JP2003305020A5 - - Google Patents

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  1. 静磁場を発生する静磁場発生手段と、前記静磁場中にＲＦパルスを発生するＲＦパルス発生手段と、前記静磁場中に配置された被検体に対して所定のパルスシーケンスに基づいて前記ＲＦパルスを印加して核磁気共鳴信号を計測する計測制御手段とを備え、
    前記パルスシーケンスは、前記被検体の縦磁化を反転させるＲＦ反転パルスと、前記反転された縦磁化から横磁化を生じさせるＲＦ励起パルスと、前記横磁化の位相を再収束させる１以上のＲＦ再収束パルスと、前記再収束された横磁化を縦磁化に回復させるＲＦ回復パルスとを有する磁気共鳴イメージング装置において、
    前記計測制御手段は、前記ＲＦ回復パルスの位相と前記ＲＦ励起パルスの位相とを同一にすることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  2. 静磁場を発生する静磁場発生手段と、前記静磁場中にＲＦパルスを発生するＲＦパルス発生手段と、前記静磁場中に配置された被検体に対して所定のパルスシーケンスに基づいて前記ＲＦパルスを印加して核磁気共鳴信号を計測する計測制御手段とを備え、
    前記パルスシーケンスは、前記被検体の縦磁化を反転させるＲＦ反転パルスと、前記反転された縦磁化から横磁化を生じさせるＲＦ励起パルスと、前記横磁化の位相を再収束させる１以上のＲＦ再収束パルスと、前記再収束された横磁化を縦磁化に回復させるＲＦ回復パルスとを有する磁気共鳴イメージング装置において、
    前記計測制御手段は、前記ＲＦ励起パルスの印加時点における所望成分の前記縦磁化の正負に対応して、前記ＲＦ回復パルスの位相を制御することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  3. 請求項２記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記計測制御手段は、前記所望成分の縦磁化が負の場合には、前記ＲＦ回復パルスの位相を前記ＲＦ励起パルスの位相と同一にし、前記所望成分の縦磁化が正の場合には、前記ＲＦ回復パルスの位相を前記ＲＦ励起パルスの位相と逆にすることを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
  4. 請求項１乃至３のいずれかに記載の磁気共鳴イメージング装置において、前記計測制御手段は、前記ＲＦ再収束パルスの印加回数が奇数回の場合には、それが偶数回となるようにダミーの前記ＲＦ再収束パルスを前記ＲＦ回復パルスの前に印加することを特徴とする磁気共鳴イメージング装置。
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