JP2003285267A - Lapping fluid supplying apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はラップ液をラップ盤
に供給するためのラップ液供給装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lapping liquid supply device for supplying lapping liquid to a lapping machine.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、セラミック板のようなワークに対
してラッピング加工を行う際、遊星歯車方式のラッピン
グ装置が一般に使用される。このラッピング装置は、複
数枚のワークを保持した遊星歯車形状のキャリアを上下
のラップ定盤の間に配置し、ラップ液をラップ定盤の間
に注入しながら、キャリアを自転または自転・公転させ
ることで、上下のラップ定盤とワークとの摺動によって
ワークの上下面を研磨するものである。2. Description of the Related Art Conventionally, a planetary gear type lapping device is generally used when lapping a workpiece such as a ceramic plate. This wrapping device arranges a planetary gear-shaped carrier holding a plurality of works between upper and lower lapping plates, and spins or revolves or revolves the carrier while injecting lapping liquid between the lapping plates. Thus, the upper and lower surfaces of the work are polished by sliding between the upper and lower lapping platens and the work.
【0003】ラップ液は研磨剤である砥粒を水などに混
合したものであり、このラップ液を図6または図7に示
される供給装置を用いてラッピング装置に分配してい
る。図6は4ウエイ方式のラッピング装置の例であり、
ラップ盤40の上に支柱41を介してリング状の樋42
が固定され、この樋42の中にラップ液が供給される。
樋42の底面には複数の穴が設けられ、これら穴とラッ
プ盤40の加工部との間が供給ホース43で連結されて
いる。樋42の中には、図示しない固定部に固定された
掻き取り板44が挿入されている。ラップ盤40と樋4
2は一体に回転し、掻き取り板44によって樋42に設
けられた穴からホース43を介してラップ盤40の複数
の加工部にラップ液が供給される。図7は2ウエイ方式
のラッピング装置の例であり、ラップ盤50およびすり
鉢状の受皿部51は回転しない。受皿部51とラップ盤
50の加工部とは複数の供給ホース52で連結されてい
る。この場合には、受皿部51にラップ液を供給する
と、各ホース52を介してラップ盤50の各加工部にラ
ップ液が分配される。The lapping liquid is a mixture of abrasive grains, which are abrasives, in water or the like, and the lapping liquid is distributed to the lapping device by using the supply device shown in FIG. 6 or 7. FIG. 6 shows an example of a 4-way wrapping device,
Ring-shaped gutter 42 on the lapping machine 40 through the pillars 41
Is fixed, and the lapping liquid is supplied into the gutter 42.
A plurality of holes are provided on the bottom surface of the gutter 42, and the holes and the processed portion of the lapping machine 40 are connected by a supply hose 43. A scraping plate 44 fixed to a fixing portion (not shown) is inserted into the gutter 42. Lapping machine 40 and gutter 4
2 rotates integrally, and the lapping liquid is supplied to a plurality of processing parts of the lapping machine 40 from the holes provided in the gutter 42 by the scraping plate 44 through the hoses 43. FIG. 7 shows an example of a two-way type lapping device, in which the lapping machine 50 and the mortar-shaped saucer 51 do not rotate. The saucer part 51 and the processing part of the lapping machine 50 are connected by a plurality of supply hoses 52. In this case, when the lapping liquid is supplied to the pan portion 51, the lapping liquid is distributed to each processing portion of the lapping machine 50 via each hose 52.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】上記のような供給装置
の場合、重力によってラップ液をホース43,52を介
してラップ盤40,50の各加工部に供給している。し
かし、ラップ盤40,50は必要な箇所に必要な量のラ
ップ液を供給する必要があり、上記のような重力を利用
した供給方法では、供給量のばらつきが発生しやすい。
なぜなら、ラップ液には砥粒などの固形成分が含まれて
いるので、ホース43,52内を流れにくく、ホース内
で詰まりが発生しやすいからである。そのため、ラップ
液の供給量を安定して制御することが難しかった。ま
た、複数の加工部へラップ液を供給する場合、供給ホー
ス43,52が必然的に長くなり、1回の供給を止めた
後、次に供給を開始するまでの間、ラップ液がホース内
で滞留し、混合してある砥粒がホース内で沈降分離して
しまう。その結果、次に供給を開始したとき、初期から
精度よく混合されたラップ液を加工部へ供給できないと
いう問題が発生する。In the case of the supply device as described above, gravity feeds the lapping liquid to the respective processing portions of the lapping machines 40 and 50 via the hoses 43 and 52. However, the lapping machines 40 and 50 need to supply the required amount of the lapping liquid to the necessary places, and thus the supply method using gravity as described above tends to cause variations in the supply amount.
This is because the lapping liquid contains solid components such as abrasive grains, so that it is difficult for the lapping liquid to flow in the hoses 43 and 52, and clogging easily occurs in the hoses. Therefore, it was difficult to stably control the supply amount of the lapping liquid. In addition, when supplying the lapping liquid to a plurality of processing parts, the supply hoses 43 and 52 are inevitably lengthened, and after the supply is stopped once, the lapping liquid is kept in the hose. Therefore, the mixed abrasive grains settle in the hose and settle and separate in the hose. As a result, when the supply is started next time, there arises a problem that the lapping liquid mixed accurately from the initial stage cannot be supplied to the processing section.
【0005】そこで、本発明の目的は、ラップ液の供給
量を安定化させるとともに、精度よく混合されたラップ
液を加工部へ常に供給できるラップ液供給装置を提供す
ることにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a lapping liquid supply device which stabilizes the amount of the lapping liquid supplied and can always supply the lapping liquid mixed with high precision to the processing section.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1にかかる発明は、砥粒を含むラップ液を貯
留するラップ液貯留室と、上記ラップ液貯留室からラッ
プ液を排出する排出口と、上記排出口を開閉する開閉手
段と、上記排出口から排出された所定量のラップ液を溜
めるとともに、このラップ液をラップ盤の加工部に供給
するため供給通路と、圧縮エアーを上記供給通路へ間欠
的に供給し、供給通路に溜まったラップ液をラップ盤の
加工部に押し出す圧縮エアー供給手段と、を備えたこと
を特徴とするラップ液供給装置を提供する。In order to achieve the above object, the invention according to claim 1 provides a lapping liquid storage chamber for storing a lapping liquid containing abrasive grains, and discharging the lapping liquid from the lapping liquid storage chamber. A discharge port, an opening / closing means for opening and closing the discharge port, a supply passage for storing a predetermined amount of lapping liquid discharged from the discharging port, and supplying the lapping liquid to the processing section of the lapping machine, and compressed air. A lap liquid supply device comprising: compressed air supply means for intermittently supplying the lap liquid accumulated in the supply passage to the processing portion of the lapping machine.
【0007】まず開閉手段を開くと、ラップ液貯留室か
ら排出口を介して供給通路にラップ液が排出される。供
給通路に溜められるラップ液の量は、開閉手段の開き時
間によって決定される。所定量のラップ液が供給通路に
溜められた後、開閉手段を閉じる。次に、圧縮エアー供
給手段を作動させ、圧縮エアーを供給通路に供給する
と、圧縮エアーによって供給通路に溜まったラップ液は
ラップ盤の加工部へ押し出される。このとき、排出口は
開閉手段によって閉じられているので、圧縮エアーが排
出口からラップ液貯留室へ逆流することがない。このよ
うに本発明では、圧縮エアーによって供給通路内の所定
量のラップ液を強制的にラップ盤へ押し出すので、ラッ
プ液の供給量を安定化させることができるとともに、供
給通路を細くしても、ラップ液の流れを阻害することが
ない。供給通路を細くできることから、ラップ液がホー
ス内で滞留する時間を短縮でき、精度よく混合されたラ
ップ液を加工部へ常に供給できる。First, when the opening / closing means is opened, the lapping liquid is discharged from the lapping liquid storage chamber to the supply passage through the discharge port. The amount of the lapping liquid stored in the supply passage is determined by the opening time of the opening / closing means. After the predetermined amount of lapping liquid is stored in the supply passage, the opening / closing means is closed. Next, when the compressed air supply means is operated to supply the compressed air to the supply passage, the lapping liquid accumulated in the supply passage by the compressed air is pushed out to the processing portion of the lapping machine. At this time, since the discharge port is closed by the opening / closing means, the compressed air does not flow back from the discharge port to the lap liquid storage chamber. As described above, in the present invention, since the predetermined amount of the lapping liquid in the supply passage is forcibly pushed out to the lapping machine by the compressed air, the supply amount of the lapping liquid can be stabilized and the supply passage can be made thin. , Does not hinder the flow of lapping solution. Since the supply passage can be narrowed, the time that the lapping liquid stays in the hose can be shortened, and the lapping liquid mixed accurately can always be supplied to the processing section.
【0008】請求項2のように、圧縮エアー供給手段
は、圧縮エアーの供給位置と大気開放位置との2位置に
切り換え可能なバルブを備えているのがよい。圧縮エア
ー供給手段が大気開放を行わない場合には、供給通路に
常に所定の気圧が作用した状態となり、開閉手段が開い
た時にラップ液貯留室から供給通路へのラップ液の排出
を阻害する可能性があるからである。As described in claim 2, the compressed air supply means is preferably provided with a valve which can be switched between two positions of a compressed air supply position and an atmosphere open position. When the compressed air supply means does not open to the atmosphere, a predetermined atmospheric pressure is always applied to the supply passage, and when the opening / closing means is opened, it is possible to hinder the discharge of the lap liquid from the lap liquid storage chamber to the supply passage. Because there is a nature.
【0009】請求項3のように、圧縮エアー供給手段が
1回に供給する圧縮エアーの量は、供給通路に溜まった
ラップ液がすべてラップ盤の加工部に押し出される量と
するのがよい。すなわち、供給通路に溜まったラップ液
の全量が1回の供給の度にラップ盤の加工部へ押し出さ
れるので、供給通路が各供給毎にクリーニングされる。
したがって、砥粒が供給通路内で沈澱したり、目詰まり
を起こすことがない。As described in claim 3, the amount of compressed air supplied by the compressed air supply means at one time is preferably such that all the lapping liquid accumulated in the supply passage is pushed out to the processing portion of the lapping machine. That is, since the entire amount of the lapping liquid accumulated in the supply passage is pushed out to the processing portion of the lapping machine each time the supply is performed, the supply passage is cleaned for each supply.
Therefore, the abrasive grains do not settle in the supply passage or cause clogging.
【0010】請求項4のように、ラップ盤の複数の加工
部にラップ液を供給するため複数の供給通路が設けら
れ、排出口、開閉手段および圧縮エアー供給手段は各供
給通路に個別に設けられ、開閉手段および圧縮エアー供
給手段の作動タイミングは、各加工部への供給タイミン
グに合わせて個別に設定されているのがよい。ラップ盤
のラップ液の必要量は、各加工部の位置によって異な
る。そこで、各加工部毎に排出口、開閉手段、圧縮エア
ー供給手段および供給通路を設けることで、各加工部に
最適な量のラップ液を供給することができる。According to a fourth aspect of the present invention, a plurality of supply passages are provided for supplying the lapping liquid to the plurality of processing parts of the lapping machine, and the discharge port, the opening / closing means and the compressed air supply means are individually provided in the respective supply passages. Therefore, the operation timings of the opening / closing means and the compressed air supply means may be individually set in accordance with the supply timing to each processing section. The required amount of lapping liquid for the lapping machine differs depending on the position of each processing section. Therefore, by providing an outlet, an opening / closing means, a compressed air supply means, and a supply passage for each processing section, an optimum amount of lapping liquid can be supplied to each processing section.
【0011】請求項5のように、ラップ液貯留室と送出
通路および帰還通路を介して接続されたラップ液タンク
と、送出通路を介してラップ液タンク内のラップ液をラ
ップ液貯留室へ送出する送出ポンプとが設けられ、ラッ
プ液貯留室とラップ液タンクとの間でラップ液が常時循
環されるとともに、送出ポンプによってラップ液貯留室
内のラップ液圧がほぼ一定に保持されるようにするのが
望ましい。送出ポンプによって攪拌されたラップ液がラ
ップ液貯留室とラップ液タンクとの間で常時循環される
ので、砥粒が途中で沈降したり、ラップ液の混合度が変
化することがない。そして、送出ポンプによってラップ
液貯留室内のラップ液圧がほぼ一定に保持されるため、
開閉手段の開閉時間によって供給通路へ排出されるラッ
プ液の量にバラツキが発生しない。そのため、予め設定
された量のラップ液を精度よく供給することができる。According to a fifth aspect of the present invention, the lapping liquid tank connected to the lapping liquid storage chamber via the delivery passage and the return passage, and the lapping liquid in the lapping liquid tank to the lapping liquid storage chamber via the delivery passage. And a wrap liquid is constantly circulated between the lap liquid storage chamber and the lap liquid tank, and the delivery pump keeps the lap liquid pressure in the lap liquid storage chamber substantially constant. Is desirable. Since the lapping liquid agitated by the delivery pump is constantly circulated between the lapping liquid storage chamber and the lapping liquid tank, the abrasive grains do not settle on the way and the mixing degree of the lapping liquid does not change. And since the delivery pump keeps the lap liquid pressure in the lap liquid storage chamber substantially constant,
The amount of lapping liquid discharged to the supply passage does not vary depending on the opening / closing time of the opening / closing means. Therefore, a preset amount of lapping liquid can be accurately supplied.
【0012】[0012]
【発明の実施の形態】図1は本発明の第1実施例の全体
システムを示す1は従来公知の2ウエイ型のラップ盤で
あり、上下の定盤の間に複数枚のワークを保持したキャ
リア、サンギヤ及びリングギヤ(いずれも図示せず)を
配置し、砥粒が混合されたラップ液を注入しつつ、駆動
用電動機でサンギヤ及びリングギヤを駆動してキャリア
を自転・公転させることにより、ワークの上下面を研磨
するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows an overall system of a first embodiment of the present invention. 1 is a conventionally known two-way type lapping machine which holds a plurality of works between upper and lower surface plates. A carrier, a sun gear, and a ring gear (all not shown) are arranged, and while the lapping liquid in which the abrasive grains are mixed is injected, the sun gear and the ring gear are driven by the drive motor to rotate and revolve the carrier, The upper and lower surfaces are polished.
【0013】ラップ盤1の上面には、各加工部にラップ
液を供給するための複数の供給穴2が設けられ、各供給
穴2はラップ液供給装置10と複数の供給ホース3を介
して接続されている。ラップ液供給装置10は、図2,
図3に示すように、本体11を備えており、本体11の
内部には、砥粒を含むラップ液Rを貯留する1つのラッ
プ液貯留室12と、ラップ液貯留室12と排出口13を
介して連通した複数(ここでは4個)の弁室14と、各
弁室14の下部に設けられた液溜まり部15とが形成さ
れている。A plurality of supply holes 2 for supplying the lapping liquid to each processing portion are provided on the upper surface of the lapping machine 1. Each of the supplying holes 2 is provided with a lapping liquid supplying device 10 and a plurality of supplying hoses 3. It is connected. The lapping liquid supply device 10 is shown in FIG.
As shown in FIG. 3, the main body 11 is provided, and inside the main body 11, one lapping liquid storage chamber 12 for storing the lapping liquid R containing abrasive grains, a lapping liquid storage chamber 12, and an outlet 13 are provided. A plurality of (here, four) valve chambers 14 communicating with each other and a liquid reservoir 15 provided at the bottom of each valve chamber 14 are formed.
【0014】各弁室14には、排出口13を開閉する弁
体16が水平方向に移動可能に配置され、この弁体16
は本体11の側部に固定された弁駆動装置17のシャフ
ト18によって前後方向に駆動される。上記弁体16と
弁駆動装置17とで開閉手段が構成される。この実施例
では、弁駆動装置17としてエアーシリンダを用いた
が、液圧シリンダでもよく、さらにソレノイドなどを用
いてもよい。シャフト18にはリターンスプリング19
が介装され、弁体16を常時閉じる方向に付勢してい
る。弁体16の先端部には、排出口13を確実に閉鎖で
きるようにゴムなどの弾性体16aが取り付けられてい
る。In each valve chamber 14, a valve element 16 for opening and closing the discharge port 13 is arranged so as to be movable in the horizontal direction.
Is driven in the front-back direction by a shaft 18 of a valve drive device 17 fixed to a side portion of the main body 11. The valve body 16 and the valve drive device 17 constitute an opening / closing means. In this embodiment, an air cylinder is used as the valve drive device 17, but a hydraulic cylinder may be used, or a solenoid or the like may be used. Return spring 19 on shaft 18
Is interposed and always urges the valve element 16 in a direction to close it. An elastic body 16a such as rubber is attached to the tip of the valve body 16 so as to surely close the discharge port 13.
【0015】液溜まり部15の下端部には出口穴20が
設けられ、この出口穴20に上記供給ホース3が接続さ
れている。液溜まり部15と供給ホース3とによって、
排出口13から排出された所定量のラップ液Rを溜める
供給通路を構成している。供給ホース3は、ラップ液の
表面張力のため自重によって流出しない程度の細いホー
スが使用される。An outlet hole 20 is provided at the lower end of the liquid reservoir 15, and the supply hose 3 is connected to the outlet hole 20. By the liquid reservoir 15 and the supply hose 3,
A supply passage for accumulating a predetermined amount of the lapping liquid R discharged from the discharge port 13 is configured. The supply hose 3 is a thin hose that does not flow out by its own weight due to the surface tension of the wrap liquid.
【0016】弁室14の上部には、圧縮エアーが供給さ
れるエアー穴21が設けられ、このエアー穴21はエア
ーホース22を介して圧縮エアー源23(図1参照)と
接続されている。図1では1本のエアーホース22のみ
が記載されているが、実際には各弁室14に対応した数
のエアーホース22が接続されている。各エアーホース
22の途中には、圧縮エアーの供給位置と大気開放位置
との2位置に切り換え可能な切換バルブ24が設けられ
ている。切換バルブ24を圧縮エアーの供給位置に切り
換えると、圧縮エアーが弁室14を介して液溜まり部1
5へ作用し、供給通路に溜まったラップ液をラップ盤1
の供給穴2に押し出すことができる。An air hole 21 for supplying compressed air is provided in the upper portion of the valve chamber 14, and the air hole 21 is connected to a compressed air source 23 (see FIG. 1) via an air hose 22. Although only one air hose 22 is shown in FIG. 1, the number of air hoses 22 corresponding to each valve chamber 14 is actually connected. In the middle of each air hose 22, a switching valve 24 is provided which can switch between a compressed air supply position and an atmosphere open position. When the switching valve 24 is switched to the compressed air supply position, the compressed air passes through the valve chamber 14 and the liquid reservoir 1
5 and the lapping liquid accumulated in the supply passage
Can be extruded into the supply hole 2.
【0017】ラップ液貯留室12の両端部には、図3に
示すようにラップ液Rの流入口12aと流出口12bと
が設けられており、流入口12aは送出用ホース25を
介して送出ポンプ26と接続され、流出口12bは帰還
用ホース27を介してラップ液タンク28と接続されて
いる。その結果、ラップ液貯留室12とラップ液タンク
28との間でラップ液Rが常時循環され、ラップ液貯留
室12内でラップ液Rの砥粒が沈降分離しない。また、
送出ポンプ26は定量ポンプであり、このポンプによっ
てラップ液貯留室12内のラップ液圧がほぼ一定に保持
されるので、排出口13が開かれた時、単位時間当たり
のラップ液Rの排出量を一定にできる。なお、ラップ液
タンク28内に、ラップ液Rを攪拌して砥粒が沈降分離
するのを防止する攪拌装置を設けてもよい。上記弁駆動
装置17および切換バルブ24は、所定のプログラムが
格納された制御装置30によって制御される。As shown in FIG. 3, an inflow port 12a and an outflow port 12b for the lapping liquid R are provided at both ends of the lapping liquid storage chamber 12, and the inflow port 12a is delivered through a delivery hose 25. It is connected to a pump 26, and the outlet 12b is connected to a wrap liquid tank 28 via a return hose 27. As a result, the lapping liquid R is constantly circulated between the lapping liquid storage chamber 12 and the lapping liquid tank 28, and the abrasive grains of the lapping liquid R do not settle and separate in the lapping liquid storage chamber 12. Also,
The delivery pump 26 is a metering pump, and the pump keeps the lapping liquid pressure in the lapping liquid storage chamber 12 substantially constant. Therefore, when the discharge port 13 is opened, the amount of the lapping liquid R discharged per unit time is increased. Can be constant. A stirrer may be provided in the lapping liquid tank 28 to stir the lapping liquid R and prevent the abrasive grains from settling and separating. The valve drive device 17 and the switching valve 24 are controlled by a control device 30 in which a predetermined program is stored.
【0018】ここで、上記ラップ液供給装置10の動作
を、図4,図5を参照しながら以下に説明する。初期状
態(a)においては、弁体16は前進位置にあり、弁体
16は排出口13を閉じている。また、切換バルブ24
は大気開放位置にある。そのため、供給ホース3および
液溜まり部14にはラップ液Rは溜まっていない。次
に、(b)のように弁体16を後退させると、排出口1
3が開かれ、ラップ液貯留室12内のラップ液Rは弁室
14を通って液溜まり部15へと流れ込み、供給ホース
3を満たす。所定時間だけ弁体16が開いた後、(c)
のように弁体16を前進させ、再び排出口13を閉じ
る。この状態で、ラップ液Rは液溜まり部15と供給ホ
ース3とに所定量だけ溜められる。次に、切換バルブ2
4を圧縮エアー供給位置へ切り換えると、(d)のよう
にエアー穴21から弁室14に圧縮エアーが供給され、
圧縮エアーは液溜まり部15に溜まったラップ液Rに作
用し、ラップ液Rをラップ盤1の方向に押し出す。圧縮
エアーの供給時間(吐出時間)は、液溜まり部15およ
び供給ホース3に溜まったラップ液Rの全量がラップ盤
1の加工部へ押し出される時間以上とする。つまり、供
給ホース3が空になるまで圧縮エアーを供給する。この
ように供給通路3,15に溜まったラップ液Rの全量が
1回の供給の度にラップ盤1の加工部へ押し出されるの
で、供給ホース3が各供給毎にクリーニングされる。そ
のため、1回の供給を止めた後、次に供給を開始するま
での間にラップ液Rがホース3内で滞留し、混合してあ
る砥粒がホース3内で沈降分離してしまうという不具合
を解消できる。そして、次に供給を開始したとき、初期
から精度よく混合されたラップ液Rをラップ盤1へ供給
できる。The operation of the lapping liquid supply device 10 will be described below with reference to FIGS. 4 and 5. In the initial state (a), the valve body 16 is in the forward position, and the valve body 16 closes the discharge port 13. In addition, the switching valve 24
Is in the open position. Therefore, the lapping liquid R is not accumulated in the supply hose 3 and the liquid reservoir 14. Next, when the valve body 16 is retracted as shown in (b), the discharge port 1
3 is opened, the lapping liquid R in the lapping liquid storage chamber 12 flows into the liquid reservoir 15 through the valve chamber 14 and fills the supply hose 3. After the valve body 16 is opened for a predetermined time, (c)
The valve body 16 is moved forward as in the above, and the discharge port 13 is closed again. In this state, the lapping liquid R is stored in the liquid reservoir 15 and the supply hose 3 by a predetermined amount. Next, the switching valve 2
When 4 is switched to the compressed air supply position, compressed air is supplied from the air hole 21 to the valve chamber 14 as shown in (d),
The compressed air acts on the lapping liquid R accumulated in the liquid reservoir 15 and pushes the lapping liquid R toward the lapping machine 1. The supply time (discharge time) of the compressed air is set to be equal to or longer than the time for which the entire amount of the lapping liquid R accumulated in the liquid reservoir 15 and the supply hose 3 is pushed out to the processing portion of the lapping machine 1. That is, compressed air is supplied until the supply hose 3 becomes empty. As described above, since the entire amount of the lapping liquid R accumulated in the supply passages 3 and 15 is pushed out to the processing portion of the lapping machine 1 every time it is supplied, the supply hose 3 is cleaned for each supply. Therefore, after stopping the supply once, the lapping liquid R stays in the hose 3 until the next supply is started, and the mixed abrasive grains settle and separate in the hose 3. Can be resolved. Then, when the supply is started next time, the lapping liquid R which is accurately mixed from the initial stage can be supplied to the lapping machine 1.
【0019】上記説明では、単一の弁体16と単一の切
換バルブ24の作動について説明したが、複数の供給穴
2に対応して設けられた個々の弁体16および切換バル
ブ24を制御装置30によって、それぞれの供給穴2に
適した供給タイミングで駆動することができる。例え
ば、ラップ盤1の内径側の供給穴2には、外径側の供給
穴2に比べて供給間隔を短くする(ラップ液の供給量を
多くする)など、任意の制御を実施することができる。
また、一般にラップ初期には多量のラップ液を必要とす
るが、ラップ終期にはそれほど多量のラップ液は必要で
はない。そこで、ラップ液の供給間隔をラップ初期は短
めにし、ラップ終期は長めとするなどの制御も可能であ
る。また、排出口13の穴径を、供給場所(供給穴2)
毎に変えてもよい。つまり、単位時間当たりのラップ液
の排出量を供給場所毎に変えてもよい。上記実施例で
は、ラップ液貯留室12とラップ液タンク28との間で
ラップ液を循環させるようにしたが、ラップ液タンク2
8を省略し、ラップ液貯留室12のみで構成してもよ
い。この場合には、ラップ液の砥粒が沈澱するのを防止
するため、ラップ液貯留室12内に攪拌手段を設けるの
が望ましい。In the above description, the operation of the single valve body 16 and the single switching valve 24 has been described, but the individual valve bodies 16 and the switching valves 24 provided corresponding to the plurality of supply holes 2 are controlled. The device 30 can be driven at a supply timing suitable for each supply hole 2. For example, the supply hole 2 on the inner diameter side of the lapping machine 1 may be subjected to arbitrary control such as shortening the supply interval (increasing the supply amount of the lapping liquid) compared to the supply hole 2 on the outer diameter side. it can.
Further, generally, a large amount of lapping solution is required at the initial stage of lapping, but not so much amount at the end of lapping. Therefore, it is possible to control the supply interval of the wrap liquid to be short at the beginning of the lap and long at the end of the lap. In addition, the hole diameter of the discharge port 13 is set to the supply location (supply hole 2).
You may change each time. That is, the discharge amount of the lapping liquid per unit time may be changed for each supply place. Although the lap liquid is circulated between the lap liquid storage chamber 12 and the lap liquid tank 28 in the above embodiment, the lap liquid tank 2
8 may be omitted and only the lap liquid storage chamber 12 may be configured. In this case, it is desirable to provide a stirring means in the lapping liquid storage chamber 12 in order to prevent the abrasive grains of the lapping liquid from settling.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるラ
ップ液供給装置によれば、開閉手段を開いてラップ液貯
留室から排出口を介して供給通路にラップ液を排出さ
せ、所定量のラップ液が供給通路に溜められた後、開閉
手段を閉じ、圧縮エアーを供給通路に供給することによ
って、圧縮エアーによって供給通路に溜まったラップ液
を強制的にラップ盤へ押し出すようにしたので、ラップ
液の供給量を安定化させることができるとともに、供給
通路を細くしても、ラップ液の流れを阻害することがな
い。また、ラップ液がホース内で滞留する時間を短縮で
き、精度よく混合されたラップ液を加工部へ常に供給で
きる。As described above, according to the lap liquid supply device of the present invention, the opening / closing means is opened to discharge the lap liquid from the lap liquid storage chamber to the supply passage through the discharge port, and the lap liquid of a predetermined amount is discharged. After the lapping liquid has been accumulated in the supply passage, the opening / closing means is closed and compressed air is supplied to the supply passage so that the lapping liquid accumulated in the supply passage by the compressed air is forced out to the lapping machine. The supply amount of the lapping liquid can be stabilized, and even if the supply passage is narrowed, the flow of the lapping liquid is not hindered. Further, the time that the lapping liquid stays in the hose can be shortened, and the lapping liquid mixed accurately can always be supplied to the processing section.
【図1】本発明にかかるラップ液供給装置を用いたシス
テムの一例の全体図である。FIG. 1 is an overall view of an example of a system using a lapping liquid supply device according to the present invention.
【図2】ラップ液供給装置の縦断面図である。FIG. 2 is a vertical cross-sectional view of a lapping liquid supply device.
【図3】図2のA−A線断面図である。3 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.
【図4】ラップ液供給装置の動作説明図である。FIG. 4 is an operation explanatory view of the wrap liquid supply device.
【図5】ラップ液供給装置の弁体および切換バルブの動
作を示すタイムチャート図である。FIG. 5 is a time chart showing the operation of a valve body and a switching valve of the lapping liquid supply device.
【図6】従来のラップ液供給装置の一例の斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view of an example of a conventional lapping liquid supply device.
【図7】従来のラップ液供給装置の他の例の斜視図であ
る。FIG. 7 is a perspective view of another example of a conventional lapping liquid supply device.
1 ラップ盤 3 供給ホース 10 ラップ液供給装置 12 ラップ液貯留室 13 排出口 15 液溜まり部 16 弁体 17 弁駆動装置 21 エアー穴 23 圧縮エアー源 24 切換バルブ 26 送出ポンプ 28 ラップ液タンク 30 制御装置 1 lap machine 3 supply hose 10 Lap liquid supply device 12 Lap liquid storage chamber 13 outlet 15 Liquid pool 16 valve body 17 Valve drive 21 air holes 23 Compressed air source 24 switching valve 26 Delivery pump 28 Lap liquid tank 30 control device
Claims (5)
留室と、 上記ラップ液貯留室からラップ液を排出する排出口と、 上記排出口を開閉する開閉手段と、 上記排出口から排出された所定量のラップ液を溜めると
ともに、このラップ液をラップ盤の加工部に供給するた
め供給通路と、 圧縮エアーを上記供給通路へ間欠的に供給し、供給通路
に溜まったラップ液をラップ盤の加工部に押し出す圧縮
エアー供給手段と、を備えたことを特徴とするラップ液
供給装置。1. A lap liquid storage chamber for storing a lap liquid containing abrasive grains, a discharge port for discharging the lap liquid from the lap liquid storage chamber, an opening / closing means for opening / closing the discharge port, and a discharge port for discharging the lap liquid. A predetermined amount of the lapping liquid is accumulated, and a supply passage for supplying this lapping liquid to the processing part of the lapping machine and compressed air are intermittently supplied to the above-mentioned supply passage to wrap the lapping liquid accumulated in the supply passage. A lapping liquid supply device, comprising: compressed air supply means for pushing the processing part of the board.
供給位置と大気開放位置との2位置に切り換え可能なバ
ルブを備えていることを特徴とする請求項1に記載のラ
ップ液供給装置。2. The lapping liquid supply apparatus according to claim 1, wherein the compressed air supply means is provided with a valve that can be switched between two positions of a compressed air supply position and an atmosphere open position.
圧縮エアーの量は、上記供給通路に溜まったラップ液が
すべてラップ盤の加工部に押し出される量であることを
特徴とする請求項1または2に記載のラップ液供給装
置。3. The amount of compressed air supplied by the compressed air supply means at one time is an amount by which all of the lapping liquid accumulated in the supply passage is pushed out to the processing portion of the lapping machine. 1. The lapping liquid supply device according to 1 or 2.
供給するため複数の供給通路が設けられ、 上記排出口、開閉手段および圧縮エアー供給手段は各供
給通路に個別に設けられ、 上記開閉手段および圧縮エアー供給手段の作動タイミン
グは、各加工部への供給タイミングに合わせて個別に設
定されていることを特徴とする請求項1ないし3のいず
れかに記載のラップ液供給装置。4. A plurality of supply passages are provided for supplying a lapping liquid to a plurality of processing parts of the lapping machine, and the discharge port, the opening / closing means and the compressed air supply means are individually provided in each of the supply passages. 4. The lapping liquid supply apparatus according to claim 1, wherein the operation timings of the opening / closing means and the compressed air supply means are individually set in accordance with the supply timing to each processing section.
通路を介して接続されたラップ液タンクと、上記送出通
路を介してラップ液タンク内のラップ液をラップ液貯留
室へ送出する送出ポンプとが設けられ、上記ラップ液貯
留室とラップ液タンクとの間でラップ液が常時循環され
るとともに、送出ポンプによってラップ液貯留室内のラ
ップ液圧がほぼ一定に保持されることを特徴とする請求
項1ないし4のいずれかに記載のラップ液供給装置。5. A lapping liquid tank connected to the lapping liquid storage chamber via a delivery passage and a return passage, and a delivery pump for delivering the lapping liquid in the lapping liquid tank to the lapping liquid storage chamber via the delivery passage. Is provided, the lap liquid is constantly circulated between the lap liquid storage chamber and the lap liquid tank, and the lap liquid pressure in the lap liquid storage chamber is kept substantially constant by the delivery pump. The lapping liquid supply device according to any one of claims 1 to 4.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002087401A JP2003285267A (en) | 2002-03-27 | 2002-03-27 | Lapping fluid supplying apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
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JP (1) | JP2003285267A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013013373A1 (en) * | 2011-07-22 | 2013-01-31 | 温州欣视界科技有限公司 | Small automatic polishing liquid cleaning device for rigid gas permeable contact lens |
KR101592218B1 (en) * | 2014-01-02 | 2016-02-05 | 현대삼호중공업(주) | Bonding dispenser |
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2002
- 2002-03-27 JP JP2002087401A patent/JP2003285267A/en active Pending
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US10150202B2 (en) | 2011-07-22 | 2018-12-11 | Wenzhou Focusee Vision Care Technologies Co., Ltd. | Small automatic polishing liquid cleaning device for rigid gas permeable contact lens |
KR101592218B1 (en) * | 2014-01-02 | 2016-02-05 | 현대삼호중공업(주) | Bonding dispenser |
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