JP2003317545A - Surface coated conductive particle, connecting member for circuit using the same, connecting method, and connecting structure - Google Patents

Surface coated conductive particle, connecting member for circuit using the same, connecting method, and connecting structure

Info

Publication number
JP2003317545A
JP2003317545A JP2002126548A JP2002126548A JP2003317545A JP 2003317545 A JP2003317545 A JP 2003317545A JP 2002126548 A JP2002126548 A JP 2002126548A JP 2002126548 A JP2002126548 A JP 2002126548A JP 2003317545 A JP2003317545 A JP 2003317545A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
circuit
coated
conductive particles
electrodes
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002126548A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4032345B2 (en
Inventor
Masami Yusa
正己 湯佐
Yasuo Miyadera
康夫 宮寺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2002126548A priority Critical patent/JP4032345B2/en
Publication of JP2003317545A publication Critical patent/JP2003317545A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4032345B2 publication Critical patent/JP4032345B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide surface coated conductive particles, by which an electrical insulating property in the electrode interval direction does not deteriorate, the connection resistance in the connection direction of the electrodes is made lower, and a superior connection reliability is obtained, while the number of required conductive particles is secured even if an interval between electrodes and the electrode width become very small, and to provide a connecting member for circuit using the same, a connecting method, and a connecting structure. <P>SOLUTION: In the surface coated conductive particle, the surface of the conductive particle is coated with a composition including polyphthalide expressed by formula (I). The connecting member for circuit comprises an insulating adhesive having fluidity by heating and a coated particle where the surface of the conductive particle is coated with an insulating material, and the coated particle is the surface coated conductive particle. In formula (I), R is a bivalent aromatic hydrocarbon group or a bivalent heterocyclic ring aromatic group; R<SB>1</SB>, which may be plural (2-4), is hydrogen, an alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxy group or halogen; X represents O or N-R<SB>3</SB>(R<SB>3</SB>represents the following group); Y represents SO<SB>2</SB>or CO; n represents the number of repeating unit of a polymer. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、感圧導電ポリマ
(ポリフタリド)を含む組成物で導電性粒子表面を被覆
した表面被覆導電性粒子に関し、それを用いた回路用接
続部材、回路接続方法、回路接続構造体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to surface-coated conductive particles whose surfaces are coated with a composition containing a pressure-sensitive conductive polymer (polyphthalide), and a circuit connecting member and a circuit connecting method using the same. The present invention relates to a circuit connection structure.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶ディスプレイとTCP又はF
PCとTCPとの接続、FPCとプリント配線板との接
続には接着剤中に導電性粒子を分散させた異方導電性接
着剤が使用されている。また、最近では、半導体シリコ
ンチップを基板に実装する場合でも、従来のワイヤーボ
ンドではなく、半導体シリコンチップをフェイスダウン
で基板に直接実装するいわゆるフリップチップ実装が行
われており、ここでも異方導電性接着剤の適用が開始さ
れている(特開昭59−120436号、特開昭60−
191228号、特開平1−251787号、特開平7
−90237号公報)。
2. Description of the Related Art Conventionally, a liquid crystal display and a TCP or F
An anisotropic conductive adhesive in which conductive particles are dispersed in an adhesive is used for the connection between the PC and the TCP and the connection between the FPC and the printed wiring board. In recent years, even when a semiconductor silicon chip is mounted on a substrate, so-called flip chip mounting, in which the semiconductor silicon chip is directly mounted on the substrate face down instead of conventional wire bonding, has been performed. Application of a water-soluble adhesive has been started (JP-A-59-120436 and JP-A-60-120436).
191228, JP-A-1-251787, JP-A-7
-90237).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】近年、電子機器の小型
化、薄型化に伴い、回路の高密度化が進んでおり、電極
の間隔や電極幅が非常に狭くなっている。また、半導体
チップの接続に関して接続に用いられるバンプが小さく
なりバンプ間も非常に狭くなってきている。一般に導電
性粒子を含む接着剤を使用して、相対向する回路を接続
する場合、接続抵抗を小さくするためには、回路または
バンプ上には導電性粒子が3個以上好ましくは5個以上
あることが必要である。しかしながら、回路間の幅やバ
ンプ間の間隔が狭くなった場合には、回路上に必要数の
導電性粒子を配置するために、接着剤中に含まれる導電
性粒子数を多くする必要があるが、回路間に存在する導
電性粒子数も増えてしまうために、絶縁性が低下する問
題がある。このような問題を解決するために、導電性粒
子の周りを絶縁性樹脂で被覆して粒子同士が回路間で接
触しても絶縁性が保たれるような工夫がなされている
(特開昭62-40183号公報)。しかしながら、こ
れらの導電性粒子を絶縁樹脂で被覆する方法では完全に
被覆することが困難で、導電性部分が露出しているため
回路スペース間が狭くなったときに絶縁性の確保が困難
になっている。これを克服するために被覆する絶縁樹脂
層の厚さを厚くすると回路スペース間の絶縁性は確保さ
れるが接続抵抗が高くなる問題点がある。本発明は、電
子機器の小型化、薄型化に伴う回路の高密度化による電
極の間隔や電極幅が非常に狭くなっても必要な導電性粒
子数を確保し、電極の間隔方向の絶縁性の低下がなく、
電極の接続方向の接続抵抗が低く、しかも接続信頼性に
優れる表面被覆導電性粒子、それを用いた回路用接続部
材、接続方法及び接続構造体を提供することを目的とす
る。
In recent years, as electronic devices have become smaller and thinner, the density of circuits has been increasing, and the distance between electrodes and the width of electrodes have become extremely narrow. Further, regarding the connection of the semiconductor chips, the bumps used for the connection are becoming smaller and the gap between the bumps is becoming very narrow. Generally, when connecting opposing circuits using an adhesive containing conductive particles, in order to reduce the connection resistance, there are three or more, preferably five or more, conductive particles on the circuit or bump. It is necessary. However, when the width between the circuits and the interval between the bumps are reduced, it is necessary to increase the number of the conductive particles contained in the adhesive in order to arrange the required number of the conductive particles on the circuit. However, since the number of conductive particles existing between the circuits also increases, there is a problem that the insulating property is reduced. In order to solve such a problem, a technique has been devised so that the conductive particles are covered with an insulating resin so that the insulating property is maintained even when the particles come into contact with each other between circuits (Japanese Patent Application Laid-Open No. No. 62-40183). However, it is difficult to completely cover these conductive particles with an insulating resin, and it is difficult to secure insulation when the space between circuit spaces becomes narrow because the conductive portions are exposed. ing. To overcome this, if the thickness of the insulating resin layer to be coated is increased, insulation between circuit spaces is ensured, but there is a problem that connection resistance increases. The present invention secures the necessary number of conductive particles even if the electrode spacing and electrode width become extremely narrow due to the high density of the circuit accompanying the miniaturization and thinning of electronic devices, and the insulating property in the electrode spacing direction. Without a drop in
An object of the present invention is to provide a surface-coated conductive particle having a low connection resistance in a connection direction of an electrode and having excellent connection reliability, a circuit connection member using the same, a connection method, and a connection structure.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、以上のよ
うな状況で導電性粒子の周辺を効率よく被覆する方法を
検討した結果、式(1)で表されるポリフタリドを含む
組成物で処理することで、接続部の接続抵抗と回路スペ
ース間の絶縁性とが両立できることがわかり、本発明に
いたった。本発明は、[1]感圧導電ポリマを含む組成
物で導電性粒子表面を被覆した表面被覆導電性粒子であ
る。また、本発明は、[2]感圧導電ポリマが、式
(1)で表されるポリフタリドである請求項1に記載の
表面被覆導電性粒子である。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have studied a method for efficiently coating the periphery of conductive particles in the above situation, and as a result, have found that a composition containing a polyphthalide represented by the formula (1) is obtained. It has been found that, by performing the treatment described above, the connection resistance of the connection portion and the insulation between the circuit spaces can be compatible, and the present invention has been achieved. The present invention is a surface-coated conductive particle in which the surface of a conductive particle is coated with a composition containing [1] a pressure-sensitive conductive polymer. Further, the present invention is the surface-coated conductive particles according to claim 1, wherein the pressure-sensitive conductive polymer [2] is a polyphthalide represented by the formula (1).

【0005】[0005]

【化3】 (式(1)中、Rは、二価の芳香族炭化水素基または二
価の複素環含有芳香族基を示し、Rは、水素、アルキ
ル基、フッ素化アルキル基、アルコキシ基またはハロゲ
ンで、これは複数個(2〜4個)であってもよく、X
は、OまたはN−R (但し、Rは次ぎの基を示
す。)を示し、Yは、SOまたはCOを示し、nはポ
リマの繰り返し単位の数を示す。)
Embedded image (In the formula (1), R represents a divalent aromatic hydrocarbon group or
A divalent heterocyclic-containing aromatic group;1Is hydrogen, alk
Group, fluorinated alkyl group, alkoxy group or halogen
This may be a plurality (2-4), and X
Is O or NR 3(However, R3Indicates the next group
You. ) And Y is SO2Or CO and n is
Indicates the number of repeating units in Lima. )

【化4】 また、本発明は、[3] 加熱により流動性を有する絶
縁性接着剤と、導電性粒子の表面を絶縁性物質で覆った
被覆粒子からなる回路用接続部材において、前記被覆粒
子は上記[1]または[2]に記載の表面被覆導電性粒
子である回路用接続部材である。また、本発明は、
[4] 回路用接続部材を相対向する回路電極を有する
基板間に介在させ、相対向する回路電極を有する基板を
加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続する接続方法
であって、前記回路接続用部材が上記[3]に記載の回
路接続用部材である回路接続方法である。また、本発明
は、[5] 回路用接続部材を相対向する回路電極を有
する基板間に介在させ、相対向する回路電極を有する基
板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続した接続
構造体であって、前記回路用接続部材が上記[3]に記
載の回路接続用部材である回路接続構造体である。
Embedded image The present invention also provides [3] a circuit connecting member comprising an insulating adhesive having fluidity upon heating and a coated particle in which the surface of a conductive particle is covered with an insulating substance. ] Or a circuit-connecting member which is the surface-coated conductive particles according to [2]. Also, the present invention
[4] A connection method in which a circuit connecting member is interposed between substrates having opposing circuit electrodes, and the substrate having opposing circuit electrodes is pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. A circuit connection method in which the circuit connection member is the circuit connection member according to the above [3]. In addition, the present invention provides [5] a circuit connecting member interposed between substrates having opposing circuit electrodes, and pressurizing the substrate having opposing circuit electrodes to electrically connect the electrodes in the pressing direction. In this connection structure, the circuit connection member is the circuit connection member according to the above [3].

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明で用いる感圧導電ポリマ
は、具体的には、式(I)のポリフタリドが好ましく、
これについて説明する。式(I)で示したポリフタリド
(以下総称してポリフタリドという)は厚みが10nm
〜50000nm程度の厚みのときに、厚み方向に圧力
を加えると、厚み方向の電気抵抗が大きく変化し導電性
を発揮する特徴(感圧導電性)が最近見出された。この
ときの圧力は電極形状などの影響を受けるので一概に言
えないが、4.9KPa(0.05kg/cm)以上
と比較的低圧で相対的に加圧前後で、厚さ方向の電気抵
抗が6桁以上の変化(通常は、大気圧で絶縁性を示し、
加圧すると導電性を示す。)を発現させることが可能と
なる。ここで、電気抵抗が6桁以上の変化とは、所定電
圧の印加条件で測定するとき加圧前後で電気抵抗(又は
電流)の変化が6桁以上になることを意味する。更に具
体的には、所定電圧での電流値が10-12Aのオーダー
(絶縁物)から10-6Aオーダー以上の導電性物質に変
化することを意味する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The pressure-sensitive conductive polymer used in the present invention is specifically preferably a polyphthalide of the formula (I),
This will be described. The polyphthalide represented by the formula (I) (hereinafter collectively referred to as polyphthalide) has a thickness of 10 nm.
When a pressure is applied in the thickness direction when the thickness is about 50,000 nm, a characteristic (pressure-sensitive conductivity) in which the electrical resistance in the thickness direction changes greatly to exhibit conductivity has recently been found. Since the pressure at this time is affected by the shape of the electrodes and the like, it cannot be said unconditionally. However, the pressure is relatively low at 4.9 KPa (0.05 kg / cm 2 ) or more, and the pressure is relatively low before and after the pressure. Is more than 6 orders of magnitude (usually shows insulation at atmospheric pressure,
Shows conductivity when pressurized. ) Can be expressed. Here, the change of the electric resistance by 6 digits or more means that the change of the electric resistance (or current) before and after the pressurization becomes 6 digits or more when measured under a predetermined voltage application condition. More specifically, it means that the current value at a predetermined voltage changes from an order of 10 -12 A (insulator) to a conductive material of the order of 10 -6 A or more.

【0007】式(I)中のR(二価の芳香族炭化水素基
又は二価の複素環含有芳香族基)としては、次の基など
が挙げられる。
[0007] Examples of R (a divalent aromatic hydrocarbon group or a divalent heterocyclic-containing aromatic group) in the formula (I) include the following groups.

【化5】 Embedded image

【0008】ここで、R2は、前記R1と同様で水素、
アルキル基、フッ素化アルキル基、アルコキシ基又はハ
ロゲン(フッ素や塩素など)で、これは複数個(2〜4
個)であってもよい。また、Ar1は、次の基などであ
る。
Here, R 2 is the same as R 1 described above, and hydrogen,
An alkyl group, a fluorinated alkyl group, an alkoxy group, or a halogen (such as fluorine or chlorine);
Number). Ar 1 is the following groups.

【化6】 Embedded image

【0009】また、Ar2は、次の基などである。Ar 2 includes the following groups.

【化7】 Embedded image

【0010】ポリフタリドは、単独重合物であっても、
共重合物であっても、あるいは、これらのブレンド物で
あってもよい。また、感度や接着性等の諸特性を向上さ
せるために、フタリド環を有するフェノール樹脂やフタ
リド環を有するエポキシ樹脂を添加することができる。
フタリド環を有するフェノール樹脂としては、フェノー
ルフタレイン、フェノールレッド、o−クレゾールフタ
レイン、チモールフタレイン、クレゾールレッド等とホ
ルムアルデヒドとを反応させて得られる樹脂で、通常、
反応に際してフェノールやクレゾール等を加えてコオリ
ゴマーとしたもの(生成物)を用いることができる。
The polyphthalide, even if it is a homopolymer,
It may be a copolymer or a blend thereof. In order to improve various properties such as sensitivity and adhesiveness, a phenol resin having a phthalide ring or an epoxy resin having a phthalide ring can be added.
The phenolic resin having a phthalide ring is a resin obtained by reacting phenolphthalein, phenol red, o-cresolphthalein, thymolphthalein, cresol red, and the like with formaldehyde.
In the reaction, a phenol or cresol may be added to form a co-oligomer (product).

【0011】フタリド環を有するエポキシ樹脂として
は、式(I)で示されたフタリド環(又はスルホフタリ
ド環)を有するフェノール化合物とエピクロルヒドリン
とを反応させて得られた樹脂を用いることができる。
As the epoxy resin having a phthalide ring, a resin obtained by reacting a phenol compound having a phthalide ring (or a sulfophthalide ring) represented by the formula (I) with epichlorohydrin can be used.

【0012】フタリド環を有するフェノール樹脂やフタ
リド環を有するエポキシ樹脂は、50重量%を超えない
範囲で配合することができる。50重量%を超えて使用
すると、成形後の皮膜がもろくなりやすい。なお、ここ
で重量%とは、溶媒を除く不揮発成分の量を100とし
たときの百分率である。また、スチレン-ブタジエン-ス
チレン共重合体、スチレン-イソプレン-スチレン共重合
体などの熱可塑性樹脂や、エポキシ樹脂、(メタ)アク
リル樹脂、マレイミド樹脂、シトラコンイミド樹脂、ナ
ジイミド樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂など
を特性がそこなわない範囲で使用することができる。さ
らに促進剤、老化防止剤、着色剤、難燃剤、カップリン
グ剤等の添加剤を添加しても良い。
The phenolic resin having a phthalide ring and the epoxy resin having a phthalide ring can be blended within a range not exceeding 50% by weight. If it is used in excess of 50% by weight, the film after molding tends to become brittle. Here, the weight% is a percentage when the amount of the non-volatile component excluding the solvent is 100. Thermoplastic resins such as styrene-butadiene-styrene copolymers and styrene-isoprene-styrene copolymers; and heat resins such as epoxy resins, (meth) acrylic resins, maleimide resins, citraconic imide resins, nadiimide resins, and phenol resins. A curable resin or the like can be used as long as the properties are not deteriorated. Further, additives such as an accelerator, an antioxidant, a coloring agent, a flame retardant, and a coupling agent may be added.

【0013】本発明で使用する導電性粒子は、電気的接
続を得ることができる導電性を有していればとくに制限
はないが、金、銀、ニッケル、銅、コバルト、はんだな
どの金属粒子やカーボン、または、セラミックス、プラ
スチックなどを前記した導電物質で被覆したものも使用
できる。さらにその前記導電性物質を被覆した粒子を
金、銀で被覆したものも使用できる。このとき、被覆す
る金属層の厚さは十分な導電性を得るためには100Å
以上が好ましい。本発明で使用する導電性粒子をポリフ
タリドで表面を被覆する方法としては、表面をほぼ均一
な状態で被覆できれば特にその方法に制限はないが、通
常はポリフタリドを溶解した溶液中に前記導電性粒子を
浸漬、撹拌後、ろ過等の方法で導電粒子を分離する方法
が好ましい。
The conductive particles used in the present invention are not particularly limited as long as they have a conductive property capable of obtaining an electrical connection. However, metal particles such as gold, silver, nickel, copper, cobalt, and solder can be used. A material coated with a conductive material such as carbon, carbon, ceramics, or plastic can also be used. Further, particles obtained by coating the particles coated with the conductive substance with gold or silver can also be used. At this time, the thickness of the metal layer to be coated should be 100 ° to obtain sufficient conductivity.
The above is preferable. The method for coating the surface of the conductive particles used in the present invention with polyphthalide is not particularly limited as long as the surface can be coated in a substantially uniform state, but usually the conductive particles are dissolved in a solution in which polyphthalide is dissolved. Is preferred, after immersion and stirring, the conductive particles are separated by a method such as filtration.

【0014】溶媒としては、式(I)のポリフタリドを
溶解させることができれば特に制限はなく、例えば、シ
クロヘキサノン、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、3
−ヒドロキシベンゾトリフルオリド、テトラクロルエタ
ン、クレゾール、クロロホルム、ジメチルホルムアミ
ド、N−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルア
セトアミド、スルホラン、sym−テトラクロルエタ
ン、メチレンクロライドなどの有機溶媒が使用できる。
処理液中に含まれるポリフタリドの濃度としては、0.
05重量%〜20重量%が好ましい。0.05重量%以
下であると表面処理が有効に行われず、20重量%以上
になると導電性粒子表面に被覆されるポリフタリドの量
が多くなり、接続抵抗が高くなってしまう。処理をする
場合の温度時間は特に制限はないが、おおむね処理温度
20〜100℃、処理時間10秒〜1時間の範囲である
また、処理した導電粒子はろ過後乾燥して使用する。乾
燥条件は使用する有機溶媒により適宜選択されるが、室
温〜250℃で行う。前記導電性粒子としてプラスチッ
クなどを前記導電物質で被覆したものを用いるときは、
プラスチックの耐熱性にも考慮し、乾燥温度は200℃
以下で行うことが好ましい。
The solvent is not particularly limited as long as the polyphthalide of the formula (I) can be dissolved, and examples thereof include cyclohexanone, nitrobenzene, benzonitrile,
Organic solvents such as -hydroxybenzotrifluoride, tetrachloroethane, cresol, chloroform, dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, sulfolane, sym-tetrachloroethane, and methylene chloride can be used.
The concentration of the polyphthalide contained in the treatment solution is 0.1.
It is preferably from 05% to 20% by weight. If the content is 0.05% by weight or less, the surface treatment is not effectively performed. If the content is 20% by weight or more, the amount of polyphthalide coated on the surface of the conductive particles increases, and the connection resistance increases. The temperature time for the treatment is not particularly limited, but is generally in the range of 20 to 100 ° C. for a treatment time of 10 seconds to 1 hour. The treated conductive particles are dried after filtration. Drying conditions are appropriately selected depending on the organic solvent used, but the drying is performed at room temperature to 250 ° C. When using a conductive material coated with a plastic or the like as the conductive particles,
Considering the heat resistance of plastic, drying temperature is 200 ℃
It is preferable to perform the following.

【0015】被覆する膜の厚さはを10nm〜50,0
00nm(すなわち、0.01μm〜50μm)が好ま
しい。厚さ方向に加圧するとき、加圧前後で、厚さ方向
の電気抵抗が6桁以上に変化させるためにはこの厚みが
好ましいからである。言いかえれば、被覆の厚さが10
nm未満では加圧前(常圧)における絶縁性が十分でな
く、50,000nmを超えると、加圧しても電気抵抗
が大きく変化しないからである。また、前記ポリフタリ
ドで表面を被覆した導電性粒子のほかに、被覆していな
い導電性粒子を混合して使用することもできる。被覆し
ていない導電性粒子としては、金、銀、ニッケル、銅、
コバルト、はんだなどの金属粒子やカーボン、または、
セラミックス、プラスチックなどを前記した導電物質で
被覆したものである。
The thickness of the film to be coated is 10 nm to 50,0.
00 nm (that is, 0.01 μm to 50 μm) is preferred. This is because, when pressing in the thickness direction, this thickness is preferable in order to change the electrical resistance in the thickness direction by six digits or more before and after pressing. In other words, if the coating thickness is 10
If the thickness is less than nm, the insulation before pressurization (normal pressure) is not sufficient, and if it exceeds 50,000 nm, the electrical resistance does not change significantly even when the pressure is increased. Further, in addition to the conductive particles whose surface is coated with the polyphthalide, uncoated conductive particles can be mixed and used. Uncoated conductive particles include gold, silver, nickel, copper,
Metal particles such as cobalt and solder, carbon, or
It is obtained by coating ceramics, plastics and the like with the above-mentioned conductive material.

【0016】本発明に使用する加熱により流動性を有す
る絶縁性接着剤は、熱硬化系接着剤、ラジカル硬化系接
着剤、光硬化系接着剤、熱可塑系接着剤(ホットメル
ト)を用いることができる。加熱により流動性を有する
とは、加熱することで流動性を示すものである。熱硬化
系接着剤は、エポキシ樹脂、潜在性硬化剤を含み、フィ
ルム状接着剤とする場合にはフィルム形成材を含むこと
が好ましい。エポキシ樹脂は、エピクロルヒドリンとビ
スフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールA
D、ビスフェノールS等から誘導されるビスフェノール
型エポキシ樹脂、エピクロルヒドリンとフェノールノボ
ラックやクレゾールノボラックから誘導されるエポキシ
ノボラック樹脂やナフタレン環を含んだ骨格を有するナ
フタレン系エポキシ樹脂、グリシジルアミン、グリシジ
ルエーテル、ビフェニル、脂環式等の1分子内に2個以
上のグリシジル基を有する各種のエポキシ化合物等を単
独にあるいは2種以上を混合して用いることが可能であ
る。これらのエポキシ樹脂は、不純物イオン(Na+
Cl-等)や、加水分解性塩素等を300ppm以下に
低減した高純度品を用いることがエレクトロンマイグレ
ーション防止のために好ましい。
As the insulating adhesive having fluidity by heating used in the present invention, a thermosetting adhesive, a radical curing adhesive, a photocuring adhesive, a thermoplastic adhesive (hot melt) may be used. Can be. Having fluidity by heating means exhibiting fluidity by heating. The thermosetting adhesive contains an epoxy resin and a latent curing agent, and when it is used as a film adhesive, it preferably contains a film forming material. Epoxy resins include epichlorohydrin and bisphenol A, bisphenol F, bisphenol A
D, bisphenol-type epoxy resin derived from bisphenol S, etc., epoxy novolak resin derived from epichlorohydrin and phenol novolak or cresol novolak, naphthalene-based epoxy resin having a skeleton containing a naphthalene ring, glycidylamine, glycidyl ether, biphenyl, Various epoxy compounds having two or more glycidyl groups in one molecule, such as alicyclic compounds, can be used alone or in combination of two or more. These epoxy resins have impurity ions (Na + ,
It is preferable to use a high-purity product in which the content of Cl or the like is reduced to 300 ppm or less to prevent electron migration.

【0017】潜在性硬化剤は、イミダゾール系、ヒドラ
ジド系、アミンイミド、ジシアンジアミド等が挙げられ
る。これらは、単独または混合して使用することがで
き、分解促進剤、抑制剤等を混合して用いてもよい。ま
た、これらの硬化剤をポリウレタン系、ポリエステル系
の高分子物質等で被覆してマイクロカプセル化したもの
は、可使時間が延長されるために好ましい。潜在性硬化
剤の配合量は充分な反応率を得るために、フィルム形成
材とエポキシ樹脂の合計100重量部に対して、0.1
〜60重量部とするのが好ましく1〜20重量部がより
好ましい。潜在性硬化剤の配合量が0.1重量部未満で
は、充分な反応率を得ることができず良好な接着強度や
小さな接続抵抗が得られにくくなる傾向にある。潜在性
硬化剤の配合量が60重量部を超えると、接着剤の流動
性が低下したり、接続抵抗が上昇したり、接着剤のポッ
トライフが短くなる傾向にある。
The latent curing agents include imidazole, hydrazide, amine imide and dicyandiamide. These may be used alone or as a mixture, and may be used as a mixture with a decomposition accelerator, an inhibitor and the like. A microcapsule obtained by coating these curing agents with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance or the like is preferable because the pot life is extended. In order to obtain a sufficient reaction rate, the compounding amount of the latent curing agent is 0.1 to 100 parts by weight of the total of the film forming material and the epoxy resin.
The amount is preferably from 60 to 60 parts by weight, more preferably from 1 to 20 parts by weight. If the amount of the latent curing agent is less than 0.1 part by weight, a sufficient reaction rate cannot be obtained, and good adhesive strength and small connection resistance tend to be hardly obtained. If the amount of the latent curing agent exceeds 60 parts by weight, the fluidity of the adhesive tends to decrease, the connection resistance increases, and the pot life of the adhesive tends to decrease.

【0018】フィルム形成材は、液状物を固形化し、構
成組成物をフィルム形状とした場合に、そのフィルムの
取り扱いが容易で、容易に裂けたり、割れたり、ベたつ
いたりしない機械特性等を付与するものであり、通常の
状態でフィルムとしての取り扱いができるものである。
フィルム形成材は、フィルム形成性の他に接着性、硬化
時の応力緩和性を付与するためにも配合することができ
る。フィルム形成材としては、フェノキシ樹脂、ポリビ
ニルホルマール樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、キ
シレン樹脂、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。フィル
ム形成材の中でも接着性、相溶性、耐熱性、機械強度に
優れることからフェノキシ樹脂が好ましい。フェノキシ
樹脂は2官能フェノール類とエピハロヒドリンを高分子
量まで反応させるか、又は2官能エポキシ樹脂と2官能
フェノール類を重付加させることにより得られる樹脂で
ある。具体的には、2官能フェノール類1モルとエピハ
ロヒドリン0.985〜1.015とをアルカリ金属水
酸化物の存在下で非反応性溶媒中で40〜120℃の温
度で反応させることにより得ることができる。また、樹
脂の機械的特性や熱的特性の点からは、特に2官能性エ
ポキシ樹脂と2官能性フェノール類の配合当量比をエポ
キシ基/フェノール水酸基=1/0.9〜1/1.1と
しアルカリ金属化合物、有機リン系化合物、環状アミン
系化合物等の触媒の存在下で沸点が120℃以上のアミ
ド系、エーテル系、ケトン系、ラクトン系、アルコール
系等の有機溶剤中で反応固形分が50重量部以下で50
〜200℃に加熱して重付加反応させて得たものが好ま
しい。2官能エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA
型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビ
スフェノールAD型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型
エポキシ樹脂などが挙げられる。2官能フェノール類は
2個のフェノール性水酸基を持つもので、例えば、ハイ
ドロキノン類、ビスフェノールA、ビスフェノールF、
ビスフェノールAD、ビスフェノールS等のビスフェノ
ール類などが挙げられる。フェノキシ樹脂は、ラジカル
重合性の官能基やエポキシ基,カルボキシル基などで変
成されていても良く、この場合耐熱性が向上する。 ま
た、フェノキシ樹脂は、その分子内に多環芳香族化合物
に起因する分子構造を有するものでもよい。例えばナフ
タレン、ビフェニル、アセナフテン、フルオレン、ジベ
ンゾフラン、アントラセン、フェナンスレン等のジヒド
ロキシ化合物であり、特に好ましくは9,9’−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンである。フィル
ム形成材の配合量は、2〜80重量%であり、5〜70
重量%が好ましく、10〜60重量%が特に好ましい。
2重量%未満では、応力緩和や接着力が十分でなく、8
0重量%を超えると流動性が低下する。フィルム形成材
は、接着剤をフィルム化する際に必要であるが、ワニ
ス、ペースト状で使用する場合はなくてもよい。
When the liquid material is solidified and the constituent composition is formed into a film, the film-forming material is easy to handle and has mechanical properties that do not easily tear, break, or stick. It is a material that can be handled as a film in a normal state.
The film-forming material can be blended in order to impart adhesiveness and stress relaxation during curing in addition to film-forming properties. Examples of the film forming material include a phenoxy resin, a polyvinyl formal resin, a polystyrene resin, a polyvinyl butyral resin, a polyester resin, a polyamide resin, a xylene resin, and a polyurethane resin. Phenoxy resins are preferred among the film-forming materials because of their excellent adhesiveness, compatibility, heat resistance, and mechanical strength. The phenoxy resin is a resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin to a high molecular weight or by polyaddition of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol. Specifically, it is obtained by reacting 1 mol of bifunctional phenols with epihalohydrin 0.985 to 1.015 in a non-reactive solvent at a temperature of 40 to 120 ° C. in the presence of an alkali metal hydroxide. Can be. In addition, from the viewpoint of the mechanical and thermal properties of the resin, particularly, the blending equivalent ratio of the bifunctional epoxy resin and the bifunctional phenol is set so that epoxy group / phenol hydroxyl group = 1 / 0.9 to 1 / 1.1. In the presence of a catalyst such as an alkali metal compound, an organic phosphorus compound, a cyclic amine compound or the like, the reaction solid content in an organic solvent such as an amide, ether, ketone, lactone, or alcohol solvent having a boiling point of 120 ° C. or higher is used. Is less than 50 parts by weight
Those obtained by heating to ~ 200 ° C and performing a polyaddition reaction are preferred. Bifunctional epoxy resins include bisphenol A
Epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, bisphenol AD epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, and the like. Bifunctional phenols have two phenolic hydroxyl groups and include, for example, hydroquinones, bisphenol A, bisphenol F,
And bisphenols such as bisphenol AD and bisphenol S. The phenoxy resin may be modified with a radical polymerizable functional group, an epoxy group, a carboxyl group, or the like, and in this case, heat resistance is improved. The phenoxy resin may have a molecular structure derived from a polycyclic aromatic compound in the molecule. For example, dihydroxy compounds such as naphthalene, biphenyl, acenaphthene, fluorene, dibenzofuran, anthracene, and phenanthrene are preferable, and 9,9′-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene is particularly preferable. The compounding amount of the film forming material is 2 to 80% by weight,
% By weight, particularly preferably 10 to 60% by weight.
If it is less than 2% by weight, stress relaxation and adhesive strength are not sufficient, and
If it exceeds 0% by weight, the fluidity decreases. The film-forming material is necessary when the adhesive is formed into a film, but may not be used in the form of varnish or paste.

【0019】ラジカル硬化系接着剤は、ラジカル重合性
化合物、重合開始剤を含み、フィルム化する場合はフィ
ルム形成性を含有することが好ましい。ラジカル重合性
化合物は、ラジカルにより重合する官能基を有する化合
物で、(メタ)アクリレート樹脂、マレイミド樹脂、シ
トラコンイミド樹脂、ナジイミド樹脂などがあり、2種
類以上を混合して使用してもよい。またラジカル重合性
化合物は、モノマー、オリゴマーいずれの状態でも使用
することができ、モノマーとオリゴマーを混合して用い
てもよい。(メタ)アクリレート樹脂としては、(メ
タ)アクリレートをラジカル重合させることで得られる
もので、(メタ)アクリレートとしてはメチル(メタ)
アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、イソプロ
ピル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリ
レート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、
ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメ
チロールプロパントリ(メタ)アクリレート、テトラメ
チレングリコールテトラ(メタ)アクリレート、2−ヒ
ドロキシ−1,3−ジアクリロキシプロパン、2,2−
ビス[4−(アクリロキシメトキシ)フェニル]プロパ
ン、2,2−ビス[4−(アクリロキシエトキシ)フェ
ニル]プロパン、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレ
ート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、トリ
ス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、ウレタン
(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキ
シド変性ジアクリレートなどが挙げられ、単独または2
種類以上を混合して用いても良い。また、必要によって
は、ハイドロキノン、メチルエーテルハイドロキノン等
のラジカル重合禁止剤を硬化性が損なわれない範囲で使
用しても良い。
The radical-curable adhesive contains a radically polymerizable compound and a polymerization initiator, and preferably forms a film when forming a film. The radical polymerizable compound is a compound having a functional group polymerizable by a radical, and includes (meth) acrylate resin, maleimide resin, citraconic imide resin, nadimide resin, and the like, and two or more kinds may be used as a mixture. The radically polymerizable compound can be used in any state of a monomer and an oligomer, and a mixture of the monomer and the oligomer may be used. The (meth) acrylate resin is obtained by radical polymerization of (meth) acrylate, and the (meth) acrylate is methyl (meth) acrylate.
Acrylate, ethyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate,
Diethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tetramethylene glycol tetra (meth) acrylate, 2-hydroxy-1,3-diacryloxypropane, 2,2-
Bis [4- (acryloxymethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (acryloxyethoxy) phenyl] propane, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, tris (acrylic) Roxyethyl) isocyanurate, urethane (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate, and the like.
More than one kind may be mixed and used. If necessary, a radical polymerization inhibitor such as hydroquinone or methyl ether hydroquinone may be used within a range where the curability is not impaired.

【0020】さらに、ラジカル重合性化合物としてリン
酸エステル化合物を使用した場合、金属等無機物に対す
る接着力を向上することができる。このリン酸エステル
化合物の使用量は、0.1〜10重量部であり、好まし
くは0.5〜5重量部である。リン酸エステル化合物
は、無水リン酸と2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリ
レートの反応生成物として得られる。具体的には、モノ
(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッドホスフェ
ート、ジ(2−メタクリロイルオキシエチル)アシッド
ホスフェート等が有り、単独でも混合して使用しても良
い。
Further, when a phosphate compound is used as the radical polymerizable compound, the adhesive strength to inorganic substances such as metals can be improved. The amount of the phosphate compound used is 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.5 to 5 parts by weight. The phosphate compound is obtained as a reaction product of phosphoric anhydride and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate. Specifically, there are mono (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate, di (2-methacryloyloxyethyl) acid phosphate and the like, and these may be used alone or in combination.

【0021】マレイミド樹脂としては、分子中にマレイ
ミド基を少なくとも1個有しているもので、例えば、フ
ェニルマレイミド、1−メチル−2,4−ビスマレイミ
ドベンゼン、N,N'−m−フェニレンビスマレイミド、N,
N'−p−フェニレンビスマレイミド、N,N'−4,4−ビ
フェニレンビスマレイミド、N,N'−4,4−(3,3−
ジメチルビフェニレン)ビスマレイミド、N,N'−4,4
−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスマレイミ
ド、N,N'−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメタ
ン)ビスマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルメタン
ビスマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルプロパンビ
スマレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビス
マレイミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビスマ
レイミド、2,2−ビス(4−(4−マレイミドフェノ
キシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−ブ
チル−3,4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−マレイミドフ
ェノキシ)フェニル)デカン、4,4'−シクロヘキシ
リデン−ビス(1−(4−マレイミドフェノキシ)フェ
ノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス
(4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパンなどが挙げられ、単独でも2種類以上
を混合して使用しても良い。
The maleimide resin has at least one maleimide group in the molecule. Examples thereof include phenylmaleimide, 1-methyl-2,4-bismaleimidebenzene, and N, N'-m-phenylenebis. Maleimide, N,
N'-p-phenylene bismaleimide, N, N'-4,4-biphenylene bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3-
Dimethylbiphenylene) bismaleimide, N, N'-4,4
-(3,3-dimethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bismaleimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebismaleimide, N, N'- 4,4-diphenylpropanebismaleimide, N, N'-4,4-diphenyletherbismaleimide, N, N'-4,4-diphenylsulfonebismaleimide, 2,2-bis (4- (4-maleimidophenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-butyl-3,4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-maleimidophenoxy) phenyl) decane, 4'-cyclohexylidene-bis (1- (4-maleimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-maleimidopheno) Xy) phenyl) hexafluoropropane, etc., and may be used alone or as a mixture of two or more.

【0022】シトラコンイミド樹脂としては、分子中に
シトラコンイミド基を少なくとも1個有しているシトラ
コンイミド化合物を重合させたもので、シトラコンイミ
ド化合物としては、例えば、フェニルシトラコンイミ
ド、1−メチル−2,4−ビスシトラコンイミドベンゼ
ン、N,N'−m−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'
−p−フェニレンビスシトラコンイミド、N,N'−4,4
−ビフェニレンビスシトラコンイミド、N,N'−4,4−
(3,3−ジメチルビフェニレン)ビスシトラコンイミ
ド、N,N'−4,4−(3,3−ジメチルジフェニルメタ
ン)ビスシトラコンイミド、N,N'−4,4−(3,3−
ジエチルジフェニルメタン)ビスシトラコンイミド、N,
N'−4,4−ジフェニルメタンビスシトラコンイミド、
N,N'−4,4−ジフェニルプロパンビスシトラコンイミ
ド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビスシトラコン
イミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビスシトラ
コンイミド、2,2−ビス(4−(4−シトラコンイミ
ドフェノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3
−s−ブチル−3,4−(4−シトラコンイミドフェノ
キシ)フェニル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−
シトラコンイミドフェノキシ)フェニル)デカン、4,
4'−シクロヘキシリデン−ビス(1−(4−シトラコ
ンイミドフェノキシ)フェノキシ)−2−シクロヘキシ
ルベンゼン、2,2−ビス(4−(4−シトラコンイミ
ドフェノキシ)フェニル)ヘキサフルオロプロパンなど
が有り、単独でも2種類以上を混合して使用しても良
い。
The citraconic imide resin is obtained by polymerizing a citraconic imide compound having at least one citraconic imide group in a molecule. Examples of the citraconic imide compound include phenylcitraconic imide and 1-methyl-2. , 4-biscitraconimidobenzene, N, N'-m-phenylenebiscitraconimide, N, N '
-P-phenylenebiscitraconimide, N, N'-4,4
-Biphenylenebiscitraconimide, N, N'-4,4-
(3,3-dimethylbiphenylene) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N, N'-4,4- (3,3-
Diethyldiphenylmethane) biscitraconimide, N,
N'-4,4-diphenylmethanebiscitraconimide,
N, N'-4,4-diphenylpropanebiscitraconimide, N, N'-4,4-diphenyletherbiscitraconimide, N, N'-4,4-diphenylsulfonebiscitraconimide, 2,2-bis ( 4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) propane, 2,2-bis (3
-S-butyl-3,4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-
Citraconic imidophenoxy) phenyl) decane, 4,
4′-cyclohexylidene-bis (1- (4-citraconimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-citraconimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane, and the like, They may be used alone or in combination of two or more.

【0023】ナジイミド樹脂としては、分子中にナジイ
ミド基を少なくとも1個有しているナジイミド化合物を
重合したもので、ナジイミド化合物としては、例えば、
フェニルナジイミド、1−メチル−2,4−ビスナジイ
ミドベンゼン、N,N'−m−フェニレンビスナジイミド、
N,N'−p−フェニレンビスナジイミド、N,N'−4,4−
ビフェニレンビスナジイミド、N,N'−4,4−(3,3
−ジメチルビフェニレン)ビスナジイミド、N,N'−4,
4−(3,3−ジメチルジフェニルメタン)ビスナジイ
ミド、N,N'−4,4−(3,3−ジエチルジフェニルメ
タン)ビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルメタ
ンビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルプロパン
ビスナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルエーテルビ
スナジイミド、N,N'−4,4−ジフェニルスルホンビス
ナジイミド、2,2−ビス(4−(4−ナジイミドフェ
ノキシ)フェニル)プロパン、2,2−ビス(3−s−
ブチル−3,4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニ
ル)プロパン、1,1−ビス(4−(4−ナジイミドフ
ェノキシ)フェニル)デカン、4,4'−シクロヘキシ
リデン−ビス(1−(4−ナジイミドフェノキシ)フェ
ノキシ)−2−シクロヘキシルベンゼン、2,2−ビス
(4−(4−ナジイミドフェノキシ)フェニル)ヘキサ
フルオロプロパンなどが有り、単独でも2種類以上を混
合して使用しても良い。
The nadimide resin is obtained by polymerizing a nadimide compound having at least one nadimide group in a molecule. Examples of the nadimide compound include:
Phenylnadiimide, 1-methyl-2,4-bisnadiimidebenzene, N, N'-m-phenylenebisnadiimide,
N, N'-p-phenylenebisnadimide, N, N'-4,4-
Biphenylene bisnadiimide, N, N'-4,4- (3,3
-Dimethylbiphenylene) bisnadiimide, N, N'-4,
4- (3,3-dimethyldiphenylmethane) bisnadiimide, N, N'-4,4- (3,3-diethyldiphenylmethane) bisnadiimide, N, N'-4,4-diphenylmethanebisnadiimide, N, N'-4 , 4-Diphenylpropanebisnadimide, N, N'-4,4-diphenyletherbisnadimide, N, N'-4,4-diphenylsulfonebisnadimide, 2,2-bis (4- (4-nadiimidophenoxy) Phenyl) propane, 2,2-bis (3-s-
Butyl-3,4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) propane, 1,1-bis (4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) decane, 4,4′-cyclohexylidene-bis (1- ( There are 4-nadiimidophenoxy) phenoxy) -2-cyclohexylbenzene, 2,2-bis (4- (4-nadiimidophenoxy) phenyl) hexafluoropropane and the like. Is also good.

【0024】上記ラジカル重合性化合物を使用した場合
には、重合開始剤を使用する。重合開始剤としては、光
または加熱によってラジカルを発生する化合物であれば
特に制限はなく、過酸化物、アゾ化合物などがあり、目
的とする接続温度、接続時間、保存安定性等を考慮し適
宜選択されるが、高反応性と保存安定性の点から、半減
期10時間の温度が、40℃以上かつ、半減期1分の温
度が180℃以下の有機過酸化物が好ましく、半減期1
0時間の温度が、50℃以上かつ、半減期1分の温度が
170℃以下の有機過酸化物が特に好ましい。接続時間
を10秒とした場合、十分な反応率を得るための重合開
始剤の配合量は、1〜20重量%が好ましく、2〜15
重量%が特に好ましい。使用される有機過酸化物の具体
的な化合物としては、ジアシルパーオキサイド、パーオ
キシジカーボネート、パーオキシエステル、パーオキシ
ケタール、ジアルキルパーオキサイド、ハイドロパーオ
キサイド、シリルパーオキサイドなどから選定できる
が、パーオキシエステル、ジアルキルパーオキサイド、
ハイドロパーオキサイド、シリルパーオキサイドは、開
始剤中の塩素イオンや有機酸が5000ppm以下であ
り、分解後に発生する有機酸が少なく、電極の腐食を抑
えることができるため特に好ましい。
When the radical polymerizable compound is used, a polymerization initiator is used. The polymerization initiator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a radical by light or heating, and includes a peroxide, an azo compound, and the like, and appropriately takes into consideration the intended connection temperature, connection time, storage stability, and the like. From the viewpoints of high reactivity and storage stability, an organic peroxide having a half-life of 10 hours at a temperature of 40 ° C. or more and a half-life of 1 minute of 180 ° C. or less is preferable.
An organic peroxide having a temperature of 0 hours of 50 ° C. or more and a half-life of 1 minute of 170 ° C. or less is particularly preferred. When the connection time is 10 seconds, the amount of the polymerization initiator to obtain a sufficient reaction rate is preferably 1 to 20% by weight, and 2 to 15% by weight.
% By weight is particularly preferred. Specific compounds of the organic peroxide used can be selected from diacyl peroxide, peroxydicarbonate, peroxyester, peroxyketal, dialkyl peroxide, hydroperoxide, silyl peroxide, etc. Oxyesters, dialkyl peroxides,
Hydroperoxides and silyl peroxides are particularly preferable because the amount of chlorine ions and organic acids in the initiator is 5,000 ppm or less, the amount of organic acids generated after decomposition is small, and the corrosion of the electrode can be suppressed.

【0025】ジアシルパーオキサイド類としては、イソ
ブチルパーオキサイド、2,4−ジクロロベンゾイルパ
ーオキサイド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパ
ーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ラウロイ
ルパーオキサイド、ステアロイルパーオキサイド、スク
シニックパーオキサイド、ベンゾイルパーオキシトルエ
ン、ベンゾイルパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of the diacyl peroxides include isobutyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, lauroyl peroxide, stearoyl peroxide, and succinic. Peroxide, benzoylperoxytoluene, benzoyl peroxide and the like.

【0026】パーオキシジカーボネート類としては、ジ
−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロ
ピルパーオキシジカーボネート、ビス(4−t−ブチル
シクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−
エトキシメトキシパーオキシジカーボネート、ジ(2−
エチルヘキシルパーオキシ)ジカーボネート、ジメトキ
シブチルパーオキシジカーボネート、ジ(3−メチル−
3−メトキシブチルパーオキシ)ジカーボネート等が挙
げられる。
The peroxydicarbonates include di-n-propylperoxydicarbonate, diisopropylperoxydicarbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-carbonate.
Ethoxymethoxyperoxydicarbonate, di (2-
Ethylhexylperoxy) dicarbonate, dimethoxybutylperoxydicarbonate, di (3-methyl-
3-methoxybutylperoxy) dicarbonate.

【0027】パーオキシエステル類としては、クミルパ
ーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメ
チルブチルパーオキシネオデカノエート、1−シクロヘ
キシル−1−メチルエチルパーオキシノエデカノエー
ト、t−へキシルパーオキシネオデカノエート、t−ブチ
ルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチ
ルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(2−エチルヘキサノイルパ
ーオキシ)ヘキサン、1−シクロヘキシル−1−メチル
エチルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−へ
キシルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブ
チルパーオキシ−2−エチルヘキサノネート、t−ブチ
ルパーオキシイソブチレート、1,1−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)シクロヘキサン、t−へキシルパーオキ
シイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパーオキ
シ−3,5,5−トリメチルヘキサノネート、t−ブチ
ルパーオキシラウレート、2,5−ジメチル−2,5−
ジ(m−トルオイルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチルパ
ーオキシイソプロピルモノカーボネート、t−ブチルパ
ーオキシ−2−エチルヘキシルモノカーボネート、t−
へキシルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキ
シアセテート等を挙げることができる。
Examples of peroxy esters include cumyl peroxy neodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutyl peroxy neodecanoate, 1-cyclohexyl-1-methylethyl peroxynodecanoate. , T-hexylperoxy neodecanoate, t-butyl peroxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanate, 2,
5-dimethyl-2,5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, 1-cyclohexyl-1-methylethylperoxy-2-ethylhexanonate, t-hexylperoxy-2-ethylhexano Tert-butylperoxy-2-ethylhexanonate, t-butylperoxyisobutyrate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, t-hexylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxyisobutyrate Butylperoxy-3,5,5-trimethylhexanonate, t-butylperoxylaurate, 2,5-dimethyl-2,5-
Di (m-toluoylperoxy) hexane, t-butylperoxyisopropyl monocarbonate, t-butylperoxy-2-ethylhexyl monocarbonate, t-
Hexyl peroxy benzoate, t-butyl peroxy acetate and the like can be mentioned.

【0028】パーオキシケタール類では、1,1−ビス
(t−ヘキシルパーオキシ)−3,3,5−トリメチル
シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ヘキシルパーオキ
シ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオ
キシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,
1−(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン、2,2
−ビス(t−ブチルパーオキシ)デカン等が挙げられ
る。
The peroxyketals include 1,1-bis (t-hexylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (t-hexylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (T-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,
1- (t-butylperoxy) cyclododecane, 2,2
-Bis (t-butylperoxy) decane and the like.

【0029】ジアルキルパーオキサイド類では、α,
α’−ビス(t−ブチルパーオキシ)ジイソプロピルベ
ンゼン、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、t−ブチ
ルクミルパーオキサイド等が挙げられる。
In the dialkyl peroxides, α,
α'-bis (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-
Examples thereof include 2,5-di (t-butylperoxy) hexane and t-butylcumyl peroxide.

【0030】ハイドロパーオキサイド類では、ジイソプ
ロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、クメンハイド
ロパーオキサイド等が挙げられる。
Examples of the hydroperoxides include diisopropylbenzene hydroperoxide, cumene hydroperoxide and the like.

【0031】シリルパーオキサイド類としては、t−ブ
チルトリメチルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチ
ル)ジメチルシリルパーオキサイド、t−ブチルトリビ
ニルシリルパーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジビニ
ルシリルパーオキサイド、トリス(t−ブチル)ビニル
シリルパーオキサイド、t−ブチルトリアリルシリルパ
ーオキサイド、ビス(t−ブチル)ジアリルシリルパー
オキサイド、トリス(t−ブチル)アリルシリルパーオ
キサイド等が挙げられる。
Examples of the silyl peroxides include t-butyltrimethylsilyl peroxide, bis (t-butyl) dimethylsilyl peroxide, t-butyltrivinylsilyl peroxide, bis (t-butyl) divinylsilyl peroxide, and tris ( (t-butyl) vinylsilyl peroxide, t-butyltriallylsilyl peroxide, bis (t-butyl) diallylsilyl peroxide, tris (t-butyl) allylsilyl peroxide and the like.

【0032】また、電極の腐食を抑えるために、硬化剤
中に含有される塩素イオンや有機酸は5000ppm以
下であることが好ましく、さらに、加熱分解後に発生す
る有機酸が少ないものがより好ましい。また、作製した
接着剤の安定性が向上することから室温(25℃)、常
圧下で24時間の開放放置後に20重量%以上の重量保
持率を有することが好ましい。これらは適宜混合して用
いることができる。これらの遊離ラジカル発生剤は単独
または混合して使用することができ、分解促進剤、抑制
剤等を混合して用いても良い。また、これらの遊離ラジ
カル発生剤をポリウレタン系、ポリエステル系の高分子
物質等で被覆してマイクロカプセル化したものは、可使
時間が延長されるために好ましい。
Further, in order to suppress corrosion of the electrode, the content of chlorine ions and organic acids contained in the curing agent is preferably 5,000 ppm or less, and more preferably, the amount of organic acids generated after thermal decomposition is small. Further, since the stability of the produced adhesive is improved, it is preferable that the adhesive has a weight retention of 20% by weight or more after being left open at room temperature (25 ° C.) and normal pressure for 24 hours. These can be used by appropriately mixing. These free radical generators can be used alone or as a mixture, and a decomposition accelerator, an inhibitor and the like may be used as a mixture. Further, those in which these free radical generators are coated with a polyurethane-based or polyester-based polymer substance and microencapsulated are preferable because the pot life is extended.

【0033】フィルム形成材は、上記と同様である。ラ
ジカル重合性化合物以外に熱硬化性樹脂として上記のエ
ポキシ樹脂を配合することもできる。これらのエポキシ
樹脂は、2種以上を併用してもよい。また、このエポキ
シ樹脂の硬化剤としては、アミン類、フェノール類、酸
無水物類、イミダゾール類、ジシアンジアミド等通常の
エポキシ樹脂の硬化剤として使用されているものが挙げ
られる。さらには、硬化促進剤として通常使用されてい
る3級アミン類、有機リン系化合物を適宜使用しても良
い。また、エポキシ樹脂を反応させる方法として、前記
硬化剤を使用する以外に、スルホニウム塩、ヨードニウ
ム塩等使用して、カチオン重合させても良い。
The film forming material is the same as described above. In addition to the radical polymerizable compound, the above-mentioned epoxy resin can be blended as a thermosetting resin. These epoxy resins may be used in combination of two or more. Examples of the curing agent for this epoxy resin include those used as ordinary curing agents for epoxy resins, such as amines, phenols, acid anhydrides, imidazoles, and dicyandiamide. Further, tertiary amines and organic phosphorus compounds generally used as a curing accelerator may be appropriately used. As a method of reacting an epoxy resin, cationic polymerization may be performed using a sulfonium salt, an iodonium salt, or the like, instead of using the above-mentioned curing agent.

【0034】光硬化系接着剤は、光カチオン重合性化合
物、主に180〜750nmの波長成分を含む光照射ま
たは加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤を含む
ことが好ましい。光カチオン重合性化合物として、エポ
キシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物
及び環状エーテル化合物から1つ以上選ばれる。主に1
80〜750nmの波長成分を含む光照射または加熱に
よりカチオン種を発生する重合開始剤として、芳香族ス
ルホニウム塩、ヨードニウム塩、鉄−アレーン錯体、芳
香族スルホニウム塩、脂肪族スルホニウム塩などから選
ばれる少なくとも一種である。主に180〜750nm
の波長成分を含む光照射によりカチオン種を発生する重
合開始剤は、主として180〜750nmの波長成分を
含む光照射によってカチオン種を発生する重合開始剤で
あり、光照射により発生するカチオン種を指すが、加熱
によって発生したカチオン種を含んでも良く、光照射に
より発生するカチオン種が多いとの意味である。また、
主に加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤は、主
として加熱によってカチオン種を発生する重合開始剤で
あり、加熱により発生するカチオン種を指すが、光照射
によって発生したカチオン種を含んでも良く、加熱によ
り発生するカチオン種が多いとの意味である。光カチオ
ン重合性化合物としては、主に180〜750nmの波
長成分を含む光照射、または主に加熱により発生したカ
チオン種によって重合する官能基を有する化合物であ
り、エポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタ
ン化合物及び環状エーテル化合物等が挙げられる。
The photocurable adhesive preferably contains a photocationically polymerizable compound, mainly a polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation or heating containing a wavelength component of 180 to 750 nm. The photocationically polymerizable compound is selected from one or more of an epoxy compound, a vinyl ether compound, an oxetane compound, and a cyclic ether compound. Mainly 1
At least one selected from aromatic sulfonium salts, iodonium salts, iron-arene complexes, aromatic sulfonium salts, aliphatic sulfonium salts, and the like, as a polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation or heating containing a wavelength component of 80 to 750 nm. It is a kind. Mainly 180-750nm
The polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation containing a wavelength component of is mainly a polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation containing a wavelength component of 180 to 750 nm, and refers to the cationic species generated by light irradiation. However, it may include cation species generated by heating, meaning that there are many cation species generated by light irradiation. Also,
The polymerization initiator that mainly generates a cationic species by heating is a polymerization initiator that mainly generates a cationic species by heating, and refers to a cationic species generated by heating, but may include a cationic species generated by light irradiation, This means that there are many cation species generated by heating. The photocationically polymerizable compound is a compound having a functional group that is polymerized mainly by light irradiation containing a wavelength component of 180 to 750 nm or a cation species generated mainly by heating, such as an epoxy compound, a vinyl ether compound, an oxetane compound and And cyclic ether compounds.

【0035】エポキシ化合物としては、1分子中に2個
以上のエポキシ基を有するものであれば特に制限なく、
公知のものを使用しうる。例えば、エピクロルヒドリン
とビスフェノールAやビスフェノールF等から誘導され
るビスフェノール型エポキシ樹脂や、ポリグリシジルエ
ーテル、ポリグリシジルエステル、芳香族エポキシ化合
物、脂環式エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の
ノボラック型エポキシ化合物、グリシジルアミン系エポ
キシ化合物、グリシジルエステル系エポキシ化合物、ビ
フェニルジグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシ
アヌレート、ポリグリシジルメタクリレート、グリシジ
ルメタクリレートとこれと共重合可能なビニル単量体と
の共重合体等が挙げられる。これらは単独又は2種以上
を組み合わせて使用される。
The epoxy compound is not particularly limited as long as it has two or more epoxy groups in one molecule.
Known ones can be used. For example, bisphenol type epoxy resin derived from epichlorohydrin and bisphenol A or bisphenol F, polyglycidyl ether, polyglycidyl ester, aromatic epoxy compound, alicyclic epoxy compound, cresol novolak type epoxy resin, phenol novolak type epoxy resin Novolak type epoxy compounds, glycidylamine epoxy compounds, glycidyl ester epoxy compounds, biphenyl diglycidyl ether, triglycidyl isocyanurate, polyglycidyl methacrylate, copolymerization of glycidyl methacrylate with a copolymerizable vinyl monomer Coalescence and the like. These are used alone or in combination of two or more.

【0036】ビニルエーテル化合物としては、アルキル
ビニルエーテル化合物、アルケニルビニルエーテル化合
物、アルキニルビニルエーテル化合物、アリールビニル
エーテル化合物等が挙げられる。
Examples of the vinyl ether compound include an alkyl vinyl ether compound, an alkenyl vinyl ether compound, an alkynyl vinyl ether compound, an aryl vinyl ether compound and the like.

【0037】オキセタン化合物としては、オキセタンア
ルコール、脂肪族オキセタン化合物、芳香族オキセタン
化合物等が挙げられる。環状エーテル化合物としては、
テトラヒドロフラン化合物、テトラヒドロピラン化合物
等が挙げられる。これらの中では、他の化合物と比較す
ると分子量の異なるグレードが広く入手可能で、接着性
や反応性、硬化特性等を任意に設定できる点から、エポ
キシ化合物が好ましい。
The oxetane compound includes oxetane alcohol, aliphatic oxetane compound, aromatic oxetane compound and the like. As the cyclic ether compound,
Examples thereof include a tetrahydrofuran compound and a tetrahydropyran compound. Among them, epoxy compounds are preferred because grades having different molecular weights are widely available as compared with other compounds, and adhesiveness, reactivity, curing characteristics and the like can be arbitrarily set.

【0038】光カチオン重合性化合物の含有量として
は、接着剤全体に対して10〜90重量%とするのが好
ましく、25〜75重量%とするのがより好ましい。含
有量が10重量%未満の場合、硬化物の物性に乏しい接
着剤しか得ることができず、含有量が90重量%を超え
ると、例えば硬化収縮率の大きな光カチオン重合性化合
物を使用した場合、これを他の配合成分によって緩和す
る等の手段を用いることが困難になる。
The content of the cationic photopolymerizable compound is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 25 to 75% by weight, based on the whole adhesive. When the content is less than 10% by weight, only an adhesive having poor physical properties of the cured product can be obtained, and when the content exceeds 90% by weight, for example, when a cationic photopolymerizable compound having a large curing shrinkage is used. However, it becomes difficult to use a method of alleviating this with other components.

【0039】エポキシ化合物のエポキシ当量は、43〜
1000が好ましく、50〜800がより好ましく、7
3〜600が特に好ましい。エポキシ当量が43未満又
は1000を超えると、電極の接続時に、接着強度が低
下する傾向がある。これらのエポキシ化合物は、不純物
イオン(Na+、Cl-等)や、加水分解性塩素等を30
0ppm以下に低減した高純度品を用いることが、エレ
クトロンマイグレーション防止のために好ましい。
The epoxy equivalent of the epoxy compound is 43 to
1000 is preferable, 50 to 800 are more preferable, and 7
3-600 is especially preferable. If the epoxy equivalent is less than 43 or more than 1000, the adhesive strength tends to decrease when connecting the electrodes. These epoxy compounds can remove impurity ions (Na + , Cl −, etc.) and hydrolyzable chlorine
It is preferable to use a high-purity product reduced to 0 ppm or less in order to prevent electron migration.

【0040】主に180〜750nmの波長成分を含む
光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤、主に加
熱によりカチオン種を発生する重合開始剤としては、芳
香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、脂肪族ス
ルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、ホスホニウム
塩、ピリジニウム塩、セレノニウム塩等のオニウム塩や
金属アレーン錯体、シラノール/アルミニウム錯体等の
錯体化合物、ベンゾイントシレート、o−ニトロベンジ
ルトシレート等を用いることができる。また、塩を形成
する際の対アニオンとしてはヘキサフルオロアンチモネ
ート、ヘキサフルオロホスフェート、テトラフルオロボ
レート、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレー
ト等が反応性の点で好適に用いられる。主に加熱により
カチオン種を発生する重合開始剤としては、100℃以
下の温度で熱触媒活性の低い化合物が、接着剤の保存安
定性を高める点で好ましい。また、主に180〜750
nmの波長成分を含む光照射によりカチオン種を発生す
る重合開始剤が、主に加熱によりカチオン種を発生する
重合開始剤と同等の熱活性を有していたり、その反対
に、主に加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤
が、主に180〜750nmの波長成分を含む光照射に
よりカチオン種を発生する重合開始剤と同等の光活性を
有している化合物である場合は、接着剤の反応性が向上
する点で好ましい。
Examples of the polymerization initiator that mainly generates a cationic species by irradiation with light containing a wavelength component of 180 to 750 nm, and the polymerization initiator that mainly generates a cationic species by heating include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, and the like. Use of onium salts such as aliphatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, phosphonium salts, pyridinium salts, selenonium salts, complex compounds such as metal arene complexes, silanol / aluminum complexes, benzoin tosylate, o-nitrobenzyl tosylate, etc. Can be. Further, as a counter anion when forming a salt, hexafluoroantimonate, hexafluorophosphate, tetrafluoroborate, tetrakis (pentafluorophenyl) borate and the like are preferably used in terms of reactivity. As the polymerization initiator mainly generating a cationic species by heating, a compound having a low thermocatalytic activity at a temperature of 100 ° C. or lower is preferable in terms of enhancing the storage stability of the adhesive. In addition, mainly 180-750
A polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation containing a wavelength component of nm has the same thermal activity as a polymerization initiator that generates a cationic species mainly by heating, or conversely, mainly by heating When the polymerization initiator that generates a cationic species is a compound having the same photoactivity as the polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation mainly containing a wavelength component of 180 to 750 nm, It is preferable in that the reactivity is improved.

【0041】主に180〜750nmの波長成分を含む
光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤として
は、分子内に芳香族環が1個以上含まれる化合物が好ま
しく、ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)−フェニ
ル]スルフィド−ビス−ヘキサフルオロホスフェート、
ビス[4−ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニ
ル)スルホニオ−フェニル]スルフィドビス−ヘキサフ
ルオロホスフェート、ビス[4−ジ(4−(2−ヒドロ
キシエチル)フェニル)スルホニオ−フェニル]スルフ
ィドビス−ヘキサフルオロアンチモネート等といった芳
香族スルホニウム塩やη−5,2,4−(シクロペンタ
ジエニル)[(1,2,3,4,5,6−η)−(メチ
ルエチル)−ベンゼン]−鉄(II)ヘキサフルオロホ
スフェート、(トリルクミル)ヨードニウムテトラキス
(ペンタフルオロペニル)ボレート、ジアリルヨードニ
ウムヘキサフルオロアンチモネート及びこれらの混合物
を用いることができ、アデカオプトマーSP−150、
アデカオプトマーSP−170(旭電化工業株式会社製
商品名)、サイラキュアUVI−6990(ユニオンカ
ーバイド社製商品名)、サンエイドSI−60L、サン
エイドSI−80L、サンエイドSI−100L(三新
化学工業株式会社製商品名)、イルガキュア261(チ
バ・スペシャルティ・ケミカルズ(Ciba Specialty Che
micals)社製商品名)、RHODORSIL PHOTOINITIATOR20
74(ローディアジャパン社製商品名)等といった市販
品としてこれらの化合物及びその溶液を用いることがで
きる。
As the polymerization initiator for generating a cationic species by irradiation mainly with light having a wavelength component of 180 to 750 nm, a compound containing one or more aromatic rings in the molecule is preferable, and bis [4- (diphenylsulfo) Nio) -phenyl] sulfide-bis-hexafluorophosphate,
Bis [4-di (4- (2-hydroxyethyl) phenyl) sulfonio-phenyl] sulfide bis-hexafluorophosphate, bis [4-di (4- (2-hydroxyethyl) phenyl) sulfonio-phenyl] sulfidebis- Aromatic sulfonium salts such as hexafluoroantimonate and η-5,2,4- (cyclopentadienyl) [(1,2,3,4,5,6-η)-(methylethyl) -benzene]- Iron (II) hexafluorophosphate, (tolylcumyl) iodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, diallyliodonium hexafluoroantimonate and mixtures thereof can be used, and ADEKA OPTOMER SP-150;
Adeka Optomer SP-170 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), Cyracure UVI-6990 (trade name, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.), Sun Aid SI-60L, Sun Aid SI-80L, Sun Aid SI-100L (Sanshin Chemical Co. Company name), Irgacure 261 (Ciba Specialty Chemicals)
micals), RHODORSIL PHOTOINITIATOR20
These compounds and their solutions can be used as commercial products such as 74 (trade name, manufactured by Rhodia Japan).

【0042】主に加熱によりカチオン種を発生する重合
開始剤としては、芳香族スルホニウム塩、脂肪族スルホ
ニウム塩やジアルキルフェナシルスルホニウム塩等の化
合物が好適に用いられ、サンエイドSI−60L、サン
エイドSI−80L、サンエイドSI−100L(三新
化学工業株式会社製商品名)、アデカオプトンCP−6
6、アデカオプトンCP−77(旭電化工業株式会社製
商品名)、CI−2624(日本曹達株式会社製商品
名)等といった市販品としてこれらの化合物及びその溶
液を用いることができる。
Compounds such as aromatic sulfonium salts, aliphatic sulfonium salts and dialkylphenacyl sulfonium salts are preferably used as polymerization initiators which mainly generate cationic species by heating, and include San Aid SI-60L and San Aid SI- 80L, San-Aid SI-100L (trade name, manufactured by Sanshin Chemical Industry Co., Ltd.), Adeka Opton CP-6
6. These compounds and their solutions can be used as commercial products such as Adeka Opton CP-77 (trade name, manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) and CI-2624 (trade name, manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.).

【0043】主に180〜750nmの波長成分を含む
光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤、及び、
主に加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤を使用
する場合、各々、その使用量は、光カチオン重合性化合
物の100重量%に対して0.05〜30重量%とする
ことが好ましく、0.1〜15重量%とすることがより
好ましく、0.5〜10重量%とすることが特に好まし
い。この量が、0.05重量%未満では、硬化促進効果
が不十分となる傾向があり、30重量%を超えると相溶
性が低下する傾向がある。
A polymerization initiator which generates a cationic species by irradiation with light containing a wavelength component of mainly 180 to 750 nm;
When a polymerization initiator that mainly generates a cationic species by heating is used, the amount of each is preferably 0.05 to 30% by weight based on 100% by weight of the photocationically polymerizable compound. 0.1 to 15% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight. If the amount is less than 0.05% by weight, the effect of promoting the curing tends to be insufficient, and if it exceeds 30% by weight, the compatibility tends to decrease.

【0044】また、主に180〜750nmの波長成分
を含む光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤の
含有量と主に加熱によりカチオン種を発生する重合開始
剤の含有量の重量比率は、1/50〜50/1であるの
が好ましい。この範囲外の比率の場合、他方の重合開始
剤の含有量が極端に少なくなるために、充分な硬化物が
得られなくなる恐れがある。
The weight ratio of the content of the polymerization initiator that generates a cationic species by light irradiation mainly containing a wavelength component of 180 to 750 nm and the content of the polymerization initiator that mainly generates a cationic species by heating is as follows: It is preferably 1/50 to 50/1. When the ratio is out of this range, the content of the other polymerization initiator becomes extremely small, so that a sufficiently cured product may not be obtained.

【0045】主に180〜750nmの波長成分を含む
光照射によりカチオン種を発生する重合開始剤、及び、
主に加熱によりカチオン種を発生する重合開始剤を使用
する場合、それぞれを単独あるいは複数種を併用するこ
ともできる。また、カチオン重合を促進して接着剤の硬
化性を高めるために、光増感剤を適宜組み合わせて使用
することもできる。光増感剤としては、用いる励起光の
吸収波長を有効に利用するためのものであれば特に制限
されるものではなく、公知の化合物を使用することがで
き、具体的には、アントラセン、フェノチアジン、ペリ
レン、カルバゾール、ベンゾフェノン、チオキサント
ン、フルオレノン、アントラキノン等の化合物及びこれ
らの誘導体等を用いることができる。
A polymerization initiator that generates a cationic species by irradiation with light containing a wavelength component of mainly 180 to 750 nm;
When a polymerization initiator that generates a cationic species mainly by heating is used, each of them can be used alone or in combination. Further, in order to promote cationic polymerization and enhance the curability of the adhesive, a photosensitizer may be appropriately used in combination. The photosensitizer is not particularly limited as long as it is for effectively utilizing the absorption wavelength of the excitation light to be used, and known compounds can be used. Specifically, anthracene, phenothiazine And compounds such as perylene, carbazole, benzophenone, thioxanthone, fluorenone, anthraquinone, and derivatives thereof.

【0046】接着剤には、さらにフィルム形成材を添加
してもよい。その使用量としては、光カチオン重合性化
合物100重量部に対して20〜320重量部とするこ
とが好ましい。この使用量が、20重量部未満又は32
0重量部を超える場合は、フィルム形成性が低下する傾
向がある。
A film forming material may be further added to the adhesive. The amount used is preferably 20 to 320 parts by weight based on 100 parts by weight of the cationic photopolymerizable compound. If this amount is less than 20 parts by weight or 32
If it exceeds 0 parts by weight, the film-forming properties tend to decrease.

【0047】熱可塑系接着剤(ホットメルト)は、基本
的には絶縁性を示す通常の凝集力を付与するポリマと、
その他必要に応じて用いる粘着付与剤、粘着性調整剤、
架橋剤、老化防止剤、分散剤等を含むと好ましい。これ
らポリマ種としては、エチレン酢酸ビニル共重合体、エ
チレン−酢酸ビニル共重合体変性物、ポリエチレン、エ
チレン−プロピレン共重合体、エチレン−アクリル酸共
重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、エチ
レン−アクリル酸塩共重合体、アクリル酸エステル系ゴ
ム、ポリイソブチレン、アタクチックポリプロピレン、
ポリビニルブチラール、アクリロニトリル−ブタジエン
共重合体、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、ス
チレン−イソプレンブロック共重合体、ポリブタジエ
ン、エチレンセルロース、ポリエステル、ポリアミド、
ポリウレタン、天然ゴム、シリコン系ゴム、ポリクロロ
プレン等の合成ゴム類、ポリビニルエーテルなどが適用
可能であり、単独あるいは2種以上併用して用いられ
る。
The thermoplastic adhesive (hot melt) is basically composed of a polymer which gives an ordinary cohesive force showing an insulating property,
Other tackifiers used as needed, tackifiers,
It is preferable to include a crosslinking agent, an antioxidant, a dispersant, and the like. These polymer species include ethylene-vinyl acetate copolymer, modified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyethylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, ethylene -Acrylate copolymer, acrylate rubber, polyisobutylene, atactic polypropylene,
Polyvinyl butyral, acrylonitrile-butadiene copolymer, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, polybutadiene, ethylene cellulose, polyester, polyamide,
Polyurethane, natural rubber, silicone rubber, synthetic rubbers such as polychloroprene, polyvinyl ether, and the like are applicable, and may be used alone or in combination of two or more.

【0048】粘着付与剤としては、ジシクロペンタジエ
ン樹脂、ロジン、変性ロジン、テルペン樹脂、キシレン
樹脂、テルペン−フェノール樹脂、アルキルフェノール
樹脂、クマロン−インデン樹脂等があり、これらを必要
に応じて、単独あるいは2種以上併用して用いる。粘着
性調整剤としてはたとえばジオクチルフタレートをはじ
めとする各種可塑剤類等が代表的である。架橋剤はポリ
マの凝集力を高めることが必要な場合に用いられ、ポリ
マの官能基と反応する多官能性物質であり、たとえばポ
リイソシアネート、メラミン樹脂尿素樹脂、フェノール
樹脂等があげられる。老化防止剤は、ポリマーバインダ
の熱、酸素、光等に対する安定性を高めることが必要な
場合に用いるものでたとえば金属石ケン類を代表とする
安定剤や、アルキルフェノール類などの酸化防止剤、ベ
ンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系などの紫外線吸
収剤等が挙げられ、やはり必要に応じて単独あるいは2
種以上併用して用いられる。分散剤は、粒子の分散性向
上のために用いる場合があり、この例としてたとえば界
面活性剤が挙げられ、ノニオン系、カチオン系、アニオ
ン系、両性のうち1種あるいは2種以上併用して用いる
ことができる。
Examples of the tackifier include dicyclopentadiene resin, rosin, modified rosin, terpene resin, xylene resin, terpene-phenol resin, alkylphenol resin, cumarone-indene resin and the like. These may be used alone or as needed. Used in combination of two or more. Representative examples of the tackifier include various plasticizers such as dioctyl phthalate. The crosslinking agent is used when it is necessary to increase the cohesive strength of the polymer, and is a polyfunctional substance that reacts with the functional group of the polymer, and examples thereof include polyisocyanate, melamine resin, urea resin, and phenol resin. Anti-aging agents are used when it is necessary to enhance the stability of the polymer binder against heat, oxygen, light, etc., and include, for example, stabilizers such as metal soaps, antioxidants such as alkylphenols, and benzophenone. And benzotriazole-based ultraviolet absorbers.
Used in combination of more than one species. The dispersant may be used to improve the dispersibility of the particles. Examples of the dispersant include a surfactant, and one or more of nonionic, cationic, anionic, and amphoteric are used in combination. be able to.

【0049】接着剤には、適宜充填剤、軟化剤、促進
剤、老化防止剤、着色剤、難燃剤、カップリング剤を添
加しても良い。
The adhesive may optionally contain a filler, a softener, an accelerator, an antioxidant, a coloring agent, a flame retardant, and a coupling agent.

【0050】また、本発明で用いる回路用接続部材を硬
化させて硬化物としたときのTg(ガラス転移温度)が
5℃以上異なる2種類以上の層からなる多層構成として
も良い。本発明の回路用接続部材を使用して接着する基
板としては、電気的接続を必要とする電極が形成されて
いるものであれば特に制限はないが、液晶ディスプレイ
に用いられているITO等で電極が形成されているガラ
スまたはプラスチック基板、プリント配線板、セラミッ
ク配線板、フレキシブル配線板、半導体シリコンチップ
などが有り、必要に応じて組み合わせて使用される。接
続する場合の条件としては特に制限はないが、接続温度
90〜250℃、接続時間1秒〜10分であり、使用す
る用途、接着剤、基板によって適宜選択され、必要に応
じて、後硬化を行っても良い。また、接続時は加熱加圧
により行われるが、必要に応じて熱以外のエネルギーた
とえば光、超音波、電磁波等を使用しても良い。
The circuit connecting member used in the present invention may have a multilayer structure composed of two or more layers having a Tg (glass transition temperature) of 5 ° C. or more when cured to form a cured product. The substrate to be adhered using the circuit connecting member of the present invention is not particularly limited as long as electrodes requiring electrical connection are formed. There are a glass or plastic substrate on which electrodes are formed, a printed wiring board, a ceramic wiring board, a flexible wiring board, a semiconductor silicon chip, and the like, which are used in combination as necessary. The conditions for connection are not particularly limited, but the connection temperature is 90 to 250 ° C., the connection time is 1 second to 10 minutes, and is appropriately selected depending on the use application, the adhesive, and the substrate, and if necessary, post-curing. May be performed. The connection is performed by heating and pressurizing, but energy other than heat, such as light, ultrasonic waves, and electromagnetic waves, may be used as necessary.

【0051】[0051]

【実施例】以下、本発明を実施例にて具体的に説明する
が、本発明はこの実施例に制限されるものではない。 (表面処理粒子Aの作製)式(1)のポリフタリドにお
いて、R=ビフェニル、R=H、X=O、Y=SO
であるポリ(4,4−ジフェニレンスルホフタリド)の
1重量%ジメチルホルムアミド溶液に、ポリスチレンを
核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を
設け、このニッケル層の外側に、厚み0.04μmの金
層を設けた平均粒径4μmの導電性粒子をいれ、室温
(25℃)で10分間撹拌した。導電性粒子をろ別後、
120℃で15分間乾燥し、表面処理粒子A(表面被覆
導電性粒子A)を得た。 (表面処理粒子Bの作製)上記と同様のポリフタリドの
3重量%クロロホルム溶液に、ポリスチレンを核とする
粒子の表面に、平均粒径5μmのニッケル粒子をいれ、
25℃で30分間撹拌した。導電性粒子をろ別後、80
℃で5分間乾燥し、表面処理粒子B(表面被覆導電性粒
子B)を得た。 (表面処理粒子Cの作製)上記と同様のポリフタリドの
0.1重量%シクロヘキサノン溶液に、ポリスチレンを
核とする粒子の表面に、厚み0.2μmのニッケル層を
設け、このニッケル層の外側に、厚み0.04μmの金
層を設けた平均粒径5μmの導電性粒子をいれ、40℃
で30分間撹拌した。導電性粒子をろ別後、150℃で
10分間乾燥し、表面処理粒子C(表面被覆導電性粒子
C)を得た。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described specifically with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples. (Preparation of Surface Treated Particle A) In the polyphthalide of the formula (1), R = biphenyl, R 1 = H, X = O, Y = SO 2
In a 1% by weight dimethylformamide solution of poly (4,4-diphenylene sulfophthalide), a nickel layer having a thickness of 0.2 μm is provided on the surface of particles having polystyrene nuclei. The conductive particles having an average particle size of 4 μm provided with a gold layer having a thickness of 0.04 μm were added, and the mixture was stirred at room temperature (25 ° C.) for 10 minutes. After filtering the conductive particles,
After drying at 120 ° C. for 15 minutes, surface-treated particles A (surface-coated conductive particles A) were obtained. (Preparation of Surface Treated Particles B) Nickel particles having an average particle size of 5 μm were added to a 3% by weight chloroform solution of the same polyphthalide as described above, and the surface of the particles having polystyrene nuclei was added.
Stirred at 25 ° C. for 30 minutes. After filtering the conductive particles, 80
After drying at 5 ° C. for 5 minutes, surface-treated particles B (surface-coated conductive particles B) were obtained. (Preparation of Surface Treated Particle C) A nickel layer having a thickness of 0.2 μm was provided on the surface of particles having polystyrene as a core in a 0.1% by weight cyclohexanone solution of polyphthalide as described above. Add conductive particles having an average particle size of 5 μm provided with a gold layer having a thickness of 0.04 μm,
For 30 minutes. After the conductive particles were separated by filtration, they were dried at 150 ° C. for 10 minutes to obtain surface-treated particles C (surface-coated conductive particles C).

【0052】(表面処理粒子Dの作製)上記と同様のポ
リフタリドの1重量%シクロヘキサノン溶液にγ―アミ
ノプロピルトリメトキシシランを5重量%加え、さらに
ポリスチレンを核とする粒子の表面に、厚み0.2μm
のニッケル層を設け、このニッケル層の外側に、厚み
0.04μmの金層を設けた平均粒径4μmの導電性粒
子をいれ、室温(25℃)で30分間撹拌した。導電性
粒子をろ別後、150℃で5分間乾燥し、表面処理粒子
D(表面被覆導電性粒子D)を得た。
(Preparation of surface-treated particles D) 5% by weight of γ-aminopropyltrimethoxysilane was added to a 1% by weight solution of polyphthalide in cyclohexanone similar to the above, and the surface of the particles having a polystyrene nucleus having a thickness of 0.1% was added. 2 μm
And a conductive layer having an average particle size of 4 μm provided with a gold layer having a thickness of 0.04 μm was added to the outside of the nickel layer and stirred at room temperature (25 ° C.) for 30 minutes. After the conductive particles were separated by filtration, they were dried at 150 ° C. for 5 minutes to obtain surface-treated particles D (surface-coated conductive particles D).

【0053】これら表面処理粒子(表面被覆導電性粒
子)A、B、C、Dを用いて、以下に示す配合でフィル
ムを作製した。
Using these surface-treated particles (surface-coated conductive particles) A, B, C, and D, a film was prepared with the following composition.

【0054】 (実施例1) フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、平均分子 量45,000) 50g マイクロカプセル潜在性硬化剤(HX3941HP、旭化成エポキシ株式会社 製商品名、熱活性温度120℃、DSCピーク温度、液状エポキシ樹脂にマイク ロカプセル潜在性硬化剤を分散) 48g γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 2g をトルエン、酢酸エチルの混合溶媒(重量比50/5
0)を溶媒として溶解配合し、さらに表面処理粒子Aを
3体積%配合分散した。厚さ80μmの片面を表面処理
したポリエチレンテレフタレートフィルムに塗工装置を
用いて塗布し、70℃、10分間乾燥させ、厚み30μ
mの回路用接続部材を得た。
Example 1 Phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name PKHC, average molecular weight: 45,000) 50 g Microcapsule latent curing agent (HX3941HP, trade name, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd., thermal activation temperature: 120 ° C.) , DSC peak temperature, microcapsule latent curing agent dispersed in liquid epoxy resin) 48 g γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane 2 g mixed solvent of toluene and ethyl acetate (weight ratio 50/5)
0) was dissolved and blended as a solvent, and the surface-treated particles A were further blended and dispersed at 3% by volume. An 80 μm-thick polyethylene terephthalate film having one surface treated on one side is applied using a coating device, dried at 70 ° C. for 10 minutes, and then 30 μm in thickness.
m connection members for circuits were obtained.

【0055】 (実施例2) フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、平均分子 量45,000) 40g アクリルゴム 10g マイクロカプセル型潜在性硬化剤(HX3941HP、旭化成エポキシ株式会 社製商品名、熱活性温度120℃、DSCピーク温度、液状エポキシ樹脂にマイ クロカプセル潜在性硬化剤を分散) 48g γ―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 2g をトルエン、酢酸エチルの混合溶媒(重量比50/5
0)を溶媒として溶解配合し、さらに表面処理粒子Bを
3体積%配合分散した。厚さ80μmの片面を表面処理
したポリエチレンテレフタレートフィルムに塗工装置を
用いて塗布し、70℃、10分間乾燥させ、厚み30μ
mの回路用接続部材を得た。
(Example 2) Phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name: PKHC, average molecular weight: 45,000) 40 g acrylic rubber 10 g microcapsule-type latent curing agent (HX3941HP, trade name, manufactured by Asahi Kasei Epoxy Co., Ltd.) (Activity temperature: 120 ° C., DSC peak temperature, microcapsule latent curing agent dispersed in liquid epoxy resin) 48 g γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane: 2 g mixed solvent of toluene and ethyl acetate (weight ratio: 50/5)
0) as a solvent was dissolved and compounded, and 3% by volume of surface-treated particles B were further mixed and dispersed. An 80 μm-thick polyethylene terephthalate film having one surface treated on one side is applied using a coating device, dried at 70 ° C. for 10 minutes, and then 30 μm in thickness.
m connection members for circuits were obtained.

【0056】 (実施例3) フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、平均分子 量45,000) 50g イソシアヌール酸エチレンオキシド変性ジアクリレート 46g りん酸エステルアクリレート 4g 2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキ サン 3g をメチルエチルケトンを溶媒として溶解配合し、さらに
表面処理粒子Cを3体積%配合分散した。厚さ80μm
の片面を表面処理したポリエチレンテレフタレートフィ
ルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分間乾燥
させ、厚み30μmの回路用接続部材を得た。
Example 3 Phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name: PKHC, average molecular weight: 45,000) 50 g Isocyanuric acid ethylene oxide-modified diacrylate 46 g Phosphate ester acrylate 4 g 2,5-dimethyl-2,5 3 g of -bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane was dissolved and mixed with methyl ethyl ketone as a solvent, and 3% by volume of surface-treated particles C were further mixed and dispersed. 80μm thick
Was coated on a polyethylene terephthalate film having one surface treated using a coating device, and dried at 70 ° C. for 10 minutes to obtain a 30 μm thick circuit connecting member.

【0057】 (実施例4) フェノキシ樹脂(ユニオンカーバイド株式会社製、商品名PKHC、平均分子 量45,000) 25g ポリウレタン樹脂 25g ジシクロヘキシルメタアクリレート 48g りん酸エステルアクリレート 2g 2,5−ジメチル−2,5−ビス(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキ サン 3g をメチルエチルケトンを溶媒として溶解配合し、さらに
表面処理粒子Dを3体積%配合分散した。厚さ80μm
の片面を表面処理したポリエチレンテレフタレートフィ
ルムに塗工装置を用いて塗布し、70℃、10分間乾燥
させ、厚み30μmの回路用接続部材を得た。
Example 4 Phenoxy resin (manufactured by Union Carbide Co., Ltd., trade name: PKHC, average molecular weight: 45,000) 25 g polyurethane resin 25 g dicyclohexyl methacrylate 48 g phosphate ester acrylate 2 g 2,5-dimethyl-2,5- 3 g of bis (2-ethylhexanoylperoxy) hexane was dissolved and mixed with methyl ethyl ketone as a solvent, and 3% by volume of surface-treated particles D were further mixed and dispersed. 80μm thick
Was coated on a polyethylene terephthalate film having one surface treated using a coating device, and dried at 70 ° C. for 10 minutes to obtain a 30 μm thick circuit connecting member.

【0058】(比較例1〜4)実施例1〜4の配合で表
面処理粒子の代わりに処理前の未処理の導電性粒を用い
たこと以外、実施例1〜4と同様に行い回路用接続部材
をそれぞれ得た。
(Comparative Examples 1 to 4) A circuit was prepared in the same manner as in Examples 1 to 4, except that untreated conductive particles before treatment were used instead of the surface-treated particles in the formulations of Examples 1 to 4. Connection members were obtained.

【0059】(比較例5)ポリスチレンを核とする粒子
の表面に厚み0.2μmのニッケル層を設け、このニッ
ケル層の外側に厚み0.04μmの金層を設けた平均粒
径4μmの導電粒子の最表面にスチレン−ブタジエン共
重合体からなる絶縁性の表面層を約1μmの厚さで形成
した。実施例1の表面処理粒子Aの代わりに、上記の粒
子を用いて実施例1と同様にして回路用接続部材を得
た。
Comparative Example 5 Conductive particles having an average particle size of 4 μm in which a nickel layer having a thickness of 0.2 μm was provided on the surface of particles having polystyrene nuclei and a gold layer having a thickness of 0.04 μm was provided outside the nickel layer. An insulating surface layer made of a styrene-butadiene copolymer was formed with a thickness of about 1 μm on the outermost surface of. A circuit connecting member was obtained in the same manner as in Example 1 except that the above particles were used instead of the surface-treated particles A of Example 1.

【0060】(回路接続構造体の作製)上記回路用接続
部材を、1.5mm幅にスリットし、電極としてITO
が形成されたガラス基板上に、80℃、5秒、1MPa
の条件で、仮接続した。表面処理したポリエチレンテレ
フタレートフィルムを剥離し、これにバンプ面積50μ
mx50μm、ピッチ100μm、高さ20μmの金バ
ンプを形成した半導体チップの電極を位置合わせして置
き、実施例1,2、比較例1,2、5では190℃、1
5秒、3MPaの接続条件で、また実施例3、4、比較
例3、4では160℃、10秒、3MPaで本接続し回
路接続構造体を得た。各実施例及び比較例でそれぞれ1
0サンプル作製した。
(Preparation of Circuit Connection Structure) The circuit connection member was slit to a width of 1.5 mm, and ITO was used as an electrode.
80 ° C, 5 seconds, 1MPa
Temporarily connected under the following conditions. The surface-treated polyethylene terephthalate film was peeled off, and the bump area was 50 μm.
The electrodes of the semiconductor chip on which gold bumps of mx50 μm, pitch 100 μm, and height 20 μm were formed were aligned and placed.
Under the connection conditions of 5 seconds and 3 MPa, and in Examples 3 and 4 and Comparative Examples 3 and 4, the main connection was performed at 160 ° C. for 10 seconds and 3 MPa to obtain a circuit connection structure. 1 in each of Examples and Comparative Examples
0 samples were prepared.

【0061】(特性評価方法)接続抵抗 :株式会社ア
ドバンテスト製マルチメータTR6848を用いて、4
端子法で接続抵抗を測定した。また、これらのサンプル
を、85℃、85%RHの恒温恒湿試験機中に500時
間放置しその後の接続抵抗も測定した。接続抵抗値は、
10サンプルの平均値とした。絶縁抵抗:上記回路接続
構造体を用いて、水平回路間の絶縁抵抗を測定した。測
定は10サンプル行い、ショート発生率として算出し
た。それらの結果を表1に纏めて示した。
(Characteristic evaluation method) Connection resistance: Using a multimeter TR6848 manufactured by Advantest Co., Ltd.
The connection resistance was measured by the terminal method. In addition, these samples were left in a constant temperature and humidity tester at 85 ° C. and 85% RH for 500 hours, and then the connection resistance was measured. The connection resistance value is
The average value of 10 samples was used. Insulation resistance: The insulation resistance between horizontal circuits was measured using the above circuit connection structure. The measurement was performed for 10 samples and calculated as a short-circuit occurrence rate. The results are summarized in Table 1.

【0062】[0062]

【表1】 [Table 1]

【0063】本発明の実施例1〜4では、導電性粒子を
被覆する材料の濃度を0.1重量%〜1重量%変化させ
た表面被覆導電性粒子を用いているが、初期、耐湿後と
もに接続抵抗が低く良好であり、ショート発生率も0%
で良好である。これに対し、表面被覆導電性粒子を使用
していない比較例1〜4は、接続抵抗は小さく良好であ
るがショートが発生し、絶縁性が確保できていない。ま
た、比較例5では、表面層が絶縁性のため接続抵抗が高
い。
In Examples 1 to 4 of the present invention, the surface-coated conductive particles in which the concentration of the material for coating the conductive particles is changed from 0.1% by weight to 1% by weight are used. Both have low connection resistance and are good, and the short-circuit occurrence rate is 0%.
Is good. On the other hand, in Comparative Examples 1 to 4 in which the surface-coated conductive particles were not used, the connection resistance was small and good, but a short circuit occurred and the insulating property could not be secured. In Comparative Example 5, the connection resistance was high because the surface layer was insulative.

【0064】[0064]

【発明の効果】本発明によれば、接続抵抗と絶縁性とを
両立した接続が可能である。
According to the present invention, it is possible to achieve a connection in which both the connection resistance and the insulating property are compatible.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4J037 AA02 AA04 AA29 CA02 CA03 CC21 DD13 DD23 EE03 EE04 FF11 4J040 DA021 DA051 DA121 DD051 DF041 DF051 DG001 EC001 EE021 EH022 EH031 EJ002 EL032 HA026 HA066 HA076 JB01 JB02 JB08 JB09 KA03 KA07 KA32 LA09 NA20 PA32 PA33 5G307 AA08    ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page    F term (reference) 4J037 AA02 AA04 AA29 CA02 CA03                       CC21 DD13 DD23 EE03 EE04                       FF11                 4J040 DA021 DA051 DA121 DD051                       DF041 DF051 DG001 EC001                       EE021 EH022 EH031 EJ002                       EL032 HA026 HA066 HA076                       JB01 JB02 JB08 JB09 KA03                       KA07 KA32 LA09 NA20 PA32                       PA33                 5G307 AA08

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 感圧導電ポリマを含む組成物で導電性粒
子表面を被覆した表面被覆導電性粒子。
1. Surface-coated conductive particles having conductive particles coated with a composition containing a pressure-sensitive conductive polymer.
【請求項2】 感圧導電ポリマが、式(I)で表される
ポリフタリドである請求項1に記載の表面被覆導電性粒
子。 【化1】 (式(1)中、Rは、二価の芳香族炭化水素基または二
価の複素環含有芳香族基を示し、Rは、水素、アルキ
ル基、フッ素化アルキル基、アルコキシ基またはハロゲ
ンで、これは複数個(2〜4個)であってもよく、X
は、OまたはN−R (但し、Rは次ぎの基を示
す。)を示し、Yは、SOまたはCOを示し、nはポ
リマの繰り返し単位の数を示す。) 【化2】
2. The pressure-sensitive conductive polymer is represented by the formula (I):
The surface-coated conductive particles according to claim 1, which is a polyphthalide.
Child. Embedded image (In the formula (1), R represents a divalent aromatic hydrocarbon group or
A divalent heterocyclic-containing aromatic group;1Is hydrogen, alk
Group, fluorinated alkyl group, alkoxy group or halogen
This may be a plurality (2-4), and X
Is O or NR 3(However, R3Indicates the next group
You. ) And Y is SO2Or CO and n is
Indicates the number of repeating units in Lima. ) Embedded image
【請求項3】 加熱により流動性を有する絶縁性接着剤
と、導電性粒子の表面を絶縁性物質で覆った被覆粒子か
らなる回路用接続部材において、前記被覆粒子は請求項
1または請求項2に記載の表面被覆導電性粒子である回
路用接続部材。
3. A circuit connecting member comprising an insulating adhesive having a fluidity upon heating and coated particles having conductive particles covered with an insulating substance, wherein the coated particles are formed of a material. A connection member for a circuit, which is the surface-coated conductive particle according to 1.
【請求項4】 回路用接続部材を相対向する回路電極を
有する基板間に介在させ、相対向する回路電極を有する
基板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続する接
続方法であって、前記回路接続用部材が請求項3に記載
の回路接続用部材である回路接続方法。
4. A connection method in which a circuit connecting member is interposed between substrates having opposing circuit electrodes, and the substrates having opposing circuit electrodes are pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. A circuit connection method, wherein the circuit connection member is the circuit connection member according to claim 3.
【請求項5】 回路用接続部材を相対向する回路電極を
有する基板間に介在させ、相対向する回路電極を有する
基板を加圧して加圧方向の電極間を電気的に接続した接
続構造体であって、前記回路用接続部材が請求項3に記
載の回路接続用部材である回路接続構造体。
5. A connection structure in which a circuit connecting member is interposed between substrates having opposing circuit electrodes, and the substrates having opposing circuit electrodes are pressed to electrically connect the electrodes in the pressing direction. A circuit connection structure, wherein the circuit connection member is the circuit connection member according to claim 3.
JP2002126548A 2002-04-26 2002-04-26 Surface-coated conductive particles, circuit connection member using the same, connection method and connection structure Expired - Fee Related JP4032345B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002126548A JP4032345B2 (en) 2002-04-26 2002-04-26 Surface-coated conductive particles, circuit connection member using the same, connection method and connection structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002126548A JP4032345B2 (en) 2002-04-26 2002-04-26 Surface-coated conductive particles, circuit connection member using the same, connection method and connection structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003317545A true JP2003317545A (en) 2003-11-07
JP4032345B2 JP4032345B2 (en) 2008-01-16

Family

ID=29540931

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002126548A Expired - Fee Related JP4032345B2 (en) 2002-04-26 2002-04-26 Surface-coated conductive particles, circuit connection member using the same, connection method and connection structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4032345B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005231934A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Coated carbon material powder and production method therefor
JP2005325312A (en) * 2004-05-17 2005-11-24 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, film-type adhesive agent and circuit connecting material using the same and connection structure of circuit material and its preparation method
WO2007026981A1 (en) * 2005-09-02 2007-03-08 Cheil Industries Inc. Insulated conductive particles and anisotropic conductive adhesive film using the same
JP2012025826A (en) * 2010-07-22 2012-02-09 Asahi Kasei Chemicals Corp Metallic pigment composition

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005231934A (en) * 2004-02-18 2005-09-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Coated carbon material powder and production method therefor
JP4543695B2 (en) * 2004-02-18 2010-09-15 住友ベークライト株式会社 Coated carbon material powder and method for producing the same
JP2005325312A (en) * 2004-05-17 2005-11-24 Hitachi Chem Co Ltd Adhesive composition, film-type adhesive agent and circuit connecting material using the same and connection structure of circuit material and its preparation method
WO2007026981A1 (en) * 2005-09-02 2007-03-08 Cheil Industries Inc. Insulated conductive particles and anisotropic conductive adhesive film using the same
JP2012025826A (en) * 2010-07-22 2012-02-09 Asahi Kasei Chemicals Corp Metallic pigment composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP4032345B2 (en) 2008-01-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100559153B1 (en) Method for connecting electrodes, surface-treated wiring board and adhesive film used in the method, and electrodes-connected structure
WO2007074652A1 (en) Adhesive composition, circuit connecting material and connecting structure of circuit member
JP4752986B1 (en) Adhesive film for circuit connection and circuit connection structure
KR101929073B1 (en) Film-shaped circuit connecting material and circuit connecting structure
JP6044261B2 (en) Anisotropic conductive adhesive composition
JP2010100840A (en) Adhesive film and circuit connection material
JP4654599B2 (en) Anisotropic conductive adhesive film, method for producing the same, and circuit connection structure using the same
JP4945881B2 (en) Adhesive with support for circuit connection and circuit connection structure using the same
JP3975746B2 (en) Circuit connection material and method of manufacturing circuit connection body using the same
JP4032345B2 (en) Surface-coated conductive particles, circuit connection member using the same, connection method and connection structure
JP3937299B2 (en) Adhesive with support and circuit connection structure using the same
JP2012160546A (en) Adhesive film for circuit connection and circuit connection structure
JP4075409B2 (en) Adhesive film and electrode connection structure using the same
JP3856213B2 (en) Surface-treated wiring board, electrode connection method using the same, and electrode connection structure
JP4831086B2 (en) Rubber-modified phenoxy resin, resin composition using the same, adhesive for circuit member connection, and circuit connection structure
JP7006610B2 (en) Connection structure, circuit connection member and adhesive composition
JP5067101B2 (en) Adhesive composition
KR100934802B1 (en) Modified polyurethane resin, adhesive composition using the same, circuit member connection method and circuit member connection structure
JP2006016580A (en) Adhesive composition, film adhesive and circuit-connecting material using the same, coupling structure of circuit member and production method thereof
JP2009289729A (en) Anisotropic conductive film
JP5365666B2 (en) Circuit connection material, circuit terminal connection structure and connection method
JP5023665B2 (en) Adhesive composition, film adhesive and circuit connecting material using the same, and connector
JP2006111806A (en) Circuit connecting material and circuit connection structure using the same
JP6265242B2 (en) Anisotropic conductive adhesive composition
JP2004217781A (en) Anisotropically conductive adhesive composition for circuit connection, method for connecting circuit terminals by using the same, and connected structure of circuit terminals

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20050421

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070201

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070705

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070830

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20070928

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20071011

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101102

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111102

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees