JP2003320552A - Mold assembly for molding optical disk - Google Patents

Mold assembly for molding optical disk

Info

Publication number
JP2003320552A
JP2003320552A JP2002129348A JP2002129348A JP2003320552A JP 2003320552 A JP2003320552 A JP 2003320552A JP 2002129348 A JP2002129348 A JP 2002129348A JP 2002129348 A JP2002129348 A JP 2002129348A JP 2003320552 A JP2003320552 A JP 2003320552A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
film
mold body
optical disk
outer peripheral
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Abandoned
Application number
JP2002129348A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshihiro Kayahara
敏裕 茅原
Noribumi Kikuchi
則文 菊池
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP2002129348A priority Critical patent/JP2003320552A/en
Publication of JP2003320552A publication Critical patent/JP2003320552A/en
Abandoned legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mold assembly for molding an optical disk which prevents the wear of a mold body due to corrosive gas accompanying a molten resin on the occasion of injection molding and has an excellent heat resistance and durability. <P>SOLUTION: The mold assembly has a stationary mold (first mold body) 1 and a movable mold (second mold body) 2 which demarcate a cavity space for molding the optical disk by injection molding and a butting outer peripheral ring 67 on which the movable mold 2 is so fitted as to be slidable in the direction of opening and closing thereof. A coating layer is formed on the outer peripheral surface 46a of the movable mold 2 or the inner peripheral surface 67a of the ring 67. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばDVD(デ
ジタルビデオディスク)等の光ディスクを製造するため
の光ディスク成形用金型に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk molding die for manufacturing an optical disk such as a DVD (digital video disk).

【0002】[0002]

【従来の技術】DVD等の光ディスクの基板は、一般に
樹脂を射出成形して作製されており、この射出成形に用
いる成形用金型装置の一例を図9に示す。この図に示す
成形用金型装置200は、可動型201と、この可動型
201と対向して配置された固定型202とを備えて構
成されており、これら可動型201と固定型202とを
型閉して形成される空間がキャビティ空間Cとされてい
る。また、前記可動型201のキャビティ空間C側の面
は、円板状のスタンパー203を支持するためのスタン
パー支持面201Aとされている。前記固定型202の
キャビティ空間C側の面は、光ディスクとなる溶融樹脂
との接触面であり、鏡面202Aとされている。この鏡
面202Aを有する固定型202の外周には、外周リン
グ204が可動型201と連動するように配置されてい
る。この外周リング204には、前記固定型202が嵌
合されており、外周リングの内周面204Aと固定型2
02の外周面202Bにおいて、型体の開閉方向へ摺動
自在とされている。DVD等の光ディスクの基板を製造
するには、キャビティ空間C内に成形材料である溶融し
た樹脂を充填し、可動型201および固定型202を冷
却し、溶融樹脂を固化せしめた後に、固定型202及び
可動型201を型開して成形された光ディスクを取り出
すようになっている。前記キャビティ空間Cには、その
中心部に相当する位置の固定型202に形成されたスプ
ルー205からこのスプルー205の先端部に形成され
た凹部(ダイ)206を介して樹脂が注入されるように
なっており、さらに、可動型201の、前記ダイ206
と対向する位置に進退自在に設けられたカットパンチ2
07を固定型201側へ移動させて、ダイ206内へ進
入させることにより、キャビティ空間C内に形成された
光ディスクの中心部の開口孔を形成するとともに、スプ
ルー205内の樹脂と、キャビティ空間C内の樹脂(光
ディスク)とを切断するようになっている。
2. Description of the Related Art A substrate for an optical disk such as a DVD is generally manufactured by injection molding a resin. An example of a molding die device used for this injection molding is shown in FIG. The molding die apparatus 200 shown in this figure is configured to include a movable die 201 and a fixed die 202 arranged so as to face the movable die 201. The movable die 201 and the fixed die 202 are connected to each other. A space formed by closing the mold is a cavity space C. The surface of the movable die 201 on the side of the cavity space C is a stamper supporting surface 201A for supporting the disk-shaped stamper 203. The surface of the fixed mold 202 on the side of the cavity space C is a contact surface with a molten resin which will be an optical disk, and is a mirror surface 202A. An outer peripheral ring 204 is arranged on the outer periphery of the fixed die 202 having the mirror surface 202A so as to interlock with the movable die 201. The fixed die 202 is fitted to the outer peripheral ring 204, and the inner peripheral surface 204A of the outer peripheral ring and the fixed die 2
The outer peripheral surface 202B of 02 is slidable in the opening / closing direction of the mold. In order to manufacture a substrate for an optical disc such as a DVD, the cavity space C is filled with a molten resin which is a molding material, the movable mold 201 and the fixed mold 202 are cooled, and the molten resin is solidified, and then the fixed mold 202. Also, the movable mold 201 is opened to take out the molded optical disk. Resin is injected into the cavity space C from the sprue 205 formed in the fixed mold 202 at a position corresponding to the center of the cavity space C through a recess (die) 206 formed at the tip of the sprue 205. In addition, the die 206 of the movable die 201
A cut punch 2 that can be moved back and forth at a position opposite to
07 is moved to the fixed mold 201 side to enter into the die 206, thereby forming an opening hole at the center of the optical disk formed in the cavity space C, and at the same time, the resin in the sprue 205 and the cavity space C. It is designed to cut off the resin (optical disk) inside.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】上記構成の金型装置2
00においては、スプルー205から注入される樹脂の
温度は350〜390℃程度であるために腐食性のガス
成分を同伴していることが多い。このような腐食性のガ
ス成分は、キャビティー空間Cに連通するように可動型
201又は固定型202に設けられた排気孔(図示せ
ず)によって基板を製造するショット毎に排気されるよ
うになっている。この摺動面は光ディスク基板の外周面
を成形する部分となっているために、光ディスク基板の
外周部におけるバリの発生を防止する目的で、固定型2
02の外周面202Bと外周リング204の内周面20
4Bとは高い密着度で摺動可能となっている。溶融樹脂
はこの摺動面内に流入することは無いが、溶融樹脂に同
伴される腐食性ガスは気体であるために、数万ショット
の使用後には上記摺動面内に侵入し、この摺動面の表面
を荒らすこととなる。この腐食性ガスを起因とする摺動
面の表面荒れや微細な傷は、ディスク外周面に転写され
ることとなり、製品の精度が低下するという問題があっ
た。さらに数万ショットもの連続使用を行った場合に
は、固定型202の角部が腐食性ガスによってその角度
精度が低下する現象、いわゆる金型のダレが発生し、こ
れによってディスク外周にバリが発生するという問題も
あった。
The mold apparatus 2 having the above structure
In No. 00, the temperature of the resin injected from the sprue 205 is about 350 to 390 ° C., so that a corrosive gas component is often accompanied. Such a corrosive gas component is exhausted at each shot for manufacturing a substrate by an exhaust hole (not shown) provided in the movable mold 201 or the fixed mold 202 so as to communicate with the cavity space C. Has become. Since this sliding surface is a portion for molding the outer peripheral surface of the optical disc substrate, the fixed mold 2 is used for the purpose of preventing the occurrence of burrs on the outer peripheral portion of the optical disc substrate.
02 outer peripheral surface 202B and outer peripheral ring 204 inner peripheral surface 20
It can slide with a high degree of contact with 4B. The molten resin does not flow into this sliding surface, but since the corrosive gas entrained in the molten resin is a gas, it penetrates into the sliding surface after tens of thousands of shots, and It will roughen the surface of the moving surface. The surface roughness and fine scratches on the sliding surface due to the corrosive gas are transferred to the outer peripheral surface of the disk, and there is a problem that the accuracy of the product deteriorates. When tens of thousands of shots are continuously used, a phenomenon in which the angular accuracy of the corner portion of the fixed mold 202 is deteriorated by corrosive gas, so-called die sagging occurs, which causes burr on the outer circumference of the disk. There was also the problem of doing.

【0004】本発明は、上記の課題を解決するためにな
されたものであって、溶融樹脂に同伴される腐食性ガス
に対して優れた耐久性を有し、かつ高品質の光ディスク
基板が製造可能な光ディスク成形用金型装置を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and produces a high quality optical disk substrate having excellent durability against corrosive gas entrained in molten resin. It is an object of the present invention to provide a mold apparatus for molding an optical disk that can be used.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、射出成形により光ディスクを成形するた
めのキャビティ空間を画定する第1の型体及び第2の型
体とが備えられ、前記第1の型体又は第2の型体の一方
に光ディスクの片側表面に凹凸を形成するスタンパーが
備えられ、前記第1の型体又は第2の型体の他方の樹脂
接触面が光ディスクの逆側表面を平滑にする鏡面とさ
れ、この鏡面を備えた前記第1の型体又は第2の型体の
外周面が前記型体の開閉方向に摺動自在に嵌合された外
周リングが備えられてなる光ディスク成形用金型装置で
あって、前記外周リングの内周面と、前記鏡面を有する
第1の型体又は第2の型体の外周面との少なくとも一方
に被覆層が形成されていることを特徴とする光ディスク
成形用金型装置を提供する。
In order to solve the above problems, the present invention is provided with a first mold body and a second mold body that define a cavity space for molding an optical disk by injection molding. A stamper for forming unevenness on one surface of the optical disc is provided on one of the first mold body and the second mold body, and the other resin contact surface of the first mold body or the second mold body is an optical disc. An outer peripheral ring having a mirror surface for smoothing the surface on the opposite side to the outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having this mirror surface slidably fitted in the opening and closing direction of the mold body. An optical disk molding die apparatus comprising: a coating layer on at least one of an inner peripheral surface of the outer peripheral ring and an outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having the mirror surface. Providing a mold device for optical disk molding characterized by being formed To.

【0006】上記構成を備えた本発明に係る金型装置
は、外周リングの内周面と、鏡面を有する第1の型体又
は第2の型体の外周面との少なくとも一方に、被覆層を
設けたことにより、溶融樹脂に同伴される腐食性のガス
成分に侵食されないために、型体と外周リングとの摺動
面が荒らされることがない。また、この被覆層は自己潤
滑性と機械的強度とに優れたものであるので、型体と外
周リングとの摺動による摩耗を防止し、長寿命の金型装
置を提供できる。
In the mold apparatus according to the present invention having the above structure, a coating layer is provided on at least one of the inner peripheral surface of the outer peripheral ring and the outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having a mirror surface. By providing the above, since it is not eroded by the corrosive gas component entrained in the molten resin, the sliding surface between the mold body and the outer peripheral ring is not roughened. Further, since this coating layer is excellent in self-lubricating property and mechanical strength, it is possible to prevent wear due to sliding between the mold body and the outer peripheral ring, and to provide a mold device having a long life.

【0007】本発明の光ディスク成形用金型装置は、前
記外周リングの内周面と、前記鏡面を有する第1の型体
又は第2の型体の外周面との両方に被覆層が形成され、
かつ前記被覆層が互いに異材質からなることを特徴とす
るものである。型体と外周リングとの摺動面全面に、共
に被覆層を設けることにより、より一層耐食性、機械的
強度、摺動性を向上させることができる。特に、外周リ
ングの内周面の被覆層を構成する材質と型体の外周面の
被覆層を構成する材質とを、それぞれ異ならしめると、
摺動面における密着性を低下させることなく、型体と外
周リングとの貼りつきを防止することができるので好適
である。
In the optical disk molding die apparatus of the present invention, a coating layer is formed on both the inner peripheral surface of the outer peripheral ring and the outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having the mirror surface. ,
In addition, the coating layers are made of different materials. By providing a coating layer on the entire sliding surface between the mold and the outer peripheral ring, the corrosion resistance, mechanical strength, and slidability can be further improved. In particular, when the material forming the coating layer on the inner peripheral surface of the outer peripheral ring and the material forming the coating layer on the outer peripheral surface of the mold are made different,
It is preferable because it is possible to prevent the mold body and the outer peripheral ring from sticking to each other without lowering the adhesion on the sliding surface.

【0008】また本発明の光ディスク成形用金型装置
は、前記被覆層が、Al23膜、TiN膜、CrN膜、
AlN膜、Si34膜、SiC膜、TiC膜、TiAl
N膜、TiCrN膜、cBN膜、DLC膜、4フッ化樹
脂含浸クロム膜から選ばれる少なくとも1種以上からな
ることを特徴とするものである。これらの被覆層は、い
ずれも耐食性、機械的強度、、耐摩耗性、硬度、自己潤
滑性、摺動性に優れたものであって、かつその表面平滑
度が高いものであるので、型体と外周リングとの摺動面
における表面の荒れや微細な傷の発生を抑制し、ディス
クの転写不良を低減でき、型体をより一層、長寿命化す
ることができる。
Further, in the optical disk molding die device of the present invention, the coating layer is an Al 2 O 3 film, a TiN film, a CrN film,
AlN film, Si 3 N 4 film, SiC film, TiC film, TiAl
It is characterized by comprising at least one selected from N film, TiCrN film, cBN film, DLC film, and 4 fluororesin-impregnated chromium film. Since all of these coating layers are excellent in corrosion resistance, mechanical strength, wear resistance, hardness, self-lubricating property and slidability, and have high surface smoothness, It is possible to suppress the occurrence of surface roughness and fine scratches on the sliding surface between the outer peripheral ring and the outer peripheral ring, reduce transfer defects of the disk, and further prolong the life of the mold.

【0009】本発明に係る光ディスク成形用金型装置に
おいては、前記4フッ化樹脂含浸クロム膜を除いたいず
れかの膜からなる被覆層の膜厚が、0.2μm〜5μm
の範囲とされることが好ましい。ただし、被覆層として
4フッ化樹脂含有クロム膜を用いる場合、その膜厚は4
0〜80μmの範囲の膜厚であることが好ましい。被覆
層の膜厚が0.2μm未満では、被覆層がいかなる材料
であっても、薄すぎるために膜の耐久性が不足し、ディ
スク離型時の磨耗が生じ易い上に、腐食性のガス成分に
よる侵食を受け易くなる。また、膜厚が5μmを越える
場合には、被覆層の膜内の応力により膜の剥離が生じ易
くなり、かつ表面状態も粗くなるために好ましくない。
なお、4フッ化樹脂含有クロム膜を用いる場合、4フッ
化樹脂含有クロム膜はメッキ膜のため、膜厚は50〜7
0μmの範囲の膜厚が好ましい。
In the optical disk molding die device according to the present invention, the film thickness of the coating layer made of any film excluding the tetrafluororesin-impregnated chromium film is 0.2 μm to 5 μm.
The range is preferably However, when using a tetrafluororesin-containing chromium film as the coating layer, the film thickness is 4
The film thickness is preferably in the range of 0 to 80 μm. If the film thickness of the coating layer is less than 0.2 μm, the durability of the film is insufficient because the coating layer is too thin regardless of the material, and wear is likely to occur at the time of releasing the disc, and a corrosive gas is also used. Easier to be eroded by the components. Further, if the film thickness exceeds 5 μm, peeling of the film is likely to occur due to the stress in the film of the coating layer, and the surface condition becomes rough, which is not preferable.
When using the tetrafluororesin-containing chromium film, the thickness of the fluororesin-containing chromium film is 50 to 7 because it is a plated film.
A film thickness in the range of 0 μm is preferable.

【0010】次に、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置においては、前記スタンパーを支持するスタンパー
支持面を有する第1の型体又は第2の型体に、スタンパ
ーの裏面側を排気してスタンパーを固定する真空チャッ
ク機構が備えられた構成とすることが好ましい。このよ
うな真空チャック機構を備えることで、より安定にスタ
ンパーをスタンパー支持面に保持することができるとと
もに、成形材料である樹脂とともに同伴されるガス成分
や、このガス成分が凝固した樹脂粉末をある程度外部に
排出することができるので、メンテナンス周期を延ばす
ことができる。従って、装置の稼働時間を長くして生産
効率を高めることができる。
Next, in the optical disk molding die apparatus according to the present invention, the back side of the stamper is evacuated to the first mold body or the second mold body having the stamper supporting surface for supporting the stamper. It is preferable that a vacuum chuck mechanism for fixing the stamper is provided. By providing such a vacuum chuck mechanism, the stamper can be more stably held on the stamper supporting surface, and the gas component entrained with the resin as the molding material and the resin powder obtained by solidifying the gas component to some extent Since it can be discharged to the outside, the maintenance cycle can be extended. Therefore, the operating time of the device can be lengthened and the production efficiency can be improved.

【0011】次に、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置においては、前記スタンパー支持面を有する型体
に、スタンパーの内端部を固定するための爪部が形成さ
れた構成とすることもできる。このような爪部によりス
タンパー内端を固定することで、より安定にスタンパー
を固定でき、また、スタンパー内端とスタンパーを保持
する型体との境界にバリが生じるのを抑えることができ
るので、高品質の光ディスクを製造することができる。
さらに、前記爪部により固定することで、成形時のスタ
ンパーの浮き上がりをなくすことができる。つまり、ス
タンパーが浮き上がった状態で樹脂を充填することによ
りスタンパーとスタンパー支持面とが強く接触されるの
を防止することができる。この作用によっても、平滑度
の高い光ディスクを製造することができるとともに、ス
タンパーの寿命を延ばすことができ、ひいては金型装置
の寿命を延ばすことができる。
Next, in the optical disk molding die apparatus according to the present invention, the mold body having the stamper supporting surface may be formed with a claw portion for fixing the inner end portion of the stamper. it can. By fixing the inner end of the stamper with such a claw portion, the stamper can be more stably fixed, and burrs can be suppressed from occurring at the boundary between the inner end of the stamper and the mold body that holds the stamper. It is possible to manufacture a high quality optical disc.
Further, by fixing with the claw portion, it is possible to prevent the stamper from rising during molding. That is, it is possible to prevent strong contact between the stamper and the stamper supporting surface by filling the resin with the stamper in a floating state. This action also makes it possible to manufacture an optical disc with high smoothness, extend the life of the stamper, and thus extend the life of the mold apparatus.

【0012】次に、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置においては、前記第1の型体及び第2の型体の対向
する面に設けられ、型閉時にテーパー嵌合するテーパー
面が形成された位置決め部材と、前記第1の型体及び第
2の型体のうち一方に設けられたガイドピンと、他方の
型体の前記ガイドピンと対向する位置に設けられ、前記
ガイドピンが前記型体の開閉方向へ摺動自在に嵌合され
るガイドピン受けとを備える案内部材とを備えた構成と
することもできる。
Next, in the optical disk molding die apparatus according to the present invention, a taper surface is formed on the surfaces of the first mold body and the second mold body which are opposed to each other and which is fitted in a taper when the mold is closed. And a guide pin provided on one of the first mold body and the second mold body and a guide pin of the other mold body, and the guide pin is provided on the mold body. And a guide member having a guide pin receiver slidably fitted in the opening / closing direction.

【0013】光ディスクの成形時には、一対の型体を型
閉し、これら型体間に形成された製品キャビティに成形
材料を充填する。この製品キャビティに充填された成形
材料すなわち光ディスクが固化した後、両型体を型開
し、成形された光ディスクを取り出す。両型体を型閉し
た状態では、これら型体にそれぞれ固定された位置決め
部材のテーパー面が相互にテーパー嵌合することによ
り、両型体が芯合わせされる。一方、両型体が開いた状
態では、両型体の位置決め部材は互いに離れるが、ガイ
ドピンとこのガイドピンが両型体の開閉方向へ摺動自在
に嵌合されたガイドピン受けとによって両型体が芯合わ
せされる。このような構成により、確実に両型体が芯合
わせされて樹脂の充填、成形が行われるので、スタンパ
ーに作用する樹脂からの圧力を均一化することができ、
上記被覆層による作用と相まって、更なる金型装置の長
寿命化を実現することができる。
At the time of molding an optical disk, a pair of mold bodies are closed, and a product cavity formed between these mold bodies is filled with a molding material. After the molding material filled in the product cavity, that is, the optical disk is solidified, both molds are opened and the molded optical disk is taken out. In a state where the two mold bodies are closed, the two molding bodies are centered by the tapered surfaces of the positioning members fixed to the molding bodies being fitted to each other. On the other hand, when the two mold bodies are open, the positioning members of the two mold bodies are separated from each other, but the guide pins and the guide pin receiver into which the guide pins are slidably fitted in the opening and closing directions of the two mold bodies are used to The body is aligned. With such a configuration, since both mold bodies are surely aligned with each other and the resin is filled and molded, the pressure from the resin acting on the stamper can be made uniform,
In combination with the action of the coating layer, it is possible to further extend the life of the mold device.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明の光ディスクの成形
方法およびこの方法に用いる光ディスク成形用金型装置
の一実施の形態について、図面を参照しながら説明す
る。まず光ディスクの成形用金型装置の構成を説明す
る。1は第1の型体としての固定型、2は第2の型体と
しての可動型で、これら固定型1および可動型2は、図
1、図2および図4における型開閉方向(図示AB方
向)に移動して互いに開閉し、型閉時に光ディスクを形
成する製品キャビティ(キャビティ空間)3を相互間に
形成するものである。なお、図1、図2および図4で
は、固定型1および可動型2を図示上下方向(図示AB
方向)に並べて描いてあるが、通常は、固定型1および
可動型2を水平に並べた状態(すなわち、水平方向に型
開閉がなされる状態)で成形が行われる。ただし、図示
の通り上下に並んだ状態で成形を行うことも可能であ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of an optical disk molding method of the present invention and an optical disk molding die apparatus used in this method will be described below with reference to the drawings. First, the structure of a mold device for molding an optical disk will be described. Reference numeral 1 is a fixed die as a first die body, 2 is a movable die as a second die body, and these fixed die 1 and movable die 2 are the die opening / closing directions (shown by AB in FIG. 1) in FIGS. Direction) to open and close each other to form product cavities (cavity spaces) 3 for forming an optical disk when the mold is closed. In addition, in FIGS. 1, 2 and 4, the fixed mold 1 and the movable mold 2 are shown in the vertical direction in the drawing (shown as AB in FIG.
However, normally, the molding is performed in a state in which the fixed mold 1 and the movable mold 2 are horizontally arranged (that is, the mold is opened and closed in the horizontal direction). However, it is also possible to perform the molding in a state where they are lined up and down as shown.

【0015】前記固定型1は、固定側型板6と、この固
定側型板6における可動型2と反対側の面に固定された
固定側取り付け板7とを備えている。この固定側取り付
け板7は、図示していない射出成形機の固定側プラテン
に取り付けられるものである。なお、図3に図示の7a
は、固定側プラテンヘの取り付け用のボルトを通すため
に固定側取り付け板7に形成された通孔である。そし
て、固定側取り付け板7の中央部には、射出成形機のノ
ズルが接続されるスプルーブッシュ8がボルト9により
固定されている。このスプルーブッシュ8は、内部が材
料通路であるスプルー10になっているが、固定側取り
付け板7及びを固定側型板6を貫通し、その先端が固定
側型板6の可動型2側へ突出している。さらに、前記ス
プルーブッシュ8における可動型2と反対側の面には、
円環状のローケートリング11が配置され、ボルト12
によりスプルーブッシュ8に固定されている。
The fixed mold 1 comprises a fixed mold plate 6 and a fixed mounting plate 7 fixed to the surface of the fixed mold plate 6 opposite to the movable mold 2. The fixed side mounting plate 7 is attached to a fixed side platen of an injection molding machine (not shown). 7a shown in FIG.
Is a through hole formed in the fixed side mounting plate 7 for passing a bolt for mounting on the fixed side platen. A sprue bush 8 to which the nozzle of the injection molding machine is connected is fixed by a bolt 9 to the central portion of the fixed-side mounting plate 7. The sprue bush 8 has a sprue 10 which is a material passage inside, but the fixed side mounting plate 7 and the fixed side mold plate 6 are penetrated, and the tip thereof is to the movable mold 2 side of the fixed side mold plate 6. It is protruding. Further, on the surface of the sprue bush 8 opposite to the movable die 2,
An annular locate ring 11 is arranged and a bolt 12
Is fixed to the sprue bush 8.

【0016】前記固定側型板6は、前記固定側取り付け
板7にボルト16により固定されたキャビティ形成部材
としてのほぼ円板状のキャビティブロック17と、固定
側取り付け板7にボルト18により固定された位置決め
部材としてのほぼ円環状の固定側位置決めリング19と
からなっている。この固定側位置決めリング19は、前
記固定側取り付け板7における可動型2側の面の周縁部
に形成された段部20および前記キャビティブロック1
7の外周側に嵌合しており、金型製作の段階でキャビテ
ィブロック17に対して芯合わせされている。そして、
固定側位置決めリング19は、可動型2側の部分の内周
面に、この可動型2側へ向かって径が大きくなるテーパ
ー面21を有している。このテーパー面21の前記型開
閉方向に対する角度は5〜30゜程度とされている。
The fixed-side mold plate 6 is fixed to the fixed-side mounting plate 7 with bolts 16 and has a substantially disk-shaped cavity block 17 as a cavity forming member, and the fixed-side mounting plate 7 is fixed with bolts 18. And a substantially annular fixed side positioning ring 19 as a positioning member. The fixed-side positioning ring 19 includes the step portion 20 and the cavity block 1 formed on the peripheral portion of the surface of the fixed-side mounting plate 7 on the movable die 2 side.
7 is fitted on the outer peripheral side and is aligned with the cavity block 17 at the stage of mold production. And
The fixed side positioning ring 19 has a tapered surface 21 on the inner peripheral surface of the movable mold 2 side portion, the diameter of which increases toward the movable mold 2 side. The angle of the tapered surface 21 with respect to the mold opening / closing direction is about 5 to 30 °.

【0017】また、図3に示すように、前記固定側取り
付け板7におけるほぼ一対角線上に位置する2つの角部
には円柱形状のガイドピン22がそれぞれ固定されてい
る。これらガイドピン22は、図2に示すように、その
一端側に形成された鍔部23が固定側取り付け板7に突
き当てられるとともに、鍔部23よりも一端側が固定側
取り付け板7に形成された孔部24内に嵌合され、固定
側取り付け板7の他面側に設けられた補助部材25およ
びこの補助部材25を貫通してガイドピン22の端面に
螺合されたボルト26により固定されている。そして、
ガイドピン22は、前記型開閉方向を軸方向として可動
型2側へ突出している。さらに、ガイドピン22の先端
面にはフランジ状のストッパー27が固定されている。
Further, as shown in FIG. 3, columnar guide pins 22 are fixed to the two corners of the fixed side mounting plate 7 which are located substantially on a diagonal line. As shown in FIG. 2, the guide pin 22 has a flange portion 23 formed on one end side thereof abutted against the fixed side mounting plate 7, and one end side of the flange portion 23 is formed on the fixed side mounting plate 7. Is fitted in the hole 24 and is fixed by the auxiliary member 25 provided on the other surface side of the fixed side mounting plate 7 and the bolt 26 penetrating the auxiliary member 25 and screwed to the end surface of the guide pin 22. ing. And
The guide pin 22 projects toward the movable mold 2 side with the mold opening / closing direction as the axial direction. Further, a flange-shaped stopper 27 is fixed to the tip end surface of the guide pin 22.

【0018】さらに、図1に示す前記キャビティブロッ
ク17における可動型2側の外周部には段差部31が形
成されているが、この段差部31には円環状のアジャス
ターリング32が嵌合されてボルト33により固定され
ている。一方、前記キャビティブロック17の中央部に
形成された孔部としての貫通孔34内にはほぼ円筒状の
筒状部材としての内周スタンパー押え35が嵌合されて
固定されている。前記キャビティブロック17には、図
4に示すように、光ディスクに凹凸を形成するためのス
タンパー36が着脱可能に装着されるようになってお
り、内周スタンパー押え35がスタンパー36の内周部
を固定するようになっている。つまり、図4に示すよう
に、内周スタンパー押え35の可動型2側面の先端外周
部には、スタンパー36の内周部の浮きを押えるための
爪部37が形成されている。なお、スタンパーの外周は
エアバキュームにより固定される。また、前記スプルー
ブッシュ8は、筒状の内周スタンパー押え35内に嵌合
している。そして、スプルーブッシュ8における可動型
2側の先端面にはスプルー10と連通された凹部38が
形成されている。尚、スタンパー36は、Ni等の金属
板からなり、DVD用スタンパーの場合には、DVDの
情報記録領域を規定するグルーブ部やランド部のような
ディスク円周方向に沿って形成される円弧状の凸部やこ
れら凸部の間に形成される円弧状の溝を形成するための
型を片面に有するものとされる。また、CD用スタンパ
ーの場合には、情報記録用のピットをディスク円周方向
に沿って形成するための型を有するものとされる。
Further, a step portion 31 is formed on the outer peripheral portion of the cavity block 17 shown in FIG. 1 on the movable die 2 side, and an annular adjuster ring 32 is fitted in the step portion 31. It is fixed by bolts 33. On the other hand, an inner peripheral stamper retainer 35 as a substantially cylindrical tubular member is fitted and fixed in the through hole 34 as a hole formed in the central portion of the cavity block 17. As shown in FIG. 4, a stamper 36 for forming irregularities on the optical disk is detachably attached to the cavity block 17, and an inner peripheral stamper retainer 35 covers the inner peripheral portion of the stamper 36. It is designed to be fixed. That is, as shown in FIG. 4, a claw portion 37 for pressing the floating of the inner peripheral portion of the stamper 36 is formed on the outer peripheral end of the side surface of the movable die 2 of the inner peripheral stamper retainer 35. The outer circumference of the stamper is fixed by air vacuum. Further, the sprue bush 8 is fitted in a cylindrical inner peripheral stamper retainer 35. A recess 38 communicating with the sprue 10 is formed on the tip surface of the sprue bush 8 on the movable die 2 side. The stamper 36 is made of a metal plate such as Ni. In the case of a DVD stamper, the stamper 36 has an arc shape formed along the disc circumferential direction such as a groove portion and a land portion that define the information recording area of the DVD. The mold for forming the convex portions and the circular arc-shaped groove formed between these convex portions is provided on one surface. In the case of a CD stamper, it has a mold for forming pits for recording information along the disc circumferential direction.

【0019】本実施形態の金型装置においては、上記爪
部37が設けられていることにより、スタンパー36を
より確実にスタンパー支持面17aからの浮きを防止
し、固定できるようになっている。これにより、成形時
にスタンパー36がスタンパー支持面17aから浮き上
がるのを防止することができ、スタンパー36やスタン
パー支持面17aの損耗を防止することができる。つま
り、スタンパー36がスタンパー支持面17aから浮き
上がったまま樹脂の充填を行うと、高圧で充填される樹
脂の圧力によりスタンパー36がスタンパー支持面17
aに押さえ付けられ、その際の両者の接触によりこれら
の部材が損耗するおそれがあるが、スタンパー36がス
タンパー支持面17a上に固定されていれば、このよう
な接触を防止することができる。
In the mold apparatus of the present embodiment, the provision of the claw portion 37 enables the stamper 36 to be more reliably prevented from floating from the stamper supporting surface 17a and fixed. As a result, it is possible to prevent the stamper 36 from floating from the stamper support surface 17a during molding, and prevent damage to the stamper 36 and the stamper support surface 17a. That is, when the resin is filled while the stamper 36 is floating from the stamper supporting surface 17a, the stamper 36 is pressed by the pressure of the resin filled at a high pressure.
Although these members may be worn by being pressed by a and contacting each other at that time, such contact can be prevented if the stamper 36 is fixed on the stamper supporting surface 17a.

【0020】また、図1に示すように、前記キャビティ
ブロック17の製品キャビティ3側の面の周縁部には、
ほぼ環状に溝が刻設されており、その溝に排気通路4が
接続されている。排気通路4は、図1には1つのみ示し
たが、上記の溝に沿って8〜12箇所程度に設けられて
いる。そして、排気通路4は、図示しない排気手段に接
続されており、この排気手段により排気通路4内を排気
することでスタンパー36を固定するようになってい
る。すなわち、この排気通路4は、スタンパー36の外
周側を吸着して固定する真空チャック機構を構成するも
のである。
Further, as shown in FIG. 1, the peripheral edge of the surface of the cavity block 17 on the product cavity 3 side is
A groove is formed in a substantially annular shape, and the exhaust passage 4 is connected to the groove. Although only one exhaust passage 4 is shown in FIG. 1, it is provided at about 8 to 12 places along the groove. The exhaust passage 4 is connected to an exhaust means (not shown), and the stamper 36 is fixed by exhausting the inside of the exhaust passage 4 by the exhaust means. That is, the exhaust passage 4 constitutes a vacuum chuck mechanism for adsorbing and fixing the outer peripheral side of the stamper 36.

【0021】前記可動型2は、可動側型板41と、この
可動側型板41における固定型1と反対側の面に固定さ
れた可動側受け板42と、この可動側受け板42におけ
る固定型1と反対側の面にボルト43により固定された
可動側取り付け板44とを備えている。この可動側取り
付け板44は、射出成形機の可動側プラテンに取り付け
られるものである。前記可動側型板41は、前記可動側
受け板42にボルト45により固定されたキャビティ形
成部材としてのほぼ円板状のコアブロック46と、可動
側受け板42にボルト47により固定された位置決め部
材としてのほぼ円環状の可動側位置決めリング48とか
らなっている。この可動側位置決めリング48は、前記
可動側受け板42における固定型1と対向する面の外周
部に形成された段部49および前記コアブロック46の
外周側に嵌合しており、金型製作の段階でコアブロック
46に対して芯合わせされている。そして、可動側位置
決めリング48は、型閉時に前記固定側位置決めリング
19のテーパー面21が当接してテーパー嵌合するテー
パー面50を有している。さらに、このテーパー面50
の外周側に位置して、可動側位置決めリング48におけ
る固定側位置決めリング19への対向面には、この固定
側位置決めリング19が当接するスペーサ51がボルト
52により固定されている。すなわち、固定側位置決め
リング19と可動側位置決めリング48とはインロー嵌
合する。
The movable die 2 includes a movable side mold plate 41, a movable side receiving plate 42 fixed to a surface of the movable side mold plate 41 opposite to the fixed mold 1, and a fixing on the movable side receiving plate 42. A movable side mounting plate 44 fixed by a bolt 43 is provided on the surface opposite to the mold 1. The movable side attachment plate 44 is attached to the movable side platen of the injection molding machine. The movable side mold plate 41 has a substantially disk-shaped core block 46 as a cavity forming member fixed to the movable side receiving plate 42 with a bolt 45, and a positioning member fixed to the movable side receiving plate 42 with a bolt 47. And a substantially annular movable side positioning ring 48. The movable side positioning ring 48 is fitted to the stepped portion 49 formed on the outer peripheral portion of the surface of the movable side receiving plate 42 facing the fixed die 1 and the outer peripheral side of the core block 46, and the die manufacturing is performed. At this stage, the core block 46 is centered. Further, the movable side positioning ring 48 has a tapered surface 50 to which the tapered surface 21 of the fixed side positioning ring 19 abuts when the mold is closed. Furthermore, this tapered surface 50
On the outer peripheral side of the movable side positioning ring 48, a spacer 51 against which the fixed side positioning ring 19 abuts is fixed by a bolt 52 to the surface of the movable side positioning ring 48 facing the fixed side positioning ring 19. That is, the fixed side positioning ring 19 and the movable side positioning ring 48 are fitted with a spigot.

【0022】また、図2に示すように、前記可動側受け
板42および可動側取り付け板44におけるほぼ一対角
線上に位置する2つの角部の、前記固定側受け板7の間
通孔24と対向する位置に、貫通孔56が形成されてい
る。そして、可動側受け板42の貫通孔56には、前記
固定型1側のガイドピン22がそれぞれ前記型開閉方向
へ摺動自在に嵌合するガイドピン受け58が組み込まれ
ている。
Further, as shown in FIG. 2, the through holes 24 of the fixed side receiving plate 7 at the two corner portions of the movable side receiving plate 42 and the movable side mounting plate 44 which are located substantially on a diagonal line. A through hole 56 is formed at a position facing each other. Then, in the through holes 56 of the movable side receiving plate 42, guide pin receivers 58 into which the guide pins 22 on the fixed mold 1 side are slidably fitted in the mold opening / closing direction are incorporated.

【0023】これらガイドピン受け58は、前記貫通孔
56内に嵌合されて固定された円筒状のガイドブッシュ
59と、このガイドブッシュ59の内周側に摺動自在に
組み込まれたスライドボールベアリングあるいはスライ
ドローラーベアリングなどよりなるリテーナ60とから
なっており、このリテーナ60の内周側に前記ガイドピ
ン22が常時嵌合している。なお、このガイドピン22
のストッパー27は、リテーナ60を抜け止めするもの
である。また、可動側取り付け板44に形成された貫通
孔57には、ガイドピン22の先端部が挿入るようにな
っている。
These guide pin receivers 58 are cylindrical guide bushes 59 fitted and fixed in the through holes 56, and slide ball bearings slidably incorporated on the inner peripheral side of the guide bushes 59. Alternatively, it comprises a retainer 60 made of a slide roller bearing or the like, and the guide pin 22 is always fitted to the inner peripheral side of the retainer 60. In addition, this guide pin 22
The stopper 27 prevents the retainer 60 from coming off. The tip of the guide pin 22 is inserted into the through hole 57 formed in the movable side mounting plate 44.

【0024】また、図1に示すコアブロック46におけ
る固定型1側の部分の外周部には段差部66が形成され
ているが、この段差部66には、円環状の突き当て外周
リング67が前記型開閉方向へ摺動自在に嵌合されてい
る。突き当て外周リング67はボルト68によって可動
側受け板42に抜け止めされている。また、突き当て外
周リング67とコアブロック46外周面との間にはスラ
イドベアリング69が介在させてある。さらに、突き当
て外周リング67は、スプリング70により固定型1側
へ付勢されている。そして、突き当て外周リング67
は、型閉時に前記固定型1側のアジャスターリング32
に突き当たり、光ディスクの外周面を形成するものであ
る。コアブロック46の外周面46aには、被覆層71
が形成されており、コアブロック46はこの被覆層71
において突き当て外周リング67の内周面67aと摺動
自在に嵌合されている。
A step portion 66 is formed on the outer peripheral portion of the core block 46 shown in FIG. 1 on the stationary die 1 side. The step portion 66 is provided with an annular abutment outer ring 67. It is fitted so as to be slidable in the mold opening / closing direction. The butting outer peripheral ring 67 is secured to the movable side receiving plate 42 by bolts 68. A slide bearing 69 is interposed between the abutting outer peripheral ring 67 and the outer peripheral surface of the core block 46. Further, the butting outer peripheral ring 67 is biased toward the fixed mold 1 side by the spring 70. Then, the abutting outer peripheral ring 67
Is the adjuster ring 32 on the fixed mold 1 side when the mold is closed.
The outer peripheral surface of the optical disc. A coating layer 71 is formed on the outer peripheral surface 46 a of the core block 46.
Is formed, and the core block 46 has the coating layer 71.
At, the inner peripheral surface 67a of the abutting outer peripheral ring 67 is slidably fitted.

【0025】コアブロック46の中央部における固定型
1側の面に形成された凹部76内には、ほぼ円環状の工
ア吹き出し入子77が嵌合され、凹部76の背面側から
挿入されたボルト78により固定されている。この工ア
吹き出し入子77と凹部76の内周面との間の隙間に
は、コアブロック46や可動側受け板42内に形成され
た空気通路79が連通している。
A substantially annular work outlet 77 is fitted in a recess 76 formed on the surface of the core block 46 on the stationary die 1 side, and is inserted from the rear side of the recess 76. It is fixed by bolts 78. An air passage 79 formed in the core block 46 and the movable-side receiving plate 42 communicates with the gap between the processing blow-out insert 77 and the inner peripheral surface of the recess 76.

【0026】また、前記工ア吹き出し入子77内にはほ
ぼ円筒状の突き出しスリーブ81が前記型開閉方向へ所
定範囲摺動自在に嵌合されている。この突き出しスリー
ブ81は、前記コアブロック46を貫通し一端側が可動
側受け板42内に位置しているが、この可動側受け板4
2との間にはスライドベアリング82が介在させてあ
る。さらに、突き出しスリーブ81は、スプリング83
により固定型1と反対側へ付勢されている。なお、84
は、突き出しスリーブ81の摺動範囲を規制するために
可動側受け板42内に固定された規制板である。
Further, a substantially cylindrical projecting sleeve 81 is fitted in the work blow-out insert 77 so as to be slidable within a predetermined range in the mold opening / closing direction. The protruding sleeve 81 penetrates the core block 46 and has one end side located inside the movable side receiving plate 42.
A slide bearing 82 is interposed between the two. Further, the protruding sleeve 81 is provided with a spring 83.
Is urged to the side opposite to the fixed mold 1. Note that 84
Is a regulation plate fixed in the movable side receiving plate 42 for regulating the sliding range of the protruding sleeve 81.

【0027】また、前記突き出しスリーブ81内にはほ
ぼ円筒状のゲートカット部材としてのゲートカットスリ
ーブ86が前記型開閉方向へ所定範囲摺動自在に嵌合さ
れている。このゲートカットスリーブ86は、突き出し
スリーブ81および前記規制板84を貫通しているが、
ゲートカットスリーブ86と突き出しスリーブ81との
間にはスライドベアリング87が介在させてある。そし
て、ゲートカットスリーブ86の一端部に形成されたフ
ランジ部88が前記規制板84よりも可動側取り付け板
44側に位置している。さらに、ゲートカットスリープ
86は、スプリング89により固定型1と反対側へ付勢
されている。
A gate cut sleeve 86, which is a substantially cylindrical gate cut member, is fitted in the protruding sleeve 81 so as to be slidable within a predetermined range in the mold opening / closing direction. The gate cut sleeve 86 penetrates the protruding sleeve 81 and the regulation plate 84,
A slide bearing 87 is interposed between the gate cut sleeve 86 and the protruding sleeve 81. A flange portion 88 formed at one end of the gate cut sleeve 86 is located closer to the movable side attachment plate 44 than the regulation plate 84. Further, the gate cut sleep 86 is biased by the spring 89 toward the side opposite to the fixed mold 1.

【0028】さらに、前記可動側取り付け板44には、
突き出し板91が前記型開閉方向へ所定範囲摺動自在に
支持されている。この突き出し板91は、スプリング9
2により固定型1と反対側へ付勢されている。そして、
突き出し板91に固定された突き出しピン93が前記ゲ
ートカットスリーブ86内に摺動自在に嵌合されてい
る。また、突き出し板91に固定された連動ピン94が
前記ゲートカットスリーブ86のフランジ部88および
規制板84を貫通して前記突き出しスリーブ81に突き
当たるようになっている。さらに、前記ゲートカットス
リーブ86のフランジ部88に突設された受け部95が
前記突き出し板91を摺動自在に貫通している。
Further, the movable side mounting plate 44 has
A protruding plate 91 is supported so as to be slidable in a predetermined range in the mold opening / closing direction. The protruding plate 91 is used for the spring 9
It is urged by 2 to the side opposite to the fixed die 1. And
A protrusion pin 93 fixed to the protrusion plate 91 is slidably fitted in the gate cut sleeve 86. Further, the interlocking pin 94 fixed to the protruding plate 91 penetrates the flange portion 88 of the gate cut sleeve 86 and the regulating plate 84 and abuts against the protruding sleeve 81. Further, a receiving portion 95 provided on the flange portion 88 of the gate cut sleeve 86 is slidably passed through the protruding plate 91.

【0029】そして、図4に示すように、前記固定型1
側のスプルーブッシュ8の先端面外周部と可動型2側の
ゲートカットスリーブ86の先端面外周部との間に、固
定型1側のスプルー10を製品キャビティ3に連通させ
るゲート96が形成されるようになっている。また、ゲ
ートカットスリーブ86がスプルーブッシュ8の凹部3
8に嵌合することにより、ゲート96においてスプルー
10内の成形材料である樹脂と製品キャビティ3内の樹
脂すなわち光ディスクとが切断され、この光ディスクの
中心部の開口孔が形成されるようになっている。したが
って、固定型1においては、キャビティブロック17に
加えて内周スタンパー押え35およびスプルーブッシュ
8の先端面外周部によっても光ディスクの一部が形成さ
れる。また、可動型2においては、コアブロック46に
加えて工ア吹き出し入子77および突き出しスリーブ8
1によっても光ディスクの一部が形成される。
Then, as shown in FIG.
A gate 96 for connecting the sprue 10 on the fixed die 1 side to the product cavity 3 is formed between the outer peripheral portion of the tip surface of the sprue bush 8 on the side and the outer peripheral portion of the gate surface of the gate cut sleeve 86 on the movable die 2 side. It is like this. In addition, the gate cut sleeve 86 is provided in the recess 3 of the sprue bush 8.
By fitting into the gate 8, the resin as the molding material in the sprue 10 and the resin in the product cavity 3, that is, the optical disk are cut at the gate 96, and an opening hole at the center of the optical disk is formed. There is. Therefore, in the fixed mold 1, in addition to the cavity block 17, a part of the optical disk is formed by the inner peripheral stamper retainer 35 and the outer peripheral portion of the tip end surface of the sprue bush 8. In addition, in the movable die 2, in addition to the core block 46, the work blow-out insert 77 and the protruding sleeve 8 are provided.
1 also forms part of the optical disc.

【0030】この突き当て外周リング67とコアブロッ
ク46との間の摺動面について、図5を参照して、さら
に詳細に説明する。図5は図1に示した本発明の光ディ
スク成形用金型装置の部分断面構造を示す図であり、光
ディスクを成形するための製品キャビティの外周部を概
略的に示したものであって、各構成部材の縮尺は実際と
は異なる。前述したように、突き当て外周リング67の
内周面67aにはコアブロック46が嵌合されており、
コアブロック46の外周面46aに設けられた段部66
において摺動自在とされている。コアブロック46の外
周面46aには、被覆層71が形成されており、突き当
て外周リングの内周面67aとコアブロック46の外周
面46aとの摺動をよりスムーズに行うとともに、ディ
スク成形時に発生するガス成分から摺動面を保護する。
The sliding surface between the abutting outer peripheral ring 67 and the core block 46 will be described in more detail with reference to FIG. FIG. 5 is a view showing a partial cross-sectional structure of the optical disk molding die apparatus of the present invention shown in FIG. 1, which schematically shows the outer peripheral portion of a product cavity for molding an optical disk. The scale of components is different from the actual scale. As described above, the core block 46 is fitted to the inner peripheral surface 67a of the butting outer peripheral ring 67,
Step portion 66 provided on the outer peripheral surface 46a of the core block 46
Is slidable. A coating layer 71 is formed on the outer peripheral surface 46a of the core block 46, so that the inner peripheral surface 67a of the abutting outer peripheral ring and the outer peripheral surface 46a of the core block 46 slide more smoothly, and at the time of disk molding. Protects the sliding surface from the generated gas components.

【0031】本実施形態の金型装置では、この摺動面の
一方であるコアブロック46の外周面46aに被覆層7
1を設けることにより、前記溶融樹脂と同伴される腐食
性ガスと外周面46aが接触するのを防止して、外周面
46aにおける表面荒れを起こりにくくすることがで
き、長寿命の金型装置を実現できる。さらに、ガス成分
の腐食によるコアブロック46の角部46Rの角度精度
の低下、いわゆる金型のダレを防止することできるの
で、これによっても金型装置の耐久性を上げることがで
きる。また、この被覆層71は硬度と機械的強度との高
いものであるので、外周面46aの傷の発生や摩耗を防
止することができ、長寿命の金型装置とすることができ
る。
In the mold apparatus of this embodiment, the coating layer 7 is formed on the outer peripheral surface 46a of the core block 46 which is one of the sliding surfaces.
By providing No. 1, it is possible to prevent the corrosive gas entrained with the molten resin from coming into contact with the outer peripheral surface 46a, making it possible to prevent surface roughness on the outer peripheral surface 46a from occurring easily, and to provide a mold apparatus with a long life. realizable. Further, since it is possible to prevent deterioration of the angular accuracy of the corner portion 46R of the core block 46 due to corrosion of the gas component, that is, so-called mold sagging, it is possible to improve the durability of the mold device as well. Further, since the coating layer 71 has high hardness and high mechanical strength, it is possible to prevent the outer peripheral surface 46a from being scratched or worn, so that the die device can have a long life.

【0032】上記被覆層71の構成材料は、高機械的強
度と耐食性とを有するものであれば特に限定されるもの
ではなく、金属、セラミックス、樹脂などを例示するこ
とができる。さらには、金属とセラミックス、金属と樹
脂、樹脂とセラミックス等の複合材料であってもよい。
なかでも高硬度で低摩擦係数を有し、かつ潤滑性、耐酸
化性等の特性を具備する材料として、Al23膜、Ti
N膜、CrN膜、AlN膜、Si34膜、SiC膜、T
iC膜、TiAlN膜、TiCrN膜、cBN(立方晶
窒化ホウ素)膜、DLC(Diamond Like Carbon)膜、
4フッ化樹脂含浸クロム膜(商標名テフ・ロックなど)
を例示することができる。
The constituent material of the coating layer 71 is not particularly limited as long as it has high mechanical strength and corrosion resistance, and examples thereof include metals, ceramics, resins and the like. Further, a composite material such as metal and ceramics, metal and resin, resin and ceramics may be used.
Among them, Al 2 O 3 film and Ti are used as materials having high hardness and low friction coefficient and having properties such as lubricity and oxidation resistance.
N film, CrN film, AlN film, Si 3 N 4 film, SiC film, T
iC film, TiAlN film, TiCrN film, cBN (cubic boron nitride) film, DLC (Diamond Like Carbon) film,
Chromium film impregnated with tetrafluoride resin (Tef Lock etc.)
Can be illustrated.

【0033】被覆層71の膜厚は特に限定されるもので
はなく、その材質によって適宜変更可能であるが、0.
2〜5μmの範囲とされることが好ましい。0.2μm
未満では、いずれの材質からなる膜であっても、薄過ぎ
て耐摩耗性が十分でなく、突き当て外周リング67とコ
アブロック46との摺動によって磨耗が生じ易い上に、
耐食性にも欠け、腐食性のガス成分による侵食を受け易
くなる。また、膜厚が5μmを越える場合には、いずれ
の材質であっても、膜内の応力が強まり剥離し易くなる
ばかりでなく、膜表面が粗くなり、それがディスク外周
面に転写されてしまうので好ましくない。ただし、4フ
ッ化樹脂含有クロム膜は下地にCrメッキが必要なた
め、30μm以上の厚さは必要であり、耐食性と耐摩耗
性の面から必要な特性を満足させるためには40〜80
μmの厚さであることが好ましい。
The film thickness of the coating layer 71 is not particularly limited and can be appropriately changed depending on the material thereof,
It is preferably in the range of 2 to 5 μm. 0.2 μm
If it is less than 1, the film made of any material is too thin and does not have sufficient wear resistance, and wear easily occurs due to sliding between the abutting outer peripheral ring 67 and the core block 46.
It also lacks corrosion resistance and is susceptible to erosion by corrosive gas components. Further, when the film thickness exceeds 5 μm, the stress in the film becomes strong and peeling easily occurs, and the film surface becomes rough and is transferred to the outer peripheral surface of the disk regardless of the material used. It is not preferable. However, since the chrome film containing tetrafluororesin requires Cr plating on the underlayer, a thickness of 30 μm or more is necessary, and in order to satisfy the required properties in terms of corrosion resistance and wear resistance, it is 40 to 80 μm.
The thickness is preferably μm.

【0034】さらに被覆層71は単一層であっても、2
種以上の積層であってもよい。たとえば金型材料との密
着性に優れるTiC膜を形成した上に硬度の高いTiN
を積層した複合膜とすると、密着性と機械的強度とに優
れたものとなり好適である。TiC膜とTiN膜との膜
厚比は、3:1〜1:3の範囲とされることが好まし
い。すなわち、被覆層71の全体の膜厚に対して、Ti
C膜及びTiN膜は、少なくとも1/4以上とすること
が好ましい。これは、コアブロック46の外周面46a
に形成されるTiC膜はTiN膜に比して、強度及び外
周面46aとの密着性には優れるが、ガス成分に対する
耐食性の点でTiN膜に劣り、TiN膜はTiC膜に比
して強度は劣るものの、耐食性には優れるためであり、
上記範囲とすることで、これらTiC膜及びTiN膜の
それぞれの有利な特性を兼ね備えた被覆層71を実現す
ることができる。また、これらTiC膜とTiN膜との
膜厚比は、2:1〜1:2の範囲とすることがより好ま
しい。
Further, even if the coating layer 71 is a single layer, 2
It may be a laminate of one or more kinds. For example, a TiC film having excellent adhesion to a die material is formed and TiN having high hardness is formed.
It is preferable to use a laminated composite film because it has excellent adhesion and mechanical strength. The film thickness ratio between the TiC film and the TiN film is preferably in the range of 3: 1 to 1: 3. That is, with respect to the total thickness of the coating layer 71, Ti
The C film and the TiN film are preferably at least 1/4 or more. This is the outer peripheral surface 46 a of the core block 46.
The TiC film formed on the substrate is superior to the TiN film in strength and adhesion to the outer peripheral surface 46a, but is inferior to the TiN film in terms of corrosion resistance to gas components, and the TiN film is stronger than the TiC film. Is inferior, but because it has excellent corrosion resistance,
Within the above range, it is possible to realize the coating layer 71 having the advantageous characteristics of each of the TiC film and the TiN film. Further, the film thickness ratio between the TiC film and the TiN film is more preferably in the range of 2: 1 to 1: 2.

【0035】さらに、2層以上の膜を積層する場合に
は、まず金属化合物からなる第1の被覆層を設け、この
第1の被覆層層上に耐食性に優れたAl23膜からなる
第2の被覆層を積層した構成が好適である。この金属化
合物としては金型を構成する金属材料との密着性の良好
な材料が好ましく、特にTiN、TiC、TiAlN、
cBN等から選択される1種または2種以上であること
が好ましい。これらの金属化合物層を介在させることに
より、より一層耐食性と耐磨耗性とに優れた金型装置と
することができる。
Further, when laminating two or more layers, a first coating layer made of a metal compound is first provided, and an Al 2 O 3 film having excellent corrosion resistance is formed on the first coating layer. A configuration in which the second coating layer is laminated is suitable. As the metal compound, a material having good adhesion to the metal material forming the mold is preferable, and particularly TiN, TiC, TiAlN,
It is preferably one or more selected from cBN and the like. By interposing these metal compound layers, it is possible to obtain a mold apparatus having further excellent corrosion resistance and abrasion resistance.

【0036】この際のAl23膜の膜厚は0.2〜4μ
mの範囲とされることが好ましい。膜厚が0.2μm未
満であると、薄すぎて所望の耐摩耗性と耐酸化性とを得
ることができず、また4μmを超えると膜内の応力によ
り剥離しやすくなるためである。第1の被覆層の膜厚は
0.5〜5μmの範囲とされることが好ましい。膜厚が
0.5μm未満であると、付着強度が十分でなく、5μ
mを超えると表面粗さが大きくなるためである。
At this time, the thickness of the Al 2 O 3 film is 0.2 to 4 μm.
It is preferably in the range of m. This is because if the film thickness is less than 0.2 μm, the desired wear resistance and oxidation resistance cannot be obtained because it is too thin, and if it exceeds 4 μm, peeling easily occurs due to the stress in the film. The thickness of the first coating layer is preferably in the range of 0.5 to 5 μm. If the film thickness is less than 0.5 μm, the adhesion strength is not sufficient and it is 5 μm.
This is because when it exceeds m, the surface roughness becomes large.

【0037】また、4フッ化樹脂含浸クロム膜(商標名
テフ・ロックなど)に代表されるように、金属膜内に潤
滑性に優れた4フッ化樹脂を含浸した複合膜であっても
よく、このような膜を用いると耐食性、耐摩耗性に加
え、自己潤滑性と表面の平滑性とに優れるので好適であ
る。特にクロムメッキに4フッ化樹脂を含浸させた複合
メッキ材料は、クロムメッキの特性である高硬度、低摩
擦係数、耐摩耗性と、4フッ化樹脂の特性である自己潤
滑性、低摩擦特性、非粘着性とを併せ持つこととなるの
で好適である。
Further, as represented by a tetrafluororesin-impregnated chromium film (Tef Rock, etc.), it may be a composite film in which a metal film is impregnated with a tetrafluororesin having excellent lubricity. It is preferable to use such a film because it is excellent in self-lubricating property and surface smoothness in addition to corrosion resistance and wear resistance. In particular, the composite plating material in which chrome plating is impregnated with tetrafluoride resin has the characteristics of chrome plating such as high hardness, low friction coefficient and wear resistance, and the characteristics of tetrafluoride resin such as self-lubrication and low friction characteristics. Since it also has non-adhesiveness, it is preferable.

【0038】また、被覆層71の構成材料としてTiA
lN膜を用いた場合のTiとAlとの組成比はTia
bN(a+b=1)で表したときのaが0.1以上0.
9以下で、bが0.1以上0.9以下の範囲内であること
が好ましく、より好ましくはaが0.2以上0.8以下
で、bが0.2以上0.8以下の範囲内である。aの値が
大きすぎると十分な耐食性、耐酸化性が得られず、小さ
すぎると耐摩耗性が急速に劣化する。その逆に、bの値
が大きすぎると耐摩耗性が急速に劣化し、小さすぎると
十分な耐食性と耐酸化性が得られない。さらにTiAl
N膜の組成は膜内で厚さ方向に組成が変化していてもよ
く、組成が異なるTiAlN膜が2層以上積層されてい
てもよい。
TiA is used as a constituent material of the coating layer 71.
When the 1N film is used, the composition ratio of Ti and Al is Ti a A
When represented by lb N (a + b = 1), a is 0.1 or more and 0.1.
It is preferably 9 or less and b is in the range of 0.1 or more and 0.9 or less, more preferably a is 0.2 or more and 0.8 or less, and b is 0.2 or more and 0.8 or less. It is within. If the value of a is too large, sufficient corrosion resistance and oxidation resistance cannot be obtained, and if it is too small, the wear resistance rapidly deteriorates. On the contrary, if the value of b is too large, the wear resistance rapidly deteriorates, and if it is too small, sufficient corrosion resistance and oxidation resistance cannot be obtained. Further TiAl
The composition of the N film may change in the thickness direction within the film, or two or more TiAlN films having different compositions may be laminated.

【0039】このような被覆層71は、PVD法、CV
D法、スパッタ法、イオンプレーティング法、PVD−
イオンプレーティング法等の薄膜形成方法を用いること
によって、所望組成で所望膜厚の被覆層を形成すること
ができる。
Such a coating layer 71 is formed by PVD method, CV method.
D method, sputtering method, ion plating method, PVD-
By using a thin film forming method such as an ion plating method, a coating layer having a desired composition and a desired film thickness can be formed.

【0040】なお、図5に示した本発明の光ディスク成
形用金型装置においては、コアブロック46の外周面4
6aのみに被覆層71を形成したが、本発明の金型装置
はこれに限定されるものではない。コアブロック46の
製品キャビティー3側の樹脂接触面にまで被覆層71を
形成してもよい。また、コアブロック46の外周面46
aではなく、突き当て外周リング67の内周面67a側
に被覆層71を設けてもよい。
In the optical disk molding die apparatus of the present invention shown in FIG. 5, the outer peripheral surface 4 of the core block 46 is
Although the coating layer 71 is formed only on 6a, the mold apparatus of the present invention is not limited to this. The coating layer 71 may be formed even on the resin contact surface of the core block 46 on the product cavity 3 side. In addition, the outer peripheral surface 46 of the core block 46
The coating layer 71 may be provided on the inner peripheral surface 67a side of the abutting outer peripheral ring 67 instead of a.

【0041】さらに、図6に示したようにコアブロック
46の外周面46aと突き当て外周リング67の内周面
67aとの両面に、それぞれ被覆層71a、71bを設
けてもよい。この場合には、被覆層71aを構成する材
料と、被覆層71bを構成する材料とは、異なるもので
あることが好ましい。被覆層71aおよび71bを同材
料によって構成すると、被覆層どうしが貼りついてしま
い、逆に摺動性が低下するためである。このようにコア
ブロック46と突き当て外周リング67との両方に被覆
層71a、71bを設けると、その摺動面である外周面
46aと内周面67aとが、共に被覆層によって保護さ
れることとなり、より一層、耐食性と機械的強度に優れ
た金型装置とすることができる。
Further, as shown in FIG. 6, coating layers 71a and 71b may be provided on both the outer peripheral surface 46a of the core block 46 and the inner peripheral surface 67a of the abutting outer peripheral ring 67, respectively. In this case, it is preferable that the material forming the coating layer 71a and the material forming the coating layer 71b be different. This is because when the coating layers 71a and 71b are made of the same material, the coating layers stick to each other, and conversely the slidability deteriorates. When the coating layers 71a and 71b are provided on both the core block 46 and the abutting outer peripheral ring 67 in this manner, both the outer peripheral surface 46a and the inner peripheral surface 67a, which are sliding surfaces, are protected by the coating layer. As a result, it is possible to obtain a mold device that is more excellent in corrosion resistance and mechanical strength.

【0042】次に、上記構成の金型装置を用いた光ディ
スクの成形方法について説明する。なお、図1、図2、
図4、図5および図6では、固定型1および可動型2を
図示上下に並べて描いてあるが、通常は固定型1および
可動型2が水平に並んだ状態で成形が行われる。ただ
し、図示の通り上下に並んだ状態で成形を行うことも可
能である。固定型1と可動型2とを型開した状態でも型
閉した状態でも、図2及び図3に示す固定型1の両ガイ
ドピン22は可動型2のガイドピン受け58に常時嵌合
したままである。これにより、固定型1と可動型2とが
芯合わせされる。すなわち、固定型1のキャビティブロ
ック17の中心軸と可動型2のコアブロック46の中心
軸とが同一直線上に位置する。
Next, a method of molding an optical disk using the mold apparatus having the above-mentioned structure will be described. Note that FIG. 1, FIG.
4, FIG. 5, and FIG. 6, the fixed mold 1 and the movable mold 2 are drawn side by side in the drawing, but normally, the molding is performed in a state where the fixed mold 1 and the movable mold 2 are horizontally arranged. However, it is also possible to perform the molding in a state where they are lined up and down as shown. Both the guide pins 22 of the fixed die 1 shown in FIGS. 2 and 3 are always fitted to the guide pin receivers 58 of the movable die 2 regardless of whether the fixed die 1 and the movable die 2 are opened or closed. Is. As a result, the fixed die 1 and the movable die 2 are aligned with each other. That is, the central axis of the cavity block 17 of the fixed mold 1 and the central axis of the core block 46 of the movable mold 2 are located on the same straight line.

【0043】光ディスクの成形時には、まず固定型1と
可動型2とを型閉して、これら固定型1および可動型2
間に製品キャビティ3を形成する。なお、このように型
閉した状態で、可動型2の突き当てリング67が固定型
1のアジャスターリング32に突き当たり、また、固定
型1および可動型2の位置決めリング19、48が相互
にインロー嵌合し、それらのテーパー面21、50が相
互にテーパー嵌合する。そして、射出成形機のノズルか
らスプルー10へ成形材料である溶融した熱可塑性樹脂
を射出する。この樹脂は、スプルー10からゲート96
を通って製品キャビティ3内に流入する(充填工程)。
なお、当初は固定型1および可動型2の型締力は比較的
弱くなっており、製品キャビティ3内に充填された樹脂
の圧力により固定型1および可動型2が若干、例えば
0.1〜0.3mm程度開き、位置決めリング19、48
のテーパー面21、50も若干離れるが、可動型2のコ
アブロック46に対して摺動自在に支持された突き当て
リング67は、スプリング70の付勢によりアジャスタ
ーリング32に保持される。
At the time of molding an optical disk, first, the fixed mold 1 and the movable mold 2 are closed, and the fixed mold 1 and the movable mold 2 are closed.
A product cavity 3 is formed in between. It should be noted that, with the mold closed in this way, the abutment ring 67 of the movable mold 2 abuts on the adjuster ring 32 of the fixed mold 1, and the positioning rings 19, 48 of the fixed mold 1 and the movable mold 2 are fitted to each other by the spigot fitting. And their tapered surfaces 21, 50 taper to each other. Then, a molten thermoplastic resin as a molding material is injected from the nozzle of the injection molding machine into the sprue 10. This resin is sprue 10 to gate 96
To flow into the product cavity 3 through the (filling step).
Initially, the mold clamping force of the fixed mold 1 and the movable mold 2 is relatively weak, and the pressure of the resin filled in the product cavity 3 causes the fixed mold 1 and the movable mold 2 to slightly move, for example, from 0.1 to 1. Opening about 0.3mm, positioning ring 19, 48
The abutting ring 67 slidably supported by the core block 46 of the movable mold 2 is held by the adjuster ring 32 by the biasing force of the spring 70, although the taper surfaces 21 and 50 are slightly separated.

【0044】このようにして製品キャビティ3内に樹脂
が充填された後、射出成形機側に設けられた図示してい
ない押圧ロッドによってゲートカットスリーブ86の受
け部95が固定型1の方へ押されることにより、ゲート
カットスリーブ86が固定型1側へ移動し、この固定型
1のスプルーブッシュ8の凹部38に嵌合する。これに
より、ゲート96においてスプルー10と製品キャビテ
ィ3とが遮断されるとともに、この光ディスクの中心部
の開口孔が形成される(ゲートカット工程)。また、固
定型1および可動型2の型締めが強められることによ
り、コアブロック46を含めて可動型2のほぼ全体が固
定型1側へ移動する。これにより、製品キャビティ3内
の樹脂が圧縮される(圧縮工程)。この圧縮工程が終了
した時点で、固定型1および可動型2の位置決めリング
19、48のテーパー面21、50が再び相互にテーパ
ー嵌合する。これにより、圧縮工程の終了時点以降、固
定型1と可動型2とが確実に芯合わせされる。
After the product cavity 3 has been filled with the resin in this way, the receiving portion 95 of the gate cut sleeve 86 is pushed toward the fixed mold 1 by a pressing rod (not shown) provided on the injection molding machine side. As a result, the gate cut sleeve 86 moves to the fixed mold 1 side and fits into the recess 38 of the sprue bush 8 of the fixed mold 1. As a result, the sprue 10 and the product cavity 3 are blocked at the gate 96, and an opening hole at the center of the optical disc is formed (gate cutting step). Further, as the die clamping of the fixed die 1 and the movable die 2 is strengthened, almost the entire movable die 2 including the core block 46 moves to the fixed die 1 side. As a result, the resin in the product cavity 3 is compressed (compression step). At the end of this compression step, the tapered surfaces 21, 50 of the positioning rings 19, 48 of the fixed mold 1 and the movable mold 2 are again taper-fitted to each other. This ensures that the stationary die 1 and the movable die 2 are aligned with each other after the end of the compression process.

【0045】さらに、この製品キャビティ3内の樹脂す
なわち光ディスクが冷却して固化した後、固定型1と可
動型2とが型開される。この型開に伴い、成形された光
ディスクおよびスプルー10内で固化した樹脂はまず固
定型1から離れる。ついで、射出成形機側に設けられた
図示していない押圧ロッドによって突き出し板91が固
定型1の方へ押されることにより、突き出し板91と連
動して突き出しピン93が固定型1側へ移動し、スプル
ー10内で固化した樹脂を突き出して可動型2から離型
させる。また、突き出し板91に固定された連動ピン9
4によって押されることにより突き出しスリーブ81が
固定型1側へ移動し、光ディスクの内周部を突き出して
可動型2から離型させる。なお、この離型時、空気通路
79から供給される空気がエア吹き出し入子77とコア
ブロック46との間の隙間から吹き出すことにより、光
ディスクと可動型2との間の真空破壊が行われる。そし
て、離型した光ディスクは、図示していない取り出しロ
ボットにより取り出される。その際、取り出しロボット
は、固定型1および可動型2間において、ガイドピン2
2およびガイドピン受け58が設けられていない角部を
介して出入りする。尚、このようにして成形されるの
は、最終的な製品としての光ディスクではなくその基板
であるが、この基板には、その後、保護層、記録層、反
射層およびオーバーコート層などが適宜形成される。
Further, after the resin in the product cavity 3, that is, the optical disk is cooled and solidified, the fixed mold 1 and the movable mold 2 are opened. With this mold opening, the molded optical disk and the resin solidified in the sprue 10 first separate from the fixed mold 1. Then, the ejecting plate 91 is pushed toward the fixed mold 1 by a pressing rod (not shown) provided on the injection molding machine side, and the ejecting pin 93 moves to the fixed mold 1 side in conjunction with the ejecting plate 91. , The resin solidified in the sprue 10 is ejected and released from the movable mold 2. In addition, the interlocking pin 9 fixed to the protruding plate 91
By being pushed by 4, the ejection sleeve 81 moves to the fixed die 1 side, and the inner peripheral portion of the optical disc is ejected and released from the movable die 2. At the time of this mold release, the air supplied from the air passage 79 is blown out from the gap between the air blowing insert 77 and the core block 46, so that the vacuum break between the optical disk and the movable mold 2 is performed. Then, the released optical disc is taken out by a take-out robot (not shown). At that time, the take-out robot moves the guide pin 2 between the fixed die 1 and the movable die 2.
2 and the corners where the guide pin receivers 58 are not provided come in and go out. It is to be noted that what is molded in this way is not the final product, which is the optical disc, but the substrate thereof, after which a protective layer, recording layer, reflective layer, overcoat layer, etc. are appropriately formed. To be done.

【0046】本実施の形態の構成によれば、固定型1に
設けたガイドピン22を可動型2に設けたガイドピン受
け58に型開閉方向へ拙動自在に嵌合して固定型1と可
動型2とを芯合わせするようにしたので、固定型1と可
動型2とが開いてそれらの位置決めリング19,48の
テーパー面21,50が互いに離れている状態でも、固
定型1と可動型2とを芯合わせできる。すなわち、固定
型1と可動型2とをいったん型閉した後の充填工程、ゲ
ートカット工程および圧縮工程では、固定型1と可動型
2とが若干開くが、その際にも固定型1や可動型2に加
わる重力に抗して、これら固定型1と可動型2とをある
程度正確に芯合わせされた状態に保持できる。したがっ
て、ゲートカット工程において可動型2側のゲートカッ
トスリーブ86を固定型1の凹部38に嵌合するとき、
ゲートカットスリーブ86が凹部38に確実かつ正確に
嵌合される。したがって、光ディスクの開口孔を正確に
所定の位置に形成できるとともに、この開口孔にバリな
どの不良が生じるのを防止することができる。
According to the configuration of the present embodiment, the guide pin 22 provided on the fixed die 1 is fitted into the guide pin receiver 58 provided on the movable die 2 so as to be slidable in the die opening / closing direction. Since the movable die 2 and the movable die 2 are aligned with each other, even when the fixed die 1 and the movable die 2 are opened and the tapered surfaces 21 and 50 of the positioning rings 19 and 48 are separated from each other, the movable die and the movable die 2 are movable. Can be aligned with the mold 2. That is, in the filling process, gate cutting process and compression process after the fixed mold 1 and the movable mold 2 are closed once, the fixed mold 1 and the movable mold 2 are slightly opened. It is possible to hold the fixed die 1 and the movable die 2 in a state of being aligned with each other to some degree of accuracy against the gravity applied to the die 2. Therefore, when the gate cut sleeve 86 on the movable die 2 side is fitted into the recess 38 of the fixed die 1 in the gate cutting step,
The gate cut sleeve 86 is securely and accurately fitted in the recess 38. Therefore, the opening hole of the optical disk can be accurately formed at a predetermined position, and the occurrence of defects such as burrs in the opening hole can be prevented.

【0047】また、圧縮工程の終了時点以降、固定型1
と可動型2とが最終的に完全に閉じて製品キャビティ3
が最終的な製品形状になった状態では、固定型1および
可動型2の位置決めリング19,48のテーパー面2
1,50が互いにテーパー嵌合することにより、固定型
1と可動型2とが芯合わせされる。その際、位置決めリ
ング19、48がそれぞれ固定型1および可動型2に可
動状態に支持されているのではなく、固定されているも
のであることにより、位置決めリング19,48による
芯合わせは、ガイドピン22およびガイドピン受け58
のみによる芯合わせよりも確実で正確なものとなる。こ
のように、両型体を型閉した際に確実な芯合わせができ
ることで、製品キャビティ3を正確に画定できるように
なり、スプルー10から導入される樹脂の圧力を製品キ
ャビティ3内でより均一にすることができる。
After the end of the compression process, the fixed mold 1
And the movable mold 2 are finally completely closed to form the product cavity 3
In the final product shape, the tapered surfaces 2 of the positioning rings 19 and 48 of the fixed mold 1 and the movable mold 2 are
The fixed die 1 and the movable die 2 are aligned with each other by taper-fitting the first die 1 and the second die 50. At that time, since the positioning rings 19 and 48 are not movably supported by the fixed mold 1 and the movable mold 2, respectively, but are fixed, centering by the positioning rings 19 and 48 is performed by a guide. Pin 22 and guide pin receiver 58
It is more reliable and accurate than centering by using only. As described above, since the cores can be surely aligned when the molds are closed, the product cavity 3 can be accurately defined, and the pressure of the resin introduced from the sprue 10 is more uniform in the product cavity 3. Can be

【0048】さらに、本実施の形態では、ガイドピン2
2およびガイドピン受け58を2組のみ設けているが、
固定型1および可動型2の最終的な芯合わせは位置決め
リング19,48によってなされ、ガイドピン22およ
びガイドピン受け58は補助的なものなので、固定型1
および可動型2の2つの角部にあれば十分である。そし
て、固定型1および可動型2を型開して成形された光デ
ィスクを取り出すとき、固定型1および可動型2間にお
いて、ガイドピン22およびガイドピン受け58のない
角部を介して取り出しロボットを出し入れすることによ
り、光ディスクの取り出しに対してガイドピン22およ
びガイドピン受け58が支障とならない。
Further, in the present embodiment, the guide pin 2
2 and the guide pin receiver 58 are provided only in two sets,
The final centering of the fixed mold 1 and the movable mold 2 is performed by the positioning rings 19 and 48, and the guide pin 22 and the guide pin receiver 58 are auxiliary, so that the fixed mold 1 is fixed.
And it is sufficient to have two corners of the movable mold 2. When the fixed mold 1 and the movable mold 2 are opened to take out the molded optical disk, a take-out robot is operated between the fixed mold 1 and the movable mold 2 via the corners without the guide pins 22 and the guide pin receivers 58. By taking in and out, the guide pin 22 and the guide pin receiver 58 do not interfere with the taking out of the optical disc.

【0049】なお、本発明は、前記実施の形態に限定さ
れるものではなく、種々の変形実施が可能である。例え
ば、上記実施の形態では、固定型1にガイドピン22を
突設し、このガイドビン22が拙動自在に嵌合されるガ
イドピン受け58を可動型2に設けたがン逆に可動型に
ガイドピンを設け、固定型にガイドピン受けを設けても
よい。また、前記実施の形態では、ガイドピン22およ
びガイドピン受け58を2組としたが、1組あるいは3
組以上としてもよい。
The present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment, the fixed mold 1 is provided with the guide pin 22 so as to project, and the guide pin 22 into which the guide bin 22 is slidably fitted is provided in the movable mold 2. The guide pin may be provided on the fixed type and the guide pin receiver may be provided on the fixed type. Further, in the above-described embodiment, the guide pin 22 and the guide pin receiver 58 are two sets, but one set or three sets.
It may be more than one set.

【0050】また、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置によれば、情報記録部よりも内周側に、この情報記
録部の表面よりも高さ0.04mm以上(好ましくは0.
05mm以上)突出した環状の凸部が形成された光ディ
スクを製造することもできる。このような構成を備えた
光ディスクの一例を図7に示す。図7は、光ディスクの
部分断面構造を示す図である。図7に示す光ディスク1
01は、円板状になっていて、開口孔102を中央部に
有しているとともに、内周部および外周部以外の部分が
情報記録部103とされている。また、光ディスク10
1の一方の面には、情報記録部103よりも内周側に位
置して、この情報記録部103の表面よりも高さhが
0.04mm以上突出した円環状の凸部104が光ディ
スク101全体と同心的に形成されている。この凸部1
04の高さhは、より好ましくは0.05mm以上であ
る。このような構成の光ディスク101は、成形時に光
ディスク101表面にバリ105が生じたとしても、例
えば、光ディスク101を光ディスクドライブ装置のタ
ーンテーブル106上に装着したとき、バリ105では
なく前記凸部104がターンテーブル106上に載る構
造とされている。従って、バリ105に影響されること
なく、ターンテーブル106上に光ディスク101を傾
きなく装着することができ、光ディスクの回転時の面振
れを防止することができる。あるいは、光ディスクにハ
ブを後付けする際に、光ディスクに対してハブを平行に
取り付けることができる。
Further, according to the optical disk molding die apparatus of the present invention, the height is 0.04 mm or more (preferably 0.04 mm) higher than the surface of the information recording section on the inner peripheral side of the information recording section.
It is also possible to manufacture an optical disk having a protruding annular convex portion (05 mm or more). An example of an optical disc having such a configuration is shown in FIG. FIG. 7 is a diagram showing a partial cross-sectional structure of the optical disc. Optical disc 1 shown in FIG.
Reference numeral 01 has a disk shape, has an opening 102 in the central portion, and has a portion other than the inner peripheral portion and the outer peripheral portion serving as an information recording portion 103. Also, the optical disc 10
On one surface of the optical disc 101, there is an annular convex portion 104 located on the inner peripheral side of the information recording portion 103 and having a height h of 0.04 mm or more protruding from the surface of the information recording portion 103. It is formed concentrically with the whole. This convex part 1
The height h of 04 is more preferably 0.05 mm or more. In the optical disc 101 having such a configuration, even if the burr 105 is generated on the surface of the optical disc 101 during molding, for example, when the optical disc 101 is mounted on the turntable 106 of the optical disc drive device, the convex portion 104 is not formed on the burr 105. It has a structure to be mounted on the turntable 106. Therefore, the optical disc 101 can be mounted on the turntable 106 without being tilted without being affected by the burr 105, and surface wobbling during rotation of the optical disc can be prevented. Alternatively, the hub can be mounted parallel to the optical disc when the hub is later attached to the optical disc.

【0051】次に、上記凸部を備えた光ディスク101
を製造するための金型装置の構成について図8を参照し
て以下に説明する。図8は、本発明に係る光ディスク成
形用金型装置の部分断面図を示す図であり、光ディスク
を成形するための製品キャビティの中央部を示してい
る。この図8に示す金型装置の基本構成は、図1に示す
金型装置とほぼ同様であり、図1と同一の構成要素には
同一の符号が付されている。図8に示す金型装置の特徴
的な点は、エア吹き出し入子77の製品キャビティ3側
の面に、深さ0.04mm以上(好ましくは0.05mm
以上)の環状の凹部99が刻設されている点である。こ
のような構成の金型装置を用いて成形を行うことで、図
7に示すように、この凹部99の形状が転写されて形成
された凸部104を有する光ディスク101を製造する
ことができる。
Next, the optical disc 101 having the above-mentioned convex portion
The configuration of the mold apparatus for manufacturing the above will be described below with reference to FIG. FIG. 8 is a diagram showing a partial cross-sectional view of an optical disk molding die apparatus according to the present invention, showing a central portion of a product cavity for molding an optical disk. The basic structure of the mold device shown in FIG. 8 is almost the same as that of the mold device shown in FIG. 1, and the same components as those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals. The characteristic point of the mold device shown in FIG. 8 is that the depth of 0.04 mm or more (preferably 0.05 mm) is formed on the surface of the air blowing insert 77 on the product cavity 3 side.
The above is the point that the annular recess 99 is engraved. By performing molding using the mold device having such a configuration, as shown in FIG. 7, it is possible to manufacture the optical disc 101 having the convex portion 104 formed by transferring the shape of the concave portion 99.

【0052】[0052]

【実施例】(実施例1)スタンパー対向面となるキャビ
ティ面を構成するように、その表面を鏡面に研摩したス
テンレス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意
し、このステンレス製円板の外周面にアーク放電プラズ
マ法にて、膜厚を種々変化させてDLC(ダイヤモンド
ライクカーボン)を蒸着した。DLCイオン源を有する
真空容器内にイオン源に対向して上記円板を配置して基
板とし、真空に減圧した後、アルゴンガスを導入して、
10-5Torrに調整した。基板に1000Vのバイア
ス電圧をかけて、表面をスパッターしてクリーニングし
た後、DLCイオン源のフィラメント加熱してアノード
電極に高周波をかけてプラズマを発生させる。その後に
ベンゼンガスを導入してイオン源内で分解し炭素イオン
を生成し、円板側面にDCLを蒸着した。その際基板に
50Vのバイアス電圧をかけることにより、蒸着速度
0.5μm/hrでLC膜を基板表面に蒸着した。
Example 1 A stainless disk (180 mmφ × 20 mm thick) whose surface is mirror-polished so as to form a cavity surface which is a surface facing a stamper is prepared, and the outer circumference of this stainless disk is prepared. DLC (diamond-like carbon) was vapor-deposited on the surface by an arc discharge plasma method while varying the film thickness. In the vacuum container having the DLC ion source, the above-mentioned disk is arranged so as to face the ion source to form a substrate, the pressure is reduced to a vacuum, and then argon gas is introduced.
The pressure was adjusted to 10 -5 Torr. After applying a bias voltage of 1000 V to the substrate to clean the surface by sputtering, the filament of the DLC ion source is heated to apply a high frequency to the anode electrode to generate plasma. After that, benzene gas was introduced to decompose in the ion source to generate carbon ions, and DCL was vapor-deposited on the side surface of the disk. At that time, by applying a bias voltage of 50 V to the substrate, an LC film was deposited on the substrate surface at a deposition rate of 0.5 μm / hr.

【0053】(実施例2)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
ステンレス製円板の外周面にプラズマジェットCVD法
により、膜厚を種々変化させてcBN膜を蒸着した。反
応容器内に上記ステンレス製円板を配置して基板とし、
その上方に直流プラズマトーチを設け、排気後Ar,N
2,BF3,H2の混合ガスをトーチより流し、プラズマ
中で分解させて、基板上に蒸着させた。成膜時の圧力は
50Torr(50×133Pa)とし、前記基板は水
冷して1000℃に維持した。また、成膜中に基板を回
転させて成膜面の全面に均一にcBN膜がコーティング
されるようにした。成膜された薄膜をX線回折により分
析した結果、cBN膜であることが確認された。
Example 2 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of Example 1 was prepared, and the thickness of the stainless steel disc was varied by the plasma jet CVD method. A cBN film was deposited. As a substrate by placing the stainless steel disk in the reaction vessel,
A DC plasma torch is installed above it, and after evacuation Ar, N
A mixed gas of 2 , BF 3 , and H 2 was caused to flow from a torch, decomposed in plasma, and vapor-deposited on a substrate. The pressure during film formation was 50 Torr (50 × 133 Pa), and the substrate was water-cooled and maintained at 1000 ° C. Further, the substrate was rotated during the film formation so that the entire surface of the film formation was uniformly coated with the cBN film. As a result of analyzing the formed thin film by X-ray diffraction, it was confirmed to be a cBN film.

【0054】(実施例3)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
ステンレス円板の外周面にマグネトロンスパッタ法によ
りcBN膜を蒸着した。真空容器内にマグネトロンスパ
ッタ用の台座を配置し、この台座に六方晶BNのターゲ
ットを固定して、その対向面に上記ステンレス円板を配
置して基板とし、真空に減圧した後、Arを導入し2×
10-4Torr(266×10-4Pa)として、13.
56Mzの高周波をターゲットに印加してスパッタを行
った。その際、基板側にも高周波(バイアス電圧)を印
加した。1時間の成膜により1μmの蒸着膜が得られ
た。成膜された薄膜をX線回折により分析した結果、ア
モルファスのcBN膜であった。
(Example 3) A stainless steel disk (180 mmφ x 20 mm thick) similar to that in Example 1 was prepared, and a cBN film was deposited on the outer peripheral surface of this stainless disk by magnetron sputtering. A pedestal for magnetron sputtering is placed in a vacuum container, a target of hexagonal BN is fixed to this pedestal, and the stainless disk is placed on the opposite surface to form a substrate. After depressurizing to vacuum, Ar is introduced. 2 x
As 10 −4 Torr (266 × 10 −4 Pa), 13.
Sputtering was performed by applying a high frequency of 56 Mz to the target. At that time, a high frequency (bias voltage) was also applied to the substrate side. A film having a thickness of 1 μm was obtained by forming the film for 1 hour. As a result of analyzing the formed thin film by X-ray diffraction, it was an amorphous cBN film.

【0055】(実施例4)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面にマグネトロンスパッタ法によりAl23
膜を、膜厚を種々変化させて蒸着した。具体的には、真
空容器内にマグネトロンスパッタの台座に金属Alのタ
ーゲットを固定して、その対向面に上記ステンレス製円
板を配置して基板とし、真空に減圧した後、ArとO2
の混合ガスをAr分圧が2.7×10 -3Torr(35.
9×10-2Pa)になるようにして導入し、直流とパル
ス電圧をターゲットに加え、プラズマを発生させターゲ
ットのスパッタを行った。このAl23膜をX線回折よ
り分析したところ、その結晶形態はγAl23であっ
た。
Example 4 Stainless Steel Same as Example 1
Prepare a circular plate (180 mmφ x 20 mm thickness)
Al on the outer peripheral surface of the disk by magnetron sputtering2O3
Films were deposited with varying thicknesses. Specifically, true
In the empty container, the magnet Al sputter base is made of metal Al.
Of the stainless steel circle on the opposite surface by fixing the target
Arrange the plates into a substrate, reduce the pressure to vacuum, and then add Ar and O.2
Ar partial pressure of the mixed gas of 2.7 × 10 -3Torr (35.
9 x 10-2Pa) and introduce DC, and DC
Voltage is applied to the target to generate plasma and target.
Was sputtered. This Al2O3X-ray diffraction of the film
When analyzed, the crystalline form was γAl2O3And
It was

【0056】(実施例5)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面にマグネトロンスパッタ法によりAl23
膜を蒸着した。具体的には、真空容器内に配置されたマ
グネトロンスパッタ用の台座にAl23のターゲットを
固定して、その対向面に上記ステンレス円板を配置して
基板とし、真空に減圧した後、Arを導入しその圧力が
2×10-4Torr(266×10 -4Pa)となるよう
にして、13.56Mzの高周波をターゲットに印加し
てスパッタを行った。3時間の反応により前記基板上に
1μmのAl23膜を得た。X線回折よりこのAl23
膜の分析を行ったところ、その結晶形態はアモルファス
であった。
(Example 5) Stainless steel similar to Example 1
Prepare a circular plate (180 mmφ x 20 mm thickness)
Al on the outer peripheral surface of the disk by magnetron sputtering2O3
The film was evaporated. Specifically, the machine placed in the vacuum container is
Al on the pedestal for the magnetron sputter2O3The target of
Fix and place the stainless steel disc on the opposite surface.
After decompressing to a vacuum as a substrate, Ar is introduced and the pressure is
2 x 10-FourTorr (266 × 10 -FourPa)
And apply a high frequency of 13.56 Mz to the target.
Was sputtered. On the substrate by reaction for 3 hours
1 μm Al2O3A film was obtained. This Al from X-ray diffraction2O3
When the film was analyzed, its crystalline form was amorphous.
Met.

【0057】(実施例6)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面にアークイオンプレーティング法によりT
iN膜を、膜厚を種々変化させて蒸着した。真空容器内
に金属チタンのターゲットを固定して、上記ステンレス
製円板を配置して基板とし、真空に減圧した後、窒素ガ
スを導入して、10-4Torrに調整した。基板に10
00Vのバイアス電圧をかけて、表面をスパッターして
クリーニングした後、ターゲットに20Vの電圧で15
Aのアーク放電を発生させ、ターゲット表面からTiを
蒸発させた。その際基板に50Vのバイアス電圧をかけ
ることにより、TiN膜を基板表面に蒸着した。蒸着速
度1μm/hrでTiN膜が得られた。X線回折によりT
iNであることを確認した。
(Embodiment 6) A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thickness) similar to that of the embodiment 1 is prepared, and T is formed on the outer peripheral surface of the disc by an arc ion plating method.
The iN film was deposited by changing the film thickness variously. A target of titanium metal was fixed in a vacuum container, the above-mentioned stainless steel disc was placed as a substrate, the pressure was reduced to a vacuum, and then nitrogen gas was introduced to adjust the pressure to 10 -4 Torr. 10 on board
After applying a bias voltage of 00V to sputter and clean the surface, apply 15V to the target with a voltage of 20V.
The arc discharge of A was generated, and Ti was evaporated from the target surface. At that time, a TiN film was deposited on the surface of the substrate by applying a bias voltage of 50 V to the substrate. A TiN film was obtained at a vapor deposition rate of 1 μm / hr. T by X-ray diffraction
It was confirmed to be iN.

【0058】(実施例7)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面にプラズマCVD法によりTiN膜を蒸着
した。500℃に加熱された反応容器に上記ステンレス
製円板を配置して基板とし真空に脱気したのち、アルゴ
ンガスを10-2Torrにして基板に500Wの13.
45MHzの高周波を加えてクリーニングした。その後
水素とアルゴンの混合ガスを加えて1Torrに調整し
た。TiCl4と水素と窒素の混合ガスを加えて(容積
比1:50:5)1Torrに調整しながら基板に300
Wの高周波を加えてプラズマを発生させTiNを蒸着さ
せた。蒸着速度は0.5μ/hrで2時間の蒸着で1μm
のTiN膜が得られた。X線回折によりTiNであるこ
とを確認した。
Example 7 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of Example 1 was prepared, and a TiN film was vapor-deposited on the outer peripheral surface of the disc by plasma CVD. The stainless steel disk is placed in a reaction vessel heated to 500 ° C. to make a substrate, which is then evacuated to a vacuum, and then argon gas is set to 10 −2 Torr.
A high frequency of 45 MHz was added for cleaning. Then, a mixed gas of hydrogen and argon was added to adjust the pressure to 1 Torr. Adding TiCl 4 and a mixed gas of hydrogen and nitrogen (volume ratio 1: 50: 5) to 1 Torr while adjusting the substrate to 300
A high frequency of W was applied to generate plasma to deposit TiN. Vapor deposition rate is 0.5μ / hr and 1μm after vapor deposition for 2 hours.
No TiN film was obtained. It was confirmed to be TiN by X-ray diffraction.

【0059】(実施例8)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面にアークイオンプレーディング法にてTi
C膜を、膜厚を種々変化させて蒸着した。真空容器内に
Tiターゲットを固定し、その対向面に上記ステンレス
製円板を配置して基板とした。次いで、真空に減圧した
後、アセチレンガスを導入して、圧力を10-5Torr
(133×10-5Pa)に調整した。そして、基板に1
000Vのバイアス電圧をかけて、表面をスパッターし
てクリーニングした後、ターゲットに20Vの電圧で1
5Aのアーク放電を発生させ、ターゲット表面からTi
を蒸発させた。その際基板に50Vのバイアス電圧を印
加することにより、TiC膜を基板表面に蒸着した。こ
のTiC膜の蒸着速度は1μm/hrであった。
(Embodiment 8) A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of the first embodiment is prepared, and the outer peripheral surface of this disc is subjected to Ti by an arc ion plating method.
The C film was deposited by changing the film thickness variously. A Ti target was fixed in a vacuum container, and the stainless disk was placed on the opposite surface to form a substrate. Then, after reducing the pressure to vacuum, acetylene gas was introduced to adjust the pressure to 10 −5 Torr.
It was adjusted to (133 × 10 −5 Pa). And 1 on the board
After applying a bias voltage of 000V to sputter and clean the surface, apply 1V to the target with a voltage of 20V.
A 5A arc discharge is generated, and Ti is emitted from the target surface.
Was evaporated. At that time, a TiC film was deposited on the surface of the substrate by applying a bias voltage of 50 V to the substrate. The vapor deposition rate of this TiC film was 1 μm / hr.

【0060】(実施例9)実施例1と同様のステンレス
製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、この
円板の外周面に4フッ化樹脂含浸クロム膜を、膜厚を種
々変化させて形成した。4フッ化樹脂含浸クロム膜は、
素材表面に膜厚50〜70μmのクロムメッキを施した
後、クロムメッキのポーラス処理を行い、190〜21
0℃に加熱してポーラスクロムのクラックの拡大を行
い、4フッ化樹脂を含浸させて−70℃に冷却するとと
もに、ポーラスクロムの封孔処理を行って得ることがで
きる。
(Embodiment 9) A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thickness) similar to that of the embodiment 1 is prepared, and a tetrafluoride resin-impregnated chromium film is formed on the outer peripheral surface of the disc in various thicknesses. Formed. Chromium film impregnated with tetrafluoride resin
After plating the surface of the material with chrome plating with a film thickness of 50 to 70 μm, perform a porous treatment of chrome plating.
It can be obtained by heating to 0 ° C. to expand the cracks of porous chrome, impregnating with a tetrafluororesin, cooling to −70 ° C., and sealing the porous chrome.

【0061】(実施例10)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面にアークイオンプレーティング法によ
り、膜厚を種々変化させてTiAlN膜を蒸着した。具
体的には、真空容器内にTi・Al合金(Ti50%・
Al50%:%は質量%、以下同様)のターゲットを固
定して、その対向面に上記ステンレス製円板を配置して
基板とし、真空に減圧した後、窒素ガスを導入して、1
×10-4Torr(13.3×10-3Pa)に調整し
た。基板に1000Vのバイアス電圧をかけて、表面を
スパッタしてクリーニングした後、ターゲットに20V
の電圧で15Aのアーク放電を発生させ、ターゲット表
面からTiAlを蒸発させた。その際、基板に50Vの
バイアス電圧をかけることにより、蒸着速度1μm/h
rでTiAlN膜を基板表面に蒸着させた。X線回折に
よる格子定数から、このTiAlNの組成は、ほぼター
ゲットの組成に近くTi0.5Al0.5Nの組成であった。
(Embodiment 10) A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thickness) similar to that of the embodiment 1 is prepared, and the outer peripheral surface of the disc is changed to various thicknesses by the arc ion plating method and the TiAlN is changed. The film was evaporated. Specifically, a Ti / Al alloy (Ti50%.
Al 50%:% is% by mass, the same shall apply hereinafter) is fixed, and the stainless disk is placed on the opposite surface to form a substrate. After depressurizing to a vacuum, nitrogen gas is introduced to
The pressure was adjusted to × 10 -4 Torr (13.3 × 10 -3 Pa). After applying a bias voltage of 1000V to the substrate to sputter and clean the surface, apply 20V to the target.
Arc discharge of 15 A was generated at a voltage of 1 to evaporate TiAl from the target surface. At that time, by applying a bias voltage of 50 V to the substrate, the deposition rate is 1 μm / h.
A TiAlN film was deposited on the substrate surface by r. From the lattice constant by X-ray diffraction, the composition of TiAlN was a composition of Ti 0.5 Al 0.5 N, which was close to the composition of the target.

【0062】(実施例11)ターゲットの組成を(Ti
70%・Al30%)とした以外は実施例10と同様に
して、膜厚を種々に変化させてTiAlN膜を蒸着し
た。膜の組成はTi0. 7Al0.3Nであった。
(Embodiment 11) The composition of the target is (Ti
70% Al30%)
Then, the TiAlN film is vapor-deposited by changing the film thickness variously.
It was The composition of the film is Ti0. 7Al0.3It was N.

【0063】(実施例12)ターゲットを2基(Ti5
0%・Al50%とTi70%・Al30%)90度離
して配置した真空容器内に、実施例10と同様なステン
レス製円板を配置し、実施例10と同様にしてTiAl
N膜を蒸着した。その際、まずTi70%・Al30%
のターゲットの方向に基板を配置して1時間、Ti70
%・Al30%のターゲットをアーク放電させ、その後
に基板の向きを変えてTi50%・Al50%のターゲ
ットの方向に配置して1時間、Ti50%・Al50%
のターゲットをアーク放電させた。得られた膜はTi
0.7Al0.3Nが1μm、Ti0.5Al0.5Nが1μmの2
層コーティング膜となった。さらに、膜厚を種々に変化
させる以外は同様にして、ステンレス製円板の外周面に
2層のコーティング膜を形成した。
Example 12 Two targets (Ti5)
0% Al 50% and Ti 70% Al 30%) In a vacuum container placed 90 degrees apart, a stainless steel disc similar to that in Example 10 was placed, and TiAl was placed in the same manner as in Example 10.
An N film was deposited. At that time, first, Ti 70%, Al 30%
Place the substrate in the direction of the target for 1 hour and Ti70
% ・ Al30% target is arc-discharged, then the direction of the substrate is changed and placed in the direction of Ti50% ・ Al50% target for 1 hour, Ti50% ・ Al50%
The target was arc-discharged. The obtained film is Ti
0.7 Al 0.3 N 1 μm, Ti 0.5 Al 0.5 N 1 μm 2
It became a layer coating film. Further, a two-layer coating film was formed on the outer peripheral surface of the stainless steel disc in the same manner except that the film thickness was variously changed.

【0064】(実施例13)ターゲットを2基(Ti5
0%・Al50%とTi70%・Al30%)90度離
して配置した真空容器内に実施例10と同様なステンレ
ス製円板を配置し、実施例10と同様にTiAlN膜を
蒸着した。その際、2基のターゲットを同時にアーク放
電させて、最初はTi70%・Al30%のターゲット
の方向に基板を配置して、その後時間の経過と共にTi
50%・Al50%のターゲットの方向に基板を徐々に
回転させて、最終的にTi50%・Al50%のターゲ
ットの方向になるようにした。2時間の蒸着により、基
板側の組成がTi0.7Al0.3N、表面側の組成がTi
0.5Al0.5Nで厚さ方向に連続的にTiとAlの比率が
変化した厚さ2μmのTiAlN膜を得ることができ
た。さらに、膜厚を種々に変化させる以外は同様にし
て、金型樹脂接触面に厚さ方向に連続的にTiとAlの
比率が変化したTiAlN膜を形成した。
Example 13 Two targets (Ti5)
0% .Al50% and Ti70% .Al30%) A stainless steel disk similar to that used in Example 10 was placed in a vacuum container placed 90 degrees apart, and a TiAlN film was deposited in the same manner as in Example 10. At that time, the two targets were simultaneously arc-discharged, and the substrate was initially arranged in the direction of the targets of Ti 70% and Al 30%, and then, with the passage of time, Ti
The substrate was gradually rotated in the direction of the target of 50% / Al50% so that the direction of the target of Ti50% / Al50% was finally obtained. After vapor deposition for 2 hours, the composition on the substrate side is Ti 0.7 Al 0.3 N and the composition on the surface side is Ti
It was possible to obtain a TiAlN film having a thickness of 2 μm in which the ratio of Ti and Al was continuously changed in the thickness direction with 0.5 Al 0.5 N. Further, a TiAlN film in which the ratio of Ti and Al was continuously changed in the thickness direction was formed on the mold resin contact surface in the same manner except that the film thickness was variously changed.

【0065】(実施例14)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面に実施例8と全く同様の条件でTiC膜
を1μm蒸着した後、このTiC膜上に実施例6と全く
同様の条件でTiN膜を2μm蒸着した。このようにし
て得られた蒸着膜の断面を顕微鏡観察したところ、基板
上にTiC膜/TiN膜の積層膜からなる被覆膜が得ら
れていることが確認された。
Example 14 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that in Example 1 was prepared, and a TiC film was vapor-deposited to 1 μm on the outer peripheral surface of this disc under the same conditions as in Example 8. Thereafter, a TiN film having a thickness of 2 μm was vapor-deposited on the TiC film under the same conditions as in Example 6. Microscopic observation of the cross section of the deposited film thus obtained confirmed that a coating film composed of a laminated film of a TiC film / TiN film was obtained on the substrate.

【0066】(実施例15)実施例14と全く同じ条件
でコーティングの順番をかえてステンレス製円板の外周
面に、1μmのTiN膜上に2μmのTiC膜を積層し
た。
(Example 15) The coating order was changed under exactly the same conditions as in Example 14, and a 2 µm TiC film was laminated on a 1 µm TiN film on the outer peripheral surface of a stainless steel disk.

【0067】(実施例16)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面に実施例6と全く同様の条件でTiN膜
を蒸着した後、実施例4と全く同様の条件でAl23
を蒸着した。ステンレス製円板側面上に形成された膜の
断面の顕微鏡写真より、円板外側面にTiN膜が2μm
形成され、このTiN膜上にγAl23からなるAl2
3膜が1μm積層されていることが確認された。
Example 16 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of Example 1 was prepared, and a TiN film was vapor-deposited on the outer peripheral surface of this disc under the same conditions as in Example 6. The Al 2 O 3 film was deposited under the same conditions as in Example 4. From the micrograph of the cross section of the film formed on the side surface of the stainless steel disk, the TiN film is 2 μm on the outer surface of the disk.
Al 2 O 3 formed on the TiN film and made of γAl 2 O 3.
It was confirmed that the O 3 film was laminated in a thickness of 1 μm.

【0068】(実施例17)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面に実施例10と全く同様の条件でTiA
lN膜を蒸着した後、実施例4と全く同様の条件でAl
23膜を蒸着した。このようにして得られた蒸着膜を分
析したところ、Ti0.5Al0.5N膜が2μm形成され、
このTiAlN膜上にγAl23からなるAl23膜が
1μm積層されていることが確認された。
Example 17 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of Example 1 was prepared, and TiA was formed on the outer peripheral surface of this disc under the same conditions as in Example 10.
After depositing the 1N film, Al under the same conditions as in Example 4.
A 2 O 3 film was deposited. Analysis of the deposited film thus obtained revealed that a Ti 0.5 Al 0.5 N film of 2 μm was formed.
It was confirmed that an Al 2 O 3 film made of γAl 2 O 3 was laminated on this TiAlN film by 1 μm.

【0069】(実施例18)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面に実施例2と全く同様の条件でcBN膜
を蒸着した後、実施例4と全く同様の条件でAl23
を蒸着した。得られた蒸着膜を分析したところ、cBN
膜が1μmの厚さで形成され、このcBN膜上にγAl
23からなるAl23膜が1μm積層されていることが
確認された。
Example 18 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that of Example 1 was prepared, and a cBN film was vapor-deposited on the outer peripheral surface of this disc under the same conditions as in Example 2. The Al 2 O 3 film was deposited under the same conditions as in Example 4. Analysis of the obtained vapor deposition film revealed that cBN
A film is formed with a thickness of 1 μm, and γAl is formed on this cBN film.
The Al 2 O 3 film consisting 2 O 3 was confirmed to have been 1μm stacked.

【0070】(実施例19)実施例1と同様のステンレ
ス製円板(180mmφ×20mm厚み)を用意し、こ
の円板の外周面に実施例14と全く同様の条件でTiC
−TiNの2層膜を蒸着した後、実施例4と全く同様の
条件でAl23膜を蒸着した。このようにして得られた
蒸着膜を上記と同様に断面観察したところ、TiC1μ
m−TiN1μm−γAl231μmの3層膜であるこ
とが確認された。
Example 19 A stainless steel disc (180 mmφ × 20 mm thick) similar to that in Example 1 was prepared, and TiC was formed on the outer peripheral surface of this disc under the same conditions as in Example 14.
After depositing a two-layer film of —TiN, an Al 2 O 3 film was deposited under the same conditions as in Example 4. When the cross-section of the vapor-deposited film thus obtained was observed in the same manner as above, TiC was 1 μm.
It was confirmed to be a three-layer film of m-TiN 1 μm-γAl 2 O 3 1 μm.

【0071】(実施例20)内周径が120mmで外周
径が165mmのステンレス製の円環体を用意した。上
記実施例1ないし実施例19で基板として用いたステン
レス製円板のかわりにこの円環体を基板として用いた以
外は全く同様にして、この円環体の内周面に、膜厚を種
々に変化させて実施例1ないし実施例19と同様の被覆
層をそれぞれ形成した。
Example 20 A stainless steel annular body having an inner diameter of 120 mm and an outer diameter of 165 mm was prepared. Except that this torus was used as the substrate instead of the stainless disk used as the substrate in Examples 1 to 19 above, the film thickness was varied on the inner peripheral surface of this torus. And the same coating layers as in Examples 1 to 19 were formed.

【0072】(実施例21)上記実施例1〜19にて作
成された各ステンレス製円板を、スタンパーに対向する
面にその鏡面が製品キャビティを向くように配置し、そ
の被覆層が突き当て外周リング内で摺動可能なように嵌
合させることにより、金型装置に装着して射出成形を行
った。30万ショット後のステンレス製円板と円環体と
の摺動面の状態を目視観察した結果を表1および表2に
示す。
(Embodiment 21) Each of the stainless steel discs prepared in the above Embodiments 1 to 19 is placed on the surface facing the stamper so that its mirror surface faces the product cavity, and its coating layer is abutted. By fitting it so as to be slidable in the outer peripheral ring, it was mounted on a mold device and injection-molded. Tables 1 and 2 show the results of visual observation of the state of the sliding surface between the stainless steel disc and the torus after 300,000 shots.

【0073】(実施例22)実施例20によって作成さ
れた各円環体を、コアブロックの突き当て外周リングと
して、その被覆層がコアブロックと摺動するように金型
装置に装着して射出成形を行った。30万ショット後の
コアブロックと円環体との摺動面の状態を目視観察した
結果を表3および表4に示す。
(Embodiment 22) Each annular body prepared in Embodiment 20 is used as an abutting outer ring of a core block and mounted on a mold device so that its coating layer slides on the core block and is injected. Molded. Tables 3 and 4 show the results of visual observation of the state of the sliding surface between the core block and the torus after 300,000 shots.

【0074】(実施例23)上記実施例1ないし実施例
19で被覆層が形成されたステンレス製円板を用意し、
これらをスタンパーに対向する面にその鏡面が製品キャ
ビティを向くように配置した。また、これらをそれぞれ
実施例20で被覆層が形成された円環体の内周に嵌合さ
せて、互いの被覆層どうしで摺動可能なようにそれぞれ
金型装置に装着して射出成形を行った。40万ショット
後の円板と円環体との摺動面の状態を目視観察した結果
を表5に示す。
(Example 23) A stainless disk having a coating layer formed thereon in Examples 1 to 19 was prepared.
These were arranged on the surface facing the stamper so that the mirror surface thereof faces the product cavity. In addition, these were fitted to the inner circumference of the annular body on which the coating layer was formed in Example 20, respectively, and mounted on the mold device so that the coating layers could slide with respect to each other, and injection molding was performed. went. Table 5 shows the results of visual observation of the state of the sliding surface between the disc and the torus after 400,000 shots.

【0075】[0075]

【表1】 [Table 1]

【0076】[0076]

【表2】 [Table 2]

【0077】[0077]

【表3】 [Table 3]

【0078】[0078]

【表4】 [Table 4]

【0079】[0079]

【表5】 [Table 5]

【0080】表1および表2に示すように、コアブロッ
クの外周面または外周リングの内周面に被覆層が形成さ
れた本発明の要件を満たす金型は、30万ショット後に
もコアブロックと外周リングとの摺動面の傷や変色等は
見られず、極めて良好な耐久性を備えることが確認され
た。また表3および表4に示したように、コアブロック
の外周面と、外周リングの内周面との両方に被覆層形成
された本発明の要件を満たす金型は、40万ショット後
にもコアブロックと外周リングとの摺動面の傷や変色等
は見られず、極めて良好な耐久性を備えることが確認さ
れた。さらに、表5に示したようにコアブロックの外周
面の被覆層と、外周リングの内周面の被覆層とが、同材
質であった場合には、摺動面に若干の変色が見られた。
As shown in Tables 1 and 2, the mold having the coating layer formed on the outer peripheral surface of the core block or the inner peripheral surface of the outer peripheral ring satisfies the requirements of the present invention. It was confirmed that the sliding surface with the outer peripheral ring had no scratches or discoloration, and that it had extremely good durability. Further, as shown in Tables 3 and 4, a mold satisfying the requirements of the present invention in which a coating layer is formed on both the outer peripheral surface of the core block and the inner peripheral surface of the outer peripheral ring is a core that can be used even after 400,000 shots. It was confirmed that the sliding surface between the block and the outer peripheral ring was not scratched or discolored, and had extremely good durability. Further, as shown in Table 5, when the coating layer on the outer peripheral surface of the core block and the coating layer on the inner peripheral surface of the outer peripheral ring are made of the same material, a slight discoloration is observed on the sliding surface. It was

【0081】[0081]

【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明の
光ディスク成形用金型装置は、型体の外周面または外周
リングの内周面の少なくとも一方に被覆層を設けたこと
で、溶融樹脂に同伴されて製品キャビティ内に導入され
るガス成分に起因する型体と外周リングとの摺動面の腐
食を防止することができるので、腐食による金型のダレ
や微細な傷を低減させ、傷やバリの無い高品質の光ディ
スクが製造可能な金型装置を提供することができる。ま
た、腐食による金型表面の荒れを防止することができる
ので、金型装置の寿命を延ばすことができる。さらに被
覆層は高硬度、耐摩耗性、自己潤滑性を有するものであ
るので、型体と外周面との摺動をよりスムーズにし、こ
れによっても耐久性に優れた金型とするとができる。
As described above in detail, in the optical disk molding die device of the present invention, since the coating layer is provided on at least one of the outer peripheral surface of the mold body and the inner peripheral surface of the outer peripheral ring, the melting is achieved. Since it is possible to prevent corrosion of the sliding surface between the mold and the outer peripheral ring due to the gas components that are entrained in the resin and introduced into the product cavity, it is possible to reduce mold sagging and minute scratches due to corrosion. Thus, it is possible to provide a mold apparatus capable of manufacturing a high-quality optical disc free from scratches and burrs. Further, since it is possible to prevent the mold surface from being roughened due to corrosion, it is possible to extend the life of the mold device. Further, since the coating layer has high hardness, wear resistance, and self-lubricating property, sliding between the mold body and the outer peripheral surface can be made smoother, and thereby a mold having excellent durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 図1は、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置の断面構成図である。
FIG. 1 is a cross-sectional configuration diagram of an optical disk molding die device according to the present invention.

【図2】 図2は、本発明に係る光ディスク成形用金型
装置に備えられたガイドピン及びガイドピン受けの断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a guide pin and a guide pin receiver provided in the optical disk molding die apparatus according to the present invention.

【図3】 図3は、図1に示す金型装置の固定型の平面
図である。
FIG. 3 is a plan view of a fixed mold of the mold device shown in FIG.

【図4】 図4は、図1に示す金型装置のゲート付近の
拡大断面図である。
FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view near the gate of the mold device shown in FIG.

【図5】 図5は、図1に示す金型装置の製品キャビテ
ィ外周部の拡大断面図である。
5 is an enlarged cross-sectional view of an outer peripheral portion of a product cavity of the mold device shown in FIG.

【図6】 図6は、図1に示す金型装置の製品キャビテ
ィ外周部の他の実施の態様を示した拡大断面図である。
6 is an enlarged cross-sectional view showing another embodiment of the outer peripheral portion of the product cavity of the mold apparatus shown in FIG.

【図7】 図7は、本発明に係る金型装置により作製さ
れる光ディスクの一例を示す部分断面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing an example of an optical disc manufactured by the mold device according to the present invention.

【図8】 図8は、図7に示す光ディスクを製造するた
めの金型装置の構成を示す断面構成図である。
8 is a sectional configuration diagram showing a configuration of a mold device for manufacturing the optical disc shown in FIG.

【図9】 図9は、光ディスク成形用金型の一例を示す
部分断面図である。
FIG. 9 is a partial cross-sectional view showing an example of an optical disk molding die.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…固定型(第1の型体) 2 可動型(第2の型体) 3 製品キャビティ 17a スタンパー支持面 19 固定側位置決めリング 21 テーパー面 22 ガイドピン(案内部材) 36 スタンパー 38 凹部 46 コアブロック 46a 外周面 48 可動側位置決めリング(位置決め部材) 50 テーパー面 58 ガイドピン受け(案内部材) 66 段部 67 突き当て外周リング 67a 内周面 71 被覆層 71a 被覆層 71b 被覆層 86 ゲートカットスリーブ(ゲートカット部材) 1 ... Fixed type (first type body) 2 movable type (second type body) 3 product cavity 17a Stamper support surface 19 Fixed side positioning ring 21 Tapered surface 22 Guide pin (guide member) 36 stamper 38 recess 46 core blocks 46a outer peripheral surface 48 Movable side positioning ring (positioning member) 50 taper surface 58 Guide pin receiver (guide member) 66 steps 67 Abutment outer ring 67a inner peripheral surface 71 coating layer 71a coating layer 71b coating layer 86 Gate cut sleeve (gate cut member)

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 射出成形により光ディスクを成形するた
めのキャビティ空間を画定する第1の型体及び第2の型
体とが備えられ、前記第1の型体又は第2の型体の一方
に光ディスクの片側表面に凹凸を形成するスタンパーが
備えられ、前記第1の型体又は第2の型体の他方の樹脂
接触面が光ディスクの逆側表面を平滑にする鏡面とさ
れ、この鏡面を備えた前記第1の型体又は第2の型体の
外周面が前記型体の開閉方向に摺動自在に嵌合された外
周リングが備えられてなる光ディスク成形用金型装置で
あって、 前記外周リングの内周面と、前記鏡面を有する第1の型
体又は第2の型体の外周面との少なくとも一方に被覆層
が形成されていることを特徴とする光ディスク成形用金
型装置。
1. A first mold body and a second mold body that define a cavity space for molding an optical disk by injection molding are provided, and one of the first mold body and the second mold body is provided. A stamper for forming irregularities is provided on one side surface of the optical disk, and the resin contact surface of the other of the first mold body and the second mold body is a mirror surface that smoothes the opposite surface of the optical disk. An optical disk molding die apparatus comprising an outer peripheral ring in which an outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body is slidably fitted in an opening / closing direction of the mold body, A mold device for optical disk molding, wherein a coating layer is formed on at least one of the inner peripheral surface of the outer peripheral ring and the outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having the mirror surface.
【請求項2】 前記外周リングの内周面と、前記鏡面を
有する第1の型体又は第2の型体の外周面との両方に被
覆層が形成され、かつ前記被覆層が互いに異材質からな
ることを特徴とする請求項1に記載の光ディスク成形用
金型装置。
2. A coating layer is formed on both the inner peripheral surface of the outer peripheral ring and the outer peripheral surface of the first mold body or the second mold body having the mirror surface, and the coating layers are made of different materials. The mold device for optical disk molding according to claim 1, wherein the mold device comprises:
【請求項3】 前記被覆層が、Al23膜、TiN膜、
CrN膜、AlN膜、Si34膜、SiC膜、TiC
膜、TiAlN膜、TiCrN膜、cBN膜、DLC
膜、4フッ化樹脂含浸クロム膜から選ばれる少なくとも
1種以上からなることを特徴とする請求項1または請求
項2に記載の光ディスク成形用金型装置。
3. The coating layer is an Al 2 O 3 film, a TiN film,
CrN film, AlN film, Si 3 N 4 film, SiC film, TiC
Film, TiAlN film, TiCrN film, cBN film, DLC
The mold device for optical disk molding according to claim 1 or 2, comprising at least one selected from a film and a fluorinated resin-impregnated chromium film.
【請求項4】 前記4フッ化樹脂含浸クロム膜を除いた
いずれかの膜からなる被覆層の膜厚が0.2μm〜5μ
mの範囲とされたことを特徴とする請求項3に記載の光
ディスク成形用金型装置。
4. The film thickness of the coating layer formed of any film excluding the tetrafluororesin-impregnated chromium film is 0.2 μm to 5 μm.
The mold apparatus for optical disk molding according to claim 3, wherein the range is m.
【請求項5】 前記4フッ化樹脂含有クロム膜からなる
被覆層の膜厚が40〜80μmの範囲とされたことを特
徴とする請求項3に記載の光ディスク成形用金型装置。
5. The optical disk molding die apparatus according to claim 3, wherein the coating layer made of the tetrafluororesin-containing chromium film has a thickness in the range of 40 to 80 μm.
【請求項6】 前記スタンパーを支持するスタンパー支
持面を有する第1の型体又は第2の型体に、スタンパー
の裏面側を排気してスタンパーを固定する真空チャック
機構が備えられたことを特徴する請求項1ないし5のい
ずれか1項に記載の光ディスク成形用金型装置。
6. The first mold body or the second mold body having a stamper supporting surface for supporting the stamper is provided with a vacuum chuck mechanism for exhausting the back side of the stamper to fix the stamper. The mold device for optical disk molding according to any one of claims 1 to 5.
【請求項7】 前記スタンパー支持面を有する型体に、
スタンパーの内端部を固定するための爪部が形成された
ことを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記
載の光ディスク成形用金型装置。
7. A mold body having the stamper supporting surface,
7. The optical disk molding die apparatus according to claim 1, further comprising a claw portion for fixing an inner end portion of the stamper.
【請求項8】 前記第1の型体及び第2の型体の対向す
る面に設けられ、型閉時にテーパー嵌合するテーパー面
が形成された位置決め部材と、前記第1の型体及び第2
の型体のうち一方に設けられたガイドピンと、他方の型
体の前記ガイドピンと対向する位置に設けられ、前記ガ
イドピンが前記型体の開閉方向へ摺動自在に嵌合される
ガイドピン受けとを備える案内部材と、 を備えたことを特徴とする請求項1ないし7のいずれか
1項に記載の光ディスク成形用金型装置。
8. A positioning member provided on opposing surfaces of the first mold body and the second mold body, and having a tapered surface for taper fitting when the mold is closed, and the first mold body and the first mold body. Two
Guide pin provided on one of the mold bodies and a guide pin on the other mold body, the guide pin being slidably fitted in the opening / closing direction of the mold body. A mold member for optical disk molding according to any one of claims 1 to 7, further comprising: a guide member provided with.
JP2002129348A 2002-04-30 2002-04-30 Mold assembly for molding optical disk Abandoned JP2003320552A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002129348A JP2003320552A (en) 2002-04-30 2002-04-30 Mold assembly for molding optical disk

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002129348A JP2003320552A (en) 2002-04-30 2002-04-30 Mold assembly for molding optical disk

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003320552A true JP2003320552A (en) 2003-11-11

Family

ID=29542807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002129348A Abandoned JP2003320552A (en) 2002-04-30 2002-04-30 Mold assembly for molding optical disk

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003320552A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005343065A (en) * 2004-06-04 2005-12-15 Nsk Ltd Sealing ring molding mold and sealing ring
JP2006028603A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Ricoh Co Ltd Mold for molding, mold for molding optical disk substrate, metallic shaft, metallic bearing, and compound metallic material, and method for manufacturing compound metallic material
JP2006188059A (en) * 2005-01-06 2006-07-20 Awm Mold Tech Ag Injection molding tool for manufacturing disc-like information medium
WO2006123703A1 (en) * 2005-05-19 2006-11-23 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Mold for forming disc, method for manufacture same and mold parts
JP2007176111A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Canon Electronics Inc Mold opening and closing mechanism
CN100370060C (en) * 2004-06-07 2008-02-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Mold with super hard coating
CN1775701B (en) * 2004-11-16 2010-05-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Mould core with superhard coating
JP2012254630A (en) * 2011-06-03 2012-12-27 Krones Ag Stretch blow molding apparatus for plastic material preform, stretch blow molding plant, and use of ceramic component
KR101536763B1 (en) * 2013-11-04 2015-07-16 (주)아모레퍼시픽 A Coating Unit for Prevention of Corrosion in a Mold
JP2016185663A (en) * 2015-03-27 2016-10-27 富士フイルム株式会社 Reel component die, method for manufacturing reel component and method for manufacturing reel

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005343065A (en) * 2004-06-04 2005-12-15 Nsk Ltd Sealing ring molding mold and sealing ring
CN100370060C (en) * 2004-06-07 2008-02-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Mold with super hard coating
JP2006028603A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Ricoh Co Ltd Mold for molding, mold for molding optical disk substrate, metallic shaft, metallic bearing, and compound metallic material, and method for manufacturing compound metallic material
CN1775701B (en) * 2004-11-16 2010-05-26 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 Mould core with superhard coating
JP2006188059A (en) * 2005-01-06 2006-07-20 Awm Mold Tech Ag Injection molding tool for manufacturing disc-like information medium
WO2006123703A1 (en) * 2005-05-19 2006-11-23 Sumitomo Heavy Industries, Ltd. Mold for forming disc, method for manufacture same and mold parts
JPWO2006123703A1 (en) * 2005-05-19 2008-12-25 住友重機械工業株式会社 DISC MOLD, ITS MANUFACTURING METHOD, AND MOLD PARTS
JP2007176111A (en) * 2005-12-28 2007-07-12 Canon Electronics Inc Mold opening and closing mechanism
JP2012254630A (en) * 2011-06-03 2012-12-27 Krones Ag Stretch blow molding apparatus for plastic material preform, stretch blow molding plant, and use of ceramic component
KR101536763B1 (en) * 2013-11-04 2015-07-16 (주)아모레퍼시픽 A Coating Unit for Prevention of Corrosion in a Mold
JP2016185663A (en) * 2015-03-27 2016-10-27 富士フイルム株式会社 Reel component die, method for manufacturing reel component and method for manufacturing reel
US10071516B2 (en) 2015-03-27 2018-09-11 Fujifilm Corporation Mold for manufacturing reel component member, method of manufacturing reel component member, and method of manufacturing reel

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100383750B1 (en) Resin molding mold and method of forming hard coat on resin molding mold
JP2003320552A (en) Mold assembly for molding optical disk
JPS6245015B2 (en)
JP4827204B2 (en) Coated mold for plastic working and manufacturing method thereof
JP4223537B2 (en) Mold for molding disk substrate, mirror plate thereof, method for molding disk substrate, and disk substrate
EP1750919A2 (en) Coating with hard wear and non-stick characteristics
JP2002079522A (en) Die for molding disk substrate and die for molding resin
JP3695400B2 (en) Mold device for optical disc molding
JP2003136564A (en) Mold assembly for molding optical disc
JP2003141784A (en) Mold device for molding optical disk
JP2003225928A (en) Mold device for molding optical disk
JP7180596B2 (en) Optical recording medium and manufacturing method thereof
JP2008183765A (en) Molding die for disc substrate, molding method of disc substrate and disc substrate
JP2003136540A (en) Mold device for molding optical disk
JP2000254923A (en) Mold for resin and method for forming hard coating film to mold for resin
JP2003141783A (en) Mold device for molding optical disk
KR100566147B1 (en) Injection molding equipment, component member used for the same, and surface treatment method
JP2008183765A5 (en)
JP2003225926A (en) Mold device for molding optical disk
JP2005238792A (en) Stamper for optical disk molding
JP2003225927A (en) Molding device for molding optical disk
JP2003154549A (en) Die device for molding optical disk
US7220116B2 (en) Injection moulding mould part with wear-resistant coating
US20040211221A1 (en) Mold for press-molding glass optical articles and method for making the mold
JP2005193630A (en) Mold for molding optical disk

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20050324

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A762 Written abandonment of application

Effective date: 20061013

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061024