JP2003303894A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 入力回路と出力回路を有する半導体集積回路
において、出力回路の電源上に発生した電源ノイズの入
力回路に対する影響を低減する半導体集積回路を提供す
る。 【解決手段】 半導体集積回路は、信号を入力する入力
回路11と、入力した信号に対して所定の機能を実行す
る内部回路15と、所定の機能が実行された信号を出力
する出力回路13とを有し、外部電源電圧VDDと、外
部電源電圧VDDよりもIO用電源電圧VDDQとを入
力する。入力回路11には外部電源電圧VDDを降圧し
た電圧VIOが供給され、出力回路13にはIO用電源
電圧VDDQが供給される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路に関
し、特に、入力バッファ、内部回路及び出力バッファを
有し、内部回路と入出力バッファとの間で供給する電源
電圧が異なる半導体集積回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図13に従来の半導体集積回路の回路構
成を示す。同図に示すように、半導体集積回路は、外部
からデータ信号を受け取るための入力回路11と、半導
体集積回路の所定の機能に対応した処理を行なう内部回
路15と、内部回路15から受けたデータ信号を後段の
回路に出力するための信号に形成する出力回路13とか
らなる。
【0003】このような半導体集積回路に対しては、近
年の低電力化の要請から、全体として低い電源電圧を供
給することが好ましい。電源電圧を低くすると、内部回
路15において処理能力を十分に得ることができないと
いう弊害がある。このため、内部回路には高い電源電圧
を供給する一方、入力回路及び出力回路にはIO用電源
として低い電源電圧を供給するという手法が考えられ
る。
【0004】例えば、図13に示す例では、内部回路1
5に対しては高い電源電圧VDD(例えば3.0V)が
供給され、入力回路11及び出力回路13に対してはI
O用電源として電源電圧VDDよりも低い電源電圧VD
DQ(例えば1.8V)が供給されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このように入
力回路に低電圧の電源を入力していても、入力回路に入
力信号が入力されるとき、入力信号のしきい値が大きく
変化するという問題がある。
【0006】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
のであり、その目的とするところは、入力回路と出力回
路を有する半導体集積回路において、入力回路の入力信
号のしきい値の変化を抑制する半導体集積回路を提供す
ることにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る第1の半導
体集積回路は、信号を入力する入力回路と、入力した信
号に対して所定の機能を実行する内部回路と、所定の機
能が実行された信号を出力する出力回路とを有する。半
導体集積回路は、外部から第1の電源電圧と、第1の電
源電圧よりも低い第2の電源電圧とを入力する。入力回
路には第1の電源電圧を降圧した電圧を供給し、出力回
路には第2の電源電圧を供給する。
【0008】本発明に係る第2の半導体集積回路は、第
1の半導体集積回路において、さらに、第1の電源電圧
を降圧する第1の降圧回路と、第1の降圧回路により降
圧された電圧をさらに降圧する第2の降圧回路とを備え
る。第1の降圧回路からの電圧を内部回路に供給し、第
2の降圧回路からの電圧を前記入力回路に供給する。
【0009】本発明に係る第3の半導体集積回路は、第
2の半導体集積回路において、第2の降圧回路からの電
圧が入力用電源電圧の動作規格範囲内にある。
【0010】本発明に係る第4の半導体集積回路は、第
1の半導体集積回路において、第2の降圧回路がNMO
Sトランジスタからなり、NMOSトランジスタのしき
い値電圧を用いて降圧する。
【0011】本発明に係る第5の半導体集積回路は、第
1の半導体集積回路において、通常動作時においては、
入力回路に第1の電源電圧を供給し、集積回路内の消費
電流を低減する動作モードであるパワーダウンモードで
の動作時においては、入力回路に第2の電源電圧を供給
する。
【0012】本発明に係る第6の半導体集積回路は、第
1の半導体集積回路において、入力回路に供給する電源
として、第1の電源電圧又は第1の電源電圧を降圧した
電圧のいずれか一方を選択する選択回路をさらに備え
る。
【0013】本発明に係る第7の半導体集積回路は、第
6の半導体集積回路において、入力回路は、第1の電源
電圧を受けて動作する第1のバッファ回路と、第1の電
源電圧を降圧した電圧を受けて動作する第2のバッファ
回路とを備える。選択回路は入力回路に供給される電源
に応じていずれかのバッファ回路を選択する。
【0014】本発明に係る第8の半導体集積回路は、第
6の半導体集積回路において、選択回路は選択信号によ
り電源の選択を行なう。選択信号は所定の電位に接続さ
れたインナーリードをパッドに電気的に接続することに
より生成される。
【0015】本発明に係る第9の半導体集積回路は、第
6の半導体集積回路において、選択回路は選択信号によ
り電源の選択を行なう。選択信号は書替え可能な記憶装
置に記録された所定のデータに基いて生成される。
【0016】本発明に係る第10の半導体集積回路は、
第9の半導体集積回路において、書替え可能な記憶装置
が他の集積回路内に設けられ、かつ、当該半導体集積回
路と同一モールド内に設けられる。
【0017】本発明に係る第11の半導体集積回路は、
第6の半導体集積回路において、選択回路は選択信号に
より電源の選択を行なう。選択信号はヒューズの電気的
切断の有無に応じて生成される。
【0018】本発明に係る第12の半導体集積回路は、
第8、第9または第11の半導体集積回路において、テ
ストモード信号が入力されたときに、外部から入力した
テスト信号を前記選択信号として出力するモード選択回
路をさらに備える。
【0019】
【発明の実施の形態】以下添付の図面を参照して、本発
明に係る半導体集積回路の実施の形態を詳細に説明す
る。なお、入力回路の入力信号のしきい値が大きく変化
するタイミングを調査解析したところ、データの出力時
に発生することが分かった。さらに、これは、入力回路
と出力回路が低い電源電圧であるものの電源が共通する
ことから、入力回路が出力回路からのノイズの影響を受
けるために生じることがわかった。以上の点を考慮して
以下の実施の形態で示す構成を考案した。
【0020】実施の形態1.図1に本発明に係る半導体
集積回路の構成を示す。半導体集積回路は、外部からデ
ータ信号を受け取るための入力バッファを含む入力回路
11と、半導体集積回路の所定の機能に対応した処理を
行なう内部回路15と、内部回路15から受けたデータ
信号を後段の回路に出力するための信号に形成する出力
バッファを含む出力回路13とからなる。半導体集積回
路はさらに降圧回路21、23を有する。
【0021】本半導体集積回路は外部から駆動電源とし
て2種類の電圧を入力するため2つの電源入力端子を有
する。2種類の電圧の一方は、内部回路を駆動するため
の電圧(例えば3.0V)を供給する電源(以下「外部
電源」)VDDであり、他方は入出力用回路を駆動する
ための低い電圧(例えば1.8V)を供給する電源(以
下「IO用電源」)VDDQである。
【0022】図1に示すように、出力回路13にはIO
用電源VDDQが接続される。内部回路には外部電源V
DDの電圧を降圧回路21で降圧した後の電圧(例えば
2.5V)が供給される。また、入力回路11には降圧
回路21で降圧した電圧をさらに降圧回路23で降圧し
た電圧VIO(例えば1.8V)が供給される。なお、
降圧回路23で降圧した電圧VIOはIO用電源として
の動作規格範囲内の電圧になるようにする。
【0023】このように、半導体集積回路に供給される
IO用電源VDDQは出力回路13のみに供給され、外
部電源VDDは内部回路15及び入力回路11にそれぞ
れ降圧後に供給される。つまり、入力回路11の電源
と、出力回路13の電源とが分離されているため、出力
回路11からのデータ出力時にIO用電源VDDQに大
きなノイズが乗ったとしても、入力回路11の電源には
ノイズの影響が及ばないので、入力回路に含まれる入力
信号のしきい値の変動等の問題が解消される。
【0024】なお、図2に示すように、入力回路11に
IO用電源VDDQを接続し、出力回路13に、外部電
源VDDを降圧回路21及び降圧回路23を介して接続
するようにしてもよい。このような構成でも、入力回路
11の電源と出力回路13の電源とを分離でき、上記の
場合と同様の効果が得られる。
【0025】実施の形態2.次に、実施の形態1の効果
に加え、さらに、消費電力を低減する動作モードを備え
た半導体集積回路の構成、動作を説明する。
【0026】図3に本実施形態の半導体集積回路の構成
を示す。本実施形態の半導体集積回路は図1に示す構成
に加えてさらに電源切替回路25を備えている。
【0027】電源切替回路25には、降圧回路21、2
3を介して外部電源VDDと、IO用電源VDDQとが
接続される。電源切替回路25はこれらの2つの電源の
うちのいずれか一方を入力回路11に選択的に接続す
る。
【0028】図4は電源切替回路25のさらに詳細な構
成を示した図である。電源切替回路25は、所定の制御
信号を出力するコマンドモード回路33と、IO用電源
VDDQに接続されたPMOSトランジスタQ21と、
インバータとを含む。降圧回路23はNMOSトランジ
スタQ22からなり、トランジスタQ22のしきい値電
圧分だけ降圧回路21からの電圧を降圧する。
【0029】コマンドモード回路33は所定の機能を実
現するための制御信号を出力する。所定の機能には、リ
セット機能、パワーダウン機能が含まれる。本実施形態
では特にパワーダウン機能に着目する。パワーダウン機
能は半導体集積回路の消費電力を低減するための機能で
ある。パワーダウン機能動作時(このときの動作モード
を「パワーダウンモード」という。)は、半導体集積回
路において最低限必要な回路部に対してのみ電力を供給
するようにすることにより、半導体集積回路全体での消
費電力が低減される。
【0030】以下、電源切替回路25の動作を、通常動
作時及びパワーダウン機能動作時に分けて説明する。な
お、以下では、外部電源VDDの電圧を3.0V、降圧
回路21で降圧して得られる電圧を2.5V、IO用電
源VDDQの電圧を1.8Vとする。
【0031】(1)通常動作時 通常動作モード時は、コマンドモード回路33は制御信
号を「L(Low)」とする。このとき、トランジスタQ
21にはインバータを介して「H(High)」が入力さ
れ、トランジスタQ21はオフするため、IO用電源V
DDQの電圧は、電源線VIOに伝達されない。
【0032】一方、降圧回路23のトランジスタQ22
にはインバータを介して制御信号「H」が伝達され、ト
ランジスタQ22はオンする。これにより、外部電源V
DDの電圧を降圧回路21によってIO用電源VDDQ
の電圧まで降圧した電圧が電源線VIOに供給される。
すなわち、トランジスタQ22のしきい値電圧を0.7
Vとすると、電圧VIOは2.5V−0.7V=1.8
Vとなる。この電圧VIOを入力回路11の電源として
利用すれば、入力回路11の電源と、出力回路13の電
源とを分離でき、入力回路においてデータ出力時のノイ
ズの影響を排除できる。また、降圧回路23は回路規模
を小さくするためトランジスタQ22で構成している
が、外部からオン/オフが制御できれば他の構成でもよ
い。また、電圧VIOはその値が仕様上の適応範囲内に
入っていればよい。
【0033】以上のように、通常動作モード時には、入
力回路11に対して、外部電源VDDを降圧した電圧が
供給される。
【0034】(2)パワーダウンモード時 パワーダウンモード時は、コマンドモード回路33は制
御信号を「H」とする。このとき、トランジスタQ21
にはインバータを介して「L」が入力され、トランジス
タQ21はオンする。このため、IO用電源VDDQの
電圧が電源線VIOに供給される。
【0035】一方、降圧回路23のトランジスタQ22
にはインバータを介して制御信号「L」が伝達され、ト
ランジスタQ22はオフする。これにより、外部電源V
DDからの電圧は電源線VIOに供給されない。
【0036】以上のように、パワーダウンモード時に
は、入力回路11に対してIO用電源VDDQの電圧が
供給される。
【0037】入力回路11を外部電源VDDを降圧した
電圧で駆動する場合、入力信号は外部電源VDDに依存
し、入力回路11の駆動電源はIO用電源VDDQに依
存することになり、電源が異なることからいずれかの電
源電圧が変動した場合に若干の電位差が生じ多少のリー
ク電流が発生し、消費電流が増大するという問題があ
る。図4、図5に示す構成により、パワーダウンモード
時には、入力回路11において、入力データ信号と駆動
電源とはともにIO用電源VDDQに依存することにな
り、電源電圧の変動があっても入力データ信号と駆動電
源とは同様に変動するため、電位差を生じず、入力回路
の初段に含まれるバッファ回路の貫通電流を防止でき
る。
【0038】また、以上の構成により、通常動作時は入
力回路へのノイズの影響を排除でき、また、パワーダウ
ンモード時は消費電流を低減できる。
【0039】実施の形態3.本実施形態では、入力回路
への供給電源として外部電源とIO用電源の2種類の電
圧に対応可能な半導体集積回路について説明する。ユー
ザは本半導体集積回路を使用する際には、入力回路への
供給電源としていずれかの電源を選択する。図5に本実
施形態の半導体集積回路の入力回路の構成を示す。本実
施形態の入力回路11bはそれぞれ異なる電源電圧での
動作に適した2つのバッファ回路41、43を有してい
る。
【0040】バッファ回路41は電圧VIOで最適に動
作するよう設計された回路である。電圧VIOは上記の
実施形態1、2に示したように外部電源VDDを降圧し
て得られ、IO用電源電圧に等しい電圧となる。但し、
実施の形態2の場合であれば、パワーダウンモード時は
電圧VIOは外部電源VDDの電圧となる。バッファ回
路43は外部電源VDDの電圧で最適に動作するよう設
計された回路である。本半導体集積回路が電子機器に搭
載されて使用される際には、ユーザにより用途に応じて
2つのバッファ回路41、43のいずれか一方が選択さ
れる。
【0041】バッファ回路41は、PMOSトランジス
タQ31、Q32と、NMOSトランジスタQ33、Q
37とを含む。各トランジスタのサイズは、外部電源V
DDを降圧して得られる電圧VIOで最適に動作するよ
う設計されている。トランジスタQ32とトランジスタ
Q33とは入力バッファを構成する。トランジスタQ3
1は電源電圧VIOの供給を制御し、トランジスタQ3
7はデータ信号の伝達を制御する。
【0042】バッファ回路43は、PMOSトランジス
タQ34、Q35と、NMOSトランジスタQ36、Q
38とを含む。各トランジスタのサイズは、外部電源V
DDの電圧で最適に動作するよう設計されている。トラ
ンジスタQ35とトランジスタQ36とは入力バッファ
を構成する。トランジスタQ34は外部電源VDDの供
給を制御し、トランジスタQ38はデータ信号の伝達を
制御する。
【0043】バッファ回路41またはバッファ回路43
はイネーブル信号#ENA、#ENBにより選択され
る。ここで、信号名の前に付された「#」はその信号が
アクティブ・ローで動作することを示す。イネーブル信
号は信号生成回路(後述)により生成される。バッファ
回路41またはバッファ回路43は、信号INTAを入
力して後段の内部回路へ伝達する。なお、バッファ回路
41の出力は後段の内部回路へ伝達される前にレベル変
換回路45によって内部回路へ適した信号レベルに変換
(昇圧)される。
【0044】<半導体集積回路の動作>以下に、上記の
構成を有する半導体集積回路の動作について説明する。
【0045】(1)入力回路の駆動電源として外部電源
VDDを降圧した電源を使用する場合 イネーブル信号#ENBがアクティブ(「L」)、イネ
ーブル信号#ENAが非アクティブ(「H」)に制御さ
れる。
【0046】バッファ回路41において、イネーブル信
号#ENBがアクティブになると、トランジスタQ31
がオンし、トランジスタQ32、Q33からなる入力バ
ッファには動作電圧VIOが供給される。このとき、ト
ランジスタQ37はイネーブル信号#ENBが「L」で
あるから、オフする。故に、信号INTAがトランジス
タQ32、Q33からなる入力バッファからインバータ
INV32を介してレベル変換回路45に伝達される。
【0047】一方、バッファ回路43において、イネー
ブル信号#ENAが「H」であるから、トランジスタQ
34はオフする。また、トランジスタQ38がオンし、
インバータINV33に「L」を出力する。そして、イ
ンバータINV33は「H」をNAND回路NAN31
に出力する。
【0048】以上のように、NAND回路NAN31の
一方の入力が「H」であるため、NAND回路NAN3
1の他方の入力がインバータINV31を介して後段に
伝達される。すなわち、外部電源VDDの電圧での動作
に適して設計されたバッファ回路41からの出力が後段
の内部回路15へ伝達される。
【0049】(2)入力回路の駆動電源として外部電源
VDDを使用する場合 イネーブル信号#ENBが非アクティブ(「H」)、イ
ネーブル信号#ENAがアクティブ(「L」)に制御さ
れる。これにより、バッファ回路43において、トラン
ジスタQ34はオンし、トランジスタQ35、Q36か
らなる入力バッファに外部電源VDDから電圧が供給さ
れる。また、トランジスタQ38はオフする。一方、バ
ッファ回路41において、トランジスタQ31はオフす
る。また、トランジスタQ37がオンし、インバータI
NV32に「L」を出力する。
【0050】以上のようにして、外部電源VDDの電圧
での動作に適して設計されたバッファ回路43が選択さ
れ、そのバッファ回路43からの出力が後段の内部回路
15へ伝達される。
【0051】なお、上記の説明においては、2種類の電
源電圧に応じた2つのバッファ回路を設けたが、3種類
以上の電源電圧を切替えて使用する場合は、電源電圧に
応じた3種類以上のバッファ回路を設け、使用する動作
電圧に応じて一のバッファ回路を選択するようにしても
よい。
【0052】このように、本実施形態の入力回路によれ
ば、駆動電源に適して設計されたバッファ回路が使用さ
れるので、より効率のよい処理能力が実現できる。
【0053】<イネーブル信号の生成>次に、上記の入
力回路11bにおいてバッファ回路41、43を選択す
るためのイネーブル信号#ENA、#ENBの生成回路
について説明する。以下に説明するイネーブル信号#E
NA、#ENBの生成回路は本半導体集積回路内に設け
てもよい。または、その外部に設けてもよいが、このと
きは本半導体集積回路とともにモールドされ同一パッケ
ージ内に収納されるのが好ましい。
【0054】図6にイネーブル信号#ENA、#ENB
の生成回路の一例を示す。同図に示すように、生成回路
は2つのNAND回路と2つのインバータとからなる。
生成回路は、選択信号SELとイネーブル信号#ENと
から、前述のイネーブル信号#ENA、#ENBを生成
する。
【0055】イネーブル信号#ENはバッファ回路4
1、43のいずれかの選択を可能とする信号である。イ
ネーブル信号#ENが非アクティブであれば、いずれの
バッファ回路41、43も選択されない。
【0056】選択信号SELは、動作させるバッファ回
路を指定するための信号である。例えば、選択信号SE
Lは、バッファ回路41を選択されるときは「H」に
し、バッファ回路43を選択するときは「L」にする。
以下に、選択信号SELの生成回路のいくつかの例につ
いて説明する。
【0057】生成回路例1 図7にボンディングオプションを利用した選択信号SE
Lの生成回路を示す。生成回路51は2つのインバータ
からなり、その入力がパッド61に接続される。パッド
61は、「H」の選択信号SELを生成するときは、電
源(VDD)に接続するインナーリード63に接続さ
れ、「L」の選択信号SELを生成するときは、グラン
ド(GND)に接続するインナーリード65に接続され
る。
【0058】生成回路例2 図8は、図7に示す回路構成においてさらに選択信号の
テストを可能とする構成である。図8に示す構成では、
モード選択回路53を設けている。モード選択回路53
は、2つのトランスファーゲートTG1、TG2と、イ
ンバータを含む。トランスファーゲートTG1、TG2
には、インバータI3により、モードセレクト信号に応
じた互いに相補的な信号が入力される。モード選択回路
53には、テストモードを設定するためのモードセレク
ト信号と、テストデータ(テスト用選択信号)とが入力
される。
【0059】テストモード時においては、モードセレク
ト信号がアクティブ(すなわち「H」)になる。このと
き、トランスファーゲートTG2がオンになり、テスト
データを選択信号としてインバータI4に伝達する。ト
ランスファーゲートTG1はオフになり、パッド61か
らの信号をインバータI4に伝達しない。
【0060】一方、非テストモード時においては、モー
ドセレクト信号が非アクティブ(すなわち「L」)にな
る。このとき、トランスファーゲートTG1がオンにな
り、パッド61からの信号を選択信号としてインバータ
I4に伝達する。トランスファーゲートTG2はオフに
なり、テストデータをインバータI4に伝達しない。
【0061】この回路構成により、インナーリードとパ
ッド間のワイヤリングを行なう前に、外部から入力した
選択信号により、バッファ回路41、43の動作テスト
が可能となる。
【0062】生成回路例3 図9に、メモリ回路に記憶されたデータを選択信号SE
Lとして利用するための構成を示す。メモリ回路67は
書き替え可能なメモリであり、選択信号を与えるデータ
を記録する所定の記憶領域を有している。生成回路51
は、選択信号のデータが記録される所定の記憶領域から
読み出し信号が得られるように、例えばメモリ回路67
のデータ線に接続される。メモリ回路67の記録データ
を書き替えることにより、任意に切替信号の値を変更で
きる。メモリ回路67は半導体集積回路と同一チップ上
に設けてもよい。または、外部に設けられたものを利用
してもよいが、このときは半導体集積回路とともにモー
ルドされ、同一パッケージ内に収納されるのが好まし
い。
【0063】図10に示す回路構成は、図6に示す回路
構成にさらにモード選択回路53を設けたものである。
この回路構成により、メモリ回路67へデータを書き込
まなくとも、入力回路11bにおけるバッファ回路4
1、43の動作テストが可能となる。
【0064】生成回路例4 図11に、ヒューズを用いて選択信号を生成する回路構
成を示す。同図に示す回路は、PMOSトランジスタQ
91と、ヒュ-ズ91と、PMOSトランジスタQ9
2、Q93と、2つのインバータとからなる。電源VD
D、PMOSトランジスタQ91、ヒューズ91、2つ
のインバータが直列に接続されている。ヒューズ91と
前段のインバータの間のノードと、グランドとの間には
並列に接続されたNMOSトランジスタQ92、Q93
が接続されている。
【0065】選択信号SELとして「H」を出力させる
ときはヒュ-ズ91を導通状態にする。これにより、ノ
ードAが「H」となり、選択信号SELとして「H」が
出力される。選択信号SELとして「L」を出力させる
ときはヒュ-ズ91を切断して非導通状態にする。これ
により、ノードAが「L」となり、選択信号SELとし
て「L」が出力される。
【0066】図12に示す回路構成は、図7に示す回路
構成にさらにモード選択回路53を設けたものである。
この回路構成により、ヒューズ91を切断せずに入力回
路11bにおけるバッファ回路41、43の動作テスト
が可能となる。
【0067】なお、入力端子と出力端子が共通の端子で
も、この端子に接続される入力回路と出力回路で別々の
電源電圧を用いればよい。
【0068】
【発明の効果】本発明に係る第1の半導体集積回路によ
れば、入力回路に第1の電源電圧に基く電圧を供給し、
出力回路に第2の電源電圧を供給するため、入力回路の
電源と出力回路の電源とが分離される。それにより、入
力回路に対する、データ出力時に発生する出力回路の電
源ノイズの影響を排除できる。
【0069】本発明に係る第1の半導体集積回路によれ
ば、第1及び第2の降圧回路により、電源電圧から内部
回路及び入力回路に対する所望の電圧が得られる。
【0070】本発明に係る第3の半導体集積回路によれ
ば、第2の降圧回路からの電圧を入力用電源電圧の動作
規格範囲内にすることにより、入力回路へ電源として使
用できる。
【0071】本発明に係る第4の半導体集積回路によれ
ば、第2の降圧回路をNMOSトランジスタを用いて容
易に構成できる。
【0072】本発明に係る第5の半導体集積回路によれ
ば、パワーダウンモードでの動作時において、電源電圧
の変動によるリーク電流の発生を抑制できるため、より
低消費電力化が可能となる。
【0073】本発明に係る第6の半導体集積回路によれ
ば、選択回路により入力回路に供給する電源を第1の電
源または第2の電源に切替可能となるため、2種類のI
O用電源に対応した半導体集積回路を実現できる。
【0074】本発明に係る第7の半導体集積回路によれ
ば、入力回路を電源電圧に応じた2種類のバッファ回路
で構成している。電源電圧に応じて好適なバッファ回路
を選択することにより、半導体集積回路において電源電
圧に応じたより最適な回路で動作させることができる。
【0075】本発明に係る第8の半導体集積回路によれ
ば、選択回路を制御する選択信号を所定の電位に接続さ
れたインナーリードを用いて容易に生成できる。
【0076】本発明に係る第9の半導体集積回路によれ
ば、選択回路を制御する選択信号を、メモリ等の記憶装
置のデータを書き替えることで容易に生成できる。
【0077】本発明に係る第10の半導体集積回路によ
れば、第9の半導体集積回路を1つのチップで提供でき
る。
【0078】本発明に係る第11の半導体集積回路によ
れば、選択回路を制御する選択信号を、ヒューズを用い
ることで容易に生成できる。
【0079】本発明に係る第12の半導体集積回路によ
れば、インナーリードや記憶装置等を用いて生成される
選択信号を用いずに、電源の切替が可能となり、回路の
動作テストが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る実施の形態1の半導体集積回路
の構成図。
【図2】 実施の形態1の半導体集積回路の別の構成を
示した図。
【図3】 本発明に係る実施の形態2の半導体集積回路
の構成図。
【図4】 電源切替回路の詳細な構成を示した図。
【図5】 本発明に係る実施の形態3の半導体集積回路
における入力回路の構成を示した図。
【図6】 イネーブル信号#ENA、#ENBの生成回
路の例を示した図。
【図7】 選択信号生成回路の一例を示した図。
【図8】 動作テストを可能とする選択信号生成回路の
一例を示した図。
【図9】 選択信号生成回路の別の例を示した図。
【図10】 動作テストを可能とする選択信号生成回路
の別の例を示した図。
【図11】 選択信号生成回路のさらに別の例を示した
図。
【図12】 動作テストを可能とする選択信号生成回路
のさらに別の例を示した図。
【図13】 従来の半導体集積回路の構成図。
【符号の説明】
11,11b 入力回路、 13 出力回路、 15
内部回路、 21,23 降圧回路、 25 電源切替
回路、 33 コマンドモード回路、 41,43 バ
ッファ回路、 45 レベル変換回路、 51 選択信
号の生成回路、53 モード選択回路、 61 パッ
ド、 63 電源に接続するインナーリード、 65
グランドに接続するインナーリード、 67 メモリ回
路、 91 ヒューズ。
フロントページの続き (72)発明者 高塚 挙文 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5F038 AV13 AV14 AV15 BE07 BG03 BH01 BH19 CD15 DF01 DF05 DF08 DF17 DT02 EZ20 5J032 AA06 AB02 AC16 5J056 AA11 BB17 BB32 BB49 CC00 CC03 CC21 DD13 DD29 EE06 EE15 FF07 GG09

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 信号を入力する入力回路と、入力した信
    号に対して所定の機能を実行する内部回路と、所定の機
    能が実行された信号を出力する出力回路とを有する半導
    体集積回路において、 外部から第1の電源電圧と、第1の電源電圧よりも低い
    第2の電源電圧を入力し、前記入力回路には第1の電源
    電圧を降圧した電圧を供給し、前記出力回路には第2の
    電源電圧を供給することを特徴とする半導体集積回路。
  2. 【請求項2】 第1の電源電圧を降圧する第1の降圧回
    路と、該第1の降圧回路により降圧された電圧をさらに
    降圧する第2の降圧回路とを備え、 前記第1の降圧回路からの電圧を前記内部回路に供給
    し、前記第2の降圧回路からの電圧を前記入力回路に供
    給することを特徴とする請求項1記載の半導体集積回
    路。
  3. 【請求項3】 前記第2の降圧回路からの電圧は、入力
    用電源電圧の動作規格範囲内にあることを特徴とする請
    求項2記載の半導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記第2の降圧回路はNMOSトランジ
    スタからなり、該NMOSトランジスタのしきい値電圧
    を用いて降圧することを特徴とする請求項1記載の半導
    体集積回路。
  5. 【請求項5】 通常動作時においては、前記入力回路に
    第1の電源電圧を供給し、集積回路内の消費電流を低減
    する動作モードであるパワーダウンモードでの動作時に
    おいては、前記入力回路に第2の電源電圧を供給するこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記入力回路に供給する電源として、前
    記第1の電源電圧又は前記第1の電源電圧を降圧した電
    圧のいずれか一方を選択する選択回路をさらに備えたこ
    とを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】 前記入力回路は、前記第1の電源電圧を
    受けて動作する第1のバッファ回路と、前記第1の電源
    電圧を降圧した電圧を受けて動作する第2のバッファ回
    路とを備え、前記選択回路は入力回路に供給される電源
    に応じていずれかのバッファ回路を選択することを特徴
    とする請求項6記載の半導体集積回路。
  8. 【請求項8】 前記選択回路は選択信号により電源の選
    択を行ない、該選択信号は所定の電位に接続されたイン
    ナーリードをパッドに電気的に接続することにより生成
    されることを特徴とする請求項6記載の半導体集積回
    路。
  9. 【請求項9】 前記選択回路は選択信号により電源の選
    択を行ない、該選択信号は書替え可能な記憶装置に記録
    された所定のデータに基いて生成されることを特徴とす
    る請求項6記載の半導体集積回路。
  10. 【請求項10】 前記書替え可能な記憶装置は他の集積
    回路内に設けられ、かつ、当該半導体集積回路と同一モ
    ールド内に設けられたことを特徴とする請求項9記載の
    半導体集積回路。
  11. 【請求項11】 前記選択回路は選択信号により電源の
    選択を行ない、該選択信号はヒューズの電気的切断の有
    無に応じて生成されることを特徴とする請求項6記載の
    半導体集積回路。
  12. 【請求項12】 テストモード信号が入力されたとき
    に、外部から入力したテスト信号を前記選択信号として
    出力するモード選択回路をさらに備えたことを特徴とす
    る請求項8、9または11記載の半導体集積回路。
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