JP2003303412A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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JP2003303412A
JP2003303412A JP2002104152A JP2002104152A JP2003303412A JP 2003303412 A JP2003303412 A JP 2003303412A JP 2002104152 A JP2002104152 A JP 2002104152A JP 2002104152 A JP2002104152 A JP 2002104152A JP 2003303412 A JP2003303412 A JP 2003303412A
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JP
Japan
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film
group
compound
magnetic
recording medium
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Pending
Application number
JP2002104152A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazutoshi Katayama
和俊 片山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JP2003303412A publication Critical patent/JP2003303412A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a magnetic recording medium using a substrate wherein adhesive force between an undercoating film and the substrate is enhanced and blocking of the undercoating film and a back surface is prevented. <P>SOLUTION: In the magnetic recording medium having the undercoating film on at least one surface of the substrate and a magnetic film consisting of a ferromagnetic metal thin film on the undercoating film, the undercoating film consists of a silicone resin having an acryloxy group or a methacryloxy group. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は強磁性金属薄膜を磁
性膜とする磁気記録媒体に関するものである。 【0002】 【従来の技術】磁気テープ、フロッピー(登録商標)デ
ィスクあるいはハードディスク等の磁気記録媒体は一般
に、非磁性支持体上に磁性膜、保護膜などを成膜する工
程によって製造されている。このような磁気記録媒体に
おいては、スパッタ法や蒸着法等の真空成膜法によって
作製した強磁性金属薄膜を磁性膜とする磁気記録媒体が
実用化されている。上記のようなスパッタ法や蒸着法に
よって磁性膜を形成した磁気記録媒体は、高い磁気エネ
ルギーが容易に得られ、さらに非磁性支持体の表面を平
滑にすることによって平滑な磁性膜表面性を容易に達成
できるためスペーシングロスが少なく、高い電磁変換特
性を得ることができるため高密度記録材料に適してい
る。特にスパッタ法は蒸着法よりさらに磁気エネルギー
を高めることができるため、ハードディスクのような高
い記録密度が要求される媒体に採用されている。 【0003】そして、最近の磁気記録媒体では高記録密
度化の要求が強く、従来からさらに高い電磁変換特性が
必要となってきている。このため、磁気テープやフロッ
ピーディスクのように、非磁性支持体としてポリエチレ
ンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレート
フィルム等の可撓性高分子フィルムを用いたものにおい
て、記録密度の向上等を図るため、スパッタ法や蒸着法
で強磁性金属薄膜から成る磁性膜を形成することが望ま
しい。 【0004】しかし、そのような高分子フィルムは耐熱
性に劣るので、スパッタ法で成膜した場合、あるいは蒸
着法により蒸着速度を高めて成膜した場合、高分子フィ
ルムもしくはその表面が加熱されて非磁性支持体が変形
(熱負け)する、また、オリゴマーの析出等による表面
劣化が発生し、非磁性支持体の平滑な表面性、ひいては
磁性膜の平滑な表面性を得ることが困難である等の問題
がある。 【0005】この問題を解決するために、次のような技
術が提案されている。一つは、非磁性支持体である高分
子フィルムの材料として耐熱性樹脂を用いる方法であ
る。用いる耐熱性樹脂としては、ポリイミドフィルムな
どが考えられるが、一般にポリイミドフィルムは高価で
ある。加えて、非常に平滑で表面性の良いポリイミドフ
ィルムの作製、使用は技術上困難であり、この方法は現
実的ではない。 【0006】他には、例えば塗布により磁性膜を形成す
る従来の磁気記録媒体に一般に用いられている比較的安
価な高分子フィルム上に下塗膜を形成し、膜の平滑性や
耐熱性を高める方法が提案されている。 【0007】例えば特開平6−349042号には、比
較的表面の粗い高分子フィルム上に微粒子を含有した樹
脂膜を設けることにより適切な表面性を有するフィルム
を作製する方法が開示されている。しかし、ここで使用
されている一般的な樹脂結合剤を用いた場合、スパッタ
法により磁性膜を作製すると熱的なダメージによる表面
性の劣化が激しい。 【0008】また特開平7−225934号には、ポリ
エチレンテレフタレート上にポリエチレンナフタレート
を塗布し、熱によるオリゴマー析出を抑制する方法が開
示されている。しかし、ポリエチレンナフタレートを用
いても、スパッタ法で一般的な温度である200℃まで
フィルムを加熱するとオリゴマー析出による表面性の劣
化を生じる。 【0009】また特開平6−208717号には、より
耐熱性の高いポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂を高分子
フィルム上に塗布する方法が開示されている。このよう
な材料を用いるとスパッタ法に耐えうる耐熱性をフィル
ムに付与することが可能ではある。しかしポリアミド樹
脂やポリイミド樹脂は汎用溶剤に対する溶解性が低く、
扱いにくい溶剤を使用する必要がある。また、樹脂が汎
用溶剤に可溶性であっても、溶液の粘度が高いため、薄
くて均一な被膜が得られず、表面性を高めることは困難
である。さらにこのような方法では、溶剤を十分に乾燥
することが難しく、塗膜中の溶剤残留量が多くなるた
め、フィルムの巻き取り時に塗膜とフィルムのバック面
が接着してしまうブロッキングを引き起こしやすく、ま
た磁性膜を形成する際に揮発する残留溶剤が真空槽内を
汚染する可能性もある。 【0010】さらに耐熱性の高い被膜としては無機物の
被膜を形成することが有効であり、例えば、シラン化合
物の加水分解で得られるシリカ膜や金属アルコキシドか
ら得られる金属酸化物の被膜を形成することが考えられ
る。しかしながらそのような無機物の被膜では非磁性支
持体の熱変化についていけず、その被膜表面に割れが生
じてその上に成膜される磁性膜にクラックが発生すると
いう問題がある。 【0011】これらの問題をある程度解決したものとし
て、本出願人による特開平8−329443に記載され
ている、主にSi−O若しくはSi−O−Nからなる下
塗層を有する磁気記録媒体がある。この磁気記録媒体
は、平滑な表面性を有し、さらに支持体加熱を伴うスパ
ッタ法で磁性膜を作製した場合でも、表面性の劣化やク
ラックの発生がなく、ブロッキングを引き起こす虞れが
少ない下塗膜を有するものである。しかしながら、この
下塗膜の作製において、原料を塗布する際にはじきが発
生することがあり、下塗膜を均一なものとすることが困
難であった。また、この下塗膜は、重ね塗りをすること
が出来ず、膜の厚さを増加させることが不可能であっ
た。 【0012】そこで、上記課題に対処するため本出願人
は芳香族炭化水素基を有する有機残基を含んだシランカ
ップリング剤の重合物を主成分とする耐熱性の下塗膜を
提案した。しかしながら、コロナ処理が施されていない
アラミド支持体などにおいて、下塗膜との界面間の密着
力が十分でないケースが見られた。そして、密着力を上
げようとスルホン酸を含む化合物を添加すると下塗膜と
バック面でハリツキが発生し、密着力の改善と両立が取
れないと言う問題があった。 【0013】 【発明が解決しようとする課題】本発明は下塗膜と支持
体間の密着力が向上すると共に下塗膜とバック面でのハ
リツキが防止された支持体を用いた磁気記録媒体を提供
することを課題とする。 【0014】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体の少な
くとも一方の面に下塗膜、その上に強磁性金属薄膜から
成る磁性膜を有する磁気記録媒体において、該下塗膜は
芳香族基及び/又はエポキシ基を有する化合物を含む下
記一般式(1A)で表される化合物、及びアクリロキシ
基またはメタクリロキシ基を有する化合物を含む一般式
(1B)で表される化合物、を含む混合物の反応物から
なり、かつ一般式(1B)で表される化合物を一般式
(1A)で表される化合物100質量部に対して0.1
〜60質量部用いることを特徴とする磁気記録媒体。 一般式(1A) (R1a−Si−Xb (式中、a+b=4、a=0〜3(ただし、bが2以上
であるものを少なくとも含む)であり、R1はエポキシ
基を有してもよい炭素数1〜40の有機基を示し、Xは
加水分解性基を示す。) 一般式(1B) (R2c−Si−Xd (式中、c+d=4、c=1〜3であり、R2はアクリ
ロキシ基またはメタクリロキシ基を有してもよい炭素数
1〜40の有機基を示し、Xは加水分解性基を示す。) 本発明の好ましい態様は以下の通りである。 (1)前記強磁性金属薄膜が、スパッタ法により成膜さ
れたものであること。 (2)前記磁気記録媒体がディスク状であること。 (3)支持体に、前記一般式(1A)で表される化合物
及び前記一般式(1B)で表される化合物を含む塗布液
を塗布した後、加熱することにより下塗膜を形成して前
記磁気記録媒体を得ること。 (4)前記塗布液に硬化剤を添加すること。 (5)前記塗布液に金属キレート化合物から成る硬化剤
を添加すること。 【0015】 【発明の実施の形態】本発明により、支持体上に下塗膜
として形成される、前記一般式(1A)で表される化合
物(以下、化合物(1A)ともいう)及び前記一般式
(1B)で表される化合物(以下、化合物(1B)とも
いう)を含む混合物の反応物は、アクリロキシ基または
メタクリロキシ基を有するために支持体との密着力が向
上すると共に耐ブロッキング性が確保され、安定した良
好な磁気記録媒体を得ることができる。また、下塗膜は
シロキサン結合からなるが、少なくとも有機基を含むた
め、従来のポリエステル樹脂などと比較して、耐熱性、
耐ブロッキング性に優れている。またこの重合膜は、テ
トラエトキシシランなどを出発原料としたゾルゲル法に
よって作製されるシリカ膜と比較して耐クラック性に優
れている。 【0016】また、下塗膜の有機基は塗膜に柔軟性を付
与し、耐クラック性を向上させるとともに適切な表面エ
ネルギーを達成できるため、下塗液の塗布乾燥時のはじ
き現象を軽減でき、この効果は支持体上に付着物などの
欠陥が存在する場合に特に顕著に現れる。さらに本発明
の下塗膜上にさらに塗布を行う場合でも、その塗布液を
はじくことなく塗布することができ、重ね塗りによって
膜の厚みを増加させることができる。 【0017】さらに本発明ではシリコーン樹脂のモノマ
ー溶液を塗布液として使用して下塗膜を形成することが
できるため、塗布液粘度が低く、作製した下塗膜の平滑
性に特に優れており、ナノメータ、サブナノメーターの
尺度で平滑である。したがって将来の高記録密度用磁気
記録媒体の基板として非常に適している。 【0018】さらに、媒体を重ねて置いても下塗り成分
の移行によるブロッキング(貼り付き)がないという特
徴もある。 【0019】化合物(1A)について説明する。式中、
a+b=4、a=0〜3(ただし、bが2以上であるも
のを少なくとも含む)であり、好ましくはa=1であ
る。R1はエポキシ基を有してもよい炭素数1〜40の
有機基を示し、Xは加水分解性基を示す。 【0020】有機基としては、脂肪族基及び芳香族基が
挙げられる。脂肪族基としては、アルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アラルキル基などが挙げられ、ア
ルキル基が好ましく、炭素数1〜40のものが好まし
く、炭素数1〜35のものが更に好ましい。アルキル基
は、環状、直鎖、分岐あるいはそれらの組み合わせでも
よい。芳香族基としては、フェニル基が好ましい。有機
基のなかでは特に、メチル基またはフェニル基、エポキ
シ基、グリシジル基が好ましい。R1及び/又はXが複
数の場合、それらは同じでも異なってもよい。 【0021】化合物(1A)は、芳香族基及び/又はエ
ポキシ基を有する化合物を含む。従って、化合物(1
A)としては、少なくとも有機基として芳香族基を含む
化合物を含むか、有機基の水素原子が、エポキシ基で置
換された化合物を含まなければならない。 【0022】次にXについて説明する。Xは加水分解性
基を示す。加水分解性基は、−OH基または水との反応
で−OH基に変換し得る基を意味し、例えば、ハロゲン
原子、アルコキシ基、アセトキシ基、アミノ基、イソプ
ロペノキシ基等が挙げられ、中でもアルコキシ基が好ま
しく、特にメトキシ基またはエトキシ基が好ましい。 【0023】次に化合物(1B)について説明する。式
中、c+d=4、c=1〜3であり、R2はアクリロキ
シ基またはメタクリロキシ基を有してもよい炭素数1〜
40の有機基を示し、Xは加水分解性基を示す。ただ
し、該有機基の少なくとも1個は、アクリロキシ基また
はメタクリロキシ基を有しなければならない。 【0024】本発明において、アクリロキシ基またはメ
タクリロキシ基を有する炭素数1〜40の有機基は少な
くとも支持体と静電的相互作用や水素結合等の相互作用
が可能であり、この作用により支持体と下塗膜との接着
力が向上する。R2の具体例は、化合物(1A)と同様
な有機基にアクリロキシ基またはメタクリロキシ基が置
換されたものが好ましい。Xは前記と同義である。R1
及び/又はXが複数の場合、それらは同じでも異なって
もよい。 【0025】化合物(1B)の具体例としては、γ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタク
リロキシプロピルジメトキシメチルシラン、γ−メタク
リロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロ
キシプロピルジエトキシメチルシラン等が挙げられる。 【0026】化合物(1A)と化合物(1B)の配合割
合は、化合物(1A)100質量部に対して0.1〜6
0質量部用いることが好ましく、1〜55質量部用いる
ことが更に好ましい。また、化合物(1A)としては芳
香族基を有する化合物及び/又はエポキシ基を有する化
合物を含むことが好ましい。芳香族炭化水素基を有する
化合物としては、例えば下記一般式(1a)で示される
化合物(1a)が挙げられる。 【0027】 【化1】 【0028】ただしR3、R4はメチル基等一価の有機
基、Aはアルキレン基等の二価の有機基または無し(直
結)、Xは前記と同義であり、x+y+z=4である。 【0029】化合物(1a)においてAは好ましくは無
し(直結)またはメチレン基である。Xは反応性の点で
好ましくはアルコキシ基であり、重合反応を容易とする
ため、特にメトキシ基など炭素数4以下のアルコキシ基
が好ましい。xは好ましくは1または2であるが、重合
反応を容易とするため、特に1で有ることが好ましい。
yは好ましくは0または1であるが、重合反応を容易と
するため、特に好ましくは0である。従ってzは特に3
で有ることが好ましい。 【0030】このような化合物(1a)としては、 【0031】 【化2】 【0032】等があげられる。 【0033】エポキシ基を有する化合物は例えば下記一
般式(1b)で示される化合物(1b)が挙げられる。 【0034】 【化3】 【0035】但しA1はアルキレン基など2価の有機
基、R5は水素またはアルキル基などの1価の有機基、
6はアルキル基などの1価の有機基、Xは前記加水分
解性基、L+M+N=4である。 【0036】化合物(1b)においてR5は好ましくは
水素原子である。R6は好ましくは、メチル基、エチル
基など1価の有機基である。Xは反応性や磁性膜への腐
食性を考慮すると好ましくはアルコキシ基であり、重合
反応を容易とするため、特にメトキシ基など炭素数4以
下のアルコキシ基が好ましい。A1は好ましくはエーテ
ル結合を有する炭素数1〜5のアルキレン基、Mは好ま
しくは1または2であるが、重合反応を容易とするた
め、特に1で有ることが好ましい。Lは好ましくは0ま
たは1であるが、重合反応を容易とするため、特に好ま
しくは0である。従ってNは特に3で有ることが好まし
い。 【0037】このような化合物としては、 【0038】 【化4】 【0039】等が挙げられる。これらの化合物は、特開
昭51−11871号、特開昭63−23224号に記
載されている。 【0040】上記化合物(1A)及び(1B)の加水分
解性基は後述の方法によって塗布乾燥することによって
加水分解、重合してシロキサン結合を生成する。一方、
エポキシ基は酸触媒や熱によって開環重合する。この加
水分解速度と重合速度は必要に応じて塩酸等の酸を添加
することによって調整できる。このようにして形成され
るシリコーン樹脂には化合物(1B)由来のアクリロキ
シ基またはメタクリロキシ基が結合されている。 【0041】より低温から重合を開始させるため、硬化
剤の併用が好ましく、例えば金属キレート化合物、有機
酸およびその塩、過塩素酸塩等、様々な化合物が知られ
ているが、特に硬化剤(硬化触媒)としては硬化の低温
化、磁性膜への腐食性の理由から金属キレート化合物が
好ましい。例えば3−グリシドキシプロピルトリメトキ
シシラン等にアルミニウムアセチルアセトネートを硬化
触媒として加えた場合100℃前後で短時間加熱するだ
けで硬化できるため、ポリエチレンテレフタレートなど
耐熱性の低い基板上でも硬化できる。従ってグラビア連
続塗布法を用いてブロッキングを生じること無く、巻き
取ることができる。このような硬化剤としては、アルミ
ニウムアネチルアセトネート、ジルコニウムアネチルア
セトネート、チタニウムアセチルアセトネート等のβ−
ジケトン類と金属のキレート化合物が特に有効である。 【0042】また、耐熱性、低コスト化、重合速度調整
のため、例えばメチル基等の炭化水素基を含んだシラン
カップリング剤(化合物(1A)に含まれる)を混合し
て用いてもよい。炭化水素を含んだシランカップリング
剤を併用すると下塗膜の耐熱性を向上させることもでき
る。具体的にはこの炭化水素基を含んだシランカップリ
ング剤は下記のような構造である。 【0043】R7−Si(OR83 但し、R7、R8は炭化水素基、R7の炭素数は少ないほ
ど下塗膜の耐熱性の向上に効果的である。 【0044】下塗膜は支持体に、化合物(1A)及び
(1B)を含む塗布液を支持体に塗布することにより形
成することができる。好ましくは、支持体上に化合物
(1A)及び(1B)、硬化剤、塩酸をメタノール等の
有機溶剤に溶解した溶液を塗布液としてワイヤーバー
法、グラビア法、スプレー法、ディップコート法、スピ
ンコート法等の手法によって支持体上に塗布した後、乾
燥する方法を使用することができる。さらにこの後、必
要に応じて下塗膜を焼成して硬化を促進させ、耐熱性や
耐溶剤性、密着性などを向上させる。 【0045】このとき使用される塗布溶剤は塩酸の添加
量やシランカップリング剤の構造によって決定される
が、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコー
ル、シクロヘキサノン等を用いることができる。 【0046】また乾燥は上記溶剤を揮発させために行わ
れるものであるが、この時点で同時に硬化を行うことも
できる。乾燥方法としては一般的に行われている熱風乾
燥、赤外線乾燥などが使用できる。このときの乾燥温度
は60℃〜150℃程度が好ましい。 【0047】塗膜の乾燥の後、さらに硬化を促進させる
焼成方法としては熱風加熱、赤外線加熱、熱ローラー加
熱などが使用できる。このときの加熱温度としては塗膜
の厚みと後の磁性膜の成膜方法及び成膜温度にもよる
が、1μm前後の場合には100℃〜250℃、好まし
くは120℃〜200℃の範囲である。温度がこれより
も低い場合には重合反応の進行が不十分であり、逆に高
すぎると支持体の変形を引き起こしたり、生産性の低下
につながる。 【0048】また加熱による重合以外にも紫外線照射、
電子線照射などによる重合も可能である。 【0049】また本発明の下塗膜には上記以外の成分が
含有されていても良い。このような添加剤としては表面
に微小な凹凸を設けるための耐熱性微粒子(フィラ
ー)、耐熱性ならびに塗膜の硬度を調整するための金属
アルコキシド、支持体との密着を改善するためのカップ
リング剤、磁性膜の酸化を防止する防錆剤などが挙げら
れる。 【0050】表面に凹凸を設けるための耐熱性微粒子と
してはシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニアなどの
無機酸化物、炭酸カルシウム、炭素、高分子などが挙げ
られる。この形状としては単分散で球状であることが好
ましい。その粒子径は下塗膜の膜厚に応じて選ばれるが
5〜1000nm、好ましくは10〜100nmであ
る。下塗膜用塗布液は主としてアルコール、シクロヘキ
サノン、MEK、トルエンなどの溶液であるため、耐熱
性微粒子としては該溶媒の1種または2種以上に分散し
たオルガノシリカゾルや酸性水溶液に分散したシリカゾ
ルなどが特に好適である。 【0051】耐熱性ならびに塗膜の硬度を調整するため
の金属アルコキシドとしてはテトラエトキシシラン、テ
トラプロポキシジルコニウムなどが挙げられ、これらの
添加によって耐熱性と硬度を向上させることができる。 【0052】本発明で使用する支持体としては、フレキ
シブル媒体の場合には、厚さ3〜100μmのポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等のフイルム等
が使用できる。また、フィルムの内部にフィラーを含有
し、フィルム表面に凹凸を形成したものでも良い。一
方、リジット媒体の場合にはガラス基板、アルミ基板や
カーボン基板が使用できる。 【0053】また本発明の下塗膜は支持体との密着性に
優れるが、密着性が不足の場合にはシランカップリング
剤などの添加剤による支持体の表面処理や酸素プラズ
マ、アルゴンプラズマ、紫外線照射、電子線照射、火炎
などによる処理を施すことが好ましい。 【0054】本発明の磁気記録媒体における磁性膜とな
る強磁性金属薄膜は従来より公知の真空蒸着法、スパッ
タ法により形成できる。 【0055】磁性膜をスパッタ法で形成する場合、組成
としてはコバルトを主体とした従来より公知の金属また
は合金が挙げられ、具体的にはCo−Cr、Co−Ni
−Cr、Co−Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−
Cr−Ta−Pt、Co−Cr−Pt−Si、Co−C
r−Pt−B等が使用できる。特に電磁変換特性を改善
するためにCo−Cr−Ta、Co−Cr−Ptが好ま
しい。磁性膜の厚みは10〜300nmとするのが望ま
しい。またこの場合、磁性膜の静磁気特性を改善するた
めの下地膜を設けることが好ましく、この下地膜の組成
としては従来より公知の金属または合金などが挙げら
れ、具体的にはCr、V、Ti、Ta、W、Si等また
はこれらの合金が使用でき、中でもCr、Cr−Ti、
Cr−V、Cr−Siが特に好ましい。この下地膜の厚
みとしては5nm〜500nmであり、好ましくは10
nm〜200nmである。 【0056】またスパッタ法で磁性膜を作製する場合に
は、基板またはフイルムを加熱した状態で成膜する事が
好ましく、そのときの温度は150〜200℃前後であ
る。 【0057】磁性膜を真空蒸着法で作製する場合、組成
としてはコバルトを主体とした従来より公知の金属また
は合金が挙げられ、具体的にはCo、Co−Ni、Co
−Feなどを酸素雰囲気中で蒸着し、膜中に酸素を含ん
だものが使用できる。特に電磁変換特性を改善するため
磁性層を構成する金属原子の90%以上、さらに好まし
くは95%以上はコバルトであるCo−O、またはCo
−Oを含有するCo−Fe等が好ましい。磁性層の厚み
は、100〜300nmとするのが望ましく、さらに望
ましくは120〜200nmである。 【0058】また、強磁性金属薄膜は電磁変換特性を改
善するため重層構成としたり、非磁性下地層や中間層を
有していても良い。 【0059】本発明の磁気記録媒体においては強磁性金
属薄膜上に保護膜が設けられていてもよく、この保護膜
によってさらに走行耐久性、耐食性を改善することがで
きる。 【0060】保護膜としてはシリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸
化物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化
物、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物、
グラファイト、無定型カーボンなどの炭素からなる保護
膜が挙げられる。 【0061】前記炭素保護膜は、プラズマCVD法、ス
パッタリング法等で作製したアモルファス、グラファイ
ト、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合物からな
るカーボン膜であり、特に好ましくは一般にダイヤモン
ドライクカーボンと呼ばれる硬質カーボン膜である。こ
の硬質炭素膜はビッカース硬度で1000kg/mm 2
(9.8GPa)以上、好ましくは2000kg/mm
2(19.6GPa)以上の硬質の炭素膜である。ま
た、その結晶構造はアモルファス構造であり、かつ非導
電性である。そして、ダイヤモンド状炭素膜の構造をラ
マン光分光分析によって測定した場合には、1520〜
1560cm-1にピークが検出されることによって確認
することができる。炭素膜の構造がダイヤモンド状構造
からずれてくるとラマン光分光分析により検出されるピ
ークが上記範囲からずれるとともに、炭素膜の硬度も低
下する。 【0062】この硬質炭素保護膜はメタン、エタン、プ
ロパン、ブタン等のアルカン、あるいはエチレン、プロ
ピレン等のアルケン、またはアセチレン等のアルキンを
はじめとした炭素含有化合物を原料としたプラズマCV
Dや、水素や炭化水素雰囲気下で炭素をターゲットとし
たスパッタ法等によって形成することができる。 【0063】硬質炭素保護膜の膜厚が厚いと電磁変換特
性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が
薄いと耐磨耗性が不足するために、膜厚2.5〜20n
mが好ましく、とくに好ましくは5〜10nmである。 【0064】また、この硬質炭素保護膜上に付与する潤
滑剤との密着をさらに向上させる目的で硬質炭素保護膜
表面を酸化性もしくは不活性気体によって表面処理して
も良い。 【0065】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。 【0066】潤滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、
フッ素系潤滑剤、極圧添加剤などが使用できる。 【0067】炭化水素系潤滑剤としてはステアリン酸、
オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン酸ブチル等の
エステル類、オクタデシルスルホン酸等のスルホン酸
類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エステル類、ス
テアリルアルコール、オレイルアルコール等のアルコー
ル類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸アミド類、ス
テアリルアミン等のアミン類などが挙げられる。 【0068】フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては
パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエ
チレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレン
オキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロ
イソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF
2O)nまたはこれらの共重合体等である。 【0069】極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等
のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン
酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ
亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベ
ンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。 【0070】上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して
使用される。これらの潤滑剤を磁性膜もしくは保護膜上
に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワ
イヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップ
コート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させ
ればよい。 【0071】潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m
2が好ましく、2〜20mg/m2が特に好ましい。 【0072】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル
側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合
物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環
類およびこの誘導体等が挙げられる。 【0073】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるものではない。厚み20μm
のアラミドフィルムにフェニルトリエトキシシラン(信
越化学工業社製KBE−103)と、γ―グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製KBM
−403)を質量比で1:1、更にγ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン(信越化学工業社製KBM
−503)を25質量%(対フェニルトリエトキシシラ
ンとγ―グリシドキシプロピルトリメトキシシランの合
計質量比)、及び塩酸をエタノールに溶解した後、硬化
剤としてアルミニウムアセチルアセトネートを添加して
塗布液を作製した。この溶液をグラビアコート法で塗布
した後、100℃で乾燥して厚み1μmの下塗膜を作製
した。次に10μm厚の接着シートを用いて下塗膜面を
外側にしてフィルムを貼り合わせ、全厚を50μmのフ
ィルムとした後、170℃で2時間加熱し、下塗膜及び
接着剤の硬化と脱溶剤処理を行った。このフィルムをス
パッタ装置に設置し、基板温度150℃でDCマグネト
ロンスパッタ法を用いてCr−Ti下地膜を60nm成
膜し、さらにCoーPt−Cr磁性膜を30nm成膜し
た。次にこのフィルムをプラズマCVD装置に設置し、
磁性膜上にエチレンを原料としたプラズマCVD法で硬
質炭素保護膜を20nm成膜した。次にこの保護膜上に
パーフルオロポリエーテル系潤滑剤(アウジモント社製
FOMBLIN Z−DOL)をフッ素系溶剤(住友3
M社製HFEー7200)に溶解した溶液をグラビアコ
ート法で塗布して厚み2nmの潤滑膜を作製した。これ
ら下塗膜、下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜はフィルム
の両面に対して成膜した。そしてこの試料を3.7イン
チの磁気ディスク形状に打ち抜き、フレキシブルディス
クを作製した。 【0074】実施例2 実施例1においてγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン(信越化学工業社製KBM−503)を5質
量%(対フェニルトリエトキシシランとγ―グリシドキ
シプロピルトリメトキシシランの合計質量比)添加した
以外は、実施例1と同様に試料を作製した。 【0075】実施例3 実施例1においてγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン(信越化学工業社製KBM−503)を55
質量%(対フェニルトリエトキシシランとγ―グリシド
キシプロピルトリメトキシシランの合計質量比)添加し
た以外は、実施例1と同様に試料を作製した。 【0076】比較例1 実施例1においてγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン(信越化学工業社製KBM−503)を添加
せずに下塗膜を形成した以外は実施例1と同様に試料を
作製した。 【0077】比較例2 実施例1においてγ−メタクリロキシプロピルトリメト
キシシラン(信越化学工業社製KBM−503)を65
質量%(対フェニルトリエトキシシランとγ―グリシド
キシプロピルトリメトキシシランの合計質量比)添加し
た以外は、実施例1と同様に試料を作製した。 【0078】作製した試料は以下の観点から評価を行っ
た。 【0079】フレキシブルディスクをフッ素系溶剤(住
友3M社製HFE−7200)中に浸漬させて潤滑剤を
洗浄した後、2cm幅に切り出し試料片とした。試料に
メンディングテープ(ニチバン(株)社製MD−18)
を貼り付け、手で引き剥がした時に支持体と下塗膜界面
で剥離が生じたものを剥離有り、メンディングテープの
みが剥がれ試料に変化がなかったものを剥離無しとし
た。さらにメンディングテープ(ニチバン(株)社製M
D−18)を粘着面が上面になるように固定し、試料片
をメンディングテープ長手方向と直交する方向に1.0
cm貼り付けた。試料片の非固定端部にバネはかりを粘
着テープで固定し、図1の矢印方向に引っ張り、剥離し
た時の荷重を密着力として評価した。また、貼り合わせ
後のフィルムを巻き出した時のハリツキの有無を確認し
た。面粗れを生じることなく巻きだし可能なものを○、
ハリツキが観察され面粗れにより白変を生じるものを
×、白変は生じないが光学顕微鏡で観察すると一部でハ
リツキ痕が観察されるものを△とした。上記評価結果を
表1に示す。 【0080】 【表1】 【0081】 【発明の効果】本発明により、支持体上に下塗膜として
形成されるシリコーン樹脂は、例えば、芳香族炭化水素
基を有するシランカップリング剤やエポキシ基を有する
シランカップリング剤及びアクリロキシ基またはメタク
リロキシ基を有するシランカップリング剤を含む化合物
の混合物の反応物からなり、シロキサン結合、およびエ
ポキシ基の開環による結合を有しているため、従来のポ
リエステル樹脂などと比較して、耐熱性、耐ブロッキン
グ性に優れている。またこの重合膜は、テトラエトキシ
シランなどを出発原料としたゾルゲル法によって作製さ
れるシリカ膜と比較して耐クラック性に優れている。更
に、本発明は下塗膜がアクリロキシ基またはメタクリロ
キシ基を有しているために支持体との密着性が改善され
ると共に下塗膜とバック面とのハリツキが防止される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [0001] BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention
The present invention relates to a magnetic recording medium used as a magnetic film. [0002] 2. Description of the Related Art Magnetic tape, floppy (registered trademark) data
Magnetic recording media such as discs and hard disks are common
In addition, a process for forming a magnetic film, a protective film, etc. on a non-magnetic support.
It is manufactured by the process. Such magnetic recording media
In the vacuum deposition method such as sputtering or vapor deposition
A magnetic recording medium using the manufactured ferromagnetic metal thin film as a magnetic film is provided.
It has been put into practical use. For sputtering and vapor deposition as described above
Therefore, a magnetic recording medium on which a magnetic film is formed has a high magnetic energy.
Can be easily obtained, and the surface of the non-magnetic support is flattened.
Smooth magnetic film surface is easily achieved by smoothing
High electromagnetic conversion characteristics with low spacing loss
Suitable for high-density recording materials.
The In particular, sputtering is more magnetic energy than vapor deposition.
Can increase the height of the hard disk
It is used for media that require high recording density. In recent magnetic recording media, high recording density is achieved.
There is a strong demand for increasing the degree of electromagnetic conversion.
It has become necessary. For this reason, magnetic tape and floppy
Polyethylene as a non-magnetic support like pea disc
Terephthalate film and polyethylene naphthalate
Smell using a flexible polymer film such as film
In order to improve recording density, sputtering and vapor deposition
It is desirable to form a magnetic film made of a ferromagnetic metal thin film
That's right. However, such polymer films are heat resistant.
Since it is inferior in properties, it is not suitable for film formation by sputtering or
When a film is deposited at a higher deposition rate by the deposition method,
Lum or its surface is heated to deform the non-magnetic support
(Heat loss) and surface due to oligomer precipitation
Deterioration occurs, smooth surface properties of non-magnetic support,
Problems such as difficulty in obtaining smooth surface properties of magnetic films
There is. In order to solve this problem, the following technique is used.
Skills have been proposed. One is a non-magnetic support
This method uses a heat-resistant resin as the material for the child film.
The The heat-resistant resin used is a polyimide film.
However, polyimide films are generally expensive.
is there. In addition, the polyimide film is very smooth and has good surface properties.
Film production and use is technically difficult, and this method is currently not available.
Not practical. In addition, a magnetic film is formed by coating, for example.
Relatively cheaply used in conventional magnetic recording media
Forming a base coat on a high-value polymer film,
A method for improving heat resistance has been proposed. For example, JP-A-6-349042 discloses a ratio.
Trees containing fine particles on a relatively rough polymer film
Film with appropriate surface properties by providing an oil film
A method of making is disclosed. But used here
Sputtering when using general resin binders
When a magnetic film is produced by the method, the surface is damaged due to thermal damage.
Sexual deterioration is severe. JP-A-7-225934 discloses poly.
Polyethylene naphthalate on ethylene terephthalate
A method to prevent oligomer precipitation due to heat has been developed.
It is shown. But use polyethylene naphthalate
Even up to 200 ° C, the typical temperature for sputtering
Inferior surface properties due to oligomer precipitation when the film is heated
Cause JP-A-6-208717 further discloses
Polyamide resin and polyimide resin with high heat resistance
A method of coating on a film is disclosed. like this
Using a new material fills the heat resistance to withstand the sputtering method
It is possible to grant to But polyamide trees
Fat and polyimide resin have low solubility in general-purpose solvents,
It is necessary to use a difficult solvent. In addition, the resin
Even if it is soluble in the solvent for use, the viscosity of the solution is high.
It is difficult to improve the surface properties because a thick and uniform film cannot be obtained.
It is. Furthermore, in such a method, the solvent is sufficiently dried.
It is difficult to do so, and the residual amount of solvent in the coating film increases.
Therefore, when winding the film, the back surface of the coating film and film
It is easy to cause blocking that adheres.
Residual solvent that volatilizes when the magnetic film is formed in the vacuum chamber.
There is a possibility of contamination. Further, as a highly heat-resistant film, an inorganic material is used.
It is effective to form a film, for example, silane compound
Silica film or metal alkoxide obtained by hydrolysis of products
It is possible to form a metal oxide film obtained from
The However, such inorganic coatings have nonmagnetic support.
It cannot keep up with the heat change of the holder, and the surface of the film is cracked.
If a crack occurs in the magnetic film deposited on it
There is a problem. Assume that these problems have been solved to some extent.
Described in Japanese Patent Laid-Open No. 8-329443 by the present applicant.
The bottom is mainly made of Si-O or Si-O-N
There is a magnetic recording medium having a coating layer. This magnetic recording medium
Has a smooth surface property and is also a spa with heating of the support.
Even when a magnetic film is produced by the
There is no possibility of causing racking and blocking.
It has a small undercoat. However, this
In the preparation of the undercoat, repellency occurs when the raw material is applied.
It is difficult to make the lower coating film uniform.
It was difficult. Also, this undercoat should be overcoated
It is impossible to increase the thickness of the film.
It was. Therefore, in order to address the above-mentioned problems, the present applicant.
Is a silane compound containing an organic residue having an aromatic hydrocarbon group.
Heat-resistant undercoating film mainly composed of polymer of pulling agent
Proposed. However, no corona treatment has been applied
Adhesion between the interface with the undercoat in aramid supports, etc.
There were cases where power was not enough. And improve adhesion
When you add a compound containing gyoyo and sulfonic acid,
The back surface is crushed, improving the adhesion and achieving both
There was a problem that I could not. [0013] SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides an undercoat and support.
The adhesion between the bodies improves and the undercoat and back side
Providing a magnetic recording medium using a support that prevents ripening
The task is to do. [0014] SUMMARY OF THE INVENTION The present invention reduces the number of supports.
From at least one surface with an undercoat and a ferromagnetic metal film on top
In the magnetic recording medium having the magnetic film, the undercoat is
Including compounds having aromatic groups and / or epoxy groups
Compound represented by the general formula (1A), and acryloxy
General formulas including compounds having a group or a methacryloxy group
From the reaction product of the mixture containing the compound represented by (1B)
And the compound represented by the general formula (1B) is represented by the general formula
0.1 parts with respect to 100 parts by mass of the compound represented by (1A)
A magnetic recording medium characterized by using ˜60 parts by mass. General formula (1A) (R1)a-Si-Xb (Wherein, a + b = 4, a = 0-3 (where b is 2 or more)
At least) and R1Is epoxy
Represents an organic group having 1 to 40 carbon atoms which may have a group, and X represents
A hydrolyzable group is shown. ) General formula (1B) (R2)c-Si-Xd (Where c + d = 4, c = 1-3, R2Is Acry
Number of carbon atoms that may have a roxy group or a methacryloxy group
1-40 organic groups are shown, X shows a hydrolysable group. ) Preferred embodiments of the present invention are as follows. (1) The ferromagnetic metal thin film is formed by sputtering.
It must have been (2) The magnetic recording medium is disk-shaped. (3) The compound represented by the general formula (1A) on the support
And a coating solution containing the compound represented by the general formula (1B)
After coating, before forming the undercoat by heating
To obtain a magnetic recording medium. (4) Adding a curing agent to the coating solution. (5) A curing agent comprising a metal chelate compound in the coating solution.
To add. [0015] DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION According to the present invention, an undercoating film is formed on a support.
Formed by the compound represented by the general formula (1A)
Product (hereinafter also referred to as compound (1A)) and the above general formula
Compound represented by (1B) (hereinafter referred to as Compound (1B))
The reaction product of the mixture containing acryloxy groups or
Since it has a methacryloxy group, adhesion to the support is improved.
As well as ensuring blocking resistance, stable good
A favorable magnetic recording medium can be obtained. The undercoat is
It consists of siloxane bonds but contains at least organic groups
Compared with conventional polyester resin, etc., heat resistance,
Excellent blocking resistance. This polymer film is also
To the sol-gel method using traethoxysilane as a starting material
Therefore, it is superior in crack resistance compared to the silica film produced.
It is. In addition, the organic group of the lower coating film imparts flexibility to the coating film.
To improve crack resistance and provide an appropriate surface error.
Because energy can be achieved,
This effect can be reduced by the adhering matter on the support.
This is particularly noticeable when there are defects. Furthermore, the present invention
Even when applying further on the undercoat of
Can be applied without repelling.
The film thickness can be increased. Furthermore, in the present invention, a silicone resin monomer is used.
-Using the solution as a coating solution to form an undercoat
The viscosity of the coating solution is low and the prepared undercoat is smooth.
It is particularly excellent in nanometer and sub-nanometer
Smooth on scale. Therefore, for future high recording density magnetism
It is very suitable as a substrate for recording media. Furthermore, even if the medium is placed on top, the undercoat component
That there is no blocking (sticking) due to migration
There are signs. The compound (1A) will be described. Where
a + b = 4, a = 0-3 (provided that b is 2 or more)
At least, and preferably a = 1
The R1Has 1 to 40 carbon atoms which may have an epoxy group
X represents an organic group, and X represents a hydrolyzable group. The organic group includes an aliphatic group and an aromatic group.
Can be mentioned. Aliphatic groups include alkyl groups and alkeni
Group, alkynyl group, aralkyl group, etc.
An alkyl group is preferred and one having 1 to 40 carbon atoms is preferred.
And those having 1 to 35 carbon atoms are more preferred. Alkyl group
Can be cyclic, linear, branched or a combination thereof
Good. As the aromatic group, a phenyl group is preferable. Organic
Among the groups, in particular methyl or phenyl groups, epoxies
Si group and glycidyl group are preferred. R1And / or X
In the case of numbers, they may be the same or different. Compound (1A) is an aromatic group and / or
Including compounds having a poxy group. Accordingly, compound (1
A) includes at least an aromatic group as an organic group
Compound containing or organic hydrogen atoms are placed in epoxy groups
The converted compound must be included. Next, X will be described. X is hydrolyzable
Indicates a group. Hydrolyzable groups react with -OH groups or water
Means a group that can be converted to an —OH group, for example, halogen
Atom, alkoxy group, acetoxy group, amino group, isop
Examples include lopenoxy groups, with alkoxy groups being preferred.
In particular, a methoxy group or an ethoxy group is preferable. Next, the compound (1B) will be described. formula
C + d = 4, c = 1-3, R2Is acryloki
1 to C carbon atoms which may have a silyl group or a methacryloxy group
40 represents an organic group, and X represents a hydrolyzable group. However
And at least one of the organic groups is an acryloxy group or
Must have a methacryloxy group. In the present invention, acryloxy group or meso
There are few organic groups having 1 to 40 carbon atoms having a tacryloxy group.
At least interaction with the support such as electrostatic interaction and hydrogen bonding
This action allows adhesion between the support and the undercoat
Power is improved. R2Specific examples of are the same as in compound (1A)
An acryloxy group or a methacryloxy group
The converted one is preferred. X is as defined above. R1
And / or when there are a plurality of X, they are the same or different
Also good. Specific examples of the compound (1B) include γ-mes
Tacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-metac
Liloxypropyldimethoxymethylsilane, γ-metac
Liloxypropyltriethoxysilane, γ-methacrylo
Examples thereof include xylpropyldiethoxymethylsilane. Compound ratio of compound (1A) and compound (1B)
Is 0.1 to 6 with respect to 100 parts by mass of the compound (1A).
It is preferable to use 0 parts by mass, and 1 to 55 parts by mass is used.
More preferably. In addition, the compound (1A) is excellent.
Compound having aromatic group and / or compound having epoxy group
It is preferable that a compound is included. Has an aromatic hydrocarbon group
Examples of the compound include those represented by the following general formula (1a).
A compound (1a) is mentioned. [0027] [Chemical 1] However, RThree, RFourIs monovalent organic such as methyl group
Group, A is a divalent organic group such as an alkylene group or none (direct
Conclusion), X is as defined above, and x + y + z = 4. In the compound (1a), A is preferably none.
(Directly connected) or a methylene group. X is reactive
Preferred is an alkoxy group, which facilitates the polymerization reaction
Therefore, especially alkoxy groups having 4 or less carbon atoms such as methoxy groups
Is preferred. x is preferably 1 or 2, but polymerization
In order to facilitate the reaction, it is particularly preferable that it is 1.
y is preferably 0 or 1, but facilitates the polymerization reaction.
Therefore, it is particularly preferably 0. Therefore z is especially 3
It is preferable that As such a compound (1a), [0031] [Chemical 2] And the like. Examples of the compound having an epoxy group are as follows:
Examples thereof include the compound (1b) represented by the general formula (1b). [0034] [Chemical Formula 3] However, A1Is a divalent organic such as an alkylene group
Group, RFiveIs a monovalent organic group such as hydrogen or an alkyl group,
R6Is a monovalent organic group such as an alkyl group, X is
Soluble group, L + M + N = 4. In the compound (1b), RFiveIs preferably
It is a hydrogen atom. R6Is preferably a methyl group, ethyl
A monovalent organic group such as a group. X is reactivity or corrosion on the magnetic film
In consideration of food habits, an alkoxy group is preferable, and polymerization is performed.
In order to facilitate the reaction, especially methoxy groups such as 4 or more carbon atoms
The lower alkoxy groups are preferred. A1Is preferably ate
An alkylene group having 1 to 5 carbon atoms and M is preferred
1 or 2 to facilitate the polymerization reaction.
Therefore, it is particularly preferable that it is 1. L is preferably 0
Or 1 but is particularly preferred because it facilitates the polymerization reaction.
Or 0. Therefore, N is particularly preferred to be 3.
Yes. Such compounds include: [0038] [Formula 4] And the like. These compounds are disclosed in JP
Described in Sho 51-11871 and JP-A 63-23224
It is listed. Hydrolysis of the above compounds (1A) and (1B)
The dissolvable group is coated and dried by the method described below.
Hydrolysis and polymerization produce siloxane bonds. on the other hand,
The epoxy group undergoes ring-opening polymerization with an acid catalyst or heat. This
Add acid such as hydrochloric acid as needed for water splitting and polymerization rate
It can be adjusted by doing. Formed in this way
The acryloxy derived from the compound (1B)
Si group or methacryloxy group is bonded. Curing to initiate polymerization from a lower temperature
A combination of agents is preferred, for example, metal chelate compounds, organic
Various compounds such as acids and their salts, perchlorates are known
However, especially as a curing agent (curing catalyst), the low temperature of curing
Metal chelate compounds for reasons of corrosion and corrosiveness to magnetic films
preferable. For example, 3-glycidoxypropyl trimethoxy
Curing aluminum acetylacetonate on silane etc.
When added as a catalyst, heat at around 100 ° C for a short time
Polyethylene terephthalate, etc.
It can be cured even on a substrate with low heat resistance. So gravure
Winding without blocking using the continuous coating method
Can be taken. Such curing agents include aluminum
Nium anethyl acetonate, Zirconium anethyl acetonate
Β- such as cetonate, titanium acetylacetonate
Diketones and metal chelate compounds are particularly effective. Also, heat resistance, cost reduction, polymerization rate adjustment
For example, a silane containing a hydrocarbon group such as a methyl group
Mix the coupling agent (contained in compound (1A))
May be used. Silane coupling containing hydrocarbons
When used together, the heat resistance of the lower coating can be improved.
The Specifically, this hydrocarbon group-containing silane coupling
The adhesive has the following structure. R7-Si (OR8)Three However, R7, R8Is a hydrocarbon group, R7The carbon number of
It is effective in improving the heat resistance of the throat coating. The undercoat is applied to the support with compound (1A) and
The shape is obtained by applying a coating solution containing (1B) to the support.
Can be made. Preferably, the compound on the support
(1A) and (1B), a curing agent, hydrochloric acid such as methanol
Wire bar using solution dissolved in organic solvent as coating liquid
Method, gravure method, spray method, dip coating method,
After coating on a support by a method such as coating,
A drying method can be used. After this,
If necessary, the lower coating is baked to accelerate curing,
Improve solvent resistance and adhesion. The coating solvent used at this time is addition of hydrochloric acid.
Determined by the amount and structure of the silane coupling agent
Ethanol, methanol, isopropyl alcohol
And cyclohexanone can be used. Drying is performed to volatilize the solvent.
It is possible to cure at this point at the same time.
it can. As a drying method, hot air drying is generally used.
Drying, infrared drying, etc. can be used. Drying temperature at this time
Is preferably about 60 ° C to 150 ° C. After the coating is dried, the curing is further accelerated.
As firing methods, hot air heating, infrared heating, hot roller heating
Heat can be used. The heating temperature at this time is a coating film
Depends on the thickness of the film, the method of film formation and the film formation temperature
However, in the case of around 1 μm, 100 ° C. to 250 ° C. is preferable.
Or in the range of 120 ° C to 200 ° C. Temperature is higher than this
Is too low, the progress of the polymerization reaction is insufficient.
Too much can cause deformation of the support or decrease in productivity.
Leads to. In addition to polymerization by heating, ultraviolet irradiation,
Polymerization by electron beam irradiation or the like is also possible. In addition, the base coating film of the present invention contains components other than those described above.
It may be contained. Such additives include surface
Heat-resistant fine particles (filler)
-), Metal for adjusting heat resistance and coating hardness
Alkoxide, cup to improve adhesion to support
Examples include ring agents and rust preventives to prevent oxidation of magnetic films.
It is. Heat-resistant fine particles for providing irregularities on the surface;
Silica, alumina, titania, zirconia, etc.
Examples include inorganic oxides, calcium carbonate, carbon, and polymers
It is done. The shape is preferably monodispersed and spherical.
Good. The particle size is selected according to the film thickness of the undercoat
5 to 1000 nm, preferably 10 to 100 nm
The The coating solution for the undercoat is mainly alcohol, cyclohex
Because it is a solution of SANON, MEK, toluene, etc., it is heat resistant
Fine particles are dispersed in one or more of these solvents.
Silazozo dispersed in an organosilica sol or acidic aqueous solution
And the like are particularly suitable. To adjust the heat resistance and the hardness of the coating film
Examples of metal alkoxides include tetraethoxysilane and te
Such as trapropoxyzirconium.
Heat resistance and hardness can be improved by addition. The support used in the present invention is a flexible substrate.
In the case of a shibble medium, the polyethylene is 3 to 100 μm thick.
Terephthalate, polyethylene naphthalate, poly
Films such as imide, polyamide, polyamideimide, etc.
Can be used. Also contains a filler inside the film
And what formed the unevenness | corrugation in the film surface may be used. one
On the other hand, in the case of rigid media, glass substrate, aluminum substrate
A carbon substrate can be used. In addition, the undercoat film of the present invention improves adhesion to the support.
Excellent, but silane coupling when adhesion is insufficient
Surface treatment of the support with additives such as agents and oxygen plasma
Ma, argon plasma, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, flame
It is preferable to perform a process such as the above. The magnetic film in the magnetic recording medium of the present invention
Ferromagnetic metal thin films are conventionally known as vacuum deposition methods and spatters.
It can be formed by the data method. When the magnetic film is formed by sputtering, the composition
As a conventionally known metal mainly composed of cobalt or
Is an alloy, specifically, Co-Cr, Co-Ni.
-Cr, Co-Cr-Ta, Co-Cr-Pt, Co-
Cr-Ta-Pt, Co-Cr-Pt-Si, Co-C
r-Pt-B or the like can be used. Especially improved electromagnetic conversion characteristics
Co-Cr-Ta and Co-Cr-Pt are preferred
That's right. The thickness of the magnetic film is preferably 10 to 300 nm.
That's right. In this case, the magnetic properties of the magnetic film can be improved.
It is preferable to provide an undercoat film, and the composition of this undercoat film
Examples include conventionally known metals or alloys.
Specifically, Cr, V, Ti, Ta, W, Si, etc.
Can use these alloys, especially Cr, Cr-Ti,
Cr-V and Cr-Si are particularly preferable. The thickness of this base film
The thickness is 5 nm to 500 nm, preferably 10 nm.
nm to 200 nm. When a magnetic film is formed by sputtering.
The film can be formed with the substrate or film heated.
Preferably, the temperature at that time is around 150 to 200 ° C.
The When the magnetic film is formed by vacuum deposition, the composition
As a conventionally known metal mainly composed of cobalt or
Is an alloy, specifically, Co, Co-Ni, Co
-Fe, etc. are deposited in an oxygen atmosphere, and the film contains oxygen.
Can be used. Especially to improve electromagnetic conversion characteristics
More than 90% of the metal atoms constituting the magnetic layer, more preferred
Or 95% or more of Co—O, which is cobalt, or Co
Co-Fe containing -O is preferred. Magnetic layer thickness
Is preferably 100 to 300 nm, and further desired
It is preferably 120 to 200 nm. In addition, the ferromagnetic metal thin film has improved electromagnetic conversion characteristics.
In order to improve the structure, a multi-layer structure is used.
You may have. In the magnetic recording medium of the present invention, ferromagnetic gold
A protective film may be provided on the metal thin film.
Can further improve running durability and corrosion resistance.
Yes. As the protective film, silica, alumina, titani
Acids such as a, zirconia, cobalt oxide and nickel oxide
Nitride of titanium, titanium nitride, silicon nitride, boron nitride, etc.
Products, carbides such as silicon carbide, chromium carbide, boron carbide,
Protection made of carbon, such as graphite and amorphous carbon
A membrane is mentioned. The carbon protective film is formed by plasma CVD or sputtering.
Amorphous, graphite produced by the sputtering method, etc.
A diamond structure, or a mixture of these
Carbon film, particularly preferably diamond
It is a hard carbon film called dry carbon. This
Hard carbon film has a Vickers hardness of 1000 kg / mm 2
(9.8 GPa) or more, preferably 2000 kg / mm
2It is a hard carbon film of (19.6 GPa) or more. Ma
The crystal structure is amorphous and non-conductive.
Electricity. Then, the structure of the diamond-like carbon film is
When measured by Mann optical spectroscopy, 1520-
1560cm-1Confirmed by detecting a peak in
can do. Carbon film structure is diamond-like structure
When detected, the peak detected by Raman spectroscopy is detected.
And the hardness of the carbon film is low.
I will give you. This hard carbon protective film is made of methane, ethane,
Alkanes such as lopan and butane, ethylene,
Alkenes such as pyrene or alkynes such as acetylene
Plasma CV using carbon-containing compounds as raw materials
D, or carbon in a hydrogen or hydrocarbon atmosphere
It can be formed by a sputtering method or the like. When the hard carbon protective film is thick, electromagnetic conversion characteristics
Deterioration of adhesion and deterioration of adhesion to the magnetic layer occur, and the film thickness
If it is thin, the wear resistance is insufficient, so the film thickness is 2.5 to 20n.
m is preferable, and 5 to 10 nm is particularly preferable. In addition, the moisture applied on the hard carbon protective film.
Hard carbon protective film for the purpose of further improving adhesion with lubricant
Surface treatment with oxidizing or inert gas
Also good. In the magnetic recording medium of the present invention, running durability
In order to improve the properties and corrosion resistance,
It is preferable to apply a lubricant or a rust preventive agent on the protective film. As the lubricant, known hydrocarbon lubricants,
Fluorine lubricants, extreme pressure additives, etc. can be used. As the hydrocarbon lubricant, stearic acid,
Carboxylic acids such as oleic acid, butyl stearate, etc.
Esters, sulfonic acids such as octadecyl sulfonic acid
, Phosphate esters such as monooctadecyl phosphate,
Alcohol such as tealyl alcohol and oleyl alcohol
, Carboxylic acid amides such as stearamide,
Examples include amines such as tealylamine. Fluorine-based lubricants include the above hydrocarbon-based lubricants.
Part or all of the alkyl group of the lubricant is fluoroalkyl
Lubricant substituted with a group or perfluoropolyether group
Agents. As perfluoropolyether group
Perfluoromethylene oxide polymer, perfluoroethylene
Tylene oxide polymer, perfluoro-n-propylene
Oxide polymer (CF2CF2CF2O)n, Perfluoro
Isopropylene oxide polymer (CF (CFThreeCF
2O)nOr these copolymers. Examples of extreme pressure additives include trilauryl phosphate
Phosphorous esters, phosphorous such as trilauryl phosphite
Acid esters, thios such as trilauryl trithiophosphite
Phosphites, thiophosphates, disulfide disulfides
And sulfur-based extreme pressure agents such as The above lubricants may be used alone or in combination.
used. Apply these lubricants on the magnetic film or protective film.
As a method of applying to a solvent, a lubricant is dissolved in an organic solvent, and
Ear bar method, gravure method, spin coating method, dip
Apply by coating or attach by vacuum evaporation
Just do it. The coating amount of the lubricant is 1 to 30 mg / m.
22-20 mg / m2Is particularly preferred. As a rust inhibitor usable in the present invention, benzoate is used.
Triazole, benzimidazole, purine, pyrimidi
Nitrogen-containing heterocycles such as
Derivatives introduced with side chains, benzothiazole, 2-mer
Kapton benzothiazole, tetrazaindene ring compound
And sulfur containing heterocycles such as thiouracil compounds
And derivatives thereof. [0073] EXAMPLES Specific examples of the present invention will be described below.
The present invention is not limited to this. Thickness 20μm
Phenyltriethoxysilane (trust)
KBE-103 manufactured by Koshi Chemical Industry Co., Ltd. and γ-glycidoxy
Propyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical KBM
-403) at a mass ratio of 1: 1, and γ-methacryloxy
Propyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical KBM
-503) in an amount of 25% by mass (relative to phenyltriethoxysila)
And γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane
(Mass ratio), and after dissolving hydrochloric acid in ethanol, cure
Add aluminum acetylacetonate as an agent
A coating solution was prepared. Apply this solution by gravure coating
And dried at 100 ° C. to produce a 1 μm-thick undercoat
did. Next, using a 10 μm thick adhesive sheet,
Laminate the film on the outside, and the total thickness is 50 μm.
After forming into a film, it is heated at 170 ° C. for 2 hours.
The adhesive was cured and the solvent was removed. This film
Installed in a putter device, DC magneto at a substrate temperature of 150 ° C
A Cr-Ti underlayer is formed to 60 nm by using a ron sputtering method.
And then a Co-Pt-Cr magnetic film is formed to a thickness of 30 nm.
It was. Next, this film is installed in a plasma CVD apparatus,
Hardened by plasma CVD using ethylene as a raw material on the magnetic film.
A carbonaceous protective film was formed to a thickness of 20 nm. Next on this protective film
Perfluoropolyether lubricant (manufactured by Augmont)
FOMBLIN Z-DOL) is a fluorinated solvent (Sumitomo 3)
The solution dissolved in MFE HFE-7200)
A lubricating film having a thickness of 2 nm was prepared by applying the coating method. this
Undercoat, undercoat, magnetic film, protective film, lubricating film are films
Films were formed on both sides. And this sample is 3.7 inches
Punched into the shape of a magnetic disk
Made. Example 2 In Example 1, γ-methacryloxypropyltrimeth
5 grades of xylan (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
% By weight (vs. phenyltriethoxysilane and γ-glycidoxy
(Total mass ratio of cypropyltrimethoxysilane) added
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except for the above. Example 3 In Example 1, γ-methacryloxypropyltrimeth
55 xysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Mass% (vs phenyltriethoxysilane and γ-glycid
Total mass ratio of xylpropyltrimethoxysilane)
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that. Comparative Example 1 In Example 1, γ-methacryloxypropyltrimeth
Adds xysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
The sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the lower coating film was formed.
Produced. Comparative Example 2 In Example 1, γ-methacryloxypropyltrimeth
65 xysilane (KBM-503 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Mass% (vs phenyltriethoxysilane and γ-glycid
Total mass ratio of xylpropyltrimethoxysilane)
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that. The prepared sample was evaluated from the following viewpoints.
It was. The flexible disk is made of a fluorinated solvent (Sumi
Tomo 3M HFE-7200) soaked in lubricant
After washing, a sample piece was cut into a width of 2 cm. On the sample
Mending tape (MD-18 manufactured by Nichiban Co., Ltd.)
When the substrate is applied and peeled off by hand, the support and undercoat interface
If there is any peeling, there is peeling.
If the sample was peeled off and the sample was not changed,
It was. Mending tape (Michi manufactured by Nichiban Co., Ltd.)
D-18) is fixed so that the adhesive surface is the upper surface, and the sample piece
1.0 in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the mending tape
cm was pasted. Stick a spring scale to the non-fixed end of the specimen.
Fix it with adhesive tape, pull it in the direction of the arrow in Fig. 1, and peel it off.
The load at that time was evaluated as the adhesion. Also bonded
Check if there is any tension when unwinding the later film
It was. ○ that can be rolled out without causing surface roughness
What has been observed to be whitening due to surface roughness
×, whitening does not occur, but when observed with an optical microscope,
A case where a rickety mark was observed was rated as Δ. The above evaluation results
Table 1 shows. [0080] [Table 1] [0081] According to the present invention, as a base coating on the support,
The formed silicone resin is, for example, an aromatic hydrocarbon
A silane coupling agent having an epoxy group or an epoxy group
Silane coupling agents and acryloxy groups or methacrylates
Compound containing silane coupling agent having riloxy group
A mixture of siloxane bonds, and
Because it has a bond due to ring opening of the poxy group,
Heat resistance and blocking resistance compared to re-ester resin, etc.
It has excellent grip properties. This polymerized film is made of tetraethoxy
Prepared by the sol-gel method using silane and other starting materials.
Excellent crack resistance compared to silica films. Further
In the present invention, the lower coating film has an acryloxy group or methacrylo group.
Adhesion with the support is improved due to having a xy group.
In addition, the peeling between the lower coating and the back surface is prevented.

【図面の簡単な説明】 【図1】支持体と下塗膜界面の密着力を測定する方法を
説明するための図である。
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is a diagram for explaining a method for measuring the adhesion between a support and an undercoat film interface;

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C09D 183/04 C09D 183/04 183/07 183/07 // C08L 101:00 C08L 101:00 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme code (reference) C09D 183/04 C09D 183/04 183/07 183/07 // C08L 101: 00 C08L 101: 00

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体の少なくとも一方の面に下塗膜、
その上に強磁性金属薄膜から成る磁性膜を有する磁気記
録媒体において、 該下塗膜は芳香族基及び/又はエポキシ基を有する化合
物を含む下記一般式(1A)で表される化合物、及びア
クリロキシ基またはメタクリロキシ基を有する化合物を
含む一般式(1B)で表される化合物、を含む混合物の
反応物からなり、かつ一般式(1B)で表される化合物
を一般式(1A)で表される化合物100質量部に対し
て0.1〜60質量部用いることを特徴とする磁気記録
媒体。 一般式(1A) (R1a−Si−Xb (式中、a+b=4、a=0〜3(ただし、bが2以上
であるものを少なくとも含む)であり、R1はエポキシ
基を有してもよい炭素数1〜40の有機基を示し、Xは
加水分解性基を示す。) 一般式(1B) (R2c−Si−Xd (式中、c+d=4、c=1〜3であり、R2はアクリ
ロキシ基またはメタクリロキシ基を有してもよい炭素数
1〜40の有機基を示し、Xは加水分解性基を示す。)
1. An undercoat film on at least one surface of a support,
In the magnetic recording medium having a magnetic film comprising a ferromagnetic metal thin film thereon, the lower coating film comprises a compound represented by the following general formula (1A) containing a compound having an aromatic group and / or an epoxy group, and acryloxy A compound represented by the general formula (1B) including a compound having a group or a methacryloxy group, and represented by the general formula (1A) A magnetic recording medium comprising 0.1 to 60 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the compound. Formula (1A) (R 1) in a -Si-X b (wherein, a + b = 4, a = 0~3 ( although, b is at least included) those is 2 or more, R 1 represents an epoxy group And C represents a hydrolyzable group.) General Formula (1B) (R 2 ) c —Si—X d (where c + d = 4, c = 1 to 3, R 2 represents an organic group having 1 to 40 carbon atoms which may have an acryloxy group or a methacryloxy group, and X represents a hydrolyzable group.)
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