイオン交換蒸留水
を指す。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.
In the following examples, water refers to ion exchange distilled water.

【0078】[実施例1] <1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3−(ト
リエトキシシリル)プロピル)カルバマート(具体例
(1))の合成>窒素置換した50mLナスフラスコに
1−(2−ニトロフェニル)エタノール1.50g
(8.97mmol)、N−N′−ジスクシンイミジル
カーボネート2.31g(9.02mmol)、トリエ
チルアミン2.02mL(27.0mmol)を入れ、
DMF(N,N−ジメチルホルムアミド)20mL中で
室温で5時間攪拌した。反応後、DMFを留去し、粗生
成物(黒色粘体)6.59gを得た。これをカラムクロ
マトグラフィー(ヘキサン:エチルアセテート=2:1
(v/v))で精製し、黄白色固体の目的物(1−(2
−ニトロフェニル)エチル−N−ヒドロキシスクシンイ
ミジルカーボネート)2.00g(6.49mmol,
72.4%)を得た。
[Example 1] <Synthesis of 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (1))> 1 in a 50 mL round-bottomed flask with nitrogen substitution. -(2-Nitrophenyl) ethanol 1.50 g
(8.97 mmol), N-N'-disuccinimidyl carbonate 2.31 g (9.02 mmol), triethylamine 2.02 mL (27.0 mmol) were added,
The mixture was stirred in 20 mL of DMF (N, N-dimethylformamide) at room temperature for 5 hours. After the reaction, DMF was distilled off to obtain 6.59 g of a crude product (black viscous body). This was subjected to column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1).
(V / v)) to obtain the desired product (1- (2
-Nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate) 2.00 g (6.49 mmol,
72.4%) was obtained.

【0079】[0079]

【化41】 [Chemical 41]

【0080】上記合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−ヒドロキシスクシンイミジルカーボネート
の同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=1.80(d,J=6.4Hz,3H,methy
l),2.80(s,4H,methylene),
6.40(q,J=6.4Hz,1H,methin
e),7.51(m,1H,aromatic),7.
75(m,2H,aromatic),8.03(d,
J=8.4Hz,1H,aromatic) IR(KBr) 1789cm-1(C=O)(ester),1745c
-1(C=O)(succinyl),1530cm-1
and1359cm-1(NO2) Rf:0.18
1- (2-nitrophenyl) synthesized above
The identification results of ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 1.80 (d, J = 6.4 Hz, 3 H, methy)
l), 2.80 (s, 4H, methylene),
6.40 (q, J = 6.4Hz, 1H, method
e), 7.51 (m, 1H, aromatic), 7.
75 (m, 2H, aromatic), 8.03 (d,
J = 8.4 Hz, 1H, aromatic) IR (KBr) 1789 cm -1 (C = O) (ester), 1745c
m -1 (C = O) (succinyl), 1530 cm -1
and 1359 cm -1 (NO 2 ) Rf: 0.18

【0081】次に、窒素置換した100mLナスフラス
コに上記合成した1−(2−ニトロフェニル)エチル−
N−ヒドロキシスクシンイミジルカーボネート1.00
g(3.24mmol)、3−(トリエトキシシリル)
プロピルアミン0.72g(3.25mmol)を入
れ、dry THF(テトラヒドロフラン)50mL中
で室温で3時間攪拌した。反応後、溶媒を留去し、粗生
成物2.30gを得た。これをカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン:エチルアセテート:テトラメトキシシラ
ン=200:100:3(v/v))で精製し、黄色粘
体の目的物(1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−
(3−(トリエトキシシリル)プロピル)カルバマート
(具体例(1))1.19g(2.87mmol,8
8.6%)を得た。
Next, 1- (2-nitrophenyl) ethyl-synthesized above was placed in a 100 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen.
N-hydroxysuccinimidyl carbonate 1.00
g (3.24 mmol), 3- (triethoxysilyl)
0.72 g (3.25 mmol) of propylamine was added, and the mixture was stirred in 50 mL of dry THF (tetrahydrofuran) at room temperature for 3 hours. After the reaction, the solvent was distilled off to obtain 2.30 g of a crude product. This was purified by column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 200: 100: 3 (v / v)) to obtain a yellow viscous product (1- (2-nitrophenyl) ethyl-N-).
(3- (triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (1)) 1.19 g (2.87 mmol, 8)
8.6%) was obtained.

【0082】[0082]

【化42】 [Chemical 42]

【0083】上記合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)
カルバマート(具体例(1))の同定結果を以下に示
す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=0.60(t,J=8.0Hz,2H,methy
lene),1.22(t,J=6.8Hz,9H,m
ethyl),1.61(d,J=6.4Hz,3H,
methyl),1.61(m,2H,methyle
ne),3.12(m,2H,methylene),
3.81(q,J=6.8Hz,6H,methyle
ne),5.04(br,1H,secondary
amine),6.23(q,J=6.8Hz,1H,
methine),7.39〜7.42(m,1H,a
romatic),7.61〜7.63(m,2H,a
romatic),7.92(d,J=8.0Hz,1
H,aromatic) IR(Nacl) 3342cm-1(N−H),1718cm-1(C=
O),1528cm-1and1352cm-1(NO2) Rf:0.56
1- (2-nitrophenyl) synthesized above
Ethyl-N- (3- (triethoxysilyl) propyl)
The identification results of carbamate (specific example (1)) are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 0.60 (t, J = 8.0 Hz, 2H, methy)
len), 1.22 (t, J = 6.8Hz, 9H, m
Ethyl), 1.61 (d, J = 6.4 Hz, 3H,
1.61 (m, 2H, methyl)
ne), 3.12 (m, 2H, methylene),
3.81 (q, J = 6.8Hz, 6H, methyl
ne), 5.04 (br, 1H, secondary
Amine), 6.23 (q, J = 6.8 Hz, 1H,
methine), 7.39 to 7.42 (m, 1H, a
romantic), 7.61 to 7.63 (m, 2H, a
romantic), 7.92 (d, J = 8.0 Hz, 1
H, aromatic) IR (Nacl) 3342 cm -1 (NH), 1718 cm -1 (C =
O), 1528 cm -1 and 1352 cm -1 (NO 2 ) Rf: 0.56

【0084】[実施例2] <1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3−(ト
リメトキシシリル)プロピル)カルバマート(具体例
(2))の合成>窒素置換した100mLナスフラスコ
に上記実施例1で合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−ヒドロキシスクシンイミジルカーボネート
1.00g(3.24mmol)、3−(トリメトキシ
シリル)プロピルアミン0.58g(3.23mmo
l)を入れ、dry THF50mL中で室温で3時間
攪拌した。反応後、溶媒を留去し、黄色粘体の粗生成物
1.97gを得た。これをカラムクロマトグラフィー
(ヘキサン:エチルアセテート:テトラメトキシシラン
=200:100:3(v/v))で精製し、黄色粘体
の目的物(1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−
(3−(トリメトキシシリル)プロピル)カルバマート
(具体例(2))0.67g(1.80mmol,5
5.7%)を得た。
[Example 2] <Synthesis of 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (trimethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (2))> A 100 mL round-bottomed flask containing nitrogen was replaced with the above. 1- (2-nitrophenyl) synthesized in Example 1
Ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate 1.00 g (3.24 mmol), 3- (trimethoxysilyl) propylamine 0.58 g (3.23 mmo)
1) was added, and the mixture was stirred in 50 mL of dry THF at room temperature for 3 hours. After the reaction, the solvent was distilled off to obtain 1.97 g of a crude yellow viscous product. This was purified by column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 200: 100: 3 (v / v)) to obtain a yellow viscous product (1- (2-nitrophenyl) ethyl-N-).
(3- (trimethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific example (2)) 0.67 g (1.80 mmol, 5)
5.7%) was obtained.

【0085】[0085]

【化43】 [Chemical 43]

【0086】上記合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−(3−(トリメトキシシリル)プロピル)
カルバマート(具体例(2))の同定結果を以下に示
す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=0.61(t,J=8.2Hz,2H,methy
lene),1.61(d,J=6.4Hz,3H,m
ethyl),1.61(m,2H,methylen
e),3.12(m,2H,methylene),
3.56(s,9H,methyl),4.95(b
r,1H,secondary amine),6.2
3(q,J=6.4Hz,1H,methine),
7.40(m,1H,aromatic),7.62
(m,2H,aromatic),7.93(d,J=
8.4Hz,1H,aromatic) IR(Nacl) 3343cm-1(N−H),1698cm-1(C=
O),1525cm-1and1352cm-1(NO2) Rf:0.24
1- (2-nitrophenyl) synthesized above
Ethyl-N- (3- (trimethoxysilyl) propyl)
The identification results of carbamate (Specific Example (2)) are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 0.61 (t, J = 8.2 Hz, 2 H, methy)
len), 1.61 (d, J = 6.4 Hz, 3H, m
1.61 (m, 2H, methylen)
e), 3.12 (m, 2H, methylene),
3.56 (s, 9H, methyl), 4.95 (b
r, 1H, secondary amine), 6.2
3 (q, J = 6.4 Hz, 1H, methine),
7.40 (m, 1H, aromatic), 7.62
(M, 2H, aromatic), 7.93 (d, J =
8.4 Hz, 1H, aromatic) IR (Nacl) 3343 cm -1 (N-H), 1698 cm -1 (C =
O), 1525 cm -1 and 1352 cm -1 (NO 2 ) Rf: 0.24

【0087】[実施例3] <1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−(3−(ジ
メチルエトキシシリル)プロピル)カルバマート(具体
例(3))の合成>窒素置換した100mLナスフラス
コに上記実施例1で合成した1−(2−ニトロフェニ
ル)エチル−N−ヒドロキシスクシンイミジルカーボネ
ート2.03g(6.59mmol)を入れ、dry
THF50mLに溶解させた。その溶液に3−(ジメチ
ルエトキシシリル)プロピルアミン1.11g(6.8
8mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温で3時間攪拌
した。反応後、TLC(薄層クロマトグラフィー)(ヘ
キサン:エチルアセテート=2:1)で生成物を確認し
たところ、まだ原材料が残っていたので、さらに70℃
で3時間還流した。その後、再びTLCで確認したとこ
ろ、原材料が残っていたが目的物と思われるスポットが
濃くでていたので、反応を止めて溶媒を留去し、粗生成
物(薄い黄色の粘体)3.49gを得た。これをカラム
クロマトグラフィー(ヘキサン:エチルアセテート:テ
トラメトキシシラン=200:100:1.5(v/
v))で精製し、黄色粘体の目的物(1−(2−ニトロ
フェニル)エチル−N−(3−(ジメチルエトキシシリ
ル)プロピル)カルバマート(具体例(3))0.95
g(2.68mmol,40.7%)を得た。
Example 3 <Synthesis of 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (dimethylethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (3))> A 100 mL round-bottomed flask containing nitrogen was replaced with the above. 2.03 g (6.59 mmol) of 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate synthesized in Example 1 was added, and dry was added.
It was dissolved in 50 mL of THF. 1.11 g (6.8 g of 3- (dimethylethoxysilyl) propylamine) was added to the solution.
8 mmol) was added, and the mixture was stirred under a nitrogen atmosphere at room temperature for 3 hours. After the reaction, when the product was confirmed by TLC (thin layer chromatography) (hexane: ethyl acetate = 2: 1), the raw materials still remained.
At reflux for 3 hours. After that, when checked again by TLC, the raw material remained, but the spot which seems to be the target was thick, so the reaction was stopped and the solvent was distilled off to give 3.49 g of a crude product (pale yellow viscous body). Got This was subjected to column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 200: 100: 1.5 (v /
v)) and the target product (1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (dimethylethoxysilyl) propyl) carbamate (specific example (3)) 0.95 as a yellow viscous substance.
g (2.68 mmol, 40.7%) was obtained.

【0088】[0088]

【化44】 [Chemical 44]

【0089】上記合成した(1−(2−ニトロフェニ
ル)エチル−N−(3−(ジメチルエトキシシリル)プ
ロピル)カルバマート(具体例(3))の同定結果を以
下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=0.10(s,6H,methyl),0.55
(t,J=8Hz,2H,methylene),1.
19(t,J=7.2Hz,3H,methyl),
1.50(m,2H,methylene),1.61
(d,J=6.8Hz,3H,methyl),3.1
2(m,2H,methylene),3.65(q,
J=7.2Hz,2H,methylene),4.9
8(s,1H,amine),6.24(q,J=6.
4Hz,1H,methane),7.41(m,1
H,aromatic),7.61(m,2H,aro
matic),7.92(d,J=8.4Hz,1H,
aromatic) IR(Nacl) 3332cm-1(N−H),1722cm-1(C=
O),1527cm-1and1351cm-1(NO2
The identification results of the above-synthesized (1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (dimethylethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (3)) are shown below: 1 H-NMR ( 400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 0.10 (s, 6H, methyl), 0.55
(T, J = 8 Hz, 2H, methylene), 1.
19 (t, J = 7.2 Hz, 3H, methyl),
1.50 (m, 2H, methylene), 1.61
(D, J = 6.8 Hz, 3H, methyl), 3.1
2 (m, 2H, methylene), 3.65 (q,
J = 7.2 Hz, 2H, methylene), 4.9
8 (s, 1H, amine), 6.24 (q, J = 6.
4Hz, 1H, mean), 7.41 (m, 1)
H, aromatic), 7.61 (m, 2H, aro
matic), 7.92 (d, J = 8.4 Hz, 1H,
aromatic) IR (Nacl) 3332 cm -1 (N-H), 1722 cm -1 (C =
O), 1527cm -1 and 1351cm -1 (NO 2 )

【0090】[実施例4] <1−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル)エ
チル−N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)カ
ルバマート(具体例(4))の合成>水浴につけた20
0mLナスフラスコに61%HNO350mL(670
mmol)を入れ、温度を15℃前後に保ちながら、
3′,4′−ジメトキシアセトフェノン5.00g(2
7.7mmol)を少しずつ加え、水浴中で3時間攪拌
した。反応溶液を氷水100mLに注ぎ、生じた沈殿を
濾過した。その沈殿を水で洗浄し、エタノールから再結
晶し、黄色粉体の目的物(4,5−ジメトキシ−2−ニ
トロアセトフェノン)1.15g(5.11mmol,
18.3%)を得た。
Example 4 <Synthesis of 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethyl-N- (3- (triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (4))> Immerse in water bath 20
In a 0 mL eggplant flask, 50 mL of 61% HNO 3 (670
mmol) and keep the temperature around 15 ° C,
3 ', 4'-dimethoxyacetophenone 5.00 g (2
(7.7 mmol) was added little by little, and the mixture was stirred in a water bath for 3 hours. The reaction solution was poured into 100 mL of ice water, and the resulting precipitate was filtered. The precipitate was washed with water and recrystallized from ethanol to give 1.15 g (5.11 mmol, 5.11 mmol, target product (4,5-dimethoxy-2-nitroacetophenone) of a yellow powder.
18.3%).

【0091】[0091]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0092】上記合成した4,5−ジメトキシ−2−ニ
トロアセトフェノンの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=2.50(s,3H,methyl),3.99
(s,6H,methyl),6.76(s,1H,a
romatic),7.62(s,1H,aromat
ic) IR(KBr) 1701cm-1(C=O),1516cm-1and13
28cm-1(NO2
The identification results of the above-synthesized 4,5-dimethoxy-2-nitroacetophenone are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 2.50 (s, 3H, methyl), 3.99
(S, 6H, methyl), 6.76 (s, 1H, a
romantic), 7.62 (s, 1H, aromat
ic) IR (KBr) 1701 cm -1 (C = O), 1516 cm -1 and 13
28 cm -1 (NO 2 )

【0093】次に、氷浴につけた300mLのナスフラ
スコに上記合成した4,5−ジメトキシ−2−ニトロア
セトフェノンを1.27g(5.64mmol)入れ、
メタノール200mLに溶解させた。これに、水酸化ホ
ウ素ナトリウム(テトラヒドロホウ酸ナトリウム塩)
0.60g(15.9mmol)を少しずつ加え、その
まま氷浴中で30分攪拌した。その後、室温で1時間攪
拌し、溶媒を減圧留去し、水200mL加え30分攪拌
した。これをクロロホルム(100mL×5)で抽出
し、クロロホルム層に無水硫酸マグネシウムを加え、乾
燥、濾過し、クロロホルムを留去し黄色粉体の粗生成物
1.44gを得た。これをエタノールから再結晶し、黄
色固体の目的物(1−(4,5−ジメトキシ−2−ニト
ロフェニル)エタノール)0.91g(4.01mmo
l,71.1%)を得た。
Next, 1.27 g (5.64 mmol) of the above-synthesized 4,5-dimethoxy-2-nitroacetophenone was put in a 300 mL eggplant flask placed in an ice bath,
It was dissolved in 200 mL of methanol. To this, sodium borohydride (tetrahydroborate sodium salt)
0.60 g (15.9 mmol) was added little by little, and the mixture was stirred as it was in the ice bath for 30 minutes. Then, the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, the solvent was distilled off under reduced pressure, 200 mL of water was added, and the mixture was stirred for 30 minutes. This was extracted with chloroform (100 mL × 5), anhydrous magnesium sulfate was added to the chloroform layer, dried and filtered, and chloroform was distilled off to obtain 1.44 g of a crude product as a yellow powder. This was recrystallized from ethanol to give 0.91 g (4.01 mmo) of the target product (1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethanol) as a yellow solid.
1, 71.1%) was obtained.

【0094】[0094]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0095】上記合成した1−(4,5−ジメトキシ−
2−ニトロフェニル)エタノールの同定結果を以下に示
す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=1.56(d,J=6.0Hz,3H,methy
l),2.26(d,1H,hydroxy),3.9
5〜4.01(s,6H,methyl),5.55〜
5.61(m,1H,methine),7.31
(s,1H,aromatic),7.58(s,1
H,aromatic) IR(KBr) 3298cm-1(OH),1522cm-1and132
3cm-1(NO2
The above-synthesized 1- (4,5-dimethoxy-
The identification results of 2-nitrophenyl) ethanol are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 1.56 (d, J = 6.0 Hz, 3 H, methy)
l), 2.26 (d, 1H, hydroxy), 3.9.
5 to 4.01 (s, 6H, methyl), 5.55
5.61 (m, 1H, methine), 7.31
(S, 1H, aromatic), 7.58 (s, 1
H, aromatic) IR (KBr) 3298 cm -1 (OH), 1522 cm -1 and 132
3 cm -1 (NO 2 )

【0096】次に、窒素置換した100mLのナスフラ
スコに上記合成した1−(4,5−ジメトキシ−2−ニ
トロフェニル)エタノール0.80g(3.52mmo
l)、N,N′−ジスクシンイミジルカーボネート0.
90g(3.51mmol)、dry DMF50mL
を入れ、その溶液にトリエチルアミン0.80mLを加
え、窒素雰囲気下、室温で5時間攪拌した。反応後、水
50mL、2Nの塩酸16mL加え、エチルアセテート
(50mL×3)で抽出した。そのエチルアセテート層
を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(150mL×1)で
洗浄した。エチルアセテート層に無水硫酸マグネシウム
を入れ、乾燥、濾過、濃縮して黄色固体の粗生成物1.
38gを得た。これをエタノールから再結晶して黄白色
固体の目的物(1−(4,5−ジメトキシ−2−ニトロ
フェニル)エチル−N−ヒドロキシスクシンイミジルカ
ーボネート)0.67g(1.82mmol,51.7
%)を得た。
Next, 0.80 g (3.52 mmo) of 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethanol synthesized above was placed in a 100 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen.
l), N, N'-disuccinimidyl carbonate 0.
90 g (3.51 mmol), dry DMF 50 mL
Then, 0.80 mL of triethylamine was added to the solution, and the mixture was stirred at room temperature for 5 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, 50 mL of water and 16 mL of 2N hydrochloric acid were added, and the mixture was extracted with ethyl acetate (50 mL × 3). The ethyl acetate layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (150 mL × 1). Anhydrous magnesium sulfate was added to the ethyl acetate layer, dried, filtered and concentrated to give a yellow solid crude product.
38 g was obtained. This was recrystallized from ethanol to give 0.67 g (1.82 mmol, 51.51) of the target product (1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate) as a yellowish white solid. 7
%) Was obtained.

【0097】[0097]

【化47】 [Chemical 47]

【0098】上記合成した1−(4,5−ジメトキシ−
2−ニトロフェニル)エチル−N−ヒドロキシスクシン
イミジルカーボネートの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=1.77(d,J=6.0Hz,3H,methy
l),2.80(s,4H,methylene),
3.95〜4.07(s,6H,methyl),6.
51(q,J=6.2Hz,1H,methine),
7.08(s,1H,aromatic),7.65
(s,1H,aromatic) IR(KBr) 1783cm-1(C=O),1752cm-1(C=O,
succinyl),1524cm-1and1333c
-1(NO2
The above-synthesized 1- (4,5-dimethoxy-
The identification results of 2-nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 1.77 (d, J = 6.0 Hz, 3 H, methy)
l), 2.80 (s, 4H, methylene),
3.95 to 4.07 (s, 6H, methyl), 6.
51 (q, J = 6.2 Hz, 1H, methine),
7.08 (s, 1H, aromatic), 7.65
(S, 1H, aromatic) IR (KBr) 1783 cm -1 (C = O), 1752 cm -1 (C = O,
succinyl), 1524cm -1 and 1333c
m -1 (NO 2 )

【0099】次に、窒素置換した100mLのナスフラ
スコに上記合成した1−(4,5−ジメトキシ−2−ニ
トロフェニル)エチル−N−ヒドロキシスクシンイミジ
ルカーボネート0.62g(1.68mmol)を入
れ、dry THF30mLに溶解させた。これに、3
−アミノプロピルトリエトキシシラン0.48g(2.
17mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温で3時間攪
拌した。反応後、溶媒を留去し粗生成物1.59gを得
た。これをカラムクロマトグラフィー(ヘキサン:エチ
ルアセテート:テトラメトキシシラン=200:10
0:1(v/v))で精製し、黄色粘体の目的物(1−
(4,5−ジメトキシ−2−ニトロフェニル)エチル−
N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)カルバマ
ート(具体例(4))0.74g(1.56mmol,
92.9%)を得た。
Next, 0.62 g (1.68 mmol) of 1- (4,5-dimethoxy-2-nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate synthesized above was placed in a 100 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen. It was put and dissolved in 30 mL of dry THF. To this 3
-Aminopropyltriethoxysilane 0.48 g (2.
17 mmol) was added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours under a nitrogen atmosphere. After the reaction, the solvent was distilled off to obtain 1.59 g of a crude product. This was subjected to column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 200: 10).
0: 1 (v / v)) to obtain a yellow viscous product (1-
(4,5-Dimethoxy-2-nitrophenyl) ethyl-
0.74 g (1.56 mmol, N- (3- (triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (4))
92.9%).

【0100】[0100]

【化48】 [Chemical 48]

【0101】上記合成した1−(4,5−ジメトキシ−
2−ニトロフェニル)エチルN−(3−(トリエトキシ
シリル)プロピル)カルバマート(具体例(4))の同
定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=0.61(t,J=8.0Hz,2H,methy
lene),1.22(t,J=7.2Hz,9H,m
ethyl),1.58〜1.60(m,3H,met
hyl),1.58〜1.60(m,2H,methy
lene),3.15(m,2H,methylen
e),3.81(q,6H,J=7.2Hz,meth
ylene),3.93〜3.97(s,6H,met
hyl),5.03(br,1H,amine),6.
37(q,J=6.0Hz,1H,methine),
7.01(s,1H,aromatic),7.58
(s,1H,aromatic) IR(Nacl) 3392cm-1(N−H),1717cm-1(C=
O),1521cm-1and1336cm-1(NO2
The above-synthesized 1- (4,5-dimethoxy-
The identification results of 2-nitrophenyl) ethyl N- (3- (triethoxysilyl) propyl) carbamate (Specific Example (4)) are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 0.61 (t, J = 8.0 Hz, 2H, methy)
len), 1.22 (t, J = 7.2 Hz, 9H, m
Ethyl), 1.58 to 1.60 (m, 3H, met
hyl), 1.58 to 1.60 (m, 2H, methy
len), 3.15 (m, 2H, methylen
e), 3.81 (q, 6H, J = 7.2 Hz, meth
ylen), 3.93 to 3.97 (s, 6H, met
hyl), 5.03 (br, 1H, amine), 6.
37 (q, J = 6.0 Hz, 1H, methine),
7.01 (s, 1H, aromatic), 7.58
(S, 1H, aromatic) IR (Nacl) 3392 cm -1 (N-H), 1717 cm -1 (C =
O), 1521 cm -1 and 1336 cm -1 (NO 2 )

【0102】[実施例5] <1−(2−ニトロフェニル)エチル−N−11−(ト
リエトキシシリル)ウンデシルカルバマート(具体例
(5))の合成>200mLナスフラスコにフタルイミ
ドカリウム2.07g(11.2mmol),dry
DMF100mLを入れ、その溶液に11−ブロモ−1
−ウンデセン2.00g(8.58mmol)を加え、
150℃で90分還流した。反応後、DMFを減圧留去
し、ジクロロメタン30mL加え16時間撹拌した。析
出した固体を濾過し、濾液に無水硫酸マグネシウムを入
れ乾燥、濾過した。濾液を濃縮し、黄白色固体の粗生成
物2.56gを得た。カラムクロマトグラフィー(ヘキ
サン:エチルアセテート=2:1(v/v))で精製
し、白色固体の目的物(N−(10−ウンデセニル)−
1−フタルイミド)2.12g(7.08mmol、8
2.5%)を得た。
[Example 5] <Synthesis of 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N-11- (triethoxysilyl) undecylcarbamate (Specific Example (5))> Potassium phthalimide 2. 07 g (11.2 mmol), dry
Add 100 mL of DMF and add 11-bromo-1 to the solution.
-Add 2.00 g (8.58 mmol) undecene,
Refluxed at 150 ° C. for 90 minutes. After the reaction, DMF was distilled off under reduced pressure, 30 mL of dichloromethane was added, and the mixture was stirred for 16 hours. The precipitated solid was filtered, anhydrous magnesium sulfate was added to the filtrate, dried and filtered. The filtrate was concentrated to obtain 2.56 g of a crude product as a yellowish white solid. Purification by column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1 (v / v)) gave a white solid of the desired product (N- (10-undecenyl)-).
1-phthalimide) 2.12 g (7.08 mmol, 8)
2.5%) was obtained.

【0103】[0103]

【化49】 [Chemical 49]

【0104】上記合成したN−(10−ウンデセニル)
−1−フタルイミドの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=7.84(2H,m,aromatic)、7.7
1(2H,m,aromatic)、5.80(1H,
m,methane)、4.96(2H,m,meth
ylene)、3.68(2H,t,J=7.6Hz,
methylene)、2.02(2H,q,J=6.
8Hz,methylene)、1.67(2H,m,
methylene)、1.27〜1.33(12H,
m,methylene) IR(KBr) 1696 cm-1 (C=O)
N- (10-undecenyl) synthesized above
The identification results of -1-phthalimide are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 7.84 (2H, m, aromatic), 7.7.
1 (2H, m, aromatic), 5.80 (1H,
m, methane), 4.96 (2H, m, meth)
ylen), 3.68 (2H, t, J = 7.6Hz,
2.02 (2H, q, J = 6.
8Hz, methylene), 1.67 (2H, m,
methylene), 1.27 to 1.33 (12H,
m, methylene) IR (KBr) 1696 cm -1 (C = O)

【0105】次に、200mLナスフラスコに上記合成
したN−(10−ウンデセニル)−1−フタルイミド
1.60g(5.34mmol)、ヒドラジンモノハイ
ドレート743μL(15.0mmol)、エタノール
100mLを入れ、80〜85℃で2時間還流した。反
応後、溶媒を留去し、水200mL、塩酸16mLを加
え、クロロホルム(200mL×3)で抽出した。有機
層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(300mL×1)
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過した。濾
液を濃縮し、粗生成物0.96g得た。これをカラムク
ロマトグラフィー(メタノール:クロロホルム=2:
1)で精製し白色固体の目的物(10−ウンデセニル−
1−アミン)0.45g(2.66mmol、49.8
%)を得た。
Next, in a 200 mL round-bottomed flask, 1.60 g (5.34 mmol) of N- (10-undecenyl) -1-phthalimide synthesized above, 743 μL (15.0 mmol) of hydrazine monohydrate, and 100 mL of ethanol were put, and Reflux at ~ 85 ° C for 2 hours. After the reaction, the solvent was distilled off, 200 mL of water and 16 mL of hydrochloric acid were added, and the mixture was extracted with chloroform (200 mL × 3). The organic layer was saturated aqueous sodium hydrogen carbonate solution (300 mL x 1)
It was washed with, dried over anhydrous magnesium sulfate, and filtered. The filtrate was concentrated to obtain 0.96 g of a crude product. This was subjected to column chromatography (methanol: chloroform = 2:
The target product (10-undecenyl-
1-amine) 0.45 g (2.66 mmol, 49.8)
%) Was obtained.

【0106】[0106]

【化50】 [Chemical 50]

【0107】上記合成した10−ウンデセニル−1−ア
ミンの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=5.76〜5.86(1H,m,methin
e)、4.92〜5.01(2H,m,methyle
ne)、2.67(2H,t,J=6.8Hz,met
hylene)、2.04(2H,q,J=6.8H
z,methylene)、1.28〜1.43(14
H,m,methylene) IR(KBr) 3335 cm-1(−NH2
The identification results of the above-synthesized 10-undecenyl-1-amine are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 5.76-5.86 (1 H, m, methin
e) 4.92 to 5.01 (2H, m, methyl)
ne), 2.67 (2H, t, J = 6.8Hz, met
Hylene), 2.04 (2H, q, J = 6.8H
z, methylene), 1.28 to 1.43 (14
H, m, methylene) IR (KBr) 3335 cm -1 (-NH 2 ).

【0108】次に、窒素置換した50mLナスフラスコ
に実施例1で合成した1−(2−ニトロフェニル)エチ
ル−N−ヒドロキシスクシンイミジルカーボネート0.
82g(2.66mmol)、上記合成した10−ウン
デセニル−1−アミン0.45g(2.66mmo
l)、dry THF20mLを入れ、窒素雰囲気下、
室温で3時間攪拌した。反応後、溶媒を減圧留去して粗
生成物1.60gを得た。これをカラムクロマトグラフ
ィー(ヘキサン:エチルアセテート=2:1(v/
v))で精製し、黄色粘体の目的物(1−(2−ニトロ
フェニル)エチル−N−(10−ウンデセニル)カルバ
マート)0.95g(2.62mmol、98.5%)
得た。
Next, 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N-hydroxysuccinimidyl carbonate prepared in Example 1 was added to a 50 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen.
82 g (2.66 mmol), 0.45 g (2.66 mmo) of the above-synthesized 10-undecenyl-1-amine.
l), 20 mL of dry THF was added, and under a nitrogen atmosphere,
Stir at room temperature for 3 hours. After the reaction, the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain 1.60 g of a crude product. This was subjected to column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1 (v /
v)) and 0.95 g (2.62 mmol, 98.5%) of a yellow viscous product (1- (2-nitrophenyl) ethyl-N- (10-undecenyl) carbamate).
Obtained.

【0109】[0109]

【化51】 [Chemical 51]

【0110】上記合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−(10−ウンデセニル)カルバマートの同
定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=7.92(1H,d,J=8.0Hz,aroma
tic)、7.60〜7.63(2H,m,aroma
tic)、7.38〜7.42(1H,m,methy
lene)、6.23(1H,q,J=6.8Hz,m
ethine)、5.76〜5.86(1H,m,me
thine)、4.91〜5.02(2H,m,met
hylene)、4.71(1H,br,amin
e)、3.07〜3.16(2H,m,methyle
ne)、2.03(2H,q,J=6.6Hz,met
hylene)、1.61(3H,d,J=6.8H
z,methyl)、1.26〜1.45(14H,
m,methylene) IR(NaCl) 3334cm-1(N−H),1703cm-1(C=
O),1526and1349cm-1(−NO2
1- (2-nitrophenyl) synthesized above
The identification results of ethyl-N- (10-undecenyl) carbamate are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 7.92 (1 H, d, J = 8.0 Hz, aroma)
tic), 7.60 to 7.63 (2H, m, aroma
tic), 7.38 to 7.42 (1H, m, methy
len), 6.23 (1H, q, J = 6.8Hz, m
ethine), 5.76 to 5.86 (1H, m, me
thin), 4.91 to 5.02 (2H, m, met
hylen), 4.71 (1H, br, amin
e), 3.07 to 3.16 (2H, m, methyl)
ne), 2.03 (2H, q, J = 6.6Hz, met
Hylene), 1.61 (3H, d, J = 6.8H
z, methyl), 1.26 to 1.45 (14H,
m, methylene) IR (NaCl) 3334 cm -1 (N-H), 1703 cm -1 (C =
O), 1526 and 1349 cm -1 (-NO 2 ).

【0111】次に、窒素置換した50mLナスフラスコ
に上記合成した1−(2−ニトロフェニル)エチル−N
−(10−ウンデセニル)カルバマート0.95g
(2.62mmol)、トリエトキシシラン0.65g
(3.96mmol)、ハイドロゲンヘキサクロロプラ
チネートヘキサハイドレート(H2PtCl6・6H
2O)極少量を入れ、窒素雰囲気下、室温で30分攪拌
し、その後60℃で4時間加熱攪拌した。反応後、過剰
のトリエトキシシランを減圧留去し、カラムクロマトグ
ラフィー(ヘキサン:エチルアセテート:テトラメトキ
シシラン=300:100:4(v/v))で精製し黄
色粘体の目的物(1−(2−ニトロフェニル)エチル−
N−11−(トリエトキシシリル)−ウンデシルカルバ
マート(具体例(5)))0.21g(0.40mmo
l、15.3%)得た。
Next, 1- (2-nitrophenyl) ethyl-N synthesized above was placed in a 50 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen.
-(10-Undecenyl) carbamate 0.95 g
(2.62 mmol), triethoxysilane 0.65 g
(3.96 mmol), hydrogen hexachloroplatinate hexahydrate (H 2 PtCl 6 · 6H)
2 O) A very small amount was added, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes under a nitrogen atmosphere, and then heated and stirred at 60 ° C. for 4 hours. After the reaction, excess triethoxysilane was distilled off under reduced pressure, and purified by column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 300: 100: 4 (v / v)) to obtain a yellow viscous product (1- ( 2-nitrophenyl) ethyl-
N-11- (triethoxysilyl) -undecylcarbamate (specific example (5))) 0.21 g (0.40 mmo)
1, 15.3%).

【0112】[0112]

【化52】 [Chemical 52]

【0113】上記合成した1−(2−ニトロフェニル)
エチル−N−11−(トリエトキシシリル)ウンデシル
カルバマート(具体例(5))の同定結果を以下に示
す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=7.92(1H,d,J=8.0Hz,aroma
tic)、7.60〜7.62(2H,m,aroma
tic)、7.38〜7.43(1H,m,aroma
tic)、6.23(1H,q,J=6.6Hz,me
thine)、4.71(1H,br,amine)、
3.82(6H,q,J=6.8Hz,methyle
ne)、3.07〜3.16(2H,m,methyl
ene)、1.61(3H,d,J=6.4Hz,me
thyl)、1.24〜1.45(18H,m,met
hylene)、1.23(9H,t,J=7.2H
z,methylene)、0.63(2H,t,J=
8.2Hz,methylene) IR(NaCl) 3337cm-1(N−H),1708cm-1(C=
O),1528and1350cm-1(−NO2
1- (2-nitrophenyl) synthesized above
The identification results of ethyl-N-11- (triethoxysilyl) undecylcarbamate (Specific Example (5)) are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 7.92 (1 H, d, J = 8.0 Hz, aroma)
tic), 7.60 to 7.62 (2H, m, aroma)
tic), 7.38 to 7.43 (1H, m, aroma
tic), 6.23 (1H, q, J = 6.6Hz, me
thin), 4.71 (1H, br, amine),
3.82 (6H, q, J = 6.8Hz, methyl
ne), 3.07 to 3.16 (2H, m, methyl)
ene), 1.61 (3H, d, J = 6.4Hz, me
tyl), 1.24 to 1.45 (18H, m, met
hylen), 1.23 (9H, t, J = 7.2H
z, methylene), 0.63 (2H, t, J =
8.2 Hz, methylene) IR (NaCl) 3337 cm -1 (N-H), 1708 cm -1 (C =
O), 1528 and 1350 cm -1 (-NO 2 ).

【0114】[実施例6] <2−ニトロベンジル−4−(トリメトキシシリル)ブ
タンスルホネート(具体例(6)の合成>3口500m
Lナスフラスコに4−ブロモ−1−ブテン3.56g
(24.6mmol)、エタノール250mL、純水9
0mL、磁気攪拌子を入れた。滴下漏斗には、亜硫酸ナ
トリウム3.33g(26.4mmol)、純水50m
Lを入れた。ナスフラスコをオイルバスで加熱攪拌し、
溶液を85℃で滴下した。すべての溶液を滴下後、還流
を2時間行った。反応溶液を別の300mLナスフラス
コに移し、エバポレータで濃縮した。これをエタノール
50mLで洗浄し、上澄み液を濾過した(5回)。その
後、濾液を濃縮し、乾燥させ白色粉体の目的物(3−ブ
テンスルホネートナトリウム3.27g(22.2mm
ol、78%)を得た。
Example 6 <2-Nitrobenzyl-4- (trimethoxysilyl) butanesulfonate (Synthesis of Concrete Example (6)> 3 Ports 500 m
3.56 g of 4-bromo-1-butene in an L eggplant flask
(24.6 mmol), ethanol 250 mL, pure water 9
0 mL, a magnetic stir bar was placed. In the dropping funnel, 3.33 g (26.4 mmol) of sodium sulfite, 50 m of pure water
L was added. Heat and stir the eggplant flask in an oil bath,
The solution was added dropwise at 85 ° C. After dropping all the solutions, reflux was performed for 2 hours. The reaction solution was transferred to another 300 mL round-bottomed flask and concentrated by an evaporator. This was washed with 50 mL of ethanol, and the supernatant was filtered (5 times). After that, the filtrate is concentrated and dried to obtain a white powder of the desired product (3.27 g of sodium 3-butenesulfonate (22.2 mm).
ol, 78%).

【0115】[0115]

【化53】 [Chemical 53]

【0116】上記合成した3−ブテンスルホネートナト
リウムの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(DSS/D2O)90MHz δ ; 2.5(m,2H) =CH−CH2−CH2 3.0(m,2H) −CH2−CH2−SO2− 5.2(dd,2H) CH2=CH− 5.9(m,1H) CH2=CH− IR(KBr)1424 and 1190cm-1(−S
(=O)2−)
The identification results of the above-synthesized sodium 3-butenesulfonate are shown below. 1 H-NMR (DSS / D 2 O) 90MHz δ; 2.5 (m, 2H) = CH-CH 2 -CH 2 3.0 (m, 2H) -CH 2 -CH 2 -SO 2 - 5. 2 (dd, 2H) CH 2 = CH- 5.9 (m, 1H) CH 2 = CH- IR (KBr) 1424 and 1190cm -1 (-S
(= O) 2 −)

【0117】次に、100mLビーカーに3−ブテンス
ルホネートナトリウム16.6g(105mmol)を
入れ、純水50mLに溶かした。これに再生済みの樹脂
を少量入れ溶かした。注ぎ込むカラムは液面が最上方の
樹脂のわずか上になる状態にしておき、樹脂と共にイオ
ン交換樹脂に注いだ。ビーカーに付着して残っているも
のを2度純水で洗い、カラムに注いだ。1秒に2滴ぐら
いの速度で滴下を開始し、液面が最上方の樹脂のわずか
に上になる状態で流出を止めた。次に、純水をカラムに
連続的に注ぎ、流出を再開した。カラムからの流出液が
中性になるまでの溶出液を採取した。この溶出液を濃縮
し、乾燥させ、褐色液体6.76g(49.6mmo
l)を得た(イオン交換)。
Next, 16.6 g (105 mmol) of sodium 3-butenesulfonate was placed in a 100 mL beaker and dissolved in 50 mL of pure water. A small amount of regenerated resin was put into this and melted. The column to be poured was kept in a state where the liquid surface was slightly above the uppermost resin, and was poured into the ion exchange resin together with the resin. Those remaining on the beaker were washed twice with pure water and poured into the column. Dropping was started at a rate of about 2 drops per second, and the outflow was stopped when the liquid surface was slightly above the uppermost resin. Next, pure water was continuously poured into the column to restart the outflow. The eluate until the effluent from the column became neutral was collected. The eluate was concentrated and dried to give 6.76 g (49.6 mmo) of brown liquid.
l) was obtained (ion exchange).

【0118】[0118]

【化54】 [Chemical 54]

【0119】次に、イオン交換した3−ブテンスルホン
酸2.77g(20.3mmol)に対して、氷浴下
で、攪拌しながら(2−ニトロフェニル)ジアゾメタン
を含むCH2Cl2溶液を滴下した。滴下終了後、室温で
終夜攪拌を行った。この反応溶液を濃縮した後、シリカ
ゲルカラム(クロロホルム100%)で粗分けをし、シ
リカゲルカラム(ヘキサン:エチルアセテート=10:
1)で分離・精製し、真空乾燥し、赤褐色粘体の目的物
(2−ニトロベンジル−3−ブテンスルホネート)0.
980g(3.61mmol、17.8%)を得た。
Next, to 2.77 g (20.3 mmol) of ion-exchanged 3-butenesulfonic acid, a CH 2 Cl 2 solution containing (2-nitrophenyl) diazomethane was added dropwise with stirring in an ice bath. did. After completion of dropping, the mixture was stirred overnight at room temperature. After the reaction solution was concentrated, it was roughly separated by a silica gel column (chloroform 100%), and a silica gel column (hexane: ethyl acetate = 10 :).
After separation and purification in 1) and vacuum drying, the desired product (2-nitrobenzyl-3-butene sulfonate) as a reddish brown viscous substance was obtained.
980 g (3.61 mmol, 17.8%) were obtained.

【0120】[0120]

【化55】 [Chemical 55]

【0121】上記合成した2−ニトロベンジル−3−ブ
テンスルホネートの同定結果を以下に示す。1 H−NMR(TMS/CDCl3)400MHz δ= 2.63−2.68(m,2H) =CH−CH2− CH2−SO2 3.27−3.31(m,2H) =CH−CH2−CH2−SO2 5.13−5.20(m,2H) CH2=CH−CH2− 5.67 (S,2H) S−O−CH2− 5.78−5.88(m,1H) CH2=CH−CH2− 7.6−7.8 (m,3H) H−Ar 8.1−8.2 (m,1H) H−Ar IR(NaCl): 1446and1167cm-1(−S(=O)2−),
1528and1347cm-1(NO2) Rf値:0.06
The identification results of the above-synthesized 2-nitrobenzyl-3-butenesulfonate are shown below. 1 H-NMR (TMS / CDCl 3 ) 400 MHz δ = 2.63-2.68 (m, 2H) = CH-CH 2 -CH 2 -SO 2 3.27-3.31 (m, 2H) = CH -CH 2 -CH 2 -SO 2 5.13-5.20 ( m, 2H) CH 2 = CH-CH 2 - 5.67 (S, 2H) S-O-CH 2 - 5.78-5. 88 (m, 1H) CH 2 = CH-CH 2 - 7.6-7.8 (m, 3H) H-Ar 8.1-8.2 (m, 1H) H-Ar IR (NaCl): 1446and1167cm -1 (-S (= O) 2- ),
1528 and 1347 cm -1 (NO 2 ) Rf value: 0.06

【0122】次に、窒素置換した50mLナスフラスコ
に、2−ニトロベンジル−3−ブテンスルホネート0.
652g(2.40mmol)、トリメトキシシラン
0.352g(2.88mmol)、H2PtCl6・6
2Oを極少量加えた。窒素雰囲気下で、加熱撹拌(4
5°C)を2時間行った。TLCで新しく生成物が出来
ていることを確認した。続けて14時間同じ温度で加熱
撹拌を行ったが変化は確認できなかった。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィ−(ヘキサン:エチルアセテー
ト:テトラエトキシシラン=300:100:6)で精
製した。得られた粗生成物のテトラエトキシシランを除
くため湯浴上50℃で3時間真空乾燥して、無色透明粘
体の目的物(2−ニトロベンジル−4−(トリメトキシ
シリル)ブタンスルホネート(具体例(6)))0.0
44g(0.13mmol、6%)を得た。
Next, in a 50 mL round-bottomed flask which had been purged with nitrogen, 2-nitrobenzyl-3-butenesulfonate (0.1%) was added.
652 g (2.40 mmol), trimethoxysilane 0.352g (2.88mmol), H 2 PtCl 6 · 6
A very small amount of H 2 O was added. Under a nitrogen atmosphere, heat stirring (4
5 ° C) for 2 hours. A new product was confirmed by TLC. Subsequently, heating and stirring were carried out at the same temperature for 14 hours, but no change could be confirmed. It was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetraethoxysilane = 300: 100: 6). The resulting crude product was vacuum dried on a water bath at 50 ° C. for 3 hours to remove tetraethoxysilane to obtain a colorless transparent viscous product (2-nitrobenzyl-4- (trimethoxysilyl) butanesulfonate (specific example (6))) 0.0
44 g (0.13 mmol, 6%) was obtained.

【0123】[0123]

【化56】 [Chemical 56]

【0124】上記合成した2−ニトロベンジル−4−
(トリメトキシシリル)ブタンスルホネート(具体例
(6))の同定結果を以下に示す。1 H−NMR(TMS/CDCl3)400MHz δ= 0.8 (m,2h) Si−CH2−CH2 1.6 (m,2h) CH2−CH2−CH2−SO2 1.9 (m,2h) CH2−CH2−CH2−SO2 3.2 (m,2h) CH2−CH2−SO2 3.5−3.6(m,9h) (CH3O)3−Si 5.7 (s,2h) S−O−CH2− 7.6−7.8(m,3h) H−Ar 8.2 (m,1h) H−Ar Rf値:0.13
2-Nitrobenzyl-4-synthesized above
The identification results of (trimethoxysilyl) butanesulfonate (Specific Example (6)) are shown below. 1 H-NMR (TMS / CDCl 3 ) 400 MHz δ = 0.8 (m, 2 h) Si—CH 2 —CH 2 1.6 (m, 2 h) CH 2 —CH 2 —CH 2 —SO 2 1.9 (m, 2h) CH 2 -CH 2 -CH 2 -SO 2 3.2 (m, 2h) CH 2 -CH 2 -SO 2 3.5-3.6 (m, 9h) (CH 3 O) 3 -Si 5.7 (s, 2h) S -O-CH 2 - 7.6-7.8 (m, 3h) H-Ar 8.2 (m, 1h) H-Ar Rf value: 0.13

【0125】〔実施例7〕 <2−ニトロベンジル−4−(トリエトキシシリル)ブ
タンスルホネート(具体例(7)の合成>窒素置換した
50mLのナスフラスコに、実施例6と同様にして合成
した2−ニトロベンジル−3−ブテンスルホネート0.
755g(2.78mmol)、トリエトキシシラン
0.906g(3.34mmol)、H2PtCl6・6
2Oを極少量加えた。窒素雰囲気下で、加熱撹拌(5
5°C)を一時間行った。ここでTLC上に新しく生成
物ができていることを確認した。同じくTLCから原料
が残っていることが確認できたので、その後100°C
に温度を上げて2時間で反応を終了した。シリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(ヘキサン:エチルアセテー
ト:テトラエトキシシラン=400:100:10(v
/v))で精製を試みたが、完全に分けることが出来な
かった。得られた粗生成物のテトラエトキシシランを除
くため60°Cで2時間真空乾燥した。無色透明粘体の
目的物(2−ニトロベンジル−4−(トリエトキシシリ
ル)ブタンスルホネート(具体例(7)))0.13g
(11%)を得た。
Example 7 <Synthesis of 2-nitrobenzyl-4- (triethoxysilyl) butanesulfonate (Specific Example (7)> Synthesis was carried out in the same manner as in Example 6 on a 50 mL eggplant-shaped flask replaced with nitrogen. 2-nitrobenzyl-3-butene sulfonate 0.
755 g (2.78 mmol), triethoxysilane 0.906g (3.34mmol), H 2 PtCl 6 · 6
A very small amount of H 2 O was added. Under a nitrogen atmosphere, heat and stir (5
5 ° C) for 1 hour. Here, it was confirmed that a new product was formed on TLC. Similarly, it was confirmed from TLC that the raw material remained, so 100 ° C after that.
The temperature was raised to 2 hours to complete the reaction. Silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetraethoxysilane = 400: 100: 10 (v
/ V)), but could not be completely separated. The resulting crude product was vacuum dried at 60 ° C. for 2 hours to remove tetraethoxysilane. 0.13 g of the target product (2-nitrobenzyl-4- (triethoxysilyl) butanesulfonate (specific example (7))) as a colorless transparent viscous body.
(11%) was obtained.

【0126】[0126]

【化57】 [Chemical 57]

【0127】上記合成した2−ニトロベンジル−4−
(トリエトキシシリル)ブタンスルホネート(具体例
(7))の同定結果を以下に示す。1 H−NMR(TMS/CDCl3)400MHz δ= 0.64−0.68 (m,2H) Si−CH2−CH2 1.21−1.26 (m,9H) (CH3CH2O)3−Si 1.59−1.61 (m,2H) CH2−CH2−CH2−SO2 1.93−1.95 (m,2H) CH2−CH2−CH2−SO2 3.19−3.23 (m,2H) CH2−CH2−SO2 3.79−3.89 (m,6H) (CH3CH2O)3−Si 5.65−5.66 (m,2H) S−O−CH2− 7.56−7.79 (m,3H) H−Ar 8.17−8.19 (m,1H) H−Ar
2-Nitrobenzyl-4-synthesized above
The identification results of (triethoxysilyl) butanesulfonate (Specific Example (7)) are shown below. 1 H-NMR (TMS / CDCl 3) 400MHz δ = 0.64-0.68 (m, 2H) Si-CH 2 -CH 2 1.21-1.26 (m, 9H) (CH 3 CH 2 O ) 3 -Si 1.59-1.61 (m, 2H ) CH 2 -CH 2 -CH 2 -SO 2 1.93-1.95 (m, 2H) CH 2 -CH 2 -CH 2 -SO 2 3.19-3.23 (m, 2H) CH 2 -CH 2 -SO 2 3.79-3.89 (m, 6H) (CH 3 CH 2 O) 3 -Si 5.65-5.66 ( m, 2H) S-O- CH 2 - 7.56-7.79 (m, 3H) H-Ar 8.17-8.19 (m, 1H) H-Ar

【0128】〔実施例8〕 <2−ニトロベンジル−3−(トリメトキシシリル)プ
ロピルスルフィド(具体例(8))の合成>100mL
二口ナスフラスコに撹拌子を入れ、十分に窒素置換し
た。60%NaH0.07g(3.00mmol)を加
え、そのフラスコを氷浴につけ、滴下ロートに3−メル
カプトロプロピルトリメトキシシラン0.49g(2.
50mmol)をdry−THF20mLに溶かした溶
液を入れ、20分で滴下した。次に、2−ニトロベンジ
ルブロマイド0.54g(2.50mmol)をdry
−THF10mLに溶かし、10分で滴下した。その
後、窒素雰囲気下室温で終夜撹拌した。反応溶液を濃縮
し、得られた粗生成物にジクロロメタン30mL加え、
30分撹拌した。析出する白色個体を濾過して取り除
き、濾液を濃縮し粗生成物を得た。これをカラムクロマ
トグラフィー(ヘキサン:エチルアセテート:テトラメ
トキシシラン=3:1:0.04(v/v))で分離・
精製し、目的物(2−ニトロベンジル−3−(トリメト
キシシリル)プロピルスルフィド(具体例(8)))
0.22g(0.66mmol,26%)を得た。
Example 8 <Synthesis of 2-nitrobenzyl-3- (trimethoxysilyl) propyl sulfide (Specific Example (8))> 100 mL
A stir bar was placed in a two-necked eggplant flask, and the atmosphere was sufficiently replaced with nitrogen. 0.07 g (3.00 mmol) of 60% NaH was added, the flask was placed in an ice bath, and 0.49 g of 3-mercaptropropyltrimethoxysilane (2.
50 mmol) was dissolved in 20 mL of dry-THF, and the solution was added dropwise over 20 minutes. Next, 0.54 g (2.50 mmol) of 2-nitrobenzyl bromide was dried.
-Dissolved in 10 mL of THF and added dropwise in 10 minutes. Then, the mixture was stirred overnight at room temperature under a nitrogen atmosphere. The reaction solution was concentrated, 30 mL of dichloromethane was added to the obtained crude product,
Stir for 30 minutes. The white solid that precipitated was removed by filtration, and the filtrate was concentrated to obtain a crude product. This was separated by column chromatography (hexane: ethyl acetate: tetramethoxysilane = 3: 1: 0.04 (v / v)).
Purified product (2-nitrobenzyl-3- (trimethoxysilyl) propyl sulfide (Specific Example (8)))
0.22 g (0.66 mmol, 26%) was obtained.

【0129】[0129]

【化58】 [Chemical 58]

【0130】上記合成した2−ニトロベンジル−3−
(トリメトキシシリル)プロピルスルフィド(具体例
(8))の同定結果を以下に示す。1 H−NMR(400MHz,CDCl3/TMS) δ=0.71(t,J=8.0Hz,2H,methy
lene),1.6〜1.7(m,2H,methyl
ene),1.47(t,2H,J=7.0Hz,me
thylene),1.54(s,9H,methy
l),4.05(s,2H,benzyl),7.37
〜7.44(m,1H,aromatic),7.46
〜7.58(m,2H,aromatic),7.95
(d,J=8.0Hz,1H,aromatic)
2-Nitrobenzyl-3-synthesized above
The identification results of (trimethoxysilyl) propyl sulfide (Specific Example (8)) are shown below. 1 H-NMR (400 MHz, CDCl 3 / TMS) δ = 0.71 (t, J = 8.0 Hz, 2H, methy)
len), 1.6 to 1.7 (m, 2H, methyl)
ene), 1.47 (t, 2H, J = 7.0 Hz, me
1.54 (s, 9H, methy)
l), 4.05 (s, 2H, benzyl), 7.37
~ 7.44 (m, 1H, aromatic), 7.46
~ 7.58 (m, 2H, aromatic), 7.95
(D, J = 8.0Hz, 1H, aromatic)

【0131】上記合成した本発明の一般式〔1〕で表さ
れる化合物(具体例(1)〜(4)及び具体例(6))
を用いてシリコンウェハ表面の化学修飾を行った。各処
理における評価は、シリコンウェハ表面の接触角を測定
して、その表面の親水性を調査することにより行った。
なお、接触角の測定は以下の方法で行った。
The above-synthesized compounds of the present invention represented by the general formula [1] (specific examples (1) to (4) and specific example (6))
Was used to chemically modify the surface of the silicon wafer. The evaluation in each treatment was performed by measuring the contact angle of the surface of the silicon wafer and investigating the hydrophilicity of the surface.
The contact angle was measured by the following method.

【0132】(接触角の測定)測定に用いた水はイオン
交換蒸留水を使用した。また接触角計は協和界面科学株
式会社CA−DT・A型を用いた。測定は協和界面科学
株式会社の接触角計の取扱説明書に記載されている「液
適法測定操作」に従って行った。一つのサンプルについ
て10点の測定を行い、その最大値と最小値を切り捨
て、残りの平均値を接触角とした。
(Measurement of Contact Angle) As the water used for the measurement, ion exchange distilled water was used. The contact angle meter used was Kyowa Interface Science Co., Ltd. CA-DT • A type. The measurement was performed according to the “liquid proper measurement operation” described in the instruction manual for the contact angle meter manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. The measurement of 10 points was performed for one sample, the maximum value and the minimum value thereof were cut off, and the remaining average value was taken as the contact angle.

【0133】1.前処理 50mLナスフラスコに硫酸14mL、30%過酸化水
素6mLを入れ軽く振り混ぜ、硫酸:30%過酸化水素
=7:3(v/v)の混合溶液を調製した。シリコンウ
ェハ2枚を非鏡面処理側を合わせて投入し、90〜10
0℃で1時間加熱した。混合溶液のみを捨て、フラスコ
内にシリコンウェハが残っている状態のところに水約3
0mL入れ、シリコンウェハとナスフラスコの壁面を3
回濯ぎ混合溶液を洗い流した。その後、水約50mLを
入れ、超音波洗浄を5分間行った。水を捨てシリコンウ
ェハを1枚ずつチタン製ピンセットで取り、窒素気流シ
リコンウェハ表面の水分をとばした。図2に示すよう
に、この前処理によってシリコンウェハの表面に親水性
であるシラノール層を形成した。なお、このときのシリ
コンウェハ表面の接触角は5°以下であった。
1. Pretreatment 14 mL of sulfuric acid and 6 mL of 30% hydrogen peroxide were placed in a 50 mL eggplant flask and shaken gently to prepare a mixed solution of sulfuric acid: 30% hydrogen peroxide = 7: 3 (v / v). 90 silicon to 2
Heated at 0 ° C. for 1 hour. Discard only the mixed solution, and add about 3 parts of water when the silicon wafer remains in the flask.
Put 0 mL, and put the silicon wafer and eggplant flask wall 3
The rinse solution was rinsed off. Then, about 50 mL of water was added and ultrasonic cleaning was performed for 5 minutes. The water was discarded, and the silicon wafers were taken one by one with the tweezers made of titanium, and the moisture on the surface of the silicon wafer was removed. As shown in FIG. 2, by this pretreatment, a hydrophilic silanol layer was formed on the surface of the silicon wafer. The contact angle of the silicon wafer surface at this time was 5 ° or less.

【0134】2.表面修飾(シラン化合物(具体例
(1)〜(4)及び具体例(6)の導入) 窒素置換した50mLナスフラスコにドライベンゼン
(活性化したMolecular Sieves 3A
1/8(和光純薬 133−08645)で脱水した
もの)20mL、シラン化合物(具体例(1)〜(4)
及び具体例(6))約0.02gを入れ軽く振り混ぜ、
1.2〜2.4mMのシラン化合物のドライベンゼン溶
液を調製した。前処理済みシリコンウェハ2枚を非鏡面
処理側を合わせて投入し、所定時間室温で静置した。ド
ライベンゼン溶液のみを捨て、フラスコ内にシリコンウ
ェハが残っている状態のところにメタノールを約30m
L入れ、シリコンウェハとナスフラスコの壁面を3回濯
いだ。メタノールを捨て、同様にクロロホルムで濯いだ
後、クロロホルム約50mLを入れ超音波洗浄を10分
間行った。その後、ビーカーに入れたクロロホルム(2
00〜250mL)にシリコンウェハを入れ、さらに1
0分間超音波洗浄を行った。シリコンウェハを一枚ずつ
ピンセットでとり、表面のクロロホルムを窒素気流でと
ばし乾燥させた後、接触角を測定した。また、室温処理
に代えて、窒素雰囲気下での還流処理により上記と同様
の操作を行った。具体例(1)〜(4)についての室温
処理における接触角の測定結果を表1に示し、還流処理
による接触角の測定結果を表2に示す。また、具体例
(6)についての室温処理及び還流処理による接触角の
測定結果を図6に示す。
2. Surface Modification (Silane Compounds (Introduction of Specific Examples (1) to (4) and Specific Example (6))) Dry benzene (activated Molecular Sieves 3A in a 50 mL round-bottomed flask substituted with nitrogen).
20 mL of 1/8 (dehydrated with Wako Pure Chemical Industries 133-08645), silane compound (specific examples (1) to (4))
And concrete example (6)) add about 0.02g and shake lightly,
A dry benzene solution of 1.2 to 2.4 mM silane compound was prepared. Two pre-processed silicon wafers were put in together with the non-mirror-finished side, and allowed to stand at room temperature for a predetermined time. Discard only the dry benzene solution and add methanol to the flask where the silicon wafer remains in the flask for about 30 m.
L was put and the silicon wafer and the wall surface of the eggplant flask were rinsed three times. After discarding methanol and similarly rinsing with chloroform, about 50 mL of chloroform was added and ultrasonic cleaning was performed for 10 minutes. Then, add chloroform (2
(00-250 mL) and put a silicon wafer,
Ultrasonic cleaning was performed for 0 minutes. The silicon wafers were taken one by one with tweezers, the chloroform on the surface was blown off with a nitrogen stream and dried, and then the contact angle was measured. Further, instead of the room temperature treatment, the same operation as above was performed by a reflux treatment in a nitrogen atmosphere. Table 1 shows the contact angle measurement results of the specific examples (1) to (4) in the room temperature treatment, and Table 2 shows the contact angle measurement results of the reflux treatment. Further, FIG. 6 shows the measurement results of the contact angle by the room temperature treatment and the reflux treatment for the specific example (6).

【0135】[0135]

【表1】 [Table 1]

【0136】[0136]

【表2】 [Table 2]

【0137】表1及び図6の結果から、トリアルコキシ
シリル基をもつ4つのシラン化合物(具体例(1)、具
体例(2)、具体例(4)及び具体例(6))で表面修
飾したウェハは、接触角が大きくなって疎水性が増して
いることを示し、これらの化合物が室温で定着すること
が明らかになった。また、表2の結果から、室温では定
着しなかった具体例(3)も還流処理によれば定着する
ことが明らかになった。
From the results shown in Table 1 and FIG. 6, surface modification was performed with four silane compounds having a trialkoxysilyl group (specific example (1), specific example (2), specific example (4) and specific example (6)). The exposed wafers showed increased contact angles and increased hydrophobicity, revealing that these compounds settle at room temperature. Further, from the results of Table 2, it was revealed that the specific example (3), which was not fixed at room temperature, was also fixed by the reflux treatment.

【0138】3.光照射(官能基(アミノ基、スルホ
基)への変換) 光熱を除くための水フィルター、300nm以下の波長
の光を遮断するパイレックス(R)製ガラスフィルタ
ー、及び光照射するシリコンウェハをのせる試料台を用
意した。その後、超高圧水銀灯を起動させ、光量が安定
するまで1時間暖機を行った。照度計で照度を測定しな
がら照度が以下の条件になる位置を探した。光照射は1
枚ずつ行った。表面修飾したシリコンウェハ(7時間室
温処理及び7時間還流処理した具体例(1)〜(3)、
並びに1時間還流処理した具体例(6))を通常のステ
ンレス製ピンセットで固定し、ほこり等が付着しないよ
うにその上から石英ビーカーをウェハに被せ、カバーし
た。所定時間光照射した後、ウェハの表面をメタノール
メタノールで10秒ほど洗い流し、続いて同様にクロロ
ホルムクロロホルムで洗い流した。その後、クロロホル
ム中で10分間超音波洗浄を行い、窒素気流でウェハを
乾燥させた後、接触角を測定した。
3. Light irradiation (conversion into functional groups (amino group, sulfo group)) Water filter for removing photoheat, Pyrex (R) glass filter for blocking light of wavelength of 300 nm or less, and a silicon wafer for light irradiation are mounted. A sample stand was prepared. After that, the ultra-high pressure mercury lamp was started and warmed up for 1 hour until the amount of light became stable. While measuring the illuminance with an illuminometer, we searched for a position where the illuminance was the following conditions. Light irradiation is 1
I went one by one. Surface-modified silicon wafer (specific examples (1) to (3), which were subjected to a room temperature treatment for 7 hours and a reflux treatment for 7 hours,
Further, the specific example (6) which had been refluxed for 1 hour was fixed with ordinary stainless steel tweezers, and a quartz beaker was covered over the wafer so as to prevent dust and the like from adhering to the wafer and covered. After irradiating with light for a predetermined time, the surface of the wafer was rinsed with methanol for about 10 seconds and then with chloroform similarly. Then, ultrasonic cleaning was performed for 10 minutes in chloroform, the wafer was dried with a nitrogen stream, and then the contact angle was measured.

【0139】光照射条件 超高圧水銀ランプ USH−500D (ウシオ電機株
式会社) 放射照度 (UVD−365PDによる)330〜390nm 1
00〜130mW/cm 2 (直読モードUVD−254Pによる)190〜320
nm 50mW/cm2
Light irradiation conditions Ultra-high pressure mercury lamp USH-500D (USHIO INC.
Ceremony company) Irradiance 330-390 nm 1 (according to UVD-365PD) 1
00-130mW / cm 2 (Direct reading mode UVD-254P) 190-320
nm 50 mW / cm2

【0140】また、具体例(1)を用いて室温で1時間
表面修飾を行ったもの及び具体例(4)を用いて室温で
1時間表面修飾を行ったものについて、上記と同様の操
作を、300nm以下の波長の光を遮断するパイレック
ス(R)製ガラスフィルターに代えて320nm以下の
光を遮断する硫酸銅水溶液フィルターを用いて行った。
The same operation as described above was carried out for the case where the surface modification was carried out at room temperature for 1 hour using the specific example (1) and the surface modification was carried out for 1 hour at the room temperature using the specific example (4). , A copper sulfate aqueous filter that blocks light of 320 nm or less was used instead of the glass filter made of Pyrex (R) that blocks light of wavelength of 300 nm or less.

【0141】7時間室温処理で表面修飾を行い300n
mを超える波長の光照射を行った後の具体例(1)〜
(3)についての接触角を表3に示す。7時間還流処理
で表面修飾を行い300nmを超える波長の光照射を行
った後の具体例(1)〜(3)についての接触角を表4
に示す。1時間還流処理で表面修飾を行い300nmを
超える波長の光照射を行った後の具体例(6)について
の接触角を図7に示す。硫酸銅フィルタを用いて320
nmを超える波長の光照射を行った後の接触角を表5に
示す。
Surface treatment was performed for 7 hours at room temperature to 300n.
Specific example (1) after irradiation with light having a wavelength exceeding m
Table 3 shows the contact angle for (3). Table 4 shows contact angles of specific examples (1) to (3) after surface modification by refluxing for 7 hours and irradiation with light having a wavelength of more than 300 nm.
Shown in. FIG. 7 shows the contact angle for the specific example (6) after surface modification by reflux treatment for 1 hour and irradiation with light having a wavelength of more than 300 nm. 320 with copper sulfate filter
Table 5 shows the contact angles after irradiation with light having a wavelength of more than nm.

【0142】[0142]

【表3】 [Table 3]

【0143】[0143]

【表4】 [Table 4]

【0144】[0144]

【表5】 [Table 5]

【0145】表3の結果から、具体例(1)及び具体例
(2)を用いて室温処理されたウェハについては、大き
く接触角が減少し、その表面でカルバミン酸2−ニトロ
ベンジルエステルがアミノ基へ変換されたことが示され
た。具体例(3)で室温処理されたウェハについては、
予想通り接触角の減少はみられず具体例(3)がウェハ
表面に導入されていなかったことが明らかになった。表
4の結果から、具体例(1)〜(3)で表面修飾したす
べてのウェハについて、大きく接触角が減少し、その表
面でカルバミン酸2−ニトロベンジルエステルがアミノ
基へ変換されたことが示された。図7の結果から、具体
例(6)を用いて還流処理されたウェハについては、大
きく接触角が減少し、その表面でスルホ基が露出された
ことが明らかになった。表5の結果から、具体例(4)
で表面修飾したウェハは、長波長光での光分解が可能で
あることがわかる。
From the results shown in Table 3, for the wafers treated at room temperature using the specific examples (1) and (2), the contact angle was greatly reduced, and the carbamic acid 2-nitrobenzyl ester had amino groups on the surface thereof. It was shown to be converted to a group. Regarding the wafer processed at room temperature in the specific example (3),
As expected, no decrease in contact angle was observed and it was revealed that the specific example (3) was not introduced on the wafer surface. From the results in Table 4, it was found that the contact angles of all the wafers surface-modified in the specific examples (1) to (3) were greatly reduced, and the carbamic acid 2-nitrobenzyl ester was converted to an amino group on the surface. Was shown. From the results of FIG. 7, it was revealed that the contact angle of the wafer subjected to the reflux treatment using the specific example (6) was greatly reduced and the sulfo group was exposed on the surface of the wafer. From the results in Table 5, a specific example (4)
It can be seen that the surface-modified wafer can be photolyzed with long-wavelength light.

【0146】4.化学修飾(表面に固定されたアミノ基
の反応) 導入したアミノ基を確認するために、光照射後のサンプ
ルにアミノ基特有の反応が起きるような処理を行い接触
角の変化を観察した。同様に、表面修飾後であって光照
射前のウェハについても同様の処理を行った。具体的に
は、窒素置換した50mLナスフラスコにヘプタフルオ
ロ−n−無水酪酸0.15g(0.37mmol)、ジ
クロロメタン20mL、トリエチルアミン極少量入れ、
その中に光照射済みシリコンウェハを2枚投入し窒素雰
囲気下で3時間還流した。その後、反応溶液を捨てナス
フラスコとシリコンウェハをメタノールで洗浄し(30
mL×3回)、同様にクロロホルムで洗浄した。ウェハ
をクロロホルム200〜250mL中へ入れ、超音波洗
浄を2回行った。取り出したウェハを窒素気流で乾燥さ
せ、接触角を測定した。表6に化学修飾を行った後の接
触角を示す。
4. Chemical modification (reaction of amino group fixed on the surface) In order to confirm the introduced amino group, the sample after the light irradiation was treated so that a reaction peculiar to the amino group occurs, and the change of the contact angle was observed. Similarly, the same treatment was performed on the wafer after surface modification and before light irradiation. Specifically, 0.15 g (0.37 mmol) of heptafluoro-n-butyric anhydride, 20 mL of dichloromethane, and a very small amount of triethylamine were placed in a 50 mL round-bottomed flask that had been replaced with nitrogen.
Two light-irradiated silicon wafers were put therein and refluxed in a nitrogen atmosphere for 3 hours. Then, the reaction solution is discarded and the eggplant flask and the silicon wafer are washed with methanol (30
(mL × 3 times), and similarly washed with chloroform. The wafer was put into 200 to 250 mL of chloroform, and ultrasonic cleaning was performed twice. The wafer taken out was dried with a nitrogen stream and the contact angle was measured. Table 6 shows the contact angles after chemical modification.

【0147】[0147]

【表6】 [Table 6]

【0148】表6の結果より、光照射によりアミノ基が
導入されたと思われる具体例(1)、具体例(2)及び
具体例(3)(還流表面修飾)については10°前後の
接触角の増加が見られ、アミノ基の導入が確実に行われ
ていることが明らかになった。
From the results shown in Table 6, the contact angles of about 10 ° were obtained for the specific examples (1), the specific examples (2) and the specific examples (3) (reflux surface modification) which are considered to have introduced the amino group by irradiation with light. Was observed, and it became clear that the introduction of the amino group was certainly carried out.

【0149】一方、具体例(6)については、スルホ基
特有の可逆的化学変化を行わせることにより、スルホ基
の存在を確認した。図8に、化学変化に伴うシリコンウ
ェハ表面の接触角の変化を示す。図8に示すように、化
学変化に伴って接触角が変化し、スルホ基特有の可逆的
化学反応が起こっていることから、スルホ基の導入が確
実に行われていることが明らかになった。また、具体例
(6)を用いてシリコンウェハ上にパターニングを行っ
た。パターニングマスク及びパターニング後の画像を図
9に示す。図9に示すように、OHPフィルムにキャラ
クタをマスクとして作成し(図9右部)、光照射により
パターニングを行った。パターニング後に水蒸気が付着
した状態で撮影した写真(図9左部)によれば、水蒸気
の付着により図面上鮮明な画像とはいえないが、肉眼で
ははっきりとパターニングができていた。本発明のシラ
ン化合物はこのようなパターニングにも応用が可能であ
る。
On the other hand, in the specific example (6), the presence of the sulfo group was confirmed by performing a reversible chemical change peculiar to the sulfo group. FIG. 8 shows changes in the contact angle of the silicon wafer surface due to chemical changes. As shown in FIG. 8, the contact angle was changed in accordance with the chemical change, and the reversible chemical reaction peculiar to the sulfo group occurred, which revealed that the introduction of the sulfo group was reliably performed. . Further, patterning was performed on a silicon wafer using the specific example (6). The patterning mask and the image after patterning are shown in FIG. As shown in FIG. 9, an OHP film was formed using a character as a mask (right part of FIG. 9) and patterned by light irradiation. According to the photograph (left part of FIG. 9) taken in a state where water vapor adheres after patterning, although the image cannot be said to be clear in the drawing due to the water vapor adhering, patterning was clearly visible to the naked eye. The silane compound of the present invention can be applied to such patterning.

【0150】[0150]

【発明の効果】本発明によれば、アミノ基、スルホ基、
チオール基又はリン酸基を有するシラン化合物を含有す
る新規な光分解性シランカップリング剤、アミノ基、ス
ルホ基、チオール基又はリン酸基を有する新規なシラン
化合物、並びにアミノ基、スルホ基、チオール基又はリ
ン酸基を有するシラン化合物を含有する新規な光分解性
シランカップリング剤によって処理された基材及びその
製造方法を提供することができる。
According to the present invention, an amino group, a sulfo group,
Novel photodegradable silane coupling agent containing silane compound having thiol group or phosphoric acid group, novel silane compound having amino group, sulfo group, thiol group or phosphoric acid group, and amino group, sulfo group, thiol It is possible to provide a substrate treated with a novel photodegradable silane coupling agent containing a silane compound having a group or a phosphoric acid group, and a method for producing the same.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光分解性カップリング剤を用いた化学
修飾処理過程の説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a chemical modification treatment process using the photodegradable coupling agent of the present invention.

【図2】前処理の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of preprocessing.

【図3】表面処理の説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of surface treatment.

【図4】光照射による保護基離脱の説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of removal of a protective group by light irradiation.

【図5】化学修飾の説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of chemical modification.

【図6】本発明のシラン化合物(具体例(6))を含有
したシランカップリング剤による表面処理に伴うシリコ
ンウェハ表面の接触角の変化を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing changes in the contact angle on the surface of a silicon wafer during surface treatment with a silane coupling agent containing the silane compound of the present invention (Specific Example (6)).

【図7】本発明のシラン化合物(具体例(6))を含有
したシランカップリング剤によって処理されたシリコン
ウェハの光照射によるシリコンウェハ表面の接触角の変
化を示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing changes in the contact angle on the surface of a silicon wafer treated by light irradiation of a silicon wafer treated with a silane coupling agent containing the silane compound of the present invention (Specific Example (6)).

【図8】本発明のシラン化合物(具体例(6))を含有
したシランカップリング剤により処理されたシリコンウ
ェハにおける、スルホ基を有するシラン化合物の化学変
化に伴うシリコンウェハ表面の接触角の変化を示す図で
ある。
FIG. 8 shows a change in contact angle of a silicon wafer surface with a chemical change of a silane compound having a sulfo group in a silicon wafer treated with a silane coupling agent containing the silane compound of the present invention (specific example (6)). FIG.

【図9】本発明のシラン化合物(具体例(6))を含有
したシランカップリング剤によるパターニング後の画像
及びパターニングに用いたマスクを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing an image after patterning with a silane coupling agent containing the silane compound of the present invention (Specific Example (6)) and a mask used for patterning.

Claims (27)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光分解性保護基で、アミノ基、スルホ
基、チオール基又はリン酸基を保護したシラン化合物を
含有することを特徴とする光分解性シランカップリング
剤。
1. A photodegradable silane coupling agent, comprising a silane compound in which an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group is protected by a photodegradable protective group.
【請求項2】 シラン化合物が、下記一般式〔1〕で表
されるシラン化合物であることを特徴とする請求項1に
記載の光分解性シランカップリング剤。 【化1】 (一般式〔1〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
2. The photodegradable silane coupling agent according to claim 1, wherein the silane compound is a silane compound represented by the following general formula [1]. [Chemical 1] (In the general formula [1], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項3】 一般式〔1〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔2〕で表されるシラン化合物であるこ
とを特徴とする請求項2に記載の光分解性シランカップ
リング剤。 【化2】 (一般式〔2〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
3. The photodegradable silane coupling agent according to claim 2, wherein the silane compound represented by the general formula [1] is a silane compound represented by the following general formula [2]. . [Chemical 2] (In the general formula [2], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項4】 シラン化合物が、下記一般式〔3〕で表
されるシラン化合物であることを特徴とする請求項1に
記載の光分解性シランカップリング剤。 【化3】 (一般式〔3〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
4. The photodegradable silane coupling agent according to claim 1, wherein the silane compound is a silane compound represented by the following general formula [3]. [Chemical 3] (In the general formula [3], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項5】 一般式〔3〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔4〕で表されるシラン化合物であるこ
とを特徴とする請求項4に記載の光分解性シランカップ
リング剤。 【化4】 (一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
5. The photodegradable silane coupling agent according to claim 4, wherein the silane compound represented by the general formula [3] is a silane compound represented by the following general formula [4]. . [Chemical 4] (In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項6】 シラン化合物が、下記一般式〔5〕で表
されるシラン化合物であることを特徴とする請求項1に
記載の光分解性シランカップリング剤。 【化5】 (一般式〔5〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは1〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
6. The photodegradable silane coupling agent according to claim 1, wherein the silane compound is a silane compound represented by the following general formula [5]. [Chemical 5] (In the general formula [5], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 1 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項7】 一般式〔5〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔6〕で表されるシラン化合物であるこ
とを特徴とする請求項6に記載の光分解性シランカップ
リング剤。 【化6】 (一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
7. The photodegradable silane coupling agent according to claim 6, wherein the silane compound represented by the general formula [5] is a silane compound represented by the following general formula [6]. . [Chemical 6] (In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項8】 請求項1〜7のいずれかに記載の光分解
性シランカップリング剤で該シランカップリング剤中の
シラン化合物をカップリングしたことを特徴とする表面
修飾カップリング基材。
8. A surface-modified coupling base material, wherein the silane compound in the silane coupling agent is coupled with the photodegradable silane coupling agent according to any one of claims 1 to 7.
【請求項9】 請求項1〜7のいずれかに記載の光分解
性シランカップリング剤で該シランカップリング剤中の
シラン化合物を基材にカップリングすることを特徴とす
る表面修飾カップリング基材の製造方法。
9. A surface-modified coupling group comprising the photodegradable silane coupling agent according to claim 1 for coupling a silane compound in the silane coupling agent to a substrate. Method of manufacturing wood.
【請求項10】 基材が、前処理が施された基材である
ことを特徴とする請求項9に記載の表面修飾カップリン
グ基材の製造方法。
10. The method for producing a surface-modified coupling base material according to claim 9, wherein the base material is a pre-treated base material.
【請求項11】 請求項1〜7のいずれかに記載の光分
解性シランカップリング剤を基材にコーティングし、シ
ランカップリング剤中のシラン化合物を前記基材にカッ
プリングして表面修飾カップリング基材を調製し、前記
表面修飾カップリング基材の表面の全部又は一部に光を
照射し、光照射部分の光分解性保護基を離脱してアミノ
基、スルホ基、チオール基又はリン酸基を露出させ、基
材表面にアミノ基、スルホ基、チオール基又はリン酸基
を形成させることを特徴とする官能基露出カップリング
基材の製造方法。
11. A surface-modified cup by coating a substrate with the photodegradable silane coupling agent according to claim 1, and coupling the silane compound in the silane coupling agent to the substrate. A ring base material is prepared, and all or part of the surface of the surface-modified coupling base material is irradiated with light, and the photodegradable protective group in the light-irradiated portion is removed to leave an amino group, a sulfo group, a thiol group or phosphorus. A method for producing a functional group-exposed coupling substrate, which comprises exposing an acid group to form an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group on the surface of the substrate.
【請求項12】 基材が、前処理が施された基材である
ことを特徴とする請求項11に記載の官能基露出カップ
リング基材の製造方法。
12. The method for producing a functional group-exposed coupling base material according to claim 11, wherein the base material is a pre-treated base material.
【請求項13】 光が、紫外線であることを特徴とする
請求項11又は12に記載の官能基露出カップリング基
材の製造方法。
13. The method for producing a functional group-exposed coupling substrate according to claim 11, wherein the light is ultraviolet light.
【請求項14】 請求項1〜7のいずれかに記載の光分
解性シランカップリング剤を基材にコーティングし、シ
ランカップリング剤中のシラン化合物を前記基材にカッ
プリングして表面修飾カップリング基材を調製し、前記
表面修飾カップリング基材の表面の全部又は一部に光を
照射し、光照射部分の光分解性保護基を離脱してアミノ
基、スルホ基、チオール基又はリン酸基を露出させ、基
材表面に形成されたアミノ基、スルホ基、チオール基又
はリン酸基に化学修飾を施すことを特徴とする化学修飾
カップリング基材の製造方法。
14. A surface-modified cup by coating the substrate with the photodegradable silane coupling agent according to claim 1, and coupling the silane compound in the silane coupling agent to the substrate. A ring base material is prepared, and all or part of the surface of the surface-modified coupling base material is irradiated with light, and the photodegradable protective group in the light-irradiated portion is removed to leave an amino group, a sulfo group, a thiol group or phosphorus. A method for producing a chemically modified coupling base material, which comprises exposing an acid group and chemically modifying an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group formed on the surface of the base material.
【請求項15】 基材が、前処理が施された基材である
ことを特徴とする請求項14に記載の化学修飾カップリ
ング基材の製造方法。
15. The method for producing a chemically modified coupling base material according to claim 14, wherein the base material is a pre-treated base material.
【請求項16】 光が、紫外線であることを特徴とする
請求項14又は15に記載の化学修飾カップリング基材
の製造方法。
16. The method for producing a chemically modified coupling substrate according to claim 14, wherein the light is ultraviolet light.
【請求項17】 化学修飾が、核酸、糖、タンパク質等
の生体物質を用いて行われることを特徴とする請求項1
4〜16のいずれかに記載の化学修飾カップリング基材
の製造方法。
17. The chemical modification is carried out using a biological substance such as a nucleic acid, a sugar or a protein.
A method for producing the chemically modified coupling substrate according to any one of 4 to 16.
【請求項18】 光分解性保護基で、アミノ基、スルホ
基、チオール基又はリン酸基が保護されたことを特徴と
するシラン化合物。
18. A silane compound, wherein an amino group, a sulfo group, a thiol group or a phosphoric acid group is protected by a photodegradable protective group.
【請求項19】 下記一般式〔1〕で表されることを特
徴とする請求項18に記載のシラン化合物。 【化7】 (一般式〔1〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
19. The silane compound according to claim 18, which is represented by the following general formula [1]. [Chemical 7] (In the general formula [1], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項20】 一般式〔1〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔2〕で表されることを特徴とする請求
項19に記載のシラン化合物。 【化8】 (一般式〔2〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
20. The silane compound according to claim 19, wherein the silane compound represented by the general formula [1] is represented by the following general formula [2]. [Chemical 8] (In the general formula [2], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項21】 下記一般式〔3〕で表されることを特
徴とする請求項18に記載のシラン化合物。 【化9】 (一般式〔3〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
21. The silane compound according to claim 18, which is represented by the following general formula [3]. [Chemical 9] (In the general formula [3], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項22】 一般式〔3〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔4〕で表されることを特徴とする請求
項21に記載のシラン化合物。 【化10】 (一般式〔4〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
22. The silane compound according to claim 21, wherein the silane compound represented by the general formula [3] is represented by the following general formula [4]. [Chemical 10] (In the general formula [4], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項23】 下記一般式〔5〕で表されることを特
徴とする請求項18に記載のシラン化合物。 【化11】 (一般式〔5〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、Yは光分解性保護基を表し、R1はアルキル基
を表す。mは0〜3の整数を表し、nは整数を表す。)
23. The silane compound according to claim 18, which is represented by the following general formula [5]. [Chemical 11] (In general formula [5], X represents an alkoxy group or a halogen atom, Y represents a photodegradable protective group, R 1 represents an alkyl group, m represents an integer of 0 to 3, and n represents an integer. Represents.)
【請求項24】 一般式〔5〕で表されるシラン化合物
が、下記一般式〔6〕で表されることを特徴とする請求
項23に記載のシラン化合物。 【化12】 (一般式〔6〕中、Xはアルコキシ基又はハロゲン原子
を表し、R1はアルキル基を表し、R2は水素原子又はア
ルキル基を表し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子
又はアルコキシ基を表す。mは1〜3の整数を表し、n
は整数を表す。)
24. The silane compound according to claim 23, wherein the silane compound represented by the general formula [5] is represented by the following general formula [6]. [Chemical 12] (In the general formula [6], X represents an alkoxy group or a halogen atom, R 1 represents an alkyl group, R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or Represents an alkoxy group, m represents an integer of 1 to 3, and n
Represents an integer. )
【請求項25】 一般式〔1〕〜〔6〕において、mが
1〜3の整数であることを特徴とする請求項19〜24
のいずれかに記載のシラン化合物。
25. In the general formulas [1] to [6], m is an integer of 1 to 3, wherein
The silane compound according to any one of 1.
【請求項26】 下記一般式〔7〕で表されることを特
徴とする光分解性化合物。 【化13】 (一般式〔7〕中、Yは光分解性保護基を表す。)
26. A photodegradable compound represented by the following general formula [7]. [Chemical 13] (In the general formula [7], Y represents a photodegradable protective group.)
【請求項27】 一般式〔7〕で表される光分解性化合
物が、下記一般式〔8〕で表されることを特徴とする請
求項26に記載の光分解性化合物。 【化14】 (一般式〔8〕中、R2は水素原子又はアルキル基を表
し、R3、R4はそれぞれ独立して水素原子又はアルコキ
シ基を表す。)
27. The photodegradable compound according to claim 26, wherein the photodegradable compound represented by the general formula [7] is represented by the following general formula [8]. [Chemical 14] (In the general formula [8], R 2 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or an alkoxy group.)
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