JP2003311728A - 砂まき装置 - Google Patents

砂まき装置

Info

Publication number
JP2003311728A
JP2003311728A JP2002116777A JP2002116777A JP2003311728A JP 2003311728 A JP2003311728 A JP 2003311728A JP 2002116777 A JP2002116777 A JP 2002116777A JP 2002116777 A JP2002116777 A JP 2002116777A JP 2003311728 A JP2003311728 A JP 2003311728A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sand
sanding
roll
filled
recess
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002116777A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4150205B2 (ja
Inventor
Yoshiaki Hagimoto
善紀 萩本
Kazuhiro Nishizawa
和紘 西澤
Shohei Kusayama
正平 草山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP2002116777A priority Critical patent/JP4150205B2/ja
Publication of JP2003311728A publication Critical patent/JP2003311728A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4150205B2 publication Critical patent/JP4150205B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 単一の凹所パターンであっても多様なパタ
ーンのセメント質基材への砂まきを行う。 【解決手段】 砂(1)が供給、充填される多数の凹
所(2)が、外周面全体に単一パターンで一様に形成さ
れた、回転する砂まきロール(31)を備えるととも
に、砂が凹所から落下し始めるまでの間に、任意の一部
の凹所からそこに充填された砂を落下させずに除去する
砂除去手段(7)を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、砂まき装
置に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発
明は、単一の凹所パターンであっても多様なパターンの
砂まきを可能とした砂まき装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】セメント板から作製される外壁材、屋根
材などの外装材には、表面化粧を含む様々な表面処理が
施されている。たとえば、製造途中にあるセメント質基
材の表面に砂を散布することが一例として挙げられる。
この砂散布に使用される砂まき装置は、たとえば図4
(a)(b)に示したように、砂(1)が供給、充填さ
れる多数の凹所(2)が、外周面全体に一様に形成され
た図4(a)図中の矢印方向に回転する砂まきロール
(3)を備えている。この砂まき装置では、砂まきロー
ル(3)の回転により凹所(2)に充填された砂(1)
が砂まきロール(3)の下方を図4(a)図中の矢印方
向に通過するセメント質基材(4)の表面に落下し、砂
まきが連続的に行われる。セメント質基材(4)の表面
上にまかれた砂(1)は、外装材の表面模様となり、ま
た、施工時の滑り止めなどとして機能する。
【0003】このような砂まき装置は、また、砂まきロ
ール(3)の直上にホッパー(5)を備えることができ
る。このホッパー(5)は、ここに供給され、貯留する
砂(1)を砂まきロール(3)の外周面に供給する。砂
まき装置には、さらに、砂(1)の凹所(2)からの落
下位置付近に、砂まきロール(3)の外周面に近接して
ドクター(6)を配設することもできる。ドクター
(6)は、ホッパー(5)から砂まきロール(3)の外
周面に供給された砂(1)を凹所(2)に充填させ、余
分な砂(1)をかき落とし、すべての凹所(2)に砂
(1)を定量充填する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
砂まき装置で多様な表面模様に容易に対応することがで
きない。なぜならば、表面模様は、セメント質基材
(4)の表面にまかれる砂(1)の散布パターンにより
変化するからである。表面模様を多様化するには、砂
(1)の散布パターンを変えなければならないが、その
ためには、前述の砂まきロール(3)の外周面全体に形
成する凹所(2)のパターンを、図4(b)(c)に例
示されるような複数種とする必要がある。だが、凹所
(2)のパターンを図4(b)に示したような千鳥状か
ら図4(c)に示したような花弁状に変更するには、当
然、各々のパターンの凹所(2)を外周面全体に有する
砂まきロール(3)をそれぞれ用意しなければならず、
砂まき時には所要の砂まきロール(3)に変更しなけれ
ばならない。
【0005】このように、前述の砂まき装置には、各パ
ターン毎の凹所(2)が外周面全体に形成された砂まき
ロール(3)を個別に用意することになるため、砂まき
ロール(3)の製造、維持などに費用がかさみ、また、
表面模様に応じて砂まきロール(3)を交換する手間が
かかるばかりでなく、その際に、砂まきを一旦停止しな
ければならないという不都合がある。
【0006】この出願の発明は、以上のとおりの事情に
鑑みてなされたものであり、単一の凹所パターンであっ
ても多様なパターンの砂まきを可能とした砂まき装置を
提供することを解決すべき課題としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】この出願の発明は、上記
の課題を解決するものとして、砂が供給、充填される多
数の凹所が、外周面全体に単一パターンで一様に形成さ
れた、回転する砂まきロールを備え、この砂まきロール
の回転により前記凹所に充填された砂を、砂まきロール
の下方を通過するセメント質基材の表面に落下させ、任
意パターンの砂まきを可能にした砂まき装置であり、砂
が凹所から落下し始めるまでの間に、任意の一部の凹所
からそこに充填された砂を落下させずに除去する砂除去
手段を備えていることを特徴とする砂まき装置(請求項
1)を提供する。
【0008】また、この出願の発明は、以上の砂まき装
置に関し、砂まきロールの凹所に対応する部位に、砂ま
きロールの内外を連通させ、砂より開口径の小さい細孔
が設けられ、砂除去手段は、砂まきロールに内蔵された
エアーノズルを有し、このエアーノズルから細孔に向け
てエアーを吹き付けることにより凹所に充填された砂を
吹き飛ばし、除去すること(請求項2)、砂除去手段
は、砂まきロールの外側に配置されたエアーノズルを有
し、このエアーノズルから凹所に向けてエアーを吹き付
けることによりそこに充填された砂を吹き飛ばし、除去
すること(請求項3)、砂除去手段は、砂まきロールの
外周面に近接して配置された吸引ホースを有し、この吸
引ホースを通じて減圧吸引することにより凹所から充填
された砂を除去すること(請求項4)をそれぞれ一態様
として提供する。
【0009】以下、図面に沿って実施形態を示し、この
出願の発明の砂まき装置についてさらに詳しく説明す
る。
【0010】
【発明の実施の形態】図1(a)(b)(c)はそれぞ
れこの出願の発明の砂まき装置の一実施形態を示した構
成図、要部断面図、砂まきロールの展開図である。
【0011】図1(a)(b)(c)にそれぞれ示した
ように、この出願の発明の砂まき装置は、砂(1)が供
給、充填される多数の凹所(2)が、外周面全体に単一
パターンで一様に形成された、図1(a)図中に示した
矢印方向に回転する砂まきロール(31)を備え、この
砂まきロール(31)の回転により、凹所(2)に充填
された砂(1)を、砂まきロール(31)の下方を図1
(a)図中の矢印方向に通過するセメント質基材(4)
の表面に落下させ、任意パターンの砂まきを可能にして
いる。具体的には、この出願の発明の砂まき装置は、砂
(1)が凹所(2)から落下し始めるまでの間に、任意
の一部の凹所(2)からそこに充填された砂(1)を落
下させずに除去する砂除去手段(7)を備えている。し
たがって、この出願の発明の砂まき装置では、砂まきロ
ール(31)の外周面全体に一様に形成された凹所
(2)が、たとえば図1(c)に示したような千鳥状な
どの単一パターンであっても、上記砂除去手段(7)に
より、任意の一部の凹所(2)に充填された砂(1)を
セメント質基材(4)に落下させず除去することができ
るため、砂(1)を除去する凹所(2)を変更するだけ
で多様な表面模様に対応することができ、その対応は容
易となる。図4(a)(b)(c)に示した砂まき装置
のように、砂まきロール(3)を凹所(2)のパターン
毎複数本用意する必要はなく、凹所(2)は単一パター
ンであり、砂まきロール(31)は一本でよい。したが
って、砂まきロール(3)の製造、維持などの前述の問
題が解消され、また、砂まきロール(3)を交換する手
間はかからず、しかも砂まきを連続して行いながらセメ
ント質基材(4)表面上の砂(1)の散布パターンを変
更することができる。
【0012】なお、この出願の発明の砂まき装置は、図
4(a)(b)(c)に示した砂まき装置と同様に、ホ
ッパー(5)およびドクター(6)を備えることができ
る。また、この出願において言及する砂(1)は、いわ
ゆる砂をはじめ、粒径が砂と同様な各種粒状物なども含
む。
【0013】より具体的には、この出願の発明の砂まき
装置には、図1(a)(b)に示したように、砂まきロ
ール(31)の凹所(2)に対応する部位に、砂まきロ
ール(31)の内外を連通させ、砂(1)より開口径の
小さい細孔(8)を設けることができ、砂除去手段
(7)は、砂まきロール(3)に内蔵されたエアーノズ
ル(9)を有し、このエアーノズル(9)から細孔
(8)に向けてエアーを吹き付けることにより凹所
(2)に充填された砂(1)を吹き飛ばし、除去するよ
うにすることができる。
【0014】砂まきロール(31)は、一般に中空の円
筒体とされる。図1(a)(b)に示した実施形態で
は、砂まきロール(31)の外周面全体に単一パターン
で一様に形成された凹所(2)において、砂まきロール
(31)それ自体は内外に貫通している。一方、砂まき
ロール(31)には、その内周面に、砂(1)の径より
小さな目開きを有するワイヤーメッシュなどの網体(1
0)がライニングされ、こうして、砂まきロール(3
1)の凹所(2)に対応する部位に、砂まきロール(3
1)の内外を連通させる、砂(1)より開口径の小さい
細孔(8)が形成され、砂まきロール(31)における
凹所(2)は、文字通り、凹所として機能する。
【0015】エアーノズル(9)には、モータ、ポン
プ、配管、電磁弁などを備えた給気系に接続することが
でき、先端の細いノズル口から図1(a)(b)図中に
示した矢印方向にエアーを噴射することができる。エア
ーノズル(9)は、また、図1(c)に示したように、
砂まきロール(31)の外周面全体に単一パターンで一
様に形成された凹所(2)の外周方向のピッチ(d)に
合わせて、砂まきロール(31)の内部に複数本配置す
ることができる。さらに、給気系によるエアーノズル
(9)からのエアー噴射のON/OFFは、電磁弁のシ
ーケンサーにより制御することもでき、この場合、数m
sec単位でエアー噴射をコントロールすることが可能
である。さらにまた、PC(パーソナル・コンピュー
タ)などを用い、砂(1)の散布パターンを登録、管理
することにより、エアーノズル(9)からのエアー噴射
を瞬時に切り替えることも可能である。
【0016】そして、図1(a)(b)(c)に示した
砂まき装置では、まきたくない砂(1)は凹所(2)か
ら吹き飛ばされるため、吹き飛ばした砂(1)がセメン
ト質基材(4)の表面に落下することのないように、ま
た、省資源化を図り、砂(1)を再利用することができ
るように、砂まき装置には、図1(a)(b)に示した
ように、回収樋(11)を設けることが好ましい。
【0017】回収樋(11)は、エアーノズル(9)に
対向するとともに、回収口(12)が砂まきロール(3
1)の外周面に対向し、かつ砂まきロール(31)に近
接して配置される。
【0018】また、この出願の発明の砂まき装置では、
図2(a)(b)(c)に示したように、砂まき除去手
段(7)は、砂まきロール(31)の外側に配置された
エアーノズル(9)を有し、このエアーノズル(9)か
ら凹所(2)に向けて図2(b)図中に示した矢印方向
にエアーを吹き付けることによりそこに充填された砂
(1)を吹き飛ばし、除去するようにすることもでき
る。
【0019】図2(a)(b)(c)に示した実施形態
では、図1(a)(b)(c)に示した実施形態と異な
り、エアーノズル(9)が砂まきロール(31)の外側
に配置されるため、凹所(2)において砂まきロール
(31)は内外を貫通せずともよく、また、前述の網体
(10)のライニングも不要である。
【0020】エアーノズル(9)については、砂まきロ
ール(31)の外側での配置を除き、図1(a)(b)
(c)に示した実施形態とほぼ同様とすることができ
る。一方、エアーノズル(9)は図2(a)(b)に示
したように、斜め上方に傾斜させて配置するのが好まし
い。この斜め上方に傾斜しての配置により、エアーノズ
ル(9)から噴射されるエアーは、図2(b)図中の矢
印方向に示したように、凹所(2)に充填された砂
(1)を上方に吹き上げるため、確実に砂(1)を吹き
飛ばすことができ、また、セメント質基材(4)表面へ
の落下を効果的に防止することができる。しかも、吹き
飛ばした砂(1)がエアーノズル(9)の先端に降りか
かりにくくなり、ノズル口が飛散した砂(1)により詰
まるのを抑制することができる。
【0021】このような図2(a)(b)(c)に示し
た実施形態にも、図1(a)(b)(c)に示した実施
形態と同様に、回収樋(11)を設けることが好まし
く、その配置位置も同様とすることができる。一方、図
2(a)(b)(c)に示した実施形態では、エアーノ
ズル(9)が、前述のとおり、砂まきロール(31)の
外側に配置されるため、図2(b)に示したように、エ
アーノズルを回収樋(11)に内蔵すると砂まき装置が
コンパクトなものとなるなど、好ましい。
【0022】さらに、この出願の発明の砂まき装置で
は、図3(a)(b)(c)に示したように、砂除去手
段(7)は、砂まきロール(31)の外周面に近接して
配置された吸引ホース(13)を有し、この吸引ホース
(13)を通じて、図3(a)図中に示した矢印方向に
減圧吸引することにより凹所(2)から充填された砂
(1)を除去するようにすることもできる。
【0023】吸引ホース(13)には、モータ、ポン
プ、配管、電磁弁などを備えた排気系に接続することが
でき、先端の吸引口から凹所(2)に充填された砂
(1)を吸引、除去することができる。吸引ホース(1
3)は、図2(a)(b)に示したエアーノズル(9)
と異なり、砂(1)を直接吸引するため、吸引ホース
(13)の先端部は、図3(a)(b)に示したよう
に、砂まきロール(31)の凹所(2)に対向させて配
置するのが好ましい。一方、この吸引ホース(13)
も、図1(a)(b)(c)に示した実施形態における
エアーノズル(9)と同様に、凹所(2)の外周方向の
ピッチ(d)に合わせて複数本配置することができ、上
記排気系の制御、PCなどを用いた砂(1)の散布パタ
ーンの登録、管理も、エアーノズル(9)と同様の方式
を採用することができる。
【0024】なお、図3(a)(b)(c)に示した実
施形態においても、吸引、除去した砂(1)は回収し、
砂まきに再利用するのが好ましい。
【0025】もちろんこの出願の発明は、以上の実施形
態により限定されるものではない。砂まきロールや砂除
去手段の構成及び構造などの細部については様々な態様
が可能であることはいうまでもない。
【0026】
【発明の効果】以上詳しく説明したとおり、この出願の
発明によって、単一の凹所パターンであっても多様なパ
ターンの砂まきが可能となる。砂まきロールは1本でよ
く、優れたコストパフォーマンスを実現し、交換の手間
がなく、連続的な砂まきにおいて散布パターンを変える
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)(b)(c)は、それぞれ、この出願の
発明の砂まき装置の一実施形態を示した構成図、要部断
面図、砂まきロールの展開図である。
【図2】(a)(b)(c)は、それぞれ、この出願の
発明の砂まき装置の一実施形態を示した構成図、要部断
面図、砂まきロールの展開図である。
【図3】(a)(b)(c)は、それぞれ、この出願の
発明の砂まき装置の一実施形態を示した構成図、要部断
面図、砂まきロールの展開図である。
【図4】(a)(b)(c)は、それぞれ、この出願の
発明前の砂まき装置の概要とその問題点を示した構成
図、砂まきロールの展開図である。
【符号の説明】
1 砂 2 凹所 3,31 砂まきロール 4 セメント質基材 5 ホッパー 6 ドクター 7 砂除去手段 8 細孔 9 エアーノズル 10 網体 11 回収樋 12 回収口 13 吸引ホース
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 草山 正平 大阪府門真市大字門真1048番地 松下電工 株式会社内 Fターム(参考) 4G055 AA01 AC01 BA34 BA40

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 砂が供給、充填される多数の凹所が、外
    周面全体に単一パターンで一様に形成された、回転する
    砂まきロールを備え、この砂まきロールの回転により前
    記凹所に充填された砂を、砂まきロールの下方を通過す
    るセメント質基材の表面に落下させ、任意パターンの砂
    まきを可能にした砂まき装置であり、砂が凹所から落下
    し始めるまでの間に、任意の一部の凹所からそこに充填
    された砂を落下させずに除去する砂除去手段を備えてい
    ることを特徴とする砂まき装置。
  2. 【請求項2】 砂まきロールの凹所に対応する部位に、
    砂まきロールの内外を連通させ、砂より開口径の小さい
    細孔が設けられ、砂除去手段は、砂まきロールに内蔵さ
    れたエアーノズルを有し、このエアーノズルから細孔に
    向けてエアーを吹き付けることにより凹所に充填された
    砂を吹き飛ばし、除去する請求項1記載の砂まき装置。
  3. 【請求項3】 砂除去手段は、砂まきロールの外側に配
    置されたエアーノズルを有し、このエアーノズルから凹
    所に向けてエアーを吹き付けることによりそこに充填さ
    れた砂を吹き飛ばし、除去する請求項1記載の砂まき装
    置。
  4. 【請求項4】 砂除去手段は、砂まきロールの外周面に
    近接して配置された吸引ホースを有し、この吸引ホース
    を通じて減圧吸引することにより凹所から充填された砂
    を除去する請求項1記載の砂まき装置。
JP2002116777A 2002-04-18 2002-04-18 砂まき装置 Expired - Fee Related JP4150205B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002116777A JP4150205B2 (ja) 2002-04-18 2002-04-18 砂まき装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002116777A JP4150205B2 (ja) 2002-04-18 2002-04-18 砂まき装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003311728A true JP2003311728A (ja) 2003-11-05
JP4150205B2 JP4150205B2 (ja) 2008-09-17

Family

ID=29534213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002116777A Expired - Fee Related JP4150205B2 (ja) 2002-04-18 2002-04-18 砂まき装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4150205B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102836809A (zh) * 2012-09-30 2012-12-26 东北石油大学 套管外表面自动喷砂装置
CN102847640A (zh) * 2012-09-30 2013-01-02 东北石油大学 油田固井套管外表面自动粘胶-粘砂装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102836809A (zh) * 2012-09-30 2012-12-26 东北石油大学 套管外表面自动喷砂装置
CN102847640A (zh) * 2012-09-30 2013-01-02 东北石油大学 油田固井套管外表面自动粘胶-粘砂装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4150205B2 (ja) 2008-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2005034815A (ja) 装飾用粉粒状物散布装置、およびこの装置を用いた建築用化粧板の製造方法
US11897165B2 (en) Production line of CA abrasive
CA2130324A1 (en) Method and means for uniformly coating particulate material
CN111391084A (zh) 一种立体感强的陶瓷砖的生产系统及工艺
CN101125419A (zh) 抛光垫和化学机械抛光装置
CZ285789B6 (cs) Způsob mikročištění ploch a zařízení k jeho provádění
EP1034905A2 (en) An apparatus for depositing layers of glaze and the like on ceramic supports
JPS61154562A (ja) タブレツト塗被装置及び方法
JP2003311728A (ja) 砂まき装置
EP0367782A1 (en) Arrangement for cleaning surfaces of a wool chamber in the manufacture of mineral wool
KR100393374B1 (ko) 직압식 연속 연마재 공급·분사방법 및 장치
WO2000058017A1 (fr) Procede et dispositif pour appliquer un revetement par pulverisation en spirale
JPH11290806A (ja) 錠剤表面の粉取り装置
JP2008063192A (ja) 骨材微粉除去装置
CN102601001B (zh) 无气喷涂装置及方法
RU2433037C2 (ru) Декорирование порошкообразным материалом
CN115556465A (zh) 一种先印后烫工艺中纸张上残留颗粒的消除方法及装置
JP2010114245A (ja) レジスト塗布装置
JP4160272B2 (ja) 塗料の循環装置、塗装機及び塗装材の製造方法
CN108748602A (zh) 一种砂光粉回收处理系统及方法
JPH0938864A (ja) ブラスト加工における研磨材供給方法および装置
JP2004167609A (ja) 研磨材の篩方法及び篩装置
JPH10249732A (ja) ブラスト加工における研磨材供給・噴射方法および装置
JP3100510B2 (ja) 窯業系板材の表面化粧方法
JP3100382B1 (ja) 砂散布装置

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20040120

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20040329

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A621 Written request for application examination

Effective date: 20050413

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Effective date: 20080331

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20080610

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20080627

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees