JPH11120534A - Magnetic record medium - Google Patents

Magnetic record medium

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JPH11120534A
JPH11120534A JP27694097A JP27694097A JPH11120534A JP H11120534 A JPH11120534 A JP H11120534A JP 27694097 A JP27694097 A JP 27694097A JP 27694097 A JP27694097 A JP 27694097A JP H11120534 A JPH11120534 A JP H11120534A
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JP
Japan
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film
magnetic
nonmagnetic support
coating
solvent
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Application number
JP27694097A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Usuki
一幸 臼杵
Katsuhiko Meguro
克彦 目黒
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11120534A publication Critical patent/JPH11120534A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent deformation of a nonmagnetic support elution of the component by heat or cracking in a film forming process and to obtain a record medium having excellent characteristics at a low cost by forming a base coating layer comprising a polyamide imide resin on a nonmagnetic support and forming a ferromagnetic metal thin film by vacuum film forming method thereon. SOLUTION: When a polyamide imide resin is applied as a base coating layer on a nonmagnetic support, the coating liquid is prepared to have 0.5 to 10 wt.% concn. by using a general solvent containing no fluorine. such as 1/1 mixture solvent of γ-butyrolactone/cyclohexanone, 1/1 mixture solvent of tetrahydrofuran/cyclohexanone, 1/1 mixture solvent of ethanol/toluene, 1/1 mixture solvent of dioxane/cyclopentanone, tetrahydrofuran or N-methylpyrrolide. The coating liquid is applied by wire bar method, gravure method, spray method, dip coating method or spin coating method to form a film having 0.05 to 0.8 μm thickness after being dried.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は強磁性金属薄膜を磁
性膜とする磁気記録媒体に関するものである。
The present invention relates to a magnetic recording medium using a ferromagnetic metal thin film as a magnetic film.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気テープ、フロッピーディスクあるい
はハードディスク等の磁気記録媒体は、一般に、非磁性
支持体上に磁性膜、保護膜などを成膜する工程によって
製造されている。このような磁気記録媒体においては、
スパッタリング法や蒸着法等の真空成膜法によって作製
した強磁性金属薄膜を磁性膜とする磁気記録媒体が実用
化されている。上記のようなスパッタリング法や蒸着法
によって磁性膜を形成した磁気記録媒体は、高い磁気エ
ネルギーが容易に得られ、さらに非磁性支持体の表面を
平滑にすることによって磁性膜表面を容易に平滑にする
ことが可能となりスペーシングロスが少なく、高い電磁
変換特性を得ることができるため高密度記録材料に適し
ている。特にスパッタリング法は蒸着法よりさらに磁気
エネルギーを高めることができるため、ハードディスク
のような高い記録密度が要求される磁気記録媒体に採用
されている。
2. Description of the Related Art A magnetic recording medium such as a magnetic tape, a floppy disk or a hard disk is generally manufactured by a process of forming a magnetic film, a protective film and the like on a non-magnetic support. In such a magnetic recording medium,
Magnetic recording media using a ferromagnetic metal thin film formed by a vacuum film forming method such as a sputtering method or a vapor deposition method as a magnetic film have been put to practical use. A magnetic recording medium in which a magnetic film is formed by a sputtering method or a vapor deposition method as described above can easily obtain high magnetic energy, and can further easily smooth the surface of the magnetic film by smoothing the surface of the nonmagnetic support. It is suitable for a high-density recording material because it is possible to obtain a high electromagnetic conversion characteristic with a small spacing loss. In particular, the sputtering method can further increase the magnetic energy than the vapor deposition method, and is therefore used for a magnetic recording medium such as a hard disk which requires a high recording density.

【0003】一方、磁気記録媒体にはヘッドとの摺動に
対する高い信頼性が要求される。例えばハードディスク
のCSS特性や蒸着テープのスチル耐久性のような走行
耐久性が挙げられ、このような耐久性を確保するために
非磁性支持体表面に微少な突起を形成し、ヘッドに対す
る接触面積を低減させることが行われている。
On the other hand, a magnetic recording medium is required to have high reliability for sliding with a head. For example, running durability such as CSS characteristics of a hard disk and still durability of a vapor-deposited tape can be mentioned. In order to secure such durability, minute projections are formed on the surface of a non-magnetic support to reduce the contact area with the head. Reductions have been made.

【0004】しかしながら、最近の磁気記録媒体では高
記録密度化の要求が強く、従来よりさらに高い電磁変換
特性が必要となってきている。このため非磁性支持体表
面に設けられる突起の高さは益々低くなる傾向にあり、
突起高さは20nm以下となってきている。
However, in recent magnetic recording media, there is a strong demand for higher recording density, and higher electromagnetic conversion characteristics than in the past have been required. For this reason, the height of the projection provided on the surface of the non-magnetic support tends to be increasingly lower,
The height of the protrusion has become less than 20 nm.

【0005】このためハードディスクでは非磁性支持体
であるアルミニウム基板、ガラス基板、カーボン基板等
の基板表面を機械的または化学的に研磨し、非常に平滑
な基材としている。また蒸着により磁性膜を形成した磁
気テープでは、非磁性支持体であるポリエチレンテレフ
タレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム
等の高分子フィルム表面を非常に平滑にし、この上に球
状微粒子を塗布している。さらに高密度記録化を行うた
めには、さらに突起高さを低下させるか、実質的に突起
を持たない鏡面基板を使用しなければならない。
For this reason, in a hard disk, the surface of a nonmagnetic support such as an aluminum substrate, a glass substrate, or a carbon substrate is mechanically or chemically polished to provide a very smooth substrate. In a magnetic tape on which a magnetic film is formed by vapor deposition, the surface of a polymer film such as a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film, which is a nonmagnetic support, is made very smooth, and spherical fine particles are coated thereon. In order to achieve higher-density recording, the height of the protrusions must be further reduced, or a mirror surface substrate having substantially no protrusions must be used.

【0006】磁気テープやフロッピーディスクのよう
に、非磁性支持体として上記のようにポリエチレンテレ
フタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィル
ム等の可撓性高分子フィルムを用いたものにおいても、
記録密度の向上等を図るため、スパッタリング法や蒸着
法で強磁性金属薄膜から成る磁性膜を形成することが望
ましいが、そのような高分子フィルムは耐熱性に劣るの
で、スパッタリング法で成膜した場合、あるいは蒸着法
により蒸着速度を高めて成膜した場合、高分子フィルム
もしくはその表面が加熱されてオリゴマーの析出等によ
る表面劣化が発生し、非磁性支持体の平滑な表面性、ひ
いては磁性膜の平滑な表面性を得ることが困難になると
いう問題が生じる。そこで、この問題を解決するため
に、次のような技術が提案されている。
[0006] In a case where a flexible polymer film such as a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film is used as a non-magnetic support as described above, such as a magnetic tape or a floppy disk,
In order to improve the recording density and the like, it is desirable to form a magnetic film made of a ferromagnetic metal thin film by a sputtering method or a vapor deposition method. However, such a polymer film has poor heat resistance. In the case where the film is formed by evaporating at a high vapor deposition rate, the polymer film or its surface is heated to cause surface degradation due to oligomer precipitation and the like, and the smooth surface property of the non-magnetic support, and hence the magnetic film A problem arises in that it is difficult to obtain a smooth surface property. Therefore, the following technology has been proposed to solve this problem.

【0007】一つは、非磁性支持体である高分子フィル
ムの材料として耐熱性樹脂を用いる方法である。用いる
耐熱性樹脂としては、ポリイミドフィルムなどが考えら
れるが、一般にポリイミドフィルムは高価である。加え
て、非常に平滑で表面性の良いポリイミドフィルムの作
製、使用は技術上困難であり、この方法は現実的ではな
い。
One is a method using a heat-resistant resin as a material for a polymer film as a nonmagnetic support. As the heat-resistant resin to be used, a polyimide film or the like can be considered, but the polyimide film is generally expensive. In addition, it is technically difficult to produce and use a polyimide film which is very smooth and has good surface properties, and this method is not practical.

【0008】他には、例えば塗布により磁性膜を形成す
る従来の磁気記録媒体に一般に用いられている比較的安
価な高分子フィルム上に下塗り膜を形成し、膜の平滑性
や耐熱性を高める方法が提案されている。
In addition, an undercoat film is formed on a relatively inexpensive polymer film generally used for a conventional magnetic recording medium in which a magnetic film is formed by coating, for example, to improve the smoothness and heat resistance of the film. A method has been proposed.

【0009】例えば特開平6−349042号公報に
は、比較的表面の粗い高分子フィルム上に微粒子を含有
した樹脂膜を設けることにより適切な表面性を有するフ
ィルムを作製する方法が開示されている。しかし、ここ
で使用されている一般的な樹脂結合剤を用いた場合、ス
パッタリング法により磁性膜を作製すると熱的なダメー
ジによる表面性の劣化が激しい。
For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-349042 discloses a method for producing a film having an appropriate surface property by providing a resin film containing fine particles on a polymer film having a relatively rough surface. . However, when the general resin binder used here is used, when the magnetic film is formed by the sputtering method, the surface property is significantly deteriorated due to thermal damage.

【0010】また特開平7−225934号公報には、
ポリエチレンテレフタレート上にポリエチレンナフタレ
ートを塗布し、熱によるオリゴマー析出を抑制する方法
が開示されている。しかし、ポリエチレンナフタレート
を用いても、一般的なスパッタリング法での温度条件で
ある200℃までフィルムを加熱するとオリゴマー等の
析出による表面性の劣化を生じる。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-225934 discloses that
A method is disclosed in which polyethylene naphthalate is coated on polyethylene terephthalate to suppress oligomer precipitation due to heat. However, even when polyethylene naphthalate is used, when the film is heated to 200 ° C., which is the temperature condition in a general sputtering method, the surface properties are deteriorated due to the precipitation of oligomers and the like.

【0011】さらに、特開昭63−188823号公報
には、ポリイミドフィルム上に無機微粒子が分散された
ポリイミド塗布層を設けることにより支持体表面の表面
性を改良した発明が開示されている。しかしこの方法に
よっても塗布液の溶解液として汎用溶剤が使用できなか
ったり、スパッタリングで磁性膜を形成する際のスパッ
タリング工程での熱による悪影響に十分に対処すること
ができなかった。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-188823 discloses an invention in which the surface properties of a support surface are improved by providing a polyimide coating layer in which inorganic fine particles are dispersed on a polyimide film. However, even with this method, a general-purpose solvent cannot be used as a solution for dissolving the coating solution, or the adverse effect of heat in a sputtering process when forming a magnetic film by sputtering cannot be sufficiently addressed.

【0012】また特開平6−208717号公報には、
より耐熱性の高いポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂を高
分子フィルム上に塗布する方法が開示されている。この
ような材料を用いるとスパッタリング法に耐えうる耐熱
性をフィルムに付与することが可能ではある。しかしポ
リアミド樹脂やポリイミド樹脂は汎用溶剤に対する溶解
性が低く、扱いにくい溶剤を使用する必要がある。ま
た、樹脂が汎用溶剤に可溶性であっても、塗布後に溶剤
を十分に乾燥することが難しく、塗膜中の溶剤残留量が
多くなるため、フィルムの巻き取り時に塗膜とフィルム
のバック面が接着してしまうブロッキングを引き起こし
やすく、また磁性膜を形成する際に揮発する残留溶剤が
真空槽内を汚染する可能性もある。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-208717 discloses that
A method of applying a polyamide resin or a polyimide resin having higher heat resistance on a polymer film is disclosed. When such a material is used, heat resistance that can withstand a sputtering method can be imparted to the film. However, polyamide resins and polyimide resins have low solubility in general-purpose solvents, and thus it is necessary to use solvents that are difficult to handle. In addition, even if the resin is soluble in a general-purpose solvent, it is difficult to dry the solvent sufficiently after coating, and the residual amount of the solvent in the coating film increases. Blocking, which causes adhesion, is likely to occur, and a residual solvent volatilized when forming the magnetic film may contaminate the inside of the vacuum chamber.

【0013】さらに耐熱性の高い被膜としては無機物の
被膜を形成することが有効であり、例えば、シラン化合
物の加水分解で得られるシリカ膜や金属アルコキシドか
ら得られる金属酸化物の被膜を形成することが考えられ
る。しかしながらそのような無機物の被膜では非磁性支
持体の熱変化に対応できず、その被膜表面に割れが生じ
てその上に成膜される磁性膜にクラックが発生するとい
う問題がある。
As a film having higher heat resistance, it is effective to form an inorganic film. For example, a silica film obtained by hydrolysis of a silane compound or a metal oxide film obtained from a metal alkoxide is formed. Can be considered. However, such an inorganic coating cannot cope with the thermal change of the non-magnetic support, and there is a problem that a crack occurs on the surface of the coating and a crack occurs in the magnetic film formed thereon.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】以上のように、高分子
フィルム等を支持体としてその上に強磁性金属薄膜から
成る磁性膜をスパッタリング法等で形成しようとする場
合、支持体と磁性膜との間に耐熱性を有し、表面の平滑
性を有し、割れが生じずかつ容易に形成し得る下塗り膜
を設けることが望ましいが、従来技術においてはそれら
を十分に満足し得る下塗り膜を設けることが困難であっ
た。本発明の目的は、上記事情に鑑み、平滑な表面性を
有し、さらに非磁性支持体の加熱を伴うスパッタリング
法で磁性膜を作製した場合でも、表面性の劣化やクラッ
クの発生がなく、ブロッキングを引き起こす虞れもない
下塗り膜を有する磁気記録媒体を容易に低コストで製造
することのできる磁気記録媒体を提供することにある。
As described above, when a magnetic film composed of a ferromagnetic metal thin film is to be formed on a polymer film or the like as a support by a sputtering method or the like, the support and the magnetic film need to be combined. It is desirable to provide an undercoat film that has heat resistance between the surfaces, has a surface smoothness, does not generate cracks, and can be easily formed, but in the prior art, an undercoat film that can sufficiently satisfy them is provided. It was difficult to provide. In view of the above circumstances, the object of the present invention has a smooth surface property, and even when a magnetic film is produced by a sputtering method involving heating of a non-magnetic support, there is no deterioration in surface properties or generation of cracks, It is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium that can easily and at low cost have a magnetic recording medium having an undercoat film that does not cause blocking.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明にかかる磁気記録媒体は、非磁性支持体の少
なくとも一方の面に強磁性金属薄膜からなる磁性膜を有
する磁気記録媒体において、該支持体と強磁性金属薄膜
の間にポリアミドイミド樹脂からなる下塗り膜が形成さ
れていることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a magnetic recording medium according to the present invention is a magnetic recording medium having a magnetic film made of a ferromagnetic metal thin film on at least one surface of a nonmagnetic support. An undercoat film made of a polyamideimide resin is formed between the support and the ferromagnetic metal thin film.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】本発明において、非磁性支持体上
に下塗り膜として形成されるポリアミドイミド樹脂は、
イミド結合とアミド結合からなっているため、従来のポ
リエステル樹脂やポリアミド樹脂などと比較して、耐熱
性に優れており、ガラス転移点は250℃以上に達す
る。したがって磁性膜を基体温度200℃のスパッタリ
ング法で形成する場合においても、変形が生じないた
め、表面が平滑な磁気記録媒体を容易に作製することが
できる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, a polyamide-imide resin formed as an undercoat film on a non-magnetic support comprises:
Since it is composed of an imide bond and an amide bond, it has excellent heat resistance as compared with conventional polyester resins and polyamide resins and the like, and has a glass transition point of 250 ° C. or more. Therefore, even when the magnetic film is formed by the sputtering method at a substrate temperature of 200 ° C., no deformation occurs, so that a magnetic recording medium having a smooth surface can be easily manufactured.

【0017】本発明に用いることができるポリアミドイ
ミド樹脂は、日刊工業「ポリアミド樹脂ハンドブック」
等に記載されているように、末端にアミノ基を有する低
分子量のポリアミドと酸無水物の反応による方法、末端
にアミノ基を有する低分子量のポリアミド酸と二塩基性
クロリドとの反応による方法;トリメリット酸誘導体と
ジアミンと反応による方法等によって得られる。
The polyamideimide resin which can be used in the present invention is described in Nikkan Kogyo "Polyamide resin handbook".
And the like, a method of reacting a low molecular weight polyamide having an amino group at a terminal with an acid anhydride, a method of reacting a low molecular weight polyamic acid having an amino group at a terminal with dibasic chloride; It can be obtained by, for example, a method of reacting a trimellitic acid derivative with a diamine.

【0018】これらの、酸無水物、ピロメリット酸−
1,4−ジメチルエステル、ピロメリット酸テトラメチ
ルエステル、ピロメリット酸エチルエステル、2,3,
6,7−ナフタリンテトラカルボン酸ジ無水物、3,
3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸ジ無水
物、1,2,5,6−ナフタリンテトラカルボン酸ジ無
水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン
酸ジ無水物、2,2’,6,6’−ビフェニルテトラカ
ルボン酸ジ無水物等か;ジアミン類の前記の芳香族ジア
ミンが使用される。
These acid anhydrides, pyromellitic acid-
1,4-dimethyl ester, pyromellitic acid tetramethyl ester, pyromellitic acid ethyl ester, 2,3
6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 3,
3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 6,6'-biphenyltetracarboxylic dianhydride; and the above-mentioned aromatic diamines of diamines are used.

【0019】ポリアミド酸の合成溶媒としては、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルメト
キシアセトアミド、N−メチルカプロラクタム、ジメチ
ルスルホン、テトラメチレンスルホン、N−アセチル−
2−ピロリドン等が使用される。
As a solvent for synthesizing polyamic acid, dimethylformamide, dimethylacetamide, dimethylmethoxyacetamide, N-methylcaprolactam, dimethylsulfone, tetramethylenesulfone, N-acetyl-
2-Pyrrolidone and the like are used.

【0020】また、非磁性支持体上へのポリイミドアミ
ドの下塗り層の塗布には、ポリイミドアミドが溶解する
溶媒を用いて行うことができる。具体的には、γ−ブチ
ロラクトン/シクロヘキサノン=1/1混合溶剤、テト
ラヒドロフラン/シクロヘキサノン=1/1混合溶剤、
エタノール/トルエン=1/1混合溶剤、ジオキサン/
シクロペンタノン=1/1混合溶剤、テトラヒドロフラ
ン、N−メチルピロリドンを挙げることができる。塗布
液の濃度は、0.05〜100重量%、好ましくは0.
1〜30重量%、さらに好ましくは、0.5〜10重量
%である。また、塗布は磁性塗料の塗布と同様の方法に
よって行うことができる。
The application of the undercoat layer of polyimideamide on the nonmagnetic support can be carried out using a solvent in which polyimideamide is dissolved. Specifically, γ-butyrolactone / cyclohexanone = 1/1 mixed solvent, tetrahydrofuran / cyclohexanone = 1/1 mixed solvent,
Ethanol / toluene = 1/1 mixed solvent, dioxane /
Cyclopentanone = 1/1 mixed solvent, tetrahydrofuran, N-methylpyrrolidone. The concentration of the coating solution is 0.05 to 100% by weight, preferably 0.1% by weight.
It is 1 to 30% by weight, more preferably 0.5 to 10% by weight. The application can be performed by the same method as the application of the magnetic paint.

【0021】また、本発明の下塗り膜としての好ましい
厚みは、乾燥後の厚みが0.03〜1.0μm、さらに
好ましくは0.05〜0.8μmである。0.03μm
より薄いと密着力が確保できず、塗布層の脱落が生じ、
ドロップアウトの増加の原因となる。1.0μmより厚
いと密着力は確保できるものの磁気記録媒体全体の厚み
が厚くなり薄層化の場合に不利となる。
Further, the preferred thickness of the undercoat film of the present invention is 0.03 to 1.0 μm, more preferably 0.05 to 0.8 μm, after drying. 0.03 μm
If it is thinner, the adhesion cannot be secured, and the coating layer will fall off,
Causes increased dropouts. If the thickness is more than 1.0 μm, the adhesion can be secured, but the thickness of the entire magnetic recording medium is increased, which is disadvantageous in the case of thinning.

【0022】また本発明において、非磁性支持体上に下
塗り膜として形成されるポリアミドイミド樹脂は、ポリ
イミド樹脂と比較して、溶剤溶解性や加工性に優れてい
る。このためエタノール、トルエン、シクロヘキサノ
ン、テトラヒドロフランなどのフッ素を含まない一般的
に用いられている溶剤に溶解できるため生産性に優れ、
さらに塗布後の乾燥性も良い。したがってプラスチック
フィルムなどに連続塗布、乾燥しても、ブロッキングや
表面性の劣化を生じることがない。
In the present invention, the polyamideimide resin formed as an undercoat film on the non-magnetic support has better solvent solubility and processability than the polyimide resin. For this reason, ethanol, toluene, cyclohexanone, excellent productivity because it can be dissolved in commonly used solvents that do not contain fluorine such as tetrahydrofuran,
Furthermore, the drying property after application is good. Therefore, even if it is continuously applied to a plastic film or the like and dried, no blocking or deterioration in surface properties occurs.

【0023】また本発明において、非磁性支持体上に下
塗り膜として形成されるポリアミドイミド樹脂は、イミ
ド結合とアミド結合からなる樹脂であって、耐熱性と溶
剤溶解性に優れる構造のものが好ましい。このような樹
脂としては東洋紡績社製バイロマックスシリーズ等があ
げられる。
In the present invention, the polyamideimide resin formed as an undercoat film on the nonmagnetic support is a resin having an imide bond and an amide bond, and preferably has a structure excellent in heat resistance and solvent solubility. . Examples of such a resin include Viromax series manufactured by Toyobo.

【0024】下塗り膜は厚いほど平滑化効果が高く、非
磁性支持体の粗度が粗い基材でも平滑にすることができ
るが、厚すぎるとうねり状に粗くなったり、乾燥が不十
分でブロッキングを生ずることがある。一方、薄すぎる
と平滑化効果が少なく、非磁性支持体の粗さが直接現れ
てしまう。また薄すぎると耐熱性の効果も少なくなり、
非磁性支持体の損傷や、非磁性支持体からのオリゴマー
等の析出を防止できなくなる。非磁性支持体の突起の影
響を受けない鏡面にするためには、非磁性支持体の突起
高さの2〜5倍の膜厚とすることが好ましい。
The thicker the undercoating film is, the higher the smoothing effect is, and the undercoating film can be smoothed even with a substrate having a coarse roughness of the nonmagnetic support. May occur. On the other hand, if it is too thin, the smoothing effect is small, and the roughness of the nonmagnetic support directly appears. If it is too thin, the effect of heat resistance will decrease,
Damage to the nonmagnetic support and precipitation of oligomers and the like from the nonmagnetic support cannot be prevented. In order to obtain a mirror surface which is not affected by the protrusions of the non-magnetic support, the thickness is preferably 2 to 5 times the height of the protrusions of the non-magnetic support.

【0025】本発明において非磁性支持体上にポリアミ
ドイミド樹脂を塗布して下塗り膜を作製する方法として
は、ポリアミド樹脂をエタノール、トルエン等の有機溶
剤に溶解した溶液をワイヤーバー法、グラビア法、スプ
レー法、ディップコート法、スピンコート法等の手法に
よって非磁性支持体上に塗布した後、乾燥する方法を使
用することができる。さらにこの後、必要に応じて下塗
り膜を焼成して硬化を促進させ、耐熱性や耐溶剤性、密
着性などを向上させる。このとき使用される塗布溶剤の
種類はポリアミドイミド樹脂の構造よって決定される
が、エタノール、トルエン、シクロヘキサノン等の一般
的な炭化水素系の有機溶剤を用いることができる。
In the present invention, as a method for preparing an undercoat film by coating a polyamideimide resin on a nonmagnetic support, a solution obtained by dissolving a polyamide resin in an organic solvent such as ethanol or toluene may be prepared by a wire bar method, a gravure method, or the like. A method in which the composition is applied onto a non-magnetic support by a method such as a spray method, a dip coating method, and a spin coating method and then dried is used. Further, after that, the undercoat film is baked, if necessary, to accelerate the curing and improve heat resistance, solvent resistance, adhesion, and the like. The type of the coating solvent used at this time is determined by the structure of the polyamideimide resin, but a general hydrocarbon-based organic solvent such as ethanol, toluene and cyclohexanone can be used.

【0026】また乾燥は上記溶剤を揮発させるために行
われるものでり、乾燥方法としては一般的に行われてい
る熱風乾燥、赤外線乾燥などが使用できる。このときの
乾燥温度は60℃〜150℃程度が好ましい。
The drying is carried out in order to evaporate the solvent, and as a drying method, hot air drying, infrared drying and the like which are generally used can be used. The drying temperature at this time is preferably about 60C to 150C.

【0027】塗膜の乾燥の後、さらに脱溶剤と硬化を促
進させる焼成方法としては熱風加熱、赤外線加熱、熱ロ
ーラー加熱などが使用できる。このときの加熱温度とし
ては塗膜の厚みと後の磁性膜の成膜方法及び成膜温度に
もよるが、1μm前後の場合には80℃〜250℃、好
ましくは100℃〜200℃の範囲である。温度がこれ
よりも低い場合には重合反応の進行が不十分であり、逆
に高すぎると非磁性支持体の変形を引き起こしたり、生
産性の低下につながる。また加熱による重合以外にも紫
外線照射、電子線照射などによる重合も可能である。
After the coating is dried, hot air heating, infrared heating, hot roller heating and the like can be used as a baking method for further promoting solvent removal and curing. The heating temperature at this time depends on the thickness of the coating film, the method of forming the magnetic film afterward, and the film forming temperature, but when it is around 1 μm, it is in the range of 80 ° C. to 250 ° C., preferably 100 ° C. to 200 ° C. It is. When the temperature is lower than this, the progress of the polymerization reaction is insufficient. On the other hand, when the temperature is too high, the nonmagnetic support may be deformed or productivity may be reduced. In addition to polymerization by heating, polymerization by ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, or the like is also possible.

【0028】また本発明の下塗り膜にはポリアミドイミ
ド樹脂以外の成分が含有されていても良い。このような
添加剤としては表面に凹凸を設けるための耐熱性微粒子
(フィラー)、支持体との密着を改善するためのカップ
リング剤、磁性膜の酸化を防止する防錆剤などが挙げら
れる。
The undercoat film of the present invention may contain components other than the polyamideimide resin. Examples of such additives include heat-resistant fine particles (fillers) for providing irregularities on the surface, coupling agents for improving adhesion to the support, and rust preventives for preventing oxidation of the magnetic film.

【0029】本願発明の下塗り膜の表面に凹凸を設ける
ための耐熱性微粒子としてはシリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニアなどの無機酸化物、炭酸カルシウム、炭
素、高分子などが挙げられる。この形状としては単分散
で球状であることが好ましい。その粒子径は下塗り膜の
膜厚に応じて選ばれるが10〜1000nm、好ましく
は20〜100nmである。本発明において塗布液は主
としてアルコール溶液であるため、アルコール分散した
オルガノシリカゾルや酸性水溶液分散したシリカゾルな
どが特に好適である。
Examples of heat-resistant fine particles for forming irregularities on the surface of the undercoat film of the present invention include inorganic oxides such as silica, alumina, titania, and zirconia, calcium carbonate, carbon, and polymers. The shape is preferably monodisperse and spherical. The particle size is selected depending on the thickness of the undercoat film, but is 10 to 1000 nm, preferably 20 to 100 nm. In the present invention, since the coating liquid is mainly an alcohol solution, an organosilica sol in which alcohol is dispersed or a silica sol in which an acidic aqueous solution is dispersed are particularly preferable.

【0030】上記の微粒子を下塗り膜中に内添もしくは
下塗り膜上に塗布し、表面に微少な凹凸を作製すること
によってスペーシングロスによる電磁変換特性が多少低
下するものの、走行性、耐久性を大幅に向上できる。こ
の場合の突起の高さは5〜50nm、好ましくは10〜
30nmである。また突起の密度は105〜109個/m
2、好ましくは106〜108個/mm2である。これよ
りも突起の高さが低いばあい、もしくは密度が低い場合
には走行性、耐久性の改善効果が少なく、これより突起
の高さが高いもしくは密度が多いと電磁変換特性が低下
するため好ましくない。
The above-mentioned fine particles are internally added to the undercoat film or coated on the undercoat film to form fine irregularities on the surface, so that the electromagnetic conversion characteristics due to spacing loss are slightly reduced, but the running property and durability are reduced. Can be greatly improved. In this case, the height of the projection is 5 to 50 nm, preferably 10 to 50 nm.
30 nm. The density of the protrusions is 10 5 to 10 9 / m
m 2 , preferably 10 6 to 10 8 pieces / mm 2 . When the height of the projections is lower than this, or when the density is low, the effect of improving running performance and durability is small, and when the height of the projections is higher or the density is higher, the electromagnetic conversion characteristics decrease. Not preferred.

【0031】また、本発明で使用する非磁性支持体とし
ては、厚さ3〜100μmのポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリアミドイミド等のフイルム等が使用できる。ま
た、フィルムの内部にフィラーを含有し、フィルム表面
に凹凸を形成したものでも良い。また、剛性がある媒体
の場合にはガラス基板、アルミ基板やカーボン基板が使
用できる。
As the nonmagnetic support used in the present invention, a film of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyimide, polyamide, polyamide imide or the like having a thickness of 3 to 100 μm can be used. Further, a film containing a filler inside the film and having irregularities formed on the film surface may be used. In the case of a rigid medium, a glass substrate, an aluminum substrate or a carbon substrate can be used.

【0032】また本発明の下塗り膜は支持体との密着性
に優れるが、密着性が不足の場合にはシランカップリン
グ剤などの添加剤による支持体の表面処理や酸素プラズ
マ、アルゴンプラズマ、紫外線照射、電子線照射、火炎
照射などによる表面処理を施すことが好ましい。
The undercoating film of the present invention is excellent in adhesion to the support, but when the adhesion is insufficient, the surface treatment of the support with an additive such as a silane coupling agent, oxygen plasma, argon plasma, ultraviolet light It is preferable to perform surface treatment such as irradiation, electron beam irradiation, and flame irradiation.

【0033】本発明の磁気記録媒体における磁性膜とな
る強磁性金属薄膜は従来より公知の真空蒸着法、スパッ
タリング法等の真空成膜法により形成できる。磁性膜を
スパッタリング法で形成する場合、組成としてはコバル
トを主体とした従来より公知の金属または合金が挙げら
れ、具体的にはCo−Cr、Co−Ni−Cr、Co−
Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co−Cr−Ta−P
t、Co−Cr−Pt−Si、Co−Cr−Pt−B等
が使用できる。特に電磁変換特性を改善するためにCo
−Cr−Ta、Co−Cr−Ptが好ましい。磁性膜の
厚みは10〜300nmとするのが望ましい。またこの
場合磁性膜の静磁気特性を改善するための下地膜を設け
ることが好ましく、この下地膜の組成としては従来より
公知の金属または合金などが挙げられ、具体的にはC
r、V、Ti、Ta、W、Si等またはこれらの合金が
使用でき、なかでもCr、Cr−Ti、Cr−V、Cr
−Siが特に好ましい。この下地膜の厚みとしては5n
m〜500nmであり、好ましくは10nm〜200n
mである。またスパッタリング法で磁性膜を作製する場
合には、基体を加熱した状態で成膜する事が好ましく、
そのときの温度は150〜200℃である。
The ferromagnetic metal thin film serving as a magnetic film in the magnetic recording medium of the present invention can be formed by a conventionally known vacuum film forming method such as a vacuum evaporation method and a sputtering method. When the magnetic film is formed by a sputtering method, the composition includes a conventionally known metal or alloy mainly composed of cobalt, and specifically, Co-Cr, Co-Ni-Cr, Co-
Cr-Ta, Co-Cr-Pt, Co-Cr-Ta-P
t, Co-Cr-Pt-Si, Co-Cr-Pt-B, etc. can be used. In particular, to improve the electromagnetic conversion characteristics, Co
-Cr-Ta and Co-Cr-Pt are preferred. The thickness of the magnetic film is desirably 10 to 300 nm. In this case, it is preferable to provide a base film for improving the magnetostatic characteristics of the magnetic film. The base film may be composed of a conventionally known metal or alloy.
r, V, Ti, Ta, W, Si, etc. or alloys thereof can be used. Among them, Cr, Cr-Ti, Cr-V, Cr
-Si is particularly preferred. The thickness of this base film is 5n
m to 500 nm, preferably 10 nm to 200 n
m. When a magnetic film is formed by a sputtering method, it is preferable to form the film while the substrate is heated,
The temperature at that time is 150 to 200 ° C.

【0034】磁性膜を真空蒸着法で作製する場合、組成
としてはコバルトを主体とした従来より公知の金属また
は合金が挙げられ、具体的にはCo、Co−Ni、Co
−Feなどを酸素雰囲気中で蒸着し、膜中に酸素を含ん
だものが使用できる。特に電磁変換特性を改善するため
磁性層を構成する金属原子の90原子%以上、さらに好
ましくは95原子%以上はコバルトであるCo−O、ま
たはCo−Oを含有するCo−Fe等が好ましい。磁性
層の厚みは、100〜300nmとするのが望ましく、
さらに望ましくは120〜200nmである。また、強
磁性金属薄膜は電磁変換特性を改善するため重層構成と
したり、非磁性下地層や中間層を有していても良い。
When the magnetic film is formed by a vacuum deposition method, the composition may be a conventionally known metal or alloy mainly composed of cobalt, and specifically, Co, Co-Ni, Co
-Fe or the like is deposited in an oxygen atmosphere, and a film containing oxygen in the film can be used. In particular, in order to improve the electromagnetic conversion characteristics, Co-O which is cobalt is 90% by atom or more, more preferably 95% by atom or more of the metal atoms constituting the magnetic layer, and Co-Fe containing Co-O or the like is preferable. The thickness of the magnetic layer is desirably 100 to 300 nm,
More preferably, it is 120 to 200 nm. Further, the ferromagnetic metal thin film may have a multilayer structure to improve electromagnetic conversion characteristics, or may have a nonmagnetic underlayer or an intermediate layer.

【0035】本発明の磁気記録媒体においては強磁性金
属薄膜上に保護膜が設けられていても良く、この保護膜
によってさらに走行耐久性、耐食性を改善することがで
きる。 保護膜としてはシリカ、アルミナ、チタニア、
ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化
物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化
物、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物、
グラファイト、無定型カーボンなどの炭素からなる保護
膜が挙げられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, a protective film may be provided on the ferromagnetic metal thin film. With this protective film, running durability and corrosion resistance can be further improved. Silica, alumina, titania,
Oxides such as zirconia, cobalt oxide and nickel oxide, nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride, silicon carbide, chromium carbide and carbides such as boron carbide;
Examples of the protective film include carbon such as graphite and amorphous carbon.

【0036】前記炭素保護膜は、プラズマCVD法、ス
パッタリング法等で作製したアモルファス、グラファイ
ト、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合物からな
るカーボン膜であり、特に好ましくは一般にダイヤモン
ドライクカーボンと呼ばれる硬質カーボン膜である。こ
の硬質炭素膜はビッカース硬度で1000kg/mm2
以上、好ましくは2000kg/mm2 以上の硬質
の炭素膜である。また、その結晶構造はアモルファス構
造であり、かつ非導電性である。
The carbon protective film is a carbon film made of an amorphous, graphite, diamond structure or a mixture thereof produced by a plasma CVD method, a sputtering method or the like, and particularly preferably a hard carbon film generally called diamond-like carbon. is there. This hard carbon film has a Vickers hardness of 1000 kg / mm 2
Above, preferably a hard carbon film of 2000 kg / mm 2 or more. The crystal structure is an amorphous structure and is non-conductive.

【0037】この硬質炭素保護膜は、メタン、エタン、
プロパン、ブタン等のアルカン、あるいはエチレン、プ
ロピレン等のアルケン、またはアセチレン等のアルキン
をはじめとした炭素含有化合物を原料としたプラズマC
VDや、水素や炭化水素雰囲気下で炭素をターゲットと
したスパッタリング法等によって形成することができ
る。
This hard carbon protective film is made of methane, ethane,
Plasma C made from a carbon-containing compound such as an alkane such as propane or butane, an alkene such as ethylene or propylene, or an alkyne such as acetylene.
It can be formed by VD, a sputtering method using carbon as a target in a hydrogen or hydrocarbon atmosphere, or the like.

【0038】硬質炭素保護膜の膜厚が厚いと電磁変換特
性の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が
薄いと耐磨耗性が不足するために、膜厚2.5〜20n
mが好ましく、とくに好ましくは5〜10nmである。
また、この硬質炭素保護膜上に付与する潤滑剤との密着
をさらに向上させる目的で硬質炭素保護膜表面を酸化性
もしくは不活性気体によって表面処理しても良い。
If the thickness of the hard carbon protective film is large, the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated and the adhesion to the magnetic layer is reduced. If the thickness is small, the abrasion resistance is insufficient. 20n
m is preferable, and particularly preferably 5 to 10 nm.
Further, the surface of the hard carbon protective film may be subjected to a surface treatment with an oxidizing or inert gas for the purpose of further improving the adhesion with the lubricant provided on the hard carbon protective film.

【0039】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。潤
滑剤としては炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑剤、極圧
添加剤などが使用できる。炭化水素系潤滑剤としてはス
テアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ステアリン
酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホン酸等の
スルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリン酸エス
テル類、ステアリルアルコール、オレイルアルコール等
のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカルボン酸ア
ミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが挙げられ
る。
In the magnetic recording medium of the present invention, in order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to provide a lubricant or a rust inhibitor on the magnetic film or the protective film. As the lubricant, a hydrocarbon-based lubricant, a fluorine-based lubricant, an extreme pressure additive and the like can be used. Examples of the hydrocarbon-based lubricant include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecylsulfonic acid, phosphoric esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol and the like. Alcohols, carboxylic acid amides such as stearic acid amide, and amines such as stearylamine.

【0040】フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては
パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロエ
チレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレン
オキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオロ
イソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF
2O)nまたはこれらの共重合体等である。
Examples of the fluorine-based lubricant include lubricants in which a part or all of the alkyl group of the hydrocarbon-based lubricant is substituted with a fluoroalkyl group or a perfluoropolyether group. Examples of the perfluoropolyether group include a perfluoromethylene oxide polymer, a perfluoroethylene oxide polymer, a perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , and a perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3 ) CF
2 O) n or a copolymer thereof.

【0041】極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等
のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン
酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ
亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベ
ンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。
Examples of extreme pressure additives include phosphoric esters such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphoric esters such as trilauryl trithiophosphite and the like. And sulfur-based extreme pressure agents such as dibenzyl sulfide.

【0042】上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して
使用される。これらの潤滑剤を磁性膜もしくは保護膜上
に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワ
イヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップ
コート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させ
ればよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m2
が好ましく、2〜20mg/m2が特に好ましい。
The above lubricants are used alone or in combination of two or more. As a method of applying these lubricants on a magnetic film or a protective film, a lubricant is dissolved in an organic solvent and applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or a vacuum evaporation method. What is necessary is just to make it adhere. The amount of the lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m 2.
Preferably, 2 to 20 mg / m 2 is particularly preferred.

【0043】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル
側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合
物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環
類およびこの誘導体等が挙げられる。このような目的で
使用可能なテトラザインデン環化合物には、下記に示す
ものが挙げられる。
Examples of the rust preventive usable in the present invention include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine and pyrimidine, and derivatives having an alkyl side chain introduced into the mother nucleus, benzothiazole, 2-mercapto. And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as benzothiazole, tetrazaindene ring compounds and thiouracil compounds, and derivatives thereof. The tetrazaindene ring compounds that can be used for such purposes include the following.

【0044】[0044]

【化1】 Embedded image

【0045】ここで、Rには、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミド基から選ばれる炭化水素基である。
特に好ましくは、炭素数3以上20以下であり、アルコ
キシの場合にはROCOCH2−のRは、C37−、C6
13−、フェニル、またアルキル基の場合には、C6
13−、C919−、C1735−が挙げられ、アルキルア
ミドの場合にはRNHCOCH2−のRはフェニル、C3
7−が挙げられる。また、チオウラシル環化合物に
は、下記に示すものが挙げられる。
Here, R is a hydrocarbon group selected from an alkyl group, an alkoxy group and an alkylamide group.
Particularly preferably, it has 3 or more and 20 or less carbon atoms, and in the case of alkoxy, R of ROCOCH 2 — is C 3 H 7 —, C 6
H 13- , phenyl or, in the case of an alkyl group, C 6 H
13 -, C 9 H 19 - , C 17 H 35 - , and the like, in the case of alkylamide RNHCOCH 2 - of R phenyl, C 3
H 7 -, and the like. Further, examples of the thiouracil ring compound include the following.

【0046】[0046]

【化2】 Embedded image

【0047】ただし、Rは、炭素数が3以上の炭化水素
基である。
Here, R is a hydrocarbon group having 3 or more carbon atoms.

【実施例】以下に、実施例を示し本発明を説明する。 実施例1 最大突起粗さが0.01μmの厚さ63μmのポリエチ
レンナフタレートフィルム上にポリアミドイミド樹脂
(東洋紡績製MT5050)をエタノールとトルエンの
混合溶剤に溶解し、固形分濃度10重量%の塗布液を作
製した。この溶液をグラビアコート法で塗布した後、1
00℃で乾燥して厚み1μmの下塗り膜を作製した。次
に塗膜を170℃で20秒間加熱し、硬化と脱溶剤処理
を行った。このフィルムをスパッタリング装置内で、基
体の温度150℃で直流マグネトロンスパッタ法によっ
てCr−Ti下地膜を60nm成膜し、さらに引き続き
Co−Cr−Pt磁性膜を30nm成膜した。次にこの
フィルムをプラズマCVD装置に設置し、磁性膜上にエ
チレンを原料としたプラズマCVD法で硬質炭素保護膜
を20nm成膜した。次にこの保護膜上にパーフルオロ
ポリエーテル系潤滑剤(アウジモント製FOMBLIN
Z−DOL)をフッ素系溶剤(住友スリーエム製FC
−77)に溶解した溶液をディップコート法で塗布して
厚み2nmの潤滑膜を作製した。この下地膜、磁性膜、
保護膜、潤滑膜はフィルムの両面に対して成膜した。そ
してこの試料を3.7インチの磁気ディスク形状に打ち
抜き、フロッピーディスクを作製した。
The present invention will be described below with reference to examples. Example 1 A polyamideimide resin (MT5050 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of ethanol and toluene on a polyethylene naphthalate film having a maximum projection roughness of 0.01 μm and a thickness of 63 μm, and applied at a solid concentration of 10% by weight. A liquid was prepared. After applying this solution by the gravure coating method,
By drying at 00 ° C., an undercoat film having a thickness of 1 μm was prepared. Next, the coating film was heated at 170 ° C. for 20 seconds to perform curing and desolvation treatment. This film was formed in a sputtering apparatus by a DC magnetron sputtering method at a substrate temperature of 150 ° C. by a DC magnetron sputtering method to form a 60 nm Cr-Ti underlayer film, and then to form a 30 nm Co-Cr-Pt magnetic film. Next, this film was set in a plasma CVD apparatus, and a hard carbon protective film having a thickness of 20 nm was formed on the magnetic film by a plasma CVD method using ethylene as a raw material. Next, a perfluoropolyether-based lubricant (FOMBLIN manufactured by Ausimont) is formed on the protective film.
Z-DOL) with a fluorinated solvent (FC manufactured by Sumitomo 3M)
-77) was applied by a dip coating method to form a lubricating film having a thickness of 2 nm. This base film, magnetic film,
The protective film and the lubricating film were formed on both sides of the film. Then, this sample was punched into a 3.7-inch magnetic disk shape to produce a floppy disk.

【0048】実施例2 最大突起粗さが0.01μmの厚み63μmのポリエチ
レンナフタレートフィルム上にポリアミドイミド樹脂
(東洋紡社製AT8020)をテトラヒドロフランとシ
クロヘキサノンの混合溶剤に溶解し、固形分濃度10重
量%の塗布液を作製した。この溶液をグラビアコート法
で塗布した後、100℃で乾燥して厚み1μmの下塗り
膜を作製した。次に塗膜を170℃で20秒間加熱し、
硬化と脱溶剤処理を行った。この上に実施例1と同様に
下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜を形成し、試料を作製
した。
Example 2 A polyamideimide resin (AT8020 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of tetrahydrofuran and cyclohexanone on a polyethylene naphthalate film having a maximum projection roughness of 0.01 μm and a thickness of 63 μm, and the solid content concentration was 10% by weight. Was prepared. After this solution was applied by a gravure coating method, it was dried at 100 ° C. to prepare an undercoat film having a thickness of 1 μm. Next, the coating film is heated at 170 ° C. for 20 seconds,
Curing and solvent removal were performed. A base film, a magnetic film, a protective film, and a lubricating film were formed thereon in the same manner as in Example 1 to prepare a sample.

【0049】実施例3 最大突起粗さが0.01μmの厚み63μmのポリエチ
レンナフタレートフィルム上にポリアミドイミド樹脂
(東洋紡績製MT5050)をエタノールとトルエンの
混合溶剤に溶解し、固形分濃度10重量%の塗布液を作
製した。この溶液をグラビアコート法で塗布した後、1
00℃で乾燥して厚み1μmの下塗り膜を作製した。さ
らにこの上に粒子径25nmの球状シリカ粒子を0.0
05重量%含有した塗布液を塗布し、100℃で乾燥し
て、下塗り膜表面に突起を形成した。次に塗膜を170
℃で20秒間加熱し、硬化と脱溶剤処理を行った。この
上に実施例1と同様に下地膜、磁性膜、保護膜、潤滑膜
を形成し、試料を作製した。
Example 3 A polyamideimide resin (MT5050 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) was dissolved in a mixed solvent of ethanol and toluene on a polyethylene naphthalate film having a maximum projection roughness of 0.01 μm and a thickness of 63 μm, and the solid content concentration was 10% by weight. Was prepared. After applying this solution by the gravure coating method,
By drying at 00 ° C., an undercoat film having a thickness of 1 μm was prepared. Furthermore, spherical silica particles having a particle diameter of 25 nm
A coating solution containing 05% by weight was applied and dried at 100 ° C. to form projections on the surface of the undercoat film. Next, apply the coating 170
The mixture was heated at 20 ° C. for 20 seconds to perform curing and desolvation treatment. A base film, a magnetic film, a protective film, and a lubricating film were formed thereon in the same manner as in Example 1 to prepare a sample.

【0050】比較例1 実施例1において下塗り膜を塗布せず、ポリエチレンナ
フタレート上に直接磁性膜を成膜した以外は実施例2と
同様に試料を作製した。
Comparative Example 1 A sample was prepared in the same manner as in Example 2 except that the undercoat film was not applied and the magnetic film was formed directly on polyethylene naphthalate.

【0051】比較例2 塗布液の組成をポリアミド樹脂(日本リルサン社製M9
95)のメタノールとトルエンの混合溶液に変更した以
外は、実施例1と同様に試料を作製した。
Comparative Example 2 The composition of the coating solution was changed to a polyamide resin (M9 manufactured by Nippon Rilsan Co., Ltd.).
A sample was prepared in the same manner as in Example 1 except that the mixed solution of 95) was used.

【0052】比較例3 塗布液の組成を低温硬化型ポリイミド樹脂(東芝ケミカ
ル社製CT4112)のN,N−ジメチルアセトアミド
溶解した溶液に変更した以外は、実施例1と同様に試料
を作製した。
Comparative Example 3 A sample was prepared in the same manner as in Example 1, except that the composition of the coating solution was changed to a solution in which N, N-dimethylacetamide of a low-temperature curing type polyimide resin (CT4112 manufactured by Toshiba Chemical Co., Ltd.) was dissolved.

【0053】比較例4 塗布液の組成をポリエステル樹脂(東洋紡社製バイロン
200)のメチルエチルケトン溶液に変更した以外は、
実施例1と同様に試料を作製した。
Comparative Example 4 The composition of the coating solution was changed to a methyl ethyl ketone solution of a polyester resin (Vylon 200 manufactured by Toyobo Co., Ltd.).
A sample was prepared in the same manner as in Example 1.

【0054】作製した試料は以下の評価方法によって評
価を行った。 評価方法 1)下塗り膜塗布乾燥後のブロッキングの有無 巻き取った状態でフィルムの裏面(塗膜あり)への貼付
きの有無を確認した。面あれを生じることなく剥離可能
なものを「優良」、接着が観察され、剥離によって面あ
れによる白変を生じるもの、および完全に接着してしま
ったものを「不良」とした。 2)表面性 硬化後の下塗り膜表面、完成した媒体表面について光学
顕微鏡観察(100倍)をおこない、クラックの発生、
下塗りの塗布液が部分的に濡れない部分の発生、熱によ
るオリゴマーの発生等による表面性劣化を観察し、発生
の認められるものを不良、変化が見られないものを優良
とした。
The prepared samples were evaluated by the following evaluation methods. Evaluation method 1) Presence / absence of blocking after application and drying of undercoat film The presence / absence of sticking to the back surface of the film (with a coating film) was checked in the wound state. Samples that could be peeled without surface roughness were rated "excellent", adhesion was observed, and whitening due to surface roughness due to peeling and those completely adhered were "bad". 2) Surface properties The surface of the undercoat film after curing and the surface of the completed medium were observed with an optical microscope (100 times) to generate cracks,
Observation of the occurrence of a portion where the undercoating coating solution was not partially wetted, deterioration of the surface property due to the generation of oligomer due to heat, etc. was observed.

【0055】上記評価結果を表1に示す。 Table 1 shows the evaluation results.

【0056】以上の結果のように本発明を用いた実施例
では下塗り塗布後のブロッキングを生じず、完成したフ
ロッピーディスクにおいてもクラックや面あれを生じず
に良好な表面性の媒体を作製することができた。一方、
本発明以外の代表的な樹脂を用いた場合には、下塗り塗
布後にブロッキングを生じたため、それ以上の試作を行
うことが不可能であった。また樹脂を塗布せずに非磁性
支持体上に直接磁性膜を形成した比較例1では非磁性支
持体からのオリゴマー等の樹脂成分の析出による面あれ
と、磁性膜にクラックの発生が観察され、良好な表面性
のフロッピーディスクを作製することができなかった。
As described above, in Examples using the present invention, it is possible to produce a medium having good surface properties without blocking after application of an undercoat and without causing cracks or surface roughness in a completed floppy disk. Was completed. on the other hand,
When a typical resin other than the present invention was used, blocking occurred after application of the undercoat, so that it was impossible to carry out further trial production. In Comparative Example 1 in which the magnetic film was formed directly on the non-magnetic support without applying the resin, surface roughness due to the precipitation of resin components such as oligomers from the non-magnetic support and cracks were observed in the magnetic film. A floppy disk with good surface properties could not be produced.

【0057】また実施例1〜3についてはフロッピーデ
ィスク作製後、その表面を走査型電子顕微鏡(SEM)
および原子間力顕微鏡(AFM)で観察した。最大突起
高さは、原子間力顕微鏡で得られる3次元プロフィール
のデータ解析から求め、突起存在密度については、走査
型電子顕微鏡の写真から計数することにより求めた。実
施例1および2は非磁性支持体の突起が下塗り膜によっ
て平滑化され、実質的な突起が存在しない鏡面であっ
た。そして測定された最大突起高さはRmax=20nm
と極めて小さなものであった。また実施例3においては
高さ20〜30nmの突起が分散性良く形成されてお
り、その密度は107個/mm2であった。
In Examples 1 to 3, after preparing a floppy disk, the surface thereof was scanned with a scanning electron microscope (SEM).
And an atomic force microscope (AFM). The maximum projection height was determined from data analysis of a three-dimensional profile obtained with an atomic force microscope, and the projection abundance was determined by counting from a photograph of a scanning electron microscope. In Examples 1 and 2, the protrusions of the nonmagnetic support were smoothed by the undercoat film, and the mirror surfaces were substantially free of protrusions. And the measured maximum protrusion height is R max = 20 nm
Was extremely small. In Example 3, the projections having a height of 20 to 30 nm were formed with good dispersibility, and the density was 10 7 / mm 2 .

【0058】[0058]

【発明の効果】非磁性支持体上にポリアミドイミド樹脂
からなる下塗り層を設けたことによって、真空下での成
膜処理工程において、非磁性支持体が変形したり成分の
熱による溶出、クラック等の発生なく特性の優れた磁気
記録媒体を比較的安価に得ることができる。
By providing an undercoat layer made of a polyamideimide resin on a non-magnetic support, the non-magnetic support may be deformed, components may be eluted by heat, cracks, etc. in the film forming process under vacuum. A magnetic recording medium having excellent characteristics can be obtained relatively inexpensively without the occurrence of the problem.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に磁性層を形成した磁気
記録媒体において、非磁性支持体の少なくとも一方の面
にポリアミドイミド樹脂からなる下塗り膜を形成し該下
塗り膜上に真空成膜法で成膜された強磁性金属薄膜を形
成したことを特徴とする磁気記録媒体。
In a magnetic recording medium having a magnetic layer formed on a nonmagnetic support, an undercoat film made of a polyamideimide resin is formed on at least one surface of the nonmagnetic support, and a vacuum film forming method is performed on the undercoat film. A magnetic recording medium characterized in that a ferromagnetic metal thin film formed by the method described in (1) is formed.
【請求項2】 前記非磁性支持体は可撓性の有機高分子
樹脂フィルムである請求項1に記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the non-magnetic support is a flexible organic polymer resin film.
【請求項3】 前記真空成膜法はスパッタリング法であ
る請求項1もしくは請求項2に記載の磁気記録媒体。
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the vacuum film forming method is a sputtering method.
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